JP5767818B2 - 粒子ビーム装置および粒子ビーム装置の動作方法 - Google Patents
粒子ビーム装置および粒子ビーム装置の動作方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5767818B2 JP5767818B2 JP2011015821A JP2011015821A JP5767818B2 JP 5767818 B2 JP5767818 B2 JP 5767818B2 JP 2011015821 A JP2011015821 A JP 2011015821A JP 2011015821 A JP2011015821 A JP 2011015821A JP 5767818 B2 JP5767818 B2 JP 5767818B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- particle beam
- potential
- hollow body
- voltage
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 239
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 20
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 22
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 20
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 20
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 19
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 claims 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 19
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 17
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 16
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 3
- 238000001004 secondary ion mass spectrometry Methods 0.000 description 3
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 2
- 230000036544 posture Effects 0.000 description 2
- 125000003821 2-(trimethylsilyl)ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si](C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C(OC([H])([H])[*])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/10—Lenses
- H01J37/145—Combinations of electrostatic and magnetic lenses
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
- H01J37/05—Electron or ion-optical arrangements for separating electrons or ions according to their energy or mass
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/244—Detectors; Associated components or circuits therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
- Measurement Of Radiation (AREA)
Description
第1粒子ビームカラムをイオンビームカラムとして構成し、第2粒子ビームカラムを電子ビームカラムとして構成したこと、または
第1粒子ビームカラムをイオンビームカラムとして構成し、第2粒子ビームカラムをイオンビームカラムとして構成したこと、
という特徴のうち1つを備える。
2 第1粒子ビームカラム(イオンビームカラム)
3 第2粒子ビームカラム(電子ビームカラム)
4 第1光軸
5 第2光軸
6 第2ビーム発生器
7 第1電極
8 第2電極
9 第3電極
10 ビーム案内管
11 コリメータ装置
12 第1環状コイル
13 ヨーク
14 可変ピンホールダイアフラム
15 第1検出器
16 試料
17 中央開口
18 第2対物レンズ
19 磁気レンズ
20 静電レンズ
21 第2環状コイル
22 内側磁極片
23 外側磁極片
24 ビーム案内管の端部
25 終端電極
26 ラスタ手段
27 第1ビーム発生器
28 抽出電極
29 コリメータ
30 可変アパーチャ
31 第1対物レンズ
32 ラスタ電極
33 第3軸線
34 第2検出器
35 第1キャビティ
36 第1中空体
37 第2中空体
38 第2キャビティ
39 第1吸入口
40 第2吸入口
41 制御電極
42 凹所
43 外面
44 第1電圧源ユニット
45 第2電圧源ユニット
46 第3電圧源ユニット
47 第4電圧源ユニット
48 第5電圧源ユニット
49 試料チャンバ
50 第1端部
51 第2端部
Claims (15)
- 試料チャンバ(49)、
前記試料チャンバ(49)内に配置した試料(16)、
第1光軸(4)を有する第1粒子ビームカラム(2)であって、該第1粒子ビームカラム(2)は、第1粒子ビームを生成する第1ビーム発生器(27)および該第1粒子ビームを前記試料(16)上に集束する第1対物レンズ(31)を有し、前記第1粒子ビームが前記試料(16)に達すると、該第1粒子ビームと該試料(16)との間の相互作用により、第1相互作用粒子が生じることを特徴とする、第1粒子ビームカラム、
第2光軸(5)を有する第2粒子ビームカラム(3)であって、該第2粒子ビームカラム(3)は第2粒子ビームを生成する第2ビーム発生器(6)および該第2粒子ビームを前記試料(16)上に集束する第2対物レンズ(18)を有し、前記第2粒子ビームが前記試料(16)に達すると、該第2粒子ビームと該試料(16)との間の相互作用により、第2相互作用粒子が生じることを特徴とする、第2粒子ビームカラム、および
第1中空体(36,37)内部の第1キャビティ(35,38)内に配置した少なくとも1つの検出器(34)であって、該第1キャビティ(35,38)は第1吸入口(39,40)を有し、第3軸線(33)は第1吸入口(39,40)から検出器(34)へ伸びていることを特徴とする、少なくとも1つの検出器、
を備えた粒子ビーム装置であって、
前記第1粒子ビームカラム(2)の前記第1光軸(4)および前記第2粒子ビームカラム(3)の前記第2光軸(5)は同一平面上に配置され、
前記第3軸線(33)は前記平面に対して傾斜または直交するように配置され、
前記試料(16)は試料電位にあり、
前記第1中空体(36,37)は第1中空体電位にあり、第1中空体電圧は、前記第1中空体電位と前記試料電位との間の第1電位差であり、
制御電極電位にある少なくとも1つの制御電極(41)が第1粒子ビームカラム(2)上に配置され、
制御電極電圧は、前記制御電極電位と前記試料電位との間の第3電位差であり、
前記第2粒子ビームカラム(3)は、終端電極電位にある終端電極(25)を有し、
終端電極電圧は、前記終端電極電位と前記試料電位と間の第4電位差であり、
前記第1相互作用粒子および/または前記第2相互作用粒子が前記第1吸入口(39,40)を経由して前記第1中空体(36,37)内部の前記第1キャビティ(35,38)に入射するように、前記第1中空体電圧、前記制御電極電圧および/または前記終端電極電圧を選択した、
粒子ビーム装置。 - 請求項1に記載の粒子ビーム装置(1)であって、次の特徴、すなわち、
前記第1中空体電圧は第1電圧源ユニット(44)を用いて設定可能であること、
前記制御電極電圧は第3電圧源ユニット(46)を用いて設定可能であること、または
前記終端電極電圧は第4電圧源ユニット(47)を用いて設定可能であること、
という特徴のうち、少なくとも1つを備える粒子ビーム装置。 - 請求項1または2に記載の粒子ビーム装置(1)において、
前記検出器(34)は検出器電位にあり、検出器電圧は、前記検出器電位と前記試料電位との間の第2電位差であり、
前記第1相互作用粒子および/または前記第2相互作用粒子が前記第1吸入口(39,40)を経由して前記第1中空体(36,37)内部の前記第1キャビティ(35,38)に入射するように、前記第1中空体電圧、前記検出器電圧、前記制御電極電圧、および/または前記終端電極電圧を選択した、
粒子ビーム装置。 - 請求項3に記載の粒子ビーム装置(1)において、前記検出器電圧は第2電圧源ユニット(45)を用いて設定可能である、粒子ビーム装置。
- 請求項1〜4のいずれか一項に記載の粒子ビーム装置(1)であって、次の特徴、すなわち、
前記制御電極(41)を前記第1粒子ビームカラム(2)の外面(43)上に配置したこと、
前記制御電極(41)を前記第1粒子ビームカラム(2)の外面(43)上の凹所(42)内に配置したこと、または
前記制御電極(41)は前記第1粒子ビームカラム(2)の外面(43)上の凹所(42)内に配置され、前記制御電極(41)の外面と前記第1粒子ビームカラム(2)の前記外面(43)が連続平面を構成すること、
という特徴のうちの1つを備える粒子ビーム装置。 - 請求項1〜5のいずれか一項に記載の粒子ビーム装置(1)であって、次の特徴、すなわち、
前記制御電極(41)は前記第1粒子ビームカラム(2)を部分的に包囲すること、または
前記制御電極(41)は前記第1粒子ビームカラム(2)を完全に包囲すること、
という特徴のうちの1つを備える粒子ビーム装置。 - 請求項1〜6のいずれか一項に記載の粒子ビーム装置(1)であって、次の特徴、すなわち、
前記第1中空体電位は(−100)Vから(−500)Vの範囲にあること、
前記制御電極電位は100Vから800Vの範囲にあること、または
前記終端電極電位は(−50)Vから(−200)Vの範囲にあること、
という特徴のうち、少なくとも1つを備える粒子ビーム装置。 - 請求項3又は請求項3に従属する請求項4〜7のいずれか一項に記載の粒子ビーム装置(1)において、前記検出器電位は(−10)Vから(−500)Vの範囲にある、粒子ビーム装置。
- 請求項1〜8のいずれか一項に記載の粒子ビーム装置(1)において、
該粒子ビーム装置(1)は、前記第1キャビティ(35)内に配置された第2中空体(37)を備え、当該第2中空体は第2キャビティ(38)を有し、前記検出器(34)が前記第2キャビティ(38)内に配置され、
前記第2中空体(37)は第2中空体電位にあり、
第2中空体電圧は、前記第2中空体電位と前記試料電位との間の第5電位差である、
粒子ビーム装置。 - 請求項9に記載の粒子ビーム装置(1)において、前記第2中空体電圧は第5電圧源ユニット(48)を用いて設定可能である、粒子ビーム装置。
- 請求項9または10に記載の粒子ビーム装置(1)において、
前記第2中空体電位は接地電位であり、
前記第1中空体電位は前記第2中空体電位とは異なるようにした、
粒子ビーム装置。 - 請求項9または10に記載の粒子ビーム装置(1)において、前記第1中空体電位および前記第2中空体電位は接地電位ではない、粒子ビーム装置。
- 請求項1〜12のいずれか一項に記載の粒子ビーム装置(1)であって、次の特徴、すなわち、
前記第1粒子ビームカラム(2)をイオンビームカラムとして構成し、前記第2粒子ビームカラム(3)を電子ビームカラムとして構成したこと、または
前記第1粒子ビームカラムをイオンビームカラムとして構成し、前記第2粒子ビームカラムをイオンビームカラムとして構成したこと、
という特徴のうち1つを備える粒子ビーム装置。 - 請求項1〜13のいずれか一項に記載の粒子ビーム装置(1)の動作方法であって、
第1中空体電圧を供給するステップ、
制御電極電圧を供給するステップ、
終端電極電圧を供給するステップ、および
前記第1相互作用粒子および/または前記第2相互作用粒子が前記第1キャビティ(35,38)の前記第1吸入口(39,40)を経由して前記第1中空体(36,37)内部の該第1キャビティ(35,38)に入射するように、前記第1中空体電圧、前記制御電極電圧、および/または前記終端電極電圧を設定するステップ、
を含む、動作方法。 - 請求項14に記載の動作方法であって、
検出器電圧を供給するステップ、および
前記第1相互作用粒子および/または前記第2相互作用粒子が前記第1キャビティ(35,38)の前記第1吸入口(39,40)を経由して前記第1中空体(36,37)内部の該第1キャビティ(35,38)に入射するように、前記第1中空体電圧、前記検出器電圧、前記制御電極電圧、および/または前記終端電極電圧を設定するステップ、
を含む、動作方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE201010001346 DE102010001346B4 (de) | 2010-01-28 | 2010-01-28 | Teilchenstrahlgerät und Verfahren zum Betreiben eines Teilchenstrahlgeräts |
DE102010001346.3 | 2010-01-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011175969A JP2011175969A (ja) | 2011-09-08 |
JP5767818B2 true JP5767818B2 (ja) | 2015-08-19 |
Family
ID=43828307
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011015821A Active JP5767818B2 (ja) | 2010-01-28 | 2011-01-27 | 粒子ビーム装置および粒子ビーム装置の動作方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20110215242A1 (ja) |
EP (1) | EP2355125B1 (ja) |
JP (1) | JP5767818B2 (ja) |
DE (1) | DE102010001346B4 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102011006588A1 (de) * | 2011-03-31 | 2012-10-04 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Teilchenstrahlgerät mit Detektoranordnung |
EP2811506B1 (en) * | 2013-06-05 | 2016-04-06 | Fei Company | Method for imaging a sample in a dual-beam charged particle apparatus |
JP6346016B2 (ja) * | 2014-07-17 | 2018-06-20 | 日本電子株式会社 | 放射線分析装置 |
JP6404736B2 (ja) * | 2015-02-06 | 2018-10-17 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 複合荷電粒子線装置 |
US9799490B2 (en) * | 2015-03-31 | 2017-10-24 | Fei Company | Charged particle beam processing using process gas and cooled surface |
DE102021112503A1 (de) * | 2021-05-12 | 2022-11-17 | Carl Zeiss Microscopy Gmbh | Teilchenstrahlvorrichtung mit einer Ablenkeinheit |
Family Cites Families (34)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3894233A (en) * | 1972-10-27 | 1975-07-08 | Hitachi Ltd | Ion microprobe analyzer |
US4249077A (en) * | 1978-08-04 | 1981-02-03 | Crawford Charles K | Ion charge neutralization for electron beam devices |
JPS59201357A (ja) * | 1983-04-30 | 1984-11-14 | Shimadzu Corp | 二次イオン質量分析計 |
GB8917570D0 (en) * | 1989-08-01 | 1989-09-13 | Vg Instr Group | Plasma source mass spectrometry |
GB2250858B (en) * | 1990-10-22 | 1994-11-30 | Kratos Analytical Ltd | Charged particle extraction arrangement |
DE4316805C2 (de) * | 1993-05-19 | 1997-03-06 | Bruker Franzen Analytik Gmbh | Nachweis schwerer Ionen in einem Flugzeitmassenspektrometer |
JP3394120B2 (ja) * | 1995-03-23 | 2003-04-07 | 株式会社日立製作所 | 二次荷電粒子検出装置 |
US5866901A (en) * | 1996-12-05 | 1999-02-02 | Mks Instruments, Inc. | Apparatus for and method of ion detection using electron multiplier over a range of high pressures |
US6525317B1 (en) * | 1998-12-30 | 2003-02-25 | Micron Technology Inc. | Reduction of charging effect and carbon deposition caused by electron beam devices |
US6417625B1 (en) * | 2000-08-04 | 2002-07-09 | General Atomics | Apparatus and method for forming a high pressure plasma discharge column |
JP4178741B2 (ja) * | 2000-11-02 | 2008-11-12 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線装置および試料作製装置 |
EP1209737B2 (en) * | 2000-11-06 | 2014-04-30 | Hitachi, Ltd. | Method for specimen fabrication |
DE10233002B4 (de) * | 2002-07-19 | 2006-05-04 | Leo Elektronenmikroskopie Gmbh | Objektivlinse für ein Elektronenmikroskopiesystem und Elektronenmikroskopiesystem |
US7009187B2 (en) * | 2002-08-08 | 2006-03-07 | Fei Company | Particle detector suitable for detecting ions and electrons |
US6906318B2 (en) * | 2003-02-13 | 2005-06-14 | Micromass Uk Limited | Ion detector |
US7015481B2 (en) * | 2003-02-14 | 2006-03-21 | Jeol Ltd. | Charged-particle optical system |
DE60308482T2 (de) * | 2003-04-28 | 2007-06-21 | ICT Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Vorrichtung und Verfahren zur Untersuchung einer Probe eines Spezimen mittels eines Elektronenstrahls |
US6953928B2 (en) * | 2003-10-31 | 2005-10-11 | Applera Corporation | Ion source and methods for MALDI mass spectrometry |
GB0327241D0 (en) * | 2003-11-21 | 2003-12-24 | Gv Instr | Ion detector |
US7233008B1 (en) * | 2005-03-14 | 2007-06-19 | Applied Materials, Israel, Ltd. | Multiple electrode lens arrangement and a method for inspecting an object |
JP5078232B2 (ja) * | 2005-04-26 | 2012-11-21 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | 複合荷電粒子ビーム装置及びそれにおける照射位置決め方法 |
US7166836B1 (en) * | 2005-09-07 | 2007-01-23 | Agilent Technologies, Inc. | Ion beam focusing device |
EP1826809A1 (en) * | 2006-02-22 | 2007-08-29 | FEI Company | Particle-optical apparatus equipped with a gas ion source |
JP5127148B2 (ja) * | 2006-03-16 | 2013-01-23 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオンビーム加工装置 |
EP2002459B1 (en) * | 2006-03-31 | 2014-11-26 | Fei Company | Improved detector for charged particle beam instrument |
EP1916695B1 (en) * | 2006-10-25 | 2018-12-05 | ICT, Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik mbH | Charged particle beam apparatus and method for operating it |
US7727773B2 (en) * | 2006-10-31 | 2010-06-01 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd | Method of manufacturing an analytical sample and method of analyzing an analytical sample |
JP4920385B2 (ja) * | 2006-11-29 | 2012-04-18 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子ビーム装置、走査型電子顕微鏡、及び試料観察方法 |
DE102006059162B4 (de) | 2006-12-14 | 2009-07-09 | Carl Zeiss Nts Gmbh | Teilchenoptische Anordnung |
EP2006881A3 (en) * | 2007-06-18 | 2010-01-06 | FEI Company | In-chamber electron detector |
JP5410975B2 (ja) * | 2007-08-08 | 2014-02-05 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 複合集束イオンビーム装置及びそれを用いた加工観察方法 |
US7847268B2 (en) * | 2008-05-30 | 2010-12-07 | El-Mul Technologies, Ltd. | Three modes particle detector |
US7723706B2 (en) * | 2008-06-19 | 2010-05-25 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Horizontal and vertical beam angle measurement technique |
US8222600B2 (en) * | 2009-05-24 | 2012-07-17 | El-Mul Technologies Ltd. | Charged particle detection system and method |
-
2010
- 2010-01-28 DE DE201010001346 patent/DE102010001346B4/de not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-01-27 JP JP2011015821A patent/JP5767818B2/ja active Active
- 2011-01-27 US US12/931,356 patent/US20110215242A1/en not_active Abandoned
- 2011-01-27 EP EP20110152427 patent/EP2355125B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20110215242A1 (en) | 2011-09-08 |
EP2355125A3 (en) | 2012-04-25 |
DE102010001346B4 (de) | 2014-05-08 |
JP2011175969A (ja) | 2011-09-08 |
EP2355125A2 (en) | 2011-08-10 |
EP2355125B1 (en) | 2015-04-22 |
DE102010001346A1 (de) | 2011-08-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10522327B2 (en) | Method of operating a charged particle beam specimen inspection system | |
TWI794782B (zh) | 具有多個偵測器之帶電粒子束裝置及用於成像之方法 | |
JP5767818B2 (ja) | 粒子ビーム装置および粒子ビーム装置の動作方法 | |
JP5964055B2 (ja) | 試料を加工及び/又は解析するための粒子ビーム装置及び方法 | |
JP2005276819A (ja) | 帯電粒子ビームデバイスのための対物レンズ | |
US20170038321A1 (en) | Analyzing an object using a particle beam apparatus | |
US9620331B1 (en) | Method for analyzing an object and charged particle beam device for carrying out the method | |
JP5727564B2 (ja) | 荷電粒子レンズ系における収差を調査及び補正する方法 | |
US10157727B2 (en) | Aberration measurement in a charged particle microscope | |
JPWO2018154638A1 (ja) | 荷電粒子線装置 | |
CN110431649A (zh) | 带电粒子束装置 | |
US10504691B2 (en) | Method for generating a composite image of an object and particle beam device for carrying out the method | |
US9558911B2 (en) | Method for analyzing and/or processing an object as well as a particle beam device for carrying out the method | |
US10658152B1 (en) | Method for controlling a particle beam device and particle beam device for carrying out the method | |
TWI673749B (zh) | 高解析度帶電粒子束裝置及其操作方法 | |
US11626267B2 (en) | Back-scatter electrons (BSE) imaging with a SEM in tilted mode using cap bias voltage | |
EP2840588B1 (en) | Method for processing and/or for observing an object, and particle beam device for carrying out the method | |
US9685300B2 (en) | Method for processing and/or for observing an object, and particle beam device for carrying out the method | |
CN114944316A (zh) | 粒子辐射设备及其操作方法和计算机程序产品 | |
TW202338889A (zh) | 使用帽偏壓以傾斜模式的掃描式電子顯微鏡(sem)作反散射電子(bse)成像 | |
KR20200101290A (ko) | 집속 이온 빔 불순물 식별 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131224 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20140115 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140807 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140819 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20141119 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20141125 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150218 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150602 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150622 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5767818 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |