JP5775009B2 - Wiring board - Google Patents

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Description

本発明は、配線基板に関する。   The present invention relates to a wiring board.

近年、コア層の少なくとも一方の主面上において導体層と樹脂絶縁層とがそれぞれ少なくとも1層積層され、最表面にソルダーレジスト層が形成されてなる配線基板、いわゆる樹脂製配線基板を用い、この上に半導体素子を搭載して半導体パッケージを製造することが盛んに行われている。   In recent years, a wiring board in which at least one conductor layer and a resin insulating layer are laminated on at least one main surface of a core layer and a solder resist layer is formed on the outermost surface, a so-called resin wiring board is used. 2. Description of the Related Art A semiconductor package is actively manufactured by mounting a semiconductor element thereon.

半導体素子は、配線基板の主面をなす半導体素子搭載領域のパッド上に、はんだバンプを介して電気的に接続される。一方、配線基板の裏面側にはベース基板と電気的に接続するためのはんだボールや、ソケットに挿入して電気的に接続するためのピンなどの外部端子が形成されている。なお、外部端子の形態に依存して、一般に、前者のように外部端子としてはんだボールを有する配線基板は、いわゆるボールグリッドアレイ(BGA)配線基板と呼ばれ、後者のように外部端子としてピンを有する配線基板は、いわゆるピングリッドアレイ(PGA)配線基板と呼ばれる。   The semiconductor element is electrically connected to the pad in the semiconductor element mounting region that forms the main surface of the wiring board via solder bumps. On the other hand, external terminals such as solder balls for electrical connection with the base substrate and pins for electrical connection by insertion into a socket are formed on the back side of the wiring substrate. In general, depending on the form of the external terminal, a wiring board having solder balls as an external terminal as in the former is called a so-called ball grid array (BGA) wiring board, and pins are used as external terminals in the latter. The wiring board which has is called a so-called pin grid array (PGA) wiring board.

特に、PGAタイプの配線基板は、配線基板のソルダーレジスト層に形成された開口部に対してピンを挿設し、開口部に露出した導体層と電気的に接続させることによって得ることができる。ピンの固定は、開口部に露出した導体層にはんだを印刷した後、当該ピンを上記開口部内に挿入してからリフローを行うことにより行う。   In particular, a PGA type wiring board can be obtained by inserting a pin into an opening formed in a solder resist layer of the wiring board and electrically connecting the conductive layer exposed in the opening. The pin is fixed by printing solder on the conductor layer exposed in the opening and then reflowing after inserting the pin into the opening.

しかしながら、一般にピンは電気伝導性に優れた金属材料から構成されるため、ピンとはんだとの濡れ性が高くなる。このため、リフローによりはんだを溶融させた際に、溶融したはんだはピンの基部のみではなく、当該基部の中心から上方に向けて立設した軸部にまで濡れ広がり、軸部の側面においてもはんだ層が形成されてしまう場合がある。   However, since the pin is generally made of a metal material having excellent electrical conductivity, the wettability between the pin and the solder is increased. For this reason, when the solder is melted by reflow, the melted solder spreads not only to the base of the pin but also to the shaft standing up from the center of the base, and the solder also on the side of the shaft A layer may be formed.

この場合、ピンの軸部の太さが設計値よりも増大してしまい、ソケットの孔径よりも大きくなって、外部端子であるピンを当該ソケットに装着することができなくなってしまうという問題が生じる。また、ピンをソケットに装着できたとしても、その軸部には電気伝導性に劣るはんだ層が形成されているために、ピンとソケットとの接続部における電気伝導性が劣化し、配線基板からの電気信号を高いS/N比の下に外部回路に伝送することが困難になるとともに、配線基板に供給すべき電力も劣化してしまい、配線基板の駆動性が劣化する場合がある。   In this case, the thickness of the shaft portion of the pin increases from the design value, and becomes larger than the hole diameter of the socket, so that there is a problem that the pin as an external terminal cannot be attached to the socket. . Even if the pin can be attached to the socket, a solder layer inferior in electrical conductivity is formed on the shaft portion, so that the electrical conductivity at the connection portion between the pin and the socket is deteriorated. In some cases, it becomes difficult to transmit an electric signal to an external circuit under a high S / N ratio, and the power to be supplied to the wiring board also deteriorates, which may deteriorate the drivability of the wiring board.

このような問題に対処すべく、配線基板の外部端子であるピンの基部の外周端に、ピンの軸部を取り囲むようにして樹脂層を形成することが試みられている。樹脂層とはんだとの濡れ性は低いために、当該樹脂層においてはんだの濡れ広がりは抑制され、当該はんだがピンの軸部にまで濡れ広がるのを抑制することができる。したがって、ピンの軸部にはんだ層が形成されることがないので、上述したような問題を回避することができる(特許文献1)。   In order to cope with such a problem, it has been attempted to form a resin layer on the outer peripheral end of the base portion of the pin which is an external terminal of the wiring board so as to surround the shaft portion of the pin. Since the wettability between the resin layer and the solder is low, the spread of the solder in the resin layer is suppressed, and the solder can be suppressed from spreading to the shaft portion of the pin. Therefore, since the solder layer is not formed on the shaft portion of the pin, the above-described problem can be avoided (Patent Document 1).

しかしながら、上述した樹脂層は、ピンの基部の一部を構成することになるため、はんだはピンの基部における樹脂層以下の側面を覆うにすぎず、はんだによるピン基部の被覆割合が減少する。このため、導体層に対してピンを強固に固定することができず、上記導体層からピンが離脱してしまうという問題があった。   However, since the resin layer described above constitutes a part of the base portion of the pin, the solder only covers the side surface of the pin base portion below the resin layer, and the covering ratio of the pin base portion with the solder is reduced. For this reason, there is a problem that the pin cannot be firmly fixed to the conductor layer and the pin is detached from the conductor layer.

特開2003−338598号JP 2003-338598 A

本発明は、互いに積層された少なくとも1層の導体層及び少なくとも1層の樹脂絶縁層と、はんだを介して、前記少なくとも1層の導体層に電気的に接続された複数のピンとを備えた配線基板において、各ピンを固定する際のはんだの濡れ広がりを抑制するとともに、各ピンが強固に固定された配線基板を提供することを目的とする。   The present invention provides a wiring comprising at least one conductor layer and at least one resin insulation layer laminated together, and a plurality of pins electrically connected to the at least one conductor layer via solder. An object of the present invention is to provide a wiring board in which each pin is firmly fixed while suppressing the wetting and spreading of solder when fixing each pin on the board.

上記目的を達成すべく、本発明は、
互いに積層された少なくとも1層の導体層及び少なくとも1層の樹脂絶縁層と、
はんだを介して、前記少なくとも1層の導体層に電気的に接続された複数のピンと、を備えた配線基板であって、
前記ピンは、基部と、この基部の上面の中心部に立設された軸部と、前記基部の上面であって、前記軸部の外方において前記基部の外周端に沿うようにして形成された第1突起部と、少なくとも前記基部の上面及び前記第1突起部の上面において、前記基部の前記外周端から前記中心部に向かって連続するようにして形成された少なくとも1つの線状の第2突起部とを有し、
前記基部は、前記はんだによって前記少なくとも1層の導体層に固定されていることを特徴とする配線基板に関する。
In order to achieve the above object, the present invention provides:
At least one conductor layer and at least one resin insulation layer laminated together;
A plurality of pins electrically connected to the at least one conductor layer via solder, and a wiring board comprising:
The pin is formed so as to be along the outer peripheral end of the base portion on the outer side of the base portion, the shaft portion standing at the center of the upper surface of the base portion, and the upper surface of the base portion. In addition, at least one linear first formed on the first protrusion, and at least the upper surface of the base and the upper surface of the first protrusion so as to be continuous from the outer peripheral end of the base toward the center. 2 protrusions,
The base is fixed to the at least one conductor layer by the solder.

本発明によれば、導体層と樹脂絶縁層とがそれぞれ少なくとも1層積層されるとともに、はんだを介して、少なくとも1層の導体層に電気的に接続された複数のピンと、を備えた配線基板において、上記ピンは、基部と、この基部の上面の中心部に立設された軸部と、基部の上面であって、軸部の外方において基部の外周面に沿うようにして形成された第1突起部と、基部の外周端から中心部に向かって連続するようにして形成された少なくとも1つの線状の第2突起部とを有するように構成している。   According to the present invention, at least one conductor layer and a resin insulating layer are laminated, and a plurality of pins electrically connected to at least one conductor layer via solder. The pin is formed so as to be along the outer peripheral surface of the base on the outer side of the base portion, the shaft portion standing at the center of the upper surface of the base portion, and the upper surface of the base portion. The first projecting portion and at least one linear second projecting portion formed so as to continue from the outer peripheral end of the base portion toward the center portion are configured.

上記ピンは、電気伝導性に優れた金属材料から構成されるため、リフローを行うことでピンを固定する際に、溶融したはんだがピンに対して濡れ広がり、ピンの軸部に向かって這い上がるようになる。しかしながら、本発明においては、上述のように、ピンの軸部の外方であって、基部の外周面に沿うようにして第1突起部を形成するようにしている。したがって、はんだのピンに対する濡れ広がりは、第1突起部において抑制されるので、はんだがピンの軸部まで濡れ広がって、軸部の表面にはんだ層を形成するようなことがない。   The pin is made of a metal material having excellent electrical conductivity. Therefore, when the pin is fixed by performing reflow, the molten solder wets and spreads toward the pin and crawls up toward the shaft portion of the pin. It becomes like this. However, in the present invention, as described above, the first protrusion is formed outside the pin shaft and along the outer peripheral surface of the base. Therefore, since wetting and spreading of the solder to the pin is suppressed at the first protrusion, the solder does not spread to the shaft portion of the pin and form a solder layer on the surface of the shaft portion.

このため、ピンの軸部の太さが設計値よりも増大してしまい、配線基板を電気的に接続すべき外部ソケットの孔径よりも大きくなって、外部端子であるピンを当該ソケットに装着することができなくなってしまうという問題を回避することができる。また、ピンをソケットに装着できた場合において、その軸部には電気伝導性に劣るはんだ層が形成されていないので、ピンとソケットとの接続部における電気伝導性の劣化を抑制することができ、配線基板からの電気信号を高いS/N比の下に外部回路に伝送することが可能になり、さらに配線基板に供給すべき電力の劣化も抑制して、配線基板の駆動性の劣化を防止することができる。   For this reason, the thickness of the shaft portion of the pin increases from the design value, and becomes larger than the hole diameter of the external socket to which the wiring board is to be electrically connected, and the pin as the external terminal is attached to the socket. The problem of being unable to do so can be avoided. In addition, when the pin can be attached to the socket, since the solder layer inferior in electrical conductivity is not formed on the shaft portion, it is possible to suppress deterioration of electrical conductivity in the connection portion between the pin and the socket, It is possible to transmit the electrical signal from the wiring board to an external circuit under a high S / N ratio, and further suppress the deterioration of the power to be supplied to the wiring board, thereby preventing the deterioration of the driving performance of the wiring board. can do.

また、本発明においては、上記ピンの、少なくとも基部の上面及び第1突起部の上面において、基部の外周端から中心部に向かって連続するように、少なくとも1つの線状の第2突起部を形成するようにしている。したがって、ピンを固定するはんだは、上記第2突起部を辿って上昇する一方、上述のように、はんだの濡れ広がりは上記第1突起部で抑制されるので、上記はんだは、例えば少なくとも基部の上面を覆うようになる。したがって、上記ピンの導体層への接合強度を増大させることができる。   In the present invention, at least one linear second protrusion is provided so as to be continuous from the outer peripheral end of the base toward the center on at least the upper surface of the base and the upper surface of the first protrusion of the pin. Try to form. Accordingly, the solder for fixing the pin rises following the second protrusion, while the wetting and spreading of the solder is suppressed by the first protrusion, as described above. Covers the top surface. Therefore, the bonding strength of the pin to the conductor layer can be increased.

換言すれば、ピンを固定する際のはんだの濡れ広がりを抑制し、ピンの性能劣化を防止するとともに、ピンを導体層対して強固に固定することができる。   In other words, it is possible to prevent the solder from spreading when the pin is fixed, prevent deterioration of the performance of the pin, and firmly fix the pin to the conductor layer.

本発明の一例においては、上記ピンの表面、すなわち基部、軸部、第1突起部及び第2突起部の表面に、少なくとも金を含むめっき層を形成することができる。金を含む例えばNi/Auめっき層は、特にはんだとの濡れ性が高いので、ピンに対するはんだの濡れ広がり性が増大する。しかしながら、本発明においては、上述のように第1突起部を有しているので、上記はんだの濡れ広がり性の増大による軸部への這い上がりを効果的に抑制することができる。一方、はんだは第2突起部を辿って容易に上昇し、基部の上面を簡易に覆うことができるようになる。したがって、配線基板に対するピンの接合強度を向上させることができる。   In an example of the present invention, a plating layer containing at least gold can be formed on the surface of the pin, that is, the surfaces of the base, the shaft, the first protrusion, and the second protrusion. For example, a Ni / Au plating layer containing gold has a particularly high wettability with solder, so that the wettability of the solder with respect to the pins increases. However, in the present invention, since the first protrusion is provided as described above, it is possible to effectively suppress creeping up to the shaft due to the increase in wettability of the solder. On the other hand, the solder easily rises following the second protrusion, and can easily cover the upper surface of the base. Therefore, the bonding strength of the pins to the wiring board can be improved.

本発明の一例においては、ピンの基部、軸部、第1突起部及び第2突起部は同一の材料から構成することができる。これによって、ピンの製造工程を簡略化することができる。なお、ここでいう材料とは、ピンを構成する母材を意味するものである。   In an example of the present invention, the base portion, the shaft portion, the first protrusion portion, and the second protrusion portion of the pin can be made of the same material. Thereby, the manufacturing process of a pin can be simplified. In addition, the material here means the base material which comprises a pin.

本発明の一例においては、ピンの第1突起部の端部を曲面状とすることができる。この場合、上記はんだは、基部の上面にまで容易に達することができる。したがって、ピンとはんだとの接合面積を容易に増大させることができるので、ピンの導体層への接合強度を増大させることができる。   In one example of the present invention, the end of the first protrusion of the pin can be curved. In this case, the solder can easily reach the upper surface of the base. Therefore, since the bonding area between the pin and the solder can be easily increased, the bonding strength of the pin to the conductor layer can be increased.

以上説明したように、本発明によれば、互いに積層された少なくとも1層の導体層及び少なくとも1層の樹脂絶縁層と、はんだを介して、前記少なくとも1層の導体層に電気的に接続された複数のピンとを備えた配線基板において、各ピンを固定する際のはんだの濡れ広がりを抑制するとともに、各ピンが強固に固定された配線基板を提供することができる。   As described above, according to the present invention, at least one conductor layer and at least one resin insulation layer laminated on each other are electrically connected to the at least one conductor layer via solder. Further, in the wiring board provided with a plurality of pins, it is possible to provide a wiring board in which each pin is firmly fixed while suppressing the spread of the solder when the pins are fixed.

実施形態における配線基板の平面図である。It is a top view of the wiring board in an embodiment. 同じく、実施形態における配線基板の平面図である。Similarly, it is a top view of the wiring board in an embodiment. 図1及び2に示す配線基板をI−I線に沿って切った場合の断面の一部を拡大して示す図である。It is a figure which expands and shows a part of cross section at the time of cutting the wiring board shown to FIG. 1 and 2 along the II line. 図1及び2に示す配線基板をII−II線に沿って切った場合の断面の一部を拡大して示す図である。It is a figure which expands and shows a part of cross section at the time of cutting the wiring board shown to FIG. 1 and 2 along the II-II line. 図3及び図4に示す配線基板の、下側のソルダーレジスト層に形成された開口部及び開口部内に形成されたピンの近傍を拡大して示す図である。FIG. 5 is an enlarged view showing an opening formed in a lower solder resist layer of the wiring board shown in FIGS. 3 and 4 and a vicinity of a pin formed in the opening. 図5に示す状態を下方から見た場合の平面図である。It is a top view at the time of seeing the state shown in FIG. 5 from the downward direction. 図3及び図4に示す配線基板の、下側のソルダーレジスト層に形成された開口部内に形成されたピンの形成過程を説明するための図である。FIG. 5 is a view for explaining a process of forming pins formed in an opening formed in a lower solder resist layer of the wiring board shown in FIGS. 3 and 4. 同じく、図3及び図4に示す配線基板の、下側のソルダーレジスト層に形成された開口部内に形成されたピンの形成過程を説明するための図である。Similarly, it is a figure for demonstrating the formation process of the pin formed in the opening part formed in the lower soldering resist layer of the wiring board shown in FIG.3 and FIG.4. 実施形態における配線基板の製造方法における一工程図である。It is one process figure in the manufacturing method of the wiring board in embodiment. 同じく、実施形態における配線基板の製造方法における一工程図である。Similarly, it is one process figure in the manufacturing method of the wiring board in an embodiment. 同じく、実施形態における配線基板の製造方法における一工程図である。Similarly, it is one process figure in the manufacturing method of the wiring board in an embodiment. 同じく、実施形態における配線基板の製造方法における一工程図である。Similarly, it is one process figure in the manufacturing method of the wiring board in an embodiment. 同じく、実施形態における配線基板の製造方法における一工程図である。Similarly, it is one process figure in the manufacturing method of the wiring board in an embodiment. 同じく、実施形態における配線基板の製造方法における一工程図である。Similarly, it is one process figure in the manufacturing method of the wiring board in an embodiment. 同じく、実施形態における配線基板の製造方法における一工程図である。Similarly, it is one process figure in the manufacturing method of the wiring board in an embodiment. 同じく、実施形態における配線基板の製造方法における一工程図である。Similarly, it is one process figure in the manufacturing method of the wiring board in an embodiment. 同じく、実施形態における配線基板の製造方法における一工程図である。Similarly, it is one process figure in the manufacturing method of the wiring board in an embodiment. 同じく、実施形態における配線基板の製造方法における一工程図である。Similarly, it is one process figure in the manufacturing method of the wiring board in an embodiment.

以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

(配線基板)
最初に、本発明の実施形態における配線基板の構成について説明する。但し、以下に示す配線基板はあくまでも例示であって、導体層と樹脂絶縁層とがそれぞれ少なくとも1層積層されるとともに、はんだを介して、上記少なくとも1層の導体層に電気的に接続された複数のピンを有していれば特に限定されるものではない。
(Wiring board)
First, the configuration of the wiring board in the embodiment of the present invention will be described. However, the wiring board shown below is merely an example, and at least one conductor layer and a resin insulating layer are laminated and electrically connected to the at least one conductor layer via solder. It does not specifically limit if it has a some pin.

図1及び2は、本実施形態における配線基板の平面図であり、図1は、配線基板を上側から見た場合の状態を示し、図2は、図1に示す配線基板を下側から見た場合の状態を示している。また、図3は、図1及び図2に示す配線基板をI−I線に沿って切った場合の断面の一部を拡大して示す図であり、図4は、図1及び図2に示す配線基板をII−II線に沿って切った場合の断面の一部を拡大して示す図である。   1 and 2 are plan views of the wiring board according to the present embodiment. FIG. 1 shows a state when the wiring board is viewed from the upper side, and FIG. 2 shows the wiring board shown in FIG. The state is shown. 3 is an enlarged view showing a part of a cross section when the wiring board shown in FIGS. 1 and 2 is cut along the line II, and FIG. 4 is a view shown in FIGS. It is a figure which expands and shows a part of cross section at the time of cutting the wiring board to show along II-II line.

図5は、図3及び図4に示す配線基板の、下側のソルダーレジスト層に形成された開口部及び開口部内に形成されたピンの近傍を拡大して示す図であり、図6は、図5に示す状態を下方から見た場合の平面図である。また、図7及び図8は、図3及び図4に示す配線基板の、下側のソルダーレジスト層に形成された開口部内に形成されたピンの形成過程を説明するための図である。   FIG. 5 is an enlarged view of the opening formed in the solder resist layer on the lower side of the wiring board shown in FIGS. 3 and 4 and the vicinity of the pin formed in the opening, and FIG. It is a top view at the time of seeing the state shown in FIG. 5 from the downward direction. FIGS. 7 and 8 are diagrams for explaining the process of forming pins formed in the openings formed in the lower solder resist layer of the wiring board shown in FIGS. 3 and 4.

図1〜4に示す配線基板1は、耐熱性樹脂板(たとえばビスマレイミド−トリアジン樹脂板)や、繊維強化樹脂板(たとえばガラス繊維強化エポキシ樹脂)等で構成された板状コア2の両表面に、所定のパターンに形成されてなる金属配線7aをなすコア導体層M1,M11(単に導体層ともいう)がCuメッキによりそれぞれ形成されている。これらコア導体層M1,M11は板状コア2の表面の大部分を被覆する面導体パターンとして形成され、電源層または接地層として用いられるものである。   A wiring board 1 shown in FIGS. 1 to 4 has both surfaces of a plate-like core 2 made of a heat-resistant resin plate (for example, bismaleimide-triazine resin plate), a fiber-reinforced resin plate (for example, glass fiber-reinforced epoxy resin), or the like. In addition, core conductor layers M1 and M11 (also simply referred to as conductor layers) forming metal wirings 7a formed in a predetermined pattern are formed by Cu plating. These core conductor layers M1 and M11 are formed as a plane conductor pattern that covers most of the surface of the plate-like core 2, and are used as a power supply layer or a ground layer.

他方、板状コア2には、ドリル等により穿設されたスルーホール12が形成され、その内壁面にはコア導体層M1,M11を互いに導通させるスルーホール導体30が形成されている。また、スルーホール12は、エポキシ樹脂等の樹脂製穴埋め材31により充填されている。   On the other hand, a through-hole 12 drilled by a drill or the like is formed in the plate-like core 2, and a through-hole conductor 30 that connects the core conductor layers M 1 and M 11 to each other is formed on the inner wall surface thereof. The through hole 12 is filled with a resin filling material 31 such as an epoxy resin.

また、コア導体層M1,M11の上層には、熱硬化性樹脂組成物6にて構成された第1のビア層(ビルドアップ層:絶縁層)V1,V11がそれぞれ形成されている。さらに、その表面には、所定のパターンに形成されてなる金属配線7bをなす第1の導体層M2,M12がCuメッキによりそれぞれ形成されている。なお、コア導体層M1,M11と第1の導体層M2,M12とは、それぞれビア34により層間接続がなされている。同様に、第1の導体層M2,M12の上層には、熱硬化性樹脂組成物6を用いた第2のビア層(ビルドアップ層:絶縁層)V2,V12がそれぞれ形成されている。   In addition, first via layers (build-up layers: insulating layers) V1 and V11 made of the thermosetting resin composition 6 are formed on the core conductor layers M1 and M11, respectively. Further, on the surface, first conductor layers M2 and M12 forming metal wiring 7b formed in a predetermined pattern are formed by Cu plating, respectively. The core conductor layers M1 and M11 and the first conductor layers M2 and M12 are interconnected by vias 34, respectively. Similarly, second via layers (build-up layers: insulating layers) V2 and V12 using the thermosetting resin composition 6 are formed on the first conductor layers M2 and M12, respectively.

第2のビア層V2及びV12上には、それぞれ金属端子パッド10,16を有する第2の導体層M3,M13が形成されている。これら第1の導体層M2,M12と第2の導体層M3,M13とは、それぞれビア34により層間接続がなされている。ビア34は、ビアホール34hとその内周面に設けられたビア導体34sと、底面側にてビア導体34sと導通するように設けられたビアパッド34pと、ビアパッド34pと反対側にてビア導体34hの開口周縁から外向きに張り出すビアランド34lとを有している。   On the second via layers V2 and V12, second conductor layers M3 and M13 having metal terminal pads 10 and 16, respectively, are formed. The first conductor layers M2 and M12 and the second conductor layers M3 and M13 are interconnected by vias 34, respectively. The via 34 includes a via hole 34h, a via conductor 34s provided on the inner peripheral surface thereof, a via pad 34p provided so as to be electrically connected to the via conductor 34s on the bottom surface side, and a via conductor 34h on the opposite side to the via pad 34p. A via land 341 projecting outward from the periphery of the opening.

以上のように、板状コア2の第1の主面MP1上には、コア導体層M1、第1のビア層V1、第1の導体層M2、第2のビア層V2及び第2の導体層M3が順次に積層され、第1の配線積層部L1を形成している。また、板状コア2の第2の主面MP2上においては、コア導体層M11、第1のビア層V11、第1の導体層M12、第2のビア層V12及び第2の導体層M13が順次に積層され、第2の配線積層部L2を形成している。そして、第1の主表面CP1上には複数の金属端子パッド10が形成されており、第2の主表面CP2上には、複数の金属端子パッド16が形成されている。   As described above, on the first main surface MP1 of the plate-like core 2, the core conductor layer M1, the first via layer V1, the first conductor layer M2, the second via layer V2, and the second conductor. The layers M3 are sequentially stacked to form the first wiring stacked portion L1. Further, on the second main surface MP2 of the plate-like core 2, the core conductor layer M11, the first via layer V11, the first conductor layer M12, the second via layer V12, and the second conductor layer M13 are formed. The layers are sequentially stacked to form the second wiring stacked portion L2. A plurality of metal terminal pads 10 are formed on the first main surface CP1, and a plurality of metal terminal pads 16 are formed on the second main surface CP2.

なお、金属端子パッド10は、リフローすることによって形成したはんだバンプ11を介して、図示しない半導体素子をフリップチップ接続するためのパッド(FCパッド)であり、半導体素子搭載領域を構成する。図1に示すように、これら金属端子パッド10は、配線基板1の略中央部において形成され、矩形状に配列されている。   The metal terminal pad 10 is a pad (FC pad) for flip-chip connecting a semiconductor element (not shown) via a solder bump 11 formed by reflow, and constitutes a semiconductor element mounting region. As shown in FIG. 1, these metal terminal pads 10 are formed in a substantially central portion of the wiring board 1 and arranged in a rectangular shape.

また、金属端子パッド16は、配線基板1をソケット等に接続するためのピンを固定する裏面ランド(PGAパッド)として利用されるものであって、これら金属端子パッド16は、配線基板1の略中心部を除く外周領域に形成され、前記略中央部を囲むようにして矩形状に配列されている。   The metal terminal pads 16 are used as back lands (PGA pads) for fixing pins for connecting the wiring board 1 to a socket or the like. The metal terminal pads 16 are abbreviations of the wiring board 1. It is formed in the outer peripheral area excluding the central part, and is arranged in a rectangular shape so as to surround the substantially central part.

さらに、第1の主表面CP1上には開口部8aを有するソルダーレジスト層8が形成されており、第2の主表面CP2上にも開口部18aを有するソルダーレジスト層18が形成されている。開口部18aに露出した金属端子パッド16には、ピン17がはんだ19によって固定され、金属端子パッド16とピン17とが電気的に接続されている。はんだ19は、例えばSn−Sb,Sn−Pb,Sn−Ag及びSn−Ag−Cuなどから構成することができる。   Furthermore, a solder resist layer 8 having an opening 8a is formed on the first main surface CP1, and a solder resist layer 18 having an opening 18a is also formed on the second main surface CP2. A pin 17 is fixed to the metal terminal pad 16 exposed in the opening 18a by solder 19, and the metal terminal pad 16 and the pin 17 are electrically connected. The solder 19 can be made of, for example, Sn—Sb, Sn—Pb, Sn—Ag, Sn—Ag—Cu, or the like.

なお、図1〜4から明らかなように、本実施形態における配線基板1は矩形の略板形状を呈しており、その大きさは、例えば約35mm×約35mm×約1mmとすることができる。   1 to 4, the wiring board 1 in the present embodiment has a substantially rectangular plate shape, and the size thereof can be, for example, about 35 mm × about 35 mm × about 1 mm.

図5及び図6に示すように、ピン17は、底面が半球状を呈する円板状の基部171と、この基部171の上面の中心部に立設される軸部172と、基部171の上面であって、軸部172の外方において基部171の外周端に沿うようにして形成された第1突起部173と、基部171の上面及び第1突起部173の上面において連続するようにして形成された1つの線状の第2突起部174とを有している。   As shown in FIGS. 5 and 6, the pin 17 includes a disc-shaped base portion 171 whose bottom surface has a hemispherical shape, a shaft portion 172 erected at the center of the upper surface of the base portion 171, and the upper surface of the base portion 171. The first protrusion 173 formed so as to be along the outer peripheral edge of the base 171 outside the shaft 172, and formed so as to be continuous on the upper surface of the base 171 and the upper surface of the first protrusion 173. And a single linear second protrusion 174.

なお、図5及び図6では、第1突起部173を基部171上面の外周端に形成しているが、基部171上面の外周端より内方に形成することもできる。   5 and 6, the first protrusion 173 is formed on the outer peripheral end of the upper surface of the base 171, but may be formed inward from the outer peripheral end of the upper surface of the base 171.

ピン17は、一般に電気伝導性に優れた金属材料から構成されるため、ピン17を固定する際に、はんだがピン17に対して濡れ広がり、ピン17を這い上がるようになる。しかしながら、本実施形態においては、上述のように、ピン17の軸部172の外方であって、基部171の外周端に沿うようにして第1突起部173を形成するようにしている。したがって、はんだのピン17に対する濡れ広がりは、第1突起部173において抑制されるので、はんだがピン17の軸部172まで濡れ広がって、軸部172の表面にはんだ層を形成するようなことがない。   Since the pin 17 is generally made of a metal material having excellent electrical conductivity, when the pin 17 is fixed, the solder wets and spreads over the pin 17 and crawls up the pin 17. However, in the present embodiment, as described above, the first projecting portion 173 is formed outside the shaft portion 172 of the pin 17 and along the outer peripheral end of the base portion 171. Therefore, since the wetting and spreading of the solder to the pins 17 is suppressed at the first protrusions 173, the solder spreads to the shafts 172 of the pins 17 and forms a solder layer on the surface of the shafts 172. Absent.

このため、ピン17の軸部の太さが設計値よりも増大してしまい、配線基板1を電気的に接続すべき外部ソケットの孔径よりも大きくなって、外部端子であるピン17を当該ソケットに装着することができなくなってしまうという問題を回避することができる。また、ピン17をソケットに装着できた場合において、その軸部172には電気伝導性に劣るはんだ層が形成されていないので、ピン17とソケットとの接続部における電気伝導性の劣化を抑制することができ、配線基板1からの電気信号を高いS/N比の下に外部回路に伝送することが可能になり、さらに配線基板1に供給すべき電力の劣化も抑制して、配線基板1の駆動性の劣化を防止することができる。   For this reason, the thickness of the shaft portion of the pin 17 increases from the design value, and becomes larger than the hole diameter of the external socket to which the wiring board 1 is to be electrically connected. It is possible to avoid the problem of being unable to attach to the camera. In addition, when the pin 17 can be attached to the socket, a solder layer having poor electrical conductivity is not formed on the shaft portion 172, so that deterioration of electrical conductivity at the connection portion between the pin 17 and the socket is suppressed. It is possible to transmit an electrical signal from the wiring board 1 to an external circuit with a high S / N ratio, and further suppress the deterioration of the power to be supplied to the wiring board 1. It is possible to prevent the driveability from deteriorating.

また、本実施形態においては、ピン17の、基部171の上面及び第1突起部173の上面において、基部171の外周端から中心部に向かって連続するように、線状の第2突起部174を形成するようにしている。したがって、ピン17を固定するはんだは、第2突起部174を辿って上昇する一方、上述のように、はんだの濡れ広がりは第1突起部173で抑制されるので、上記はんだは、例えば基部171の上面を覆うようになる。したがって、ピン17の、金属端子パッド16への接合強度を増大させることができる。   In the present embodiment, the linear second protrusion 174 is continuous from the outer peripheral end of the base 171 toward the center on the upper surface of the base 171 and the upper surface of the first protrusion 173 of the pin 17. To form. Therefore, the solder that fixes the pin 17 rises following the second protrusion 174, while the solder wetting and spreading is suppressed by the first protrusion 173 as described above. It will cover the top surface. Therefore, the bonding strength of the pin 17 to the metal terminal pad 16 can be increased.

換言すれば、ピン17を固定する際のはんだの濡れ広がりを抑制し、ピン17の性能劣化を防止するとともに、ピン17を金属端子パッド16に対して強固に固定することができる。   In other words, it is possible to suppress the wetting and spreading of the solder when fixing the pin 17, prevent the performance of the pin 17 from being deteriorated, and firmly fix the pin 17 to the metal terminal pad 16.

ピン17の表面、すなわち基部171、軸部172、第1突起部173及び第2突起部174の表面に、少なくとも金を含むめっき層を形成することができる。金を含む例えばNi/Auめっき層は、特にはんだとの濡れ性が高いので、ピン17に対するはんだの濡れ広がり性が増大する。しかしながら、本実施形態においては、上述のように第1突起部173を有しているので、上記はんだの濡れ広がり性の増大による軸部172への這い上がりを効果的に抑制することができる。一方、はんだは第2突起部174を辿って容易に上昇し、基部171の上面を簡易に覆うことができるようになる。したがって、金属端子パッド16に対するピン17の接合強度を向上させることができる。   A plating layer containing at least gold can be formed on the surface of the pin 17, that is, the surfaces of the base portion 171, the shaft portion 172, the first protrusion portion 173, and the second protrusion portion 174. For example, a Ni / Au plating layer containing gold has a particularly high wettability with the solder, so that the wettability of the solder with respect to the pins 17 increases. However, in this embodiment, since it has the 1st projection part 173 as mentioned above, the creeping to the axial part 172 by the increase in the wettability of the said solder can be suppressed effectively. On the other hand, the solder easily rises following the second protrusion 174 and can easily cover the upper surface of the base 171. Therefore, the bonding strength of the pin 17 to the metal terminal pad 16 can be improved.

また、ピン17の基部171、軸部172、第1突起部173及び第2突起部174は同一の材料から構成することができる。これによって、ピン17の製造工程を簡略化することができる。なお、ここでいう材料とは、ピン17を構成する母材を意味するものであり、Cu等の金属材料を用いることができる。   Further, the base 171, the shaft 172, the first protrusion 173, and the second protrusion 174 of the pin 17 can be made of the same material. Thereby, the manufacturing process of the pin 17 can be simplified. Here, the material means a base material constituting the pin 17, and a metal material such as Cu can be used.

さらに、ピン17の第1突起部173の端部は曲面状とすることができる。この場合、上記はんだは、基部171の上面にまで容易に達することができる。したがって、ピンとはんだとの接合面積を容易に増大させることができるので、ピン17の、金属端子パッド16への接合強度を容易に増大させることができる。   Furthermore, the end of the first protrusion 173 of the pin 17 can be curved. In this case, the solder can easily reach the upper surface of the base 171. Therefore, since the bonding area between the pin and the solder can be easily increased, the bonding strength of the pin 17 to the metal terminal pad 16 can be easily increased.

なお、ピン17の、基部171の直径d1は、例えば0.5mm〜0.8mmとすることができ、高さh1は、例えば0.14mm〜0.25mmとすることができる。軸部172の直径d2は、例えば0.29mm〜0.32mmとすることができ、高さh2は、1.4mm〜2.0mmとすることができる。第1突起部173の幅t1は、例えば0.05mm〜0.15mmとすることができ、高さh3は0.01mm〜0.05mmとすることができる。第2突起部174の幅t2は、0.005mm〜0.015mmとすることができ、高さh4は0.005mm〜0.015mmとすることができる。   The diameter d1 of the base 171 of the pin 17 can be set to 0.5 mm to 0.8 mm, for example, and the height h1 can be set to 0.14 mm to 0.25 mm, for example. The diameter d2 of the shaft portion 172 can be set to, for example, 0.29 mm to 0.32 mm, and the height h2 can be set to 1.4 mm to 2.0 mm. The width t1 of the first protrusion 173 can be set to, for example, 0.05 mm to 0.15 mm, and the height h3 can be set to 0.01 mm to 0.05 mm. The width t2 of the second protrusion 174 can be 0.005 mm to 0.015 mm, and the height h4 can be 0.005 mm to 0.015 mm.

図7及び図8は、本実施形態におけるピン17の製造方法の一例を示す図である。図7は、ピン17の一製造工程を示す正面図であり、図8は、ピン17の同一製造工程を示す側面図である。   7 and 8 are views showing an example of a method for manufacturing the pin 17 in the present embodiment. FIG. 7 is a front view showing one manufacturing process of the pin 17, and FIG. 8 is a side view showing the same manufacturing process of the pin 17.

図7及び図8に示すように、ピン17の原材料であるワイヤ17Xを上型41及び下型42によって狭持する。上型41及び下型42には、ワイヤ17Xを狭持した際に、互いに連続するような曲面状の断面を有するリング状の溝部41A及び42Aが形成されている。したがって、ワイヤ17Xの、上型41及び下型42の左方に突出した部分を、押圧部材43によって殴打して押圧することにより、当該部分は円弧状に変形してピン17の基部171となり、上型41及び下型42で狭持された部分は、ピン17の軸部172を構成するようになる。   As shown in FIGS. 7 and 8, the wire 17 </ b> X that is a raw material of the pin 17 is held between the upper die 41 and the lower die 42. The upper mold 41 and the lower mold 42 are formed with ring-shaped grooves 41A and 42A having curved cross sections that are continuous with each other when the wire 17X is held. Therefore, by striking and pressing the portion of the wire 17X that protrudes to the left of the upper die 41 and the lower die 42 with the pressing member 43, the portion is deformed into an arc shape and becomes the base 171 of the pin 17, A portion sandwiched between the upper die 41 and the lower die 42 constitutes a shaft portion 172 of the pin 17.

また、上述のように押圧部材43によって殴打する際に、ワイヤ17Xの突出した部分は、変形して溝部41A及び42A内に圧入されるようになる。したがって、溝部41A及び42A内に圧入された部分が、ピン17の第1突起部173を構成するようになる。そして、第1突起部173の端部の形状は、溝部41A及び42Aの断面形状に対応して曲面状に形成される。   Further, as described above, when striking with the pressing member 43, the protruding portion of the wire 17X is deformed and is press-fitted into the groove portions 41A and 42A. Accordingly, the portion press-fitted into the groove portions 41 </ b> A and 42 </ b> A constitutes the first protrusion 173 of the pin 17. And the shape of the edge part of the 1st projection part 173 is formed in a curved surface shape corresponding to the cross-sectional shape of the groove parts 41A and 42A.

さらに、上述のように押圧部材43によって殴打する際に、ワイヤ17Xの突出した部分は、変形して上型41及び下型42の境界部分Sに形成された隙間に圧入され、バリを形成するようになる。本実施形態では、このようにして形成されたバリを削り取ることなく、そのまま残存させる。これによって、上記バリが上記第2突起部174を構成するようになる。   Further, when striking with the pressing member 43 as described above, the protruding portion of the wire 17X is deformed and press-fitted into the gap formed in the boundary portion S between the upper die 41 and the lower die 42, thereby forming a burr. It becomes like this. In the present embodiment, the burrs formed in this way remain as they are without being scraped off. Accordingly, the burr forms the second protrusion 174.

このような製造方法によれば、通常のピンの構造に対して、本発明の特徴部分である第1突起部173及び第2突起部174を簡易に形成することができる。   According to such a manufacturing method, the first projecting portion 173 and the second projecting portion 174, which are the features of the present invention, can be easily formed with respect to a normal pin structure.

但し、上述した製造方法はあくまで一例であって、第1突起部173及び第2突起部174は、溶接やろう付け等によって形成することもできる。また、基部171を設計値より厚く形成し(高さh1を大きくし)、その後に、基部171の表面をレーザ等で加工することにより、上記第1突起部173及び第2突起部174とすることもできる。さらに、第1突起部173の端部を曲面状とするには、例えばピン17に対してバレル研磨を行うこともできる。   However, the manufacturing method described above is merely an example, and the first protrusion 173 and the second protrusion 174 can be formed by welding, brazing, or the like. Further, the base 171 is formed thicker than the design value (height h1 is increased), and then the surface of the base 171 is processed with a laser or the like, thereby forming the first protrusion 173 and the second protrusion 174. You can also. Further, for example, barrel polishing may be performed on the pin 17 in order to make the end of the first protrusion 173 into a curved surface.

(配線基板の製造方法)
次に、図1〜4に示す配線基板の製造方法について説明する。図9〜18は、本実施形態における製造方法の工程図である。なお、以下に示す工程図は、図4に相当する、配線基板のII−II線に沿って切った場合の断面で見た場合の順次の工程を中心に示すものである。
(Method for manufacturing a wiring board)
Next, a method for manufacturing the wiring board shown in FIGS. 9 to 18 are process diagrams of the manufacturing method according to the present embodiment. In addition, the process drawing shown below mainly shows the sequential process when it sees in the cross section at the time of cutting along the II-II line of a wiring board corresponding to FIG.

最初に、図9に示すように、板形状の耐熱性樹脂板(たとえばビスマレイミド−トリアジン樹脂板)または繊維強化樹脂板(たとえばガラス繊維強化エポキシ樹脂)を、コア2として用意し、ドリリング等の方法でスルーホール12を穿孔する。次いで、図10に示すように、パターンメッキによりコア導体層M1,M11及びスルーホール導体30を形成し、スルーホール12に樹脂製穴埋め材31を充填する。   First, as shown in FIG. 9, a plate-shaped heat-resistant resin plate (for example, bismaleimide-triazine resin plate) or a fiber reinforced resin plate (for example, glass fiber reinforced epoxy resin) is prepared as the core 2, and drilling, etc. The through hole 12 is drilled by the method. Next, as shown in FIG. 10, the core conductor layers M <b> 1 and M <b> 11 and the through hole conductor 30 are formed by pattern plating, and the resin hole filling material 31 is filled in the through hole 12.

次に、コア導体層M1,M11に粗化処理を施したのち、図11に示すように、コア導体層M1,M11を被覆するように樹脂フィルム6をラミネート及び硬化させて、絶縁層V1,V11を得る。樹脂フィルムは、必要に応じてフィラーを含んでいてもよい。   Next, after roughening the core conductor layers M1 and M11, as shown in FIG. 11, the resin film 6 is laminated and cured so as to cover the core conductor layers M1 and M11. Get V11. The resin film may contain a filler as necessary.

次いで、図12に示すように、絶縁層V1,V11(ビア層)に対してその主表面からレーザを照射し、所定のパターンにてビアホール34hを形成し、ビアホール34hを含む絶縁層V1及びV11に対して粗化処理を実施する。なお、絶縁層V1及びV11が、フィラーを含む場合は、上述のようにして絶縁層V1及びV11に対して粗化処理を施すと、フィラーが遊離して、絶縁層V1及びV11上に残存するようになるので、適宜水洗浄を実施して、遊離したフィラーを除去する。   Next, as shown in FIG. 12, the insulating layers V1 and V11 (via layers) are irradiated with laser from the main surface to form via holes 34h in a predetermined pattern, and the insulating layers V1 and V11 including the via holes 34h. A roughening process is performed on In addition, when the insulating layers V1 and V11 include a filler, when the roughening process is performed on the insulating layers V1 and V11 as described above, the filler is released and remains on the insulating layers V1 and V11. As a result, water is appropriately washed to remove the free filler.

次いで、デスミア処理及びアウトラインエッチングを実施してビアホール34h内を洗浄する。なお、本実施形態では、水洗浄を実施しているので、デスミア工程における水洗浄の際に、上記フィラーの凝集を抑制することができる。   Next, the inside of the via hole 34h is cleaned by performing desmear processing and outline etching. In addition, in this embodiment, since water washing is implemented, the aggregation of the said filler can be suppressed in the case of water washing in a desmear process.

また、本例では、上述した高水圧による水洗浄と上記デスミア処理の間に、エアーブローを行うことができる。これによって、上述した水洗浄によって遊離したフィラーが完全に除去されていない場合でも、エアーブローにおいてフィラーの除去を補完することができる。   Moreover, in this example, an air blow can be performed between the water washing by the high water pressure mentioned above and the said desmear process. Thereby, even when the filler liberated by the water washing described above is not completely removed, the removal of the filler can be supplemented in the air blow.

次いで、図13に示すように、パターンメッキにより第1の導体層M2,M12及びビア導体34sを形成する。第1の導体層M2、M12は、セミアディティブ法等により、以下のようにして形成する。最初に、絶縁層V1,V11上に、例えば無電解銅めっき膜を形成した後、この無電解銅メッキ膜上にレジストを形成し、このレジストの非形成部分に電解銅めっきを行う。なお、前記レジストはKOH等で剥離除去し、パターニングされた第1の導体層M2、M12を形成することができる。   Next, as shown in FIG. 13, the first conductor layers M2 and M12 and the via conductor 34s are formed by pattern plating. The first conductor layers M2 and M12 are formed as follows by a semi-additive method or the like. First, for example, after forming an electroless copper plating film on the insulating layers V1 and V11, a resist is formed on the electroless copper plating film, and electrolytic copper plating is performed on a portion where the resist is not formed. The resist can be peeled off with KOH or the like to form patterned first conductor layers M2 and M12.

次いで、第1の導体層M2,M12に粗化処理を施したのち、図14に示すように、第1の導体層M2,M12を被覆するように樹脂フィルム6をラミネート及び硬化させて、絶縁層V2,V12を得る。この樹脂フィルムも、上述したように、必要に応じてフィラーを含んでいてもよい。   Next, after roughening the first conductor layers M2 and M12, the resin film 6 is laminated and cured so as to cover the first conductor layers M2 and M12 as shown in FIG. Layers V2 and V12 are obtained. This resin film may also contain a filler as necessary, as described above.

次いで、図15に示すように、絶縁層V2,V12(ビア層)に対してその主表面からレーザを照射し、所定のパターンにてビアホール34hを形成し、ビアホール34hを含む絶縁層V2及びV12に対して粗化処理を実施する。絶縁層V2及びV12がフィラーを含む場合は、上述のようにして絶縁層V2及びV12に対して粗化処理を施すと、フィラーが遊離して、絶縁層V2及びV12上に残存するようになるので、上記同様に適宜水洗浄、エアーブローを行う。次いで、ビアホール34hに対して、デスミア処理及び外形エッチング(アウトラインエッチング)を実施してビアホール34h内を洗浄する。   Next, as shown in FIG. 15, the insulating layers V2 and V12 (via layer) are irradiated with laser from the main surface to form via holes 34h in a predetermined pattern, and the insulating layers V2 and V12 including the via holes 34h. A roughening process is performed on When the insulating layers V2 and V12 include a filler, when the roughening process is performed on the insulating layers V2 and V12 as described above, the filler is released and remains on the insulating layers V2 and V12. Therefore, water washing and air blowing are appropriately performed as described above. Next, the via hole 34h is cleaned by performing a desmear process and an outer shape etching (outline etching).

次いで、図16に示すように、パターンメッキにより第2の導体層M3,M13及びビア導体34sを形成する。   Next, as shown in FIG. 16, the second conductor layers M3 and M13 and the via conductor 34s are formed by pattern plating.

その後、図17に示すように、第2の導体層M3,M13上に、ビアホール34h内を埋設するようにしてレジスト層8及び18をそれぞれ形成し、露光現像処理を施すことによって、図18に示すように、開口部18aを形成する。   After that, as shown in FIG. 17, resist layers 8 and 18 are formed on the second conductor layers M3 and M13 so as to be embedded in the via holes 34h, respectively, and are subjected to exposure and development processing, whereby FIG. As shown, an opening 18a is formed.

次いで、図17に示す製造過程にある配線基板アセンブリにおいては、開口部18aに露出した金属端子パッド16上にはんだを印刷し、はんだが印刷された金属端子パッド上に図5及び図6に示すようなピン17を配置してリフローした後、当該はんだを固化させてピン17を固定する。以上のような工程を経ることにより、図1〜4に示すような配線基板1を得る。   Next, in the wiring board assembly in the manufacturing process shown in FIG. 17, the solder is printed on the metal terminal pad 16 exposed in the opening 18a, and the solder is printed on the metal terminal pad shown in FIGS. After such a pin 17 is arranged and reflowed, the solder is solidified and the pin 17 is fixed. The wiring board 1 as shown in FIGS. 1-4 is obtained by passing through the above processes.

レジスト層8及び18に対しては必要に応じてプラズマ処理を実施することができる。このプラズマ処理は、プラズマ照射によって、レジスト層8及び18の特に表面を活性化するために実施するものであって、これによって、例えばパッケージ化する際に、封止樹脂層に対する濡れ性が向上することになり、封止樹脂層の塗布性が向上するようになる。特に、配線基板と例えば半導体素子等との狭い空隙にアンダーフィル樹脂を充填する際には、上述した濡れ性の向上によってアンダーフィル樹脂が配線基板、すなわちレジスト層8上で容易に広がるようになるので、従来困難であったアンダーフィル樹脂の注入も容易に行うことができる。   Plasma treatment can be performed on the resist layers 8 and 18 as necessary. This plasma treatment is performed to activate the resist layers 8 and 18 particularly by irradiating with plasma, and this improves the wettability with respect to the sealing resin layer, for example, when packaging. As a result, the applicability of the sealing resin layer is improved. In particular, when the underfill resin is filled in a narrow gap between the wiring board and, for example, a semiconductor element, the underfill resin easily spreads on the wiring board, that is, the resist layer 8 due to the above-described improvement in wettability. Therefore, injection of underfill resin, which has been difficult in the past, can be easily performed.

なお、上述のように、ピン17は、ピン17の基部171の上面及び基部171の外周端に沿うようにして形成された第1突起部173の上面において、例えば、図7及び図8に関連して説明したように、ピン17の形成時に生じるバリ等の線状の第2突起部174が連続するように形成されているので、図5に示すように、上記はんだは、第2突起部174を辿って上昇し、ピン17の基部171の上面を覆うようにして形成される。したがって、ピン17の金属端子パッド16、すなわち製造過程にある配線基板アセンブリへの接合強度を増大させることができる。   Note that, as described above, the pin 17 is related to, for example, the top surface of the base portion 171 of the pin 17 and the top surface of the first protrusion portion 173 formed along the outer peripheral end of the base portion 171. As described above, since the linear second protrusions 174 such as burrs generated when the pins 17 are formed are formed continuously, as shown in FIG. It rises following 174 and is formed so as to cover the upper surface of the base 171 of the pin 17. Therefore, the bonding strength of the pin 17 to the metal terminal pad 16, that is, the wiring board assembly in the manufacturing process can be increased.

また、ピン17の第1突起部173の端部は、図5に示すように曲面状となるので、上記はんだは、基部171の側面のみではなく、第1突起部173の側面及び上面にまで達するようになる場合がある。したがって、ピン17とはんだとの接合面積が増大するので、ピン17の金属端子パッド16、すなわち製造過程にある配線基板アセンブリへの接合強度を増大させることができる。   Further, since the end portion of the first protrusion 173 of the pin 17 is curved as shown in FIG. 5, the solder is not only on the side surface of the base portion 171 but also on the side surface and the upper surface of the first protrusion portion 173. It may come to reach. Accordingly, since the bonding area between the pin 17 and the solder increases, the bonding strength of the pin 17 to the metal terminal pad 16, that is, the wiring board assembly in the manufacturing process can be increased.

さらに、ピン17の外表面、すなわち、基部171、軸部172、第1突起部173及び第2突起部174の表面に金を含むめっき、例えばNi/Auめっきを施せば、上述したように、金ははんだとの濡れ性が高いので、はんだは第2突起部174を辿って容易に上昇し、基部171の上面を簡易に覆うことができるようになる。したがって、製造過程にある配線基板アセンブリに対するピン17の接合強度を向上させることができる。但し、はんだの濡れ広がりは、第1突起部173によって抑制されるので、はんだが第1突起部173を超えて軸部172に致り、軸部172の表面にはんだ層が形成されることはない。   Furthermore, if the outer surface of the pin 17, that is, the surface of the base 171, the shaft 172, the first protrusion 173, and the second protrusion 174 is plated with gold, for example, Ni / Au plating, as described above, Since gold has high wettability with the solder, the solder easily rises following the second protrusions 174 and can easily cover the upper surface of the base 171. Therefore, the bonding strength of the pins 17 to the wiring board assembly in the manufacturing process can be improved. However, since wetting and spreading of the solder is suppressed by the first protrusions 173, the solder passes over the first protrusions 173 to the shaft part 172, and a solder layer is formed on the surface of the shaft part 172. Absent.

以上、本発明を具体例を挙げながら詳細に説明してきたが、本発明は上記内容に限定されるものではなく、本発明の範疇を逸脱しない限りにおいてあらゆる変形や変更が可能である。   The present invention has been described in detail with specific examples. However, the present invention is not limited to the above contents, and various modifications and changes can be made without departing from the scope of the present invention.

例えば、上記具体例においては、コア基板2を有する配線基板1に対して説明したが、本発明は、当然にコア基板2を有しない配線基板においても適用することができる。   For example, in the above specific example, the wiring substrate 1 having the core substrate 2 has been described. However, the present invention can also be applied to a wiring substrate having no core substrate 2 as a matter of course.

例えば、上記具体例においては、底面が半球状を呈する基部171を有するピン17に対して説明したが、基部171の底面形状は特に限定されるものではなく、種々の形状に変形することが可能である。   For example, in the above specific example, the pin 17 having the base portion 171 whose bottom surface has a hemispherical shape has been described, but the shape of the bottom surface of the base portion 171 is not particularly limited and can be modified into various shapes. It is.

1 配線基板
M1 コア導体層
V1 第1のビア層
M2 第1の導体層
V2 第2のビア層
M11 コア導体層
V11 第1のビア層
M12 第1の導体層
V12 第2のビア層
34l ビアランド
34p ビアパッド
34s ビア導体
7a,7b 金属配線
8,18 ソルダーレジスト層
8a,18a 開口部
17 ピン
19 はんだ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Wiring board M1 Core conductor layer V1 1st via layer M2 1st conductor layer V2 2nd via layer M11 Core conductor layer V11 1st via layer M12 1st conductor layer V12 2nd via layer 34l Via land 34p Via pad 34s Via conductor 7a, 7b Metal wiring 8, 18 Solder resist layer 8a, 18a Opening 17 Pin 19 Solder

Claims (5)

互いに積層された少なくとも1層の導体層及び少なくとも1層の樹脂絶縁層と、
はんだを介して、前記少なくとも1層の導体層に電気的に接続された複数のピンと、を備えた配線基板であって、
前記ピンは、基部と、この基部の上面の中心部に立設された軸部と、前記基部の上面であって、前記軸部の外方において前記基部の外周端に沿うようにして形成された第1突起部と、少なくとも前記基部の上面及び前記第1突起部の上面において、前記基部の前記外周端から前記中心部に向かって連続するようにして形成された少なくとも1つの線状の第2突起部とを有し、
前記基部は、前記はんだによって前記少なくとも1層の導体層に固定されていることを特徴とする配線基板。
At least one conductor layer and at least one resin insulation layer laminated together;
A plurality of pins electrically connected to the at least one conductor layer via solder, and a wiring board comprising:
The pin is formed so as to be along the outer peripheral end of the base portion on the outer side of the base portion, the shaft portion standing at the center of the upper surface of the base portion, and the upper surface of the base portion. In addition, at least one linear first formed on the first protrusion, and at least the upper surface of the base and the upper surface of the first protrusion so as to be continuous from the outer peripheral end of the base toward the center. 2 protrusions,
The wiring board, wherein the base is fixed to the at least one conductor layer by the solder.
前記はんだは、前記ピンの、少なくとも前記基部の上面側を覆っていることを特徴とする、請求項1に記載の配線基板。   The wiring board according to claim 1, wherein the solder covers at least an upper surface side of the base portion of the pin. 前記ピンの、前記基部、前記軸部、前記第1突起部及び前記第2突起部の表面には、少なくとも金を含むめっき層が形成されていることを特徴とする、請求項1又は2に記載の配線基板。   3. The plating layer according to claim 1, wherein a plating layer containing at least gold is formed on surfaces of the base, the shaft, the first protrusion, and the second protrusion of the pin. The wiring board described. 前記ピンにおいて、前記基部、前記軸部及び前記第1突起部と前記第2突起部とは同一の金属材料からなることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の配線基板。   4. The wiring board according to claim 1, wherein in the pin, the base portion, the shaft portion, and the first protrusion and the second protrusion are made of the same metal material. 前記ピンにおいて、前記第1突起部の端部が曲面状に形成されていることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の配線基板。   The wiring board according to claim 1, wherein an end of the first protrusion is formed in a curved shape in the pin.
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