JP5754121B2 - ガラス製造装置、ガラス製造装置の製造方法及びガラスの製造方法 - Google Patents
ガラス製造装置、ガラス製造装置の製造方法及びガラスの製造方法 Download PDFInfo
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Description
図1は、本実施形態に係るガラス製造装置の模式的側面図である。図1に示すガラス製造装置1は、液晶ディスプレイパネル用ガラス基板などとして使用される無アルカリガラスを製造するための装置である。もっとも、本発明において、製造されるガラスの種類は特に限定されない。本発明は、無アルカリガラス以外のガラスの製造にも好適に適用することができる。
次に、ガラス製造装置1の製造方法について説明する。
次に、ガラス製造装置1を用いたガラスの製造方法について説明する。
有底円筒状のPt容器を、円柱状の凹部が形成された耐火部材に、5mmのクリアランスをおいてセットした。そのクリアランスに粒子径が1mmである球状のアルミナ粒子を挿入した。次に、Pt容器を1500℃で保持した。その状態で、Pt容器と耐火部材との間のクリアランスに、ガラスカレット(質量%で、SiO2 56%、Al2O3 15%、B2O3 11%、CaO 10%、SrO 6%及びBaO 2%)を随時供給した。供給したガラスカレットは、クリアランスにおいて融解し、クリアランス内に広がっていった。ガラスがクリアランス全体に供給され、水素透過抑制層が形成された後に、室温まで徐冷した。その後、水素透過抑制層を光学顕微鏡を用いて観察した。図4に光学顕微鏡写真を示す。
1500℃における粘度が102.1dPa・s、1400℃における粘度が102.6dPa・s、1300℃における粘度が103.1dPa・s及び1200℃における粘度が103.6dPa・sである前記ガラスと、粒子径が2mm、3mmまたは4mmの球形のアルミナ粒子とを、重量比でガラス:アルミナ粒子=1:1となるように混合したものを、逆三角錐状の凹部を有するPt容器内に挿入した。次に、Pt容器を1500℃、1400℃、1300℃又は1200℃で種々の時間保持した。その後、室温まで徐冷した。これにより、アルミナ粒子が分散した三角錐状のガラスブロックを作製した。なお、この状態で、アルミナ粒子の表面から針状結晶が析出し、また、その結晶は、保持した時間に比例して、より成長していた。
10…槽
11…Pt容器
11a…Pt容器の外表面
12…水素透過抑制層
12a…セラミック粒子
12b…ガラス
14…ガラス融液
15…耐火部材
20…管
31…溶融槽
32…清澄槽
33…攪拌槽
34…状態調節槽
35…成形槽
36…第1の移送管
37…第2の移送管
38…第3の移送管
39…第4の移送管
Claims (8)
- PtまたはPt合金からなるPt容器と、
前記Pt容器の外表面を覆っており、表面から針状結晶が延びているセラミック粒子が分散したガラスからなる水素透過抑制層と、
Pt容器の外側に配置され、水素透過抑制層を保持する耐火部材と、
を備え、
前記セラミック粒子は球形で、かつその最小粒子径が1mm以上であり、隣り合う前記セラミック粒子の表面から放射状に延びる針状結晶同士が接触している、ガラス製造装置。 - 前記針状結晶は、ムライトである、請求項1に記載のガラス製造装置。
- 前記セラミック粒子は、アルミナ、ムライト及びシリカからなる群から選ばれた1種以上からなる、請求項1または2に記載のガラス製造装置。
- 前記水素透過抑制層を構成するガラスは、無アルカリガラスである、請求項1〜3のいずれか一項に記載のガラス製造装置。
- 請求項1〜4に記載のガラス製造装置の製造方法であって、
前記Pt容器と前記耐火部材とで区画形成される空間にセラミック粒子が配置された状態で、前記水素透過抑制層を構成するガラスの軟化温度以上の温度にまで前記Pt容器を加熱する加熱工程と、
前記加熱工程の後に、前記空間にガラスを供給し、前記ガラスと前記セラミック粒子とを反応させることにより前記針状結晶を成長させる工程と、
を備えるガラス製造装置の製造方法。 - 請求項1〜4に記載のガラス製造装置の製造方法であって、
前記Pt容器と前記耐火部材とで区画形成される空間に球形のセラミック粒子を投入する工程と、
前記水素透過抑制層を構成するガラスの軟化温度以上の温度にまで前記Pt容器を加熱する加熱工程と、
前記加熱工程の後に、前記空間にガラスを供給する工程と、
を備えるガラス製造装置の製造方法。 - 請求項1〜4のいずれか一項に記載のガラス製造装置を用いた、ガラスの製造方法。
- 無アルカリガラスを製造する方法である、請求項7に記載のガラスの製造方法。
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