JP2012198326A - Production method of alignment layer and production method of retardation film - Google Patents

Production method of alignment layer and production method of retardation film Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of an alignment layer, which is inexpensive and has excellent alignment regulating power while hardly generating dust or static electricity.SOLUTION: The production method of an alignment layer comprises: a molding step of bringing an alignment layer-forming layer comprising an alignment layer-forming resin composition into contact with an original plate for an alignment layer, the original plate having minute linear concavo-convex structures randomly formed in approximately a given direction formed thereon, then pressurizing so as to transfer the shape on the surface of the original plate for the patterned alignment layer onto the alignment layer-forming layer; a curing step of curing the alignment layer-forming layer after the molding step; and a peeling step of peeling the alignment layer-forming layer from the original plate for the patterned alignment layer.

Description

本発明は、低コストかつ粉塵や静電気の発生が少なく、優れた配向規制力を有する配向膜の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing an alignment film that has low cost, generates less dust and static electricity, and has an excellent alignment regulating force.

従来の一般的な液晶表示装置としては、図12に示すように、入射側の偏光板102Aと、出射側の偏光板102Bと、液晶セル104とを有するものを挙げることができる。
偏光板102Aおよび102Bは、所定の振動方向の振動面を有する直線偏光(図中、矢印で模式的に図示)のみを選択的に透過させるように構成されたものであり、それぞれの振動方向が相互に直角の関係になるようにクロスニコル状態で対向して配置されている。
また、液晶セル104は画素に対応する多数のセルを含むものであり、偏光板102Aと102Bとの間に配置されている。
As a conventional general liquid crystal display device, as shown in FIG. 12, there may be mentioned one having an incident-side polarizing plate 102A, an outgoing-side polarizing plate 102B, and a liquid crystal cell 104.
The polarizing plates 102A and 102B are configured to selectively transmit only linearly polarized light (schematically illustrated by arrows in the figure) having a vibration surface in a predetermined vibration direction. They are arranged to face each other in a crossed Nicol state so as to have a right angle relationship with each other.
The liquid crystal cell 104 includes a large number of cells corresponding to the pixels, and is disposed between the polarizing plates 102A and 102B.

ここで、このような液晶表示装置100において、液晶セル104が、負の誘電異方性を有するネマチック液晶が封止されたVA(Vertical Alignment)方式(図中、液晶のダイレクターを点線で模式的に図示)を採用している場合を例に挙げると、入射側の偏光板102Aを透過した直線偏光は、液晶セル104のうち非駆動状態のセルの部分を透過する際に、位相シフトされずに透過し、出射側の偏光板102Bで遮断される。これに対し、液晶セル104のうち駆動状態のセルの部分を透過する際には、直線偏光が位相シフトされ、この位相シフト量に応じた量の光が出射側の偏光板102Bを透過して出射される。これにより、液晶セル104の駆動電圧を各セル毎に適宜制御することにより、出射側の偏光板102B側に所望の画像を表示することができる。なお、液晶表示装置100としては、上述したような光の透過および遮断の態様をとるものに限らず、液晶セル104のうち非駆動状態のセルの部分から出射された光が出射側の偏光板102Bを透過して出射される一方で、駆動状態のセルの部分から出射された光が出射側の偏光板102Bで遮断されるように構成された液晶表示装置も考案されている。   Here, in such a liquid crystal display device 100, the liquid crystal cell 104 has a VA (Vertical Alignment) method in which nematic liquid crystal having negative dielectric anisotropy is sealed (a liquid crystal director is schematically shown by a dotted line in the figure). As an example, the linearly polarized light transmitted through the incident-side polarizing plate 102A is phase-shifted when passing through the non-driven cell portion of the liquid crystal cell 104. And is blocked by the output-side polarizing plate 102B. On the other hand, when passing through the portion of the liquid crystal cell 104 in the driving state, the linearly polarized light is phase-shifted, and an amount of light corresponding to the amount of this phase shift is transmitted through the output-side polarizing plate 102B. Emitted. Thereby, by appropriately controlling the driving voltage of the liquid crystal cell 104 for each cell, a desired image can be displayed on the exit side polarizing plate 102B side. The liquid crystal display device 100 is not limited to the above-described light transmission and blocking modes, and light emitted from the non-driven cell portion of the liquid crystal cell 104 is emitted from the polarizing plate on the emission side. There has also been devised a liquid crystal display device configured so that light emitted from the portion of the cell in the driving state is blocked by the polarizing plate 102B on the emission side while being emitted through 102B.

ところで、上述したようなVA方式の液晶セル104のうち非駆動状態のセルの部分を直線偏光が透過する場合を考えると、液晶セル104は複屈折性を有しており、厚さ方向の屈折率と面方向の屈折率とが異なるので、入射側の偏光板102Aを透過した直線偏光のうち液晶セル104の法線に沿って入射した光は位相シフトされずに透過するものの、入射側の偏光板102Aを透過した直線偏光のうち液晶セル104の法線から傾斜した方向に入射した光は液晶セル104を透過する際に位相差が生じて楕円偏光となる。この現象は、液晶セル104内で垂直方向に配向した液晶分子が、正のCプレートとして作用することに起因したものである。なお、液晶セル104を透過する光(透過光)に対して生じる位相差の大きさは、液晶セル104内に封入された液晶分子の複屈折値や、液晶セル104の厚さ、透過光の波長等にも影響される。   By the way, considering the case where linearly polarized light is transmitted through the non-driven cell portion of the VA liquid crystal cell 104 as described above, the liquid crystal cell 104 has birefringence and is refracted in the thickness direction. Since the refractive index and the refractive index in the plane direction are different, the light incident along the normal line of the liquid crystal cell 104 out of the linearly polarized light transmitted through the polarizing plate 102A on the incident side is transmitted without being phase-shifted. Of the linearly polarized light transmitted through the polarizing plate 102 </ b> A, light incident in a direction tilted from the normal line of the liquid crystal cell 104 has a phase difference when passing through the liquid crystal cell 104 and becomes elliptically polarized light. This phenomenon is caused by the fact that the liquid crystal molecules aligned in the vertical direction in the liquid crystal cell 104 act as a positive C plate. Note that the magnitude of the phase difference generated with respect to light transmitted through the liquid crystal cell 104 (transmitted light) depends on the birefringence value of the liquid crystal molecules sealed in the liquid crystal cell 104, the thickness of the liquid crystal cell 104, and the transmitted light. It is also affected by the wavelength.

以上の現象により、液晶セル104内のあるセルが非駆動状態であり、本来的には直線偏光がそのまま透過され、出射側の偏光板102Bで遮断されるべき場合であっても、液晶セル104の法線から傾斜した方向に出射された光の一部が出射側の偏光板102Bから洩れてしまうことになる。   Due to the above phenomenon, even when a certain cell in the liquid crystal cell 104 is in a non-driven state, the linearly polarized light is essentially transmitted as it is and should be blocked by the polarizing plate 102B on the output side. A part of the light emitted in the direction inclined from the normal line leaks from the polarizing plate 102B on the emission side.

このため、上述したような従来の液晶表示装置100においては、正面から観察される画像に比べて、液晶セル104の法線から傾斜した方向から観察される画像の表示品位が主にコントラストが低下することが原因で悪化するという問題(視角依存性の問題)があった。   For this reason, in the conventional liquid crystal display device 100 as described above, the display quality of the image observed from the direction inclined from the normal line of the liquid crystal cell 104 is mainly lower than the image observed from the front. There was a problem (problem of viewing angle dependency) that it was worsened by doing.

上述したような従来の液晶表示装置100における視角依存性の問題を改善するため、現在までに様々な技術が開発されており、その一つとして、例えば特許文献1または特許文献2に開示されているように、コレステリック規則性の分子構造を有する位相差層(複屈折性を示す位相差層)を用い、このような位相差層を液晶セルと偏光板との間に配置することにより光学補償を行うようにした液晶表示装置が知られている。
ここで、コレステリック規則性の分子構造を有する位相差光学素子では、λ=nav・p(p:液晶分子の螺旋構造における螺旋(ヘリカル)ピッチ、nav:螺旋軸に直交する平面内での平均屈折率)で表される選択反射波長が、例えば特許文献1または特許文献2に開示されているように、透過光の波長よりも小さくなる、または大きくなるように調整している。
Various techniques have been developed so far to improve the viewing angle dependency problem in the conventional liquid crystal display device 100 as described above, and one of them is disclosed in, for example, Patent Document 1 or Patent Document 2. As shown in the figure, a phase difference layer having a cholesteric regular molecular structure (a phase difference layer exhibiting birefringence) is used, and such a phase difference layer is disposed between the liquid crystal cell and the polarizing plate. There has been known a liquid crystal display device configured to perform the above.
Here, in a phase difference optical element having a cholesteric regular molecular structure, λ = nav · p (p: helical pitch in the helical structure of liquid crystal molecules, nav: average refraction in a plane perpendicular to the helical axis For example, as disclosed in Patent Document 1 or Patent Document 2, the selective reflection wavelength represented by (rate) is adjusted to be smaller or larger than the wavelength of transmitted light.

このような位相差層を有する位相差フィルムとしては、棒状化合物を一定方向に配列させる配向規制力を有する配向膜と、配向膜上に形成され、液晶材料等の屈折率異方性を有する材料を含む位相差層と、を有するものが用いられている。また、配向膜への配向規制力の付与方法としては、通常、配向膜にラビング処理(摩擦)を施すことにより行われている。
しかしながら、このようなラビング処理による配向規制力を付与する方法では、配向膜表面のラビング処理により、微細な粉塵や静電気を生じ、その結果、クリーンな環境を要求される液晶ディスプレイ等の表示装置の製造の歩留まりを低下させる原因となるといった問題があった。
また、特許文献3では、配向膜として光配向材料を含む光配向膜を用いる方法が開示されている。このような方法によれば、粉塵や静電気の発生のないものとすることができるが、光配向材料が非常に高価であり、また、このような光配向膜を配向させるのに用いる偏光の紫外線照射装置も高価であることから、高コストなものとなるといった問題があった。また、ラビング処理により配向規制力を付与されたものと比較し、配向規制力が低い傾向があるといった問題があった。
As a retardation film having such a retardation layer, an alignment film having an alignment regulating force for arranging rod-shaped compounds in a certain direction, and a material having refractive index anisotropy such as a liquid crystal material formed on the alignment film And a phase difference layer including the same. In addition, as a method for imparting alignment regulating force to the alignment film, the alignment film is usually subjected to rubbing treatment (friction).
However, in such a method of imparting alignment regulating force by rubbing treatment, the rubbing treatment on the alignment film surface generates fine dust and static electricity, and as a result, a display device such as a liquid crystal display that requires a clean environment is required. There has been a problem that the manufacturing yield is reduced.
Patent Document 3 discloses a method using a photo-alignment film containing a photo-alignment material as the alignment film. According to such a method, dust and static electricity can be generated, but the photo-alignment material is very expensive, and the polarized ultraviolet light used for aligning such a photo-alignment film Since the irradiation apparatus is also expensive, there is a problem that it is expensive. In addition, there is a problem in that the orientation regulating force tends to be lower than that given by the rubbing treatment.

特開平3−67219号公報JP-A-3-67219 特開平4−322223号公報JP-A-4-322223 特開2005−49865号公報JP 2005-49865 A

本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、低コストかつ粉塵や静電気の発生が少なく、優れた配向規制力を有する配向膜の製造方法を提供することを主目的とするものである。   The present invention has been made in view of such a situation, and has as its main object to provide a method for producing an alignment film that has low cost, little dust and static electricity, and has excellent alignment regulating force. is there.

上記課題を解決するために本発明は、微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された配向層用原版上に、配向層形成用樹脂組成物からなる配向層形成用層を接触させた後、加圧し、上記配向層形成用層に上記配向層用原版表面の形状を賦型する賦型工程と、上記賦型工程後に、上記配向層形成用層を硬化させる硬化工程および上記配向層形成用層を上記配向層用原版から剥離する剥離工程と、を有することを特徴とする配向膜の製造方法を提供する。   In order to solve the above problems, the present invention contacts an alignment layer forming layer made of an alignment layer forming resin composition on an alignment layer original plate in which minute line-shaped uneven structures are randomly formed in a substantially constant direction. Then, pressurizing and forming a shape of the surface of the alignment layer precursor on the alignment layer forming layer, a curing step of curing the alignment layer forming layer after the forming step, and the above And a peeling step of peeling the alignment layer forming layer from the alignment layer original plate.

本発明によれば、微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された配向層用原版を用いることにより、棒状化合物を一定方向に配列できる優れた配向規制力を有する配向層を有する配向膜を、低コストで製造することができ、また、製造時に粉塵や静電気の発生が少ないものとすることができる。   According to the present invention, an alignment layer having an excellent alignment regulating force capable of arranging rod-shaped compounds in a certain direction is obtained by using an alignment layer original plate in which minute line-shaped uneven structures are randomly formed in a substantially constant direction. The alignment film can be manufactured at a low cost, and dust and static electricity are less generated during manufacturing.

本発明においては、上記配向層用原版が、ロール版であることが好ましい。連続的に配向層形成用層に賦型することを可能とし、配向膜を容易かつ大量に形成することができるからである。   In the present invention, the alignment layer original plate is preferably a roll plate. This is because it can be continuously formed into an alignment layer forming layer, and an alignment film can be formed easily and in large quantities.

本発明においては、上記剥離工程が、上記硬化工程後に行われることが好ましい。上記硬化工程が、上記原版および配向層形成用層を接触させた状態で行われることにより、上記配向層形成用層に賦型された原版表面の形状を、安定的に硬化させることができ、得られる配向層表面の形状を高精度なものとすることができるからである。   In this invention, it is preferable that the said peeling process is performed after the said hardening process. By performing the curing step in a state where the original plate and the alignment layer forming layer are in contact with each other, the shape of the original plate surface molded into the alignment layer forming layer can be stably cured, This is because the shape of the surface of the obtained alignment layer can be made highly accurate.

本発明においては、上記賦型工程が、上記配向層用原版上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層を形成する充填処理と、上記配向層形成用層上に透明フィルム基材を配置する配置処理と、を行った後に、加圧するもの、透明フィルム基材上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層を形成する配向層形成用層形成処理と、上記配向層形成用層を、上記配向層用原版上に接触させる接触処理と、を行った後に、加圧するもの、または上記配向層用原版上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層を形成する充填処理、を行った後に、加圧するものであることが好ましい。
棒状化合物を一定方向に配列できる配向層を容易かつ安定的に形成することができるからである。
In the present invention, the molding step is performed by coating the alignment layer forming resin composition on the alignment layer original plate to form the alignment layer forming layer, and the alignment layer forming layer. After performing the arrangement | positioning process which arrange | positions a transparent film base material on, what pressurizes, apply | coat the said alignment layer formation resin composition on a transparent film base material, and form the said alignment layer formation layer A layer forming process for forming an alignment layer and a contact process for bringing the alignment layer forming layer into contact with the alignment layer original plate, followed by pressing, or the alignment layer on the alignment layer original plate It is preferable to apply pressure after applying the forming resin composition and performing the filling process for forming the alignment layer forming layer.
This is because an alignment layer capable of arranging rod-shaped compounds in a certain direction can be formed easily and stably.

本発明においては、微小なライン状凹凸構造の高さが5nm〜5μmの範囲内であることが好ましい。棒状化合物を安定的に配列させることができるからである。   In the present invention, the height of the fine line-shaped uneven structure is preferably in the range of 5 nm to 5 μm. This is because rod-like compounds can be stably arranged.

本発明においては、上記配向層形成用樹脂組成物の粘度が、5mPa・s〜200000mPa・sの範囲内であることが好ましい。棒状化合物を一定方向に配列できる配向層を安定的に形成することができるからである。   In the present invention, the viscosity of the alignment layer forming resin composition is preferably in the range of 5 mPa · s to 200000 mPa · s. This is because an alignment layer in which rod-shaped compounds can be arranged in a certain direction can be stably formed.

本発明においては、上記配向層形成用樹脂組成物が紫外線硬化樹脂組成物であることが好ましい。棒状化合物を一定方向に配列できる配向層を容易に形成することができるからである。   In the present invention, the alignment layer-forming resin composition is preferably an ultraviolet curable resin composition. This is because it is possible to easily form an alignment layer in which rod-shaped compounds can be arranged in a certain direction.

本発明は、上述の配向膜の製造方法により形成された配向膜に含まれる配向層上に、屈折率異方性を有する棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、上記位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記配向層に形成された微小なライン状凹凸構造の方向に沿って配列させる配向工程と、を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法を提供する。   The present invention includes a coating step of applying a retardation layer forming coating solution containing a rod-shaped compound having refractive index anisotropy onto an alignment layer included in the alignment film formed by the above-described alignment film manufacturing method. An alignment step in which the rod-shaped compound contained in the coating film of the retardation layer forming coating solution is arranged along the direction of the minute line-shaped uneven structure formed in the alignment layer, A method for producing a retardation film is provided.

本発明によれば、上述の配向膜の製造方法により製造された配向膜を用いることにより、低コストかつ粉塵や静電気の少ない位相差フィルムを得ることができる。   According to the present invention, by using the alignment film manufactured by the above-described alignment film manufacturing method, it is possible to obtain a retardation film with low cost and less dust and static electricity.

本発明の配向膜の製造方法によれば、低コストかつ粉塵や静電気の発生が少なく、優れた配向規制力を有する配向膜を得ることができるという効果を奏する。   According to the method for manufacturing an alignment film of the present invention, there is an effect that an alignment film having an excellent alignment regulating force can be obtained at low cost with little generation of dust and static electricity.

本発明の配向膜の製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the oriented film of this invention. 本発明における微小なライン状凹凸構造を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the minute line-shaped uneven structure in this invention. 本発明における微小なライン状凹凸構造を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the minute line-shaped uneven structure in this invention. 本発明における微小なライン状凹凸構造を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the minute line-shaped uneven structure in this invention. 本発明における微小なライン状凹凸構造を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the minute line-shaped uneven structure in this invention. 本発明における加圧方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the pressurization method in this invention. 本発明における加圧方法を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the pressurization method in this invention. 本発明に用いられる透明フィルム基材の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the transparent film base material used for this invention. 本発明の位相差フィルムの製造方法の一例を示す工程図である。It is process drawing which shows an example of the manufacturing method of the retardation film of this invention. 本発明における他の工程を説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the other process in this invention. 本発明により得られる位相差フィルムを説明する説明図である。It is explanatory drawing explaining the retardation film obtained by this invention. 従来の液晶表示装置を示す概略分解斜視図である。It is a general | schematic disassembled perspective view which shows the conventional liquid crystal display device.

本発明は、配向膜の製造方法およびそれを用いた位相差フィルムの製造方法に関するものである。
以下、本発明の配向膜の製造方法および位相差フィルムの製造方法について詳細に説明する。
The present invention relates to a method for producing an alignment film and a method for producing a retardation film using the same.
Hereinafter, the method for producing an alignment film and the method for producing a retardation film of the present invention will be described in detail.

A.配向膜の製造方法
まず、本発明の配向膜の製造方法について説明する。
本発明の配向膜の製造方法は、微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された配向層用原版上に、配向層形成用樹脂組成物からなる配向層形成用層を接触させた後、加圧し、上記配向層形成用層に上記配向層用原版表面の形状を賦型する賦型工程と、上記賦型工程後に、上記配向層形成用層を硬化させる硬化工程および上記配向層形成用層を上記配向層用原版から剥離する剥離工程と、を有することを特徴とするものである。
A. First, a method for producing an alignment film of the present invention will be described.
In the method for producing an alignment film of the present invention, an alignment layer forming layer made of an alignment layer forming resin composition is brought into contact with an alignment layer original plate in which minute line-shaped uneven structures are randomly formed in a substantially constant direction. Then, pressurizing to mold the shape of the alignment layer precursor surface on the alignment layer forming layer, and after the shaping step, curing the alignment layer forming layer and the alignment And a peeling step of peeling the layer forming layer from the alignment layer original plate.

このような本発明の配向膜の製造方法について図を参照しながら説明する。図1は、本発明の配向膜の製造方法の一例を示す工程図である。まず、図1(a)に例示するように、透明フィルム基材1上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層2´を形成し、上記配向層形成用層2´を、微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成されたロール版(原版)10上に配置することにより接触させた後、加圧ロールにて加圧することにより(図1(b))、上記配向層形成用層2´に、ロール版10の微小なライン状凹凸構造を賦型し、その後、配向層形成用層2´に対してロール版10上に接触させた状態で紫外線を照射し(図1(c))、配向層形成用層を硬化させ、上記配向層形成用層2´を上記ロール版10から剥離することにより、透明フィルム基材1および上記透明フィルム基材1上に形成された配向層2を有する配向膜20を得るものである(図1(d))。
なお、この例においては、図1(a)〜(b)が賦型工程であり、図1(c)が硬化工程であり、図1(d)が剥離工程である。
Such a method for producing an alignment film of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a process diagram showing an example of a method for producing an alignment film of the present invention. First, as illustrated in FIG. 1A, the alignment layer forming resin composition is applied on the transparent film substrate 1 to form the alignment layer forming layer 2 ′, and the alignment layer forming layer is formed. The layer 2 ′ is brought into contact by being placed on a roll plate (original plate) 10 in which minute line-shaped uneven structures are randomly formed in a substantially constant direction, and then pressed by a pressure roll (FIG. 1). (B)) The fine line-shaped uneven structure of the roll plate 10 was formed on the alignment layer forming layer 2 ′, and then contacted on the roll plate 10 with respect to the alignment layer forming layer 2 ′. By irradiating with ultraviolet rays in the state (FIG. 1C), the alignment layer forming layer is cured, and the alignment layer forming layer 2 ′ is peeled from the roll plate 10 to thereby form the transparent film substrate 1 and the transparent film. An alignment film 20 having an alignment layer 2 formed on the film substrate 1 is obtained (FIG. 1). d)).
In this example, FIGS. 1A to 1B are molding steps, FIG. 1C is a curing step, and FIG. 1D is a peeling step.

本発明によれば、微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された配向層用原版を用いることにより、棒状化合物を所望の方向に配列させる優れた配向規制力が形成された配向層を有する配向膜を容易かつ低コストで形成することができる。
また、配向層形成用層自体をラビング処理するものではないので、製造時に粉塵や静電気の発生が少ないものとすることができる。
According to the present invention, by using an alignment layer original plate in which minute line-shaped concavo-convex structures are randomly formed in a substantially constant direction, an alignment in which excellent alignment regulating force for arranging rod-shaped compounds in a desired direction is formed. An alignment film having a layer can be formed easily and at low cost.
Further, since the alignment layer forming layer itself is not subjected to rubbing treatment, generation of dust and static electricity during production can be reduced.

本発明の配向膜の製造方法は、少なくとも賦型工程、硬化工程、および剥離工程を含むものである。
以下、本発明の配向膜の製造方法の各工程について詳細に説明する。
The method for producing an alignment film of the present invention includes at least a shaping step, a curing step, and a peeling step.
Hereinafter, each process of the manufacturing method of the oriented film of this invention is demonstrated in detail.

1.賦型工程
本発明の製造方法における賦型工程は、微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された配向層用原版上に、配向層形成用樹脂組成物からなる配向層形成用層を接触させた後、加圧し、上記配向層形成用層に上記配向層用原版表面の形状を賦型する工程である。
1. Forming step The forming step in the production method of the present invention is for forming an alignment layer comprising an alignment layer forming resin composition on an alignment layer original plate in which minute line-shaped uneven structures are randomly formed in a substantially constant direction. In this step, the layers are brought into contact with each other and then pressurized, and the shape of the alignment layer original plate surface is formed on the alignment layer forming layer.

(1)配向層用原版
本工程に用いられる配向層用原版(以下、単に原版とする場合がある。)は、微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成されたものである。
本工程においては、このような微小なライン状凹凸構造を、上記配向層形成用層に加圧により賦型することにより、この形状に対応した微小なライン状凹凸構造を表面に有し、棒状化合物を一定方向に配列できる配向層を形成することができる。
(1) Alignment layer original plate The alignment layer original plate (hereinafter sometimes referred to simply as the original plate) used in this step is one in which minute line-shaped uneven structures are randomly formed in a substantially constant direction.
In this step, by forming such a fine line-shaped uneven structure on the alignment layer forming layer by pressurization, the surface has a fine line-shaped uneven structure corresponding to this shape. An alignment layer capable of arranging the compounds in a certain direction can be formed.

このような原版の形状としては、板状であっても良いが、ロール状であること、すなわち、原版がロール版であることが好ましい。連続的に配向層形成用層に賦型することを可能とし、配向膜を容易かつ大量に形成することができるからである。   The shape of the original plate may be a plate shape, but is preferably a roll shape, that is, the original plate is preferably a roll plate. This is because it can be continuously formed into an alignment layer forming layer, and an alignment film can be formed easily and in large quantities.

本工程における原版に形成される微小なライン状凹凸構造は、加圧により配向層形成用層に賦型されるものであり、本発明により形成される配向層上に棒状化合物を含む位相差層を形成した際に、上記位相差層中に含まれる棒状化合物を一定方向に配列させるために形成されるものである。   The fine line-shaped uneven structure formed on the original plate in this step is formed into an alignment layer forming layer by pressing, and a retardation layer containing a rod-shaped compound on the alignment layer formed according to the present invention. Is formed in order to align the rod-shaped compounds contained in the retardation layer in a certain direction.

本発明における微小なライン状凹凸構造は、略一定方向にランダムに形成されたものであり、例えば、表面にラビング処理がなされた場合等に形成されるような微小な傷のようなライン状凹凸構造が、略一定方向に形成されたものである。   The minute line-like uneven structure in the present invention is randomly formed in a substantially constant direction. For example, the line-like unevenness such as a minute scratch formed when the surface is rubbed. The structure is formed in a substantially constant direction.

本工程における微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成される場合、ライン状凹凸構造の幅、高さおよび周期としては、棒状化合物を配列させることができる範囲内であれば特に限定されるものではない。なかでも本発明においては微小なライン状凹凸構造の幅は、1nm〜100μmの範囲内であることが好ましく、なかでも、1nm〜50μmの範囲内であることがより好ましく、特に、1nm〜10μmの範囲内であることがさらに好ましい。
また、微小なライン状凹凸構造の高さは、5nm〜5μmの範囲内であることが好ましく、なかでも、5nm〜3μmの範囲内であることがより好ましく、特に、5nm〜1μmの範囲内であることが好ましい。
さらに、微小なライン状凹凸構造の周期は0.5nm〜50nmの範囲内であることが好ましく、なかでも0.5nm〜30nmの範囲内であることが好ましく、特に、0.5nm〜10nmの範囲内であることが好ましい。微小なライン状凹凸構造が上述のサイズであることにより、安定的に棒状化合物を配列させることができるからである。
When the minute line-shaped uneven structure in this step is randomly formed in a substantially constant direction, the width, height, and period of the line-shaped uneven structure are particularly limited as long as the rod-shaped compound can be arranged. Is not to be done. In particular, in the present invention, the width of the fine line-shaped uneven structure is preferably in the range of 1 nm to 100 μm, more preferably in the range of 1 nm to 50 μm, particularly 1 nm to 10 μm. More preferably, it is within the range.
The height of the fine line-shaped uneven structure is preferably within a range of 5 nm to 5 μm, more preferably within a range of 5 nm to 3 μm, and particularly within a range of 5 nm to 1 μm. Preferably there is.
Further, the period of the fine line-shaped uneven structure is preferably in the range of 0.5 nm to 50 nm, more preferably in the range of 0.5 nm to 30 nm, and particularly in the range of 0.5 nm to 10 nm. It is preferable to be within. It is because a rod-shaped compound can be stably arranged because the minute line-shaped uneven structure has the above-mentioned size.

ここで、微小なライン状凹凸構造の高さ、幅、および周期はそれぞれ図2におけるl、m、nで示される距離を意味する。   Here, the height, width, and period of the minute line-shaped concavo-convex structure mean distances indicated by l, m, and n in FIG.

本発明における微小なライン状凹凸構造の形成方向としては、本発明の製造方法により製造される配向膜の種類により適宜設定されるものである。
本工程においては、原版がロール版である場合には、ロールの回転方向に対して、0°、45°、90°、135°等とすることができる。
図3は、微小なライン状凹凸構造が形成された方向が45°、図4は0°、図5は90°の場合のロール版表面を示すものである。
なお、図3〜図5中の符号については、図1のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。また、図中の矢印は、微小なライン状凹凸構造の形成方向を示すものである。
The direction in which the fine line-shaped concavo-convex structure is formed in the present invention is appropriately set depending on the type of alignment film manufactured by the manufacturing method of the present invention.
In this step, when the original plate is a roll plate, it can be set to 0 °, 45 °, 90 °, 135 °, etc. with respect to the rotation direction of the roll.
FIG. 3 shows the roll plate surface when the direction in which the fine line-shaped uneven structure is formed is 45 °, FIG. 4 is 0 °, and FIG. 5 is 90 °.
3 to 5 indicate the same members as those in FIG. 1, and a description thereof will be omitted here. Moreover, the arrow in a figure shows the formation direction of a fine line-shaped uneven structure.

本工程における原版の材料としては、上述の表面形状を精度良く形成できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、金属等の無機材料であっても良く、樹脂等を用いるものであっても良いが、金属材料であることが好ましい。   The material of the original plate in this step is not particularly limited as long as it can form the above-mentioned surface shape with high accuracy. For example, it may be an inorganic material such as a metal, and a resin or the like is used. It may be present, but is preferably a metal material.

本工程に用いられる材料としては、表面に微小なライン状凹凸構造を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、ニッケル、ステンレス、ブリキ、鉄、銅、銀、金、クロム、亜鉛、珪素、チタン、タンタル、スズ、アルミ、ニッケル−リンおよびこれらの合金、アルマイト等の金属材料、酸化チタン(TiO、Ti)、酸化タンタル(Ta)、酸化ケイ素(SiO、SiO)、酸化錫(SnO)、酸化アルミニウム(Al)、酸化クロム(Cr)、チタン酸バリウム(BaTiO)、酸化インジウム(In)、酸化亜鉛(ZnO、ZnO)のような金属酸化物、TiC、SiC、BC、WCのような炭化物、TiN、SiN、CrN、BN、AIN、CN、ZrNのような窒化物、フッ化バリウム(BaF)、フッ化マグネシウム(MgF)、酸化マグネシウム(MgO)、ダイヤモンドライクカーボン(DLC)、グラッシーカーボン、セラミック、窒化珪素、窒化炭素等の無機材料を挙げることができ、なかでもニッケル、銅、クロム、ステンレス、ダイヤモンドライクコーティング、TiC、SiC、BC、WCのような炭化物、TiN、SiN、CrN、BN、AIN、CN、ZrNのような窒化物であることが好ましい。表面に微小なライン状凹凸構造を容易に形成できるからである。また、剥離性に優れるため、本工程後の配向層形成用層を容易に剥離できるからである。 The material used in this step is not particularly limited as long as a fine line-shaped uneven structure can be formed on the surface, but nickel, stainless steel, tinplate, iron, copper, silver, gold, chromium, zinc , Silicon, titanium, tantalum, tin, aluminum, nickel-phosphorous and alloys thereof, metal materials such as alumite, titanium oxide (TiO 2 , Ti 3 O 5 ), tantalum oxide (Ta 2 O 5 ), silicon oxide (SiO 2 ) , SiO 2 ), tin oxide (SnO 2 ), aluminum oxide (Al 2 O 3 ), chromium oxide (Cr 2 O 3 ), barium titanate (BaTiO 3 ), indium oxide (In 2 O 3 ), zinc oxide ( ZnO, metal oxides such as ZnO 2), TiC, SiC, BC, carbides such as WC, TiN, SiN, CrN, BN, AIN, CN, Zr Nitrides such as, barium fluoride (BaF 2), magnesium fluoride (MgF 2), magnesium oxide (MgO), diamond-like carbon (DLC), glassy carbon, ceramic, silicon nitride, an inorganic material carbon nitride Among them, nickel, copper, chromium, stainless steel, diamond-like coating, carbide like TiC, SiC, BC, WC, nitride like TiN, SiN, CrN, BN, AIN, CN, ZrN Preferably there is. This is because a fine line-shaped uneven structure can be easily formed on the surface. Moreover, since it is excellent in peelability, the alignment layer forming layer after this step can be easily peeled off.

本工程における基材の形状としては、表面に微小なライン状凹凸構造を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、板状、ロール形状、スリーブ形状等とすることができ、なかでも、ロール形状、スリーブ形状等であることが好ましく、特に、スリーブ形状であることが好ましい。ロール形状またはスリーブ形状等のロール状であることにより、原版をロール版とすることができ、原版を回転しながら連続的に配向層形成用層に賦型可能なもの、すなわち、容易かつ大量に配向膜を形成可能なものとすることができ製造効率の高いものとすることができるからである。また、本発明においては、特別な設備は必要としないため比較的容易に安価に製作できるからである。
また、スリーブ形状であることにより、本発明の原版を用いて、配向膜を製造効率高く製造することが可能となるからである。また、スリーブ形状の原版は、ロール形状のものに比べて軽量であり、取扱いが容易となるといった利点を有するからである。
ここで、ロール形状の基材としては、具体的には、軸付ロール、軸なしパイプ等を挙げることができる。ここで、軸なしパイプとは、その厚みが3000μm以上である円筒形上の基材を指すものである。
また、スリーブ形状とはシームレスの基材の帯状体を表し、上記スリーブ形状の基材は空気圧力や応力により容易に変形させることができるものであり、具体的にはその厚みが1000μm以下の円筒形状の基材を指すものである。
本工程においては、ロール形状またはスリーブ形状等のロール状の場合には、継ぎ目のないシームレスであることが好ましいが、板状の基材を円筒状にした継ぎ目を有するものも用いることができる。
The shape of the base material in this step is not particularly limited as long as a fine line-shaped uneven structure can be formed on the surface, but it can be a plate shape, a roll shape, a sleeve shape, etc. However, a roll shape, a sleeve shape, or the like is preferable, and a sleeve shape is particularly preferable. By being in a roll shape such as a roll shape or a sleeve shape, the original plate can be made into a roll plate, and can be formed into an alignment layer forming layer continuously while rotating the original plate, that is, easily and in large quantities This is because the alignment film can be formed and the manufacturing efficiency can be increased. Further, in the present invention, since no special equipment is required, it can be manufactured relatively easily and inexpensively.
In addition, because of the sleeve shape, the alignment film can be produced with high production efficiency using the original plate of the present invention. Further, the sleeve-shaped original plate is advantageous in that it is lighter than the roll-shaped original plate and easy to handle.
Here, specifically as a roll-shaped base material, a roll with a shaft, a pipe without a shaft, etc. can be mentioned. Here, the shaftless pipe refers to a cylindrical base material having a thickness of 3000 μm or more.
The sleeve shape represents a strip of a seamless base material, and the sleeve-shaped base material can be easily deformed by air pressure or stress, and specifically, a cylinder having a thickness of 1000 μm or less. It refers to a shaped substrate.
In this step, in the case of a roll shape such as a roll shape or a sleeve shape, it is preferable that the seamless shape is seamless, but a plate-like base material having a cylindrical seam can also be used.

また、このような原版の形成方法としては、微小なライン状凹凸構造を精度良く形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、例えば、基材を準備し、前記基材の表面を略一定方向に研磨することにより微小なライン状凹凸構造を形成する研磨処理を行う方法を挙げることができる。   In addition, the method for forming such an original plate is not particularly limited as long as it is a method capable of forming a fine line-shaped uneven structure with high accuracy. For example, a base material is prepared, and the surface of the base material is prepared. A method of performing a polishing process for forming a fine line-shaped uneven structure by polishing in a substantially constant direction can be given.

上記研磨方法としては、微小なライン状凹凸構造を棒状化合物を配列可能に形成できる方法であれば特に限定されるものではないが、砥石研磨、ペーパー研磨、テープ研磨、サンドブラスト法、ショットブラスト法、グリットブラスト法、ガラスビーズブラスト法等のブラスト法、ナイロン、ポリプロピレン、塩化ビニル樹脂などの合成繊維からなる合成樹脂毛、不織布、動物毛、スチールワイヤ等のブラシ材を用いるブラシグレイニング法、金属ワイヤーで引っかくワイヤーグレイニング法、研磨剤を含有するスラリー液を供給しながらブラシ研磨する方法(ブラシグレイニング法)、ボールグレイン法、液体ホーニング法等のバフ研磨法、ショットピーニング法、回転型バレルや振動型バレルを用いたバレル研磨法、リューター研磨法、砥粒流動研磨法、電解研磨法、化学研磨法、化学複合研磨法、電解複合研磨法、化学機械研磨法、CMP研磨法等を挙げることができる。本工程においては、なかでも、研磨カスが溜まらない方法であることが好ましく、特に、テープ研磨法、ブラシグレイニング法等であることが好ましい。微小なライン状凹凸構造を精度良く形成できるからである。また、研磨カスが残存することによる賦型不良を防止することができるからである。   The polishing method is not particularly limited as long as it is a method capable of forming a fine line-shaped uneven structure so that rod-like compounds can be arranged, but grinding wheel polishing, paper polishing, tape polishing, sand blasting method, shot blasting method, Blasting method such as grit blasting method, glass bead blasting method, brush graining method using brush materials such as synthetic resin hair, nonwoven fabric, animal hair, steel wire such as nylon, polypropylene, vinyl chloride resin, metal wire Wire graining method, brush polishing method while supplying slurry containing abrasive (brush graining method), ball grain method, buffing method such as liquid honing method, shot peening method, rotary barrel Barrel polishing method using a vibrating barrel, Luther polishing method, Grain flow polishing, electrolytic polishing, chemical polishing, chemical composite polishing, composite electrolytic polishing, chemical mechanical polishing method and a CMP polishing method or the like. In this step, it is particularly preferable that the polishing residue does not accumulate. In particular, a tape polishing method, a brush graining method, or the like is preferable. This is because a minute line-shaped uneven structure can be formed with high accuracy. Further, it is possible to prevent molding defects due to the remaining polishing residue.

(2)配向層形成用層
本工程に用いられる配向層形成用層は、配向層形成用樹脂組成物からなるものである。
(2) Orientation layer formation layer The orientation layer formation layer used for this process consists of a resin composition for orientation layer formation.

本工程に用いられる配向層形成用樹脂組成物としては、上記原版上に接触させた後、加圧することにより原版の表面形状を賦型できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、電離放射線硬化性樹脂組成物、熱硬化性樹脂組成物、電子線硬化性樹脂組成物、熱可塑性樹脂組成物等を挙げることができる。
本工程においてはこれらの何れの構成材料であっても好適に用いることができるが、なかでも電離放射線硬化性樹脂組成物が用いられることが好ましい。電離放射線硬化性樹脂組成物が用いられることにより、生産性の高いものにできるからである。なお、配向層形成用樹脂組成物として、電離放射線硬化性樹脂組成物が用いられた場合、本発明により形成される配向層は硬化された電離放射線硬化性樹脂組成物からなることになる。
The resin composition for forming an alignment layer used in this step is not particularly limited as long as the surface shape of the original plate can be shaped by applying pressure after contacting the original plate. Examples include ionizing radiation curable resin compositions, thermosetting resin compositions, electron beam curable resin compositions, and thermoplastic resin compositions.
Any of these constituent materials can be suitably used in this step, but among these, an ionizing radiation curable resin composition is preferably used. This is because by using the ionizing radiation curable resin composition, a product with high productivity can be obtained. When an ionizing radiation curable resin composition is used as the alignment layer forming resin composition, the alignment layer formed according to the present invention is composed of a cured ionizing radiation curable resin composition.

本発明に用いられる電離放射線硬化性樹脂組成物の具体例としては、例えば、ウレタンアクリレート,エポキシアクリレート,ポリエステルアクリレート,ポリエーテルアクリレート,メラミンアクリレート等のアクリロイル基を有する重合性オリゴマー,モノマーと、アクリル酸,アクリルアミド,アクリロニトリル,スチレン等重合性ビニル基を有する重合性オリゴマー,モノマー等の単体あるいは配合したものに、必要に応じて増感剤等の添加剤を加えたものに光重合開始剤を加えたもの等を挙げることができる。また、必要に応じて溶媒を含むものであっても良い。   Specific examples of the ionizing radiation curable resin composition used in the present invention include, for example, polymerizable oligomers and monomers having an acryloyl group such as urethane acrylate, epoxy acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, melamine acrylate, and acrylic acid. , Acrylamide, Acrylonitrile, Styrene, Polymerizable oligomers with polymerizable vinyl groups, Monomers, etc., or a mixture of them, and photopolymerization initiators added to additives such as sensitizers as necessary The thing etc. can be mentioned. Moreover, you may contain a solvent as needed.

このような溶媒としては、上記モノマー等を均一に溶解または分散できるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶媒、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン等のエーテル系溶媒、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶媒、N,N−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶媒、シクロヘキサン等のアノン系溶媒、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶媒を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、本工程に用いられる溶媒は、1種類でもよく、2種類以上の溶媒の混合溶媒でもよい。   Such a solvent is not particularly limited as long as it can uniformly dissolve or disperse the monomer and the like. Examples thereof include hydrocarbon solvents such as benzene and hexane, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone. Ketone solvents, ether solvents such as tetrahydrofuran and 1,2-dimethoxyethane, alkyl halide solvents such as chloroform and dichloromethane, ester solvents such as methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, Examples include amide solvents such as N, N-dimethylformamide, sulfoxide solvents such as dimethyl sulfoxide, anone solvents such as cyclohexane, and alcohol solvents such as methanol, ethanol, and propanol. That is, the present invention is not limited to these. Further, the solvent used in this step may be one kind or a mixed solvent of two or more kinds of solvents.

また、熱硬化性樹脂組成物および熱可塑性樹脂組成物としては、アクリル樹脂、フッ素系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、シクロオレフィン樹脂、シクロオレフィンコポリマー樹脂等を含むものを用いることができる。   Moreover, as a thermosetting resin composition and a thermoplastic resin composition, what contains an acrylic resin, a fluorine resin, a polyester resin, a polycarbonate resin, a cycloolefin resin, a cycloolefin copolymer resin etc. can be used.

また、本工程に用いられる配向層形成用樹脂組成物は、必要に応じて、酸素に対する変化を抑制するための酸化防止剤、光に対する変化を抑制するための光安定化剤、紫外性を吸収する紫外線吸収剤、粘度を調整するための粘度調節剤、屈折率を調整するための屈折率調整剤、賦型性を向上させるためのフッ素系またはシリコン系潤滑剤等を含むものであっても良い。   In addition, the alignment layer forming resin composition used in this step absorbs, as necessary, an antioxidant for suppressing changes to oxygen, a light stabilizer for suppressing changes to light, and ultraviolet light. Even if it contains an ultraviolet absorber, a viscosity modifier for adjusting the viscosity, a refractive index modifier for adjusting the refractive index, a fluorine-based or silicon-based lubricant for improving moldability, etc. good.

本工程に用いられる配向層形成用樹脂組成物の粘度としては、上記原版表面の形状を配向層形成用層に加圧により賦型することができるものであれば特に限定されるものではないが、例えば、25℃において、5mPa・s〜200000mPa・sの範囲内であることが好ましく、なかでも、10mPa・s〜100000mPa・sの範囲内であること好ましく、特に、30mPa・s〜3000mPa・sの範囲内であることがさらに好ましい。
また、溶融型の樹脂の場合には、例えば、190℃におけるメルトフローインデックス(MFI)が、0.1g/10分以上であることが好ましく、なかでも1.0g/10分以上であることが好ましく、特に5.0g/10分以上であることが好ましい。上記粘度が上述の範囲内であることにより賦型性に優れたものとすることができるからである。
The viscosity of the alignment layer forming resin composition used in this step is not particularly limited as long as the shape of the original plate surface can be molded into the alignment layer forming layer by pressing. For example, at 25 ° C., it is preferably within a range of 5 mPa · s to 200000 mPa · s, more preferably within a range of 10 mPa · s to 100000 mPa · s, particularly 30 mPa · s to 3000 mPa · s. More preferably, it is in the range.
In the case of a melt-type resin, for example, the melt flow index (MFI) at 190 ° C. is preferably 0.1 g / 10 min or more, and in particular, 1.0 g / 10 min or more. Particularly preferably 5.0 g / 10 min or more. This is because when the viscosity is within the above range, the moldability can be improved.

本工程に用いられる配向層形成用層の厚みとしては、上記原版の表面形状を精度よく賦型できるものであれば特に限定されるものではなく、配向層とした際の厚みが一般的な位相差フィルムの配向層と同程度となるものとすることができる。具体的には、0.5μm〜20μmの範囲内とすることができる。   The thickness of the alignment layer forming layer used in this step is not particularly limited as long as the surface shape of the original plate can be accurately shaped. It can be the same as the orientation layer of the phase difference film. Specifically, it can be in the range of 0.5 μm to 20 μm.

(3)賦型工程
本工程は、上記原版上に、配向層形成用樹脂組成物からなる配向層形成用層を接触させた後、加圧し、上記配向層形成用層に上記原版表面の形状を賦型する工程である。
(3) Molding step In this step, the alignment layer forming layer made of the alignment layer forming resin composition is brought into contact with the original plate and then pressed, and the shape of the surface of the original plate is applied to the alignment layer forming layer. Is a process of shaping.

本工程において加圧した際に付与される圧力としては、配向層形成用層に上記原版の表面形状を安定的に賦型できるものであれば特に限定されるものではなく、本工程に用いられる配向層形成用樹脂組成物の粘度等に応じて適宜選択されるものであり、上記配向層形成用樹脂組成物および上記原版を用いて、上記原版の形状を上記配向層形成用層にどの程度賦型することができるか、圧力を調整しながら繰り返し実験を行うことにより見出されるものである。例えば、上述した粘度を有する上記配向層形成用樹脂組成物を用いた場合、上記圧力は、10MPa/cm〜2000MPa/cmの範囲内であることが好ましく、なかでも100MPa/cm〜1000MPa/cmの範囲内であることが好ましく、特に、150MPa/cm〜500MPa/cmの範囲内であることが好ましい。上記圧力が低すぎると、上記配向層形成用層が上記原版にあまり入り込まず、上記微小なライン状凹凸構造における凸構造の高さが十分ではないものとなるおそれがあるからであり、上記圧力が高すぎると、上記配向層形成用層が上記原版に入り込み過ぎて、原版から抜けなくなるおそれがあるからである。   The pressure applied at the time of pressurization in this step is not particularly limited as long as it can stably shape the surface shape of the original plate on the alignment layer forming layer, and is used in this step. The orientation layer forming resin composition is appropriately selected according to the viscosity and the like, and using the orientation layer forming resin composition and the original plate, the extent of the shape of the original plate to the orientation layer forming layer is determined. It can be shaped or found by repeating experiments while adjusting the pressure. For example, when the alignment layer-forming resin composition having the above-described viscosity is used, the pressure is preferably in the range of 10 MPa / cm to 2000 MPa / cm, and more preferably 100 MPa / cm to 1000 MPa / cm. It is preferably within the range, and particularly preferably within the range of 150 MPa / cm to 500 MPa / cm. If the pressure is too low, the alignment layer forming layer does not enter the original plate so much that the height of the convex structure in the fine line-shaped uneven structure may be insufficient. If the thickness is too high, the alignment layer forming layer may enter the original plate too much and may not come out of the original plate.

本工程において、上記圧力を加圧する方法としては、配向層形成用層に上記原版の表面形状を安定的に賦型できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、ベルトプレス方式、ロールタッチ方式等を用いる方法を挙げることができる。
以下、これらの方式を用いて配向層形成用層に上記圧力を負荷する方法を図を用いて説明する。
In this step, the method for pressurizing the pressure is not particularly limited as long as the surface shape of the original plate can be stably formed on the alignment layer forming layer. For example, a belt press method, a roll A method using a touch method or the like can be given.
Hereinafter, a method of applying the pressure to the alignment layer forming layer using these methods will be described with reference to the drawings.

図6は、本発明における加圧方法を説明する説明図である。図11は、ロールタッチ方式により加圧する方法を例示するものであり、透明フィルム基材1を巻き出す巻き出し機51aと、配向層形成用樹脂組成物を吐出し配向層形成用層2´を形成する配向層形成用ダイ53と、紫外線を配向層形成用層2´に対して照射する紫外線照射装置55と、ロール版10から配向層形成用層を剥離する剥離ロール52と、配向膜20を巻き取る巻き取り機51bと、を有し、さらに、配向層形成用層2´をロール版10に加圧するゴム等の弾性を有する加圧ロール50を有する配向膜製造装置を用いて加圧する方法を例示するものである。ロールタッチ方式においては、ゴム等の弾性を有する加圧ロールを用いることにより、加圧ロールが変形するため、ロール版と配向層形成用層との接触時間を長くすることができるため、配向層形成用層に所望の微小なライン状凹凸構造を安定して賦型することが可能となる。
また、図7は、本発明における加圧方法を説明する説明図である。図12は、ベルトプレス方式により加圧する方法を例示するものであり、ロール版10に直接、配向層形成用樹脂組成物を吐出する配向層形成用ダイ53と、加圧ベルト56とを有する配向膜製造装置を用いて加圧する方法を例示するものである。ベルトプレス方式においては、原版としてロール版を用いた場合、ロール版と加圧ベルトとを対峙させることによって、配向層形成用層に圧力を負荷することができる。ベルトプレス方式はロール版と配向層形成用層との接触時間を長くすることができるため、配向層形成用層に所望の微小なライン状凹凸構造を安定して賦型することが可能となる。
なお、図7において説明していない符号については、図6と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
FIG. 6 is an explanatory view for explaining a pressurizing method according to the present invention. FIG. 11 exemplifies a method of pressurizing by a roll touch method. The unwinding machine 51a for unwinding the transparent film substrate 1 and the alignment layer forming layer 2 ′ are discharged by discharging the alignment layer forming resin composition. The alignment layer forming die 53 to be formed, the ultraviolet irradiation device 55 for irradiating the alignment layer forming layer 2 ′ with ultraviolet rays, the peeling roll 52 for peeling the alignment layer forming layer from the roll plate 10, and the alignment film 20 And using an alignment film manufacturing apparatus having a pressure roll 50 having elasticity such as rubber for pressing the alignment layer forming layer 2 ′ to the roll plate 10. The method is illustrated. In the roll touch method, since the pressure roll is deformed by using a pressure roll having elasticity such as rubber, the contact time between the roll plate and the alignment layer forming layer can be extended. It becomes possible to stably mold a desired minute line-shaped uneven structure on the forming layer.
Moreover, FIG. 7 is explanatory drawing explaining the pressurization method in this invention. FIG. 12 exemplifies a method of applying pressure by a belt press method, and an alignment layer forming die 53 for discharging an alignment layer forming resin composition directly onto the roll plate 10 and an alignment belt 56. The method of pressurizing using a film manufacturing apparatus is illustrated. In the belt press method, when a roll plate is used as an original plate, a pressure can be applied to the alignment layer forming layer by confronting the roll plate and the pressure belt. Since the belt press method can increase the contact time between the roll plate and the alignment layer forming layer, it is possible to stably mold a desired fine line-shaped uneven structure on the alignment layer forming layer. .
Note that reference numerals not described in FIG. 7 can be the same as those in FIG. 6, and thus description thereof is omitted here.

本工程における賦型方法としては、上記配向層形成用層に上記原版の表面形状を精度よく賦型できるものであれば特に限定されるものではないが、上記配向層用原版上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層を形成する充填処理と、上記配向層形成用層上に透明フィルム基材を配置する配置処理と、を行った後に、加圧する方法(第1実施態様)、透明フィルム基材上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層を形成する配向層形成用層形成処理と、上記配向層形成用層を、上記配向層用原版上に接触させる接触処理と、を行った後に加圧する方法(第2実施態様)、上記配向層用原版上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層を形成する充填処理、を行った後に、加圧する方法(第3実施態様)であることが好ましい。微小なライン状凹凸構造を安定的に形成することができるからである。
以下、このような賦型方法について説明する。
The forming method in this step is not particularly limited as long as the surface shape of the original plate can be accurately formed on the alignment layer forming layer, but the alignment layer is formed on the alignment layer original plate. A method of applying pressure after applying a forming resin composition and performing a filling process for forming the alignment layer forming layer and an arrangement process for disposing a transparent film substrate on the alignment layer forming layer. (First embodiment) An alignment layer forming layer forming process for coating the alignment layer forming resin composition on a transparent film substrate to form the alignment layer forming layer, and the alignment layer forming layer. And a contact treatment for contacting the alignment layer original plate, and a method of applying pressure after the contact treatment (second embodiment), applying the alignment layer forming resin composition on the alignment layer original plate, and How to pressurize after filling process to form alignment layer forming layer It is preferably (third embodiment). This is because a minute line-shaped uneven structure can be stably formed.
Hereinafter, such a molding method will be described.

(a)第1実施態様
本態様の賦型方法は、上記原版上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層を形成する充填処理と、上記配向層形成用層上に透明フィルム基材を配置する配置処理と、を行った後に加圧する方法である。このような賦型方法により賦型することにより、透明フィルム基材上に、配向層が積層された配向膜を容易に形成することができる。
(A) 1st embodiment The shaping method of this aspect is the filling process which coats the said resin composition for orientation layer formation on the said original plate, and forms the said layer for orientation layer formation, and the object for said orientation layer formation And a placement process of placing a transparent film substrate on the layer, followed by pressurization. By shaping by such a shaping method, an alignment film in which an alignment layer is laminated can be easily formed on a transparent film substrate.

本態様に用いられる透明フィルム基材としては、樹脂材料からなり所定の透明性を有するものであれば特に限定されるものではない。中でも本発明に用いられる透明フィルム基材は、位相差性が低いものであることが好ましい。より具体的には、本発明に用いられる透明フィルム基材は、面内レターデーション値(Re値)が、0nm〜10nmの範囲内であることが好ましく、0nm〜5nmの範囲内であることがより好ましく、0nm〜3nmの範囲内であることがさらに好ましい。透明基材の面内レターデーション値が上記範囲よりも大きいと、例えば、本発明の製造方法により製造される配向膜を用いて3D表示装置を製造した場合に、得られる3D表示装置の表示品質が悪くなってしまう場合があるからである。   The transparent film substrate used in this embodiment is not particularly limited as long as it is made of a resin material and has a predetermined transparency. Especially, it is preferable that the transparent film base material used for this invention is a thing with low phase difference property. More specifically, the transparent film substrate used in the present invention preferably has an in-plane retardation value (Re value) in the range of 0 nm to 10 nm, and preferably in the range of 0 nm to 5 nm. More preferably, it is further in the range of 0 nm to 3 nm. When the in-plane retardation value of the transparent substrate is larger than the above range, for example, the display quality of the 3D display device obtained when the 3D display device is manufactured using the alignment film manufactured by the manufacturing method of the present invention. This is because it may become worse.

本態様に用いられる透明フィルム基材は、可視光領域における透過率が80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。ここで、透明フィルム基材の透過率は、JIS K7361−1(プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法)により測定することができる。   The transparent film substrate used in this embodiment preferably has a transmittance in the visible light region of 80% or more, and more preferably 90% or more. Here, the transmittance | permeability of a transparent film base material can be measured by JISK7361-1 (the test method of the total light transmittance of a plastic-transparent material).

また、本態様に用いられる透明フィルム基材としては、例えば、トリアセチルセルロース等のアセチルセルロース系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエーテルサルホンやポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、(メタ)アクロニトリル、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂からなるものを挙げることができるが、透明フィルム基材の面内レターデーションをゼロに近付けやすいことからアセチルセルロース系樹脂、シクロオレフィンポリマー、シクロオレフィンコポリマー等の樹脂、アクリル系樹脂が好ましい。   Examples of the transparent film substrate used in this embodiment include acetyl cellulose resins such as triacetyl cellulose, polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, olefin resins such as polyethylene and polymethylpentene, and acrylic resins. Resin, polyurethane resin, polyethersulfone, polycarbonate, polysulfone, polyether, polyetherketone, (meth) acrylonitrile, cycloolefin polymer, cycloolefin copolymer, etc. Since the in-plane retardation of the film substrate is likely to approach zero, resins such as acetyl cellulose resins, cycloolefin polymers, cycloolefin copolymers, and acrylic resins are preferred.

透明フィルム基材の厚みについては、本発明の製造方法により製造される配向膜の用途および透明フィルム基材を構成する材料等に応じて適宜決定することができるものであり、特に限定されるものではないが、通常は、20μm〜188μmの範囲内であることが好ましく、30μm〜90μmの範囲内であることがより好ましい。   About the thickness of a transparent film base material, it can determine suitably according to the use of the orientation film manufactured with the manufacturing method of this invention, the material which comprises a transparent film base material, etc., and it is specifically limited However, usually, it is preferably in the range of 20 μm to 188 μm, and more preferably in the range of 30 μm to 90 μm.

なお、上記配向層が紫外性硬化性樹脂からなる場合は、透明フィルム基材と紫外線硬化性樹脂の接着性を向上させるためのプライマ層を透明フィルム基材上に形成してもよい。このプライマ層は、透明フィルム基材および紫外線硬化性樹脂との双方に接着性を有し、可視光学的に透明であり、紫外線を通過させるものであればよく、例えば、塩化ビニル/酢酸ビニル共重合体系,ウレタン系のものを使用することができる。   In addition, when the said orientation layer consists of ultraviolet curable resin, you may form the primer layer for improving the adhesiveness of a transparent film base material and an ultraviolet curable resin on a transparent film base material. This primer layer may be any layer that has adhesiveness to both the transparent film substrate and the ultraviolet curable resin, is visible optically transparent, and allows ultraviolet light to pass through. Polymer type and urethane type can be used.

本態様における透明フィルム基材としては、上記配向層が形成される面とは反対の面上に、図8に例示するようにアンチグレア層または反射防止層5等を有するものであっても良い。挙げることができる。表示装置を製造した際に、表示品質の良い表示装置を得ることができる位相差フィルムを形成可能となるからである。   As a transparent film base material in this aspect, you may have an anti-glare layer or the antireflection layer 5 etc. on the surface opposite to the surface in which the said orientation layer is formed so that it may illustrate in FIG. Can be mentioned. This is because, when a display device is manufactured, a retardation film capable of obtaining a display device with good display quality can be formed.

本態様においては、このような反射防止層が形成されていることにより、本発明の製造方法により製造される配向膜を用いて液晶表示装置を製造した際に、表示品質の良い液晶表示装置を得ることができるという利点がある。なお、上記反射防止層、およびアンチグレア層は一方のみが用いられてもよく、または両方が用いられてもよい。   In this aspect, since such an antireflection layer is formed, when a liquid crystal display device is manufactured using an alignment film manufactured by the manufacturing method of the present invention, a liquid crystal display device with good display quality is obtained. There is an advantage that can be obtained. Note that only one or both of the antireflection layer and the antiglare layer may be used.

上記アンチグレア層は、太陽や蛍光灯などからの外光が、表示装置の表示画面に入射して反射することから生じる画面の映り込みを低減させる機能を有する層である。一方、上記反射防止層は、表面の正反射率を抑えることで画像のコントラストがよくなり、その結果、画像の視認性を向上させる機能を有するものである。本態様に用いられるアンチグレア層、反射防止層としては、所望のアンチグレア機能、または反射防止機能を有するものであれば特に限定されるものではなく、表示画質向上を目的として表示装置に用いられるものとして一般的に公知のものを用いることができる。上記アンチグレア層としては、例えば、微粒子を分散させた樹脂層を挙げることができ、上記反射防止層としては、例えば、屈折率の異なる複数の層が積層された構成を有するものを挙げることができる。尚、アンチグレア層の最表面に反射防止層を設ければ、明室における画像の視認性を更に向上することができる。   The antiglare layer is a layer having a function of reducing screen reflection caused by external light from the sun, a fluorescent lamp, or the like entering and reflecting on the display screen of the display device. On the other hand, the antireflection layer improves the image contrast by suppressing the regular reflectance of the surface, and as a result, has a function of improving the visibility of the image. The antiglare layer and antireflection layer used in this embodiment are not particularly limited as long as they have a desired antiglare function or antireflection function, and are used for display devices for the purpose of improving display image quality. Generally known ones can be used. Examples of the antiglare layer include a resin layer in which fine particles are dispersed, and examples of the antireflection layer include a layer having a configuration in which a plurality of layers having different refractive indexes are stacked. . If an antireflection layer is provided on the outermost surface of the antiglare layer, the visibility of the image in the bright room can be further improved.

本態様における充填処理で行われる上記原版上への配向層形成用樹脂組成物の塗工方法としては、均一の厚みの配向層形成用層を形成できる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、ロールコート法、Tダイコート法、キャストコート法、ブレードコート法、バーコート法、ワイヤーバーコート法、公知の方法を用いることができる。
本態様においては、なかでも、配向層形成用樹脂組成物への溶媒の添加が不要な方法であることが好ましく、特に、溶融押し出し法、ノンソルコーティング法を好ましく用いることができる。乾燥処理等を不要とすることができ、工程通過性に優れたものとすることができるからである。
ここで、溶融押し出し法としては、例えば、上記配向層形成用樹脂組成物をガラス転移温度以上熱分解温度以下の温度範囲内で熱溶融させた状態で準備し、Tダイを用いて押し出す方法等が挙げられる。
また、充填処理後、適宜乾燥処理や熱またはUVやEBによるハーフキュア処理を入れることができる。
The method for coating the alignment layer forming resin composition on the original plate performed in the filling process in this embodiment is not particularly limited as long as it can form an alignment layer forming layer having a uniform thickness. For example, a roll coating method, a T-die coating method, a cast coating method, a blade coating method, a bar coating method, a wire bar coating method, or a known method can be used.
In this embodiment, among them, a method that does not require the addition of a solvent to the alignment layer forming resin composition is preferable, and in particular, a melt extrusion method and a non-sol coating method can be preferably used. It is because a drying process etc. can be made unnecessary and it can be excellent in process passage property.
Here, as the melt extrusion method, for example, a method in which the alignment layer forming resin composition is thermally melted in a temperature range of not less than the glass transition temperature and not more than the thermal decomposition temperature, and extruded using a T die, etc. Is mentioned.
In addition, after the filling process, a drying process or a half-cure process using heat, UV, or EB can be appropriately performed.

本態様における配置処理で行われる上記配向層形成用層上に透明フィルム基材を配置する方法としては、上記配向層形成用層と透明フィルム基材が十分に密着することができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、原版上の配向層形成用層上に、ロール状の透明フィルム基材を連続的に巻き出しながら配置する方法等を挙げることができる。   As a method of disposing the transparent film substrate on the alignment layer forming layer performed in the disposition treatment in this aspect, any method can be used that allows the alignment layer forming layer and the transparent film substrate to sufficiently adhere to each other. The method is not particularly limited, and examples thereof include a method in which a roll-shaped transparent film substrate is continuously unwound on the alignment layer forming layer on the original plate.

(b)第2実施態様
本態様の賦型方法は、透明フィルム基材上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層を形成する配向層形成用層形成処理と、上記配向層形成用層を、上記原版上に接触させる接触処理と、を行った後に加圧する方法である。このような賦型方法であることにより、透明フィルム基材上に配向層が積層された位相差フィルムを容易に形成することができる。
この場合、配向層形成用樹脂には配向層形成用樹脂と相溶性がある溶剤を含んでいても良い。溶剤を含有する場合、透明フィルム基材の上に配向層形成用樹脂組成物を塗工したのち、溶剤を蒸発させる乾燥処理を行うことが望ましい。また溶剤として、透明フィルム基材に浸透することで透明フィルム基材と配向層形成用層との間に溶剤浸透層を形成することができるため、透明フィルム基材と配向層との界面で発生するニジムラや密着不良を防止することが可能となる。
(B) 2nd embodiment The shaping method of this aspect is the layer formation process for alignment layer formation which coats the said resin composition for alignment layer formation on a transparent film base material, and forms the said layer for alignment layer formation. And a contact treatment for bringing the alignment layer forming layer into contact with the original plate, followed by pressurization. By being such a shaping method, a retardation film in which an alignment layer is laminated on a transparent film substrate can be easily formed.
In this case, the alignment layer forming resin may contain a solvent compatible with the alignment layer forming resin. When it contains a solvent, it is desirable to apply a drying treatment for evaporating the solvent after coating the alignment layer-forming resin composition on the transparent film substrate. In addition, as a solvent, a solvent permeation layer can be formed between the transparent film substrate and the alignment layer forming layer by penetrating into the transparent film substrate, and therefore occurs at the interface between the transparent film substrate and the alignment layer. It is possible to prevent the wiggle and poor adhesion.

本態様における配向層形成用層形成処理で行われる透明フィルム基材上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工する方法としては、所望の厚みの配向層形成用層を形成できる方法であれば良く、上記「(a)第1実施態様」の項に記載の充填処理と同様とすることができる。   The method for coating the alignment layer-forming resin composition on the transparent film substrate performed in the alignment layer-forming layer forming treatment in this embodiment is a method that can form an alignment layer-forming layer having a desired thickness. What is necessary is just to be the same as the filling process as described in the above-mentioned section “(a) First embodiment”.

本態様における接触処理で行われる上記配向層形成用層を、上記原版上に接触させる方法としては、上記原版に配向層形成用層が十分に密着することができる方法であれば特に限定されるものではなく、上記「(a)第1実施態様」の項に記載の配置処理と同様とすることができる。   The method for bringing the alignment layer forming layer performed in the contact treatment in this embodiment into contact with the original plate is particularly limited as long as the alignment layer forming layer can be sufficiently adhered to the original plate. Instead, it can be the same as the placement process described in the section “(a) First Embodiment”.

(c)第3実施態様
本態様の賦型方法は、上記原版上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、上記配向層形成用層を形成する充填処理、を行った後に加圧する方法である。このような賦型方法であることにより、例えば、配向層のみからなる配向膜を容易に得ることができる。
本態様における充填処理で行われる、上記原版上に上記配向層形成用樹脂組成物を塗工する方法としては、所望の厚みの配向層形成用層を形成できるものであれば特に限定されるものではないが、上記「(a)第1実施態様」の項に記載の充填処理と同様とすることができる。
(C) Third Embodiment The molding method of this aspect is a method in which the alignment layer-forming resin composition is applied on the original plate, and after the filling treatment for forming the alignment layer-forming layer, pressurization is performed. Is the method. By such a shaping method, for example, an alignment film composed only of an alignment layer can be easily obtained.
The method of coating the alignment layer forming resin composition on the original plate performed in the filling process in this embodiment is particularly limited as long as the alignment layer forming layer having a desired thickness can be formed. However, it may be the same as the filling process described in the section “(a) First embodiment”.

(4)配向領域
本工程を行うことにより配向層形成用層に形成される配向領域は、上記原版の表面形状が賦型されたものである。
したがって、上記配向層形成用層に形成された配向領域は、それぞれ、原版の微小なライン状凹凸構造に対応して微小なライン状凹凸構造を有するものとなる。
このため、原版としてロールの回転方向に対して90°の方向に微小なライン状凹凸構造が形成されたロール原版を用いて長尺状の配向層形成用層に賦型した場合には、微小なライン状凹凸構造が、長手方向(長尺方向)に対して90°の方向に形成されることになる。
(4) Alignment region The alignment region formed in the alignment layer forming layer by carrying out this step is obtained by shaping the surface shape of the original plate.
Therefore, each of the alignment regions formed in the alignment layer forming layer has a fine line-like uneven structure corresponding to the fine line-like uneven structure of the original.
For this reason, when a roll original plate having a fine line-shaped uneven structure formed in a direction of 90 ° with respect to the rotation direction of the roll as the original plate is molded into a long alignment layer forming layer, Such a line-shaped uneven structure is formed in a direction of 90 ° with respect to the longitudinal direction (long direction).

2.硬化工程
本発明の製造方法における硬化工程は、賦型工程後の上記配向層形成用層を硬化させる工程である。
2. Curing Step The curing step in the production method of the present invention is a step of curing the alignment layer forming layer after the shaping step.

本工程において、上記配向層形成用層を硬化させる方法としては、上記配向層形成用層を構成する配向層形成用樹脂組成物に応じて適宜選択されるものであるが、例えば、上記配向層形成用樹脂組成物が電離放射線硬化性樹脂組成物の場合、紫外線硬化法および電子線硬化法等を挙げることができ、上記配向層形成用樹脂組成物が熱硬化性樹脂組成物の場合、加熱硬化法および常温硬化法等を挙げることができる。また、上記配向層形成用樹脂組成物として熱可塑性樹脂組成物を用いる場合は、冷却ロールなどを接触させる冷却法により硬化させることができる。   In this step, the method for curing the alignment layer forming layer is appropriately selected according to the alignment layer forming resin composition constituting the alignment layer forming layer. When the forming resin composition is an ionizing radiation curable resin composition, examples include an ultraviolet curing method and an electron beam curing method. When the alignment layer forming resin composition is a thermosetting resin composition, heating is performed. Examples thereof include a curing method and a normal temperature curing method. Moreover, when using a thermoplastic resin composition as the said resin composition for alignment layer formation, it can be made to harden | cure by the cooling method which makes a cooling roll etc. contact.

本工程における紫外線硬化法にて照射する紫外線の照射方法としては、通常、配向層形成用層の原版と接触する面の反対面から照射する方法が用いられるが、本工程が上記剥離工程後に行われる場合には、必要に応じて、原版と接触する面から照射する方法を用いるものであっても良い。短時間で十分に硬化させることができるからである。   As a method of irradiating with ultraviolet rays in the ultraviolet curing method in this step, a method of irradiating from the surface opposite to the surface in contact with the original of the alignment layer forming layer is usually used. If necessary, a method of irradiating from the surface in contact with the original plate may be used as necessary. This is because it can be sufficiently cured in a short time.

本工程において紫外線硬化法にて硬化する場合、配向層形成用層の硬化率(反応率)としては、20%〜97%の範囲内であることが好ましく、なかでも30%〜90%の範囲内であることが好ましい。得られたパターン配向膜を保管した際に、微細な凹凸やパターンがつぶされて形状不良を生じたり、ブリード物が発生しやすくなり配向層の液晶コート面側の汚染し、液晶配向不良を起こすといった不具合を防ぐことができるからである。また、液晶層との密着性を確保することが可能になる等の利点があるからである。
なお、硬化率とは、本工程を行った後の配向膜に含まれる反応性を有する官能基のモル数をX本工程を行う前に配向層形成用層に含まれていた反応性を有する官能基のモル数をYとしたときに、(X−Y)/X × 100(%)で表されるものである。
In the case of curing by an ultraviolet curing method in this step, the curing rate (reaction rate) of the alignment layer forming layer is preferably in the range of 20% to 97%, and more preferably in the range of 30% to 90%. It is preferable to be within. When the obtained pattern alignment film is stored, fine irregularities and patterns are crushed, resulting in shape defects, bleeding is likely to occur, and the liquid crystal coating surface side of the alignment layer is contaminated, causing liquid crystal alignment defects. This is because such a problem can be prevented. Another advantage is that it is possible to ensure adhesion to the liquid crystal layer.
In addition, the curing rate is the reactivity included in the alignment layer forming layer before performing this step X times the number of moles of reactive functional groups contained in the alignment film after performing this step. When the mole number of the functional group is Y, it is represented by (XY) / X × 100 (%).

本工程においては、紫外線硬化法にて紫外線を照射する際に、配向層形成用層を加熱するものであっても良い。反応効率を向上させることができるからである。
本工程において、配向層形成用層を加熱する方法としては、配向層形成用層を所望の温度とすることができる方法であれば特に限定されるものではなく、公知の加熱方法を用いることができるが、具体的には、原版として温度調節可能なものを用いる方法や、赤外線照射装置、温風送風装置等を用いる方法を挙げることができる。
In this step, the alignment layer forming layer may be heated when the ultraviolet ray is irradiated by the ultraviolet curing method. This is because the reaction efficiency can be improved.
In this step, the method for heating the alignment layer forming layer is not particularly limited as long as it can bring the alignment layer forming layer to a desired temperature, and a known heating method may be used. Specific examples include a method using a temperature-adjustable original plate and a method using an infrared irradiation device, a hot air blower, and the like.

3.剥離工程
本発明の製造方法における剥離工程は、上記配向層形成用層を上記原版から剥離する工程である。
本工程における剥離方法としては、硬化された上記配向層形成用層、すなわち配向層を傷つけることなく上記原版を剥離することができれば、特に限定されるものではない。具体的には、既に説明した図6または図7に示すような剥離用ロールを用いて剥離する方法を挙げることができる。
3. Peeling process The peeling process in the manufacturing method of this invention is a process of peeling the said layer for alignment layer formation from the said original plate.
The peeling method in this step is not particularly limited as long as the original can be peeled without damaging the cured alignment layer forming layer, that is, the alignment layer. Specifically, a method of peeling using a peeling roll as shown in FIG. 6 or FIG.

本工程を行う順番としては、上記賦型工程後に行われるものであれば特に限定されるものではないが、上記硬化工程後に行われることが好ましい。上記硬化工程が、上記原版および配向層形成用層を接触させた状態で行われることにより、上記配向層形成用層に賦型された原版表面の形状を、安定的に硬化させることができ、得られる配向層表面の形状を高精度なものとすることができるからである。   The order of performing this step is not particularly limited as long as it is performed after the shaping step, but is preferably performed after the curing step. By performing the curing step in a state where the original plate and the alignment layer forming layer are in contact with each other, the shape of the original plate surface molded into the alignment layer forming layer can be stably cured, This is because the shape of the surface of the obtained alignment layer can be made highly accurate.

4.配向膜の製造方法
本発明の製造方法は、上記賦型工程、硬化工程、および剥離工程を有するものであるが必要に応じて、他の工程を有するものであっても良い。
このような他の工程としては、剥離工程後に得られる配向膜をロール状に巻き取る巻き取り工程や、上記原版の表面を定期的に清掃する清掃工程等を挙げることができる。
また、必要に応じて、上記配向層上に透明フィルム基材を積層する積層工程を有するものであっても良い。なお、配向層および透明フィルム基材の積層方法としては、上述の配向層形成用層形成処理のように、透明フィルム基材上に配向層形成用樹脂組成物を塗工する方法や、上記配向層に透明フィルム基材を加熱圧着する方法や、接着剤等を介して貼り合わせる方法等を挙げることができる。
4). Method for Producing Alignment Film The production method of the present invention includes the molding step, the curing step, and the peeling step, but may include other steps as necessary.
Examples of such other processes include a winding process for winding the alignment film obtained after the peeling process into a roll, and a cleaning process for regularly cleaning the surface of the original.
Moreover, you may have a lamination process which laminates | stacks a transparent film base material on the said orientation layer as needed. In addition, as a lamination | stacking method of an orientation layer and a transparent film base material, like the above-mentioned orientation layer formation layer formation process, the method of coating the orientation layer formation resin composition on a transparent film base material, or the said orientation Examples thereof include a method in which a transparent film substrate is thermocompression-bonded to the layer and a method in which the transparent film substrate is bonded through an adhesive or the like.

さらに、上記硬化工程および剥離工程後に、配向層形成用層をより十分に硬化させるための第2硬化工程を有するものであっても良い。上記パターン配向膜をより硬度に優れたものとすることができるからである。また、硬化工程および剥離工程に要する時間を短いものとすることが可能となる等、プロセスを自由度の高いものとすることができるからである。
具体的には、上記配向層形成用樹脂組成物が電離放射線硬化性樹脂組成物である場合には、上記硬化工程として紫外線硬化法を用いて上記配向層形成用層の原版と接触する面を硬化させ表面形状を転写した後、上記剥離工程により、上記配向層形成用層を原版から剥離し、その後、第2硬化工程として、上記配向層形成用層の上記原版と接触する面に対して紫外線照射を行うことができる。
また、上記配向層形成用樹脂組成物が電離放射線硬化性および熱可塑性を有する樹脂組成物である場合には、まず、加熱して溶融状態とした状態で上記賦型工程を行った後、上記硬化工程として冷却法により硬化を用い、上記配向層形成用層の原版と接触する面を硬化させ表面形状を転写した後、上記剥離工程により、上記配向層形成用層を原版から剥離し、その後、第2硬化工程として、上記配向層形成用層の上記原版と接触する面に対して紫外線照射を行う紫外線硬化法を用いることができる。
Furthermore, you may have a 2nd hardening process for more fully hardening the layer for alignment layer formation after the said hardening process and peeling process. This is because the pattern alignment film can be made more excellent in hardness. Further, the time required for the curing step and the peeling step can be shortened, and the process can be made highly flexible.
Specifically, when the alignment layer-forming resin composition is an ionizing radiation-curable resin composition, the surface that contacts the original of the alignment layer-forming layer using an ultraviolet curing method as the curing step. After curing and transferring the surface shape, the alignment layer forming layer is peeled from the original plate by the peeling step, and then, as a second hardening step, the surface of the alignment layer forming layer that is in contact with the original plate. Ultraviolet irradiation can be performed.
In the case where the alignment layer forming resin composition is a resin composition having ionizing radiation curability and thermoplasticity, first, after performing the shaping step in a state of being heated and melted, After curing the surface in contact with the original of the alignment layer forming layer using a cooling method as a curing step and transferring the surface shape, the alignment layer forming layer is released from the original by the peeling step, and then As the second curing step, an ultraviolet curing method in which ultraviolet irradiation is performed on the surface of the alignment layer forming layer that is in contact with the original plate can be used.

このような第2硬化工程における上記配向層形成用層の硬化方法としては、上記硬化工程と同様とすることができる。
本工程における紫外線硬化法にて照射する紫外線の照射方法としては、配向層形成用層の原版と接触する面から照射する方法でも、接触する面の反対面から照射する方法でも良いが、上記接触する面から照射する方法であることが好ましい。上記配向層を、上記原版の表面形状をより安定的に保持するものとすることができるからである。
The curing method for the alignment layer forming layer in the second curing step can be the same as in the curing step.
The ultraviolet irradiation method used in the ultraviolet curing method in this step may be a method of irradiating from the surface in contact with the original of the alignment layer forming layer or a method of irradiating from the opposite surface of the contact surface, but the above contact It is preferable that it is the method of irradiating from the surface to perform. This is because the alignment layer can maintain the surface shape of the original plate more stably.

5.配向膜
本発明の製造方法により得られる配向膜は、少なくとも配向層を有するものであるが、通常、透明フィルム基材を有するものである。
また、上述のように、反射防止層またはアンチグレア層を有するものであっても良い。
5. Alignment film The alignment film obtained by the production method of the present invention has at least an alignment layer, but usually has a transparent film substrate.
Further, as described above, it may have an antireflection layer or an antiglare layer.

本発明の製造方法により得られる配向膜の用途としては、位相差フィルムに用いることができ、なかでも、粉塵や静電気による影響を受けやすく、また低コストであることが要求される表示装置に用いられる位相差フィルムに好適に用いられる。   As an application of the alignment film obtained by the production method of the present invention, it can be used for a retardation film, and in particular, it is easily affected by dust and static electricity and used for a display device that is required to be low in cost. It is suitably used for a retardation film.

B.位相差フィルムの製造方法
次に、本発明の位相差フィルムの製造方法について説明する。
本発明の位相差フィルム製造方法は、上述の配向膜の製造方法により形成された配向膜に含まれる配向層上に、屈折率異方性を有する棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、上記位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記配向層に形成された微小なライン状凹凸構造の方向に沿って配列させる配向工程と、を有することを特徴とするものである。
B. Next, a method for producing the retardation film of the present invention will be described.
The retardation film manufacturing method of the present invention is a retardation layer forming coating solution comprising a rod-like compound having refractive index anisotropy on an alignment layer contained in an alignment film formed by the above-described alignment film manufacturing method. An alignment step of aligning the rod-shaped compound contained in the coating film of the retardation layer forming coating solution along the direction of the fine line-shaped uneven structure formed in the alignment layer; It is characterized by having.

このような本発明の位相差フィルムの製造方法を図を参照して説明する。図9は本発明の位相差フィルムの製造方法の一例を示す工程図である。図9に例示するように、本発明の位相差フィルムの製造方法は、上述の配向膜の製造方法により形成され、上記配向層用原版の微小なライン状凹凸構造に対応して形成された微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された配向層2上に、屈折率異方性を有する棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布して塗膜を形成し(図9(a))、その塗膜3´を加熱することにより、塗膜3´に含まれる棒状化合物を、上記配向層2に形成された微小なライン状凹凸構造の方向に沿って配列させることにより(図9(b))、上記配向層2に形成された微小なライン状凹凸構造と同一方向に配列された棒状化合物を含む位相差層3を形成し、位相差フィルム30とするものである(図9(c))。   The method for producing the retardation film of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 9 is a process diagram showing an example of a method for producing a retardation film of the present invention. As illustrated in FIG. 9, the retardation film manufacturing method of the present invention is formed by the above-described alignment film manufacturing method, and is formed in accordance with the fine line-shaped uneven structure of the alignment layer original plate. A coating film is formed by applying a coating solution for forming a retardation layer containing a rod-like compound having refractive index anisotropy onto the alignment layer 2 in which a linear concavo-convex structure is randomly formed in a substantially constant direction ( FIG. 9A), by heating the coating film 3 ′, the rod-like compounds contained in the coating film 3 ′ are arranged along the direction of the minute line-shaped uneven structure formed in the alignment layer 2. In this way (FIG. 9B), a retardation layer 3 containing rod-shaped compounds arranged in the same direction as the fine line-shaped uneven structure formed in the alignment layer 2 is formed to obtain a retardation film 30. (FIG. 9C).

本発明によれば、上述の配向膜の製造方法により製造された配向膜を用いることにより、低コストかつ粉塵や静電気の少ない位相差フィルムを得ることができる。   According to the present invention, by using the alignment film manufactured by the above-described alignment film manufacturing method, it is possible to obtain a retardation film with low cost and less dust and static electricity.

本発明の位相差フィルムの製造方法は、少なくとも塗布工程と、配向工程と、を有することを特徴とするものである。
以下、本発明の位相差フィルムの製造方法の各工程について詳細に説明する。
The method for producing a retardation film of the present invention is characterized by having at least a coating step and an orientation step.
Hereinafter, each process of the manufacturing method of the retardation film of this invention is demonstrated in detail.

1.塗布工程
本発明における塗布工程は、上述の配向膜の製造方法により形成された配向膜に含まれる配向層上に、屈折率異方性を有する棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する工程である。
なお、上記配向膜については、上記「A.配向膜の製造方法」の項に記載の内容と同様であるので、ここでの説明は省略する。
1. Coating process The coating process in the present invention comprises a coating solution for forming a retardation layer containing a rod-shaped compound having refractive index anisotropy on an alignment layer included in an alignment film formed by the above-described method for manufacturing an alignment film. It is a process of applying.
The alignment film is the same as that described in the above section “A. Method for manufacturing alignment film”, and thus the description thereof is omitted here.

本工程に用いられる位相差層形成用塗工液に含まれる棒状化合物としては、屈折率異方性を有するものであり、配向領域、すなわち、配向層の表面に略一定方向にランダムに形成された微小なライン状凹凸構造の配向規制力に沿って規則的に配列することにより本工程における位相差層に所望の位相差性を付与できるものであれば特に限定されるものではない。なかでも本工程に用いられる棒状化合物は、液晶性を示す液晶性材料であることが好ましい。液晶性材料は屈折率異方性が大きいため、本発明の製造方法により製造される位相差フィルムに所望の位相差性を付与することが容易になるからである。   The rod-shaped compound contained in the retardation layer forming coating solution used in this step has refractive index anisotropy and is randomly formed in a substantially constant direction on the surface of the alignment region, that is, the alignment layer. There is no particular limitation as long as a desired retardation can be imparted to the retardation layer in this step by arranging regularly along the alignment regulating force of the fine line-shaped uneven structure. Especially, it is preferable that the rod-shaped compound used for this process is a liquid crystalline material which shows liquid crystallinity. This is because the liquid crystalline material has a large refractive index anisotropy, so that it becomes easy to impart a desired retardation to the retardation film produced by the production method of the present invention.

本工程に用いられる上記液晶性材料としては、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料を挙げることができる。本工程においては、これらのいずれの液晶相を示す材料であっても好適に用いることができるが、なかでもネマチック相を示す液晶性材料を用いることが好ましい。ネマチック相を示す液晶性材料は、他の液晶相を示す液晶性材料と比較して規則的に配列させることが容易であるからである。   As said liquid crystalline material used for this process, the material which shows liquid crystal phases, such as a nematic phase and a smectic phase, can be mentioned, for example. In this step, any material exhibiting any of these liquid crystal phases can be suitably used, but it is particularly preferable to use a liquid crystalline material exhibiting a nematic phase. This is because a liquid crystalline material exhibiting a nematic phase is easily arranged regularly as compared with liquid crystalline materials exhibiting other liquid crystal phases.

また、本工程においては上記ネマチック相を示す液晶性材料として、メソゲン両端にスペーサを有する材料を用いることが好ましい。メソゲン両端にスペーサを有する液晶性材料は柔軟性に優れるため、このような液晶性材料を用いることにより、本発明の製造方法により製造される位相差フィルムを透明性に優れたものにできるからである。   In this step, it is preferable to use a material having spacers at both ends of the mesogen as the liquid crystalline material exhibiting the nematic phase. Since the liquid crystalline material having spacers at both ends of the mesogen is excellent in flexibility, the retardation film produced by the production method of the present invention can be made excellent in transparency by using such a liquid crystalline material. is there.

さらに、本工程に用いられる棒状化合物は、分子内に重合性官能基を有するものが好適に用いられ、なかでも3次元架橋可能な重合性官能基を有するものがより好適に用いられる。上記棒状化合物が重合性官能基を有することにより、上記棒状化合物を重合して固定することが可能になるため、配列安定性に優れ、位相差性の経時変化が生じにくい位相差層を得ることができるからである。なお、重合性官能基を有する棒状化合物を用いた場合、本工程を行うことにより形成される位相差層には、重合性官能基によって架橋された棒状化合物が含有されることになる。   Furthermore, as the rod-shaped compound used in this step, those having a polymerizable functional group in the molecule are preferably used, and among them, those having a polymerizable functional group capable of three-dimensional crosslinking are more preferably used. Since the rod-shaped compound has a polymerizable functional group, the rod-shaped compound can be polymerized and fixed, so that a retardation layer having excellent alignment stability and hardly causing a change in retardation with time is obtained. Because you can. In addition, when the rod-shaped compound which has a polymerizable functional group is used, the phase difference layer formed by performing this process will contain the rod-shaped compound bridge | crosslinked by the polymerizable functional group.

なお、上記「3次元架橋」とは、液晶性分子を互いに3次元に重合して、網目(ネットワーク)構造の状態にすることを意味する。   The “three-dimensional cross-linking” means that liquid crystal molecules are polymerized three-dimensionally to form a network (network) structure.

上記重合性官能基としては、例えば、紫外線、電子線等の電離放射線、或いは熱の作用によって重合する重合性官能基を挙げることができる。これら重合性官能基の代表例としては、ラジカル重合性官能基、或いはカチオン重合性官能基等が挙げられる。さらにラジカル重合性官能基の代表例としては、少なくとも一つの付加重合可能なエチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が挙げられ、具体例としては、置換基を有するもしくは有さないビニル基、アクリレート基(アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基を包含する総称)等が挙げられる。また、上記カチオン重合性官能基の具体例としては、エポキシ基等が挙げられる。その他、重合性官能基としては、例えば、イソシアネート基、不飽和3重結合等が挙げられる。これらの中でもプロセス上の点から、エチレン性不飽和二重結合を持つ官能基が好適に用いられる。   Examples of the polymerizable functional group include polymerizable functional groups that are polymerized by the action of ionizing radiation such as ultraviolet rays and electron beams, or heat. Representative examples of these polymerizable functional groups include radically polymerizable functional groups or cationic polymerizable functional groups. Further, representative examples of radically polymerizable functional groups include functional groups having at least one addition-polymerizable ethylenically unsaturated double bond, and specific examples include vinyl groups having or not having substituents, An acrylate group (generic name including an acryloyl group, a methacryloyl group, an acryloyloxy group, and a methacryloyloxy group) and the like can be given. Moreover, an epoxy group etc. are mentioned as a specific example of the said cation polymerizable functional group. In addition, examples of the polymerizable functional group include an isocyanate group and an unsaturated triple bond. Among these, from the viewpoint of the process, a functional group having an ethylenically unsaturated double bond is preferably used.

さらにまた、本工程における棒状化合物は液晶性を示す液晶性材料であって、末端に上記重合性官能基を有するものが特に好ましい。このような棒状化合物を用いることにより、例えば、互いに3次元に重合して、網目(ネットワーク)構造の状態にすることができるため、列安定性を備え、かつ、光学特性の発現性に優れた上記を形成することができるからである。
なお、本工程においては片末端に重合性官能基を有する液晶性材料を用いた場合であっても、他の分子と架橋して配列安定化することができる。
Furthermore, the rod-like compound in this step is a liquid crystalline material exhibiting liquid crystallinity, and those having the polymerizable functional group at the terminal are particularly preferable. By using such a rod-like compound, for example, it can be polymerized three-dimensionally into a network (network) structure, so that it has column stability and excellent optical characteristics. This is because the above can be formed.
In this step, even when a liquid crystalline material having a polymerizable functional group at one end is used, the alignment can be stabilized by crosslinking with other molecules.

本工程に用いられる棒状化合物の具体例としては、下記式(1)〜(17)で表される化合物を例示することができる。   Specific examples of the rod-like compound used in this step include compounds represented by the following formulas (1) to (17).

なお、本工程において上記棒状化合物は、1種類のみを用いてもよく、または、2種以上を混合して用いてもよい。例えば、上記棒状化合物として、両末端に重合性官能基を1つ以上有する液晶性材料と、片末端に重合性官能基を1つ以上有する液晶性材料とを混合して用いると、両者の配合比の調整により重合密度(架橋密度)及び光学特性を任意に調整できる点から好ましい。また、信頼性確保の観点からは、両末端に重合性官能基を1つ以上有する液晶性材料が好ましいが、液晶配向の観点からは両末端の重合性官能基が1つであることが好ましい。   In addition, in this process, only 1 type may be used for the said rod-shaped compound, or 2 or more types may be mixed and used for it. For example, when the rod-shaped compound is used by mixing a liquid crystalline material having one or more polymerizable functional groups at both ends and a liquid crystalline material having one or more polymerizable functional groups at one end, The polymerization density (crosslinking density) and the optical properties are preferably adjusted by adjusting the ratio. Further, from the viewpoint of ensuring reliability, a liquid crystalline material having one or more polymerizable functional groups at both ends is preferable, but from the viewpoint of liquid crystal alignment, it is preferable that there is one polymerizable functional group at both ends. .

本工程に用いられる棒状化合物の位相差層形成用塗工液中の含有量としては、配向層上に塗布する塗布方法に応じて、位相差層形成用塗工液の粘度を所望の値にできるものであれば特に限定されない。なかでも本工程においては、上記位相差層形成用塗工液中、5質量%〜30質量%の範囲内であることが好ましく、なかでも、10質量%〜20質量%の範囲内であることが好ましい。   The content of the rod-shaped compound used in this step in the coating solution for forming the retardation layer is set to a desired value for the viscosity of the coating solution for forming the retardation layer depending on the coating method applied on the alignment layer. There is no particular limitation as long as it is possible. Especially in this process, it is preferable that it exists in the range of 5 mass%-30 mass% in the said coating liquid for phase difference layer formation, and it exists in the range of 10 mass%-20 mass% especially. Is preferred.

本工程に用いられる位相差層形成用塗工液としては、上記棒状化合物を少なくとも含むものであるが、通常、溶媒を含むものである。また、必要に応じて他の化合物を含むものであっても良い。
このような溶媒としては、上記棒状化合物を均一に溶解または分散できるものであれば特に限定されるものではないが、上記「A.配向膜の製造方法」の項に記載の内容と同様とすることができる。
The retardation layer forming coating solution used in this step contains at least the rod-like compound, but usually contains a solvent. Moreover, you may contain another compound as needed.
Such a solvent is not particularly limited as long as it can uniformly dissolve or disperse the rod-like compound, but the same as described in the above section “A. Method for producing alignment film”. be able to.

また、他の化合物としては、本工程により形成される位相差層において、棒状化合物の配列秩序を害するものでなければ特に限定されるものではない。本工程に用いられる上記他の化合物としては、例えば、カイラル剤、重合開始剤、重合禁止剤、可塑剤、界面活性剤、および、シランカップリング剤等を挙げることができる。
本工程においては、上記棒状化合物として上記重合性液晶材料を用いる場合は、上記他の化合物として重合開始剤または重合禁止剤を用いることが好ましい。
The other compound is not particularly limited as long as it does not impair the arrangement order of the rod-like compound in the retardation layer formed by this step. As said other compound used for this process, a chiral agent, a polymerization initiator, a polymerization inhibitor, a plasticizer, surfactant, a silane coupling agent etc. can be mentioned, for example.
In this step, when the polymerizable liquid crystal material is used as the rod-shaped compound, it is preferable to use a polymerization initiator or a polymerization inhibitor as the other compound.

上記重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4,4−ビス(ジメチルアミン)ベンゾフェノン、4,4−ビス(ジエチルアミン)ベンゾフェノン、α−アミノ・アセトフェノン、4,4−ジクロロベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、2,2−ジエトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、p−tert−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、2−tert−ブチルアントラキノン、2−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンズスベロン、メチレンアントロン、4−アジドベンジルアセトフェノン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)シクロヘキサン、2,6−ビス(p−アジドベンジリデン)−4−メチルシクロヘキサノン、2−フェニル−1,2−ブタジオン−2−(o−メトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1,3−ジフェニル−プロパントリオン−2−(o−エトキシカルボニル)オキシム、1−フェニル−3−エトキシ−プロパントリオン−2−(o−ベンゾイル)オキシム、ミヒラーケトン、2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、n−フェニルチオアクリドン、4,4−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、アデカ社製N1717、四臭化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾイン、エオシン、メチレンブルー等の光還元性色素とアスコルビン酸やトリエタノールアミンのような還元剤との組み合わせ等を例示できる。本工程では、これらの光重合開始剤を1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the polymerization initiator include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-bis (diethylamine) benzophenone, α-amino acetophenone, 4,4-dichloro. Benzophenone, 4-benzoyl-4-methyldiphenyl ketone, dibenzyl ketone, fluorenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methylpropiophenone, p- tert-Butyldichloroacetophenone, thioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, diethylthioxanthone, benzyldimethyl ketal, benzylmethoxyethyl acetal, benzo Methyl ether, benzoin butyl ether, anthraquinone, 2-tert-butylanthraquinone, 2-amylanthraquinone, β-chloroanthraquinone, anthrone, benzanthrone, dibenzsuberone, methyleneanthrone, 4-azidobenzylacetophenone, 2,6-bis (p- Azidobenzylidene) cyclohexane, 2,6-bis (p-azidobenzylidene) -4-methylcyclohexanone, 2-phenyl-1,2-butadion-2- (o-methoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-propanedione-2 -(O-ethoxycarbonyl) oxime, 1,3-diphenyl-propanetrione-2- (o-ethoxycarbonyl) oxime, 1-phenyl-3-ethoxy-propanetrione-2- (o-benzoyl) oxy , Michler's ketone, 2-methyl-1 [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone, naphthalene Sulfonyl chloride, quinoline sulfonyl chloride, n-phenylthioacridone, 4,4-azobisisobutyronitrile, diphenyl disulfide, benzthiazole disulfide, triphenylphosphine, camphorquinone, Adeka N1717, carbon tetrabromide, tri Examples include combinations of photoreducing dyes such as bromophenyl sulfone, benzoin peroxide, eosin, and methylene blue with reducing agents such as ascorbic acid and triethanolamine. In this step, these photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more.

さらに、上記光重合開始剤を用いる場合には、光重合開始助剤を併用することができる。このような光重合開始助剤としては、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の3級アミン類や、2−ジメチルアミノエチル安息香酸、4−ジメチルアミド安息香酸エチル等の安息香酸誘導体を例示することができるが、これらに限られるものではない。   Furthermore, when using the said photoinitiator, a photoinitiator adjuvant can be used together. Examples of such photopolymerization initiation assistants include tertiary amines such as triethanolamine and methyldiethanolamine, and benzoic acid derivatives such as ethyl 2-dimethylaminoethylbenzoate and ethyl 4-dimethylamidebenzoate. Yes, but not limited to these.

上記重合禁止剤としては、例えば、ジフェニルピクリルヒドラジド、トリ−p−ニトロフェニルメチル、p−ベンゾキノン、p−tert−ブチルカテコール、ピクリン酸、塩化銅、メチルハイドロキノン、メトキノン、tert−ブチルハイドロキノン等の反応の重合禁止剤を用いることができるが、なかでも保存安定性の点からハイドロキノン系重合禁止剤が好ましく、メチルハイドロキノンを用いるのが特に好ましい。   Examples of the polymerization inhibitor include diphenylpicrylhydrazide, tri-p-nitrophenylmethyl, p-benzoquinone, p-tert-butylcatechol, picric acid, copper chloride, methylhydroquinone, methoquinone, tert-butylhydroquinone and the like. Although a polymerization inhibitor for the reaction can be used, a hydroquinone polymerization inhibitor is preferred from the viewpoint of storage stability, and methyl hydroquinone is particularly preferred.

また、本工程における位相差層形成用塗工液には、下記に示すような他の化合物を添加することができる。添加できる他の化合物としては、例えば、多価アルコールと1塩基酸または多塩基酸を縮合して得られるポリエステルプレポリマーに、(メタ)アクリル酸を反応させて得られるポリエステル(メタ)アクリレート;ポリオール基と2個のイソシアネート基を持つ化合物を互いに反応させた後、その反応生成物に(メタ)アクリル酸を反応させて得られるポリウレタン(メタ)アクリレート;ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ノボラック型エポキシ樹脂、ポリカルボン酸ポリグリシジルエステル、ポリオールポリグリシジルエーテル、脂肪族または脂環式エポキシ樹脂、アミノ基エポキシ樹脂、トリフェノールメタン型エポキシ樹脂、ジヒドロキシベンゼン型エポキシ樹脂等のエポキシ樹脂、(メタ)アクリル酸を反応させて得られるエポキシ(メタ)アクリレート等の光重合性化合物;アクリル基やメタクリル基を有する光重合性の液晶性化合物等が挙げられる。   In addition, other compounds as shown below can be added to the retardation layer forming coating solution in this step. Other compounds that can be added include, for example, a polyester (meth) acrylate obtained by reacting a (meth) acrylic acid with a polyester prepolymer obtained by condensing a polyhydric alcohol with a monobasic acid or polybasic acid; a polyol Polyurethane (meth) acrylate obtained by reacting a group and a compound having two isocyanate groups with each other and then reacting the reaction product with (meth) acrylic acid; bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin , Epoxy resins such as novolac type epoxy resin, polycarboxylic acid polyglycidyl ester, polyol polyglycidyl ether, aliphatic or cycloaliphatic epoxy resin, amino group epoxy resin, triphenolmethane type epoxy resin, dihydroxybenzene type epoxy resin, ( Meta) Epoxy obtained by reacting acrylic acid (meth) photopolymerizable compound such as acrylate; photopolymerizable liquid crystal compound having an acryl group or methacryl group and the like.

本工程における位相差層形成用塗工液の塗布方法としては、配向層上に位相差層形成用塗工液からなる塗膜を安定的に形成できる方法であれば特に限定されるものではない。本工程において、具体的には、上記「A.配向膜の製造方法」の項に記載の配向層形成用層の形成方法と同様とすることができる。   The coating method for the retardation layer forming coating liquid in this step is not particularly limited as long as it can stably form a coating film made of the retardation layer forming coating liquid on the alignment layer. . In this step, specifically, it can be the same as the method for forming the alignment layer forming layer described in the above section “A. Method for producing alignment film”.

本工程により形成される塗膜の厚みは、後述する配向工程後に、所定の位相差性を達成できる範囲内とするものであれば特に限定されるものではなく、本発明の製造方法により製造される位相差フィルムの用途等に応じて適宜決定されるものである。   The thickness of the coating film formed in this step is not particularly limited as long as it is within the range in which a predetermined retardation can be achieved after the orientation step described later, and is manufactured by the manufacturing method of the present invention. It is appropriately determined depending on the use of the retardation film.

本工程においては、上記配向工程後の面内レターデーションがλ/4分に相当するような範囲内の厚みにする場合、具体的にどの程度の厚みにするかは、棒状化合物の種類により適宜決定されることになる。もっとも、当該厚みは本工程において一般的に用いられる棒状化合物であれば、通常、上記配向工程後の厚みが0.1μm〜1.9μmの範囲内となるものであることが好ましく、0.25μm〜1.75μmの範囲内となるものであることがより好ましく、0.5μm〜1.5μmの範囲内となるものであることがさらに好ましい。   In this step, when the in-plane retardation after the alignment step is set to a thickness within a range corresponding to λ / 4 minutes, the specific thickness depends on the type of rod-shaped compound. Will be decided. However, if the thickness is a rod-like compound that is generally used in this step, it is usually preferable that the thickness after the alignment step is in the range of 0.1 μm to 1.9 μm, and 0.25 μm. More preferably, it is within the range of ˜1.75 μm, and even more preferably within the range of 0.5 μm to 1.5 μm.

2.配向工程
本発明における配向工程は、上記位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、上記配向層に形成された微小なライン状凹凸構造の方向に沿って配列させる工程である。
2. Alignment step The alignment step in the present invention is a step in which rod-like compounds contained in the coating film of the retardation layer forming coating liquid are arranged along the direction of the minute line-shaped uneven structure formed in the alignment layer. is there.

本工程における棒状化合物を配向層に形成された微小なライン状凹凸構造の方向に沿って配列させる方法としては、所望の方向に配列させることができる方法であれば特に限定されるものではなく、一般的な方法を用いることができるが、棒状化合物が液晶性材料である場合には、上記塗膜を棒状化合物の液晶相形成温度以上に加温する方法が用いられる。具体的には、上記棒状化合物の種類等により異なるものであるが、50℃〜60℃の範囲内で加温する方法を挙げることができる。   The method for arranging the rod-shaped compound in this step along the direction of the fine line-shaped uneven structure formed in the alignment layer is not particularly limited as long as it can be arranged in a desired direction, Although a general method can be used, when the rod-shaped compound is a liquid crystalline material, a method of heating the coating film to a temperature higher than the liquid crystal phase forming temperature of the rod-shaped compound is used. Specifically, although it differs depending on the kind of the rod-like compound, a method of heating within a range of 50 ° C to 60 ° C can be mentioned.

本工程により形成される位相差層の面内レターデーション値としては、本発明により製造される位相差フィルムの用途等に応じて適宜決定することができる。したがって、本発明により製造される位相差フィルムの用途に応じて適宜調整すればよい。
本工程においては、位相差層の面内レターデーション値がλ/4分に相当する程度のものとする場合には、具体的には、100nm〜160nmの範囲内であることが好ましく、110nm〜150nmの範囲内であることがより好ましく、120nm〜140nmの範囲内であることがさらに好ましい。
The in-plane retardation value of the retardation layer formed by this step can be appropriately determined according to the use of the retardation film produced according to the present invention. Therefore, what is necessary is just to adjust suitably according to the use of the phase difference film manufactured by this invention.
In this step, in the case where the in-plane retardation value of the retardation layer corresponds to λ / 4 minutes, specifically, it is preferably in the range of 100 nm to 160 nm, More preferably within the range of 150 nm, even more preferably within the range of 120 nm to 140 nm.

ここで、面内レターデーション値とは、屈折率異方体の面内方向における複屈折性の程度を示す指標であり、面内方向において屈折率が最も大きい遅相軸方向の屈折率をNx、遅相軸方向に直交する進相軸方向の屈折率をNy、屈折率異方体の面内方向に垂直な方向の厚みをdとした場合に、
Re[nm]=(Nx−Ny)×d[nm]
で表わされる値である。面内レターデーション値(Re値)は、例えば、王子計測機器株式会社製 KOBRA−WRを用い、平行ニコル回転法により測定することができるし、微小領域の面内レタデーション値はAXOMETRICS社(米国)製のAxoScanでミューラーマトリクスを使って測定することも出来る。また、本願明細書においては特に別段の記載をしない限り、Re値は波長589nmにおける値を意味するものとする。
Here, the in-plane retardation value is an index indicating the degree of birefringence in the in-plane direction of the refractive index anisotropic body. When the refractive index in the fast axis direction orthogonal to the slow axis direction is Ny and the thickness in the direction perpendicular to the in-plane direction of the refractive index anisotropic body is d,
Re [nm] = (Nx−Ny) × d [nm]
It is a value represented by. The in-plane retardation value (Re value) can be measured by, for example, KOBRA-WR manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd. by the parallel Nicol rotation method, and the in-plane retardation value of a minute region is AXOMETRICS (USA). Measurements can also be made using a Mueller matrix with an AxoScan made by the manufacturer. In the present specification, unless otherwise stated, the Re value means a value at a wavelength of 589 nm.

3.位相差フィルムの製造方法
本発明の位相差フィルムの製造方法は、上記塗布工程および配向工程を少なくとも有するものであるが、必要に応じて、塗布工程後に、位相差層形成用塗工液の塗膜を乾燥する乾燥工程や、上記棒状化合物として重合性液晶材料を用いる場合、上記重合性液晶材料を重合する重合工程を有するものであっても良い。
3. Method for producing retardation film The method for producing a retardation film of the present invention comprises at least the coating step and the orientation step. If necessary, after the coating step, a coating solution for forming a retardation layer is applied. When a polymerizable liquid crystal material is used as the drying step for drying the film or the rod-like compound, a polymerization step for polymerizing the polymerizable liquid crystal material may be included.

上記乾燥工程における塗膜の乾燥方法としては、加熱乾燥方法、減圧乾燥方法、ギャップ乾燥方法等、一般的に用いられる乾燥方法を用いることができる。また、本工程における乾燥方法は、単一の方法に限られず、例えば残留する溶媒量に応じて順次乾燥方式を変化させる等の態様により、複数の乾燥方式を採用してもよい。
さらに、上記塗膜の乾燥方法としては、一定の温度に調整された乾燥風を、上記塗膜に当てる方法を用いることもできるが、このようは乾燥方法を用いる場合は、上記塗膜に当てる乾燥風の風速が3m/秒以下であることが好ましく、特に30m/分以下であることが好ましい。
As a method for drying the coating film in the drying step, a commonly used drying method such as a heat drying method, a reduced pressure drying method, a gap drying method, or the like can be used. Further, the drying method in this step is not limited to a single method, and a plurality of drying methods may be employed, for example, by changing the drying method sequentially according to the amount of remaining solvent.
Furthermore, as a method for drying the coating film, a method of applying a drying air adjusted to a certain temperature to the coating film can be used. When using such a drying method, the method is applied to the coating film. The wind speed of the drying wind is preferably 3 m / second or less, and particularly preferably 30 m / minute or less.

上記重合工程における重合性液晶材料の重合方法としては、重合性液晶材料が有する重合性官能基の種類に応じて任意に決定すればよい。なかでも本工程においては、活性放射線の照射により硬化させる方法が好ましい。活性放射線としては、重合性液晶材料を重合することが可能な放射線であれば特に限定されるものではないが、通常は装置の容易性等の観点から紫外光または可視光を使用することが好ましい。   What is necessary is just to determine arbitrarily as a polymerization method of the polymeric liquid crystal material in the said superposition | polymerization process according to the kind of polymeric functional group which polymeric liquid crystal material has. In particular, in this step, a method of curing by irradiation with actinic radiation is preferable. The actinic radiation is not particularly limited as long as it is a radiation capable of polymerizing the polymerizable liquid crystal material, but it is usually preferable to use ultraviolet light or visible light from the viewpoint of the ease of the apparatus. .

また、本発明においては、図10に例示するような位相差層上に粘着層6を形成する粘着層形成工程(図10(a)〜(b))およびセパレータ7を積層するセパレータ積層工程(図10(b)〜(c))や、配向工程後に、長尺状の位相差フィルムを裁断し、枚葉に成形された位相差フィルムとして得るための裁断工程を有するものであっても良い。
また、図10中の符号については、図1のものと同一の部材を示すものであるので、ここでの説明は省略する。
Further, in the present invention, an adhesive layer forming step (FIGS. 10A to 10B) for forming the adhesive layer 6 on the retardation layer as illustrated in FIG. 10 and a separator laminating step for laminating the separator 7 ( 10 (b) to (c)) or after the orientation step, the long retardation film may be cut to have a cutting step for obtaining a retardation film formed on a sheet. .
Also, the reference numerals in FIG. 10 indicate the same members as those in FIG.

本発明においては、これらの各工程が独立して行われるもの、すなわち、工程毎に長尺状の配向膜等をロール状に巻き取られた状態から巻き出し、所定の処理を行った後に巻き取るものであっても良いが、全工程が連続して行われること、すなわち、原材料からロールトゥロールにて行われることが好ましい。
具体的には、上述の配向膜の製造方法により製造される配向膜が長尺状である場合には、長尺状の配向膜から最終製造物である位相差フィルムが途中ロール状に巻き取られることなくロールトゥロールで製造されることが好ましい。
In the present invention, each of these steps is performed independently, that is, a long alignment film or the like is unwound in a roll shape for each step and wound after performing a predetermined treatment. Although it may be taken, it is preferable that all steps are performed continuously, that is, the raw material is rolled to roll.
Specifically, when the alignment film manufactured by the above-described method for manufacturing an alignment film is long, the phase difference film as the final product is wound up in a roll shape from the long alignment film. It is preferable to manufacture with a roll toe roll without being done.

4.位相差フィルム
本発明により製造される位相差フィルムの用途としては、視野角補償や、第1位相差領域および第2位相差領域を有するパターン位相差フィルムと共に用いられる3次元表示装置等を挙げることができ、なかでも、粉塵や静電気による影響を受けやすく、また低コストであることが要求される表示装置に好適に用いられる。
4). Retardation Film Use of the retardation film produced according to the present invention includes viewing angle compensation, a three-dimensional display device used with a pattern retardation film having a first retardation region and a second retardation region, and the like. In particular, it is suitable for display devices that are easily affected by dust and static electricity and are required to be low in cost.

なお、パターン位相差フィルムと共に3次元表示装置に用いられる態様について図を参照して説明する。図11は、パターン位相差フィルムと、位相差フィルムとしてのλ/4板とを組み合わせて用い、パッシブ方式により3次元表示が可能な発光型表示装置の一例を示すものである。その原理は次の通りである。
まず、発光型ディスプレイの画素部を、右目用映像表示画素と左目用映像表示画素の2種類の複数の画素にパターン状に分割し、一方のグループの画素では右目用の映像を表示させ、他方のグループの画素では左目用の映像を表示させる。次に、パターン位相差フィルムとして、位相差層の第1位相差領域が左目用映像表示画素の配列パターンに対応するように形成され、かつ第1位相差領域以外の領域(図11では、当該領域には何も形成されていないものとする。)が右目用映像表示画素の配列パターンに対応するように形成されたものを用意する。そして、このような本態様に用いられるパターン位相差フィルムを、偏光板の表示面側に配置し、さらにλ/4板をパターン位相差フィルムの表示面側に配置する。このとき、第1位相差領域の遅相軸の方向と、偏光板の偏光軸の方向とが45°で交差するようにし、さらに第1位相差領域の遅相軸方向とλ/4板の遅相軸方向とが平行または直交の関係になるようにする。このようにパターン位相差フィルムとλ/4板とを配置することによって、右目用映像表示画素および左目用映像表示画素によって表示された映像(以下、それぞれ「右目用映像」、「左目用映像」と称する場合がある。)は、次のような経路で観察者に視認されることになる。
すなわち、右目用映像表示画素および左目用映像表示画素によって表示された各映像は、まず、偏光板を透過することから、それぞれが直線偏光に変換されることになる。ここで、図11においては、偏光板の偏光軸は0°方向となっているため、第2偏光板を透過した各映像も、0°方向の直線偏光となる。次に、このように直線偏光に(0°)変換された各映像は、本態様に用いられるパターン位相差フィルムに入射することになるが、左目用映像は第1位相差領域を通過し、右目用映像は位相差層が形成されていない領域を通過するため、左目用映像は偏光軸が90°の直線偏光(L1)として、パターン位相差フィルムを透過するが、右目用映像には変化はなく、偏光軸が0°の直線偏光(L2)のままパターン位相差フィルムを透過することになる。次に、L1およびL2がλ/4板に入射することにより、左目用映像は右旋回の円偏光(C1)に、右目用映像は左旋回の円偏光(C2)に、それぞれ変換されることになる。
このように、パターン位相差フィルムおよびλ/4板を通過した右目用映像および左目用映像は、互いに直交する円偏光に変換されることになるため、視聴者に右目用レンズと左目用レンズとに互いに直交する円偏光レンズを採用した円偏光メガネを装着させ、右目用の映像が右目用レンズのみを通過し、かつ左目用の映像が左目用のレンズのみを通過するようにすることによって、右目用の映像が右目のみに届き、左目用の映像が左目のみに届くようにすることができ、3次元表示が可能となるのである。
In addition, the aspect used for a three-dimensional display apparatus with a pattern phase difference film is demonstrated with reference to figures. FIG. 11 shows an example of a light-emitting display device that uses a combination of a pattern retardation film and a λ / 4 plate as a retardation film and can perform three-dimensional display by a passive method. The principle is as follows.
First, the pixel portion of the light-emitting display is divided into a plurality of two types of pixels, a right-eye video display pixel and a left-eye video display pixel, and a right-eye video is displayed on one group of pixels, The left eye image is displayed on the pixels of the group. Next, as the pattern retardation film, the first retardation region of the retardation layer is formed so as to correspond to the arrangement pattern of the left-eye image display pixels, and the region other than the first retardation region (in FIG. Nothing is formed in the area.) Is prepared so as to correspond to the arrangement pattern of the right-eye video display pixels. And the pattern phase difference film used for such this aspect is arrange | positioned at the display surface side of a polarizing plate, Furthermore, (lambda) / 4 board is arrange | positioned at the display surface side of a pattern phase difference film. At this time, the direction of the slow axis of the first retardation region and the direction of the polarization axis of the polarizing plate intersect at 45 °, and further, the slow axis direction of the first retardation region and the λ / 4 plate The slow axis direction should be parallel or orthogonal. By disposing the pattern retardation film and the λ / 4 plate in this manner, images displayed by the right-eye image display pixel and the left-eye image display pixel (hereinafter referred to as “right-eye image” and “left-eye image”, respectively) Is visually recognized by the observer through the following route.
That is, each image displayed by the right-eye image display pixel and the left-eye image display pixel first passes through the polarizing plate, and thus is converted into linearly polarized light. Here, in FIG. 11, since the polarization axis of the polarizing plate is in the 0 ° direction, each image transmitted through the second polarizing plate is also linearly polarized light in the 0 ° direction. Next, each image thus converted into linearly polarized light (0 °) is incident on the pattern retardation film used in this embodiment, but the left-eye image passes through the first retardation region, Since the image for the right eye passes through an area where no retardation layer is formed, the image for the left eye is transmitted through the pattern retardation film as linearly polarized light (L1) having a polarization axis of 90 °, but the image for the right eye is changed. No, the pattern retardation film is transmitted with the linearly polarized light (L2) having a polarization axis of 0 °. Next, when L1 and L2 are incident on the λ / 4 plate, the left-eye image is converted into right-handed circularly polarized light (C1), and the right-eye image is converted into left-handed circularly polarized light (C2). It will be.
As described above, the right-eye image and the left-eye image that have passed through the pattern retardation film and the λ / 4 plate are converted into circularly polarized light orthogonal to each other. By attaching circularly polarized glasses that use circularly polarized lenses orthogonal to each other, the right-eye image passes only through the right-eye lens, and the left-eye image passes only through the left-eye lens, The right-eye image can reach only the right eye, and the left-eye image can reach only the left eye, which enables three-dimensional display.

本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has any configuration that has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention and that exhibits the same effects. Are included in the technical scope.

以下、実施例および比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples.

[実施例1] [Example 1]

基板の長尺方向に対して45°方向にペーパー研磨したニッケル基板からなる、ランダムな微小なライン状凹凸構造を有する版を作成した。   A plate having a random minute line-shaped uneven structure made of a nickel substrate that was paper-polished in the direction of 45 ° with respect to the longitudinal direction of the substrate was prepared.

また、微小なラインの凹凸構造の寸法は、高さ:5nm〜5μm、幅:1nm〜3μm、周期(ピッチ):0.5nm〜3μmであった。
なお、微小なライン状凹凸構造の幅、高さ、周期については、日立ハイテクノロジーズ製走査型電子顕微鏡S−4500を用いて、表面を観察した。また、ガラス切片で断面を製作し、日立ハイテクノロジーズ製走査型電子顕微鏡S−4500を用いて、上記フィルムの断面を観察し、得られた画像から計測した。
The dimensions of the concavo-convex structure of minute lines were height: 5 nm to 5 μm, width: 1 nm to 3 μm, and period (pitch): 0.5 nm to 3 μm.
In addition, about the width | variety of the fine line-shaped uneven structure, the height, and the period, the surface was observed using Hitachi High-Technologies scanning electron microscope S-4500. Moreover, the cross section was manufactured with the glass section | slice, the cross section of the said film was observed using the scanning electron microscope S-4500 made from Hitachi High-Technologies, and it measured from the obtained image.

[評価]
(1)配向膜の作製
以下の方法により、上記原版を用いて配向膜の形成性について確認した。
透明フィルム基材として60μmのTAC(トリアセチルセルロース)に、固形分100%、200mPa・sのアクリル系紫外線硬化樹脂組成物を厚み10μmとなるようにコーティングし、上記で作成した原版にゴムロールで200MPa/cmの加重で押し付け、微小凹凸構造とパターンに充填した後、紫外線を照射し、固化させたのち剥離し、配向層を有する基材(配向膜)を得た。
[Evaluation]
(1) Preparation of alignment film The following method confirmed the formation property of the alignment film using the said original plate.
As a transparent film substrate, TAC (triacetylcellulose) of 60 μm was coated with an acrylic ultraviolet curable resin composition having a solid content of 100% and 200 mPa · s so as to have a thickness of 10 μm. After pressing with a load of / cm to fill the fine concavo-convex structure and pattern, the substrate was irradiated with ultraviolet rays, solidified and then peeled to obtain a substrate (alignment film) having an alignment layer.

得られた配向膜について、上述の走査型電子顕微鏡を用いた測定により測定したところ、上記パターン配向膜は、原版の45°の微小なライン状凹凸構造の転写が確認された。   When the obtained alignment film was measured by measurement using the above-mentioned scanning electron microscope, it was confirmed that the pattern alignment film had a fine line-shaped uneven structure of 45 ° of the original.

また、上記配向層を構成するアクリル系紫外線硬化樹脂組成物の反応率は70%であった。   The reaction rate of the acrylic ultraviolet curable resin composition constituting the alignment layer was 70%.

上記配向膜に、希釈溶剤としてMEK(メチルエチルケトン)とMIBK(メチルイソブチルケトン)とが質量比で4対1で混合されてなる希釈溶剤で希釈された固形分20%の溶剤分散型紫外線硬化液晶を厚み1μmとなるようにコーティングし、溶剤を50℃で30秒間乾燥蒸発させたのち紫外線硬化を行い、位相差層(以下、液晶層とする場合がある。)を有する位相差フィルムを得た。   A solvent-dispersed UV curable liquid crystal having a solid content of 20% diluted with a diluent solvent in which MEK (methyl ethyl ketone) and MIBK (methyl isobutyl ketone) are mixed at a mass ratio of 4 to 1 is used as a diluent solvent on the alignment film. The film was coated to a thickness of 1 μm, and the solvent was dried and evaporated at 50 ° C. for 30 seconds, followed by UV curing to obtain a retardation film having a retardation layer (hereinafter sometimes referred to as a liquid crystal layer).

(密着性評価)
得られた位相差フィルムについて、JIS K5600−5−6に規定するクロスカット試験(90°方向でクロスするように切れ目を入れ、セロファンテープ(ニチバン社製)で剥離する試験)に準じて行った。具体的には、液晶面に縦、横に90°でクロスするように切れ目を入れ、この上にセロファンテープを貼り付け、90°でゆっくり剥がし、位相差層および配向層が剥がれずに残るかどうかを確認した。全体の80%以上が剥離した場合は、実用性がないと判断した。
その結果、剥離がなく、十分な密着性を有することが確認できた。
(位相差性評価)
クロスニコルによる、目視確認を行ったところ、45°での配向が明確に確認された。
(Adhesion evaluation)
About the obtained retardation film, it performed according to the cross-cut test prescribed | regulated to JISK5600-5-6 (the test which makes a cut so that it may cross | cross in a 90 degree direction, and peels with a cellophane tape (made by Nichiban Co., Ltd.)). . Specifically, make a cut so that it crosses the liquid crystal surface vertically and horizontally at 90 °, and apply cellophane tape on it, peel it slowly at 90 °, and the retardation layer and alignment layer will remain without peeling off I confirmed. When 80% or more of the whole peeled, it was judged that there was no practicality.
As a result, it was confirmed that there was no peeling and sufficient adhesion was obtained.
(Phase difference evaluation)
As a result of visual confirmation using crossed Nicols, orientation at 45 ° was clearly confirmed.

[実施例2]
基板の長尺方向に対して135°方向にペーパー研磨したクラックレスクロム基板からなる、ランダムな微小なライン状凹凸構造を有する版を作成した。
[Example 2]
A plate having a random fine line-shaped uneven structure made of a crackless chrome substrate which was ground with a paper in a direction of 135 ° with respect to the longitudinal direction of the substrate was prepared.

[評価]
(1)配向膜の作製
熱可塑性アクリル樹脂組成物(粘度2g/10分)を融点以上に加熱し溶融化した後、Tダイ法で厚み100μmとなるように版にコーティングし、ゴムロールで1500MPa/cmの加重で押し付け、微小凹凸構造とパターンに充填した後、固化させたのち剥離し、配向層を有する基材(配向膜)を得た。
[Evaluation]
(1) Preparation of alignment film After heating and melting a thermoplastic acrylic resin composition (viscosity 2 g / 10 min) to a temperature equal to or higher than the melting point, it is coated on a plate to a thickness of 100 μm by a T-die method, and 1500 MPa / It was pressed with a weight of cm, filled with a fine concavo-convex structure and a pattern, solidified and then peeled to obtain a substrate (alignment film) having an alignment layer.

得られた配向膜について、上述の走査型電子顕微鏡を用いた測定により測定したところ、135°の微小なライン状凹凸構造を有していることが確認された。   When the obtained alignment film was measured by the measurement using the above-mentioned scanning electron microscope, it was confirmed that it had a fine line-shaped uneven structure of 135 °.

また、上記配向層を構成する熱可塑性アクリル樹脂組成物の反応率は100%であった。   Moreover, the reaction rate of the thermoplastic acrylic resin composition which comprises the said orientation layer was 100%.

(2)位相差フィルムの作製
実施例1と同様にして位相差層を形成し、密着性評価および位相差性評価を行った。
その結果、密着性については十分な密着性を有することが確認できた。
また、配向性については135°での配向が明確に確認された。
(2) Production of Retardation Film A retardation layer was formed in the same manner as in Example 1, and adhesion evaluation and retardation evaluation were performed.
As a result, it was confirmed that the adhesiveness was sufficient.
As for the orientation, the orientation at 135 ° was clearly confirmed.

[実施例3]
基板の長尺方向に対して90°方向にペーパー研磨したDLC基板からなる、ランダムな微小なライン状凹凸構造を有する版を作成した。
[Example 3]
A plate having a random minute line-like uneven structure made of a DLC substrate that was paper-polished in the direction of 90 ° with respect to the longitudinal direction of the substrate was prepared.

[評価]
(1)配向膜の作製
透明フィルム基材として60μmのTACに、希釈溶剤としてMEKとMIBKとが質量比で4対1で混合されてなる希釈溶剤で希釈された固形分45%、2500mPa・sのアクリル系紫外線硬化樹脂組成物を厚み8μmとなるようにコーティングし、溶剤を80℃で30秒間で乾燥蒸発させた後、上記で作成した版にゴムロールで1000MPa/cmの加重で押し付け、微小凹凸構造とパターンに充填した後、紫外線を照射し、固化させたのち剥離し、配向層を有する基材(配向膜)を得た。
[Evaluation]
(1) Preparation of alignment film 45% solid content diluted with a dilution solvent in which MEK and MIBK are mixed at a mass ratio of 4: 1 to 60 μm TAC as a transparent film substrate, 2500 mPa · s After coating the acrylic UV curable resin composition with a thickness of 8 μm and drying and evaporating the solvent at 80 ° C. for 30 seconds, it was pressed against the prepared plate with a rubber roll under a load of 1000 MPa / cm, and fine irregularities After filling the structure and pattern, the substrate was irradiated with ultraviolet rays, solidified and then peeled to obtain a substrate (alignment film) having an alignment layer.

得られた配向膜について、上述の走査型電子顕微鏡を用いた測定により測定したところ、90°の微小なライン状凹凸構造を有していることが確認された。   When the obtained alignment film was measured by the measurement using the above-mentioned scanning electron microscope, it was confirmed that it had a fine line-shaped uneven structure of 90 °.

また、上記配向層を構成するアクリル系紫外線硬化樹脂組成物の反応率は45%であった。   The reaction rate of the acrylic ultraviolet curable resin composition constituting the alignment layer was 45%.

(2)位相差フィルムの作製
実施例1と同様にして位相差層を形成し、密着性評価および位相差性評価を行った。
その結果、密着性については十分な密着性を有することが確認できた。
また、配向性については90°での配向が明確に確認された。
(2) Production of Retardation Film A retardation layer was formed in the same manner as in Example 1, and adhesion evaluation and retardation evaluation were performed.
As a result, it was confirmed that the adhesiveness was sufficient.
As for the orientation, the orientation at 90 ° was clearly confirmed.

[比較例]
表面粗さが0.05Sとなるように鏡面研磨したニッケル基板からなる版を作成した。
[Comparative example]
A plate made of a nickel substrate that was mirror-polished so that the surface roughness was 0.05 S was prepared.

なお、得られた原版の形状については実施例1と同様に測定したが、微小凹凸構造は計測できなかった   In addition, although the shape of the obtained original plate was measured in the same manner as in Example 1, the minute uneven structure could not be measured.

透明フィルム基材として60μのTACに、固形分100%、200mPa・sのアクリル系紫外線硬化樹脂組成物を厚み10μmとなるようにコーティングし、上記で作成した版にゴムロールで200MPa/cmの加重で押し付け、微小凹凸構造とパターンに充填した後、紫外線を照射し、固化させたのち剥離し、配向層を有する基材(配向膜)を得た。   As a transparent film substrate, TAC of 60 μm is coated with an acrylic ultraviolet curable resin composition having a solid content of 100% and 200 mPa · s so as to have a thickness of 10 μm. After pressing and filling the fine concavo-convex structure and pattern, the substrate was irradiated with ultraviolet rays, solidified and then peeled to obtain a base material (alignment film) having an alignment layer.

得られた配向膜について、上述の走査型電子顕微鏡を用いた測定により測定したところ、微小凹凸構造は計測できなかった   About the obtained alignment film, when measured by the measurement using the above-mentioned scanning electron microscope, the minute uneven structure could not be measured.

また、上記配向層を構成するアクリル系紫外線硬化樹脂組成物の反応率は70%であった。   The reaction rate of the acrylic ultraviolet curable resin composition constituting the alignment layer was 70%.

(2)パターン位相差フィルムの作製
実施例1と同様にして位相差層を形成し、密着性評価および位相差性評価を行った。
その結果、密着性については十分な密着性を有することが確認できた。
(2) Production of Pattern Retardation Film A retardation layer was formed in the same manner as in Example 1, and adhesion evaluation and retardation evaluation were performed.
As a result, it was confirmed that the adhesiveness was sufficient.

しかしながら、配向性については配向されておらず、実用性に問題があることが確認された。   However, the orientation was not oriented, and it was confirmed that there was a problem in practicality.

1 … 透明フィルム基材
2´ … 配向層形成用層
2 … 配向層
3 … 位相差層
5 … 反射防止層またはアンチグレア層
6 … 粘着層
7 … セパレータ
10 … 配向層用原版
20 … 配向膜
30 … 位相差フィルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent film base material 2 '... Orientation layer formation layer 2 ... Orientation layer 3 ... Retardation layer 5 ... Antireflection layer or anti-glare layer 6 ... Adhesion layer 7 ... Separator 10 ... Master for orientation layer 20 ... Orientation film 30 ... Retardation film

Claims (10)

微小なライン状凹凸構造が略一定方向にランダムに形成された配向層用原版上に、配向層形成用樹脂組成物からなる配向層形成用層を接触させた後、加圧し、前記配向層形成用層に前記配向層用原版表面の形状を賦型する賦型工程と、
前記賦型工程後に、前記配向層形成用層を硬化させる硬化工程および前記配向層形成用層を前記配向層用原版から剥離する剥離工程を有することを有することを特徴とする配向膜の製造方法。
An alignment layer forming layer comprising a resin composition for forming an alignment layer is brought into contact with an alignment layer original plate on which fine line-shaped uneven structures are randomly formed in a substantially constant direction, and then pressed to form the alignment layer. A forming step of forming the shape of the original surface of the alignment layer into the working layer;
After the molding step, the method includes a curing step of curing the alignment layer forming layer and a peeling step of peeling the alignment layer forming layer from the alignment layer original plate. .
前記配向層用原版が、ロール版であることを特徴とする請求項1に記載の配向膜の製造方法。   The method for producing an alignment film according to claim 1, wherein the alignment layer original plate is a roll plate. 前記剥離工程が、前記硬化工程後に行われることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の配向膜の製造方法。   The method for producing an alignment film according to claim 1, wherein the peeling step is performed after the curing step. 前記賦型工程が、
前記配向層用原版上に前記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、前記配向層形成用層を形成する充填処理と、
前記配向層形成用層上に透明フィルム基材を配置する配置処理と、
を行った後に、加圧するものであることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載の配向膜の製造方法。
The shaping step is
Coating the alignment layer forming resin composition on the alignment layer original plate, and forming the alignment layer forming layer; and
Arrangement treatment for disposing a transparent film substrate on the alignment layer forming layer;
The method for producing an alignment film according to any one of claims 1 to 3, wherein the pressure is applied after the step.
前記賦型工程が、
透明フィルム基材上に前記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、前記配向層形成用層を形成する配向層形成用層形成処理と、
前記配向層形成用層を、前記配向層用原版上に接触させる接触処理と、
を行った後に、加圧するものであることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載の配向膜の製造方法。
The shaping step is
Applying the alignment layer forming resin composition on a transparent film substrate, forming an alignment layer forming layer, and forming an alignment layer forming layer.
A contact treatment in which the alignment layer forming layer is brought into contact with the alignment layer original plate; and
The method for producing an alignment film according to any one of claims 1 to 3, wherein the pressure is applied after the step.
前記賦型工程が、
前記配向層用原版上に前記配向層形成用樹脂組成物を塗工し、前記配向層形成用層を形成する充填処理、
を行った後に、加圧するものであることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載の配向膜の製造方法。
The shaping step is
A filling treatment for coating the alignment layer forming resin composition on the alignment layer original plate and forming the alignment layer forming layer;
The method for producing an alignment film according to any one of claims 1 to 3, wherein the pressure is applied after the step.
前記微小なライン状凹凸構造の高さが5nm〜5μmの範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれかの請求項に記載の配向膜の製造方法。   The method for manufacturing an alignment film according to any one of claims 1 to 6, wherein a height of the minute line-shaped uneven structure is in a range of 5 nm to 5 µm. 前記配向層形成用樹脂組成物の粘度が、5mPa・s〜200000mPa・sの範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項7までのいずれかの請求項に記載の配向膜の製造方法。   The viscosity of the alignment layer forming resin composition is in the range of 5 mPa · s to 200,000 mPa · s, and the alignment film according to any one of claims 1 to 7 is manufactured. Method. 前記配向層形成用樹脂組成物が電離放射線硬化性樹脂組成物であることを特徴とする請求項1から請求項8までのいずれかの請求項に記載の配向膜の製造方法。   The method for producing an alignment film according to any one of claims 1 to 8, wherein the alignment layer forming resin composition is an ionizing radiation curable resin composition. 請求項1から請求項9までのいずれかの請求項に記載の配向膜の製造方法により形成された配向膜に含まれる配向層上に、屈折率異方性を有する棒状化合物を含む位相差層形成用塗工液を塗布する塗布工程と、
前記位相差層形成用塗工液の塗膜に含まれる棒状化合物を、前記配向層に形成された微小なライン状凹凸構造の方向に沿って配列させる配向工程と、
を有することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
A retardation layer comprising a rod-shaped compound having refractive index anisotropy on an alignment layer included in the alignment film formed by the method for manufacturing an alignment film according to any one of claims 1 to 9. An application step of applying a forming coating liquid;
An alignment step in which the rod-shaped compound contained in the coating film of the retardation layer forming coating liquid is aligned along the direction of the minute line-shaped uneven structure formed in the alignment layer;
A method for producing a retardation film, comprising:
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