JP5738031B2 - Method for producing copper salt fine particle dispersed resin, and copper salt fine particle dispersed resin - Google Patents

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Description

本発明は、銅塩微粒子分散樹脂の製造方法、および銅塩微粒子分散樹脂に関する。   The present invention relates to a method for producing a copper salt fine particle dispersed resin and a copper salt fine particle dispersed resin.

銅イオンは、近赤外領域の光(以下、「近赤外線」ともいう)の吸収特性に優れており、銅イオンが有する近赤外線の吸収特性を利用した光学材料が従来から提案されている(例えば、特許文献1〜4参照)。特許文献1には、特定のリン酸エステル化合物と銅化合物とから形成されるリン酸エステル銅化合物を含有する光学材料が開示されている。特許文献2には、特定のリン酸エステル化合物、銅化合物および樹脂を含有する樹脂組成物から形成されたディスプレイ前面板が開示されている。特許文献3には、特定のリン酸エステル化合物と、銅化合物とから形成されるリン酸エステル銅化合物を含有する近赤外線吸収層を有する光学フィルターが開示されている。また、特許文献4には、特定のリン酸エステル化合物と、銅イオンとを含有してなる近赤外線吸収性組成物が開示されている。   Copper ions are excellent in absorption characteristics of light in the near-infrared region (hereinafter also referred to as “near-infrared rays”), and optical materials using the near-infrared absorption characteristics of copper ions have been proposed ( For example, see Patent Documents 1 to 4). Patent Document 1 discloses an optical material containing a phosphate ester copper compound formed from a specific phosphate ester compound and a copper compound. Patent Document 2 discloses a display front plate formed from a resin composition containing a specific phosphate compound, a copper compound, and a resin. Patent Document 3 discloses an optical filter having a near-infrared absorbing layer containing a phosphate ester copper compound formed from a specific phosphate ester compound and a copper compound. Patent Document 4 discloses a near-infrared absorbing composition comprising a specific phosphate compound and copper ions.

従来から提案されている銅イオンを含む近赤外線吸収剤を含有する光学材料は、重合用セルに、近赤外線吸収剤およびモノマーを充填し、重合を行うことにより製造されていた。しかしながら、重合用セルを用いた光学材料の製造方法は、サイズの大きな光学材料を得ることが困難であり、また製造コストが大きくなる傾向があった。   Conventionally proposed optical materials containing a near-infrared absorber containing copper ions have been produced by filling a polymerization cell with a near-infrared absorber and a monomer and performing polymerization. However, in the method for producing an optical material using the polymerization cell, it is difficult to obtain a large-sized optical material, and the production cost tends to increase.

また、従来の銅イオンを含む近赤外線吸収剤を含有する光学材料の耐熱性は充分に検討されておらず、未だ改良の余地があった。   Further, the heat resistance of conventional optical materials containing near-infrared absorbers containing copper ions has not been sufficiently studied, and there is still room for improvement.

特開2001−83318号公報JP 2001-83318 A 特開2001−83890号公報JP 2001-83890 A 特開2001−154015号公報JP 2001-154015 A 国際公開第01/77250号パンフレットInternational Publication No. 01/77250 Pamphlet

本発明は、上記背景技術に鑑み、様々なサイズの光学材料を好適に製造することが可能であり、かつ、耐熱性に優れる光学材料を得ることが可能な、銅塩微粒子分散樹脂を製造する方法を提供することを目的とする。   In view of the above-described background art, the present invention produces a copper salt fine particle-dispersed resin capable of suitably producing optical materials of various sizes and capable of obtaining an optical material having excellent heat resistance. It aims to provide a method.

本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討を行った結果、重合用セルを用いて、光学材料を製造するのではなく、銅塩微粒子が樹脂中に分散した、銅塩微粒子分散樹脂を用いれば、様々なサイズの光学材料を好適に製造することが可能であること、および前記銅塩微粒子分散樹脂は耐熱性に優れることを見出した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have not made an optical material by using a polymerization cell, but dispersed copper salt fine particles in a resin. It has been found that if a resin is used, optical materials of various sizes can be suitably produced, and the copper salt fine particle dispersed resin is excellent in heat resistance.

また、本発明者らは、銅塩微粒子分散樹脂を製造する際に、近赤外線吸収性銅塩微粒子と分散剤との混合物を洗浄する工程を設けることにより、耐熱性がより優れる銅塩微粒子分散樹脂が得られることを見出し、本発明を完成させた。   In addition, when the present inventors produce a copper salt fine particle dispersed resin, by providing a step of washing a mixture of near-infrared absorbing copper salt fine particles and a dispersant, copper salt fine particle dispersion having better heat resistance The inventors found that a resin was obtained and completed the present invention.

すなわち、本発明の銅塩微粒子分散樹脂の製造方法は、平均粒径1nm〜10μmの近赤外線吸収性銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物を、溶媒で洗浄した後、前記銅塩微粒子を沈降させ、上澄み液を除去し、前記銅塩微粒子を得る工程A、前記工程Aで得られた銅塩微粒子を分散媒中に分散し、分散液を得る工程B、前記分散液を樹脂と混合し、銅塩微粒子分散樹脂を得る工程Cを含むことを特徴とする。   That is, the method for producing a copper salt fine particle-dispersed resin according to the present invention comprises washing a mixture containing near-infrared absorbing copper salt fine particles having an average particle diameter of 1 nm to 10 μm and a dispersant with a solvent, and then precipitating the copper salt fine particles. Removing the supernatant and obtaining the copper salt fine particles in step A, dispersing the copper salt fine particles obtained in step A in a dispersion medium, obtaining a dispersion, and mixing the dispersion with a resin. And a step C of obtaining a copper salt fine particle-dispersed resin.

前記銅塩微粒子の平均粒径が5〜1000nmであることが好ましい。
前記工程Aが、前記銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物を、溶媒で洗浄した後、前記銅塩微粒子を、遠心分離または自然沈降により沈降させ、上澄み液を除去し、前記銅塩微粒子を得る工程であることが好ましい。
The copper salt fine particles preferably have an average particle size of 5 to 1000 nm.
After the step A is washing the mixture containing the copper salt fine particles and the dispersant with a solvent, the copper salt fine particles are settled by centrifugation or natural sedimentation, the supernatant is removed, and the copper salt fine particles are removed. It is preferable that it is a process to obtain.

前記工程Bが、前記工程Aで得られた銅塩微粒子を、分散剤存在下で分散媒中に分散し、分散液を得る工程であることが好ましい。
前記樹脂が、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン‐酢酸ビニル共重合体、(メタ)アクリル酸樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、およびノルボルネン樹脂から選択される少なくとも1種の樹脂であることが好ましく、ポリビニルブチラール樹脂、またはエチレン‐酢酸ビニル共重合体であることがより好ましい。
The step B is preferably a step in which the copper salt fine particles obtained in the step A are dispersed in a dispersion medium in the presence of a dispersant to obtain a dispersion.
The resin is at least one selected from polyvinyl acetal resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, (meth) acrylic acid resin, polyester resin, polyurethane resin, vinyl chloride resin, polyolefin resin, polycarbonate resin, and norbornene resin. A resin is preferable, and a polyvinyl butyral resin or an ethylene-vinyl acetate copolymer is more preferable.

前記銅塩の少なくとも一部が、下記一般式(1)で表わされる銅塩であることが好ましく、下記一般式(2)で表わされる銅塩であることがより好ましい。   At least a part of the copper salt is preferably a copper salt represented by the following general formula (1), and more preferably a copper salt represented by the following general formula (2).

Figure 0005738031
[一般式(1)中、Rは、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、置換基で置換されていてもよいフェニル基、置換基で置換されていてもよいベンジル基、または‐OR1基であり、R1はフッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、置換基で置換されていてもよいフェニル基、置換基で置換されていてもよいベンジル基である。]
Figure 0005738031
[In general formula (1), R represents an alkyl group optionally substituted with a fluorine atom, a phenyl group optionally substituted with a substituent, a benzyl group optionally substituted with a substituent, or -OR. a 1 group, R 1 is a fluorine alkyl group which may be substituted with atoms, a phenyl group optionally substituted with a substituent, may be substituted with a substituent a benzyl group. ]

Figure 0005738031
[一般式(2)中、R2は、−CH2CH2−R11で表される1価の基であり、R11は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または炭素数1〜20のフッ素化アルキル基を示す。]
本発明の銅塩微粒子分散樹脂は、前記製造方法で得られる。
Figure 0005738031
[In General Formula (2), R 2 is a monovalent group represented by —CH 2 CH 2 —R 11 , and R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 carbon atom. Represents -20 fluorinated alkyl groups. ]
The copper salt fine particle-dispersed resin of the present invention is obtained by the above production method.

本発明の銅塩微粒子分散樹脂の製造方法は、近赤外線吸収性銅塩微粒子と分散剤との混合物を洗浄する工程を有するため、耐熱性に優れる銅塩微粒子分散樹脂を得ることが可能である。本発明の銅塩微粒子分散樹脂は、公知の成形法により、成形することにより近赤外線吸収フィルム等の光学材料として好適に用いることができる。   The method for producing a copper salt fine particle-dispersed resin of the present invention includes a step of washing a mixture of near-infrared absorbing copper salt fine particles and a dispersant, so that a copper salt fine particle-dispersed resin having excellent heat resistance can be obtained. . The copper salt fine particle-dispersed resin of the present invention can be suitably used as an optical material such as a near-infrared absorbing film by being molded by a known molding method.

次に本発明について具体的に説明する。
本発明の銅塩微粒子分散樹脂の製造方法は、平均粒径1nm〜10μmの近赤外線吸収性銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物を、溶媒で洗浄した後、前記銅塩微粒子を沈降させ、上澄み液を除去し、前記銅塩微粒子を得る工程A、前記工程Aで得られた銅塩微粒子を分散媒中に分散し、分散液を得る工程B、前記分散液を樹脂と混合し、銅塩微粒子分散樹脂を得る工程Cを含むことを特徴とする。
Next, the present invention will be specifically described.
The method for producing a copper salt fine particle-dispersed resin of the present invention comprises washing a mixture containing near-infrared absorbing copper salt fine particles having an average particle diameter of 1 nm to 10 μm and a dispersant with a solvent, and then precipitating the copper salt fine particles. The supernatant A is removed to obtain the copper salt fine particles, step A, the copper salt fine particles obtained in the step A are dispersed in a dispersion medium, the dispersion is obtained, and the dispersion is mixed with a resin to obtain copper. It includes a step C of obtaining a salt fine particle dispersed resin.

本発明の銅塩微粒子分散樹脂の製造方法は、前記銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物を、溶媒で洗浄し、銅塩微粒子を得る工程Aを有することにより、本発明の製造方法で得られる銅塩微粒子分散樹脂は耐熱性に優れる。
本発明の製造方法に用いられる、平均粒径が1nm〜10μmの近赤外線吸収性銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物について、まず説明する。
The method for producing a copper salt fine particle-dispersed resin of the present invention is obtained by the method of the present invention by including a step A in which a mixture containing the copper salt fine particles and a dispersant is washed with a solvent to obtain copper salt fine particles. The copper salt fine particle dispersed resin is excellent in heat resistance.
First, the mixture containing the near-infrared absorbing copper salt fine particles having an average particle diameter of 1 nm to 10 μm and the dispersant used in the production method of the present invention will be described.

[平均粒径が1nm〜10μmの近赤外線吸収性銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物]
本発明の製造方法では、平均粒径が1nm〜10μmの近赤外線吸収性銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物が用いられる。
[Mixture containing near-infrared absorbing copper salt fine particles having an average particle diameter of 1 nm to 10 μm and a dispersant]
In the production method of the present invention, a mixture containing near-infrared absorbing copper salt fine particles having an average particle diameter of 1 nm to 10 μm and a dispersant is used.

本発明の製造方法では、平均粒径が1nm〜10μmの近赤外線吸収性銅塩微粒子を用いることにより、近赤外線吸収性銅塩微粒子が偏在することなく存在する銅塩微粒子分散樹脂を得ることができる。平均粒径としては、製造の容易さ、透明性の保持の観点から5〜1000nmであることが好ましく、5〜300nmであることがより好ましい。   In the production method of the present invention, by using near-infrared absorbing copper salt fine particles having an average particle diameter of 1 nm to 10 μm, it is possible to obtain a copper salt fine particle-dispersed resin in which the near-infrared absorbing copper salt fine particles exist without being unevenly distributed. it can. The average particle diameter is preferably 5 to 1000 nm, more preferably 5 to 300 nm, from the viewpoint of ease of production and transparency maintenance.

なお、平均粒径が1nm〜10μmの近赤外線吸収性銅塩微粒子を単に銅塩微粒子とも記す。
また、銅塩微粒子としては、耐熱性に優れ、銅塩微粒子分散樹脂の着色を起こし難い銅塩微粒子が好ましい。銅微粒子を構成する銅塩としては、銅塩の少なくとも一部が、下記一般式(1)で表わされる銅塩であることが好ましい。
The near-infrared absorbing copper salt fine particles having an average particle diameter of 1 nm to 10 μm are also simply referred to as copper salt fine particles.
The copper salt fine particles are preferably copper salt fine particles that are excellent in heat resistance and hardly cause coloration of the copper salt fine particle dispersed resin. As a copper salt constituting the copper fine particles, at least a part of the copper salt is preferably a copper salt represented by the following general formula (1).

Figure 0005738031
[一般式(1)中、Rは、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、置換基で置換されていてもよいフェニル基、置換基で置換されていてもよいベンジル基、または‐OR1基であり、R1はフッ素原子で置換されていてもよいアルキル基、置換基で置換されていてもよいフェニル基、置換基で置換されていてもよいベンジル基である。]
Figure 0005738031
[In general formula (1), R represents an alkyl group optionally substituted with a fluorine atom, a phenyl group optionally substituted with a substituent, a benzyl group optionally substituted with a substituent, or -OR. a 1 group, R 1 is a fluorine alkyl group which may be substituted with atoms, a phenyl group optionally substituted with a substituent, may be substituted with a substituent a benzyl group. ]

前記フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基としては、後述の一般式(2)におけるR2が挙げられる。R2以外のフッ素原子で置換されていてもよいアルキル基としては、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロ−n−ブチル基、パーフルオロへキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基等が挙げられる。 Examples of the alkyl group which may be substituted with the fluorine atom include R 2 in the general formula (2) described later. Examples of the alkyl group that may be substituted with a fluorine atom other than R 2 include a perfluoroethyl group, a perfluoropropyl group, a perfluoro-n-butyl group, a perfluorohexyl group, a perfluorooctyl group, and perfluorodecyl. Groups and the like.

前記置換基で置換されていてもよいフェニル基としては、フェニル基、直鎖または分岐した炭素数1〜20のアルキル基を有するアルキルフェニル基、直鎖または分岐した炭素数1〜20のアルコキシ基を有するアルコキシフェニル基、アミノフェニル基、チオフェニル基、ヒドロキシフェニル基、ニトロフェニル基、シアノフェニル基、直鎖または分岐した炭素数1〜20のアルコキシ基を有するアルコキシカルボニルフェニル基、アシルフェニル基、カルボキシルフェニル基等が挙げられる。これら置換基はリン原子のオルト位、メタ位、パラ位いずれの位置に置換されていてもよいし、2ヶ所以上置換されていてもよい。また、これらの置換基で置換されていてもよいフェニル基が有する水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換されていてもよい。   Examples of the phenyl group which may be substituted with the substituent include a phenyl group, a linear or branched alkylphenyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a linear or branched alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Alkoxyphenyl group, aminophenyl group, thiophenyl group, hydroxyphenyl group, nitrophenyl group, cyanophenyl group, linear or branched alkoxycarbonylphenyl group having 1 to 20 carbon atoms, acylphenyl group, carboxyl A phenyl group etc. are mentioned. These substituents may be substituted at any position of the ortho position, meta position, and para position of the phosphorus atom, and may be substituted at two or more positions. Moreover, at least a part of hydrogen atoms of the phenyl group which may be substituted with these substituents may be substituted with fluorine atoms.

前記置換基で置換されていてもよいベンジル基としては、ベンジル基、直鎖または分岐した炭素数1〜20のアルキル基を有するアルキルベンジル基、直鎖または分岐した炭素数1〜20のアルコキシ基を有するアルコキシベンジル基、アミノベンジル基、チオベンジル基、ヒドロキシベンジル基、ニトロベンジル基、シアノベンジル基、直鎖または分岐した炭素数1〜20のアルコキシ基を有するアルコキシカルボニルベンジル基、アシルベンジル基、カルボキシルベンジル基等が挙げられる。これら置換基は、リン原子と結合するメチレン基のオルト位、メタ位、パラ位いずれの位置に置換されていてもよいし、2ヶ所以上置換されていてもよい。また、これらの置換基で置換されていてもよいベンジル基が有する水素原子の少なくとも一部がフッ素原子で置換された基であってもよい。   Examples of the benzyl group that may be substituted with the substituent include a benzyl group, a linear or branched alkylbenzyl group having 1 to 20 carbon atoms, and a linear or branched alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms. Alkoxybenzyl group, aminobenzyl group, thiobenzyl group, hydroxybenzyl group, nitrobenzyl group, cyanobenzyl group, linear or branched alkoxycarbonylbenzyl group having 1 to 20 carbon atoms, acylbenzyl group, carboxyl A benzyl group etc. are mentioned. These substituents may be substituted at any position of the ortho-position, meta-position and para-position of the methylene group bonded to the phosphorus atom, or may be substituted at two or more positions. Moreover, the group by which at least one part of the hydrogen atom which the benzyl group which may be substituted by these substituents has was substituted by the fluorine atom may be sufficient.

前記一般式(1)で表わされる銅塩としては、Rが、フッ素原子で置換されていてもよいアルキル基であることが、近赤外線の吸光特性に優れるため好ましい。また、前記銅塩の少なくとも一部が、下記一般式(2)で表わされるアルキルホスホン酸銅塩であると、近赤外線の吸光特性に特に優れるためより好ましい。   As the copper salt represented by the general formula (1), it is preferable that R is an alkyl group which may be substituted with a fluorine atom because of excellent near-infrared absorption characteristics. In addition, it is more preferable that at least a part of the copper salt is an alkylphosphonic acid copper salt represented by the following general formula (2) because the near-infrared absorption characteristics are particularly excellent.

Figure 0005738031
[一般式(2)中、R2は、−CH2CH2−R11で表される1価の基であり、R11は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または炭素数1〜20のフッ素化アルキル基を示す。]
Figure 0005738031
[In General Formula (2), R 2 is a monovalent group represented by —CH 2 CH 2 —R 11 , and R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 carbon atom. Represents -20 fluorinated alkyl groups. ]

前記R11としては、水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、パーフルオロエチル基、パーフルオロプロピル基、パーフルオロ−n−ブチル基、パーフルオロへキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロデシル基等が挙げられる。 R 11 is a hydrogen atom, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group. , Pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, octadecyl group, perfluoroethyl group, perfluoropropyl group, perfluoro-n-butyl group, perfluorohexyl group, perfluorooctyl group, perfluorodecyl group, etc. .

本発明に用いる、銅塩微粒子の製造方法としては特に限定はないが、通常は銅塩微粒子を分散剤存在下で製造することにより、銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物として得る。
なお、銅塩微粒子の製造方法の一例としては、銅塩として、前記一般式(2)で表わされるアルキルホスホン酸銅塩を用いる場合には、以下の方法で製造することができる。
The method for producing the copper salt fine particles used in the present invention is not particularly limited, but usually, the copper salt fine particles are produced in the presence of a dispersant to obtain a mixture containing the copper salt fine particles and the dispersant.
In addition, as an example of the manufacturing method of copper salt microparticles | fine-particles, when using the alkylphosphonic acid copper salt represented by the said General formula (2) as a copper salt, it can manufacture with the following method.

銅塩が、前記一般式(2)で表わされる銅塩である銅塩微粒子の製造方法としては例えば、溶媒中で、下記一般式(3)で表わされるホスホン酸化合物と、銅塩とを、通常は分散剤存在下で混合し、反応混合物を得る工程(以下、反応工程とも記す)、該反応混合物中の溶媒を除去することにより銅塩微粒子を得る工程(以下、溶媒除去工程とも記す)を有する方法が挙げられる。なお、前記溶媒除去工程においては、反応工程において分散剤を用いた場合には、銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物が得られる。   As a method for producing copper salt fine particles in which the copper salt is a copper salt represented by the general formula (2), for example, in a solvent, a phosphonic acid compound represented by the following general formula (3) and a copper salt, Usually, a step of mixing in the presence of a dispersant to obtain a reaction mixture (hereinafter also referred to as a reaction step), a step of obtaining copper salt fine particles by removing a solvent in the reaction mixture (hereinafter also referred to as a solvent removal step) The method which has this is mentioned. In the solvent removal step, when a dispersant is used in the reaction step, a mixture containing copper salt fine particles and a dispersant is obtained.

Figure 0005738031
[一般式(3)中、R2は、−CH2CH2−R11で表される1価の基であり、R11は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または炭素数1〜20のフッ素化アルキル基を示す。]
Figure 0005738031
[In General Formula (3), R 2 is a monovalent group represented by —CH 2 CH 2 —R 11 , and R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 carbon atom. Represents -20 fluorinated alkyl groups. ]

前記R11としては例えば、前記一般式(2)におけるR11と同様のものが挙げられる。なお、一般式(3)で表されるホスホン酸化合物としては、一種単独で用いても、二種以上を用いてもよい。 As the R 11 can be, for example, are the same as those for R 11 in the formula (2). In addition, as a phosphonic acid compound represented by General formula (3), it may be used individually by 1 type, or 2 or more types may be used.

前記銅塩としては、2価の銅イオンを供給することが可能な銅塩が通常用いられる。前記銅塩としては前記一般式(2)で表わされるアルキルホスホン酸銅塩以外の銅塩であればよく、例えば、無水酢酸銅、無水蟻酸銅、無水ステアリン酸銅、無水安息香酸銅、無水アセト酢酸銅、無水エチルアセト酢酸銅、無水メタクリル酸銅、無水ピロリン酸銅、無水ナフテン酸銅、無水クエン酸銅等の有機酸の銅塩、該有機酸の銅塩の水和物もしくは水化物;酸化銅、塩化銅、硫酸銅、硝酸銅、リン酸銅、塩基性硫酸銅、塩基性炭酸銅等の無機酸の銅塩、該無機酸の銅塩の水和物もしくは水化物;水酸化銅が挙げられる。なお、銅塩としては、一種単独で用いても、二種以上を用いてもよい。   As the copper salt, a copper salt capable of supplying divalent copper ions is usually used. The copper salt may be a copper salt other than the alkylphosphonic acid copper salt represented by the general formula (2), for example, anhydrous copper acetate, anhydrous copper formate, anhydrous copper stearate, anhydrous copper benzoate, anhydrous acetoacetate Copper salt of organic acid such as copper acetate, anhydrous ethyl acetoacetate, anhydrous copper methacrylate, anhydrous copper pyrophosphate, anhydrous copper naphthenate, anhydrous copper citrate, hydrate or hydrate of copper salt of organic acid; oxidation Copper salt of copper, copper chloride, copper sulfate, copper nitrate, copper phosphate, basic copper sulfate, basic copper carbonate, etc., inorganic acid copper salt, hydrate or hydrate of copper salt of inorganic acid; Can be mentioned. In addition, as a copper salt, you may use individually by 1 type, or may use 2 or more types.

銅塩としては、無水酢酸銅、酢酸銅1水和物が、溶解性や副生成物の除去の点から好ましく用いられる。
銅塩が、前記一般式(2)で表わされるアルキルホスホン酸銅塩である近赤外線吸収性銅塩微粒子を製造する際には、通常は分散剤が用いられる。分散剤を用いると、一般式(2)で表わされるアルキルホスホン酸銅塩の分散性が向上するため好ましい。前記分散剤としては、例えば一般式(4a)で表されるリン酸エステル化合物および一般式(4b)で表されるリン酸エステル化合物から選択される少なくとも1種のリン酸エステル化合物が挙げられる。一般式(4a)で表されるリン酸エステル化合物および一般式(4b)で表されるリン酸エステル化合物から選択される少なくとも1種のリン酸エステル化合物としては、例えば、NIKKOL DOP−8NV、NIKKOL DLP−10、NIKKOL DDP−6、NIKKOL DDP−8、NIKKOL DDP−10、NIKKOL TDP−6、NIKKOL TDP−8、NIKKOL TDP−10(以上、日光ケミカルズ(株)製)や、プライサーフA219B、プライサーフA217E、プライサーフA210G(以上、第一工業製薬(株)製)等の市販品を用いることもできる。また、これらの化合物中のリン酸(P−OH)を適当な塩基で中和することにより得られる、リン酸エステル化合物の中和物を用いることもできる。中和に使用する塩基としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の無機塩基や、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、トリイソブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン等の3級アミンが挙げられる。
As the copper salt, anhydrous copper acetate and copper acetate monohydrate are preferably used from the viewpoint of solubility and removal of by-products.
When producing near-infrared absorbing copper salt fine particles in which the copper salt is an alkylphosphonic acid copper salt represented by the general formula (2), a dispersant is usually used. Use of a dispersant is preferable because the dispersibility of the alkylphosphonic acid copper salt represented by the general formula (2) is improved. Examples of the dispersant include at least one phosphate ester compound selected from a phosphate ester compound represented by the general formula (4a) and a phosphate ester compound represented by the general formula (4b). As at least one phosphate ester compound selected from the phosphate ester compound represented by the general formula (4a) and the phosphate ester compound represented by the general formula (4b), for example, NIKKOL DOP-8NV, NIKKOL DLP-10, NIKKOL DDP-6, NIKKOL DDP-8, NIKKOL DDP-10, NIKKOL TDP-6, NIKKOL TDP-8, NIKKOL TDP-10 (manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd.), Prisurf A219B Commercial products such as Surf A217E and Prisurf A210G (above, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) can also be used. Moreover, the neutralized product of the phosphate ester compound obtained by neutralizing phosphoric acid (P-OH) in these compounds with a suitable base can also be used. Examples of the base used for neutralization include inorganic bases such as lithium hydroxide, sodium hydroxide, potassium hydroxide, cesium hydroxide, magnesium hydroxide, and calcium hydroxide, triethylamine, diisopropylethylamine, triisobutylamine, pyridine, 4 -Tertiary amines such as dimethylaminopyridine.

Figure 0005738031
[一般式(4a)および(4b)中、R21、R22およびR23は、−(CH2CH2O)n5で表される1価の基であり、nは4〜45の整数であり、R5は、炭素数6〜25のアルキル基または炭素数6〜25のアルキルフェニル基を示す。ただし、R21、R22およびR23は、それぞれ同一でも異なっていてもよい。]
Figure 0005738031
[In the general formulas (4a) and (4b), R 21 , R 22 and R 23 are monovalent groups represented by — (CH 2 CH 2 O) n R 5 , and n is 4 to 45. It is an integer and R 5 represents an alkyl group having 6 to 25 carbon atoms or an alkylphenyl group having 6 to 25 carbon atoms. However, R 21 , R 22 and R 23 may be the same or different. ]

前記nは6〜30の整数であるとより好ましい。nが4未満である場合には、近赤外線吸収フィルム等の光学材料を製造した際に透明性が不充分となる場合がある。また、nが45を超えると、充分な透明性を有する近赤外線吸収フィルム等の光学材料を得るために必要な、リン酸エステル化合物の量が増え、コスト高の原因となる傾向がある。   The n is more preferably an integer of 6 to 30. When n is less than 4, transparency may be insufficient when an optical material such as a near-infrared absorbing film is produced. On the other hand, when n exceeds 45, the amount of the phosphoric acid ester compound necessary for obtaining an optical material such as a near-infrared absorbing film having sufficient transparency increases, which tends to cause high costs.

また、R5は、炭素数6〜25のアルキル基または炭素数6〜25のアルキルフェニル基であり、炭素数6〜25のアルキル基であることが好ましく、10〜20のアルキル基であることがより好ましい。R5が、炭素数6未満の基であると、近赤外線吸収フィルム等の光学材料を製造した際に透明性が不充分となる場合がある。また、R5が、炭素数25を超える基であると、充分な透明性を有する近赤外線吸収フィルム等の光学材料を得るために必要な、リン酸エステル化合物の量が増え、コスト高の原因となる傾向がある。 R 5 is an alkyl group having 6 to 25 carbon atoms or an alkylphenyl group having 6 to 25 carbon atoms, preferably an alkyl group having 6 to 25 carbon atoms, and preferably an alkyl group having 10 to 20 carbon atoms. Is more preferable. When R 5 is a group having less than 6 carbon atoms, transparency may be insufficient when an optical material such as a near infrared absorbing film is produced. Further, if R 5 is a group having more than 25 carbon atoms, the amount of the phosphoric acid ester compound necessary for obtaining an optical material such as a near-infrared absorbing film having sufficient transparency increases, resulting in high costs. Tend to be.

本発明に用いる銅塩微粒子を得る際には、前記一般式(4a)で表されるリン酸エステル化合物、前記一般式(4b)で表されるリン酸エステル化合物の少なくとも一方あるいはその中和物が用いられることが好ましいが、前記一般式(4a)で表されるリン酸エステル化合物、前記一般式(4b)で表されるリン酸エステル化合物の両方あるいはその中和物を用いることがより好ましい。前記一般式(4a)で表されるリン酸エステル化合物および前記一般式(4b)で表されるリン酸エステル化合物あるいはその中和物を用いると、近赤外線吸収フィルム等の光学材料の透明性、耐熱性に優れる傾向があり好ましい。前記一般式(4a)で表されるリン酸エステル化合物、前記一般式(4b)で表されるリン酸エステル化合物の両方あるいはその中和物を用いる場合には、一般式(4a)で表されるリン酸エステル化合物と、一般式(4b)で表されるリン酸エステル化合物との割合は、特に限定されないが、通常はモル比((4a):(4b))で10:90〜90:10である。   When obtaining the copper salt fine particles used in the present invention, at least one of the phosphate ester compound represented by the general formula (4a), the phosphate ester compound represented by the general formula (4b), or a neutralized product thereof However, it is more preferable to use both of the phosphate ester compound represented by the general formula (4a) and the phosphate ester compound represented by the general formula (4b) or a neutralized product thereof. . When the phosphate ester compound represented by the general formula (4a) and the phosphate ester compound represented by the general formula (4b) or a neutralized product thereof are used, the transparency of an optical material such as a near-infrared absorbing film, It tends to be excellent in heat resistance, which is preferable. When both the phosphate ester compound represented by the general formula (4a) and the phosphate ester compound represented by the general formula (4b) or a neutralized product thereof are used, they are represented by the general formula (4a). The ratio of the phosphoric acid ester compound and the phosphoric acid ester compound represented by the general formula (4b) is not particularly limited, but is usually 10:90 to 90: in a molar ratio ((4a) :( 4b)). 10.

また、前記一般式(4a)で表されるリン酸エステル化合物としては、一種単独で用いても、二種以上を用いてもよく、前記一般式(4b)で表されるリン酸エステル化合物としては、一種単独で用いても、二種以上を用いてもよい。   Moreover, as a phosphate ester compound represented by the said general formula (4a), it may be used individually by 1 type, or 2 or more types may be used, As a phosphate ester compound represented by the said General formula (4b) May be used alone or in combination of two or more.

なお、銅塩微粒子を製造する際には、前記銅塩1モルあたり、一般式(3)で表されるホスホン酸化合物を0.9〜1.1モル用いることが好ましい。また、分散剤が、一般式(4a)で表されるリン酸エステル化合物および一般式(4b)で表されるリン酸エステル化合物から選択される少なくとも1種のリン酸エステル化合物あるいはその中和物である場合には、前記銅塩1モルあたり、0.005〜0.5モル用いることが好ましい。   In addition, when manufacturing copper salt microparticles | fine-particles, it is preferable to use 0.9-1.1 mol of phosphonic acid compounds represented by General formula (3) per 1 mol of said copper salts. Further, the dispersant is at least one phosphate ester compound selected from the phosphate ester compound represented by the general formula (4a) and the phosphate ester compound represented by the general formula (4b), or a neutralized product thereof. In this case, 0.005 to 0.5 mol is preferably used per 1 mol of the copper salt.

前記溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール、テトラヒドロフラン(THF)、ジメチルホルムアミド(DMF)、トルエン、キシレン、塩化メチレン、クロロホルム、水等が挙げられ、良好に反応を行う観点から、エタノール、トルエン、THFまたはDMFが好ましい。また、反応工程は、好ましくは5〜60℃、より好ましくは10〜40℃の温度条件で、好ましくは0.5〜50時間、より好ましくは1〜30時間行われる。   Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, and isopropanol, tetrahydrofuran (THF), dimethylformamide (DMF), toluene, xylene, methylene chloride, chloroform, water, and the like. Toluene, THF or DMF is preferred. The reaction step is preferably performed at a temperature of 5 to 60 ° C, more preferably 10 to 40 ° C, preferably 0.5 to 50 hours, more preferably 1 to 30 hours.

前記反応工程では、前記一般式(3)で表されるホスホン酸化合物と、前記銅塩とが反応し、該反応によって、前記溶媒に溶解しない微粒子状の一般式(2)で表わされるホスホン酸銅塩が生成する。前記一般式(4a)で表されるリン酸エステル化合物および一般式(4b)で表されるリン酸エステル化合物から選択される少なくとも1種のリン酸エステル化合物あるいはその中和物は、反応時に良好な分散剤として作用することができるため、前記ホスホン酸銅塩は分散性が高く保たれ、凝集を抑制することができる。   In the reaction step, the phosphonic acid compound represented by the general formula (3) reacts with the copper salt, and the reaction causes the phosphonic acid represented by the fine particle general formula (2) not dissolved in the solvent. Copper salt is formed. At least one phosphate ester compound selected from the phosphate ester compound represented by the general formula (4a) and the phosphate ester compound represented by the general formula (4b) or a neutralized product thereof is good during the reaction. Therefore, the phosphonic acid copper salt can maintain high dispersibility and suppress aggregation.

なお、前記反応工程では、前記一般式(3)で表されるホスホン酸化合物と銅塩との反応のみではなく、例えば前記一般式(4a)で表されるリン酸エステル化合物および一般式(4b)で表されるリン酸エステル化合物から選択される少なくとも1種のリン酸エステル化合物あるいはその中和物と、銅塩の一部とが反応してもよい。また、原料の一部が反応せずに残存していてもよい。   In the reaction step, not only the reaction of the phosphonic acid compound represented by the general formula (3) and the copper salt, but also the phosphate ester compound represented by the general formula (4a) and the general formula (4b), for example. ) At least one phosphate ester compound selected from the phosphate ester compounds represented by (1) or a neutralized product thereof may react with a part of the copper salt. Further, a part of the raw material may remain without reacting.

なお、前記銅塩微粒子の製造方法では、通常、前記反応混合物から、少なくとも前記溶媒の一部を除去することにより、銅塩微粒子を得る。
溶媒除去工程では、反応混合物中から、少なくとも前記溶媒の一部を除去する。溶媒除去工程では、溶媒以外にも、反応混合物中の液体成分を合わせて除去してもよい。
In the method for producing copper salt fine particles, usually, copper salt fine particles are obtained by removing at least a part of the solvent from the reaction mixture.
In the solvent removal step, at least a part of the solvent is removed from the reaction mixture. In the solvent removal step, in addition to the solvent, the liquid components in the reaction mixture may be removed together.

溶媒除去工程では、通常反応混合物を加熱することにより、少なくとも前記溶媒の一部を除去するが加熱条件は、通常、室温〜70℃であり、好ましくは40〜60℃である。また、溶媒除去工程は、常圧下で行ってもよく、減圧下で行ってもよい。減圧下で溶媒除去工程を行う場合には、加熱を行わなくてもよい場合や、加熱温度が低くてもよい場合がある。   In the solvent removal step, at least a part of the solvent is usually removed by heating the reaction mixture, but the heating condition is usually room temperature to 70 ° C, preferably 40 to 60 ° C. The solvent removal step may be performed under normal pressure or under reduced pressure. When the solvent removal step is performed under reduced pressure, heating may not be performed or the heating temperature may be low.

前記分散剤を用いて銅塩微粒子を製造した場合には、前記銅塩微粒子は、銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物として得られる。なお、該混合物には、溶媒の一部や、副生成物等が含まれていてもよい。   When copper salt fine particles are produced using the dispersant, the copper salt fine particles are obtained as a mixture containing copper salt fine particles and a dispersant. In addition, a part of solvent, a by-product, etc. may be contained in this mixture.

本発明の製造方法に用いられる近赤外線吸収性銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物は、例えば前記方法によって調製することが可能であり、該混合物は、通常銅塩微粒子100質量部に対して、分散剤を1〜300質量部含む。   The mixture containing the near-infrared absorbing copper salt fine particles and the dispersant used in the production method of the present invention can be prepared, for example, by the above-mentioned method, and the mixture is usually based on 100 parts by mass of the copper salt fine particles. And 1 to 300 parts by mass of a dispersant.

また、溶媒除去工程を行った後に、近赤外線吸収性銅塩微粒子中に含まれる揮発性の不純物を共沸によって除去することを目的として、近赤外線吸収性銅塩微粒子を、分散媒に分散した後に、該分散媒を除去する工程を設けてもよい。   In addition, after performing the solvent removal step, the near-infrared absorbing copper salt fine particles were dispersed in a dispersion medium for the purpose of azeotropic removal of volatile impurities contained in the near-infrared absorbing copper salt fine particles. A step of removing the dispersion medium may be provided later.

前記分散媒としては、例えばトルエン、キシレン、テトラヒドロフラン(THF)、ジメチルホルムアミド(DMF)、塩化メチレン、クロロホルム等が挙げられる。
次に、本発明の製造方法に用いられる、樹脂について説明する。
Examples of the dispersion medium include toluene, xylene, tetrahydrofuran (THF), dimethylformamide (DMF), methylene chloride, chloroform and the like.
Next, the resin used in the production method of the present invention will be described.

[樹脂]
本発明には、樹脂が用いられる。本発明に用いられる樹脂としては、前述の近赤外線吸収性銅塩微粒子を分散することが可能であればよく特に限定はないが、例えば以下の樹脂を用いることができる。
[resin]
In the present invention, a resin is used. The resin used in the present invention is not particularly limited as long as it can disperse the above-described near-infrared absorbing copper salt fine particles. For example, the following resins can be used.

本発明に用いる樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン‐酢酸ビニル共重合体、(メタ)アクリル酸樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、およびノルボルネン樹脂から選択される少なくとも1種の樹脂が、近赤外線吸収性銅塩微粒子を良好に分散することが可能であり、かつ可視光の透過性に優れることが好ましい。   The resin used in the present invention is selected from polyvinyl acetal resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, (meth) acrylic acid resin, polyester resin, polyurethane resin, vinyl chloride resin, polyolefin resin, polycarbonate resin, and norbornene resin. It is preferable that at least one kind of resin can disperse near-infrared absorbing copper salt fine particles satisfactorily and is excellent in visible light transmittance.

本発明に用いる樹脂としては、ポリビニルアセタール樹脂、およびエチレン‐酢酸ビニル共重合体から選択される少なくとも1種の樹脂であることがより好ましく、ポリビニルブチラール樹脂(PVB)、およびエチレン‐酢酸ビニル共重合体から選択される少なくとも1種の樹脂であることが特に好ましく、ポリビニルブチラール樹脂、またはエチレン‐酢酸ビニル共重合体が最も好ましい。ポリビニルアセタール樹脂を用いると、前述の近赤外線吸収性銅塩微粒子の分散性に優れ、本発明の製造方法で得られる銅塩微粒子分散樹脂を用いて、光学材料を製造する際に、ガラス等への密着性に優れ、銅塩微粒子分散樹脂が柔軟であり、かつ温度変化に伴う銅塩微粒子分散樹脂の変形が起こり難いため好ましい。また、ポリビニルアセタール樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂(PVB)を用いることが、ガラス密着性、分散性、透明性、耐熱性、耐光性などの観点から好ましい。   The resin used in the present invention is more preferably at least one resin selected from polyvinyl acetal resin and ethylene-vinyl acetate copolymer, polyvinyl butyral resin (PVB), and ethylene-vinyl acetate copolymer Particularly preferred is at least one resin selected from a coalescence, and most preferred is a polyvinyl butyral resin or an ethylene-vinyl acetate copolymer. When the polyvinyl acetal resin is used, it is excellent in dispersibility of the above-mentioned near-infrared absorbing copper salt fine particles, and when producing an optical material using the copper salt fine particle-dispersed resin obtained by the production method of the present invention, to glass or the like. The copper salt fine particle-dispersed resin is preferable because it is flexible and the copper salt fine particle-dispersed resin is not easily deformed due to temperature change. Moreover, as polyvinyl acetal resin, it is preferable to use polyvinyl butyral resin (PVB) from the viewpoints of glass adhesion, dispersibility, transparency, heat resistance, light resistance, and the like.

ポリビニルアセタール樹脂は、必要な物性に応じて、二種以上を組み合わせたブレンド物であってもよく、アセタール化時にアルデヒドを組み合わせてアセタール化することにより得られるポリビニルアセタール樹脂であってもよい。上記ポリビニルアセタール樹脂の分子量、分子量分布およびアセタール化度は特に限定されないが、アセタール化度は、一般に40〜85%であり、好ましい下限は60%、上限は75%である。   The polyvinyl acetal resin may be a blend of two or more types depending on the required physical properties, or may be a polyvinyl acetal resin obtained by acetalizing by combining aldehydes during acetalization. The molecular weight, molecular weight distribution, and degree of acetalization of the polyvinyl acetal resin are not particularly limited, but the degree of acetalization is generally 40 to 85%, and the preferred lower limit is 60% and the upper limit is 75%.

ポリビニルアセタール樹脂は、ポリビニルアルコール樹脂をアルデヒドによりアセタール化することにより得ることができる。上記ポリビニルアルコール樹脂は、一般にポリ酢酸ビニルを鹸化することにより得られるものであり、鹸化度80〜99.8モル%のポリビニルアルコール樹脂が一般的に用いられる。上記ポリビニルアルコール樹脂の粘度平均重合度は好ましい下限は200、上限は3000である。200未満であると、得られる合わせガラスの耐貫通性が低下する場合がある。3000を超えると、銅塩微粒子分散樹脂の成形性が悪くなる場合があり、しかも銅塩微粒子分散樹脂の剛性が大きくなり過ぎ、加工性が悪くなる。より好ましい下限は500、上限は2200である。なお、ポリビニルアルコール樹脂の粘度平均重合度、および鹸化度は、例えば、JISK 6726「ポリビニルアルコール試験方法」に基づいて測定することができる。   The polyvinyl acetal resin can be obtained by acetalizing a polyvinyl alcohol resin with an aldehyde. The polyvinyl alcohol resin is generally obtained by saponifying polyvinyl acetate, and a polyvinyl alcohol resin having a saponification degree of 80 to 99.8 mol% is generally used. The preferable lower limit of the viscosity average polymerization degree of the polyvinyl alcohol resin is 200, and the upper limit is 3000. If it is less than 200, the penetration resistance of the resulting laminated glass may be lowered. If it exceeds 3000, the moldability of the copper salt fine particle dispersed resin may be deteriorated, and the rigidity of the copper salt fine particle dispersed resin becomes too large, resulting in poor workability. A more preferred lower limit is 500 and an upper limit is 2200. The viscosity average polymerization degree and saponification degree of the polyvinyl alcohol resin can be measured based on, for example, JISK 6726 “Testing method for polyvinyl alcohol”.

アルデヒドとしては特に限定されず、例えば、炭素数が1〜10のアルデヒド等が挙げられ、より具体的には、例えば、n−ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒド、n−バレルアルデヒド、2−エチルブチルアルテヒド、n−へキシルアルデヒド、n−オクチルアルデヒド、n−ノニルアルデヒド、n−デシルアルデヒド、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアルデヒド等が挙げられる。なかでも、n−ブチルアルデヒド、n−へキシルアルデヒド、n−バレルアルデヒド等が好ましい。より好ましくは、炭素数が4のブチルアルデヒドである。   The aldehyde is not particularly limited, and examples thereof include aldehydes having 1 to 10 carbon atoms, and more specifically, for example, n-butyraldehyde, isobutyraldehyde, n-valeraldehyde, 2-ethylbutylartaldehyde. N-hexylaldehyde, n-octylaldehyde, n-nonylaldehyde, n-decylaldehyde, formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde and the like. Of these, n-butyraldehyde, n-hexylaldehyde, n-valeraldehyde and the like are preferable. More preferred is butyraldehyde having 4 carbon atoms.

また、エチレン‐酢酸ビニル共重合体を用いると、前述の近赤外線吸収性銅塩微粒子の分散性に優れ、ガラス密着性、分散性、透明性、耐熱性、耐光性などの観点から好ましい。   Use of an ethylene-vinyl acetate copolymer is preferable from the viewpoints of glass dispersibility, dispersibility, transparency, heat resistance, light resistance, and the like because of excellent dispersibility of the above-mentioned near-infrared absorbing copper salt fine particles.

本発明の銅塩微粒子分散樹脂の製造方法は、前述のように平均粒径1nm〜10μmの近赤外線吸収性銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物を、溶媒で洗浄した後、前記銅塩微粒子を沈降させ、上澄み液を除去し、前記銅塩微粒子を得る工程A、前記工程Aで得られた銅塩微粒子を分散媒中に分散し、分散液を得る工程B、前記分散液を樹脂と混合し、銅塩微粒子分散樹脂を得る工程Cを有する。以下、本発明の製造方法における各工程について説明する。   The method for producing a copper salt fine particle-dispersed resin according to the present invention includes the step of washing a mixture containing near-infrared absorbing copper salt fine particles having an average particle diameter of 1 nm to 10 μm and a dispersant as described above with a solvent, and then the copper salt fine particles. The step A for obtaining the copper salt fine particles by removing the supernatant, the step B for obtaining the dispersion by dispersing the copper salt fine particles obtained in the step A in a dispersion medium, Step C is mixed to obtain a copper salt fine particle dispersed resin. Hereafter, each process in the manufacturing method of this invention is demonstrated.

[工程A]
本発明の銅塩微粒子分散樹脂の製造方法では、まず、平均粒径1nm〜10μmの近赤外線吸収性銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物を、溶媒で洗浄した後、前記銅塩微粒子を沈降させ、上澄み液を除去し、前記銅塩微粒子を得る工程Aを行う。
[Step A]
In the method for producing a copper salt fine particle-dispersed resin of the present invention, first, after washing a mixture containing near-infrared absorbing copper salt fine particles having an average particle diameter of 1 nm to 10 μm and a dispersant with a solvent, the copper salt fine particles are precipitated. And removing the supernatant and performing step A to obtain the copper salt fine particles.

工程Aでは、まず前記銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物を溶媒で洗浄する。洗浄は、通常前記混合物と、溶媒とを混合し、攪拌することにより行われる。また、凝集した銅塩の塊を粉砕するために、前記混合物と溶媒とを混合した液に対し、超音波を照射してもよい。該洗浄により、前記混合物中の分散剤や、混合物中に存在すると考えられる溶媒に可溶な副成分を、溶媒に溶解することが可能である。なお、洗浄を行う際の前記混合物と溶媒との量比としては特に限定はないが、好適に攪拌等により洗浄を行うことが可能な量が好ましく、具体的には前記混合物100質量部に対して溶媒が300〜30000質量部であることが好ましく、500〜10000質量部であることがより好ましい。攪拌は、前記分散液に攪拌子を入れ、マグネチックスターラーで攪拌してもよいし、試験管ミキサーで攪拌しても良い。攪拌速度は、通常10rpm〜1000rpmであり、攪拌時間は、通常1分間〜1時間である。また超音波を照射する場合は、凝集した銅塩の塊が目視で1mm以下程度とするのに十分な時間を照射すればよく、具体的には、通常1分間〜3時間である。   In step A, first, the mixture containing the copper salt fine particles and the dispersant is washed with a solvent. Washing is usually performed by mixing the mixture and a solvent and stirring. Moreover, in order to grind | pulverize the lump of the aggregated copper salt, you may irradiate an ultrasonic wave with respect to the liquid which mixed the said mixture and solvent. By this washing, it is possible to dissolve the dispersant in the mixture and the subcomponents soluble in the solvent that are considered to be present in the mixture in the solvent. The amount ratio of the mixture to the solvent when washing is not particularly limited, but is preferably an amount that can be suitably washed by stirring and the like, specifically, with respect to 100 parts by mass of the mixture. The solvent is preferably 300 to 30000 parts by mass, and more preferably 500 to 10000 parts by mass. Stirring may be performed by putting a stirring bar into the dispersion and stirring with a magnetic stirrer or with a test tube mixer. The stirring speed is usually 10 rpm to 1000 rpm, and the stirring time is usually 1 minute to 1 hour. Moreover, when irradiating an ultrasonic wave, what is necessary is just to irradiate time sufficient for the lump of the agglomerated copper salt to be about 1 mm or less visually, and specifically, it is 1 minute-3 hours normally.

なお、溶媒としては、分散剤を溶解可能であればよく、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、テトラヒドロフラン(THF)、ジメチルホルムアミド(DMF)、水等が挙げられ、メタノール、エタノール等が好ましい。また、溶媒は複数の成分からなる混合溶媒であってもよい。   The solvent is not particularly limited as long as it can dissolve the dispersant, and examples thereof include methanol, ethanol, isopropanol, tetrahydrofuran (THF), dimethylformamide (DMF), water, and the like, and methanol, ethanol, and the like are preferable. The solvent may be a mixed solvent composed of a plurality of components.

工程Aでは洗浄した後、前記銅塩微粒子を沈降させる。沈降させる方法としては、例えば攪拌することにより洗浄を行った場合には、攪拌を止め静置することにより、自然沈降させる方法や、遠心分離により沈降させる方法が挙げられる。   In step A, after washing, the copper salt fine particles are allowed to settle. As a method of settling, for example, when washing is carried out by stirring, a method of allowing the mixture to settle naturally by stopping stirring and standing, or a method of settling by centrifugation are exemplified.

なお、沈降させる方法としては、コストの観点からは自然沈降が好ましい。しかしながら、銅塩微粒子の粒径が小さい場合には、自然沈降が困難な場合や、自然沈降に長時間必要な場合がある。このような場合には遠心分離を行うことにより、銅塩微粒子を沈降させることが好ましい。遠心分離の回転条件としては、通常500rpm〜10000rpmで行う。遠心分離の時間としては、通常1分間〜3時間である。   As a method of settling, natural settling is preferable from the viewpoint of cost. However, when the particle diameter of the copper salt fine particles is small, natural sedimentation may be difficult or may be required for a long time for natural sedimentation. In such a case, it is preferable to precipitate the copper salt fine particles by performing centrifugation. As rotation conditions for the centrifugation, the rotation is usually performed at 500 rpm to 10,000 rpm. The centrifugation time is usually 1 minute to 3 hours.

また、工程Aでは前記銅塩微粒子を沈降させた後に、上澄み液の除去を行い、銅塩微粒子を得る。上澄み液の除去方法としては、本発明を行うスケールによっても異なるが、例えば上澄み液をパスツールピペット、スポイト等を用いて除去する方法や、上澄み液をデカンテーションにより除去する方法等が挙げられる。   In Step A, after the copper salt fine particles are settled, the supernatant is removed to obtain copper salt fine particles. The method for removing the supernatant liquid varies depending on the scale for carrying out the present invention, and examples thereof include a method for removing the supernatant liquid using a Pasteur pipette, a dropper and the like, and a method for removing the supernatant liquid by decantation.

工程Aでは、前記洗浄、沈降、上澄み液の除去を行うことにより、前記混合物中の分散剤や、前記溶媒に可溶な副成分が除去された銅塩微粒子を得ることができる。また、銅塩微粒子の純度を高める目的で、前記洗浄、沈降、上澄み液の除去を繰り返し行うことが好ましい。前記洗浄、沈降、上澄み液の除去を繰り返し行うと、銅塩微粒子分散樹脂の耐熱性がより向上する傾向があるため好ましい。なお、繰り返し行う場合の回数としては特に限定はないが、本発明の製造方法で得られる銅塩微粒子分散樹脂の耐熱性が充分向上する範囲、例えば1〜3回繰り返すことが好ましい。なお1回繰り返すとは、前記洗浄、沈降、上澄み液の除去を行った後に、得られた銅塩微粒子に再度溶媒を添加して、洗浄、沈降、上澄み液の除去を行うことを意味する。   In step A, the washing, sedimentation, and removal of the supernatant liquid are performed, whereby the copper salt fine particles from which the dispersant in the mixture and the secondary components soluble in the solvent are removed can be obtained. Further, for the purpose of increasing the purity of the copper salt fine particles, it is preferable to repeatedly perform the washing, sedimentation, and removal of the supernatant. Repeated washing, sedimentation, and removal of the supernatant are preferable because the heat resistance of the copper salt fine particle dispersed resin tends to be further improved. In addition, although it does not specifically limit as the frequency | count in the case of performing repeatedly, It is preferable to repeat in the range which the heat resistance of the copper salt fine particle dispersion resin obtained by the manufacturing method of this invention fully improves, for example, 1-3 times. Repeating once means that after washing, sedimentation, and removal of the supernatant liquid, a solvent is added again to the obtained copper salt fine particles to perform washing, sedimentation, and removal of the supernatant liquid.

本発明の製造方法で得られた銅塩微粒子分散樹脂が耐熱性に優れる理由は明らかではないが、本発明者らは、工程Aを行うことにより、前記溶媒に可溶な副成分が除去され、このことが、銅塩微粒子分散樹脂の耐熱性の向上に寄与すると推測した。   The reason why the copper salt fine particle-dispersed resin obtained by the production method of the present invention is excellent in heat resistance is not clear, but by performing Step A, the present inventors have removed subcomponents soluble in the solvent. It was speculated that this contributed to the improvement of the heat resistance of the copper salt fine particle dispersed resin.

また、工程Aと後述する工程Bとの間に、工程Aで得られた銅塩微粒子を再度前記溶媒等に分散させ、次いで前記溶媒を、減圧留去し、前記銅塩微粒子を得る工程を設けてもよい。該工程を設けると、銅塩微粒子の凝集を防止する観点から好ましい。   Further, the step of dispersing the copper salt fine particles obtained in step A in the solvent or the like again between step A and step B described later, and then distilling off the solvent under reduced pressure to obtain the copper salt fine particles. It may be provided. Providing this step is preferable from the viewpoint of preventing aggregation of the copper salt fine particles.

[工程B]
本発明の銅塩微粒子分散樹脂の製造方法では、前記工程Aを行った後に、前記工程Aで得られた銅塩微粒子を分散媒中に分散し、分散液を得る工程Bを行う。
[Step B]
In the method for producing a copper salt fine particle-dispersed resin of the present invention, after performing the step A, the step B is performed in which the copper salt fine particles obtained in the step A are dispersed in a dispersion medium to obtain a dispersion.

工程Bでは、前記工程Aで得られた銅塩微粒子を分散媒に分散する。分散媒としては、トルエン、キシレン、テトラヒドロフラン(THF)、ジメチルホルムアミド(DMF)、塩化メチレン、クロロホルム、トリエチレングリコールビス(2−エチルヘキサノエート)等が挙げられる。   In step B, the copper salt fine particles obtained in step A are dispersed in a dispersion medium. Examples of the dispersion medium include toluene, xylene, tetrahydrofuran (THF), dimethylformamide (DMF), methylene chloride, chloroform, triethylene glycol bis (2-ethylhexanoate), and the like.

銅塩微粒子を分散媒に分散させる方法としては、特に限定はなく、分散媒に銅塩微粒子を加え、超音波を照射して分散させる方法、分散媒に銅塩微粒子を加え、攪拌することにより分散させる方法、分散媒に銅塩微粒子を加え、ボールミルで粉砕して分散する方法等が挙げられる。   The method for dispersing the copper salt fine particles in the dispersion medium is not particularly limited. By adding the copper salt fine particles to the dispersion medium and irradiating with ultrasonic waves, the copper salt fine particles are added to the dispersion medium and stirred. Examples thereof include a method of dispersing, a method of adding copper salt fine particles to a dispersion medium, and pulverizing and dispersing with a ball mill.

工程Bで用いる分散媒の量としては、特に限定はないが、製造設備のサイズの観点から、通常は、銅塩微粒子を100質量部とすると、分散媒は300〜30000質量部用いられる。   Although there is no limitation in particular as the quantity of the dispersion medium used at the process B, From a viewpoint of the size of manufacturing equipment, when a copper salt fine particle shall be 100 mass parts normally, 300-30000 mass parts of dispersion media are used.

なお、工程Bでは、前記銅塩微粒子を、分散剤存在下で分散媒中に分散し、分散液を得ることが好ましい。工程Bで用いる分散剤としては、前記銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物の項で説明した分散剤を用いることができる。また、分散剤としては、銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物を合成する時に使用した分散剤と同じ分散剤を使用しても良いし、異なるものを使用してもよい。   In Step B, it is preferable to disperse the copper salt fine particles in a dispersion medium in the presence of a dispersant to obtain a dispersion. As the dispersant used in Step B, the dispersant described in the section of the mixture containing the copper salt fine particles and the dispersant can be used. Moreover, as a dispersing agent, the same dispersing agent as the dispersing agent used when synthesize | combining the mixture containing copper salt microparticles | fine-particles and a dispersing agent may be used, and a different thing may be used.

工程Bで用いる分散剤の量としては、特に限定はないが、銅塩微粒子を100質量部とすると、通常は1〜300質量部用いられる。
また、該工程Bにおいては、他の添加剤を溶媒に加えてもよい。他の添加剤としては、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、脱水剤、接着力調整剤、シランカップリング剤、顔料等が挙げられる。
Although there is no limitation in particular as the quantity of the dispersing agent used at the process B, Usually, 1-300 mass parts will be used if a copper salt microparticle is 100 mass parts.
Moreover, in this process B, you may add another additive to a solvent. Examples of other additives include plasticizers, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, dehydrating agents, adhesive force adjusting agents, silane coupling agents, and pigments.

[工程C]
本発明の銅塩微粒子分散樹脂の製造方法では、前記工程Bを行った後に、前記工程Bで得られた前記分散液を樹脂と混合し、銅塩微粒子分散樹脂を得る工程Cを行う。
[Step C]
In the method for producing a copper salt fine particle-dispersed resin of the present invention, after performing Step B, Step C is performed in which the dispersion obtained in Step B is mixed with a resin to obtain a copper salt fine particle dispersed resin.

工程Cでは、前記分散液を樹脂と混合することにより銅塩微粒子分散樹脂を得るが、通常は工程Cでは分散媒の少なくとも一部を除去する。
また、本発明の製造方法で得られる銅塩微粒子分散樹脂に分散する銅塩微粒子の量としては特に限定はないが、銅塩微粒子が通常は0.1〜15質量%であり、好ましくは0.1〜10質量%、より好ましくは0.5〜5質量%である。
In Step C, the dispersion liquid is mixed with a resin to obtain a copper salt fine particle dispersed resin. Usually, in Step C, at least a part of the dispersion medium is removed.
The amount of the copper salt fine particles dispersed in the copper salt fine particle dispersed resin obtained by the production method of the present invention is not particularly limited, but the copper salt fine particles are usually 0.1 to 15% by mass, preferably 0. 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 5% by mass.

工程Cの具体的態様としては、特に限定はないが、例えば前記分散液を樹脂と混合し、分散媒の少なくとも一部を除去することにより、銅塩微粒子分散樹脂を得る工程(以下、工程C−1とも記す。)、前記分散液を少量の樹脂と混合し、分散媒の少なくとも一部を除去することにより、銅塩微粒子分散樹脂のマスターバッチを得た後に、該マスターバッチを樹脂と混練することにより、銅塩微粒子分散樹脂を得る工程(以下、工程C−2とも記す。)等が挙げられる。   A specific embodiment of Step C is not particularly limited, but for example, a step of obtaining a copper salt fine particle dispersed resin by mixing at least a part of the dispersion medium with the dispersion liquid (hereinafter referred to as Step C). -1)), the dispersion is mixed with a small amount of resin, and at least a part of the dispersion medium is removed to obtain a master batch of the copper salt fine particle dispersed resin, and then the master batch is kneaded with the resin. Thus, a step of obtaining a copper salt fine particle-dispersed resin (hereinafter also referred to as step C-2) and the like can be mentioned.

工程Cとして、工程C−1を行う場合には、前記分散液と樹脂とを混合することにより、分散液と樹脂との混合物を得る工程C−1−1、該混合物中の分散媒の少なくとも一部を除去し、銅塩微粒子分散樹脂を得る工程C−1−2が行われる。   When performing Step C-1 as Step C, Step C-1-1 for obtaining a mixture of the dispersion and the resin by mixing the dispersion and the resin, at least the dispersion medium in the mixture Part C-1-2 is obtained by removing a part and obtaining a copper salt fine particle-dispersed resin.

前記工程C−1−1は、通常前記分散液に、樹脂を添加し、混合することにより行われる。
前記工程C−1−1で用いる銅塩微粒子の量としては特に限定はないが、工程C−1−2で得られる銅塩微粒子分散樹脂に分散する銅塩微粒子の量が、通常は0.1〜15質量%、好ましくは0.1〜10質量%、より好ましくは0.5〜5.0質量%となる量で用いられる。また、該工程で用いる樹脂の量としては特に限定はないが、工程C−1−2で得られる銅塩微粒子分散樹脂に含まれる樹脂の量が、通常は50〜99質量%、好ましくは60〜99質量%、より好ましくは65〜95質量%となる量で用いられる。
Step C-1-1 is usually performed by adding a resin to the dispersion and mixing.
The amount of the copper salt fine particles used in the step C-1-1 is not particularly limited, but the amount of the copper salt fine particles dispersed in the copper salt fine particle dispersed resin obtained in the step C-1-2 is usually 0.00. 1 to 15% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 5.0% by mass. The amount of the resin used in the step is not particularly limited, but the amount of the resin contained in the copper salt fine particle-dispersed resin obtained in step C-1-2 is usually 50 to 99% by mass, preferably 60. It is used in an amount of ˜99 mass%, more preferably 65 to 95 mass%.

また、工程C−1−1においては、他の添加剤を、分散液および樹脂と混合してもよい。他の添加剤としては、可塑剤(例えば、3GO(トリエチレングリコールビス(2−エチルヘキサノエート))等が挙げられる。さらに、樹脂の溶解性を高めることを目的として、塩化メチレン、クロロホルム、エタノール/トルエン混合溶媒等の溶媒を添加してもよい。   Moreover, in process C-1-1, you may mix another additive with a dispersion liquid and resin. Examples of other additives include plasticizers (eg, 3GO (triethylene glycol bis (2-ethylhexanoate)), etc. Further, methylene chloride, chloroform, A solvent such as an ethanol / toluene mixed solvent may be added.

工程C−1−1では、分散液の状態で樹脂と混合するため、近赤外線吸収性銅塩微粒子を、直接樹脂と混合する場合と比べて、近赤外線吸収性銅塩微粒子を樹脂中に均一に分散することができる。   In Step C-1-1, since the near-infrared absorbing copper salt fine particles are mixed in the resin in the state of the dispersion, the near-infrared absorbing copper salt fine particles are more uniform in the resin than in the case of directly mixing the near-infrared absorbing copper salt fine particles with the resin. Can be dispersed.

前記工程C−1−2では、前記工程C−1−1で得られた分散液と樹脂との混合物中の分散媒の少なくとも一部を除去すればよい。
分散媒の除去方法としては特に限定はなく、分散媒の沸点によっても異なるが、加熱乾燥、真空乾燥、加熱真空乾燥等の方法が用いられる。乾燥の際には、樹脂の変質を抑制する観点から、加熱する場合であっても温度が、室温〜100℃であることが好ましい。
In the step C-1-2, at least a part of the dispersion medium in the mixture of the dispersion liquid and the resin obtained in the step C-1-1 may be removed.
The method for removing the dispersion medium is not particularly limited, and although it varies depending on the boiling point of the dispersion medium, methods such as heat drying, vacuum drying, and heat vacuum drying are used. In drying, from the viewpoint of suppressing deterioration of the resin, the temperature is preferably room temperature to 100 ° C. even when heating.

該工程C−1−2によって、銅塩微粒子分散樹脂を得ることができる。
工程Cとして、工程C−2を行う場合には、前記分散液と樹脂とを混合することにより、分散液と樹脂との混合物を得る工程C−2−1、該混合物中の分散媒の少なくとも一部を除去することによりマスターバッチを得る工程C−2−2、前記マスターバッチと樹脂とを混練することにより、銅塩微粒子分散樹脂を得る工程C−2−3が行われる。
A copper salt fine particle-dispersed resin can be obtained by the step C-1-2.
When performing Step C-2 as Step C, Step C-2-1 for obtaining a mixture of the dispersion and the resin by mixing the dispersion and resin, and at least the dispersion medium in the mixture A step C-2-2 for obtaining a master batch by removing a part, and a step C-2-3 for obtaining a copper salt fine particle-dispersed resin by kneading the master batch and a resin are performed.

前記工程C−2−1は、通常前記分散液に、樹脂を添加し、混合することにより行われる。
前記工程C−2−1で用いる樹脂の量としては通常、後述のマスターバッチを得る工程C−2−2において、銅塩微粒子が1〜30質量%分散したマスターバッチが得られる範囲であればよい。マスターバッチには、銅塩微粒子と、樹脂とが含まれ、さらに分散剤等の添加剤が含まれる。樹脂の使用量としては、マスターバッチ全体を100質量%とした際に、銅塩微粒子が1〜30質量%となる範囲で用いればよく、特に限定はされないが、マスターバッチ全体を100質量%とした際に、通常は樹脂が30〜95質量%となる範囲で用いられ、好ましくは50〜90質量%となる範囲で用いられる。
Step C-2-1 is usually performed by adding a resin to the dispersion and mixing.
The amount of resin used in Step C-2-1 is usually within a range where a master batch in which 1 to 30% by mass of copper salt fine particles are dispersed is obtained in Step C-2-2 for obtaining a master batch described later. Good. The master batch contains copper salt fine particles and a resin, and further contains additives such as a dispersant. The amount of the resin used may be 1 to 30% by mass of the copper salt fine particles when the entire masterbatch is 100% by mass, and is not particularly limited, but the entire masterbatch is 100% by mass. When used, the resin is usually used in the range of 30 to 95% by mass, and preferably in the range of 50 to 90% by mass.

また、該工程C−2−1においては、他の添加剤を、分散液および樹脂と混合してもよい。他の添加剤としては、可塑剤(例えば、3GO(トリエチレングリコールビス(2−エチルヘキサノエート))等が挙げられる。さらに、樹脂の溶解性を高めることを目的として、塩化メチレン、クロロホルム、エタノール/トルエン混合溶媒等の溶媒を添加してもよい。   Moreover, in this process C-2-1, you may mix another additive with a dispersion liquid and resin. Examples of other additives include plasticizers (eg, 3GO (triethylene glycol bis (2-ethylhexanoate)), etc. Further, methylene chloride, chloroform, A solvent such as an ethanol / toluene mixed solvent may be added.

前記工程C−2−1では、分散液の状態で樹脂と混合するため、近赤外線吸収性銅塩微粒子を、直接樹脂と混合する場合と比べて、近赤外線吸収性銅塩微粒子を樹脂中に均一に分散することができる。   In the step C-2-1, since the mixture is mixed with the resin in a dispersion state, the near-infrared absorbing copper salt fine particles are mixed in the resin as compared with the case where the near-infrared absorbing copper salt fine particles are directly mixed with the resin. It can be uniformly dispersed.

前記工程C−2−2では、前述の工程C−2−1に続いて、前記混合物中の分散媒の少なくとも一部を除去することによりマスターバッチを得る。なお、該マスターバッチは通常銅塩微粒子が1〜30質量%分散している。   In the step C-2-2, following the step C-2-1 described above, a master batch is obtained by removing at least a part of the dispersion medium in the mixture. In the master batch, usually 1 to 30% by mass of copper salt fine particles are dispersed.

該工程C−2−2では、前記混合物中の分散媒を除去すればよい。具体例としては、前記混合物を、キャスト成形法で、所望の形状に成形した後に分散媒の除去を行いマスターバッチを得てもよく、スプレードライ法等によって粉末(マスターバッチ)を得ると同時に分散媒の除去を行ってもよい。   In Step C-2-2, the dispersion medium in the mixture may be removed. As a specific example, the mixture may be formed into a desired shape by a cast molding method, and then the dispersion medium may be removed to obtain a master batch. The medium may be removed.

分散媒の除去方法としては、分散媒の沸点によっても異なるが、加熱乾燥、真空乾燥、加熱真空乾燥等の方法が用いられる。乾燥の際には、樹脂の変質を抑制する観点から、加熱する場合であっても温度が、室温〜100℃であることが好ましい。   As a method for removing the dispersion medium, although it depends on the boiling point of the dispersion medium, a method such as heat drying, vacuum drying, or heat vacuum drying is used. In drying, from the viewpoint of suppressing deterioration of the resin, the temperature is preferably room temperature to 100 ° C. even when heating.

該工程によって、銅塩微粒子が通常1〜30質量%分散したマスターバッチを得ることができる。マスターバッチには、前述の分散液を得る工程、工程C−2−1等で用いた添加剤が含まれていてもよい。該工程で得られるマスターバッチは、銅塩微粒子を、直接樹脂と混練することにより得られたマスターバッチと比べて、銅塩微粒子を樹脂中に均一に分散することができる。   By this step, a master batch in which copper salt fine particles are usually dispersed by 1 to 30% by mass can be obtained. The master batch may contain the additives used in the step of obtaining the above-mentioned dispersion, step C-2-1, and the like. The master batch obtained in this step can uniformly disperse the copper salt fine particles in the resin as compared with the master batch obtained by directly kneading the copper salt fine particles with the resin.

前記工程C−2−3では、前記工程C−2−2で得られたマスターバッチと樹脂とを混練することにより、銅塩微粒子分散樹脂を得る工程である。該工程で得られる銅塩微粒子分散樹脂は、樹脂および銅塩微粒子から形成される、銅塩微粒子が0.1〜15質量%分散した銅塩微粒子分散樹脂であることが好ましい。   In the step C-2-3, the master batch obtained in the step C-2-2 and the resin are kneaded to obtain a copper salt fine particle dispersed resin. The copper salt fine particle-dispersed resin obtained in this step is preferably a copper salt fine particle-dispersed resin formed from a resin and copper salt fine particles in which 0.1 to 15% by mass of copper salt fine particles are dispersed.

該工程C−2−3により、各種用途に用いる際の所望の銅塩微粒子含有量に調整された銅塩微粒子分散樹脂を得ることができる。
該工程C−2−3に用いる樹脂としては、前記工程C−2−1で用いる樹脂と同様の樹脂を用いても、異なる樹脂を用いてもよいが、樹脂の相溶性、分散性、透明性の観点から、通常は同様の樹脂が用いられる。
By this step C-2-3, a copper salt fine particle-dispersed resin adjusted to a desired copper salt fine particle content when used in various applications can be obtained.
As the resin used in Step C-2-3, the same resin as that used in Step C-2-1 or a different resin may be used, but the compatibility, dispersibility, and transparency of the resin may be used. From the viewpoint of safety, usually the same resin is used.

混練は、通常混練機を用いて、前記マスターバッチおよび樹脂を混練することにより行われる。混練機としては例えば、一軸押出機、二軸押出機、バンバリーミキサー、ロールミル、ニーダー等が用いられる。   Kneading is usually performed by kneading the master batch and the resin using a kneader. As the kneader, for example, a single screw extruder, a twin screw extruder, a Banbury mixer, a roll mill, a kneader, or the like is used.

混練は、通常温度150〜240℃の範囲で行われる。
また、該工程C−2−3では、添加剤を用いてもよい。添加剤としては、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、脱水剤、接着力調整剤、シランカップリング剤、顔料等が挙げられる。
The kneading is usually performed at a temperature of 150 to 240 ° C.
Moreover, you may use an additive in this process C-2-3. Examples of the additive include a plasticizer, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, a dehydrating agent, an adhesive force adjusting agent, a silane coupling agent, and a pigment.

該工程C−2−3で用いる樹脂の量としては、銅塩微粒子が0.1〜15質量%、好ましくは0.1〜10質量%、より好ましくは0.5〜5.0質量%分散した銅塩微粒子分散樹脂が得られればよい。銅塩微粒子分散樹脂には、銅塩微粒子と、樹脂とが含まれ、さらに分散剤等の添加剤が含まれる。樹脂の使用量としては、銅塩微粒子分散樹脂全体を100質量%とした際に、銅塩微粒子が0.1〜15質量%となる範囲で用いればよく、特に限定はされないが、マスターバッチ100質量部に対して、通常は樹脂が50〜3000質量部用いられ、好ましくは100〜1500質量部用いられる。   The amount of resin used in Step C-2-3 is 0.1 to 15% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass, more preferably 0.5 to 5.0% by mass of copper salt fine particles. It is only necessary to obtain a copper salt fine particle dispersed resin. The copper salt fine particle-dispersed resin contains copper salt fine particles and a resin, and further contains additives such as a dispersant. The amount of resin used is not particularly limited as long as the total amount of the copper salt fine particle-dispersed resin is 100% by mass, and the copper salt fine particle may be 0.1 to 15% by mass. Usually, the resin is used in an amount of 50 to 3000 parts by mass, preferably 100 to 1500 parts by mass with respect to parts by mass.

本発明の製造方法で得られる銅塩微粒子分散樹脂は、前記工程Aを有する製造方法によって得られるため、耐熱性に優れる。また、該銅塩微粒子分散樹脂は、押出成形、キャスト成形、射出成形等の様々な成形法により成形可能であるため、様々なサイズの光学材料を好適に製造することが可能である。   Since the copper salt fine particle dispersed resin obtained by the production method of the present invention is obtained by the production method having the step A, it has excellent heat resistance. Further, since the copper salt fine particle dispersed resin can be molded by various molding methods such as extrusion molding, cast molding, and injection molding, it is possible to suitably manufacture optical materials of various sizes.

なお、本発明の銅塩微粒子分散樹脂から形成される光学材料としては、ディスプレイ用の近赤外線吸収フィルム、フォトダイオード等の受光部等に配置される視感度補正フィルター等が挙げられる。   Examples of the optical material formed from the copper salt fine particle-dispersed resin of the present invention include a near-infrared absorbing film for display, a visibility correction filter disposed in a light receiving part such as a photodiode, and the like.

次に本発明について実施例を示してさらに詳細に説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。   EXAMPLES Next, although an Example is shown and this invention is demonstrated further in detail, this invention is not limited by these.

〔実施例1〕
(銅塩分散液の調製)
200mlナスフラスコに、酢酸銅1水和物1.16g(5.83mmol)、エタノール34.9gを加え、20℃で攪拌して完全に溶かした。これに、プライサーフA219B(第一工業化学製)のナトリウム中和物0.5gを加え、2.5時間、20℃で攪拌し、溶液(A液)を得た。エチルホスホン酸449mg(4.08mmol)、1−デシルホスホン酸389mg(1.75mmol)をエタノール11.6gに溶かした溶液(B液)を作成した。A液に対し、B液を約5分間で滴下した。この反応液を20℃で10時間撹拌後、エバポレーター(水浴60℃)で溶媒を留去し、乾固させた。これにトルエン30gを加え、恒量になり、酢酸臭がしなくなるまでエバポレーターで留去した。収量1.69g(収率100%)であった。これにトルエン20gを添加し、超音波を10時間照射して、銅塩を分散させ、トルエン分散液を得た。
[Example 1]
(Preparation of copper salt dispersion)
To a 200 ml eggplant flask, 1.16 g (5.83 mmol) of copper acetate monohydrate and 34.9 g of ethanol were added and stirred at 20 ° C. for complete dissolution. To this, 0.5 g of sodium neutralized product of Prisurf A219B (Daiichi Kogyo Kagaku) was added and stirred at 20 ° C. for 2.5 hours to obtain a solution (liquid A). A solution (liquid B) was prepared by dissolving 449 mg (4.08 mmol) of ethylphosphonic acid and 389 mg (1.75 mmol) of 1-decylphosphonic acid in 11.6 g of ethanol. B liquid was dripped with respect to A liquid in about 5 minutes. After stirring this reaction liquid at 20 degreeC for 10 hours, the solvent was distilled off by the evaporator (water bath 60 degreeC) and it was made to dry. 30 g of toluene was added to this, and it was distilled off with an evaporator until it became a constant weight and the acetic acid odor disappeared. The yield was 1.69 g (yield 100%). Toluene 20g was added to this, and the ultrasonic wave was irradiated for 10 hours, the copper salt was disperse | distributed, and the toluene dispersion liquid was obtained.

(銅塩洗浄・上澄み液除去、再分散操作(工程Aおよび工程B))
ナスフラスコに、上記トルエン分散液を2.82gとり、エバポレーターでトルエンを留去した。これにエタノール10gを添加し、超音波照射、攪拌等を行い、塊が出来ないようにした。この分散液を1時間攪拌して固体を洗浄した。この分散液を試験管に移して試験管ミキサーで攪拌した後、遠心分離機で遠心分離操作を行った(3000rpm、10分間)。上澄み液をパスツールピペットで除去した。試験管にエタノール10gを加え、試験管ミキサーで攪拌した後、遠心分離機で遠心分離操作を行った(3000rpm、10分間)。上澄み液をパスツールピペットで除去した。得られた沈殿物をエタノールに懸濁させてナスフラスコに移し、エバポレーターで濃縮し、170mgの薄い水色の固体を得た。これにプライサーフA219Bナトリウム中和物39mg、トルエン10gを添加し、超音波を4.5時間照射して銅塩を分散させた。
(Copper salt washing, supernatant removal, redispersion operation (step A and step B))
In an eggplant flask, 2.82 g of the above toluene dispersion was taken, and toluene was distilled off with an evaporator. Ethanol 10g was added to this, ultrasonic irradiation, stirring, etc. were performed, and it was made not to form a lump. The dispersion was stirred for 1 hour to wash the solid. The dispersion was transferred to a test tube and stirred with a test tube mixer, and then centrifuged with a centrifuge (3000 rpm, 10 minutes). The supernatant was removed with a Pasteur pipette. 10 g of ethanol was added to the test tube, and the mixture was stirred with a test tube mixer, and then centrifuged with a centrifuge (3000 rpm, 10 minutes). The supernatant was removed with a Pasteur pipette. The obtained precipitate was suspended in ethanol, transferred to an eggplant flask, and concentrated with an evaporator to obtain 170 mg of a light blue solid. To this, 39 mg of Prisurf A219B sodium neutralized product and 10 g of toluene were added, and ultrasonic waves were applied for 4.5 hours to disperse the copper salt.

(銅塩微粒子分散樹脂の調製(工程C))
500mlビーカーに、トリエチレングリコールビス(2−エチルヘキサノエート)2.43g、塩化メチレン300ml、上記の銅塩洗浄・上澄み液除去・再分散操作後のトルエン分散液10.21g、ポリビニルブチラール(PVB、ソルーシア製)6.38gを加えて0.5時間攪拌後、テフロン製のバットに溶液を広げ、12時間、20℃で風乾した。得られた樹脂を50℃で3時間真空乾燥し、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂を得た。
(Preparation of copper salt fine particle dispersed resin (step C))
In a 500 ml beaker, 2.43 g of triethylene glycol bis (2-ethylhexanoate), 300 ml of methylene chloride, 10.21 g of the toluene dispersion after the above copper salt washing, supernatant removal, and redispersion operations, polyvinyl butyral (PVB 6.38 g was added and stirred for 0.5 hour, and then the solution was spread on a Teflon vat and air-dried at 20 ° C. for 12 hours. The obtained resin was vacuum-dried at 50 ° C. for 3 hours to obtain a PVB resin in which copper salt fine particles were dispersed.

(評価)
前記銅塩微粒子が分散したPVB樹脂を、厚さ0.8mmの型枠および(株)神藤金属工業所製の圧縮成形機を用い、120℃、3MPaで予熱1分間を行った後、15MPaで3分間プレスし、樹脂シート(1)を得た。
(Evaluation)
The PVB resin in which the copper salt fine particles are dispersed is preheated at 120 ° C. and 3 MPa for 1 minute using a 0.8 mm thick mold and a compression molding machine manufactured by Shinto Metal Industries Co., Ltd., and then at 15 MPa. The resin sheet (1) was obtained by pressing for 3 minutes.

<測定サンプル(1)の作成>
前記樹脂シート(1)の両面を、スライドガラス(厚み1.2〜1.5mm)で挟み、70℃のプレート上で合わせガラス(1)とした。
<Preparation of measurement sample (1)>
Both surfaces of the resin sheet (1) were sandwiched between slide glasses (thickness 1.2 to 1.5 mm), and a laminated glass (1) was formed on a 70 ° C. plate.

該合わせガラス(1)をオートクレーブ内で、窒素雰囲気下、圧力1.5MPa、130℃で0.5時間加熱し、樹脂シートの両面にスライドガラスが配設された測定サンプル(1)を得た。   The laminated glass (1) was heated in an autoclave under a nitrogen atmosphere at a pressure of 1.5 MPa and 130 ° C. for 0.5 hours to obtain a measurement sample (1) in which slide glasses were disposed on both surfaces of the resin sheet. .

<測定サンプル(2)の作成>
前記樹脂シート(1)を、さらに厚さ0.8mmの型枠および(株)神藤金属工業所製の圧縮成形機を用い、200℃、3MPaで予熱1分間を行った後、10MPaで15分間プレスし、樹脂シート(2)を得た。
<Preparation of measurement sample (2)>
The resin sheet (1) was further preheated at 200 ° C. and 3 MPa for 1 minute using a 0.8 mm thick formwork and a compression molding machine manufactured by Shindo Metal Industry Co., Ltd., and then at 10 MPa for 15 minutes. The resin sheet (2) was obtained by pressing.

樹脂シート(1)を樹脂シート(2)に代えた以外は、前記測定サンプル(1)の作成と同様に行い、樹脂シートの両面にスライドガラスが配設された測定サンプル(2)を得た。   Except that the resin sheet (1) was replaced with the resin sheet (2), the measurement was performed in the same manner as the measurement sample (1) to obtain a measurement sample (2) in which slide glasses were disposed on both surfaces of the resin sheet. .

<耐熱性の評価>
前記測定サンプル(1)および(2)の分光をそれぞれ以下の方法で測定した。
該測定サンプルの分光は、250〜2500nmの波長範囲で、分光光度計(U−4000形、(株)日立製作所製)を使用して測定した。C光源を使用し、三刺激値(X,Y,Z)の値を計算した。
測定サンプル(1)のYI(黄色度指数)は、3.4であり、測定サンプル(2)のYIは、5.6であった。なおYIの値の計算は、下式により行った。
<Evaluation of heat resistance>
The spectra of the measurement samples (1) and (2) were measured by the following methods, respectively.
The spectrum of the measurement sample was measured using a spectrophotometer (U-4000 type, manufactured by Hitachi, Ltd.) in the wavelength range of 250 to 2500 nm. Tristimulus values (X, Y, Z) were calculated using a C light source.
The measurement sample (1) had a YI (yellowness index) of 3.4, and the measurement sample (2) had a YI of 5.6. The YI value was calculated according to the following formula.

YI=(128X−106Z)/Y
測定サンプル(1)のYIと測定サンプル(2)のYIとの差(測定サンプル(2)のYI−測定サンプル(1)のYI)をΔYIとすると、ΔYIは2.2であった。
測定サンプル(2)を、100℃の恒温オーブンに400時間保管した。400時間経過後、サンプルを取り出し分光を測定しYIを求めたところ、YIは8.0であった。
YI = (128X−106Z) / Y
When the difference between the YI of the measurement sample (1) and the YI of the measurement sample (2) (YI of the measurement sample (2) −YI of the measurement sample (1)) is ΔYI, ΔYI was 2.2.
The measurement sample (2) was stored in a constant temperature oven at 100 ° C. for 400 hours. After 400 hours had passed, the sample was taken out and the spectrum was measured to obtain YI. As a result, YI was 8.0.

〔比較例1〕
(銅塩微粒子分散樹脂の調製)
500mlビーカーに、トリエチレングリコールビス(2−エチルヘキサノエート)2.43g、塩化メチレン300ml、実施例1の銅塩分散液の調製の項と同様の方法で得られたトルエン分散液2.82g、ポリビニルブチラール(PVB、ソルーシア製)6.38gを加えて0.5時間攪拌後、テフロン製のバットに溶液を広げ、12時間、20℃で風乾した。得られた樹脂を50℃で3時間真空乾燥し、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂を得た。
[Comparative Example 1]
(Preparation of copper salt fine particle dispersed resin)
In a 500 ml beaker, 2.43 g of triethylene glycol bis (2-ethylhexanoate), 300 ml of methylene chloride, 2.82 g of a toluene dispersion obtained in the same manner as in the preparation of the copper salt dispersion of Example 1 After adding 6.38 g of polyvinyl butyral (PVB, manufactured by Solusia) and stirring for 0.5 hour, the solution was spread on a Teflon vat and air-dried at 20 ° C. for 12 hours. The obtained resin was vacuum-dried at 50 ° C. for 3 hours to obtain a PVB resin in which copper salt fine particles were dispersed.

(評価)
実施例1の樹脂シート(1)の作成に用いた銅塩微粒子が分散したPVB樹脂を、比較例1、銅塩微粒子分散樹脂の調製の項で得られた前記銅塩微粒子が分散したPVB樹脂に代えた以外は、実施例1と同様な条件(120℃、15MPa)でプレスを行い、樹脂シート(c1)を得た。
(Evaluation)
The PVB resin in which the copper salt fine particles dispersed in the section of Comparative Example 1, Preparation of the copper salt fine particle dispersed resin was used as the PVB resin in which the copper salt fine particles used in the production of the resin sheet (1) of Example 1 were dispersed. A resin sheet (c1) was obtained by pressing under the same conditions (120 ° C., 15 MPa) as in Example 1 except that the above was replaced.

<測定サンプル(c1)の作成>
樹脂シート(1)を、樹脂シート(c1)に代えた以外は実施例1の、測定サンプル(1)の作成の項と同様に行い、測定サンプル(c1)を得た。
<Preparation of measurement sample (c1)>
A measurement sample (c1) was obtained in the same manner as in the preparation of the measurement sample (1) in Example 1, except that the resin sheet (1) was replaced with the resin sheet (c1).

<測定サンプル(c2)の作成>
樹脂シート(1)を、樹脂シート(c1)に代えた以外は実施例1の、測定サンプル(2)の作成の項と同様に行い、測定サンプル(c2)を得た。
<Preparation of measurement sample (c2)>
Except having replaced the resin sheet (1) with the resin sheet (c1), it carried out similarly to the preparation of the measurement sample (2) of Example 1, and obtained the measurement sample (c2).

<耐熱性の評価>
前記測定サンプル(c1)、測定サンプル(c2)の分光を実施例1に示した方法と同様に測定した。測定サンプル(c1)のYIは、2.8であり、測定サンプル(c2)のYIは、7.1であった。測定サンプル(c1)と測定サンプル(c2)のΔYIは4.3であった。
<Evaluation of heat resistance>
Spectroscopy of the measurement sample (c1) and the measurement sample (c2) was measured in the same manner as the method described in Example 1. The measurement sample (c1) had a YI of 2.8, and the measurement sample (c2) had a YI of 7.1. ΔYI of the measurement sample (c1) and the measurement sample (c2) was 4.3.

測定サンプル(c2)を、100℃の恒温オーブンに400時間保管した。400時間経過後、サンプルを取り出し分光を測定しYIを求めたところ、YIは12.1であった。   The measurement sample (c2) was stored in a constant temperature oven at 100 ° C. for 400 hours. After 400 hours had passed, the sample was taken out and measured for spectroscopy to obtain YI. The YI was 12.1.

〔実施例2〕
(銅塩分散液の調製)
1Lナスフラスコに、酢酸銅1水和物4.656g(23.32mmol)、エタノール140gを加え、20℃で攪拌して完全に溶かした。これに、プライサーフA219B(第一工業化学製)のナトリウム中和物4.0gを加え、2時間、20℃で攪拌し、溶液(A液)を得た。エチルホスホン酸1.80g(16.32mmol)、1−デシルホスホン酸1.56g(7.0mmol)をエタノール46gに溶かした溶液(B液)を作成した。A液に対し、B液を約20分間で滴下した。この反応液を20℃で10時間撹拌後、エバポレーター(水浴60℃)で溶媒を留去し、乾固させた。これにトルエン80gを加え、恒量になり、酢酸臭がしなくなるまでエバポレーターで留去した。収量8.2g(収率100%)であった。これにトルエン80gを添加し、超音波を20時間照射して、銅塩を分散させ、トルエン分散液を得た。
[Example 2]
(Preparation of copper salt dispersion)
To a 1 L eggplant flask, 4.656 g (23.32 mmol) of copper acetate monohydrate and 140 g of ethanol were added and stirred at 20 ° C. to completely dissolve. To this, 4.0 g of sodium neutralized product of PRISURF A219B (Daiichi Kogyo Kagaku) was added and stirred at 20 ° C. for 2 hours to obtain a solution (liquid A). A solution (liquid B) was prepared by dissolving 1.80 g (16.32 mmol) of ethylphosphonic acid and 1.56 g (7.0 mmol) of 1-decylphosphonic acid in 46 g of ethanol. B liquid was dripped with respect to A liquid in about 20 minutes. After stirring this reaction liquid at 20 degreeC for 10 hours, the solvent was distilled off by the evaporator (water bath 60 degreeC) and it was made to dry. 80 g of toluene was added to this, and it was distilled off with an evaporator until it became a constant weight and the acetic acid odor disappeared. The yield was 8.2 g (yield 100%). Toluene 80g was added to this, and the ultrasonic wave was irradiated for 20 hours, the copper salt was disperse | distributed, and the toluene dispersion liquid was obtained.

(銅塩洗浄・上澄み液除去、再分散操作(工程Aおよび工程B))
50mlナスフラスコに、上記トルエン分散液を2.82gとり、エバポレーターでトルエンを留去した。これにエタノール10gを添加し、超音波照射、攪拌等を行い、塊が出来ないようにした。この分散液を1時間攪拌して固体を洗浄した。この分散液を試験管に移して試験管ミキサーで攪拌した後、遠心分離機で遠心分離操作を行った(3000rpm、1時間)。上澄み液をパスツールピペットで除去した。さらに試験管にエタノール10gを加え、試験管ミキサーで攪拌した後、遠心分離機で遠心分離操作を行った(3000rpm、30分間)。上澄み液をパスツールピペットで除去した。さらに試験管にエタノール10gを加え、試験管ミキサーで攪拌した後、遠心分離機で遠心分離操作を行った(3000rpm、30分間)。上澄み液をパスツールピペットで除去した。得られた沈殿物をエタノールに懸濁させてナスフラスコに移し、エバポレーターで濃縮し、240mgの薄い水色の固体を得た。これにプライサーフA219Bセシウム中和物44mg、トルエン10gを添加し、超音波を6時間照射して銅塩を分散させた。
(Copper salt washing, supernatant removal, redispersion operation (step A and step B))
In a 50 ml eggplant flask, 2.82 g of the above toluene dispersion was taken, and toluene was distilled off with an evaporator. Ethanol 10g was added to this, ultrasonic irradiation, stirring, etc. were performed, and it was made not to form a lump. The dispersion was stirred for 1 hour to wash the solid. The dispersion was transferred to a test tube and stirred with a test tube mixer, and then centrifuged with a centrifuge (3000 rpm, 1 hour). The supernatant was removed with a Pasteur pipette. Further, 10 g of ethanol was added to the test tube, and the mixture was stirred with a test tube mixer, and then centrifuged with a centrifuge (3000 rpm, 30 minutes). The supernatant was removed with a Pasteur pipette. Further, 10 g of ethanol was added to the test tube, and the mixture was stirred with a test tube mixer, and then centrifuged with a centrifuge (3000 rpm, 30 minutes). The supernatant was removed with a Pasteur pipette. The obtained precipitate was suspended in ethanol, transferred to an eggplant flask, and concentrated with an evaporator to obtain 240 mg of a light blue solid. To this, 44 mg of plysurf A219B cesium neutralized product and 10 g of toluene were added, and ultrasonic waves were applied for 6 hours to disperse the copper salt.

(銅塩微粒子分散樹脂の調製(工程C))
500mlビーカーに、トリエチレングリコールビス(2−エチルヘキサノエート)2.43g、塩化メチレン300ml、上記の銅塩洗浄・上澄み液除去・再分散操作後のトルエン分散液10.28g、ポリビニルブチラール(PVB、ソルーシア製)6.38gを加えて、20℃で2.5時間攪拌後、テフロン製のバットに溶液を広げ、12時間、20℃で風乾した。得られた樹脂を50℃で3.5時間真空乾燥し、銅塩微粒子が分散したPVB樹脂を得た。
(Preparation of copper salt fine particle dispersed resin (step C))
In a 500 ml beaker, 2.43 g of triethylene glycol bis (2-ethylhexanoate), 300 ml of methylene chloride, 10.28 g of toluene dispersion after the above copper salt washing, supernatant removal and redispersion operations, polyvinyl butyral (PVB 6.38 g) was added and stirred at 20 ° C. for 2.5 hours. The solution was spread on a Teflon vat and air-dried at 20 ° C. for 12 hours. The obtained resin was vacuum-dried at 50 ° C. for 3.5 hours to obtain a PVB resin in which copper salt fine particles were dispersed.

(評価)
実施例1の樹脂シート(1)の作成に用いた銅塩微粒子が分散したPVB樹脂を、実施例2、銅塩微粒子分散樹脂の調製の項で得られた前記銅塩微粒子が分散したPVB樹脂に代えた以外は、実施例1と同様な条件(120℃、15MPa)でプレスを行い、樹脂シート(2)を得た。
(Evaluation)
The PVB resin in which the copper salt fine particles dispersed in Example 2, the preparation of the copper salt fine particle dispersed resin was used as the PVB resin in which the copper salt fine particles used in the production of the resin sheet (1) of Example 1 were dispersed. A resin sheet (2) was obtained by pressing under the same conditions (120 ° C., 15 MPa) as in Example 1 except that the above was replaced.

<測定サンプル(3)の作成>
樹脂シート(1)を、樹脂シート(2)に代えた以外は実施例1の、測定サンプル(1)の作成の項と同様に行い、測定サンプル(3)を得た。
<Preparation of measurement sample (3)>
A measurement sample (3) was obtained in the same manner as in Example 1 except that the resin sheet (1) was replaced with the resin sheet (2).

<測定サンプル(4)の作成>
樹脂シート(1)を、樹脂シート(2)に代えた以外は実施例1の、測定サンプル(2)の作成の項と同様に行い、測定サンプル(4)を得た。
<Preparation of measurement sample (4)>
Except having replaced the resin sheet (1) with the resin sheet (2), it carried out similarly to the preparation of the measurement sample (2) of Example 1, and obtained the measurement sample (4).

<耐熱性の評価>
前記測定サンプル(3)、測定サンプル(4)の分光を実施例1に示した方法と同様に測定した。測定サンプル(3)のYIは、5.6であった。測定サンプル(4)のYIは、9.3であった。測定サンプル(3)と測定サンプル(4)のΔYIは3.7であった。
<Evaluation of heat resistance>
Spectroscopy of the measurement sample (3) and the measurement sample (4) was measured in the same manner as the method described in Example 1. YI of the measurement sample (3) was 5.6. YI of the measurement sample (4) was 9.3. ΔYI of measurement sample (3) and measurement sample (4) was 3.7.

測定サンプル(4)を、100℃の恒温オーブンに400時間保管した。400時間経過後、サンプルを取り出し分光を測定しYIを求めたところ、YIは10.9であった。   The measurement sample (4) was stored in a constant temperature oven at 100 ° C. for 400 hours. After 400 hours had passed, the sample was taken out and measured for spectroscopy to obtain YI. As a result, YI was 10.9.

Claims (7)

平均粒径1nm〜10μmの近赤外線吸収性銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物を、溶媒で洗浄した後、前記銅塩微粒子を沈降させ、上澄み液を除去し、前記銅塩微粒子を得る工程A、
前記工程Aで得られた銅塩微粒子を分散媒中に分散し、分散液を得る工程B、
前記分散液を樹脂と混合し、銅塩微粒子分散樹脂を得る工程Cを含み、
前記近赤外線吸収性銅塩微粒子の少なくとも一部が、下記一般式(2)で表わされるアルキルホスホン酸銅塩であり、
前記近赤外線吸収性銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物が、下記一般式(3)で表わされるホスホン酸化合物と、銅塩とを、分散剤存在下で混合し、反応混合物を得る工程、該反応混合物中の溶媒を除去することにより近赤外線吸収性銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物を得る工程を有する方法により得られる、銅塩微粒子分散樹脂の製造方法。
Figure 0005738031
[一般式(2)中、R 2 は、−CH 2 CH 2 −R 11 で表される1価の基であり、R 11 は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または炭素数1〜20のフッ素化アルキル基を示す。]
Figure 0005738031
[一般式(3)中、R 2 は、−CH 2 CH 2 −R 11 で表される1価の基であり、R 11 は水素原子、炭素数1〜20のアルキル基、または炭素数1〜20のフッ素化アルキル基を示す。]
A step of washing a mixture containing near-infrared absorbing copper salt fine particles having an average particle diameter of 1 nm to 10 μm and a dispersant with a solvent, and then precipitating the copper salt fine particles, removing a supernatant, and obtaining the copper salt fine particles A,
Step B in which the copper salt fine particles obtained in Step A are dispersed in a dispersion medium to obtain a dispersion.
The dispersion was mixed with the resin, it saw including a step C to obtain a copper salt fine particle dispersed resin,
At least a part of the near-infrared absorbing copper salt fine particles is an alkylphosphonic acid copper salt represented by the following general formula (2):
A step of mixing the phosphonic acid compound represented by the following general formula (3) with a copper salt in the presence of a dispersant to obtain a reaction mixture, wherein the mixture containing the near-infrared absorbing copper salt fine particles and the dispersant is: A method for producing a copper salt fine particle-dispersed resin obtained by a method comprising a step of obtaining a mixture containing near-infrared absorbing copper salt fine particles and a dispersant by removing a solvent in the reaction mixture .
Figure 0005738031
[In General Formula (2), R 2 is a monovalent group represented by —CH 2 CH 2 —R 11 , and R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 carbon atom. Represents -20 fluorinated alkyl groups. ]
Figure 0005738031
[In General Formula (3), R 2 is a monovalent group represented by —CH 2 CH 2 —R 11 , and R 11 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or 1 carbon atom. Represents -20 fluorinated alkyl groups. ]
前記銅塩微粒子の平均粒径が5〜1000nmである請求項1に記載の銅塩微粒子分散樹脂の製造方法。   The method for producing a copper salt fine particle-dispersed resin according to claim 1, wherein the copper salt fine particles have an average particle diameter of 5 to 1000 nm. 前記工程Aが、前記銅塩微粒子と分散剤とを含む混合物を、溶媒で洗浄した後、前記銅塩微粒子を、遠心分離または自然沈降により沈降させ、上澄み液を除去し、前記銅塩微粒子を得る工程である請求項1または2に記載の銅塩微粒子分散樹脂の製造方法。   After the step A is washing the mixture containing the copper salt fine particles and the dispersant with a solvent, the copper salt fine particles are settled by centrifugation or natural sedimentation, the supernatant is removed, and the copper salt fine particles are removed. The method for producing a copper salt fine particle-dispersed resin according to claim 1 or 2, which is a step of obtaining. 前記工程Bが、前記工程Aで得られた銅塩微粒子を、分散剤存在下で分散媒中に分散し、分散液を得る工程である請求項1〜3のいずれか一項に記載の銅塩微粒子分散樹脂の製造方法。   The copper according to any one of claims 1 to 3, wherein the step B is a step of dispersing the copper salt fine particles obtained in the step A in a dispersion medium in the presence of a dispersant to obtain a dispersion. Manufacturing method of salt fine particle dispersed resin. 前記樹脂が、ポリビニルアセタール樹脂、エチレン‐酢酸ビニル共重合体、(メタ)アクリル酸樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、およびノルボルネン樹脂から選択される少なくとも1種の樹脂である請求項1〜4のいずれか一項に記載の銅塩微粒子分散樹脂の製造方法。   The resin is at least one selected from polyvinyl acetal resin, ethylene-vinyl acetate copolymer, (meth) acrylic acid resin, polyester resin, polyurethane resin, vinyl chloride resin, polyolefin resin, polycarbonate resin, and norbornene resin. It is resin, The manufacturing method of the copper salt fine particle dispersion resin as described in any one of Claims 1-4. 前記樹脂が、ポリビニルブチラール樹脂、またはエチレン‐酢酸ビニル共重合体である請求項1〜4のいずれか一項に記載の銅塩微粒子分散樹脂の製造方法。   The method for producing a copper salt fine particle-dispersed resin according to any one of claims 1 to 4, wherein the resin is a polyvinyl butyral resin or an ethylene-vinyl acetate copolymer. 請求項1〜のいずれか一項に記載の製造方法で得られる、銅塩微粒子分散樹脂。 Copper salt fine particle dispersion resin obtained by the manufacturing method as described in any one of Claims 1-6 .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2012077674A1 (en) * 2010-12-07 2012-06-14 株式会社クレハ Resin composition and uses thereof
WO2014038035A1 (en) * 2012-09-06 2014-03-13 株式会社クレハ Method for producing near-infrared ray absorbent fluid dispersion and use of near-infrared ray absorbent fluid dispersion
JPWO2014119618A1 (en) * 2013-01-31 2017-01-26 株式会社クレハ Manufacturing method of near infrared absorber, near infrared absorber and use thereof
JPWO2014119565A1 (en) * 2013-01-31 2017-01-26 株式会社クレハ Near-infrared irradiation type sealing material, its use, and method of bonding members
WO2014175231A1 (en) * 2013-04-26 2014-10-30 株式会社クレハ Resin composition and use thereof
JP2014214296A (en) * 2013-04-30 2014-11-17 旭硝子株式会社 Near-infrared ray absorbing particle, dispersion liquid, and article of the particle
WO2015080184A1 (en) * 2013-11-29 2015-06-04 株式会社クレハ Resin composition and use thereof
JP2015131928A (en) * 2014-01-15 2015-07-23 株式会社クレハ Near-infrared curing composition and use thereof
JP7397863B2 (en) 2019-05-23 2023-12-13 日本板硝子株式会社 Light-absorbing composition, light-absorbing film, and optical filter

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5010123B2 (en) * 2005-08-23 2012-08-29 株式会社日本触媒 Phthalocyanine compound and near-infrared absorbing dye comprising the same
JP5400033B2 (en) * 2008-03-31 2014-01-29 株式会社クレハ Copper phosphonate compound, and infrared absorbing material and laminate containing the same
JP5331361B2 (en) * 2008-03-31 2013-10-30 株式会社クレハ Copper salt composition, and resin composition, infrared absorption film and optical member using the same

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