JP5741597B2 - Manufacturing method of heat dissipation structure - Google Patents
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Description
本発明は、放熱構造の製造方法に関する。 The present invention relates to a process for producing a heat release structure.
従来、電子基板上に保持されるプロセッサ素子などの電子部品は、電力が供給されることによって発熱する。このような発熱素子に生じた熱は、発熱素子を損傷させる可能性があるので、発熱素子を、熱伝導率の高い放熱部材に接触させて該発熱素子に生じた熱を放熱部材へ逃がすことにより、発熱素子の熱損傷を回避するようにしている。 Conventionally, an electronic component such as a processor element held on an electronic substrate generates heat when electric power is supplied. Since the heat generated in such a heat generating element may damage the heat generating element, the heat generating element is brought into contact with a heat radiating member having high thermal conductivity to release the heat generated in the heat generating element to the heat radiating member. This avoids thermal damage to the heating elements.
しかし、放熱部材を発熱素子に直接接触させる場合、両者の接触を強固にするために組付け時に放熱部材から発熱素子に機械的応力を付与するため、この応力により、発熱素子が機械的損傷を受ける可能性がある。このため、上記機械的応力を緩和するべく放熱ゲルを発熱素子と放熱部材の間に設けることが考えられている。 However, when the heat radiating member is brought into direct contact with the heat generating element, mechanical stress is applied to the heat generating element from the heat radiating member at the time of assembly in order to strengthen the contact between the two. There is a possibility of receiving. For this reason, in order to relieve the mechanical stress, it is considered to provide a heat radiating gel between the heat generating element and the heat radiating member.
さて、こうした放熱構造を製造する方法としては、例えば特許文献1に開示されるように、専用の吐出制御装置を用いて発熱素子と放熱部材との間に放熱ゲルを設ける方法が知られている。かかる方法によれば、ノズルから吐出される放熱ゲルの吐出量を、吐出制御装置によって制御することにより、発熱素子と放熱部材との間に所望の量の放熱ゲルを配置することができる。
As a method for manufacturing such a heat dissipation structure, for example, as disclosed in
さて、特許文献1の装置では、発熱素子と放熱部材との間に設ける放熱ゲル量と一致するように、ノズルからの吐出量を予め計量しておくなど、吐出制御装置によって放熱ゲル量を緻密に管理しておく必要がある。そのため、製造時の作業効率が低下する。
In the device of
さらに特許文献1の装置では、電子基板と放熱部材とを組付ける前に、発熱素子上に放熱ゲルを塗布するため、組付けの際に作業者の手に放熱ゲルが付着することが原因で、所望量に管理された量が不足することになるので、製造後における放熱構造の信頼性が低下する。
Furthermore, in the apparatus of
本発明は、かかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、製造時における作業効率を向上させながら、製造後における放熱構造の信頼性を保つことにある。 This invention is made | formed in view of this problem, The objective is to maintain the reliability of the heat dissipation structure after manufacture, improving the working efficiency at the time of manufacture.
本発明は、熱を発する発熱素子(200)と、発熱素子から受けた熱を外部へ逃がす放熱部材(100、11)と、発熱素子と放熱部材との間において定められる充填空間(60)と、充填空間(60)に充填されて発熱素子の熱を放熱部材に伝える放熱ゲル(300)とを備える放熱構造(1)の製造方法であって、放熱部材に形成された導入孔(150)に、充填空間を満たす容積の放熱ゲルを導入する導入工程と、導入された放熱ゲルを充填空間に充填する充填工程とを含んでおり、充填工程では、導入孔に導入された放熱ゲルを押出部材(50、500、504)により押出すことにより、放熱ゲルを充填空間に充填し、押出部材を導入孔の一部に挿入することにより、放熱ゲルを導入する導入空間(70)を形成し、押出部材をさらに挿入することにより、導入空間の放熱ゲルを充填空間に押出すことを特徴とする。 The present invention includes a heat generating element (200) that generates heat, a heat radiating member (100, 11) that releases heat received from the heat generating element, and a filling space (60) defined between the heat generating element and the heat radiating member. The heat dissipation structure (1) is provided with a heat dissipation gel (300) that fills the filling space (60) and transmits heat of the heat generating element to the heat dissipation member, and includes an introduction hole (150) formed in the heat dissipation member. And introducing a heat dissipation gel having a volume that fills the filling space and a filling step of filling the introduced heat dissipation gel into the filling space . In the filling step, the heat dissipation gel introduced into the introduction hole is extruded. The introduction space (70) for introducing the heat radiation gel is formed by filling the heat radiation gel into the filling space by extruding with the members (50, 500, 504) and inserting the extrusion member into a part of the introduction hole. Extruded member By inserting, characterized in that extruding the heat radiation gel introducing space to the filling space.
本発明によれば、導入孔に、充填空間を満たす容積の放熱ゲルを導入しておけば、放熱ゲルを充填空間に密に充填できる。故に、発熱素子と放熱部材との間に設ける放熱ゲルの量を緻密に管理する必要性から、解放され得る。また、発熱素子と放熱部材との間の充填空間に放熱ゲルを充填するから、、放熱ゲルの露出が少なくなり、放熱ゲルが作業者の手に付着して放熱ゲルの量が不足することを防止できる。 According to the present invention, if a heat radiating gel having a volume that fills the filling space is introduced into the introduction hole, the heat radiating gel can be densely filled into the filling space. Therefore, it can be relieved from the necessity of precisely managing the amount of the heat radiating gel provided between the heat generating element and the heat radiating member. In addition, since the filling space between the heat generating element and the heat radiating member is filled with the heat radiating gel, the heat radiating gel is less exposed, the heat radiating gel adheres to the operator's hand, and the amount of the heat radiating gel is insufficient. Can be prevented.
以上によれば、製造時において特に放熱ゲルを発熱素子と放熱部材との間に設ける際の作業効率を向上させながら、製造後における放熱構造の信頼性を保つことが可能となる。 According to the above, it is possible to maintain the reliability of the heat dissipation structure after manufacture while improving the working efficiency when the heat dissipation gel is provided between the heat generating element and the heat dissipation member, particularly during manufacturing.
なお、特許請求の範囲、及び課題を解決するための手段に記載した括弧内の符号は、本発明の一つの態様として後述する実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものであり、本発明の技術的範囲を限定するものではない。 In addition, the code | symbol in the parenthesis described in the claim and the means for solving a problem shows the correspondence with the specific means as described in embodiment mentioned later as one aspect of this invention. However, it does not limit the technical scope of the present invention.
以下、本発明の複数の実施形態を図面に基づいて説明する。なお、各実施形態において対応する構成要素には同一の符号を付すことにより、重複する説明を省略する場合がある。各実施形態において構成の一部分のみを変更している場合、当該構成の他の部分においては、先行して説明した他の実施形態の構成を適用することができる。また、各実施形態の説明において明示している構成の組み合わせだけでなく、特に組み合わせに支障が生じなければ、明示していなくとも複数の実施形態の構成同士を部分的に組み合わせることが可能である。 Hereinafter, a plurality of embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the overlapping description may be abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol to the corresponding component in each embodiment. When only a part of the configuration is changed in each embodiment, the configuration of the other embodiment described above can be applied to other portions of the configuration. In addition to the combination of the configurations explicitly described in the description of each embodiment, it is possible to partially combine the configurations of the plurality of embodiments even if they are not explicitly specified unless there is a problem with the combination. .
(第一実施形態)
図1〜7に示される本発明の第一実施形態について詳細に説明する。
(First embodiment)
The first embodiment of the present invention shown in FIGS. 1 to 7 will be described in detail.
図1に示すように、第一実施形態の放熱構造1は、プロセッサ素子200と、メイン基板400と、放熱ゲル300と、上面ケース100と、フレーム部600と、底面ケース500と、側面フレーム700などからなる。
As shown in FIG. 1, the
「発熱素子」としてのプロセッサ素子200は、IC、LSIなどの集積回路である。プロセッサ素子200は、電力が外部から供給されて演算処理などを行う。その際、抵抗を有するプロセッサ素子200は、電力から得るエネルギーの一部を熱エネルギーへ変える。プロセッサ素子200は、その熱エネルギーにより発熱することになる。
The
「保持部材」としての板状のメイン基板400は、樹脂などからなり、プリント状に印刷された電気配線を表面に有している。かかる配線上には、プロセッサ素子200や他の電子部品が実装保持されており、メイン基板400は、電気配線を介して外部からの電力をそれら各要素に供給する。また、メイン基板400は、外部から電力を供給するための供給ターミナル(図示しない)や、プロセッサ素子200によって演算された結果を外部へ出力する出力ターミナル410を有している。
The plate-like
放熱ゲル300は、導電性と伝熱性とを備え、かつ粘弾性係数が高いシリコーン樹脂などからなる。かかる放熱ゲル300を介して上面ケース100は、プロセッサ素子200と間接的に接している。これにより放熱ゲル300は、プロセッサ素子200と上面ケース100との間において、それらプロセッサ素子200及び上面ケース100と接することで、プロセッサ素子20に生じた熱を上面ケース100に伝達する。また、放熱ゲル300は、高い粘弾性係数を有することにより、上面ケース100のメイン基板400への組付工程時などに、上面ケース100がプロセッサ素子200に与える外的な負荷応力を分散して、プロセッサ素子200に直接的に負荷される応力を緩和する応力緩和機能を持つ。
The
「放熱部材」としての上面ケース100は、アルミニウムといった良伝熱性の金属などからなり、ダイカスト成型などによって形成されている。図2、3に示すように上面ケース100は、本体部110と、放熱フィン120とからなる。板状の放熱フィン120は、本体部110においてプロセッサ素子200側に凹んだ凹部130に複数形成されており、凹部130の底面131から法線方向に突出している。放熱フィン120は、上面ケース100の表面積を大きくして、空気に触れる面積を大きくすることにより、効果的に放熱する。
The
凹部130には、プロセッサ素子200とは反対側に突出するように、突出部140が形成されている。また、凹部130の底面131には、突出部140を貫通するように、導入孔150が形成されている。導入孔150は、特定の一対の放熱フィン120の間において円筒形状に形成されている。さらに、導入孔150は、プロセッサ素子200のうち平坦面状の表面21に対して法線方向に延伸形成されている。
A
図1に示すようにフレーム部600は、アルミニウムなどからなり、メイン基板400を支持している。フレーム部600において上面ケース100の反対側には、アルミニウムなどからなる底面ケース500が固定されている。フレーム部600は、底面ケース500との間に、空間を形成しており、その間において、メイン基板400に電気的に接続されるHDD(図示せず)や電源基板(図示せず)などを保持する。フレーム部600は、後述する側面フレーム700を介して上面ケース100と底面ケース500と嵌め合わせることにより、メイン基板400を放熱構造1内に固定して、放熱構造1の剛性を向上させている。
As shown in FIG. 1, the
図1に示すように側面フレーム700は、アルミニウムなどからなり、板状に形成されている。側面フレーム700は、放熱構造1において一対設けられており、上面ケース100及び底面ケース500に嵌め合わされる。これにより、放熱構造1が筐体形状となる。
As shown in FIG. 1, the
図2に示すように、上面ケース100においてプロセッサ素子200側の角には、ビス受け部160が形成されている。かかるビス受け部160に、フレーム部600及びメイン基板400を介してビス2が締結されることで、フレーム部600及びメイン基板400が上面ケース100に固定されている。また、上面ケース100、側面フレーム700、及び底面ケース500からなる筐体によりメイン基板400が覆われることで、外部から受ける衝撃に対してメイン基板400及びプロセッサ素子200などが保護されている。
As shown in FIG. 2, a
図3に示されるように、上面ケース100とメイン基板400とを組付けると、メイン基板400上のプロセッサ素子200の表面21と上面ケース100の下端面102の間には、放熱ゲル300の充填される充填空間60が定められる。導入孔150は、充填空間60に連通しており、この導入孔150の内部容積は充填空間60と同じ内部容積を有している。
As shown in FIG. 3, when the
次に、図4〜7を用いて放熱構造1の製造方法について詳細に述べる。なお、図4〜7では、構造を簡略化するために、放熱フィン120は図示されていない。
Next, the manufacturing method of the
図4に示されるように導入工程では、上面ケース100の導入孔150に放熱ゲル300を導入する。具体的には、まず、上面ケース100の下端面102側に、仕切部材3を当接させる。ここで仕切部材3は、下端面102との間に隙間がないように上面ケース100に対して当接可能な板状の部材である。そこで、かかる仕切部材3と上面ケース100とを互いに固定しながら、上面ケース100において下端面102とは反対の上端面101側から導入孔150に放熱ゲル300を導入する。放熱ゲル300は、導入孔150に導入されると、仕切部材3にて仕切られた面まで達する。また、放熱ゲル300を導入し続けることにより、導入孔150内が放熱ゲル300で満たされると、放熱ゲル300の導入が止められ、さらにスイープ部材4を上端面101と平行に摺らすことにより、導入孔150から出ている余剰な放熱ゲル300が除去される。その後、当接させていた仕切部材3を上面ケース100から取り外す。このとき放熱ゲル300は、粘弾性係数の高い材料であることから、仕切部材3を取り外しても導入孔150から漏出することはない。以上により、放熱ゲル300が導入孔150に保持されて、導入工程が完了する。
As shown in FIG. 4, in the introduction step, the
次に、図5に示される組付工程では、導入工程にて放熱ゲル300が導入された上面ケース100を、メイン基板400に組付ける。この組付けにより導入孔150は、プロセッサ素子200を介してメイン基板400と反対側に位置することになる。また、組付けにより充填空間60は、上面ケース100の下端面102とプロセッサ素子200の表面21との間に挟まれるように定められる。以上により、組付工程が完了する。
Next, in the assembly process shown in FIG. 5, the
続いて、図6に示される充填工程では、導入孔150に保持されている放熱ゲル300を押出して、充填空間60に充填する。具体的には、上面ケース100の上端面101側に配置されて導入孔150から放熱ゲル300を押出す押出部材50を、図示しない直交型駆動装置などにより、上面ケース100側からプロセッサ素子200側へ向かうA方向に嵌合挿入する。この挿入により、導入孔150内の放熱ゲル300が充填空間60に押出される。押出部材50の先端面51が上面ケース100の下端面102を越えない位置まで、押出部材50が挿入されると、当該挿入は止められる。ここで導入孔150の容積は、充填空間60を満たす容積と同じとなるように確保されているので、放熱ゲル300を押出部材50により下端面102まで押出すと、放熱ゲル300は充填空間60に密に充填されることになる。押出部材50は、その後、導入孔150から抜き出されて、充填工程が完了する。以上、充填工程が完了することにより、放熱ゲル300が上面ケース100とプロセッサ素子200との間に設けられて、図7に示すような放熱構造1が完成する。
Subsequently, in the filling step shown in FIG. 6, the
ここまで説明した第一実施形態では、上面ケース100に形成される導入孔150に放熱ゲル300を導入して、導入された放熱ゲル300を押出すことによって、放熱ゲル300をプロセッサ素子200と上面ケース100との間に設けることができる。ここで導入孔150には、充填空間60を満たす容積の放熱ゲル300を導入できるので、充填空間60に押出された放熱ゲル300は、充填空間60に密に充填できる。故に、プロセッサ素子200と上面ケース100との間に設ける放熱ゲル300の量を緻密に管理する必要性から、解放され得る。また、プロセッサ素子200と上面ケース100との間の充填空間60に放熱ゲル300を充填するから、放熱ゲル300の露出が少なくなり、放熱ゲル300が作業者の手に付着して放熱ゲルの量が不足することを防止できる。以上により、製造時において、特に放熱ゲル300をプロセッサ素子200と上面ケース100との間に設ける際の作業効率を向上させながら、製造時における放熱構造1の信頼性を保つことが可能となる。
In the first embodiment described so far, the
また、第一実施形態において充填工程では、導入孔150に導入された放熱ゲル300を押出部材50により押出すことにより、放熱ゲル300を充填空間60に充填する。これによれば、押出部材50を用いて放熱ゲル300を押出すことができるので、確実に充填工程を行うことができる。故に、放熱ゲル300をプロセッサ素子200と上面ケース100との間に設ける際の作業効率向上に、貢献可能となる。
In the first embodiment, in the filling step, the
さらに、第一実施形態において上面ケース100とメイン基板400とを組付ける組付工程は、導入工程が完了した後に行われる。これによれば、上面ケース100とメイン基板400との組付け前に導入工程を行えるので、メイン基板400に邪魔されることなく、導入孔150へと放熱ゲル300を導入できる。故に、放熱ゲル300をプロセッサ素子200と上面ケース100との間に設ける際の作業効率向上に、貢献可能となる。
Furthermore, the assembly process for assembling the
またさらに、第一実施形態において上面ケース100には、プロセッサ素子200の反対側に突出した突出部140を有しており、導入孔150は、突出部140を貫通して形成されている。これによれば、上面ケース100の厚みに関わらず突出部140を利用して、充填空間60を満たす容積と同じ容積を導入孔150に確保できる。したがって、導入孔150を大径化することなく導入孔150の容積を確保して、放熱ゲル300と上面ケース100との接触面積を大きくできるので、プロセッサ素子200から上面ケース100への熱伝達を好適に行い得る。故に、放熱性を損なうことなく、放熱ゲル300をプロセッサ素子200と上面ケース100との間に設ける際の作業効率を向上可能となる。
Furthermore, in the first embodiment, the
加えて、第一実施形態において導入孔150は、プロセッサ素子200のうち充填空間60を定める平坦面状の表面21に対して、法線方向に形成されている。これによれば、押出部材50で放熱ゲル300を押出す際に、押出部材50は、プロセッサ素子200の表面21に沿って押出す力を放熱ゲル300に略均等に与えることができる。故に、放熱ゲル300が、プロセッサ素子200の表面上に均一に広がることで、放熱ゲル300をプロセッサ素子200と上面ケース100との間に設ける際の作業効率向上が向上するとともに、放熱構造1の信頼性を保つことが可能となる。
In addition, in the first embodiment, the
さらに加えて、第一実施形態では、充填工程の完了後に押出部材50が導入孔150から抜き出される。これによれば、押出部材50を放熱構造1に固定しないことにより、押出部材50を繰り返し使用することができるので、放熱構造1の部品点数を削減し得る。故に、コストの削減を実現しながらも、放熱ゲル300をプロセッサ素子200と上面ケース100との間に設ける際の作業効率を向上可能となる。
In addition, in the first embodiment, the
(第二実施形態)
次に図8〜10に示される本発明の第二実施形態について詳細に説明する。
(Second embodiment)
Next, the second embodiment of the present invention shown in FIGS. 8 to 10 will be described in detail.
図8に示されるように、第二実施形態の導入孔150の内周面には、雌螺子部151が形成されている。また、第二実施形態の放熱構造1には、雌螺子部151と螺合可能な雄螺子部501を形成するように、良伝熱性の金属などからなる螺合体500が設けられている。
As shown in FIG. 8, a
図8に示される導入工程では、まず、雌螺子部151と雄螺子部501とを螺合させることにより、螺合体500を導入孔150の一部に挿入する。この挿入により、導入孔150の内部空間のうち先端面503よりもプロセッサ素子200側の空間は、導入空間70として利用される。そこで螺合体500は、かかる導入空間70が充填空間60を満たす容積と同じとなるまで、導入孔150に挿入される。続いて導入工程では、導入空間70に放熱ゲル300を導入する。この導入により放熱ゲル300は、螺合体500の先端面503にまで達する。また、放熱ゲル300を導入し続けることにより、導入空間70が放熱ゲル300で満たされると、放熱ゲル300の導入は止められ、さらにスイープ部材4を下端面102と平行に摺らすことにより、導入孔150から出ている余剰な放熱ゲル300が除去される。以上により、放熱ゲル300が導入空間70を満たした状態で導入孔150に保持されて、導入工程が完了する。
In the introducing step shown in FIG. 8, first, the screwed
次に、図9に示される組付工程では、導入工程にて放熱ゲル300が導入された上面ケース100を、下端面102がプロセッサ素子200側に向いた状態で、メイン基板400に組付ける。この組付けにより導入孔150は、プロセッサ素子200を介してメイン基板400と反対側に位置することになる。また、組付けにより充填空間60は、上面ケース100の下端面102とプロセッサ素子200の表面21との間に挟まれるように定められる。以上により、組付工程が完了する。
Next, in the assembling step shown in FIG. 9, the
続いて、図10に示される充填工程では、導入空間70に保持されている放熱ゲル300を押出して、充填空間60に充填する。具体的には、導入工程において導入孔150に挿入された螺合体500を、上面ケース100側からプロセッサ素子200側へ向かうA方向にさらに螺合挿入して、導入空間70の放熱ゲル300を充填空間60に押出す。すなわち、本実施形態においては、第一実施形態の押出部材50に相当するものが螺合体500となっている。この押出しにおいて、螺合体500の先端面503が上面ケース100の下端面102を越えない位置まで螺合体500が螺合されると、挿入が止められる。ここで導入空間70の容積は、充填空間60を満たす容積と同じとなるように確保されているので、放熱ゲル300を螺合体500により下端面102まで押出すと、放熱ゲル300は充填空間60に密に充填されることになる。螺合体500は、その後、導入孔150から抜き出されることなく上面ケース100に固定されて、充填工程が完了する。以上、充填工程が完了することにより、放熱ゲル300が上面ケース100とプロセッサ素子200との間に設けられて、放熱構造1が完成する。
Subsequently, in the filling step shown in FIG. 10, the
ここまで説明したように第二実施形態では、螺合体500を導入孔150の一部に挿入することにより、放熱ゲル300を導入する導入空間70を形成した後、螺合体500をさらに挿入することにより、導入空間70の放熱ゲル300を充填空間60に押出す。これによれば、導入工程では、螺合体500の先端面503が第一実施形態の仕切部材3と同機能を発揮できるとともに、螺合体500の挿入深さによって導入空間70を正確に調整できるだけでなく、充填工程では、螺合体500が第一実施形態の押出部材50と同機能を発揮できる。以上により、充填空間60を満たす容積と同じ容積を導入空間70に確保して、充填空間60における放熱ゲル300の充填を確実に密にできるので、製造後における放熱構造1の信頼性を保つことが可能となる。
As described so far, in the second embodiment, the
また、第二実施形態では、充填工程の完了後に螺合体500は、導入孔150に固定される。これによれば、良伝熱性の螺合体500をそのまま放熱構造1の一部として利用できるので、プロセッサ素子200で生じた熱の放熱効率を、高めることができる。また、導入孔150を螺合体500で埋めることができるため、放熱ゲル300が充填空間60から漏出することを防ぐことができる。故に、放熱性を向上させながらも、放熱ゲル300をプロセッサ素子200と上面ケース100との間に設ける際の作業効率も向上させることが、可能となる。
In the second embodiment, the screwed
(その他の実施形態)
以上、複数の本発明の実施形態について説明したが、本発明はそれら実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々の実施形態に適用することができる。
(Other embodiments)
As mentioned above, although several embodiment of this invention was described, this invention is not limited to these embodiment, In the range which does not deviate from the summary, it can apply to various embodiment.
具体的に、第二実施形態に関する変形例1では、螺合により上面ケース100に固定される螺合体500を、図11に示されるように、圧入により固定される圧入部材504へと変更してもよい。これによれば、第二実施形態と同様に、導入工程において圧入部材504を第一実施形態の仕切部材3の代わりに活用できるともに、充填工程において圧入部材504を第一実施形態の押圧部材50の代わりに活用できる。
Specifically, in
また、第一実施形態及び第二実施形態に関する変形例2では、図12に示されるように、放熱フィン120を設けた上面ケース100の代わりに、冷却ファン5が設けられるファンケース部材11を「放熱部材」として採用してもよい。この場合、位置固定した冷却ファン5のうち各ファン間の隙間と対応する位置において、ファンケース部材11に導入孔150を設ける。そして、導入工程において、かかる導入孔150に放熱ゲル300を導入することで、本発明の放熱構造1の製造方法を適用することができる。
Moreover, in the
さらに、第一実施形態及び第二実施形態に関する変形例3では、上面ケース100に形成される導入孔150を、プロセッサ素子200の表面21に対して、その法線方向とは傾くように形成してもよい。またさらに、第一実施形態及び第二実施形態に関する変形例4では、上面ケース100に形成される導入孔150を、複数形成してもよい。ここで導入孔150を複数形成する場合においては、各導入孔150は、それら各導入孔150の総積が充填空間60を満たす容積と同じになるように形成される。
Furthermore, in
加えて、第一実施形態及び第二実施形態に関する変形例5では、導入工程において、導入孔150から出ている余剰な放熱ゲル300を除去しないように、放熱ゲル300の導入を行なってもよい。
In addition, in the modified example 5 regarding the first embodiment and the second embodiment, the
また加えて、第一実施形態及び第二実施形態に関する変形例6では、組付工程の後に導入工程を行ってもよい。この場合、仕切部材3を組付工程以前に上面ケース100に当接させた後、仕切部材3と上面ケース100とをともにメイン基板400に組付けて、組付工程を完了させる。そして、その後に、放熱ゲル300を導入孔150に導入してから、仕切部材3を取り除いて、導入工程を完了させる。さらに加えて、第二実施形態に関する変形例7では、充填工程において、螺合体500が放熱ゲル300を押出した後に、導入孔150から螺合体500を抜き出してもよい。またさらに加えて、第一実施形態に関する変形例8では、充填工程において、押出部材50が放熱ゲル300を押出した後に、押出部材50を抜き出さずに嵌合固定してもよい。
In addition, in the modification 6 regarding 1st embodiment and 2nd embodiment, you may perform an introduction process after an assembly | attachment process. In this case, after the
さらには、第一実施形態に関する変形例9では、押出部材50を採用せずに、導入口150の充填された放熱ゲル300の露出表面に圧縮空気を吹付けて該導入口150から充填空間60に放熱ゲル300を排出し、充填するようにしてもよい。
Furthermore, in the modified example 9 regarding the first embodiment, without using the pushing
また、さらには、第一実施形態及び第二実施形態に関する変形例10では、「発熱素子」は、パワートランジスタなどの電力用半導体素子であってもよい。 Furthermore, in the modification 10 regarding the first embodiment and the second embodiment, the “heating element” may be a power semiconductor element such as a power transistor.
1 放熱構造、100 上面ケース、101 上端面、102 下端面、110 本体部、120 放熱フィン、130 凹部、131 底面、140 突出部、150 導入孔、151 雌螺子部、160 ビス受け部、11 ファンケース部材、200 プロセッサ素子、300 放熱ゲル、400 メイン基板、410 出力ターミナル、500 底面ケース、600 フレーム部、700 側壁フレーム、50 押出部材、500 螺合体、501 雄螺子部、502 基端頭部、503 先端面、504 圧入部材、60 充填空間、70 導入空間、3 仕切部材、4 スイープ部材
DESCRIPTION OF
Claims (6)
前記放熱部材に形成された導入孔(150)に、前記充填空間を満たす容積の前記放熱ゲルを導入する導入工程と、
導入された前記放熱ゲルを前記充填空間に充填する充填工程とを含んでおり、
前記充填工程では、
前記導入孔に導入された前記放熱ゲルを押出部材(50、500、504)により押出すことにより、前記放熱ゲルを前記充填空間に充填し、
前記押出部材を前記導入孔の一部に挿入することにより、前記放熱ゲルを導入する導入空間(70)を形成し、
前記押出部材をさらに挿入することにより、前記導入空間の前記放熱ゲルを前記充填空間に押出すことを特徴とする放熱構造の製造方法。 A heat generating element (200) for generating heat, a heat radiating member (100, 11) for releasing heat received from the heat generating element, and a filling space (60) defined between the heat generating element and the heat radiating member; A heat radiating structure (1) comprising a heat radiating gel (300) filled in the filling space and transmitting heat of the heat generating element to the heat radiating member,
An introduction step of introducing into the introduction hole (150) formed in the heat dissipation member a volume of the heat dissipation gel that fills the filling space;
Filling the filling space with the introduced heat dissipation gel ,
In the filling step,
The extruding member (50, 500, 504) extrudes the heat dissipating gel introduced into the introduction hole to fill the heat dissipating gel into the filling space,
By inserting the extrusion member into a part of the introduction hole, an introduction space (70) for introducing the heat dissipation gel is formed,
A method of manufacturing a heat dissipation structure, wherein the heat dissipation gel in the introduction space is extruded into the filling space by further inserting the extrusion member .
前記組付工程は、前記導入工程が完了した後に行われることを特徴とする請求項1に記載の放熱構造の製造方法。 An assembly step of assembling the heat dissipation member and the holding member (400) for holding the heat generating element;
The method for manufacturing a heat dissipation structure according to claim 1, wherein the assembly step is performed after the introduction step is completed.
前記導入孔は、前記突出部を貫通して形成されることを特徴とする請求項1又は2に記載の放熱構造の製造方法。 The heat dissipating member has a protruding portion (140) protruding on the opposite side to the heat generating element,
The introduction hole method for manufacturing a heat dissipation structure according to claim 1 or 2, characterized in that it is formed through the protrusion.
前記導入孔は、前記表面に対して法線方向に形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか一項に記載の放熱構造の製造方法。 The heating element has a flat surface (21) that defines the filling space,
The introduction hole method for manufacturing a heat dissipation structure according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it is formed in the direction normal to the surface.
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