JP5764214B2 - 接触分解方法及び装置 - Google Patents
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Description
(1)主反応器、補助軽質原料反応器には一行または複数行の原料供給ノズルを設けでもよい。主反応器の原料が重質石油炭化水素類原料油である。補助軽質原料反応器の反応原料が混合C4成分、軽油などの軽質炭化水素類原料であってよく、例えば、主反応器の製品ガソリンにおける沸点が110℃より低い軽油留分であってもよい。
(2)第一反応ゾーンの出口の分離器に関する設計は、触媒の分離割合の制御を図ることができる。
(3)ストリッピング部の蒸気とオイルガス、及び第一反応ゾーンのオイルガスと一部の触媒は、輸送管によって第二反応ゾーンに導入される。
(4)輸送管と第二反応ゾーンとの間には直接繋がらなくても良く、その間の繋がらない領域が触媒導入通路となる。または、輸送管が第二反応ゾーンと直接繋がり、連通管の壁では、水平方向に間隔が均一になるように円孔などの触媒導入通路が配置され、この触媒導入通路によって、触媒補充ゾーンに導入された補助軽質原料反応器の再生待ち触媒が第二反応ゾーンに導入される。
(5)触媒補充ゾーンに流動化蒸気が設けられるため、当該ゾーンの触媒が流動化状態を保持し、均一に第二反応ゾーンに入って、反応オイルガスと触媒との十分な接触に有利である。
(6)触媒補充ゾーンと沈降器との間に設けられるセパレータによって、沈降器内の触媒が触媒補充ゾーンに戻ることがない。
(7)触媒補充ゾーンとストリッピング部との間にあるセパレータは、孔付きセパレータであってもよい。開孔の設計は、一部のストリッピング部の蒸気とオイルガス、及び第一反応ゾーンのオイルガスのみがセパレータにおける孔によって触媒補充ゾーンに入ることが可能となるが、触媒補充ゾーンの触媒がストリッピング部に入らないためである。
(8)主反応器、補助軽質原料反応器の反応オイルガスは、プロセス実施の必要に応じてオイルガス混合、またはオイルガス単独処理を行ってもよい。
(9)補助反応器から一部の触媒が引き出され、主反応器に入りまたは/及び補助反応器の底部に戻り、触媒の引き出しの量が、対応する触媒リレー管または触媒還流管にあるスライド弁の開度を調整することによって制御できる。
図1に示すように、接触分解装置は、下から上にプリリフト部19、第一反応ゾーン11、輸送管17及び第二反応ゾーン13を設けた主反応器10と、補助軽質原料反応器20とを含む。補助軽質原料反応器20と主反応器10は、沈降器30及びその中に設ける気固分離器を共用する。第一反応ゾーン11の出口に触媒分離器15を設け、輸送管17と第二反応ゾーン13の間に触媒導入通路18を設け、沈降器30とストリッピング部32の間に上下二つのセパレータで仕切られた触媒補充ゾーン12が形成され、触媒が通路18に導入されて触媒補充ゾーン12内に存在し、主反応器10が沈降器30、触媒補充ゾーン12、ストリッピング部32と上下に一体配置され、触媒補充ゾーン12と補助軽質原料反応器20の間に触媒リレー管22を設け、沈降器30とストリッピング部32の間に触媒還流管31を設け、沈降器30の最上部に二つの反応器の共用するオイルガス出口ライン50を設けた。
補助軽質原料ライザー反応器では、再生器40からの再生触媒を再生立て管42を経由して補助軽質原料ライザー反応器20の下部に導入し、プリリフト蒸気のリフト作用下で上に流動させ、軽油をノズル21でスプレーして反応器20の反応ゾーンに導入し、前記再生触媒と接触して反応し、反応器20の中間部において、反応した再生待ち触媒をリレー管22から主反応器10の触媒補充ゾーン12内に導入し、反応オイルガスと残る触媒が反応器20に沿って上昇し続け、補助軽質原料ライザー反応器20における触媒反応を完了させ、反応終了後、反応混合物を沈降器30内に導入して油・触媒の分離を行った。
ある精錬所の接触分解装置の設計は、図2に示すように、再生立て管41に触媒冷却器43が設けられ、補助軽質原料ライザー反応器20に触媒還流管23が設けられ、反応器20と主反応器10とが沈降器30を共用するが、気固分離器を共用せず、二つの反応器のオイルガスが別々に処理されるものである。その他の部分の装置構造が図1と同じである。
ある精錬所の接触分解装置設計は、図3に示すように、補助反応器20の出口に単独で第二沈降器35が設けられ、補助反応器20の再生待ち触媒が第二沈降器35から引き出され、触媒補充ゾーン12を経由して第二反応ゾーン13に入り、二つの反応器のオイルガスが別々に処理されるものである。その他の部分装置構造が図1と同じである。
ある精錬所の接触分解装置設計は、図1に示すように、220℃の重油をノズル14でスプレーした後に、主ライザー反応器10の第一反応ゾーン11内に入れ、640℃程度の再生触媒と混合してガス化し、第一反応ゾーン11に沿って上に流動させ、連続反応させた。反応時間が1.0s、反応温度が520℃であり、反応終了後に混合物は分離器15で触媒を分離し、オイルガスを輸送管17に沿って上に移動させ、第二反応ゾーン13内に入れた。同時に、補助軽質原料ライザー反応器20から引き出された再生待ち触媒を触媒補充ゾーン12に導入して更に第二反応ゾーン13に導入し、第二反応ゾーン13に導入された反応オイルガスと接触混合して反応を続けた。反応温度が510℃であり、反応時間が1.5sであった。
上記実施の形態2を採用した。本実施例では、重油原料と600℃程度の再生触媒とが第一反応ゾーン11で接触して反応した。反応器20から還流された再生待ち触媒のリサイクル量は、触媒還流管23のスライド弁によって制御し、還流量が40%であった。反応器20の反応原料が混合C4成分であった。本実施例では、ライザー反応器10の第一反応ゾーンの反応温度が500℃、反応時間が1.0sであり、第二反応ゾーンの反応温度が495℃、反応時間が1.5sであり、ライザー反応器20の反応温度が510℃、反応時間が2.4sであった。
ある精錬所の180万トン/年の接触分解装置設計では、主反応器の第一反応ゾーンの直径が1.12m、高さが20.4mであり、第二反応ゾーンの直径が1.12m、高さが13.8mであり、触媒補充ゾーンの直径が3.6m、高さが2.5mであり、触媒補充口の標高が16868であり、軽質原料反応器の直径が0.8m、高さが27.4mであり、中間部の拡径部の直径が1.6m、高さが7.0mであり、触媒引き出し点の標高が38000であり、ストリッピング部の直径が3.6m、高さが8.0mである。
実施例3における主反応器の重質原料油と触媒を使用するが、比較例1に採用される反応器は、従来のFCCプロセス装置であり、補助反応器がなく、主反応器に第二反応ゾーン及び触媒補充ゾーンが設けられず、一つの反応ゾーンのみが設けられるものである。反応条件が実施例3と同じである。
前記実施の形態3を採用した。本実施例において、ライザー反応器20の反応原料はC4成分であり、ライザー反応器10における反応条件は、第一反応ゾーンの反応温度が520℃、反応時間が1.0sであり、第二反応ゾーンの反応温度が510℃、反応時間が1.5sであり、ライザー反応器20の反応温度が520℃、反応時間が2.5sであった。原料油の特性を表4に示す。触媒はCC-20DFを用い、活性が62であった。第一反応ゾーンの触媒の40%を第二反応ゾーンに入れ、補助ライザーの触媒の100%をライザー10の第二反応ゾーンに入れた。
重油ライザーと軽油ライザーを具備するデュアルライザー装置を設置し、二つのライザーの反応原料が、それぞれ実施例4の主反応器の重質原料油と補助反応器の軽質原料油を用いた。触媒は実施例4と同じであるが、主反応器は第二反応ゾーン及び触媒補充ゾーンが設けられず、一つの反応ゾーンのみが設けられるものである。
11 第一反応ゾーン
12 触媒補充ゾーン
13 第二反応ゾーン
14,21 原料導入ノズル
15 分離器
16 セパレータ
17 輸送管
18 触媒導入通路
19 プリリフト部
20 補助軽質原料反応器
22 リレー管
23,31 触媒還流管
30 沈降器
32 ストリッピング部
33 分布管
34 再生待ち立て管
35 第二沈降器
40 再生器
41,42 再生立て管
43 触媒冷却器
50,51,52 オイルガス出口
Claims (15)
- 接触分解主反応器、補助軽質原料反応器及び触媒再生器を設けることを含む接触分解方法であって、
前記の接触分解主反応器には下から上に少なくとも第一反応ゾーン、輸送管と第二反応ゾーンが設けられ、第一反応ゾーンが輸送管と分離され、第一反応ゾーンの出口に触媒分離器が設けられ、輸送管と第二反応ゾーンの間に触媒導入通路が設けられ、主反応器が、沈降器及びストリッピング部と上下に一体配置され、沈降器とストリッピング部との間を上下二つのセパレータで仕切った触媒補充ゾーンが形成され、前記触媒導入通路が触媒補充ゾーンにあり、
接触分解主反応器の第一反応ゾーンでは、原料油を再生器からの再生触媒と接触して反応させ、反応混合物を上昇させ、分離器によって触媒を分離し、分離された触媒をストリッピング部に直接に流し、反応オイルガスを輸送管に沿って上昇させて主反応器の第二反応ゾーンに入れ、
補助軽質原料反応器では、リフティング媒体の作用下で軽質原料を再生器からの再生触媒と接触して反応させ、反応混合物を反応器に沿って上へ流し、補助軽質原料反応器の中間部において、一部の反応された、未だ活性がある再生待ち触媒を補助軽質原料反応器から引き出して接触分解主反応器の第二反応ゾーンに導入するか、または、補助軽質原料反応器の出口で気固分離を行い、分離された再生待ち触媒を主反応器の第二反応ゾーンでの反応に用い、
接触分解主反応器の第二反応ゾーンでは、補助軽質原料反応器からの再生待ち触媒を第一反応ゾーンからの反応オイルガスと混合してオイルガス反応を続け、反応終了後に、オイルガスと触媒とを分離し、オイルガスをオイルガス出口ラインを経由して導出して次の分留システムに導入し、触媒をストリッピング部に流し、第一反応ゾーンにおける分離器で分離された触媒とともにストリッピングしてから再生器に導入して再生することを特徴とする接触分解方法。 - 前記主反応器の第一反応ゾーンにおける反応混合物を上昇させて分離器によって全部触媒を分離するか、または、前記主反応器の第一反応ゾーンにおける反応混合物を上昇させて分離器によって全部触媒の40-90%を分離することを特徴とする請求項1に記載の接触分解方法。
- 前記補助軽質原料反応器から再生待ち触媒の50-100%を分離して接触分解主反応器の第二反応ゾーンの反応に導入することを特徴とする請求項1に記載の接触分解方法。
- 再生器からの再生触媒は、接触分解主反応器に導入する前に、冷却して温度を低下させることを特徴とする請求項1に記載の接触分解方法。
- 補助軽質原料反応器で反応した再生待ち触媒の一部を、補助軽質原料反応器の底部のプリリフト部に還流することを特徴とする請求項1に記載の接触分解方法。
- 補助軽質原料反応器で接触分解反応した反応オイルガスと触媒は、独立した気固分離システムによって触媒分離を行い、オイルガスを独立した分留システムに導入することを特徴とする請求項1に記載の接触分解方法。
- 請求項1ないし請求項6のいずれか1項に記載の接触分解方法を実現するための接触分解装置であって、 主反応器と補助軽質原料反応器を含み、 主反応器には、下から上に少なくとも第一反応ゾーン、輸送管及び第二反応ゾーンが設けられ、第一反応ゾーンと輸送管との間に分離され、第一反応ゾーンの出口に触媒分離器が設けられ、輸送管と第二反応ゾーンとの間に触媒導入通路が設けられ、主反応器が沈降器、触媒補充ゾーン及びストリッピング部と上下に一体配置され、沈降器とストリッピング部との間を上下二つセパレータで仕切られた触媒補充ゾーンが形成され、前記触媒導入通路が触媒補充ゾーン内にあり、触媒補充ゾーンと補助軽質原料反応器との間に触媒リレー管が設けられ、沈降器とストリッピング部との間に触媒還流管が設けられ、沈降器にオイルガス出口ラインが設けられることを特徴とする接触分解装置。
- 前記主反応器の第一反応ゾーン、第二反応ゾーンがライザータイプであることを特徴とする請求項7に記載の接触分解装置。
- 前記主反応器の第一反応ゾーン、輸送管及び第二反応ゾーンが同じ軸に配置されることを特徴とする請求項7に記載の接触分解装置。
- 補助軽質原料反応器の反応オイルガスを単独で引き出すために、前記補助軽質原料反応器の出口に第二沈降器が設けられ、第二沈降器に第二オイルガス出口ラインが設けられること、又は、補助反応器の反応オイルガスを単独で引き出すために、前記補助軽質原料反応器と主反応器が沈降器を共用し、沈降器内に二段式の補助軽質原料反応器出口気固サイクロン分離器及び第二オイルガス出口ラインが設けられること、又は、二つの反応器の混合オイルガスを引き出すために、前記補助軽質原料反応器と主反応器が沈降器を共用し、且つ二つの反応器が出口気固サイクロン分離器とオイルガス出口ラインを共用することを特徴とする請求項7に記載の接触分解装置。
- 補助軽質原料反応器の再生待ち触媒を触媒補充ゾーンに導入するために、前記触媒リレー管の一端が触媒補充ゾーンと繋がり、他方の一端が補助軽質原料反応器または第二沈降器と繋がることを特徴とする請求項7又は請求項10に記載の接触分解装置。
- 前記主反応器の底部のプリリフト部と繋がる再生配管に触媒冷却器が設けられることを特徴とする請求項7に記載の接触分解装置。
- 前記触媒リレー管にスライド弁が設けられ、スライド弁の開度を調整することによって再生待ち触媒補充ゾーンに対する補充量を制御することを特徴とする請求項7に記載の接触分解装置。
- 補助軽質原料反応器に触媒還流管が設けられ、前記触媒還流管の下端が補助軽質原料反応器の底部のプリリフト部と繋がり、触媒還流量を制御するために、触媒還流管にスライド弁が設けられることを特徴とする請求項7に記載の接触分解装置。
- 前記触媒補充ゾーンとストリッピング部との間に設けられるセパレータは孔付きセパレータであることを特徴とする請求項7に記載の接触分解装置。
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