JP5779974B2 - Method for producing original plate for pattern alignment layer for three-dimensional display - Google Patents

Method for producing original plate for pattern alignment layer for three-dimensional display Download PDF

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Description

本発明は、高品質な3次元表示装置用パターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を容易かつ大量に作製することができる3次元表示用パターン配向層用原版に関するものである。   The present invention relates to a three-dimensional display pattern alignment layer original plate capable of easily and in large quantities producing a pattern alignment film capable of forming a high-quality pattern retardation film for a three-dimensional display device.

フラットパネルディスプレイとしては、従来、2次元表示のものが主流であったが、近年においては3次元表示可能なフラットパネルディスプレイが注目を集め始めており、一部市販されているものも存在しつつある。そして、今後のフラットパネルディスプレイにおいては3次元表示可能であることが、その性能として当然に求められる傾向にあり、3次元表示可能なフラットパネルディスプレイの検討が幅広い分野において進められている。   Conventionally, as a flat panel display, a two-dimensional display has been mainstream, but in recent years, a flat panel display capable of three-dimensional display has begun to attract attention, and some of them are commercially available. . Further, in future flat panel displays, it is a natural tendency to be capable of three-dimensional display, and flat panel displays capable of three-dimensional display are being studied in a wide range of fields.

フラットパネルディスプレイにおいて3次元表示をするには、通常、視聴者に対して何らかの方式で右目用の映像と、左目用の映像とを別個に表示することが必要とされる。右目用の映像と左目用の映像とを別個に表示する方法としては、例えば、パッシブ方式というものが知られている。このようなパッシブ方式の3次元表示方式について図を参照しながら説明する。図17はパッシブ方式の3次元表示の一例を示す概略図である。図17に示すようにこの方式では、まず、フラットパネルディスプレイを構成する画素を、右目用映像表示画素と左目用映像表示画素の2種類の複数の画素にパターン状に分割し、一方のグループの画素では右目用の映像を表示させ、他方のグループの画素では左目用の映像を表示させる。また、直線偏光板と当該画素の分割パターンに対応したパターン状の位相差層が形成されたパターン位相差フィルムとを用い、右目用の映像と、左目用の映像とを円偏光に変換する。さらに、視聴者には右目用と左目用の円偏光メガネを装着させ、右目用の映像が右目のみに届き、左目用の映像が左目のみに届くようにすることによって3次元表示を可能とするものがパッシブ方式である。   In order to perform three-dimensional display on a flat panel display, it is usually necessary to display a right-eye video and a left-eye video separately to the viewer in some manner. As a method for separately displaying the right-eye video and the left-eye video, for example, a passive method is known. Such a passive three-dimensional display method will be described with reference to the drawings. FIG. 17 is a schematic diagram illustrating an example of a passive three-dimensional display. As shown in FIG. 17, in this method, first, the pixels constituting the flat panel display are divided into a plurality of types of pixels, that is, a right-eye video display pixel and a left-eye video display pixel. The pixel displays a right-eye image, and the other group of pixels displays a left-eye image. In addition, the image for the right eye and the image for the left eye are converted into circularly polarized light by using a linearly polarizing plate and a pattern retardation film in which a patterned retardation layer corresponding to the division pattern of the pixel is formed. In addition, viewers can wear 3D display by wearing right-eye and left-eye circular polarizing glasses so that the right-eye video reaches only the right eye and the left-eye video only reaches the left eye. Things are passive.

このようなパッシブ方式では、上記パターン位相差フィルムと、対応する円偏光メガネとを用いることにより容易に3次元表示が可能なものにできるという利点がある。   Such a passive method has an advantage that three-dimensional display can be easily performed by using the pattern retardation film and the corresponding circular polarizing glasses.

ところで、上述したようにパッシブ方式においてはパターン位相差フィルムを用いることが必須になるところ、このようなパターン位相差フィルムについてはまだ広く研究・開発が行われておらず、標準的な技術としても確立されているものがないのが現状である。この点、特許文献1にはパターン位相差フィルムとして、ガラス基板上に配向規制力がパターン状に制御された光配向膜と、当該光配向膜上に形成され、液晶化合物の配列が上記光配向膜のパターンに対応するようにパターニングされた位相差層とを有するパターン位相差板が開示されている。しかしながら、このような特許文献1に開示されたパターン位相差板は、ガラス板を用いることが必須となっていることから、高価であり、また大面積のものを大量に製造できるというものではなく、その実用性に難点があった。   By the way, as described above, in the passive method, it is essential to use a pattern retardation film. However, such a pattern retardation film has not been widely researched and developed, and can be used as a standard technique. There is nothing that has been established. In this regard, Patent Document 1 discloses that as a pattern retardation film, a photo-alignment film having an alignment regulating force controlled in a pattern on a glass substrate and the photo-alignment film are formed. A pattern retardation plate having a retardation layer patterned so as to correspond to a film pattern is disclosed. However, since the pattern retardation plate disclosed in Patent Document 1 is indispensable to use a glass plate, it is expensive and does not mean that a large area can be manufactured. There was a difficulty in its practicality.

また、特許文献2にはパターン状にラビング処理を行った配向層上に液晶化合物を含有する位相差層が形成されることにより、液晶化合物の配列方向が直交する領域がパターン状に形成された位相差フィルムが開示されている。しかしながら、ラビング処理は液晶化合物を配列させるための配向処理として一般的に公知の手段であるが、微細領域でラビング方向を0度、90度の様に明確に分けることが困難であった。液晶化合物に対する配向規制力は比較的弱いものである。このため特許文献2のような方法でパターン位相差板を作製した場合、位相差層におけるパターンの境界が不明確・曖昧になってしまい、境界近傍に液晶配向の欠陥が生じてそこから光漏れが起こり、ディスプレイのコントラストを低下させてしまうという問題点があった。   Further, in Patent Document 2, a phase difference layer containing a liquid crystal compound is formed on an alignment layer that has been subjected to a rubbing treatment in a pattern, whereby a region in which the alignment directions of the liquid crystal compounds are orthogonal is formed in a pattern. A retardation film is disclosed. However, the rubbing process is a generally known means as an alignment process for aligning the liquid crystal compounds, but it has been difficult to clearly divide the rubbing direction into 0 degrees and 90 degrees in a fine region. The alignment regulating power for the liquid crystal compound is relatively weak. For this reason, when a pattern phase difference plate is produced by a method such as Patent Document 2, the boundary of the pattern in the retardation layer becomes unclear and ambiguous, and defects in liquid crystal alignment occur near the boundary, and light leaks from there. Occurs, and the contrast of the display is lowered.

特開2005−49865号公報JP 2005-49865 A 特開2003−207641号公報JP 2003-207641 A

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、高品質な3次元表示装置用パターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を容易かつ大量に作製することができる3次元表示用パターン配向層用原版を提供することを主目的とするものである。   The present invention has been made in view of such a situation, and is capable of easily and in large quantities producing a pattern alignment film capable of forming a high-quality pattern retardation film for a three-dimensional display device. The main object is to provide an original plate for a pattern alignment layer for display.

上記課題を解決するために本発明は、微細凹凸形状が一定方向に形成された第1パターン部および上記微細凹凸形状が上記第1パターン部とは異なる方向に形成された第2パターン部を表面に備える基材を有することを特徴とする3次元表示用パターン配向層用原版を提供する。   In order to solve the above-described problems, the present invention provides a first pattern portion having a fine uneven shape formed in a certain direction and a second pattern portion having a fine uneven shape formed in a direction different from the first pattern portion. An original for a pattern alignment layer for three-dimensional display is provided.

本発明によれば、表面に微細凹凸形状が異なる方向に形成された第1パターン部および第2パターン部を有することにより、このような3次元表示用パターン配向層用原版(以下、単に原版とする場合がある。)を用いることで、光配向材料等の高価な材料を用いることなく、第1配向領域と、第2配向領域とがパターン状に形成された配向層を有する3次元表示用パターン配向膜(以下、単にパターン配向膜とする場合がある。)を容易かつ大量に形成することができる。
また、このようなパターン配向膜を使用し、上述の配向領域を有する配向層上に、例えば、液晶化合物を含む位相差層を形成することにより、3次元表示装置に用いられる3次元表示用パターン位相差フィルム(以下、単にパターン位相差フィルムとする場合がある。)を容易かつ大量に製造することが可能となる。
また、このような原版を用いることにより、第1配向領域および第2配向領域の境界付近での配向規制力の低下を抑制することができることから、上記第1配向領域および第配向領域に対応する位相差層である第1位相差領域と第2位相差領域との境界を明確にすることができるという利点がある。これにより、隣り合ったパターンの境界近傍に生じ易い液晶の配向欠陥を抑制することができるので、境界近傍からの光漏れを抑制でき、その結果、ディスプレイに使用した際のコントラストの低下を抑制することができる。したがって、このような原版を用いることにより、高品質なパターン位相差フィルムを形成することができる。
According to the present invention, by having the first pattern portion and the second pattern portion formed on the surface in different directions with fine uneven shapes, such a three-dimensional display pattern alignment layer original plate (hereinafter simply referred to as an original plate). Can be used for three-dimensional display having an alignment layer in which the first alignment region and the second alignment region are formed in a pattern without using an expensive material such as a photo-alignment material. A pattern alignment film (hereinafter sometimes simply referred to as a pattern alignment film) can be formed easily and in large quantities.
Further, by using such a pattern alignment film and forming, for example, a retardation layer containing a liquid crystal compound on the alignment layer having the alignment region described above, a three-dimensional display pattern used in a three-dimensional display device A retardation film (hereinafter sometimes simply referred to as a pattern retardation film) can be produced easily and in large quantities.
Further, by using such an original plate, it is possible to suppress a decrease in the alignment regulating force in the vicinity of the boundary between the first alignment region and the second alignment region, so that it corresponds to the first alignment region and the first alignment region. There is an advantage that the boundary between the first retardation region and the second retardation region, which are retardation layers, can be clarified. As a result, liquid crystal alignment defects that are likely to occur near the boundary between adjacent patterns can be suppressed, so that light leakage from the vicinity of the boundary can be suppressed, and as a result, a decrease in contrast when used in a display is suppressed. be able to. Therefore, a high-quality pattern retardation film can be formed by using such an original plate.

本発明においては、上記基材がロール状基材であることが好ましい。容易かつ大量にパターン配向膜を形成可能なものとすることができ、製造効率の高いものとすることができるからである。   In the present invention, the substrate is preferably a roll substrate. This is because the pattern alignment film can be formed easily and in large quantities, and the production efficiency can be increased.

本発明においては、上記第1パターン部および第2パターン部に形成された微細凹凸形状の形成方向が45°または90°異なることが好ましい。3次元表示装置に好適に用いられるものとすることができるからである。   In the present invention, it is preferable that the formation directions of the fine unevenness formed in the first pattern portion and the second pattern portion differ by 45 ° or 90 °. This is because it can be suitably used for a three-dimensional display device.

本発明においては、上記基材を構成する材料が金属材料であることが好ましい。耐久性に優れたものとすることができるからである。   In the present invention, the material constituting the substrate is preferably a metal material. It is because it can be made excellent in durability.

本発明は、微細凹凸形状が一定方向に形成された第1パターン部および上記微細凹凸形状が上記第1パターン部とは異なる方向に形成された第2パターン部を表面に備える基材を有する3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法であって、基材を準備し、上記基材の全表面に微細凹凸形状を一定方向に形成する第1パターン形成工程と、上記基材の全表面に形成された微細凹凸形状をパターン状に削り取り、かつ、削り取った領域に上記第1パターン形成工程とは異なる方向に微細凹凸形状を一定方向に形成する第2パターン形成工程と、を有することを特徴とする3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法を提供する。   The present invention includes a substrate having a first pattern portion having a fine uneven shape formed in a certain direction and a second pattern portion having a fine pattern formed in a direction different from the first pattern portion on the surface. A method for producing a master for a pattern alignment layer for dimension display, comprising: preparing a base material; forming a fine unevenness shape in a certain direction on the entire surface of the base material; and the entire surface of the base material And a second pattern forming step of forming a fine uneven shape in a fixed direction in a direction different from the first pattern forming step in the scraped region. Provided is a method for producing a three-dimensional display pattern alignment layer master.

本発明によれば、微細凹凸形状が一定方向に形成された第1パターン部および上記微細凹凸形状が上記第1パターン部とは異なる方向に形成された第2パターン部を表面に備える基材を有する3次元表示用パターン配向層用原版を容易かつ精度良く得ることができる。   According to the present invention, there is provided a substrate having on its surface a first pattern portion having a fine uneven shape formed in a certain direction and a second pattern portion having the fine uneven shape formed in a direction different from the first pattern portion. The original master for a three-dimensional display pattern alignment layer can be obtained easily and accurately.

本発明は、上述の3次元表示用パターン配向層用原版と、配向層形成用樹脂組成物からなる配向層形成用層と、を接触させた後、加圧し、上記配向層形成用層に上記3次元表示用パターン配向層用原版表面の形状を賦型する賦型工程と、上記賦型工程後に、上記配向層形成用層を硬化させる硬化工程および上記配向層形成用層を上記3次元表示用パターン配向層用原版から剥離する剥離工程と、を有することを特徴とする3次元表示用パターン配向膜の製造方法を提供する。   In the present invention, the above-described three-dimensional display pattern alignment layer original plate and the alignment layer forming layer made of the alignment layer forming resin composition are brought into contact with each other and then pressurized, and the alignment layer forming layer is subjected to the above-described process. A three-dimensional display pattern forming layer for forming an original surface shape, a curing step for hardening the alignment layer forming layer after the forming step, and the three-dimensional display for forming the alignment layer forming layer. There is provided a method for producing a pattern alignment film for three-dimensional display, comprising a peeling step of peeling from a pattern alignment layer master for use.

本発明によれば、上記原版を用いることにより、高品質なパターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を容易かつ大量に作製することができる。   According to the present invention, by using the original plate, a pattern alignment film capable of forming a high-quality pattern retardation film can be easily and in large quantities.

本発明は、上述の3次元表示用パターン配向膜の製造方法により形成された3次元表示用パターン配向膜に含まれる配向層上に、屈折率異方性を有する棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、上記位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記配向層に含まれる第1配向領域および第2配向領域に形成された微細凹凸形状の方向に沿って配列させる配向工程と、を有することを特徴とする3次元表示用パターン位相差フィルムの製造方法を提供する。   The present invention provides a retardation layer containing a rod-shaped compound having refractive index anisotropy on an alignment layer included in a three-dimensional display pattern alignment film formed by the above-described method for manufacturing a three-dimensional display pattern alignment film. The coating step of applying the coating liquid and the rod-shaped compound contained in the coating film of the retardation layer forming coating liquid are formed in the first and second alignment regions included in the alignment layer. An alignment step of aligning along the direction of the concavo-convex shape, and a method for producing a three-dimensional display pattern phase difference film.

本発明によれば、上述の原版を用いて形成されたパターン配向膜を用いることにより、3次元表示装置用パターン位相差フィルムを形成することができる。   According to the present invention, a pattern retardation film for a three-dimensional display device can be formed by using a pattern alignment film formed using the above-described original plate.

本発明の3次元表示用パターン配向層用原版によれば、高品質なパターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を容易かつ大量に作製することができるという効果を奏する。   According to the original plate for a three-dimensional display pattern alignment layer of the present invention, there is an effect that a pattern alignment film capable of forming a high-quality pattern retardation film can be produced easily and in large quantities.

本発明の3次元表示用パターン配向層用原版の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the original plate for 3D display pattern orientation layers of this invention. 図1の原版の表面を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the surface of the original plate of FIG. 図2のA−A線断面図である。It is the sectional view on the AA line of FIG. 本発明における微細凹凸形状を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the fine uneven | corrugated shape in this invention. 本発明における微細凹凸形状を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the fine uneven | corrugated shape in this invention. 本発明における微細凹凸形状を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the fine uneven | corrugated shape in this invention. 本発明の3次元表示用パターン配向層用原版の他の例の表面を示す概略平面図である。It is a schematic plan view which shows the surface of the other example of the original plate for three-dimensional display pattern orientation layers of this invention. 本発明における第1パターン部および第2パターン部を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the 1st pattern part and 2nd pattern part in this invention. 本発明の3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the original plate for 3D display pattern orientation layers of this invention. 図9のB−B線断面図である。FIG. 10 is a sectional view taken along line B-B in FIG. 9. 本発明の3次元表示用パターン配向膜の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the pattern orientation film for three-dimensional displays of this invention. 本発明における加圧方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the pressurization method in this invention. 本発明における加圧方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the pressurization method in this invention. 本発明に用いられる透明フィルム基材を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the transparent film base material used for this invention. 本発明の3次元表示用パターン位相差フィルムの製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the pattern retardation film for three-dimensional displays of this invention. 本発明における他の工程を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the other process in this invention. パッシブ方式で3次元映像を表示可能な液晶表示装置の例を示す概略図である。It is the schematic which shows the example of the liquid crystal display device which can display a three-dimensional image | video with a passive system.

本発明は、3次元表示用パターン配向層用原版およびその製造方法ならびにそれを用いた3次元表示用パターン配向膜の製造方法および3次元表示用パターン位相差フィルムの製造方法に関するものである。
以下、本発明の3次元表示用パターン配向層用原版、3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法、3次元表示用パターン配向膜の製造方法および3次元表示用パターン位相差フィルムの製造方法について詳細に説明する。
The present invention relates to a master for a three-dimensional display pattern alignment layer, a method for manufacturing the same, a method for manufacturing a pattern alignment film for three-dimensional display using the same, and a method for manufacturing a pattern retardation film for three-dimensional display.
Hereinafter, a method for producing a three-dimensional display pattern alignment layer master, a three-dimensional pattern alignment layer master, a three-dimensional pattern alignment film manufacturing method, and a three-dimensional pattern retardation film manufacturing method of the present invention Will be described in detail.

A.3次元表示用パターン配向層用原版
まず、本発明の3次元表示用パターン配向層用原版について説明する。
本発明の原版は、微細凹凸形状が一定方向に形成された第1パターン部および上記微細凹凸形状が上記第1パターン部とは異なる方向に形成された第2パターン部を表面に備える基材を有することを特徴とするものである。
A. First, a three-dimensional display pattern alignment layer master according to the present invention will be described.
The original plate of the present invention comprises a substrate having a first pattern portion having a fine uneven shape formed in a certain direction and a second pattern portion having a fine uneven shape formed in a direction different from the first pattern portion on the surface. It is characterized by having.

このような本発明の原版について図を参照して説明する。図1は、本発明の原版の一例を示す概略図である。図2は図1の原版表面の概略平面図であり、図3は図2のA−A線断面図である。図1〜図3に例示するように、本発明の原版10は、微細凹凸形状が一定方向に形成された第1パターン部2aおよび微細凹凸形状が上記第1パターン部2aとは異なる方向に形成された第2パターン部2bを表面に備えるロール状基材1を有するものである。
なお、この例においては、上記原版は基材がロール状基材であるロール版であり、上記第1パターン部および第2パターン部表面の上記微細凹凸形状の形成方向が、原版の回転方向に対して90°および0°であり、90°異なるものを示すものである。また、図2中の矢印は、微細凹凸形状の形成方向を示すものである。
Such an original plate of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a schematic view showing an example of an original plate of the present invention. 2 is a schematic plan view of the surface of the original plate in FIG. 1, and FIG. 3 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. As illustrated in FIGS. 1 to 3, the original plate 10 of the present invention is formed with a first pattern portion 2 a having a fine concavo-convex shape formed in a certain direction and a fine concavo-convex shape formed in a direction different from the first pattern portion 2 a. It has the roll-shaped base material 1 which equips the surface with the made 2nd pattern part 2b.
In this example, the original plate is a roll plate whose base material is a roll-shaped base material, and the formation direction of the fine irregularities on the surfaces of the first pattern portion and the second pattern portion is the rotation direction of the original plate. On the other hand, it is 90 ° and 0 °, and shows a difference of 90 °. Moreover, the arrow in FIG. 2 shows the formation direction of fine uneven | corrugated shape.

本発明によれば、表面に微細凹凸形状が異なる方向に形成された第1パターン部および第2パターン部を有することにより、このような原版を用いることで、光配向材料等の高価な材料を用いることなく、屈折率異方性を有する棒状化合物を一定方向に配列させることができる第1配向領域と、上記第1配向領域とは異なる方向に棒状化合物を配列させることができる第2配向領域とが、上記第1パターン部および第2パターン部のパターンに対応したパターン状に形成された配向層を有するパターン配向膜を容易かつ大量に形成することができる。
また、このようなパターン配向膜を使用し、上述の配向領域を有する配向層上に、例えば、上記棒状化合物を含む位相差層を形成した場合には、上記第1配向領域および第2配向領域が有する配向規制力に従って棒状化合物の配列方向の異なる位相差層(第1位相差領域および第2位相差領域)を有し、3次元表示装置に用いられるパターン位相差フィルムを容易かつ大量に製造することが可能となる。
さらに、本発明のように予め微細凹凸形状が形成された第1パターン部および第2パターン部が形成された原版を用いることにより、第1配向領域および第2配向領域を境界付近においても、十分に微細凹凸形状が形成されたものとすることができる。このため、両領域での配向規制力の低下を抑制することができ、上記第1配向領域および第配向領域に対応する位相差層である第1位相差領域と第2位相差領域との境界を明確にすることができるという利点がある。これにより、隣り合ったパターンの境界近傍に生じ易い液晶の配向欠陥を抑制することができるので、境界近傍からの光漏れを抑制でき、その結果、ディスプレイに使用した際のコントラストの低下を抑制することができる。したがって、このような原版を用いることにより、高品質なパターン位相差フィルムを形成することができる。
According to the present invention, an expensive material such as a photo-alignment material can be obtained by using such an original plate by having the first pattern portion and the second pattern portion formed on the surface in directions with different fine uneven shapes. A first alignment region in which rod-like compounds having refractive index anisotropy can be arranged in a certain direction without using, and a second alignment region in which rod-like compounds can be arranged in a direction different from the first alignment region. However, a pattern alignment film having an alignment layer formed in a pattern corresponding to the patterns of the first pattern portion and the second pattern portion can be formed easily and in large quantities.
In addition, when such a pattern alignment film is used and, for example, a retardation layer containing the rod-shaped compound is formed on the alignment layer having the alignment region, the first alignment region and the second alignment region are formed. Has a phase difference layer (first phase difference region and second phase difference region) having different arrangement directions of rod-shaped compounds according to the orientation regulating force of the substrate, and easily and in large quantities produces a pattern phase difference film used in a three-dimensional display device It becomes possible to do.
Further, by using the original plate on which the first pattern portion and the second pattern portion in which the fine concavo-convex shape is formed in advance as in the present invention, the first alignment region and the second alignment region are sufficiently near the boundary. It can be assumed that a fine uneven shape is formed on the surface. For this reason, it is possible to suppress a decrease in the alignment regulating force in both regions, and the boundary between the first retardation region and the second retardation region, which are retardation layers corresponding to the first alignment region and the first alignment region. There is an advantage that can be clarified. As a result, liquid crystal alignment defects that are likely to occur near the boundary between adjacent patterns can be suppressed, so that light leakage from the vicinity of the boundary can be suppressed, and as a result, a decrease in contrast when used in a display is suppressed. be able to. Therefore, a high-quality pattern retardation film can be formed by using such an original plate.

本発明の3次元表示用パターン配向層用原版は、基材を有するものである。
以下、本発明の3次元表示用パターン配向層用原版の各構成について詳細に説明する。
The original plate for a pattern alignment layer for three-dimensional display of the present invention has a substrate.
Hereafter, each structure of the original for pattern orientation layers for three-dimensional displays of this invention is demonstrated in detail.

1.基材
本発明に用いられる基材は、表面に第1パターン部および第2パターン部を備えるものである。
1. Base material The base material used for this invention equips the surface with a 1st pattern part and a 2nd pattern part.

(1)第1パターン部および第2パターン部
本発明における第1パターン部は、基材の表面に形成される部位であり、微細凹凸形状が一定方向に形成されたものである。
また、本発明における第2パターン部は、基材の表面に形成される部位であり、微細凹凸形状が上記第1パターン部とは異なる方向に形成されたものである。
(1) 1st pattern part and 2nd pattern part The 1st pattern part in this invention is a site | part formed in the surface of a base material, and a fine uneven | corrugated shape is formed in the fixed direction.
Moreover, the 2nd pattern part in this invention is a site | part formed in the surface of a base material, and a fine uneven | corrugated shape is formed in the direction different from the said 1st pattern part.

(i)微細凹凸形状
本発明における微細凹凸形状は一定方向に形成されるものであり、このような微細凹凸形状が転写されることにより、棒状化合物を一定方向に配列させることが可能な配向層を形成することができるものである。
(I) Fine concavo-convex shape The fine concavo-convex shape in the present invention is formed in a certain direction, and an alignment layer capable of arranging rod-shaped compounds in a certain direction by transferring such a fine concavo-convex shape. Can be formed.

本発明における微細凹凸形状は、配向層に転写された際に棒状化合物を一定方向に配列させることができるものであれば特に限定されるものではない。ここで、棒状化合物はライン状凹凸構造が形成された表面においては、当該ライン状凹凸構造の長手方向に平行に配列性質を有するため、本発明における微細凹凸形状は、ライン状凹凸構造からなるものであることが好ましい。このようなライン状凹凸構造によれば上記棒状化合物を配列される方向を予め決定することができるからである。   The fine concavo-convex shape in the present invention is not particularly limited as long as the rod-shaped compound can be arranged in a certain direction when transferred to the alignment layer. Here, since the rod-like compound has an array property parallel to the longitudinal direction of the line-shaped uneven structure on the surface on which the line-shaped uneven structure is formed, the fine uneven shape in the present invention is composed of a line-shaped uneven structure. It is preferable that This is because according to such a line-shaped uneven structure, the direction in which the rod-shaped compounds are arranged can be determined in advance.

本発明におけるライン状凹凸構造が形成される態様としては、微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された態様であってもよく、あるいはライン状凹凸構造がストライプ状に形成された態様であってもよい。
具体的には、本発明においては、第1パターン部および第2パターン部の両部に、上記微細凹凸形状として微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された態様であっても良く、両部に、ライン状凹凸構造がストライプ状に形成された態様であっても良い。またさらに、図4に例示するように、両者が組み合わされた態様であってもよい。
The form in which the line-shaped uneven structure is formed in the present invention may be an aspect in which minute line-shaped uneven structures are randomly formed in a substantially constant direction, or the line-shaped uneven structure is formed in a stripe shape. An aspect may be sufficient.
Specifically, in the present invention, even if the first pattern portion and the second pattern portion are both formed with a fine line-shaped uneven structure as the fine uneven shape randomly in a substantially constant direction. It is also possible that the line-shaped uneven structure is formed in stripes on both sides. Furthermore, as illustrated in FIG. 4, a mode in which both are combined may be used.

ここで、微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された態様とは、例えば、表面にラビング処理がなされた場合等に形成されるような微小な傷のようなライン状凹凸構造が、略一定方向に形成された態様を意味するものである。具体的には、微小なライン状凹凸構造の断面形状としては、凹凸構造を有し、上記棒状化合物を所定の方向に配列できるものであれば特に限定されるものではなく、略矩形、略三角形、略台形等とすることができる。また、一定の形状でなくともよい。
一方、ライン状凹凸構造がストライプ状に形成された態様とは、壁状に形成された凸部が一定の間隔でストライプ状に形成された態様を意味するものである。ライン状凹凸構造の大きさは前述のランダムの態様よりも比較的大きく、例えば表面にラビング処理がなされた場合に形成されるような微小な傷のような凹凸形状はこれに含まれないものである。
Here, a mode in which minute line-shaped uneven structures are randomly formed in a substantially constant direction is, for example, a line-shaped uneven structure such as a minute scratch formed when the surface is rubbed. Means an aspect formed in a substantially constant direction. Specifically, the cross-sectional shape of the minute line-shaped uneven structure is not particularly limited as long as it has an uneven structure and the rod-shaped compound can be arranged in a predetermined direction. It can be a substantially trapezoid or the like. Moreover, it may not be a fixed shape.
On the other hand, the aspect in which the line-shaped uneven structure is formed in a stripe shape means an aspect in which convex portions formed in a wall shape are formed in a stripe shape at regular intervals. The size of the line-shaped concavo-convex structure is relatively larger than the above-mentioned random mode, and for example, the concavo-convex shape such as a minute scratch formed when the surface is rubbed is not included. is there.

本発明においては上記第1パターン部の表面に形成される微細凹凸形状と、上記第2パターン部の表面に形成される微細凹凸形状とが同一態様であってもよく、あるいは異なる態様であってもよい。中でも本発明においては既に説明した少なくとも第1パターン部または第2パターン部の一方の表面に形成された微細凹凸形状が上記ストライプ状のライン状凹凸構造であることが好ましい。微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された態様と、ストライプ状のライン状凹凸構造に形成された態様とでは、後者の方が棒状化合物に対する配向規制力を強く発現することができるため、少なくとも第1パターン部または第2パターン部の一方の表面に形成された微細凹凸形状がストライプ状のライン状凹凸構造であることにより、このような微細凹凸形状が転写されたパターン配向膜を用いることで、パターン位相差フィルムの右目用および左目用の位相差層(第1位相差領域および第2位相差領域)の境界を明確にすることができるからである。
本発明においては、なかでも、既に説明した図4に示すように、一方のパターン部に形成された微細凹凸形状がストライプ状のライン状凹凸構造であり、他方のパターン部に形成された微細凹凸形状が微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成されたものであることが好ましい。第1パターン部および第2パターン部の形成方法として、基材の全表面に例えば研磨等の方法により微小なライン状凹凸構造を略一定方向にランダムに形成した後に、基材の表面をバイト等でパターン状に切削することで、全表面に形成された微細凹凸形状をパターン状に削り取りつつ、微細凹凸形状としてストライプ状のライン状凹凸構造を形成する方法を用いることができ、第1パターン部および第2パターン部を容易かつ精度良く形成可能なものとすることができるからである。
In the present invention, the fine uneven shape formed on the surface of the first pattern portion and the fine uneven shape formed on the surface of the second pattern portion may be the same or different. Also good. In particular, in the present invention, it is preferable that the fine concavo-convex shape formed on at least one surface of the first pattern portion or the second pattern portion already described is the above-described stripe-like line concavo-convex structure. In the aspect in which the minute line-shaped uneven structure is randomly formed in a substantially constant direction and the aspect in which the fine line-shaped uneven structure is formed in the stripe-like line-shaped uneven structure, the latter may exhibit a stronger alignment regulating force on the rod-shaped compound. Therefore, since the fine concavo-convex shape formed on at least one surface of the first pattern portion or the second pattern portion is a stripe-like line concavo-convex structure, the pattern alignment film to which such a fine concavo-convex shape is transferred This is because the boundary between the right-eye and left-eye retardation layers (first retardation region and second retardation region) of the pattern retardation film can be clarified.
In the present invention, as shown in FIG. 4 described above, the fine unevenness formed in one pattern portion is a stripe-like line uneven structure, and the fine unevenness formed in the other pattern portion. It is preferable that a line-shaped uneven structure having a minute shape is randomly formed in a substantially constant direction. As a method of forming the first pattern portion and the second pattern portion, a fine line-shaped uneven structure is randomly formed in a substantially constant direction on the entire surface of the base material by, for example, a method such as polishing, and then the surface of the base material is changed to a bite or the like. The first pattern portion can be used by forming a striped line-shaped uneven structure as a fine uneven shape while cutting the fine uneven shape formed on the entire surface into a pattern shape by cutting into a pattern shape with This is because the second pattern portion can be easily and accurately formed.

ストライプ状のライン状凹凸構造が形成される場合、ライン状凹凸構造の高さ、幅、および周期は棒状化合物を配列させることができる範囲内であれば特に限定されるものではない。中でも本発明においてはストライプ状のライン状凹凸構造の幅は、1nm〜100000nmの範囲内であることが好ましく、10nm〜10000nmの範囲内であることがより好ましく、100nm〜1000nmの範囲内であることがさらに好ましい。また、ストライプ状のライン状凹凸構造の高さは、1nm〜1000nmの範囲内であることが好ましく、10nm〜100nmの範囲内であることがより好ましく、20nm〜50nmの範囲内であることがさらに好ましい。さらに、ストライプ状のライン状凹凸構造の周期は2nm〜200000nmの範囲内であることが好ましく、20nm〜20000nmの範囲内であることがより好ましく、200nm〜2000nmの範囲内であることがさらに好ましい。   When a striped line-shaped uneven structure is formed, the height, width, and period of the line-shaped uneven structure are not particularly limited as long as the rod-shaped compound can be arranged. In particular, in the present invention, the width of the striped line-shaped uneven structure is preferably in the range of 1 nm to 100,000 nm, more preferably in the range of 10 nm to 10,000 nm, and in the range of 100 nm to 1000 nm. Is more preferable. The height of the striped line-shaped uneven structure is preferably in the range of 1 nm to 1000 nm, more preferably in the range of 10 nm to 100 nm, and further in the range of 20 nm to 50 nm. preferable. Furthermore, the period of the striped line-shaped uneven structure is preferably in the range of 2 nm to 200000 nm, more preferably in the range of 20 nm to 20000 nm, and still more preferably in the range of 200 nm to 2000 nm.

また、微小なライン状凹凸構造がランダムに形成される場合、微小なライン状凹凸構造の高さ、幅、および周期は棒状化合物を配列させることができる範囲内であれば特に限定されるものではない。中でも本発明においては微小なライン状凹凸構造の幅は、0.1nm〜10000nmの範囲内であることが好ましく、0.1nm〜1000nmの範囲内であることがより好ましく、0.1nm〜100nmの範囲内であることがさらに好ましい。また、微小なライン状凹凸構造の高さは、0.1nm〜10000nmの範囲内であることが好ましく、0.1nm〜1000nmの範囲内であることがより好ましく、0.1nm〜100nmの範囲内であることがさらに好ましい。さらに、微小なライン状凹凸構造の周期は0.1nm〜10000nmの範囲内であることが好ましく、0.1nm〜1000nmの範囲内であることがより好ましく、0.1nm〜100nmの範囲内であることがさらに好ましい。   In addition, when the minute line-shaped uneven structure is formed at random, the height, width, and period of the minute line-shaped uneven structure are not particularly limited as long as the rod-shaped compound can be arranged. Absent. Among them, in the present invention, the width of the fine line-shaped uneven structure is preferably in the range of 0.1 nm to 10000 nm, more preferably in the range of 0.1 nm to 1000 nm, and 0.1 nm to 100 nm. More preferably, it is within the range. The height of the fine line-shaped uneven structure is preferably in the range of 0.1 nm to 10000 nm, more preferably in the range of 0.1 nm to 1000 nm, and in the range of 0.1 nm to 100 nm. More preferably. Furthermore, the period of the fine line-shaped uneven structure is preferably in the range of 0.1 nm to 10000 nm, more preferably in the range of 0.1 nm to 1000 nm, and in the range of 0.1 nm to 100 nm. More preferably.

ここで、ライン状凹凸構造の高さ、幅、および周期はそれぞれ図5におけるl、m、nで示される距離を意味する。
なお、図5は、ストライプ状のライン状凹凸構造、または微小なライン状凹凸構造の断面形状が矩形状である場合を示す説明図である。
Here, the height, width, and period of the line-shaped uneven structure mean the distances indicated by l, m, and n in FIG.
FIG. 5 is an explanatory diagram showing a case where the cross-sectional shape of the striped line-shaped uneven structure or the minute line-shaped uneven structure is a rectangular shape.

本発明における第1パターン部および第2パターン部の表面に形成される微細凹凸形状の形成方向としては、両者が異なる方向に形成され、本発明の原版を用いて形成されるパターン配向膜を、所望の3次元映像を表示可能とすることができるものであれば特に限定されるものではないが、45°または90°異なることが好ましい。上記形成方向が上記方向であることにより3次元表示装置を製造するために好適に用いられるものにできるからである。
なお、45°または90°異なる方向とは、本発明の原版を用いて3次元表示装置を形成可能なパターン配向膜を精度良く形成できるものであれば特に限定されるものではないが、通常、45°(または90°)±3°の範囲内であることが好ましく、なかでも、45°(または90°)±2°程度の範囲内であることが好ましく、なかでも、45°(または90°)±1°程度の範囲内であることが好ましい。高性能な3次元表示装置を形成可能なものとすることができるからである。
As the formation direction of the fine unevenness formed on the surface of the first pattern portion and the second pattern portion in the present invention, both are formed in different directions, and the pattern alignment film formed using the original plate of the present invention, Although it will not specifically limit if a desired three-dimensional image can be displayed, It is preferable that it differs by 45 degrees or 90 degrees. It is because it can be used suitably for manufacturing a three-dimensional display apparatus because the said formation direction is the said direction.
The direction different from 45 ° or 90 ° is not particularly limited as long as it can accurately form a pattern alignment film capable of forming a three-dimensional display device using the original plate of the present invention. It is preferably within a range of 45 ° (or 90 °) ± 3 °, and more preferably within a range of about 45 ° (or 90 °) ± 2 °, and in particular, 45 ° (or 90 ° °) It is preferably within a range of about ± 1 °. This is because a high-performance three-dimensional display device can be formed.

ここで、上記第1パターン部および第2パターン部を有することにより、上記配向層に上記第1配向領域および上記第2配向領域をパターン状に形成することが可能となり、当該パターンに従って位相差層においても第1配向領域上に形成された位相差層(第1位相差領域)と、上記第2配向領域上に形成された位相差層(第2位相差領域)とがパターン状に配置されることになる。ここで、上記第1パターン部および第2パターンに形成される微細凹凸形状の形成方向が互いに直交する方向である場合、本願の原版を用いて形成されたパターン配向膜に含まれる第1配向領域と第2配向領域とでは上記棒状化合物を配列させる方向が互いに直交する方向となり、上記第1位相差領域と上記第2位相差領域とでは屈折率の最も大きくなる方向(遅相軸方向)が互いに直交する関係になる。このため、本発明においては上記第1パターン部および上記第2パターン部が形成されたパターンに対応して、上記位相差層において遅相軸方向が90°異なる第1位相差領域、および第2位相差領域がパターン状に配置されたパターン位相差フィルムを得ることができる。したがって、3次元表示装置を製造するために好適に用いられるものとすることができるのである。   Here, by having the first pattern portion and the second pattern portion, the first alignment region and the second alignment region can be formed in a pattern on the alignment layer, and the retardation layer is formed according to the pattern. In FIG. 5, the retardation layer (first retardation region) formed on the first alignment region and the retardation layer (second retardation region) formed on the second alignment region are arranged in a pattern. Will be. Here, when the formation directions of the fine unevenness formed in the first pattern portion and the second pattern are orthogonal to each other, the first alignment region included in the pattern alignment film formed using the original plate of the present application In the first and second alignment regions, the direction in which the rod-shaped compounds are arranged is a direction orthogonal to each other, and in the first retardation region and the second retardation region, the direction in which the refractive index is largest (slow axis direction) is They are orthogonal to each other. For this reason, in the present invention, corresponding to the pattern in which the first pattern portion and the second pattern portion are formed, the first retardation region having a slow axis direction different by 90 ° in the retardation layer, and the second A patterned retardation film in which retardation regions are arranged in a pattern can be obtained. Therefore, it can be suitably used for manufacturing a three-dimensional display device.

一方、上記形成方向が45°の角度となる方向である場合、すなわち、本願の原版を用いて形成されたパターン位相差フィルムの第1位相差領域および第2位相差領域の棒状化合物の配列方向が45°の角度となる方向である場合には、上記第1位相差領域および第2位相差領域の面内レターデーション値をλ/2分に相当するものとし、さらに、λ/4板と組み合わせて用いることにより、容易に3次元表示装置を製造することができる。
ここで、上記形成方向の場合にλ/4板と組み合わせることにより、容易に3次元表示装置を製造することができる点について、より詳細に説明する。図6は、本発明の原版を用いて形成されたパターン位相差フィルムと、λ/4板とを組み合わせて用い、3次元表示可能な液晶表示装置を作製した場合の一例を示す概略図である。図6に例示するように、本発明の原版を用いて形成されたパターン位相差フィルムと、λ/4板を組み合わせて用いる液晶表示装置は、パッシブ方式により3次元表示が可能なものとなる。その原理は次の通りである。
On the other hand, when the formation direction is an angle of 45 °, that is, the arrangement direction of the rod-shaped compounds in the first retardation region and the second retardation region of the pattern retardation film formed using the original plate of the present application. Is in a direction that makes an angle of 45 °, the in-plane retardation values of the first retardation region and the second retardation region correspond to λ / 2 minutes, and the λ / 4 plate By using in combination, a three-dimensional display device can be easily manufactured.
Here, the fact that a three-dimensional display device can be easily manufactured by combining with a λ / 4 plate in the case of the formation direction will be described in more detail. FIG. 6 is a schematic diagram showing an example of a case where a liquid crystal display device capable of three-dimensional display is manufactured using a combination of a pattern retardation film formed using the original plate of the present invention and a λ / 4 plate. . As illustrated in FIG. 6, a liquid crystal display device using a combination of a pattern retardation film formed using the original plate of the present invention and a λ / 4 plate is capable of three-dimensional display by a passive method. The principle is as follows.

まず、フラットパネルディスプレイを構成するカラーフィルタの画素を、右目用映像表示画素と左目用映像表示画素の2種類の複数の画素にパターン状に分割し、一方のグループの画素では右目用の映像を表示させ、他方のグループの画素では左目用の映像を表示させる。次に、パターン位相差フィルムとして、位相差層の第1位相差領域が左目用映像表示画素の配列パターンに対応するように形成され、かつ第2位相差領域が右目用映像表示画素の配列パターンに対応するように形成されたものを用意する。そして、このようなパターン位相差フィルムを、第2直線偏光板の表示面側に配置し、さらにλ/4板をパターン位相差フィルムの表示面側に配置する。このとき、第1位相差領域の遅相軸の方向と、第2直線偏光板の偏光軸の方向とが45°で交差するようにし、さらに第1位相差領域の遅相軸方向とλ/4板の遅相軸方向とが平行または直交の関係になるようにする。このようにパターン位相差フィルムとλ/4板とを配置することによって、右目用映像表示画素および左目用映像表示画素によって表示された映像(以下、それぞれ「右目用映像」、「左目用映像」と称する場合がある。)は、次のような経路で観察者に視認されることになる。   First, the color filter pixels constituting the flat panel display are divided into a plurality of two types of pixels, a right-eye video display pixel and a left-eye video display pixel, and the right-eye video is divided into one group of pixels. The left eye image is displayed on the other group of pixels. Next, as the pattern retardation film, the first retardation region of the retardation layer is formed so as to correspond to the arrangement pattern of the left-eye image display pixels, and the second retardation region is the arrangement pattern of the right-eye image display pixels. Prepare one that is formed to correspond to. And such a pattern phase difference film is arrange | positioned at the display surface side of a 2nd linearly-polarizing plate, Furthermore, (lambda) / 4 board is arrange | positioned at the display surface side of a pattern phase difference film. At this time, the direction of the slow axis of the first retardation region and the direction of the polarization axis of the second linear polarizing plate intersect at 45 °, and further, the slow axis direction of the first retardation region and λ / The slow axis directions of the four plates are set in a parallel or orthogonal relationship. By disposing the pattern retardation film and the λ / 4 plate in this manner, images displayed by the right-eye image display pixel and the left-eye image display pixel (hereinafter referred to as “right-eye image” and “left-eye image”, respectively) Is visually recognized by the observer through the following route.

すなわち、右目用映像表示画素および左目用映像表示画素によって表示された各映像は、まず、第2直線偏光板を透過することから、それぞれが直線偏光に変換されることになる。ここで、図6においては、第2直線偏光板の偏光軸は0°方向となっているため、第2偏光板を透過した各映像も、0°方向の直線偏光となる。次に、このように直線偏光(0°)に変換された各映像は、パターン位相差フィルムに入射することになるが、左目用映像は第1位相差領域を通過し、右目用映像は第2位相差領域を通過するため、左目用映像は偏光軸が90°の直線偏光(L1)として、パターン位相差フィルムを透過するが、右目用映像には変化はなく、偏光軸が0°の直線偏光(L2)のままパターン位相差フィルムを透過することになる。次に、L1およびL2がλ/4板に入射することにより、左目用映像は右旋回の円偏光(C1)に、右目用映像は左旋回の円偏光(C2)に、それぞれ変換されることになる。
このように、パターン位相差フィルムおよびλ/4板を通過した右目用映像および左目用映像は、互いに直交する円偏光に変換されることになるため、視聴者に右目用レンズと左目用レンズとに互いに直交する円偏光レンズを採用した円偏光メガネを装着させ、右目用映像が右目用レンズのみを通過し、かつ左目用映像が左目用レンズのみを通過するようにすることによって、右目用映像が右目のみに届き、左目用映像が左目のみに届くようにすることができ、3次元表示が可能となるのである。
That is, each image displayed by the right-eye image display pixel and the left-eye image display pixel is first transmitted through the second linearly polarizing plate, and thus is converted into linearly polarized light. Here, in FIG. 6, since the polarization axis of the second linear polarizing plate is in the 0 ° direction, each image transmitted through the second polarizing plate is also linearly polarized in the 0 ° direction. Next, each image converted into linearly polarized light (0 °) in this way enters the pattern phase difference film, but the image for the left eye passes through the first phase difference region, and the image for the right eye is the first image. Since it passes through the two phase difference regions, the left-eye image is transmitted through the pattern retardation film as linearly polarized light (L1) having a polarization axis of 90 °, but the right-eye image has no change and the polarization axis is 0 °. The pattern retardation film is transmitted through the linearly polarized light (L2). Next, when L1 and L2 are incident on the λ / 4 plate, the left-eye image is converted into right-handed circularly polarized light (C1), and the right-eye image is converted into left-handed circularly polarized light (C2). It will be.
As described above, the right-eye image and the left-eye image that have passed through the pattern retardation film and the λ / 4 plate are converted into circularly polarized light orthogonal to each other. Wearing circularly polarized glasses with circularly polarized lenses that are orthogonal to each other so that the right-eye image passes only through the right-eye lens and the left-eye image passes only through the left-eye lens. Can reach only the right eye, and the left-eye video can reach only the left eye, and three-dimensional display becomes possible.

本発明においては、上記基材がロール状基材である場合には、第1パターン部および第2パターン部のいずれか一方の微細凹凸形状の形成方向が、ロールの回転方向と平行な方向であることが好ましい。
具体的には、第1パターン部および第2パターン部の微細凹凸形状の形成方向が45°異なるものである場合には、回転方向に対して、0°/45°または0°/135°であることが好ましく、形成方向が90°異なるものである場合には、回転方向に対して0°/90°であることが好ましい。第1パターン部および第2パターン部の形成方法として、ロール基材の全表面に例えば研磨等の方法により微細凹凸形状として微小なライン状凹凸構造を略一定方向にランダムに形成した後に、基材の表面をバイト等でロール基材の回転方向にパターン状に切削することで、全表面に形成された微細凹凸形状をパターン状に削り取りつつ、微細凹凸形状としてストライプ状のライン状凹凸構造を形成する方法を用いることができ、第1パターン部および第2パターン部を容易かつ精度良く形成可能なものとすることができるからである。
第1パターン部および第2パターン部に形成された微細凹凸形状の形成方向が回転方向に対して、0°/45°のものとしては、具体的には、既に説明した図1〜図3に示すものを挙げることができる。また、回転方向に対して0°/90°のものとしては、例えば、図7に例示するものを挙げることができる。なお、図7は、原版の表面を示す概略平面図であり、図7中の符号については、図1〜図3のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
In this invention, when the said base material is a roll-shaped base material, the formation direction of any one fine uneven | corrugated shape of a 1st pattern part and a 2nd pattern part is a direction parallel to the rotation direction of a roll. Preferably there is.
Specifically, when the formation direction of the fine unevenness of the first pattern portion and the second pattern portion is different by 45 °, it is 0 ° / 45 ° or 0 ° / 135 ° with respect to the rotation direction. It is preferable that when the formation direction is 90 ° different, it is preferably 0 ° / 90 ° with respect to the rotation direction. As a method for forming the first pattern portion and the second pattern portion, a fine line-shaped uneven structure is randomly formed in a substantially constant direction as a fine uneven shape on the entire surface of the roll base material by, for example, a method such as polishing, By cutting the surface of the material into a pattern in the direction of rotation of the roll base with a tool or the like, the fine uneven shape formed on the entire surface is cut into a pattern, and a striped line uneven structure is formed as the fine uneven shape This is because the first pattern portion and the second pattern portion can be easily and accurately formed.
Specifically, the fine concavo-convex shape formed in the first pattern portion and the second pattern portion has a direction of 0 ° / 45 ° with respect to the rotation direction. The ones shown can be mentioned. Moreover, as a thing of 0 degree / 90 degrees with respect to a rotation direction, what is illustrated in FIG. 7 can be mentioned, for example. FIG. 7 is a schematic plan view showing the surface of the original plate, and the reference numerals in FIG. 7 indicate the same members as those in FIGS. .

(ii)第1パターン部および第2パターン部
本発明における第1パターン部および第2パターン部が形成されるパターンとしては、本発明の原版を用いて形成されたパターン位相差フィルムにより、所望の3次元映像を表示することができるものであれば、本発明の用途等に応じて適宜決定することができ、特に限定されるものではない。
このようなパターンとしては、例えば帯状パターン、モザイク状パターン、千鳥配置状パターン等を挙げることができる。なかでも本発明においては第1パターン部および第2パターン部が互いに平行な帯状のパターンに形成されていること、すなわち、本発明の原版を用いて形成される第1配向領域および第2配向領域、そして、第1配向領域および第2配向領域に対応して形成される第1位相差領域および第2位相差領域が互いに平行な帯状のパターンに形成されていることが好ましい。上記第1位相差領域および第2位相差領域を容易に互いに平行な帯状のパターンとすることができることにより、3次元表示装置において画素部が形成されているパターンと、上記第1位相差領域および第2位相差領域とを対応関係にすることが容易になるからである。
このような第1パターン部および第2パターン部が互いに平行な帯状のパターンに形成されているものとしては、具体的には、既に説明した図1〜図3に示すものを挙げることができる。
(Ii) 1st pattern part and 2nd pattern part As a pattern in which the 1st pattern part and 2nd pattern part in this invention are formed, with a pattern phase difference film formed using the original plate of this invention, desired pattern As long as it can display a three-dimensional image, it can be appropriately determined according to the application of the present invention, and is not particularly limited.
Examples of such a pattern include a belt-like pattern, a mosaic pattern, and a staggered pattern. In particular, in the present invention, the first pattern portion and the second pattern portion are formed in a belt-like pattern parallel to each other, that is, the first alignment region and the second alignment region formed using the original plate of the present invention. And it is preferable that the 1st phase difference area | region and 2nd phase difference area | region formed corresponding to a 1st orientation area | region and a 2nd orientation area | region are formed in the strip | belt-shaped pattern mutually parallel. Since the first phase difference region and the second phase difference region can be easily formed into strip-like patterns parallel to each other, a pattern in which a pixel portion is formed in the three-dimensional display device, the first phase difference region, This is because it is easy to make the second phase difference region correspond to each other.
Specific examples of the first pattern portion and the second pattern portion that are formed in a strip-like pattern parallel to each other include those already described with reference to FIGS.

本発明における第1パターン部および第2パターン部が互いに平行な帯状に形成されている場合、第1パターン部および第2パターン部の形成方向、すなわち、平行な帯状の方向としては、配向層形成用層に精度良く原版の表面形状を賦型することができるものであれば特に限定されるものではないが、基材がロール基材である場合には、既に説明した図1〜図3に示すようにロールの回転方向に沿った方向であることが好ましい。第1パターン部および第2パターン部の形成が容易だからである。   When the first pattern portion and the second pattern portion in the present invention are formed in a parallel strip shape, the formation direction of the first pattern portion and the second pattern portion, that is, the direction of the parallel strip shape, Although it will not specifically limit if the surface shape of an original plate can be accurately shape | molded to a use layer, When a base material is a roll base material, it has already demonstrated to FIGS. 1-3. As shown, the direction is preferably along the rotation direction of the roll. This is because it is easy to form the first pattern portion and the second pattern portion.

本工程における第1パターン部および第2パターン部の幅としては、両者の幅が同一であってもよく、あるいは異なっていてもよい。
しかしながら、本発明においては第1パターン部および第2パターン部の幅が同一であることが好ましい。通常右目用の画素と左目用の画素部が同一の幅で形成されていることから、第1パターン部および第2パターン部の幅を同一幅とすることにより、この第1パターン部および第2パターン部に対応して形成される配向層の第1配向領域および上記第2配向領域の幅を同一幅とすることができるからである。その結果、本発明の原版を用いてパターン配向膜を形成し、3次元表示可能な液晶表示装置を製造する場合に、上記第1配向領域および上記第2配向領域が形成されたパターンと、液晶表示装置に用いられるカラーフィルタにおいて画素部が形成されているパターンとを対応関係にすることが容易になり、その結果、本発明の原版を用いて形成されるパターン配向膜を使用して容易に3次元液晶表示装置を製造することができるようになるからである。また、発光型表示装置に用いられる画素部も同一の幅で形成されていることから、上記第1配向領域および上記第2配向領域の幅を同一幅とすることにより、本発明の原版を用いて形成されるパターン配向膜を使用して3次元表示可能な発光型表示装置を製造する場合に、上記第1配向領域および上記第2配向領域が形成されたパターンと、発光型表示装置に用いられる画素部が形成されているパターンとを対応関係にすることが容易になり、その結果、本発明の原版を用いて形成されるパターン配向膜を用いて容易に3次元発光型表示装置を製造することができるようになるからである。尚、発光型表示装置の色純度やコントラストを向上させる目的で、発光型表示装置と本発明の原版を用いて形成されるパターン配向膜の間にカラーフィルタを配置しても良いが、その場合は、第1パターン部および第2パターン部のパターン、すなわち、形成される第1配向領域および上記第2配向領域が形成されたパターンと、発光型表示装置に用いられるカラーフィルタにおいて画素部が形成されているパターンとを対応関係にすることが好ましい。
As the widths of the first pattern portion and the second pattern portion in this step, both widths may be the same or different.
However, in the present invention, it is preferable that the widths of the first pattern portion and the second pattern portion are the same. Normally, the right-eye pixel and the left-eye pixel portion are formed with the same width. Therefore, by setting the widths of the first pattern portion and the second pattern portion to the same width, This is because the first alignment region and the second alignment region of the alignment layer formed corresponding to the pattern portion can have the same width. As a result, in the case of manufacturing a liquid crystal display device capable of three-dimensional display by forming a pattern alignment film using the original plate of the present invention, a pattern in which the first alignment region and the second alignment region are formed, and a liquid crystal In the color filter used in the display device, it becomes easy to make the correspondence with the pattern in which the pixel portion is formed, and as a result, it is easy to use the pattern alignment film formed using the original plate of the present invention. This is because a three-dimensional liquid crystal display device can be manufactured. In addition, since the pixel portion used in the light emitting display device is also formed with the same width, the original plate of the present invention is used by setting the widths of the first alignment region and the second alignment region to the same width. When a light-emitting display device capable of three-dimensional display is manufactured using the pattern alignment film formed in this manner, the pattern in which the first alignment region and the second alignment region are formed and the light-emitting display device are used. As a result, it is easy to make a three-dimensional light emitting display device using a pattern alignment film formed by using the original plate of the present invention. Because you will be able to. For the purpose of improving the color purity and contrast of the light emitting display device, a color filter may be disposed between the light emitting display device and the pattern alignment film formed using the original plate of the present invention. The pixel portion is formed in the pattern of the first pattern portion and the second pattern portion, that is, the pattern in which the first alignment region and the second alignment region are formed, and the color filter used in the light emitting display device. It is preferable to make the corresponding pattern correspond.

上記第1パターン部および第2パターン部の具体的な幅としては、本発明の原版を用いて形成されるパターン配向膜の用途に応じて適宜決定される。例えば、3次元表示可能な液晶表示装置を製造するために使用する場合、第1パターン部および第2パターン部の幅は右目用、左目用の画素部が形成されている幅に対応するように適宜決定されることになる。このように第1パターン部および第2パターン部の幅は特に限定されるものではないが、通常、50μm〜1000μmの範囲内であることが好ましく、100μm〜600μmの範囲内であることがより好ましい。   The specific width of the first pattern portion and the second pattern portion is appropriately determined according to the use of the pattern alignment film formed using the original plate of the present invention. For example, when used for manufacturing a liquid crystal display device capable of three-dimensional display, the widths of the first pattern portion and the second pattern portion correspond to the widths in which the pixel portions for the right eye and the left eye are formed. It will be determined as appropriate. As described above, the widths of the first pattern portion and the second pattern portion are not particularly limited, but are usually preferably in the range of 50 μm to 1000 μm, and more preferably in the range of 100 μm to 600 μm. .

本発明に用いられる第1パターン部および第2パターン部の厚みは同一であっても良いが、異なることが好ましい。1パターン部および第2パターン部の形成方法として、基材の全表面に例えば研磨等の方法により微小なライン状凹凸構造を略一定方向にランダムに形成した後に、基材の表面をバイト等でパターン状に切削することで、全表面に形成された微細凹凸形状をパターン状に削り取りつつ、微細凹凸形状としてストライプ状のライン状凹凸構造を形成する方法を用いることができ、第1パターン部および第2パターン部を容易かつ精度良く形成可能なものとすることができるからである。
このような第1パターン部および第2パターン部の厚みの差としては、本発明の原版を用いて形成されたパターン配向膜を使用してパターン位相差フィルムを形成した際に、第1位相差領域および第2位相差領域を精度良く形成できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、1nm〜2000nmの範囲内であることが好ましく、なかでも、10nm〜1000nmの範囲内であることが好ましく、特に100nm〜500nmの範囲内であることが好ましい。上記厚みの差が上述の範囲内であることにより、第1位相差領域および第2位相差領域に含まれる棒状化合物を精度良く配列させることができるからである。
The thicknesses of the first pattern portion and the second pattern portion used in the present invention may be the same, but are preferably different. As a method of forming the 1st pattern portion and the 2nd pattern portion, a fine line-shaped uneven structure is randomly formed in a substantially constant direction on the entire surface of the substrate by a method such as polishing, and then the surface of the substrate is formed with a tool or the like. By cutting into a pattern, it is possible to use a method of forming a striped line-shaped uneven structure as a fine uneven shape while removing the fine uneven shape formed on the entire surface into a pattern. This is because the second pattern portion can be easily and accurately formed.
As the difference in thickness between the first pattern portion and the second pattern portion, when the pattern retardation film is formed using the pattern alignment film formed using the original plate of the present invention, the first retardation is obtained. The region and the second phase difference region are not particularly limited as long as they can be formed with high accuracy, but are preferably in the range of 1 nm to 2000 nm, for example, in particular, in the range of 10 nm to 1000 nm. It is preferable that it is in the range of 100 nm-500 nm especially. This is because the rod-shaped compounds contained in the first phase difference region and the second phase difference region can be arranged with high accuracy when the thickness difference is within the above range.

なお、上記第1パターン部および第2パターン部の厚みの差は、図8中のD1で示す距離を意味するものとする。また、図8に示すように、表面に形成された微細凹凸形状を含む厚みをいうものとする。
また、図8中の符号については、図3のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
Note that the difference in thickness between the first pattern portion and the second pattern portion means a distance indicated by D1 in FIG. Moreover, as shown in FIG. 8, it shall mean the thickness containing the fine uneven | corrugated shape formed in the surface.
Moreover, since the reference numerals in FIG. 8 indicate the same members as those in FIG. 3, description thereof is omitted here.

(2)基材
本発明に用いられる基材の形状としては、上記第1パターン部および第2パターン部を表面に備えることができるものであれば特に限定されるものではなく、板状であっても、ロール状であっても良いが、ロール状であること、すなわち、基材がロール状基材であることが好ましい。容易かつ大量にパターン配向膜を形成可能なものとすることができ、製造効率の高いものとすることができるからである。
(2) Substrate The shape of the substrate used in the present invention is not particularly limited as long as the first pattern portion and the second pattern portion can be provided on the surface. Alternatively, it may be a roll, but it is preferably a roll, that is, the substrate is a roll substrate. This is because the pattern alignment film can be formed easily and in large quantities, and the production efficiency can be increased.

ここで、ロール状としては、表面に第1パターン部および第2パターン部を精度よく形成できるものであれば特に限定されるものではないが、具体的には、ロール形状、スリーブ形状等とすることができ、なかでも、スリーブ形状であることが好ましい。
スリーブ形状であることにより、本発明の原版を用いて、パターン配向膜を製造効率高く製造することが可能となるからである。また、スリーブ形状の基材は、ロール形状のものに比べて軽量であり、取扱いが容易となるといった利点を有するからである。
ここで、ロール形状の基材としては、具体的には、軸付ロール、軸なしパイプ等を挙げることができる。ここで、軸なしパイプとは、その厚みが3000μm以上である円筒形状の基材を指すものである。
また、スリーブ形状とはシームレスの基材の帯状体を表し、上記スリーブ形状の基材は空気圧力や応力により容易に変形させることができるものであり、具体的にはその厚みが1000μm以下の円筒形状の基材を指すものである。
本発明における基材としては、ロール形状またはスリーブ形状等のロール状の場合には、継ぎ目のないシームレスであることが好ましいが、板状の基材を円筒状にした継ぎ目を有するものであっても良い。
Here, the roll shape is not particularly limited as long as the first pattern portion and the second pattern portion can be accurately formed on the surface, but specifically, a roll shape, a sleeve shape, or the like. Among them, a sleeve shape is preferable.
This is because the shape of the sleeve makes it possible to produce a pattern alignment film with high production efficiency using the original plate of the present invention. In addition, the sleeve-shaped base material is advantageous in that it is lighter than a roll-shaped base material and is easy to handle.
Here, specifically as a roll-shaped base material, a roll with a shaft, a pipe without a shaft, etc. can be mentioned. Here, the shaftless pipe refers to a cylindrical base material having a thickness of 3000 μm or more.
The sleeve shape represents a strip of a seamless base material, and the sleeve-shaped base material can be easily deformed by air pressure or stress, and specifically, a cylinder having a thickness of 1000 μm or less. It refers to a shaped substrate.
In the case of a roll shape such as a roll shape or a sleeve shape, the base material in the present invention is preferably seamless without a seam, but has a seam obtained by making a plate-like base material into a cylindrical shape. Also good.

本発明における基材を構成する材料としては、上記第1パターン部および第2パターン部を精度良く形成できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ニッケル、銅、アルミニウム、スズ、クロム、ステンレス(SUS)、鉄等の金属材料;SiO、SiO、Al、GeO、TiO、Cr、ZrO、Ta、Nb等の無機酸化物;Si、AlN等の無機窒化物;SiO等の無機酸化窒化物;SiC等の無機炭化物;DLC(ダイアモンドライクカーボン)等の無機材料、さらには、樹脂等を挙げることができ、なかでも、金属材料であることが好ましく、特に、ニッケル、クロム、銅、ステンレス(SUS)、鉄、アルミ等であることが好ましく、なかでも特に、ニッケル、銅であることが好ましい。上記材料であることにより、耐久性に優れたものとすることができるからである。また、微細凹凸形状を表面に備える第1パターン部および第2パターン部を容易に形成することができるからである。 The material constituting the substrate in the present invention is not particularly limited as long as the first pattern portion and the second pattern portion can be accurately formed. For example, nickel, copper, aluminum, tin, chromium , Stainless steel (SUS), iron and other metal materials; inorganic oxides such as SiO 2 , SiO x , Al 2 O 3 , GeO 2 , TiO 2 , Cr 2 O 3 , ZrO 3 , Ta 2 O 5 , Nb 2 O 3 Inorganic nitrides such as Si 3 N 4 and AlN; Inorganic oxynitrides such as SiO x N y ; Inorganic carbides such as SiC; Inorganic materials such as DLC (diamond-like carbon); Among these, metal materials are preferable, and nickel, chromium, copper, stainless steel (SUS), iron, aluminum, etc. are particularly preferable. In particular, nickel is preferably copper. It is because it can be made excellent in durability by being the said material. Moreover, it is because the 1st pattern part and 2nd pattern part which have fine uneven | corrugated shape on the surface can be formed easily.

2.原版
本発明の原版は、上記基材を有するものであるが、必要に応じて、その他の構成を有するものであっても良い。
具体的には、基材の第1パターン部および第2パターン部が形成される表面の反対表面上に配置され、基材を支持する支持基体等を挙げることができる。なお、このような支持基体としては、一般的な原版に用いられるものと同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
2. Original Plate The original plate of the present invention has the above-mentioned base material, but may have other configurations as necessary.
Specifically, a support substrate or the like that is disposed on the surface opposite to the surface on which the first pattern portion and the second pattern portion of the substrate are formed and supports the substrate can be exemplified. In addition, since it can be the same as that used for a general original plate as such a support base, description here is abbreviate | omitted.

本発明の原版の用途としては、3次元表示装置に用いられるパターン位相差フィルムの製造に使用されるパターン配向膜の形成用途に用いられるものであるが、なかでも本発明においては、高品質性が要求されるパターン位相差フィルム用のパターン配向膜の形成に用いられることが好ましい。   As the use of the original plate of the present invention, it is used for the formation of a pattern alignment film used for the production of a pattern retardation film used in a three-dimensional display device. Is preferably used for forming a pattern alignment film for a patterned retardation film.

B.3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法
次に、本発明の3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法について説明する。
本発明の3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法は、微細凹凸形状が一定方向に形成された第1パターン部および上記微細凹凸形状が上記第1パターン部とは異なる方向に形成された第2パターン部を表面に備える基材を有する3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法であって、基材を準備し、上記基材の全表面に微細凹凸形状を一定方向に形成する第1パターン形成工程と、上記基材の全表面に形成された微細凹凸形状をパターン状に削り取り、かつ、削り取った領域に上記第1パターン形成工程とは異なる方向に微細凹凸形状を一定方向に形成する第2パターン形成工程と、を有することを特徴とするものである。
B. Method for Producing 3D Display Pattern Orientation Layer Master Next, a method for producing the 3D display pattern orientation layer master of the present invention will be described.
In the method for producing a master for a pattern alignment layer for three-dimensional display according to the present invention, a first pattern portion in which a fine uneven shape is formed in a certain direction and the fine uneven shape is formed in a direction different from the first pattern portion. A method for producing an original plate for a three-dimensional display pattern alignment layer having a base material provided with a second pattern portion on the surface, wherein the base material is prepared, and fine irregularities are formed in a certain direction on the entire surface of the base material. The first pattern forming step and the fine uneven shape formed on the entire surface of the base material are scraped into a pattern shape, and the fine uneven shape is formed in a fixed direction in a direction different from the first pattern forming step. And a second pattern forming step to be formed.

このような本発明の3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法について図を参照して説明する。図9は、本発明の3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法の一例を示す工程図であり、図10は図9のB−B線断面図である。図9および図10に例示するように、本発明の3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法は、基材(ロール状基材)1を準備し(図9(a)および図10(a))、上記基材1の全表面を研磨することにより微細凹凸形状(略一定方向にランダムに形成された微小なライン状凹凸構造)を一定方向に形成し(図9(b)および図10(b))、次いで、先端に微細凹凸形状が形成されたダイヤモンドバイトを用いて、基材1を回転方向に平行な帯状に切削することにより、上記基材1の全表面に形成された微細凹凸形状をパターン状に削り取り、かつ、削り取った領域に全面に形成された微細凹凸形状とは異なる方向に微細凹凸形状(ストライプ状のライン状凹凸構造)を一定方向に形成し、微細凹凸形状が一定方向に形成された第1パターン部2aおよび微細凹凸形状が上記第1パターン部2aとは異なる方向に形成された第2パターン部2bを表面に備える基材1を有する原版10を形成する第2パターン形成工程(図9(c)および図10(c))と、を得るものである。   A method for producing such an original plate for a three-dimensional display pattern alignment layer according to the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 9 is a process diagram showing an example of a method for producing a three-dimensional display pattern alignment layer master according to the present invention, and FIG. 10 is a cross-sectional view taken along line BB in FIG. As illustrated in FIG. 9 and FIG. 10, the method for producing a three-dimensional display pattern alignment layer master according to the present invention prepares a substrate (roll-shaped substrate) 1 (FIG. 9A and FIG. 10 ( a)), by polishing the entire surface of the substrate 1, a fine uneven shape (a minute line-like uneven structure randomly formed in a substantially constant direction) is formed in a constant direction (FIG. 9B and FIG. 10 (b)), and then formed on the entire surface of the base material 1 by cutting the base material 1 into a strip shape parallel to the rotation direction using a diamond tool having a fine concavo-convex shape formed at the tip. A fine uneven shape is formed by cutting a fine uneven shape into a pattern, and forming a fine uneven shape (stripe-like line uneven structure) in a certain direction in a direction different from the fine uneven shape formed on the entire surface in the shaved area. Is a first pattern formed in a certain direction 2nd pattern formation process (FIG. 9 (FIG. 9) which forms the original 10 which has the base material 1 which equips the surface with the 2nd pattern part 2b in which the 2nd part 2a and the fine uneven | corrugated shape were formed in the direction different from the said 1st pattern part 2a. c) and FIG. 10 (c)).

本発明によれば、微細凹凸形状が一定方向に形成された第1パターン部および上記微細凹凸形状が上記第1パターン部とは異なる方向に形成された第2パターン部を表面に備える基材を有する3次元表示用パターン配向層用原版を容易かつ精度良く得ることができる。   According to the present invention, there is provided a substrate having on its surface a first pattern portion having a fine uneven shape formed in a certain direction and a second pattern portion having the fine uneven shape formed in a direction different from the first pattern portion. The original master for a three-dimensional display pattern alignment layer can be obtained easily and accurately.

本発明の3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法は、第1パターン形成工程および第2パターン形成工程を有するものである。
以下、本発明の3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法の各工程について詳細に説明する。
なお、本発明の製造方法により製造される原版については、上記「A.3次元表示用パターン配向層用原版」の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
The method for producing a master for a pattern alignment layer for three-dimensional display according to the present invention includes a first pattern forming step and a second pattern forming step.
Hereinafter, each process of the manufacturing method of the original for pattern orientation layers for three-dimensional displays of this invention is demonstrated in detail.
The original plate manufactured by the manufacturing method of the present invention can be the same as that described in the section “A. Three-dimensional display pattern alignment layer original plate”, and the description thereof is omitted here. To do.

1.第1パターン形成工程
本発明における第1パターン形成工程は、基材を準備し、上記基材の全表面に微細凹凸形状を一定方向に形成する工程である。
1. 1st pattern formation process The 1st pattern formation process in this invention is a process of preparing a base material and forming fine uneven | corrugated shape in a fixed direction on the whole surface of the said base material.

本工程に用いられる基材を構成する材料および形状としては、表面に微細凹凸形状を形成可能なものであれば特に限定されるものではなく、上記「A.3次元表示用パターン配向層用原版」の項に記載の内容と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
また、基材の全表面に一定方向に形成される微細凹凸形状については、配向層に転写された際に上記棒状化合物に対して所望の配向規制力を発揮することができるものであれば特に限定されるものではなく、上記「A.3次元表示用パターン配向層用原版」の項に記載の内容と同様とすることができる。
The material and shape constituting the base material used in this step are not particularly limited as long as a fine uneven shape can be formed on the surface, and the above-mentioned “A. Master plate for pattern alignment layer for three-dimensional display”. The description is omitted here because it can be the same as that described in the section.
In addition, regarding the fine uneven shape formed in a certain direction on the entire surface of the substrate, particularly if it can exhibit a desired alignment regulating force for the rod-shaped compound when transferred to the alignment layer. It is not limited, and can be the same as the content described in the section of “A. Three-dimensional display pattern alignment layer master”.

本工程において基材の全表面に微細凹凸形状を形成する方法としては、所望の微細凹凸形状を一定方向に基材の全表面に形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、微細凹凸形状として、微小なライン状凹凸構造を略一定方向にランダムに形成する場合には、上記基材の表面をラビング処理等の研磨する方法を挙げることができる。
また、微細凹凸形状として、ストライプ状のライン状凹凸形状を形成する場合には、先端に微細凹凸形状を有するダイヤモンドバイト等のバイト等で切削する方法を挙げることができる。
本工程においては、なかでも、研磨する方法であることが好ましい。基材の全表面への微細凹凸形状の形成を容易かつ短時間で行うことができるからである。また、微細凹凸形状の形成方向を自由度高く設定することができるからである。
In this step, the method for forming the fine uneven shape on the entire surface of the substrate is not particularly limited as long as it can form a desired fine uneven shape on the entire surface of the substrate in a certain direction. In the case of forming a fine line-shaped uneven structure as a fine uneven shape at random in a substantially constant direction, a method of polishing the surface of the substrate such as a rubbing treatment can be exemplified.
Moreover, when forming a striped line-like uneven shape as the fine uneven shape, a method of cutting with a cutting tool such as a diamond cutting tool having a fine uneven shape at the tip can be cited.
In this step, the polishing method is particularly preferable. This is because the formation of fine irregularities on the entire surface of the substrate can be carried out easily and in a short time. Moreover, it is because the formation direction of the fine uneven shape can be set with a high degree of freedom.

本工程における研磨方法としては、微小なライン状凹凸構造を略一定方向にランダムに形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、ラビング処理等に用いられる一般的な研磨方法を用いることができるが、例えば、砥石研磨法、ペーパー研磨法、テープ研磨法、サンドブラスト法、ショットブラスト法、グリットブラスト法、ガラスビーズブラスト法等のブラスト法、ナイロン、ポリプロピレン、塩化ビニル樹脂などの合成繊維からなる合成樹脂毛、不織布、動物毛、スチールワイヤ等のブラシ材を用いるブラシグレイニング法、金属ワイヤーで引っかくワイヤーグレイニング法、研磨剤を含有するスラリー液を供給しながらブラシ研磨する方法(ブラシグレイニング法)、ボールグレイン法、液体ホーニング法等のバフ研磨法、ショットピーニング法等を挙げることができる。本工程においては、なかでもテープ研磨法、ペーパー研磨法であることが好ましい。微小なライン状凹凸の方向を制御しやすいからである。   The polishing method in this step is not particularly limited as long as it is a method capable of randomly forming a minute line-like uneven structure in a substantially constant direction, and a general polishing method used for rubbing treatment or the like can be used. Can be made of, for example, grinding stone, paper polishing, tape polishing, sand blasting, shot blasting, grit blasting, blasting such as glass bead blasting, synthetic fibers such as nylon, polypropylene, vinyl chloride resin, etc. Brush graining method using brush material such as synthetic resin hair, non-woven fabric, animal hair, steel wire, wire graining method by scratching with metal wire, brush polishing method while supplying slurry liquid containing abrasive (brush graining Method), ball grain method, buffing method such as liquid honing method, Yottopiningu method, or the like can be mentioned. In this step, the tape polishing method and the paper polishing method are particularly preferable. This is because the direction of minute line-shaped irregularities can be easily controlled.

本工程において、微細凹凸形状が形成される方向としては、所望の微細凹凸形状を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、基材がロール状基材である場合には、なかでも、回転方向に対して平行な方向以外の方向であることが好ましく、なかでも、回転方向に対して90°または45°の方向であることが好ましい。形成方向が回転方向に対して平行な方向以外の方向であることにより、上記第2パターン形成工程で行う本工程により形成された微細凹凸形状を削り取る方向および微細凹凸形状の形成方向をロールの回転方向とすることが可能となり、上記第2パターン形成工程を容易なものとすることができるからである。また、本工程と第2パターン形成工程とで形成される微細凹凸形状の形成方向を異なる方向とすることが容易だからである。さらに、回転方向に対して45°または90°の方向であることにより、本工程と第2パターン形成工程とで形成される微細凹凸形状の形成方向を90°または45°とすることが容易となるからである。   In this step, the direction in which the fine concavo-convex shape is formed is not particularly limited as long as a desired fine concavo-convex shape can be formed. However, a direction other than a direction parallel to the rotation direction is preferable, and in particular, a direction of 90 ° or 45 ° with respect to the rotation direction is preferable. When the forming direction is a direction other than the direction parallel to the rotation direction, the direction of scraping the fine uneven shape formed in this step performed in the second pattern forming step and the forming direction of the fine uneven shape are rotated by the roll. This is because the second pattern forming step can be facilitated. Moreover, it is because it is easy to make the formation direction of the fine uneven | corrugated shape formed at this process and a 2nd pattern formation process into a different direction. Furthermore, the direction of 45 ° or 90 ° with respect to the rotation direction makes it easy to set the direction of forming the fine unevenness formed in this step and the second pattern forming step to 90 ° or 45 °. Because it becomes.

なお、本工程において基材の全表面とは、基材の表面のうち、少なくとも上記第1パターン部が形成される表面を含むものであれば特に限定されるものではないが、第1パターン部および第2パターン部が形成される表面を含むものであることが好ましい。微細凹凸形状の形成が容易だからである。   In this step, the total surface of the substrate is not particularly limited as long as it includes at least the surface on which the first pattern portion is formed, among the surfaces of the substrate, but the first pattern portion It is preferable that the surface includes the surface on which the second pattern portion is formed. This is because it is easy to form fine irregularities.

2.第2パターン形成工程
本発明における第2パターン形成工程は、上記基材の全表面に形成された微細凹凸形状をパターン状に削り取り、かつ、削り取った領域に上記第1パターン形成工程とは異なる方向に微細凹凸形状を一定方向に形成する工程である。
2. Second pattern forming step In the second pattern forming step of the present invention, the fine uneven shape formed on the entire surface of the substrate is scraped into a pattern, and the scraped area is different from the first pattern forming step. This is a step of forming a fine uneven shape in a certain direction.

本工程において、上記基材の全表面に形成された微細凹凸形状をパターン状に削り取り、かつ、削り取った領域に上記第1パターン形成工程とは異なる方向に微細凹凸形状を一定方向に形成する方法としては、削り取られた領域に第2パターン部を、削り取られなかった領域に第1パターン部を精度良く形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、研磨する方法やバイト等で切削する方法を用いることができる。
本工程においては、なかでも、バイト等で切削する方法を用いることが好ましい。基材の全表面に形成された微細凹凸形状を容易に削り取ることができ、安定的に削り取った領域に上記第1パターン形成工程とは異なる方向に微細凹凸形状を一定方向に形成することができるからである。
In this step, the fine uneven shape formed on the entire surface of the substrate is scraped into a pattern, and the fine uneven shape is formed in a fixed direction in a direction different from the first pattern forming step in the scraped region. The method is not particularly limited as long as it is a method capable of accurately forming the second pattern portion in the shaved area and the first pattern portion in the non-shaved area, and is cut by a polishing method, a cutting tool or the like. The method can be used.
In this step, it is preferable to use a cutting method with a cutting tool. The fine uneven shape formed on the entire surface of the substrate can be easily scraped, and the fine uneven shape can be formed in a fixed direction in a direction different from the first pattern forming step in the stably scraped region. Because.

本工程における削り取る領域としては、削り取る領域を第2パターン部とし、削り取られない領域を第1パターン部とすることができるものであれば特に限定されるものではなく、上記「A.3次元表示用パターン配向層用原版」の項に記載の第1パターン部および第2パターン部が形成されるパターンと同様とすることができる。   The area to be scraped in this step is not particularly limited as long as the area to be scraped can be the second pattern portion and the area not to be scraped can be the first pattern portion. It can be the same as the pattern in which the first pattern portion and the second pattern portion described in the section “Pattern for pattern alignment layer” are formed.

本工程により削り取られる基材の深さとしては、上記第1パターン形成工程で形成された微細凹凸形状を全て削り取ることができるものであれば特に限定されるものではなく、上記「A.3次元表示用パターン配向層用原版」の「1.基材」の項に記載の第1パターン部および第2パターン部の厚みの差と同様とすることができる。   The depth of the base material scraped off in this step is not particularly limited as long as it can scrape off all the fine irregularities formed in the first pattern forming step. This can be the same as the difference in thickness between the first pattern portion and the second pattern portion described in the section “1. Substrate” of “Display pattern alignment layer master”.

本工程において、削り取られた領域に形成される微細凹凸形状の形成方向としては、上記第1パターン形成工程により形成された微細凹凸形状の形成方向と異なるものであれば特に限定されるものではなく、本工程および第1パターン形成工程で形成される微細凹凸形状の形成方向が、上記「A.3次元表示用パターン配向層用原版」の「1.基材」の項に記載の第1パターン部および第2パターン部の微細凹凸形状の形成方向と同様の関係となるものとすることができる。
本工程においては、なかでも、上記基材がロール基材である場合には、ロールの回転方向であることが好ましい。ロールの回転方向であることにより、例えば、バイト等により切削する方法により微細凹凸形状を形成する場合であっても、容易に形成することができるからである。
In this step, the formation direction of the fine unevenness formed in the scraped region is not particularly limited as long as it is different from the formation direction of the fine unevenness formed in the first pattern forming step. The first pattern described in the section “1. Substrate” of “A. Three-dimensional display pattern alignment layer master” is formed in the direction of forming the fine unevenness formed in this step and the first pattern forming step. It is possible to have the same relationship as the formation direction of the fine concavo-convex shape of the portion and the second pattern portion.
Especially in this process, when the said base material is a roll base material, it is preferable that it is the rotation direction of a roll. This is because, by being in the rotating direction of the roll, for example, even when a fine uneven shape is formed by a method of cutting with a cutting tool or the like, it can be easily formed.

3.3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法
本発明の原版の製造方法は、第1パターン形成工程および第2パターン形成工程を有するものであるが、必要に応じてその他の工程を有するものであっても良い。
このようなその他の工程としては、例えば、上記第1パターン形成工程および第2パターン形成工程後に基材の研磨カス等を除去する除去工程等を挙げることができる。なお、除去方法としては、例えば、吸引する方法や、溶剤等を用いて除去する方法等を挙げることができる。
3. Method for Producing Three-Dimensional Display Pattern Orientation Layer Master The method for producing a master of the present invention includes a first pattern formation step and a second pattern formation step, and other steps as necessary. It may be a thing.
Examples of such other steps include a removal step of removing the polishing residue and the like of the base material after the first pattern formation step and the second pattern formation step. Examples of the removal method include a suction method, a removal method using a solvent, and the like.

C.3次元表示用パターン配向膜の製造方法
次に、本発明の3次元表示用パターン配向膜の製造方法について説明する。
本発明の3次元表示用パターン配向膜の製造方法は、上述の3次元表示用パターン配向層用原版と、配向層形成用樹脂組成物からなる配向層形成用層と、を接触させた後、加圧し、上記配向層形成用層に上記3次元表示用パターン配向層用原版表面の形状を賦型する賦型工程と、上記賦型工程後に、上記配向層形成用層を硬化させる硬化工程および上記配向層形成用層を上記3次元表示用パターン配向層用原版から剥離する剥離工程と、を有することを特徴とするものである。
C. Method for Producing 3D Display Pattern Orientation Film Next, a method for producing a 3D display pattern orientation film of the present invention will be described.
The method for producing a three-dimensional display pattern alignment film according to the present invention comprises contacting the above-described three-dimensional display pattern alignment layer master with an alignment layer forming layer made of an alignment layer forming resin composition. A molding step of applying pressure to mold the shape of the surface of the original pattern alignment layer for three-dimensional display on the alignment layer forming layer, a curing step of curing the alignment layer forming layer after the molding step, and And a peeling step of peeling the alignment layer forming layer from the three-dimensional display pattern alignment layer master.

このような本発明の3次元表示用パターン配向膜の製造方法について図を参照しながら説明する。図11は、本発明の3次元表示用パターン配向膜の製造方法の一例を示す工程図である。まず、図11に例示するように、透明フィルム基材11上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工することにより、上記配向層形成用層を形成し(図11(a))、上記配向層形成用層12´を、第1パターン部2aおよび第2パターン部2bを表面に備えるロール基材1を有するロール版(原版)10上に配置することにより接触させた後、加圧ロールにて加圧することにより(図11(b))、上記配向層形成用層12´に、上記原版(ロール版)10の第1パターン部2aおよび第2パターン部2bの形状を賦型し、上記第1パターン部2aおよび第2パターン部2bに対応した表面形状の第1配向領域および第2配向領域(12aおよび12b)を形成し、その後、配向層形成用層12´に対してロール版10上に接触させた状態で紫外線を照射し(図11(c))、配向層形成用層12´を硬化させ、上記配向層形成用層12´を上記ロール版10から剥離することにより、透明フィルム基材11および上記透明フィルム基材11上に形成された配向層12を有するパターン配向膜20を得るものである(図11(d))。
なお、この例においては、図11(a)〜(b)が賦型工程であり、図11(c)が硬化工程であり、図11(d)が剥離工程である。
A method for producing such a three-dimensional display pattern alignment film of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 11 is a process diagram showing an example of a method for producing a pattern alignment film for three-dimensional display according to the present invention. First, as illustrated in FIG. 11, the alignment layer forming layer is formed by applying the alignment layer forming resin composition on the transparent film substrate 11 (FIG. 11A), After the alignment layer forming layer 12 'is placed on the roll plate (original plate) 10 having the roll base 1 having the first pattern portion 2a and the second pattern portion 2b on the surface, the pressure roll (FIG. 11B), the shapes of the first pattern portion 2a and the second pattern portion 2b of the original plate (roll plate) 10 are formed on the alignment layer forming layer 12 ′. A first alignment region and a second alignment region (12a and 12b) having surface shapes corresponding to the first pattern portion 2a and the second pattern portion 2b are formed, and then a roll plate is formed on the alignment layer forming layer 12 ′. Irradiate ultraviolet rays in contact with 10 (FIG. 11 (c)), the alignment layer forming layer 12 'is cured, and the alignment layer forming layer 12' is peeled off from the roll plate 10, whereby the transparent film substrate 11 and the transparent film substrate 11 are separated. A pattern alignment film 20 having the alignment layer 12 formed thereon is obtained (FIG. 11D).
In this example, FIGS. 11A to 11B are shaping processes, FIG. 11C is a curing process, and FIG. 11D is a peeling process.

本発明によれば、上記原版を用いることにより、パターン位相差フィルムを形成することが可能なパターン配向膜を容易かつ大量に作製することができる。   According to the present invention, by using the above original plate, a pattern alignment film capable of forming a pattern retardation film can be produced easily and in large quantities.

本発明のパターン配向膜の製造方法は、少なくとも、賦型工程、硬化工程および剥離工程を含むものである。
以下、本発明のパターン配向膜の製造方法に含まれる各工程について詳細に説明する。
The manufacturing method of the pattern alignment film of this invention includes a shaping | molding process, a hardening process, and a peeling process at least.
Hereafter, each process included in the manufacturing method of the pattern orientation film of this invention is demonstrated in detail.

1.賦型工程
本発明の製造方法における賦型工程は、上記原版と、配向層形成用樹脂組成物からなる配向層形成用層と、を接触させた後、加圧し、上記配向層形成用層に上記原版表面の形状を賦型する工程である。
なお、上記原版については、上記「A.3次元表示用パターン配向層用原版」の項に記載の内容と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
1. Molding step The molding step in the production method of the present invention is the step of bringing the original plate and the alignment layer forming layer comprising the alignment layer forming resin composition into contact with each other, and then applying pressure to the alignment layer forming layer. This is a step of shaping the shape of the original plate surface.
The original plate can be the same as that described in the section “A. Three-dimensional display pattern alignment layer original plate”, and the description is omitted here.

(1)配向層形成用層
本工程に用いられる配向層形成用層は、配向層形成用樹脂組成物からなるものである。
(1) Orientation layer formation layer The orientation layer formation layer used for this process consists of a resin composition for orientation layer formation.

本工程に用いられる配向層形成用樹脂組成物としては、上記原版上に接触させた後、加圧することにより原版の表面形状を賦型できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、電離放射線硬化性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物、電子線硬化性樹脂組成物、熱可塑性樹脂組成物等を挙げることができる。
本工程においてはこれらの何れの構成材料であっても好適に用いることができるが、なかでも電離放射線硬化性樹脂組成物が用いられることが好ましい。電離放射線硬化性樹脂組成物が用いられることにより、生産性の高いものにできるからである。なお、配向層形成用樹脂組成物として、電離放射線硬化性樹脂組成物が用いられた場合、本発明により形成される配向層は硬化された電離放射線硬化性樹脂組成物からなることになる。
The resin composition for forming an alignment layer used in this step is not particularly limited as long as the surface shape of the original plate can be shaped by applying pressure after contacting the original plate. Examples include ionizing radiation curable resin compositions, thermosetting resin compositions, electron beam curable resin compositions, and thermoplastic resin compositions.
Any of these constituent materials can be suitably used in this step, but among these, an ionizing radiation curable resin composition is preferably used. This is because by using the ionizing radiation curable resin composition, a product with high productivity can be obtained. When an ionizing radiation curable resin composition is used as the alignment layer forming resin composition, the alignment layer formed according to the present invention is composed of a cured ionizing radiation curable resin composition.

本発明に用いられる電離放射線硬化性樹脂組成物の具体例としては、ウレタンアクリレート,エポキシアクリレート,ポリエステルアクリレート,ポリエーテルアクリレート,メラミンアクリレート等のアクリロイル基をもつ重合性オリゴマー,モノマーと、アクリル酸,アクリルアミド,アクリロニトリル,スチレン等重合性ビニル基をもつ重合性オリゴマー,モノマー等の単体あるいは配合したものに、必要に応じて増感剤等の添加剤を加えたものに光重合開始剤を加えたもの等を挙げることができる。また、必要に応じて溶媒を含むものであっても良い。   Specific examples of the ionizing radiation curable resin composition used in the present invention include polymerizable oligomers and monomers having an acryloyl group such as urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, and melamine acrylate, and acrylic acid and acrylamide. , Acrylonitrile, Styrene, Polymerizable oligomers with polymerizable vinyl groups, Monomers, etc., or those with additives such as sensitizers added to them, if necessary, Photopolymerization initiators, etc. Can be mentioned. Moreover, you may contain a solvent as needed.

このような溶媒としては、上記モノマー等を均一に溶解または分散できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、本工程に用いられる溶媒は、1種類でもよく、2種類以上の溶媒の混合溶媒でもよい。   Such a solvent is not particularly limited as long as it can uniformly dissolve or disperse the monomer and the like. Examples thereof include hydrocarbon solvents such as benzene and hexane, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. Ketone solvents, ether solvents such as tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane, alkyl halide solvents such as chloroform and dichloromethane, ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, Examples include amide solvents such as N, N-dimethylformamide, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide, anone solvents such as cyclohexane, and alcohol solvents such as methanol, ethanol, and propanol. That is, the present invention is not limited to these. Further, the solvent used in this step may be one kind or a mixed solvent of two or more kinds of solvents.

また、熱硬化性樹脂組成物および熱可塑性樹脂組成物としては、アクリル樹脂、フッ素系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シクロオレフィン樹脂、シクロオレフィンコポリマー樹脂等を含むものを用いることができる。   Moreover, as a thermosetting resin composition and a thermoplastic resin composition, what contains an acrylic resin, a fluorine resin, a polyester resin, a polycarbonate resin, a cycloolefin resin, a cycloolefin copolymer resin etc. can be used.

また、本工程に用いられる配向層形成用樹脂組成物は、必要に応じて、酸素に対する変化を抑制するための酸化防止剤、光に対する変化を抑制するための光安定化剤、紫外性を吸収する紫外線吸収剤、粘度を調整するための粘度調節剤、屈折率を調整するための屈折率調整剤、賦型性を向上させるためのフッ素系またはシリコン系潤滑剤等を含むものであっても良い。   In addition, the alignment layer forming resin composition used in this step absorbs, as necessary, an antioxidant for suppressing changes to oxygen, a light stabilizer for suppressing changes to light, and ultraviolet light. Even if it contains an ultraviolet absorber, a viscosity modifier for adjusting the viscosity, a refractive index modifier for adjusting the refractive index, a fluorine-based or silicon-based lubricant for improving moldability, etc. good.

本工程に用いられる配向層形成用樹脂組成物の粘度としては、上記原版表面の形状を配向層形成用層に加圧により賦型することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、25℃において、5mPa・s〜200000mPa・sの範囲内であることが好ましく、なかでも、10mPa・s〜100000mPa・sの範囲内であること好ましく、特に、30mPa・s〜3000mPa・sの範囲内であることがさらに好ましい。
また、溶融型の樹脂の場合には、例えば、190℃におけるメルトフローインデックス(MFI)が、0.1g/10min以上であることが好ましく、なかでも1.0g/10min以上であることが好ましく、特に5.0g/10min以上であることが好ましい。上記粘度が上述の範囲内であることにより賦型性に優れたものとすることができるからである。
The viscosity of the alignment layer forming resin composition used in this step is not particularly limited as long as the shape of the original plate surface can be molded into the alignment layer forming layer by pressing. For example, at 25 ° C., it is preferably within a range of 5 mPa · s to 200000 mPa · s, more preferably within a range of 10 mPa · s to 100000 mPa · s, particularly 30 mPa · s to 3000 mPa · s. More preferably, it is in the range.
In the case of a melt-type resin, for example, the melt flow index (MFI) at 190 ° C. is preferably 0.1 g / 10 min or more, more preferably 1.0 g / 10 min or more, In particular, it is preferably 5.0 g / 10 min or more. This is because when the viscosity is within the above range, the moldability can be improved.

本工程に用いられる配向層形成用層の厚みとしては、上記原版の表面形状を精度よく賦型できるものであれば特に限定されるものではなく、配向層とした際の厚みが一般的な位相差フィルムの配向層と同程度となるものとすることができる。具体的には、0.5μm〜20μmの範囲内とすることができる。   The thickness of the alignment layer forming layer used in this step is not particularly limited as long as the surface shape of the original plate can be accurately shaped. It can be the same as the orientation layer of the phase difference film. Specifically, it can be in the range of 0.5 μm to 20 μm.

(2)賦型工程
本工程は、上記原版上に、配向層形成用樹脂組成物からなる配向層形成用層を接触させた後、加圧し、上記配向層形成用層に上記原版表面の形状を賦型する工程である。
(2) Molding step In this step, the alignment layer forming layer made of the alignment layer forming resin composition is brought into contact with the original plate and then pressed, and the shape of the surface of the original plate is applied to the alignment layer forming layer. Is a process of shaping.

本工程において加圧した際に付与される圧力としては、配向層形成用層に上記原版の表面形状を安定的に賦型できるものであれば特に限定されるものではなく、本工程に用いられる配向層形成用樹脂組成物の粘度等に応じて適宜選択されるものであり、上記配向層形成用樹脂組成物および上記原版を用いて、上記原版の形状を上記配向層形成用層にどの程度賦型することができるか、圧力を調整しながら繰り返し実験を行うことにより見出されるものである。例えば、上述した粘度を有する上記配向層形成用樹脂組成物を用いた場合、上記圧力は、10MPa/cm〜2000MPa/cmの範囲内であることが好ましく、なかでも100MPa/cm〜1000MPa/cmの範囲内であることが好ましく、特に、150MPa/cm〜500MPa/cmの範囲内であることが好ましい。上記圧力が低すぎると、上記配向層形成用層が上記原版にあまり入り込まず、上記微細凹凸形状における凸構造の高さが十分ではないものとなるおそれがあるからであり、上記圧力が高すぎると、上記配向層形成用層が上記原版に入り込み過ぎて、原版から抜けなくなるおそれがあるからである。   The pressure applied at the time of pressurization in this step is not particularly limited as long as it can stably shape the surface shape of the original plate on the alignment layer forming layer, and is used in this step. The orientation layer forming resin composition is appropriately selected according to the viscosity and the like, and using the orientation layer forming resin composition and the original plate, the extent of the shape of the original plate to the orientation layer forming layer is determined. It can be shaped or found by repeating experiments while adjusting the pressure. For example, when the alignment layer-forming resin composition having the above-described viscosity is used, the pressure is preferably in the range of 10 MPa / cm to 2000 MPa / cm, and more preferably 100 MPa / cm to 1000 MPa / cm. It is preferably within the range, and particularly preferably within the range of 150 MPa / cm to 500 MPa / cm. If the pressure is too low, the alignment layer forming layer does not enter the original plate so much that the height of the convex structure in the fine concavo-convex shape may be insufficient, and the pressure is too high. This is because the alignment layer forming layer may enter the original plate too much and not come out of the original plate.

本工程において、上記圧力を加圧する方法としては、配向層形成用層に上記原版の表面形状を安定的に賦型できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ベルトプレス方式、ロールタッチ方式等を用いる方法を挙げることができる。
以下、これらの方式を用いて配向層形成用層に上記圧力を負荷する方法を図を用いて説明する。
In this step, the method for pressurizing the pressure is not particularly limited as long as the surface shape of the original plate can be stably formed on the alignment layer forming layer. For example, a belt press method, a roll A method using a touch method or the like can be given.
Hereinafter, a method of applying the pressure to the alignment layer forming layer using these methods will be described with reference to the drawings.

図12は、本発明における加圧方法を説明する説明図である。図12は、ロールタッチ方式により加圧する方法を例示するものであり、透明フィルム基材11を巻き出す巻き出し機51aと、配向層形成用樹脂組成物を吐出し配向層形成用層12´を形成する配向層形成用ダイ53と、紫外線を配向層形成用層12´に対して照射する紫外線照射装置55と、剥離ロールにて原版(この例においてはロール板)10から配向層形成用層を剥離する剥離ロール52と、パターン配向膜20を巻き取る巻き取り機51bと、を有し、さらに、配向層形成用層12´をロール版に加圧するゴム等の弾性を有する加圧ロール50を有するパターン配向膜製造装置を用いて加圧する方法を例示するものである。ロールタッチ方式においては、ゴム等の弾性を有する加圧ロールを用いることにより、加圧ロールが変形するため、ロール版と配向層形成用層との接触時間を長くすることができるため、配向層形成用層に所望の微細凹凸形状を安定的に賦型することが可能となる。
また、図13は、本発明における加圧方法を説明する説明図である。図13は、ベルトプレス方式により加圧する方法を例示するものであり、原版(この例においてはロール板)10に直接、配向層形成用樹脂組成物を吐出する配向層形成用ダイ53と、加圧ベルト56とを有するパターン配向膜製造装置を用いて加圧する方法を例示するものである。ベルトプレス方式においては、原版としてロール版を用いた場合、ロール版と加圧ベルトとを対峙させることによって、配向層形成用層に圧力を負荷することができる。ベルトプレス方式はロール版と配向層形成用層との接触時間を長くすることができるため、配向層形成用層に所望の微細凹凸形状を安定的に賦型することが可能となる。
なお、図13において説明していない符号については、図12と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
FIG. 12 is an explanatory view for explaining a pressurizing method according to the present invention. FIG. 12 exemplifies a method of pressurizing by a roll touch method. The unwinding machine 51a for unwinding the transparent film substrate 11 and the alignment layer forming layer 12 ′ are discharged by discharging the alignment layer forming resin composition. The alignment layer forming die 53 to be formed, the ultraviolet irradiation device 55 for irradiating the alignment layer forming layer 12 ′ with ultraviolet rays, and the alignment layer forming layer from the original plate (roll plate in this example) 10 with a peeling roll. A pressure roll 50 having elasticity such as rubber that presses the alignment layer forming layer 12 'against the roll plate. The method of pressurizing using the pattern orientation film manufacturing apparatus which has this is illustrated. In the roll touch method, since the pressure roll is deformed by using a pressure roll having elasticity such as rubber, the contact time between the roll plate and the alignment layer forming layer can be extended. It is possible to stably mold a desired fine uneven shape on the forming layer.
Moreover, FIG. 13 is explanatory drawing explaining the pressurization method in this invention. FIG. 13 exemplifies a method of applying pressure by a belt press method. An alignment layer forming die 53 for discharging the alignment layer forming resin composition directly onto the original plate (roll plate in this example) 10, The method of pressurizing using the pattern alignment film manufacturing apparatus which has the pressure belt 56 is illustrated. In the belt press method, when a roll plate is used as an original plate, a pressure can be applied to the alignment layer forming layer by confronting the roll plate and the pressure belt. Since the belt press method can lengthen the contact time between the roll plate and the alignment layer forming layer, it is possible to stably mold a desired fine uneven shape on the alignment layer forming layer.
Note that reference numerals not described in FIG. 13 can be the same as those in FIG. 12, and thus description thereof is omitted here.

本工程における賦型方法としては、上記配向層形成用層に上記原版の表面形状を精度よく賦型できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、上記原版を配向層形成用層に押し当てる方法を挙げることができるが、なかでも上記パターン配向層用原版上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層を形成する充填処理と、上記配向層形成用層上に透明フィルム基材を配置する配置処理と、を行った後に、加圧する方法(第1実施態様)、透明フィルム基材上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層を形成する配向層形成用層形成処理と、上記配向層形成用層を、上記パターン配向層用原版上に接触させる接触処理と、を行った後に加圧する方法(第2実施態様)、上記パターン配向層用原版上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層を形成する充填処理、を行った後に、加圧する方法(第3実施態様)、であることが好ましい。第1配向領域および第2配向領域を安定的に形成することができるからである。
以下、このような賦型方法について説明する。
The forming method in this step is not particularly limited as long as the surface shape of the original plate can be accurately formed on the alignment layer forming layer. For example, the original plate is used as the alignment layer forming layer. The method of pressing can be mentioned, and among them, the above-mentioned alignment layer-forming resin composition is applied on the above-mentioned pattern alignment layer master, and the alignment layer-forming layer is formed by a filling treatment and the above-mentioned alignment layer formation A method of applying pressure after performing a disposition treatment of disposing a transparent film substrate on the protective layer (first embodiment), applying the alignment layer-forming resin composition on the transparent film substrate, and A method of applying pressure after performing an alignment layer forming layer forming process for forming an alignment layer forming layer and a contact process for bringing the alignment layer forming layer into contact with the pattern alignment layer master (second embodiment) Aspect), the original plate for pattern alignment layer In coating the above alignment layer-forming resin composition, filling process for forming the alignment layer forming layer, after the process of pressurizing (Third embodiment) is preferably. This is because the first alignment region and the second alignment region can be formed stably.
Hereinafter, such a molding method will be described.

(a)第1実施態様
本態様の賦型方法は、上記原版上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層を形成する充填処理と、上記配向層形成用層上に透明フィルム基材を配置する配置処理と、を行った後に、加圧する方法である。このような賦型方法を用いて賦型することにより、透明フィルム基材上に、配向層が積層されたパターン配向膜を容易に形成することができる。
(A) 1st embodiment The shaping method of this aspect is the filling process which coats the said resin composition for orientation layer formation on the said original plate, and forms the said layer for orientation layer formation, and the object for said orientation layer formation And a placement process of placing a transparent film substrate on the layer, followed by pressurization. By patterning using such a molding method, a pattern alignment film in which an alignment layer is laminated can be easily formed on a transparent film substrate.

本態様に用いられる透明フィルム基材としては、樹脂材料からなり所定の透明性を有するものであれば特に限定されるものではない。中でも本発明に用いられる透明フィルム基材は、位相差性が低いものであることが好ましい。より具体的には、本発明に用いられる透明フィルム基材は、面内レターデーション値(Re値)が、0nm〜10nmの範囲内であることが好ましく、0nm〜5nmの範囲内であることがより好ましく、0nm〜3nmの範囲内であることがさらに好ましい。透明基材の面内レターデーション値が上記範囲よりも大きいと、例えば、本発明の製造方法により製造されるパターン配向膜を用いて3次元表示装置を製造した場合に、得られる3次元表示装置の表示品質が悪くなってしまう場合があるからである。   The transparent film substrate used in this embodiment is not particularly limited as long as it is made of a resin material and has a predetermined transparency. Especially, it is preferable that the transparent film base material used for this invention is a thing with low phase difference property. More specifically, the transparent film substrate used in the present invention preferably has an in-plane retardation value (Re value) in the range of 0 nm to 10 nm, and preferably in the range of 0 nm to 5 nm. More preferably, it is further in the range of 0 nm to 3 nm. When the in-plane retardation value of the transparent substrate is larger than the above range, for example, a three-dimensional display device obtained when a three-dimensional display device is manufactured using a pattern alignment film manufactured by the manufacturing method of the present invention. This is because the display quality may deteriorate.

本態様に用いられる透明フィルム基材は、可視光領域における透過率が80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。ここで、透明フィルム基材の透過率は、JIS K7361−1(プラスチックー透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。   The transparent film substrate used in this embodiment preferably has a transmittance in the visible light region of 80% or more, and more preferably 90% or more. Here, the transmittance | permeability of a transparent film base material can be measured by JISK7361-1 (the test method of the total light transmittance of a plastic transparent material).

また、本態様に用いられる透明フィルム基材としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、(メタ)アクロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂からなるものを挙げることができるが、透明フィルム基材の面内レターデーションをゼロに近付けやすいことからアセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。   Examples of the transparent film substrate used in this embodiment include acetyl cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, olefin resins such as polyethylene and polymethylpentene, and acrylic resins. Resin, polyurethane resin, polyethersulfone, polycarbonate, polysulfone, polyether, polyetherketone, (meth) acrylonitrile, cycloolefin polymer, cycloolefin copolymer, etc. Since the in-plane retardation of the film substrate is likely to approach zero, resins such as acetyl cellulose resins, cycloolefin polymers, cycloolefin copolymers, and acrylic resins are preferred.

透明フィルム基材の厚みについては、本発明の製造方法により製造されるパターン配向膜の用途および透明フィルム基材を構成する材料等に応じて適宜決定することができるものであり、特に限定されるものではないが、通常は、20μm〜188μmの範囲内であることが好ましく、30μm〜90μmの範囲内であることがより好ましい。   About the thickness of a transparent film base material, it can determine suitably according to the use of the pattern orientation film manufactured with the manufacturing method of this invention, the material which comprises a transparent film base material, etc., It is limited especially Usually, it is preferably in the range of 20 μm to 188 μm, and more preferably in the range of 30 μm to 90 μm.

なお、上記配向層が紫外性硬化性樹脂からなる場合は、透明フィルム基材と紫外線硬化性樹脂との接着性を向上させるためのプライマ層を透明フィルム基材上に形成してもよい。このプライマ層は、透明フィルム基材および紫外線硬化性樹脂との双方に接着性を有し、可視光学的に透明であり、紫外線を通過させるものであればよく、例えば、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体系,ウレタン系のものを使用することができる。   In addition, when the said orientation layer consists of ultraviolet curable resin, you may form the primer layer for improving the adhesiveness of a transparent film base material and ultraviolet curable resin on a transparent film base material. This primer layer may be any layer that has adhesiveness to both the transparent film substrate and the ultraviolet curable resin, is visible optically transparent, and allows ultraviolet light to pass through. Polymer type and urethane type can be used.

本態様における透明フィルム基材としては、上記配向層が形成される面とは反対の面上に、図14に例示するようにアンチグレア層または反射防止層15等を有するものであっても良い。表示装置を製造した際に、表示品質の良い表示装置を得ることができるパターン位相差フィルムを形成可能となるからである。   As a transparent film base material in this aspect, you may have an anti-glare layer or the antireflection layer 15 etc. on the surface opposite to the surface in which the said orientation layer is formed so that it may illustrate in FIG. This is because, when a display device is manufactured, a pattern retardation film capable of obtaining a display device with good display quality can be formed.

本態様においては、このような反射防止層が形成されていることにより、本発明の製造方法により製造されるパターン配向膜を用いて液晶表示装置を製造した際に、表示品質の良い液晶表示装置を得ることができるという利点がある。なお、上記反射防止層、およびアンチグレア層は一方のみが用いられてもよく、または両方が用いられてもよい。   In this aspect, since such an antireflection layer is formed, when a liquid crystal display device is manufactured using the pattern alignment film manufactured by the manufacturing method of the present invention, a liquid crystal display device having a good display quality. There is an advantage that can be obtained. Note that only one or both of the antireflection layer and the antiglare layer may be used.

上記アンチグレア層は、太陽や蛍光灯などからの外光が、表示装置の表示画面に入射して反射することから生じる画面の映り込みを低減させる機能を有する層である。一方、上記反射防止層は、表面の正反射率を抑えることで画像のコントラストがよくなり、その結果、画像の視認性を向上させる機能を有するものである。本態様に用いられるアンチグレア層、反射防止層としては、所望のアンチグレア機能、または反射防止機能を有するものであれば特に限定されるものではなく、表示画質向上を目的として表示装置に用いられるものとして一般的に公知のものを用いることができる。上記アンチグレア層としては、例えば、微粒子を分散させた樹脂層を挙げることができ、上記反射防止層としては、例えば、屈折率の異なる複数の層が積層された構成を有するものを挙げることができる。尚、アンチグレア層の最表面に反射防止層を設ければ、明室における画像の視認性を更に向上させることができる。   The antiglare layer is a layer having a function of reducing screen reflection caused by external light from the sun, a fluorescent lamp, or the like entering and reflecting on the display screen of the display device. On the other hand, the antireflection layer improves the image contrast by suppressing the regular reflectance of the surface, and as a result, has a function of improving the visibility of the image. The antiglare layer and antireflection layer used in this embodiment are not particularly limited as long as they have a desired antiglare function or antireflection function, and are used for display devices for the purpose of improving display image quality. Generally known ones can be used. Examples of the antiglare layer include a resin layer in which fine particles are dispersed, and examples of the antireflection layer include a layer having a configuration in which a plurality of layers having different refractive indexes are stacked. . If an antireflection layer is provided on the outermost surface of the antiglare layer, the visibility of the image in the bright room can be further improved.

本態様における充填処理で行われる上記原版上への配向層形成用樹脂組成物の塗工方法としては、均一の厚みの配向層形成用層を形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、ロールコート法、Tダイコート法、キャストコート法、ブレードコート法、バーコート法、ワイヤーバーコート法、公知の方法を用いることができる。
本態様においては、なかでも、配向層形成用樹脂組成物への溶媒の添加が不要な方法であることが好ましく、特に、溶融押し出し法、ノンソルコーティング法を好ましく用いることができる。乾燥処理等を不要とすることができ、工程通過性に優れたものとすることができるからである。
ここで、溶融押し出し法としては、例えば、上記配向層形成用樹脂組成物をガラス転移温度以上熱分解温度以下の温度範囲内で熱溶融させた状態で準備し、Tダイを用いて押し出す方法等が挙げられる。
また、充填処理後、適宜乾燥処理や熱またはUVやEBによるハーフキュア処理を入れることができる。
The method for coating the alignment layer forming resin composition on the original plate performed in the filling process in this embodiment is not particularly limited as long as it can form an alignment layer forming layer having a uniform thickness. For example, a roll coating method, a T-die coating method, a cast coating method, a blade coating method, a bar coating method, a wire bar coating method, or a known method can be used.
In this embodiment, among them, a method that does not require the addition of a solvent to the alignment layer forming resin composition is preferable, and in particular, a melt extrusion method and a non-sol coating method can be preferably used. It is because a drying process etc. can be made unnecessary and it can be excellent in process passage property.
Here, as the melt extrusion method, for example, a method in which the alignment layer forming resin composition is thermally melted in a temperature range of not less than the glass transition temperature and not more than the thermal decomposition temperature, and extruded using a T die, etc. Is mentioned.
In addition, after the filling process, a drying process or a half-cure process using heat, UV, or EB can be appropriately performed.

本態様における配置処理で行われる上記配向層形成用層上に透明フィルム基材を配置する方法としては、上記配向層形成用層と透明フィルム基材とが十分に密着することができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、原版上の配向層形成用層上に、ロール状の透明フィルム基材を連続的に巻き出しながら配置する方法等を挙げることができる。   As a method of disposing the transparent film substrate on the alignment layer forming layer performed in the disposition treatment in this embodiment, the method can sufficiently adhere the alignment layer forming layer and the transparent film substrate. The method is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a roll-shaped transparent film substrate is continuously unwound on the alignment layer forming layer on the original plate.

(b)第2実施態様
本態様の賦型方法は、透明フィルム基材上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層を形成する配向層形成用層形成処理と、上記配向層形成用層と、上記原版とを接触させる接触処理と、を行った後に、加圧する方法である。このような賦型方法であることにより、透明フィルム基材上に配向層が積層されたパターン位相差フィルムを容易に形成することができる。
この場合、配向層形成用樹脂には配向層形成用樹脂と相溶性がある溶剤を含んでいても良い。溶剤を含有する場合、透明フィルム基材の上に配向層形成用樹脂組成物を塗工したのち、溶剤を蒸発させる乾燥処理を行うことが望ましい。また溶剤として、透明フィルム基材に浸透することで透明フィルム基材と配向層形成用層との間に溶剤浸透層を形成することができるため、透明フィルム基材と配向層との界面で発生するニジムラや密着不良を防止することが可能となる。
(B) 2nd embodiment The shaping method of this aspect is the layer formation process for alignment layer formation which coats the said resin composition for alignment layer formation on a transparent film base material, and forms the said layer for alignment layer formation. And a contact treatment in which the alignment layer forming layer and the original plate are brought into contact with each other, and then pressure is applied. By such a shaping method, a patterned retardation film in which an alignment layer is laminated on a transparent film substrate can be easily formed.
In this case, the alignment layer forming resin may contain a solvent compatible with the alignment layer forming resin. When it contains a solvent, it is desirable to apply a drying treatment for evaporating the solvent after coating the alignment layer-forming resin composition on the transparent film substrate. In addition, as a solvent, a solvent permeation layer can be formed between the transparent film substrate and the alignment layer forming layer by penetrating into the transparent film substrate, and therefore occurs at the interface between the transparent film substrate and the alignment layer. It is possible to prevent the wiggle and poor adhesion.

本態様における配向層形成用層形成処理で行われる透明フィルム基材上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工する方法としては、所望の厚みの配向層形成用層を形成できる方法であれば良く、上記「(a)第1実施態様」の項に記載の充填処理と同様とすることができる。   The method for coating the alignment layer-forming resin composition on the transparent film substrate performed in the alignment layer-forming layer forming treatment in this embodiment is a method that can form an alignment layer-forming layer having a desired thickness. What is necessary is just to be the same as the filling process as described in the above-mentioned section “(a) First embodiment”.

本態様における接触処理で行われる上記配向層形成用層を、上記原版上に接触させる方法としては、上記原版に配向層形成用層が十分に密着することができる方法であれば特に限定されるものではなく、上記「(a)第1実施態様」の項に記載の配置処理と同様とすることができる。   The method for bringing the alignment layer forming layer performed in the contact treatment in this embodiment into contact with the original plate is particularly limited as long as the alignment layer forming layer can be sufficiently adhered to the original plate. Instead, it can be the same as the placement process described in the section “(a) First Embodiment”.

(c)第3実施態様
本態様の賦型方法は、上記原版上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層を形成する充填処理、を行った後に加圧する方法である。このような賦型方法であることにより、例えば、配向層のみからなるパターン配向膜を容易に得ることができる。
本態様における充填処理で行われる、上記原版上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工する方法としては、所望の厚みの配向層形成用層を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、上記「(a)第1実施態様」の項に記載の充填処理と同様とすることができる。
(C) Third Embodiment The molding method of this aspect is a method in which the alignment layer-forming resin composition is applied on the original plate, and after the filling treatment for forming the alignment layer-forming layer, pressurization is performed. Is the method. By such a shaping method, for example, a pattern alignment film consisting only of an alignment layer can be easily obtained.
The method of coating the alignment layer forming resin composition on the original plate performed in the filling process in this embodiment is particularly limited as long as the alignment layer forming layer having a desired thickness can be formed. However, it may be the same as the filling process described in the section “(a) First embodiment”.

(4)第1配向領域および第2配向領域
本工程を行うことにより配向層形成用層に形成される第1配向領域および第2配向領域は、上記原版の表面形状が賦型されたものである。
したがって、上記配向層形成用層に形成された第1配向領域および第2配向領域は、それぞれ、原版の第1パターン部および第2パターン部に対応してパターンに形成される。また、これらの領域の形状およびサイズ、ならびに微細凹凸形状の形状および方向も、同様に、上記原版の第1パターン部および第2パターン部に対応したものとなる。
このため、原版として第1パターン部および第2パターン部にそれぞれロールの回転方向に対して90°および0°の方向に微細凹凸形状が形成されたロール原版を用いて長尺状の配向層形成用層に賦型した場合には、第1パターン部に対応して第1配向領域に長手方向(長尺方向)に対して90°の方向に形成された微細凹凸形状が、第2パターン部に対応して第2配向領域には長手方向に対して0°の方向に形成された微細凹凸形状が形成されることになる。
(4) First alignment region and second alignment region The first alignment region and the second alignment region formed in the alignment layer forming layer by performing this step are obtained by shaping the surface shape of the original plate. is there.
Therefore, the first alignment region and the second alignment region formed in the alignment layer forming layer are formed in patterns corresponding to the first pattern portion and the second pattern portion of the original plate, respectively. In addition, the shape and size of these regions, and the shape and direction of the fine concavo-convex shape also correspond to the first pattern portion and the second pattern portion of the original plate.
For this reason, a long alignment layer is formed by using a roll original plate in which fine irregularities are formed in the first pattern portion and the second pattern portion in directions of 90 ° and 0 ° with respect to the rotation direction of the roll, respectively. In the case where it is molded into the working layer, the fine irregular shape formed in the direction of 90 ° with respect to the longitudinal direction (longitudinal direction) in the first orientation region corresponding to the first pattern portion is the second pattern portion. Corresponding to this, a fine uneven shape formed in the direction of 0 ° with respect to the longitudinal direction is formed in the second alignment region.

2.硬化工程
本発明の製造方法における硬化工程は、賦型工程後の上記配向層形成用層を硬化させる工程である。
2. Curing Step The curing step in the production method of the present invention is a step of curing the alignment layer forming layer after the shaping step.

本工程において、上記配向層形成用層を硬化させる方法としては、上記配向層形成用層を構成する配向層形成用樹脂組成物に応じて適宜選択されるものであるが、例えば、上記配向層形成用樹脂組成物が電離放射線硬化性樹脂組成物の場合、紫外線硬化法および電子線硬化法等を挙げることができ、上記配向層形成用樹脂組成物が熱硬化性樹脂組成物の場合、加熱硬化法および常温硬化法等を挙げることができる。また、上記配向層形成用樹脂組成物として熱可塑性樹脂組成物を用いる場合は、冷却ロールなどを接触させる冷却法により硬化させることができる。   In this step, the method for curing the alignment layer forming layer is appropriately selected according to the alignment layer forming resin composition constituting the alignment layer forming layer. When the forming resin composition is an ionizing radiation curable resin composition, examples include an ultraviolet curing method and an electron beam curing method. When the alignment layer forming resin composition is a thermosetting resin composition, heating is performed. Examples thereof include a curing method and a normal temperature curing method. Moreover, when using a thermoplastic resin composition as the said resin composition for alignment layer formation, it can be made to harden | cure by the cooling method which makes a cooling roll etc. contact.

本工程における紫外線硬化法にて照射する紫外線の照射方法としては、通常、配向層形成用層の原版と接触する面の反対面から照射する方法が用いられるが、本工程が上記剥離工程後に行われる場合には、必要に応じて、原版と接触する面から照射する方法を用いるものであっても良い。短時間で十分に硬化させることができるからである。   As a method of irradiating with ultraviolet rays in the ultraviolet curing method in this step, a method of irradiating from the surface opposite to the surface in contact with the original of the alignment layer forming layer is usually used. If necessary, a method of irradiating from the surface in contact with the original plate may be used as necessary. This is because it can be sufficiently cured in a short time.

本工程において紫外線硬化法にて硬化する場合、配向層形成用層の硬化率(反応率)としては、20%〜97%の範囲内であることが好ましく、なかでも30%〜90%の範囲内であることが好ましい。得られたパターン配向膜を保管した際に、微細な凹凸やパターンがつぶされて形状不良を生じたり、ブリード物が発生しやすくなり配向層の液晶コート面側の汚染し、液晶配向不良を起こすといった不具合を防ぐことができるからである。また、液晶層との密着性を確保することが可能になる等の利点があるからである。
なお、硬化率とは、本工程を行った後の配向層に含まれる反応性を有する官能基のモル数をX、本工程を行う前に配向層形成用層に含まれていた反応性を有する官能基のモル数をYとしたときに、(Y−X)/Y × 100(%)で表されるものである。
In the case of curing by an ultraviolet curing method in this step, the curing rate (reaction rate) of the alignment layer forming layer is preferably in the range of 20% to 97%, and more preferably in the range of 30% to 90%. It is preferable to be within. When the obtained pattern alignment film is stored, fine irregularities and patterns are crushed, resulting in shape defects, bleeding is likely to occur, and the liquid crystal coating surface side of the alignment layer is contaminated, causing liquid crystal alignment defects. This is because such a problem can be prevented. Another advantage is that it is possible to ensure adhesion to the liquid crystal layer.
In addition, the curing rate is the number of moles of the functional group having reactivity included in the alignment layer after performing this step, and the reactivity included in the alignment layer forming layer before performing this step. When the number of moles of the functional group possessed is Y, it is represented by (Y-X) / Y × 100 (%).

本工程においては、紫外線硬化法にて紫外線を照射する際に、配向層形成用層を加熱するものであっても良い。反応効率を向上させることができるからである。
本工程において、配向層形成用層を加熱する方法としては、配向層形成用層を所望の温度とすることができる方法であれば特に限定されるものではなく、公知の加熱方法を用いることができるが、具体的には、原版として温度調節可能なものを用いる方法や、赤外線照射装置、温風送風装置等を用いる方法を挙げることができる。
In this step, the alignment layer forming layer may be heated when the ultraviolet ray is irradiated by the ultraviolet curing method. This is because the reaction efficiency can be improved.
In this step, the method for heating the alignment layer forming layer is not particularly limited as long as it can bring the alignment layer forming layer to a desired temperature, and a known heating method may be used. Specific examples include a method using a temperature-adjustable original plate and a method using an infrared irradiation device, a hot air blower, and the like.

3.剥離工程
本発明の製造方法における剥離工程は、上記賦型工程後に行われ、上記配向層形成用層を上記原版から剥離する工程である。
本工程における剥離方法としては、硬化された上記配向層形成用層を傷つけることなく上記原版を剥離することができれば、特に限定されるものではない。具体的には、既に説明した図12または図13に示すような剥離用ロールを用いて剥離する方法を挙げることができる。
3. Peeling process The peeling process in the manufacturing method of this invention is a process performed after the said shaping process, and peeling the said layer for alignment layer formation from the said original plate.
The peeling method in this step is not particularly limited as long as the original plate can be peeled without damaging the cured alignment layer forming layer. Specifically, a method of peeling using a peeling roll as shown in FIG.

本工程を行う順番としては、上記賦型工程後に行われるものであれば特に限定されるものではないが、上記硬化工程後に行われることが好ましい。上記硬化工程が、上記原版および配向層形成用層を接触させた状態で行われることにより、上記配向層形成用層に賦型された原版表面の形状を、安定的に硬化させることができ、得られる配向層表面の形状を高精度なものとすることができるからである。   The order of performing this step is not particularly limited as long as it is performed after the shaping step, but is preferably performed after the curing step. By performing the curing step in a state where the original plate and the alignment layer forming layer are in contact with each other, the shape of the original plate surface molded into the alignment layer forming layer can be stably cured, This is because the shape of the surface of the obtained alignment layer can be made highly accurate.

4.3次元表示用パターン配向膜の製造方法
本発明の製造方法は、上記賦型工程、硬化工程、および剥離工程を有するものであるが必要に応じて、他の工程を有するものであっても良い。
このような他の工程としては、剥離工程後に得られるパターン配向膜をロール状に巻き取る巻き取り工程や、上記原版の表面を定期的に清掃する清掃工程等を挙げることができる。
また、必要に応じて、上記配向層上に透明フィルム基材を積層する積層工程を有するものであっても良い。なお、配向層および透明フィルム基材の積層方法としては、上述の配向層形成用層形成処理のように、透明フィルム基材上に配向層形成用樹脂組成物を塗工する方法や、上記配向層に透明フィルム基材を加熱圧着する方法や、接着剤等を介して貼り合わせる方法等を挙げることができる。
4. Manufacturing method of pattern alignment film for three-dimensional display The manufacturing method of the present invention includes the shaping step, the curing step, and the peeling step, but has other steps as necessary. Also good.
Examples of such other processes include a winding process for winding the pattern alignment film obtained after the peeling process into a roll, and a cleaning process for periodically cleaning the surface of the original plate.
Moreover, you may have a lamination process which laminates | stacks a transparent film base material on the said orientation layer as needed. In addition, as a lamination | stacking method of an orientation layer and a transparent film base material, like the above-mentioned orientation layer formation layer formation process, the method of coating the orientation layer formation resin composition on a transparent film base material, or the said orientation Examples thereof include a method in which a transparent film substrate is thermocompression-bonded to the layer and a method in which the transparent film substrate is bonded through an adhesive or the like.

さらに、上記硬化工程および剥離工程後に、配向層形成用層をより十分に硬化させるための第2硬化工程を有するものであっても良い。上記パターン配向膜をより硬度に優れたものとすることができるからである。また、硬化工程および剥離工程に要する時間を短いものとすることが可能となる等、プロセスを自由度の高いものとすることができるからである。
具体的には、上記配向層形成用樹脂組成物が電離放射線硬化性樹脂組成物である場合には、上記硬化工程として紫外線硬化法を用いて上記配向層形成用層の原版と接触する面を硬化させ表面形状を転写した後、上記剥離工程により、上記配向層形成用層を原版から剥離し、その後、第2硬化工程として、上記配向層形成用層の上記原版と接触する面に対して紫外線照射を行うことができる。
また、上記配向層形成用樹脂組成物が電離放射線硬化性および熱可塑性を有する樹脂組成物である場合には、まず、加熱して溶融状態とした状態で上記賦型工程を行った後、上記硬化工程として冷却法を用いて上記配向層形成用層の原版と接触する面を硬化させ、表面形状を転写した後、上記剥離工程により、上記配向層形成用層を原版から剥離し、その後、第2硬化工程として、上記配向層形成用層の上記原版と接触する面に対して紫外線照射を行う紫外線硬化法を用いることができる。
Furthermore, you may have a 2nd hardening process for more fully hardening the layer for alignment layer formation after the said hardening process and peeling process. This is because the pattern alignment film can be made more excellent in hardness. Further, the time required for the curing step and the peeling step can be shortened, and the process can be made highly flexible.
Specifically, when the alignment layer-forming resin composition is an ionizing radiation-curable resin composition, the surface that contacts the original of the alignment layer-forming layer using an ultraviolet curing method as the curing step. After curing and transferring the surface shape, the alignment layer forming layer is peeled from the original plate by the peeling step, and then, as a second hardening step, the surface of the alignment layer forming layer that is in contact with the original plate. Ultraviolet irradiation can be performed.
In the case where the alignment layer forming resin composition is a resin composition having ionizing radiation curability and thermoplasticity, first, after performing the shaping step in a state of being heated and melted, After curing the surface of the alignment layer forming layer in contact with the original plate using a cooling method as a curing step and transferring the surface shape, the alignment layer forming layer is released from the original plate by the peeling step, and then As the second curing step, an ultraviolet curing method in which ultraviolet irradiation is performed on the surface of the alignment layer forming layer that contacts the original plate can be used.

このような第2硬化工程における上記配向層形成用層の硬化方法としては、上記硬化工程と同様とすることができる。
本工程における紫外線硬化法にて照射する紫外線の照射方法としては、配向層形成用層の原版と接触する面から照射する方法でも、接触する面の反対面から照射する方法でも良いが、上記接触する面から照射する方法であることが好ましい。上記配向層を、上記原版の表面形状をより安定的に保持するものとすることができるからである。
The curing method for the alignment layer forming layer in the second curing step can be the same as in the curing step.
The ultraviolet irradiation method used in the ultraviolet curing method in this step may be a method of irradiating from the surface in contact with the original of the alignment layer forming layer or a method of irradiating from the opposite surface of the contact surface, but the above contact It is preferable that it is the method of irradiating from the surface to perform. This is because the alignment layer can maintain the surface shape of the original plate more stably.

5.パターン配向膜
本発明の製造方法により得られるパターン配向膜は、上記第1パターン部および第2パターン部に対応して形成された第1配向領域および第2配向領域を含む配向層を少なくとも有するものであるが、通常、透明フィルム基材を有するものである。
また、上述のように、反射防止層またはアンチグレア層を有するものであっても良い。
5. Pattern Alignment Film A pattern alignment film obtained by the manufacturing method of the present invention has at least an alignment layer including a first alignment region and a second alignment region formed corresponding to the first pattern portion and the second pattern portion. However, it usually has a transparent film substrate.
Further, as described above, it may have an antireflection layer or an antiglare layer.

本発明の製造方法により得られるパターン配向膜の用途としては、3次元表示用の表示装置に用いられるパターン位相差フィルムの形成に用いることができ、なかでも、配向欠陥がなく高品質性が要求されるパターン位相差フィルムの形成に用いられることが好ましい。   As an application of the pattern alignment film obtained by the production method of the present invention, it can be used to form a pattern retardation film used in a display device for three-dimensional display, and in particular, there is no alignment defect and high quality is required. It is preferably used for forming a patterned retardation film.

D.3次元表示用パターン位相差フィルムの製造方法
次に、本発明の3次元表示用パターン位相差フィルムの製造方法について説明する。
本発明の3次元表示用パターン位相差フィルムの製造方法は、上述の3次元表示用パターン配向膜の製造方法により形成された3次元表示用パターン配向膜に含まれる配向層上に、屈折率異方性を有する棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、上記位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記配向層に含まれる第1配向領域および第2配向領域に形成された微細凹凸形状の方向に沿って配列させる配向工程と、を有することを特徴とするものである。
D. 3. Manufacturing method of pattern retardation film for three-dimensional display Next, the manufacturing method of the pattern retardation film for three-dimensional display of this invention is demonstrated.
The method for producing a three-dimensional display pattern retardation film of the present invention comprises a refractive index difference on an alignment layer included in the three-dimensional display pattern alignment film formed by the above-described method for producing a three-dimensional display pattern alignment film. A coating step of applying a retardation layer-forming coating solution containing a rod-like compound having a directivity, and a rod-like compound contained in the coating film of the retardation layer-forming coating solution; And an alignment step of aligning along the direction of the fine unevenness formed in the alignment region and the second alignment region.

このような本発明の用パターン位相差フィルムの製造方法を図を参照して説明する。図15は本発明のパターン位相差フィルムの製造方法の一例を示す工程図である。図15に例示するように、本発明のパターン位相差フィルムの製造方法は、上述のパターン配向膜の製造方法により形成され、上記パターン配向層用原版の第1パターン部および第2パターン部に対応して形成された上記第1配向領域12aおよび第2配向領域12bを有する配向層12上に、屈折率異方性を有する棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布して塗膜を形成し(図15(a))、その塗膜13´を加熱することにより、塗膜13´に含まれる棒状化合物を、上記配向層12に含まれる第1配向領域12aおよび第2配向領域12bに形成された微細凹凸形状の方向に沿って配列させることにより(図15(b))、上記配向層12上に第1位相差領域13aおよび第2位相差領域13bを有する位相差層13を形成し、パターン位相差フィルム30とするものである(図15(c))。   A method for producing such a pattern retardation film of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 15 is a process diagram showing an example of a method for producing a patterned retardation film of the present invention. As illustrated in FIG. 15, the pattern retardation film manufacturing method of the present invention is formed by the above-described pattern alignment film manufacturing method, and corresponds to the first pattern portion and the second pattern portion of the pattern alignment layer master. A coating solution for forming a retardation layer containing a rod-shaped compound having refractive index anisotropy is applied onto the alignment layer 12 having the first alignment region 12a and the second alignment region 12b formed in the above manner. (FIG. 15 (a)), and the coating film 13 'is heated to convert the rod-like compound contained in the coating film 13' into the first orientation region 12a and the second orientation region contained in the orientation layer 12. The phase difference layer 13 having the first phase difference region 13a and the second phase difference region 13b on the alignment layer 12 by arranging the fine concavo-convex shape formed in the direction 12b (FIG. 15B). Forming and par This is the turn phase difference film 30 (FIG. 15C).

本発明によれば、上述の原版を用いて形成されたパターン配向膜を用いることにより、3次元表示装置用パターン位相差フィルムを容易に形成することができる。   According to the present invention, a pattern retardation film for a three-dimensional display device can be easily formed by using a pattern alignment film formed using the above-described original plate.

本発明のパターン位相差フィルムの製造方法は、少なくとも塗布工程および配向工程を有することを特徴とするものである。
以下、本発明のパターン位相差フィルムの製造方法の各工程について詳細に説明する。
The manufacturing method of the pattern phase difference film of this invention has an application | coating process and an orientation process at least.
Hereinafter, each process of the manufacturing method of the pattern phase difference film of this invention is demonstrated in detail.

1.塗布工程
本発明における塗布工程は、上述のパターン配向膜の製造方法により形成されたパターン配向膜に含まれる配向層上に、屈折率異方性を有する棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する工程である。
なお、上述のパターン配向膜の製造方法により形成されたパターン配向膜については、上記「C.3次元表示用パターン配向膜の製造方法」の項に記載の内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
1. Coating Step The coating step in the present invention is a coating for forming a retardation layer containing a rod-like compound having refractive index anisotropy on an alignment layer included in the pattern alignment film formed by the above-described method for producing a pattern alignment film. This is a step of applying a liquid.
The pattern alignment film formed by the above-described pattern alignment film manufacturing method is the same as the contents described in the section “C. Manufacturing method of pattern alignment film for three-dimensional display”. Description is omitted.

本工程に用いられる位相差層形成用塗工液に含まれる棒状化合物としては、屈折率異方性を有するものであり、配向領域の配向規制力に沿って規則的に配列することにより本工程における位相差層に所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本工程に用いられる棒状化合物は、液晶性を示す液晶性材料であることが好ましい。液晶性材料は屈折率異方性が大きいため、本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが容易になるからである。   The rod-shaped compound contained in the retardation layer forming coating solution used in this step has refractive index anisotropy, and is arranged in a regular manner along the alignment regulating force of the alignment region. There is no particular limitation as long as a desired retardation can be imparted to the retardation layer. Especially, it is preferable that the rod-shaped compound used for this process is a liquid crystalline material which shows liquid crystallinity. This is because the liquid crystalline material has a large refractive index anisotropy, so that it becomes easy to impart desired retardation to the patterned retardation film produced by the production method of the present invention.

本工程に用いられる上記液晶性材料としては、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料を挙げることができる。本工程においては、これらのいずれの液晶相を示す材料であっても好適に用いることができるが、なかでもネマチック相を示す液晶性材料を用いることが好ましい。ネマチック相を示す液晶性材料は、他の液晶相を示す液晶性材料と比較して規則的に配列させることが容易であるからである。   As said liquid crystalline material used for this process, the material which shows liquid crystal phases, such as a nematic phase and a smectic phase, can be mentioned, for example. In this step, any material exhibiting any of these liquid crystal phases can be suitably used, but it is particularly preferable to use a liquid crystalline material exhibiting a nematic phase. This is because a liquid crystalline material exhibiting a nematic phase is easily arranged regularly as compared with liquid crystalline materials exhibiting other liquid crystal phases.

また、本工程においては上記ネマチック相を示す液晶性材料として、メソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する液晶性材料は柔軟性に優れるため、このような液晶性材料を用いることにより、本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムを透明性に優れたものにできるからである。   In this step, it is preferable to use a material having spacers at both ends of the mesogen as the liquid crystalline material exhibiting the nematic phase. Since the liquid crystalline material having spacers at both ends of the mesogen is excellent in flexibility, by using such a liquid crystalline material, the pattern retardation film produced by the production method of the present invention can be made excellent in transparency. It is.

さらに、本工程に用いられる棒状化合物は、分子内に重合性官能基を有するものが好適に用いられ、なかでも3次元架橋可能な重合性官能基を有するものがより好適に用いられる。上記棒状化合物が重合性官能基を有することにより、上記棒状化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくい位相差層を得ることができるからである。なお、重合性官能基を有する棒状化合物を用いた場合、本工程を行うことにより形成される位相差層には、重合性官能基によって架橋された棒状化合物が含有されることになる。   Furthermore, as the rod-shaped compound used in this step, those having a polymerizable functional group in the molecule are preferably used, and among them, those having a polymerizable functional group capable of three-dimensional crosslinking are more preferably used. Since the rod-shaped compound has a polymerizable functional group, the rod-shaped compound can be polymerized and fixed, so that a retardation layer having excellent alignment stability and hardly causing a change in retardation with time is obtained. Because you can. In addition, when the rod-shaped compound which has a polymerizable functional group is used, the phase difference layer formed by performing this process will contain the rod-shaped compound bridge | crosslinked by the polymerizable functional group.

なお、上記「3次元架橋」とは、液晶性分子を互いに3次元に重合して、網目(ネットワーク)構造の状態にすることを意味する。   The “three-dimensional cross-linking” means that liquid crystal molecules are polymerized three-dimensionally to form a network (network) structure.

上記重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基(アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称)等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和3重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。   Examples of the polymerizable functional group include polymerizable functional groups that are polymerized by the action of ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams, or heat. Representative examples of these polymerizable functional groups include radically polymerizable functional groups or cationic polymerizable functional groups. Further, representative examples of radically polymerizable functional groups include functional groups having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated double bond, and specific examples include vinyl groups having or not having substituents, An acrylate group (generic name including an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, and a methacryloyloxy group) and the like can be given. Moreover, an epoxy group etc. are mentioned as a specific example of the said cation polymerizable functional group. In addition, examples of the polymerizable functional group include an isocyanate group and an unsaturated triple bond. Among these, from the viewpoint of the process, a functional group having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used.

さらにまた、本工程における棒状化合物は液晶性を示す液晶性材料であって、末端に上記重合性官能基を有するものが特に好ましい。このような棒状化合物を用いることにより、例えば、互いに3次元に重合して、網目(ネットワーク)構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた上記を形成することができるからである。
なお、本工程においては片末端に重合性官能基を有する液晶性材料を用いた場合であっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。
Furthermore, the rod-like compound in this step is a liquid crystalline material exhibiting liquid crystallinity, and those having the polymerizable functional group at the terminal are particularly preferable. By using such a rod-like compound, for example, it can be polymerized three-dimensionally into a network (network) structure, so that it has column stability and excellent optical characteristics. This is because the above can be formed.
In this step, even when a liquid crystalline material having a polymerizable functional group at one end is used, the alignment can be stabilized by crosslinking with other molecules.

本工程に用いられる棒状化合物の具体例としては、下記式(1)〜(17)で表される化合物を例示することができる。   Specific examples of the rod-like compound used in this step include compounds represented by the following formulas (1) to (17).

なお、本工程において上記棒状化合物は、1種類のみを用いてもよく、または、2種以上を混合して用いてもよい。例えば、上記棒状化合物として、両末端に重合性官能基を1つ以上有する液晶性材料と、片末端に重合性官能基を1つ以上有する液晶性材料とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度(架橋密度)及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。また、信頼性確保の観点からは、両末端に重合性官能基を1つ以上有する液晶性材料が好ましいが、液晶配向の観点からは両末端の重合性官能基が1つであることが好ましい。   In addition, in this process, only 1 type may be used for the said rod-shaped compound, or 2 or more types may be mixed and used for it. For example, when the rod-shaped compound is used by mixing a liquid crystalline material having one or more polymerizable functional groups at both ends and a liquid crystalline material having one or more polymerizable functional groups at one end, The polymerization density (crosslinking density) and the optical properties are preferably adjusted by adjusting the ratio. Further, from the viewpoint of ensuring reliability, a liquid crystalline material having one or more polymerizable functional groups at both ends is preferable, but from the viewpoint of liquid crystal alignment, it is preferable that there is one polymerizable functional group at both ends. .

本工程に用いられる棒状化合物の位相差層形成用塗工液中の含有量としては、配向層上に塗布する塗布方法に応じて、位相差層形成用塗工液の粘度を所望の値にできるものであれば特に限定されない。なかでも本工程においては、上記位相差層形成用塗工液中、5質量%〜30質量%の範囲内であることが好ましく、なかでも、10質量%〜20質量%の範囲内であることが好ましい。   The content of the rod-shaped compound used in this step in the coating solution for forming the retardation layer is set to a desired value for the viscosity of the coating solution for forming the retardation layer depending on the coating method applied on the alignment layer. There is no particular limitation as long as it is possible. Especially in this process, it is preferable that it exists in the range of 5 mass%-30 mass% in the said coating liquid for phase difference layer formation, and it exists in the range of 10 mass%-20 mass% especially. Is preferred.

本工程に用いられる位相差層形成用塗工液としては、上記棒状化合物を少なくとも含むものであるが、通常、溶媒を含むものである。また、必要に応じて他の化合物を含むものであっても良い。
このような溶媒としては、上記棒状化合物を均一に溶解または分散できるものであれば特に限定されるものではないが、上記「C.3次元表示用パターン配向膜の製造方法」の項に記載の内容と同様とすることができる。
The retardation layer forming coating solution used in this step contains at least the rod-like compound, but usually contains a solvent. Moreover, you may contain another compound as needed.
Such a solvent is not particularly limited as long as it can uniformly dissolve or disperse the rod-like compound, but it is described in the above section “C. Method for producing pattern alignment film for three-dimensional display”. It can be similar to the content.

また、他の化合物としては、本工程により形成される位相差層において、棒状化合物の配列秩序を害するものでなければ特に限定されるものではない。本工程に用いられる上記他の化合物としては、例えば、カイラル剤、重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、および、シランカップリング剤等を挙げることができる。
本工程においては、上記棒状化合物として上記重合性液晶材料を用いる場合は、上記他の化合物として重合開始剤または重合禁止剤を用いることが好ましい。
The other compound is not particularly limited as long as it does not impair the arrangement order of the rod-like compound in the retardation layer formed by this step. As said other compound used for this process, a chiral agent, a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, a plasticizer, surfactant, a silane coupling agent etc. can be mentioned, for example.
In this step, when the polymerizable liquid crystal material is used as the rod-shaped compound, it is preferable to use a polymerization initiator or a polymerization inhibitor as the other compound.

上記重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミン)ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、4−アジドベンジルアセトフェノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)シクロヘキサン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、2−フェニル−1,2−ブタジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エトキシ−プロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、n−フェニルチオアクリドン、4,4−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製N1717、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本工程では、これらの光重合開始剤を1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the polymerization initiator include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-bis (diethylamine) benzophenone, α-amino acetophenone, 4,4-dichloro. Benzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, p- tert-Butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal, benzylmethoxyethyl acetal, benzo Methyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzsuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzylacetophenone, 2,6-bis (p- Azidobenzylidene) cyclohexane, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadion-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propanedione-2 -(O-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxy-propanetrione-2- (o-benzoyl) oxy , Michler's ketone, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, naphthalene Sulfonyl chloride, quinoline sulfonyl chloride, n-phenylthioacridone, 4,4-azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzthiazole disulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, Adeka N1717, carbon tetrabromide, tri Examples include combinations of photoreducing dyes such as bromophenyl sulfone, benzoin peroxide, eosin, and methylene blue with reducing agents such as ascorbic acid and triethanolamine. In this step, these photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

さらに、上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の3級アミン類や、2−ジメチルアミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。   Furthermore, when using the said photoinitiator, a photoinitiator adjuvant can be used together. Examples of such photopolymerization initiation assistants include tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine, and benzoic acid derivatives such as ethyl 2-dimethylaminoethylbenzoate and ethyl 4-dimethylamidebenzoate. Yes, but not limited to these.

上記重合禁止剤としては、例えば、ジフェニルピクリルヒドラジド、トリ−p−ニトロフェニルメチル,p−ベンゾキノン、p−tert−ブチルカテコール、ピクリン酸、塩化銅、メチルハイドロキノン、メトキノン、tert−ブチルハイドロキノン等の反応の重合禁止剤を用いることができるが、なかでも保存安定性の点からハイドロキノン系重合禁止剤が好ましく、メチルハイドロキノンを用いるのが特に好ましい。   Examples of the polymerization inhibitor include diphenylpicrylhydrazide, tri-p-nitrophenylmethyl, p-benzoquinone, p-tert-butylcatechol, picric acid, copper chloride, methylhydroquinone, methoquinone, tert-butylhydroquinone and the like. Although a polymerization inhibitor for the reaction can be used, a hydroquinone polymerization inhibitor is preferred from the viewpoint of storage stability, and methyl hydroquinone is particularly preferred.

また、本工程における位相差層形成用塗工液には、下記に示すような他の化合物を添加することができる。添加できる他の化合物としては、例えば、多価アルコールと1塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、(メタ)アクリル酸を反応させて得られるポリエステル(メタ)アクリレート;ポリオール基と2個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に(メタ)アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン(メタ)アクリレート;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂と、(メタ)アクリル酸を反応させて得られるエポキシ(メタ)アクリレート等の光重合性化合物;アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。   In addition, other compounds as shown below can be added to the retardation layer forming coating solution in this step. Other compounds that can be added include, for example, a polyester (meth) acrylate obtained by reacting a (meth) acrylic acid with a polyester prepolymer obtained by condensing a polyhydric alcohol with a monobasic acid or polybasic acid; a polyol Polyurethane (meth) acrylate obtained by reacting a group and a compound having two isocyanate groups with each other and then reacting the reaction product with (meth) acrylic acid; bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin , Epoxy resins such as novolac type epoxy resin, polycarboxylic acid polyglycidyl ester, polyol polyglycidyl ether, aliphatic or cycloaliphatic epoxy resin, amino group epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin, dihydroxybenzene type epoxy resin, (Meta) Photopolymerizable compound in epoxy (meth) acrylate obtained by reacting an acrylic acid; photopolymerizable liquid crystal compound having an acryl group or methacryl group and the like.

本工程における位相差層形成用塗工液の塗布方法としては、配向層上に位相差層形成用塗工液からなる塗膜を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではない。本工程において、具体的には、上記「C.3次元表示用パターン配向膜の製造方法」の項に記載の配向層形成用層の形成方法と同様とすることができる。   The coating method for the retardation layer forming coating liquid in this step is not particularly limited as long as it can stably form a coating film made of the retardation layer forming coating liquid on the alignment layer. . In this step, specifically, it can be the same as the method for forming the alignment layer forming layer described in the above section “C. Method for producing pattern alignment film for three-dimensional display”.

本工程により形成される塗膜の厚みは、後述する配向工程後に、所定の位相差性を達成できる範囲内とするものであれば特に限定されるものではなく、本発明の製造方法により製造されるパターン位相差フィルムの用途等に応じて適宜決定されるものである。   The thickness of the coating film formed in this step is not particularly limited as long as it is within the range in which a predetermined retardation can be achieved after the orientation step described later, and is manufactured by the manufacturing method of the present invention. It is appropriately determined according to the use of the pattern retardation film.

本工程においては、なかでも、上記第1配向領域および第2配向領域の棒状化合物を配列させる方向が45°/135°、または、0°/90°のように互いに直交する方向の場合、第1配向領域および第2配向領域上に形成される第1位相差領域および第2位相差領域の面内レターデーションをλ/4分に相当するような範囲内となるような厚みとなるように塗布することが好ましい。これらの位相差領域を透過することで直線偏光がそれぞれ互いに直交関係にある円偏光になるため、容易に3次元表示が可能な表示装置を製造するために好適に用いられるものにできるからである。   In this step, in particular, when the direction in which the rod-like compounds in the first alignment region and the second alignment region are arranged is a direction orthogonal to each other such as 45 ° / 135 ° or 0 ° / 90 °, The in-plane retardation of the first retardation region and the second retardation region formed on the first alignment region and the second alignment region is set to a thickness that falls within a range corresponding to λ / 4 minutes. It is preferable to apply. This is because the linearly polarized light becomes circularly polarized light that is orthogonal to each other by transmitting through these phase difference regions, so that it can be suitably used for manufacturing a display device that can easily perform three-dimensional display. .

また、上記第1配向領域および第2配向領域の棒状化合物を配列させる方向が0°/45°または0°/135°のように、第1配向領域および第2配向領域の棒状化合物の配列させる方向が45°の角度となる方向の場合、上記第1位相差領域のみに面内レターデーション値をそれぞれλ/2分に相当するような範囲内となるような厚みとなるように塗布すること、または、上記第1位相差領域および第2位相差領域の面内レターデーション値をそれぞれλ/2分に相当するような範囲内となるような厚みとなるように塗布することが好ましい。第1位相差領域の遅相軸の方向と遅相軸が平行なλ/4板と組み合わせて用いることにより、容易に3次元表示装置を製造するために好適に用いられるものにできるからである。   Further, the rod-like compounds in the first alignment region and the second alignment region are arranged such that the direction in which the rod-like compounds in the first alignment region and the second alignment region are arranged is 0 ° / 45 ° or 0 ° / 135 °. When the direction is an angle of 45 °, the in-plane retardation value is applied only to the first retardation region so as to have a thickness corresponding to λ / 2 minutes. Alternatively, it is preferable that the in-plane retardation values of the first retardation region and the second retardation region are applied so as to have thicknesses in a range corresponding to λ / 2. This is because, by using in combination with the λ / 4 plate in which the direction of the slow axis of the first phase difference region and the slow axis are parallel, it can be easily used for manufacturing a three-dimensional display device. .

本工程においては、上記配向工程後の面内レターデーションがλ/4分に相当するような範囲内の厚みにする場合、具体的にどの程度の厚みにするかは、棒状化合物の種類により適宜決定されることになる。もっとも、当該厚みは本工程において一般的に用いられる棒状化合物であれば、通常、上記配向工程後の厚みが0.1μm〜1.9μmの範囲内となるものであることが好ましく、0.25μm〜1.75μmの範囲内となるものであることがより好ましく、0.5μm〜1.5μmの範囲内となるものであることがさらに好ましい。
また、λ/2分に相当するような範囲内の距離とする場合には、通常、0.5μm〜4μmの範囲内となるものであることが好ましく、1μm〜3μmの範囲内となるものであることがより好ましく、1.5μm〜2.5μmの範囲内となるものであることがさらに好ましい。
In this step, when the in-plane retardation after the alignment step is set to a thickness within a range corresponding to λ / 4 minutes, the specific thickness depends on the type of rod-shaped compound. Will be decided. However, if the thickness is a rod-like compound that is generally used in this step, it is usually preferable that the thickness after the alignment step is in the range of 0.1 μm to 1.9 μm, and 0.25 μm. More preferably, it is within the range of ˜1.75 μm, and even more preferably within the range of 0.5 μm to 1.5 μm.
When the distance is within a range corresponding to λ / 2 minutes, it is usually preferably within a range of 0.5 μm to 4 μm, and preferably within a range of 1 μm to 3 μm. More preferably, it is more preferably in the range of 1.5 μm to 2.5 μm.

2.配向工程
本発明における配向工程は、上記位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記配向層に含まれる第1配向領域および第2配向領域に形成された微細凹凸形状の方向に沿って配列させる工程である。
2. Alignment Step The alignment step in the present invention is a micro uneven shape formed in the first alignment region and the second alignment region included in the alignment layer, with the rod-shaped compound included in the coating film of the retardation layer forming coating solution. It is the process of arranging along the direction.

本工程における棒状化合物を第1配向領域および第2配向領域に形成された微細凹凸形状の方向に沿って配列させる方法としては、所望の方向に配列させることができる方法であれば特に限定されるものではなく、一般的な方法を用いることができるが、棒状化合物が液晶性材料である場合には、上記塗膜を棒状化合物の液晶相形成温度以上に加温する方法が用いられる。具体的には、上記棒状化合物の種類等により異なるものであるが、50℃〜60℃の範囲内で加温する方法を挙げることができる。   The method for arranging the rod-shaped compounds in this step along the direction of the fine unevenness formed in the first alignment region and the second alignment region is particularly limited as long as it can be arranged in a desired direction. However, when the rod-shaped compound is a liquid crystalline material, a method of heating the coating film to a temperature higher than the liquid crystal phase forming temperature of the rod-shaped compound is used. Specifically, although it differs depending on the kind of the rod-like compound, a method of heating within a range of 50 ° C to 60 ° C can be mentioned.

本工程により形成される位相差層は、上述のパターン配向膜の製造方法を用いて形成された配向層が形成されていることにより、第1位相差領域と第2位相差領域とが、上記第1配向領域および上記第2配向領域が形成されたパターンと同一のパターン状に形成されたものになる。
なお、本工程に形成される位相差層に第1位相差領域および第2位相差領域からなるパターンが形成されていることは、例えば、偏光板クロスニコルの中にサンプルを入れて、サンプルを回転させた場合に明線と暗線が反転することを確認することにより評価することができる。このとき、第1位相差領域および第2位相差領域からなるパターンが細かい場合は偏光顕微鏡で観察するとよい。また、後述するAxoScanで各パターン内の遅相軸の方向(角度)を測定しても良い。
The retardation layer formed in this step is formed of the alignment layer formed by using the above-described pattern alignment film manufacturing method, so that the first retardation region and the second retardation region are The first alignment region and the second alignment region are formed in the same pattern as the pattern formed.
In addition, the pattern which consists of a 1st phase difference area | region and a 2nd phase difference area | region is formed in the phase difference layer formed in this process, for example, putting a sample in polarizing plate cross Nicol, It can be evaluated by confirming that the bright line and the dark line are reversed when rotated. At this time, when the pattern composed of the first phase difference region and the second phase difference region is fine, the pattern may be observed with a polarizing microscope. Further, the direction (angle) of the slow axis in each pattern may be measured by AxoScan described later.

本工程により形成される位相差層の面内レターデーション値としては、所望の3次元映像を表示できるものであれば特に限定されるものではなく、本発明により製造されるパターン位相差フィルムの用途等に応じて適宜決定することができる。したがって、第1位相差領域および第2位相差領域が示す具体的な面内レターデーションの数値範囲についても特に限定されるものではなく、本発明により製造されるパターン位相差フィルムの用途に応じて適宜調整すればよい。
本工程においては、位相差層の面内レターデーション値がλ/4分に相当する程度のものとする場合には、具体的には、100nm〜160nmの範囲内であることが好ましく、110nm〜150nmの範囲内であることがより好ましく、120nm〜140nmの範囲内であることがさらに好ましい。
また、面内レターデーション値がλ/2分に相当する程度とする場合には、通常、200nm〜300nmの範囲内であることが好ましく、220nm〜280nmの範囲内であることがより好ましく、230nm〜270nmの範囲内であることが特に好ましい。
The in-plane retardation value of the retardation layer formed by this step is not particularly limited as long as a desired three-dimensional image can be displayed. Use of the patterned retardation film produced by the present invention It can be appropriately determined according to the above. Accordingly, the numerical range of the specific in-plane retardation indicated by the first retardation region and the second retardation region is not particularly limited, depending on the use of the pattern retardation film produced by the present invention. What is necessary is just to adjust suitably.
In this step, in the case where the in-plane retardation value of the retardation layer corresponds to λ / 4 minutes, specifically, it is preferably in the range of 100 nm to 160 nm, More preferably within the range of 150 nm, even more preferably within the range of 120 nm to 140 nm.
In the case where the in-plane retardation value corresponds to λ / 2 minutes, it is usually preferably in the range of 200 nm to 300 nm, more preferably in the range of 220 nm to 280 nm, and 230 nm. Particularly preferably, it is in the range of ˜270 nm.

ここで、面内レターデーション値とは、屈折率異方体の面内方向における複屈折性の程度を示す指標であり、面内方向において屈折率が最も大きい遅相軸方向の屈折率をNx、遅相軸方向に直交する進相軸方向の屈折率をNy、屈折率異方体の面内方向に垂直な方向の厚みをdとした場合に、
Re[nm]=(Nx−Ny)×d[nm]
で表わされる値である。面内レターデーション値(Re値)は、例えば、王子計測機器株式会社製 KOBRA−WRを用い、平行ニコル回転法により測定することができるし、微小領域の面内レタデーション値はAXOMETRICS社(米国)製のAxoScanでミューラーマトリクスを使って測定することも出来る。また、本願明細書においては特に別段の記載をしない限り、Re値は波長589nmにおける値を意味するものとする。
Here, the in-plane retardation value is an index indicating the degree of birefringence in the in-plane direction of the refractive index anisotropic body, and the refractive index in the slow axis direction having the largest refractive index in the in-plane direction is represented by Nx. When the refractive index in the fast axis direction orthogonal to the slow axis direction is Ny and the thickness in the direction perpendicular to the in-plane direction of the refractive index anisotropic body is d,
Re [nm] = (Nx−Ny) × d [nm]
It is a value represented by. The in-plane retardation value (Re value) can be measured by, for example, KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd. by the parallel Nicol rotation method, and the in-plane retardation value of a minute region is AXOMETRICS (USA). Measurements can also be made using a Mueller matrix with an AxoScan made by the manufacturer. In the present specification, unless otherwise stated, the Re value means a value at a wavelength of 589 nm.

3.パターン位相差フィルムの製造方法
本発明のパターン位相差フィルムの製造方法は、上記塗布工程および配向工程を少なくとも有するものであるが、必要に応じて、塗布工程後に、位相差層形成用塗工液の塗膜を乾燥する乾燥工程や、上記棒状化合物として重合性液晶材料を用いる場合、上記重合性液晶材料を重合する重合工程を有するものであっても良い。
3. Method for Producing Pattern Retardation Film The method for producing a pattern phase difference film of the present invention includes at least the coating step and the orientation step. If necessary, a coating solution for forming a retardation layer is provided after the coating step. When the polymerizable liquid crystal material is used as the rod-like compound, a drying step for drying the coating film may be provided.

上記乾燥工程における塗膜の乾燥方法としては、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等、一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本工程における乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により、複数の乾燥方式を採用してもよい。
さらに、上記塗膜の乾燥方法としては、一定の温度に調整された乾燥風を、上記塗膜に当てる方法を用いることもできるが、このようは乾燥方法を用いる場合は、上記塗膜に当てる乾燥風の風速が3m/秒以下であることが好ましく、特に30m/分以下であることが好ましい。
As a method for drying the coating film in the drying step, a commonly used drying method such as a heat drying method, a reduced pressure drying method, a gap drying method, or the like can be used. Further, the drying method in this step is not limited to a single method, and a plurality of drying methods may be employed, for example, by changing the drying method sequentially according to the amount of remaining solvent.
Furthermore, as a method for drying the coating film, a method of applying a drying air adjusted to a certain temperature to the coating film can be used. When using such a drying method, the method is applied to the coating film. The wind speed of the drying wind is preferably 3 m / second or less, and particularly preferably 30 m / minute or less.

上記重合工程における重合性液晶材料の重合方法としては、重合性液晶材料が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよい。なかでも本工程においては、活性放射線の照射により硬化させる方法が好ましい。活性放射線としては、重合性液晶材料を重合することが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光または可視光を使用することが好ましい。   What is necessary is just to determine arbitrarily as a polymerization method of the polymeric liquid crystal material in the said superposition | polymerization process according to the kind of polymeric functional group which polymeric liquid crystal material has. In particular, in this step, a method of curing by irradiation with actinic radiation is preferable. The actinic radiation is not particularly limited as long as it is a radiation capable of polymerizing the polymerizable liquid crystal material, but it is usually preferable to use ultraviolet light or visible light from the viewpoint of the ease of the apparatus. .

また、本発明においては、図16に例示するような位相差層上に粘着層16を形成する粘着層形成工程(図16(a)〜(b))およびセパレータ17を積層するセパレータ積層工程(図16(b)〜(c))や、配向工程後に、長尺状のパターン位相差フィルムを裁断し、枚葉に成形されたパターン位相差フィルムとして得るための裁断工程を有するものであっても良い。
なお、図16中の符号については、図15のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
Further, in the present invention, an adhesive layer forming step (FIGS. 16A to 16B) for forming the adhesive layer 16 on the retardation layer as illustrated in FIG. 16 and a separator laminating step for laminating the separator 17 ( 16 (b) to (c)), and after the orientation step, a long pattern retardation film is cut, and a cutting step for obtaining a pattern retardation film formed on a sheet is obtained. Also good.
In addition, about the code | symbol in FIG. 16, since it shows the same member as the thing of FIG. 15, description here is abbreviate | omitted.

本発明においては、これらの各工程が独立して行われるもの、すなわち、工程毎に長尺状のパターン配向膜等をロール状に巻き取られた状態から巻き出し、所定の処理を行った後に巻き取るものであっても良いが、全工程が連続して行われること、すなわち、原材料からロールトゥロールにて行われることが好ましい。
具体的には、上述のパターン配向膜の製造方法により製造されるパターン配向膜が長尺状である場合には、長尺状のパターン配向膜から最終製造物であるパターン位相差フィルムが途中ロール状に巻き取られることなくロールトゥロールで製造されることが好ましい。
In the present invention, each of these steps is performed independently, that is, after unwinding the long pattern alignment film or the like from the state wound in a roll shape for each step and performing a predetermined treatment. Although it may be wound, it is preferable that all the steps are performed continuously, that is, the raw material is rolled to roll.
Specifically, when the pattern alignment film manufactured by the above-described method for manufacturing a pattern alignment film is long, the pattern retardation film as the final product is rolled from the long pattern alignment film. It is preferable to be manufactured by roll-to-roll without being wound into a shape.

4.パターン位相差フィルム
本発明により製造されるパターン位相差フィルムの用途としては、3次元表示用の表示装置に用いることができ、なかでも、高品質かつ低コストが要求される表示装置に用いられることが好ましい。
4). Pattern Retardation Film As a use of the pattern retardation film produced according to the present invention, it can be used for a display device for three-dimensional display, and in particular, used for a display device that requires high quality and low cost. Is preferred.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.

[実施例]
10cm×10cmの大きさの銅版を準備し、研磨剤(カネヨ石鹸株式会社製カネヨンTM)で左右方向に研磨し、洗浄した。その後、FIB加工で作製したピッチが200nmの凹凸を有するダイヤモンドバイトで上下方向に、ストライプの間隔が500μmになる様に切削した。その後、UV硬化性樹脂(DIC株式会社製ユニディック RC23−207)を銅版上に塗布し、その上に密着性を改善するためのプライマー(DIC株式会社製ユニディックRC20−075)を塗布した透明なフィルム(富士フィルム株式会社製フジタック)を乗せて密着させ、紫外線を照射して硬化させた。
次に、上記透明フィルム基材を銅版から剥離し、凹凸形状を透明フィルム基材上に賦形することにより、上記透明フィルム基材上に配向層を形成した。SEMで配向層の断面形状を観察したところ、200nmピッチの凹凸と不定形の微細な凹凸が交互に観測された。
次に、シクロヘキサノンに固形分15%で溶解した下記構造式で表わされる液晶性材料の溶液に、光重合開始剤(BASF株式会社製イルガキュア184)を5重量%を加えた溶液を、上記配向層が形成された透明フィルム基材上にスピンコーターで塗布、80℃で10分乾燥し、紫外線を照射して硬化することにより、パターン位相差フィルムを作製した。
作製したパターン位相差フィルムを偏光板クロスニコルの中に入れて回転させたところ、幅500μmのストライプが明・暗・明・暗の繰り返し模様で見え、90度回転する毎に、明と暗が反転した。
尚、今回のラビングには研磨剤を用いたが、LCD製造に使われているラビング用の布を使ってもよい。
[Example]
A copper plate having a size of 10 cm × 10 cm was prepared, polished in the left-right direction with an abrasive (Kaneyo TM manufactured by Kaneyo Soap Co., Ltd.), and washed. Then, it cut | disconnected so that the space | interval of a stripe might be set to 500 micrometers in the up-down direction with the diamond byte which has the unevenness | corrugation with a pitch of 200 nm produced by FIB process. Thereafter, a UV curable resin (Unidic RC23-207 manufactured by DIC Corporation) was applied onto the copper plate, and a primer for improving adhesion (Unidic RC20-075 manufactured by DIC Corporation) was applied thereon. A film (Fuji Film manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) was placed and adhered, and irradiated with ultraviolet rays to be cured.
Next, the said transparent film base material was peeled from the copper plate, and the alignment layer was formed on the said transparent film base material by shaping an uneven | corrugated shape on a transparent film base material. When the cross-sectional shape of the alignment layer was observed with an SEM, 200 nm pitch irregularities and irregular fine irregularities were alternately observed.
Next, a solution obtained by adding 5% by weight of a photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by BASF Corporation) to a solution of a liquid crystalline material represented by the following structural formula dissolved in cyclohexanone at a solid content of 15% is used as the alignment layer. The film was coated on a transparent film substrate with a spin coater, dried at 80 ° C. for 10 minutes, and cured by irradiating with ultraviolet rays to prepare a pattern retardation film.
When the prepared pattern retardation film was placed in a polarizing plate crossed Nicol and rotated, stripes with a width of 500 μm appeared as a repeating pattern of light, dark, light, and dark. Inverted.
In addition, although the abrasive | polishing agent was used for this rubbing, you may use the cloth for rubbing currently used for LCD manufacture.

上記パターン位相差フィルムを3次元表示可能な液晶ディスプレイのカラーフィルタの左右方向のラインに対応して貼合し、左右円偏光メガネをかけて見たところ、3次元画像が見えた。   When the pattern retardation film was bonded in correspondence with the left and right lines of the color filter of the liquid crystal display capable of three-dimensional display and viewed with left and right circularly polarized glasses, a three-dimensional image was seen.

1 … 基材
2a … 第1パターン部
2b … 第2パターン部
10 … 3次元表示用パターン配向層用原版
11 … 透明フィルム基材
12 … 配向層
12a … 第1配向領域
12b … 第2配向領域
13 … 位相差層
13a … 第1位相差領域
13b … 第2位相差領域
20 … パターン配向膜
30 … パターン位相差フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base material 2a ... 1st pattern part 2b ... 2nd pattern part 10 ... Master plate for pattern orientation layer 11 for three-dimensional display 11 ... Transparent film base material 12 ... Orientation layer 12a ... 1st orientation area 12b ... 2nd orientation area 13 ... retardation layer 13a ... first retardation region 13b ... second retardation region 20 ... pattern alignment film 30 ... pattern retardation film

Claims (1)

微細凹凸形状が一定方向に形成された第1パターン部および前記微細凹凸形状が前記第1パターンとは異なる方向に形成された第2パターン部を表面に備えるロール状基材を有する3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法であって、
前記ロール状基材を準備し、前記ロール状基材の全表面に微細凹凸形状を一定方向に形成する第1パターン形成工程と、
前記ロール状基材の全表面に形成された微細凹凸形状を、バイトを用いて前記ロール状基材の回転方向と平行な帯状に削り取り、かつ、削り取った領域に前記第1パターン形成工程とは異なる方向に微細凹凸形状を一定方向に形成する第2パターン形成工程と、
を有することを特徴とする3次元表示用パターン配向層用原版の製造方法。
For three-dimensional display having a roll-shaped substrate having on its surface a first pattern portion having a fine uneven shape formed in a certain direction and a second pattern portion having the fine uneven shape formed in a direction different from the first pattern. A method for producing a pattern alignment layer master,
A first pattern forming step of preparing the roll-shaped substrate, and forming a fine uneven shape in a certain direction on the entire surface of the roll-shaped substrate;
Fine irregularities formed on the entire surface of the roll-shaped substrate, by using the byte scraping the band-shaped and the rotational direction of the roll-shaped substrate, and said the area scraped first pattern forming step A second pattern forming step of forming fine concavo-convex shapes in different directions in different directions;
A method for producing a master for a pattern alignment layer for three-dimensional display, comprising:
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