JP5745962B2 - 半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
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Description
<構成>
図1は、実施の形態1に係る半導体装置の構成図である。この半導体装置は、半導体パッケージ1と、半導体パッケージ1を冷却する冷却器とを備える。半導体パッケージ1は、電気的回路を構成するトランジスタやダイオードなどの半導体素子を内部に収納し保護している。半導体素子は通電時に発熱して高温になるので、半導体パッケージ1は冷却器により冷却されて所定以下の温度に保たれる。
次に、図4を用いて実施の形態1の半導体装置の組み上げ手順を説明する。まず、冷却管2に半導体パッケージ1を固着したパワーユニットアセンブリを複数用意し、これらを積層して冷却構造体を形成する(図4(a))。隣接する冷却管2同士の突出部2aを当接し、当接部を溶接などで接合することにより、複数のパワーユニットアセンブリが一つの冷却構造体に組み上げられる。
実施の形態1の半導体装置は、内部に冷媒通路を有し外部に主面を有する複数の冷却管2と、各冷却管2の前記主面に固定された半導体パッケージ1と、複数の冷却管2を離間配置した棚状の冷却構造体として積層すると共に、前記冷却構造体の端部において気密性を保つためのシールスペーサ部と、前記冷却構造体の一端および他端に設けられ、各冷却管2に冷媒を出し入れする一つの開口が前記シールスペーサ部と気密状に接続されたヘッダ3,4とを備える。複数の冷却管2を棚状に配置することにより、半導体パッケージ1を高密度に配置することが可能になり、半導体装置の小型化に貢献する。また、シールスペーサ部を設け、ヘッダ3,4をシールスペーサ部と気密状に接続することにより、冷媒通路の気密化を確保する。
図5は、実施の形態2の半導体装置における冷却管2の突出部2bの構成を示す要部拡大図である。この突出部2bでは、冷却管2の一方向に突出した部分が、他方向に突出した部分よりも冷却管2の長さ方向に突出部2bの厚みだけずらして形成される。
実施の形態2の半導体装置において、突出部2bのうち一方向に突出した部分は、他方向に突出した部分よりも突出部2bの厚みだけ冷却管2の長手方向にずらして設けられるので、隣接する冷却管2の突出部2b同士は側面で当接する。そのため、冷却管2に一定の寸法ばらつきがあっても突出部2b同士はなお当接する。当接部分を溶接することにより、冷媒通路の気密性を確保することが出来る。これにより、冷却管2の寸法に高い精度を必要としないので、製造コストを低減できる。
図7は、実施の形態3に係る半導体装置の構成図である。この半導体装置は冷却構造体をその積層方向に押圧する押圧機構を備える。押圧機構は、冷却構造体の上方で入口側ヘッダ3と出口側ヘッダ4間に亘る支持部材7と、支持部材7に取り付けられたばね8を備える。なお、押圧機構は冷却構造体の上方のみならず下方に設けても良い。押圧機構以外の構成は実施の形態1と同様であるため、説明を省略する。
実施の形態3の半導体装置は、冷却構造体を積層方向に押圧する押圧機構を備えるので、半導体パッケージ1と冷却管2の接合層の信頼性を高める。また、パワーユニットアセンブリ間に伝熱部材を設けている場合には、押圧することによって接触部位の伝熱性能が顕著に向上するため、半導体パッケージ1から隣接する冷却管2への放熱が容易となり、装置全体としての冷却性能が格段に向上する。
Claims (15)
- 内部に冷媒通路を有し外部に主面を有する複数の冷却管と、
各前記冷却管の前記主面に固定された半導体パッケージと、
複数の前記冷却管を離間配置した棚状の冷却構造体として積層すると共に、前記冷却構造体の端部において気密性を保つためのシールスペーサ部と、
前記冷却構造体の一端および他端に設けられ、各前記冷却管に冷媒を出し入れする一つの開口が前記シールスペーサ部と気密状に接続されたヘッダとを備え、
前記シールスペーサ部は、前記冷却管の両端において前記冷却管の積層方向に前記冷却管から突出した突出部である、
半導体装置。 - 前記冷却構造体において隣接する前記冷却管の前記突出部同士が接合される、
請求項1に記載の半導体装置。 - 前記突出部のうち一方向に突出した部分は、他方向に突出した部分よりも前記突出部の厚みだけ前記冷却管の長手方向にずらして設けられる、
請求項1又は2に記載の半導体装置。 - 前記ヘッダの開口の周縁部は、その外側より一段低い受け部として形成され、
前記冷却構造体は前記受け部と接合する、
請求項3に記載の半導体装置。 - 一の前記冷却管に固定された前記半導体パッケージと、これに隣接した前記冷却管との間のギャップに形成された伝熱部材をさらに備える、
請求項1〜4のいずれかに記載の半導体装置。 - 前記冷却構造体を積層方向に押圧する押圧機構をさらに備える、
請求項1〜5のいずれかに記載の半導体装置。 - 前記半導体パッケージはトランスファーモールド又はインジェクションモールドで半導体素子を収納している、請求項6に記載の半導体装置。
- 前記半導体パッケージは、SiCを主成分とする半導体素子を収納する、
請求項1〜7のいずれかに記載の半導体装置。 - (a)長さ方向と垂直な方向に突出した突出部を両端に有する冷却管を用意する工程と、
(b)前記冷却管の一主面に半導体パッケージを固定してパワーユニットアセンブリを形成する工程と、
(c)前記工程(b)の後、前記突出部同士を接合することにより、複数の前記パワーユニットアセンブリを棚状に積層して冷却構造体を形成する工程と、
(d)前記工程(c)の後、1つの開口を有するヘッダを、その開口が複数の前記冷却管の開口と連続するようにして前記突出部と当接して前記冷却構造体の一端および他端に組み付ける工程と、
(e)前記組み付け箇所の周縁をシールする工程とを備える、
半導体装置の製造方法。 - 前記工程(a)は、前記突出部のうち一方向に突出した部分が他方向に突出した部分よりも前記突出部の厚みだけ前記冷却管の長手方向にずらして形成された冷却管を用意する工程である、
請求項9に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記工程(d)は、外側より一段低く形成された前記ヘッダの開口の周縁部を、前記突出部と当接して前記冷却構造体に組み付ける工程である、
請求項10に記載の半導体装置の製造方法。 - (f)前記半導体パッケージと、前記半導体パッケージが固定された前記冷却管に隣接する前記冷却管の間に伝熱部材を挿入する工程をさらに備える、
請求項9〜11のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。 - (g)前記冷却構造体を積層方向に押圧する押圧機構を形成する工程をさらに備える、
請求項9〜12のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。 - 前記工程(b)は、トランスファーモールド又はインジェクションモールドで半導体素子を収納した前記半導体パッケージを固定する工程である、
請求項13に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記工程(b)は、前記冷却管の一主面にSiCを主成分とする半導体素子を収納した前記半導体パッケージを固定する工程である、
請求項9〜14のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
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