JP5721593B2 - Method for manufacturing connection structure - Google Patents

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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
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Description

本発明は、異方性導電ペーストを用いて、フレキシブルプリント基板と他の接続対象部材との電極間を電気的に接続する接続構造体の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a connection structure that electrically connects electrodes of a flexible printed circuit board and another connection target member using an anisotropic conductive paste.

ペースト状又はフィルム状の異方性導電材料が広く知られている。該異方性導電材料では、バインダー樹脂中に複数の導電性粒子が分散されている。   Pasty or film-like anisotropic conductive materials are widely known. In the anisotropic conductive material, a plurality of conductive particles are dispersed in a binder resin.

上記異方性導電材料は、各種の接続構造体を得るために、例えば、フレキシブルプリント基板とガラス基板との接続(FOG(Film on Glass))、半導体チップとフレキシブルプリント基板との接続(COF(Chip on Film))、半導体チップとガラス基板との接続(COG(Chip on Glass))、並びにフレキシブルプリント基板とガラスエポキシ基板との接続(FOB(Film on Board))等に使用されている。   In order to obtain various connection structures, the anisotropic conductive material is, for example, a connection between a flexible printed circuit board and a glass substrate (FOG (Film on Glass)) or a connection between a semiconductor chip and a flexible printed circuit board (COF ( Chip on Film)), connection between a semiconductor chip and a glass substrate (COG (Chip on Glass)), connection between a flexible printed circuit board and a glass epoxy substrate (FOB (Film on Board)), and the like.

上記接続構造体の製造方法の一例として、下記の特許文献1では、第一の回路電極を有する第一の回路部材と、第二の回路電極を有し、テープキャリアパッケージ又はフレキシブルプリント基板を構成する第二の回路部材とを、上記第一の回路電極と上記第二の回路電極とを対向配置させた状態で、異方性導電材料により接続する接続構造体の製造方法が開示されている。   As an example of the manufacturing method of the connection structure, in the following Patent Document 1, a first circuit member having a first circuit electrode and a second circuit electrode are provided, and a tape carrier package or a flexible printed circuit board is configured. A method of manufacturing a connection structure is disclosed in which a second circuit member is connected with an anisotropic conductive material in a state where the first circuit electrode and the second circuit electrode are arranged to face each other. .

また、上記異方性導電ペーストの塗布方法の一例として、下記の特許文献2には、半導体チップ又は電子部品等をマウントする各マウント部又は一部のマウント部を上面から凹ませた形態にしたリードフレーム又はプリント基板等において、その上面に、上記各マウント部の個所ごとに抜き孔を穿設したマスク板を、該マスク板のうち凹んでいるマウント部に対応する部分に下向きの膨出部を設けて重ね合わせて、このマスク板の上面に導電ペーストを供給し、次いで、このマスク板の上面側に配置したスキージを、マスク板の上面に対して押圧及び接触した状態で移動するスクリーン印刷法が開示されている。   In addition, as an example of the method for applying the anisotropic conductive paste, in Patent Document 2 below, each mount portion for mounting a semiconductor chip or an electronic component or a part of the mount portion is recessed from the upper surface. In a lead frame or a printed circuit board or the like, a mask plate in which a hole is formed in each mount portion on the upper surface thereof, and a downward bulge portion in a portion corresponding to the recessed mount portion of the mask plate The screen printing is performed by supplying the conductive paste to the upper surface of the mask plate, and then moving the squeegee disposed on the upper surface side of the mask plate while pressing and contacting the upper surface of the mask plate. The law is disclosed.

特開2005−235530号公報JP 2005-235530 A 特開2003−80859号公報JP 2003-80859 A

特許文献1に記載のような従来の接続構造体の製造方法では、得られる接続構造体において、第一の回路電極と第二の回路電極との端部部分が剥離起点となって、第一の回路部材と第二の回路部材との剥離が生じやすいという問題がある。すなわち、得られる接続構造体の接続信頼性が低いという問題がある。   In the manufacturing method of the conventional connection structure as described in Patent Document 1, in the obtained connection structure, the end portions of the first circuit electrode and the second circuit electrode serve as separation starting points, There is a problem that peeling between the circuit member and the second circuit member is likely to occur. That is, there is a problem that the connection reliability of the obtained connection structure is low.

また、従来の接続構造体の製造方法では、異方性導電材料が意図しない領域まで濡れ拡がりやすいという問題がある。例えば、電極の側方の領域、すなわち電極が無い領域に、多くの異方性導電材料が濡れ拡がることがある。さらに、意図しない領域まで異方性導電材料が濡れ拡がった結果、得られる接続構造体において、上記異方性導電材料が硬化した硬化物層による汚染が生じていることがある。   In addition, the conventional connection structure manufacturing method has a problem that the anisotropic conductive material easily spreads to an unintended region. For example, many anisotropic conductive materials may spread and spread in a region on the side of the electrode, that is, a region where there is no electrode. Furthermore, as a result of the anisotropic conductive material being wetted and spread to unintended areas, the resulting connection structure may be contaminated by a cured product layer obtained by curing the anisotropic conductive material.

また、特許文献2に記載のように、従来のスクリーン印刷法を用いた接続構造体の製造方法では、導電ペーストがスクリーン印刷される接続対象部材の表面に凸部がある場合には、凸部によりスクリーン印刷版の配置が妨げられたり、スクリーン印刷版と接続対象部材との間隔を拡げる必要があったりする。   Further, as described in Patent Document 2, in the method for manufacturing a connection structure using a conventional screen printing method, if there is a convex portion on the surface of a connection target member on which the conductive paste is screen-printed, the convex portion As a result, the arrangement of the screen printing plate is hindered, or the interval between the screen printing plate and the connection target member needs to be increased.

このような問題に対して、特許文献2では、スクリーン印刷版が工夫されている。また、従来、接続対象部材を載せる台を工夫することも検討されている。しかしながら、これらの場合には、接続対象部材の種類に応じて、複数のスクリーン印刷版を作製しなければならなかったり、台を設計変更しなければならなかったりする。このため、接続構造体の製造コストが高くなる。さらに、接続対象部材の表面の凸部が大きい場合には、スクリーン印刷版や台を工夫しても、導電ペーストを精度よくかつ均一に塗布することが困難なことがある。   With respect to such a problem, in Patent Document 2, a screen printing plate is devised. Conventionally, it has been studied to devise a table on which a connection target member is placed. However, in these cases, it is necessary to produce a plurality of screen printing plates or to change the design of the table in accordance with the type of member to be connected. For this reason, the manufacturing cost of a connection structure becomes high. Furthermore, when the convex portion on the surface of the connection target member is large, it may be difficult to apply the conductive paste accurately and uniformly even if the screen printing plate or the table is devised.

さらに、導電ペーストを塗布する対象がフレキシブルプリント基板である場合には、該フレキシブルプリント基板はガラス基板に比べて電極の高さが高いので、スクリーン印刷法では、導電ペーストを精度よくかつ均一に塗布することがより一層困難であるという問題がある。   Furthermore, when the object to which the conductive paste is applied is a flexible printed board, the electrode height of the flexible printed board is higher than that of the glass substrate. Therefore, the screen printing method applies the conductive paste accurately and uniformly. There is a problem that it is much more difficult to do.

本発明の目的は、異方性導電材料層を効率的にかつ精度よく配置でき、接続信頼性を高めることができる接続構造体の製造方法を提供することである。   The objective of this invention is providing the manufacturing method of the connection structure which can arrange an anisotropic conductive material layer efficiently and accurately, and can improve connection reliability.

本発明の限定的な目的は、異方性導電材料が硬化した硬化物層が意図しない領域に配置され難く、該異方性導電材料が硬化した硬化物層による汚染を抑制できる接続構造体の製造方法を提供することである。   A limited object of the present invention is to provide a connection structure in which a cured layer obtained by curing an anisotropic conductive material is difficult to be disposed in an unintended region, and contamination due to the cured layer obtained by curing the anisotropic conductive material can be suppressed. It is to provide a manufacturing method.

本発明の広い局面によれば、第1の電極を表面に有するフレキシブルプリント基板を用いて、該フレキシブルプリント基板の上記第1の電極上に、硬化性成分と導電性粒子とを含む異方性導電ペーストを用いて異方性導電材料層を配置する工程と、第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材を用いて、上記第1の電極と上記第2の電極とを対向させて、上記フレキシブルプリント基板と上記第2の接続対象部材とを、上記異方性導電材料層を介して積層する工程と、上記異方性導電材料層を硬化させて、硬化物層を形成する工程とを備え、上記異方性導電材料層を配置する工程において、上記第1の電極上でディスペンサーを移動させながら、上記異方性導電ペーストを上記ディスペンサーから塗布し、塗布開始部分の領域及び塗布終了部分の領域の内の少なくとも一方の塗布領域で、上記塗布開始部分の領域と上記塗布終了部分の領域との間の塗布領域よりも、上記異方性導電ペーストを多く塗布する、接続構造体の製造方法が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, an anisotropy comprising a curable component and conductive particles on the first electrode of the flexible printed circuit board using the flexible printed circuit board having the first electrode on the surface. Using the conductive paste to dispose the anisotropic conductive material layer and using the second connection target member having the second electrode on the surface, the first electrode and the second electrode are opposed to each other. Then, the step of laminating the flexible printed circuit board and the second connection target member via the anisotropic conductive material layer, and curing the anisotropic conductive material layer to form a cured product layer A step of disposing the anisotropic conductive material layer, applying the anisotropic conductive paste from the dispenser while moving the dispenser on the first electrode, End of application The anisotropic conductive paste is applied more in at least one application area of the minute area than in the application area between the application start area and the application end area. A manufacturing method is provided.

本発明に係る接続構造体の製造方法のある特定の局面では、塗布開始部分の領域及び塗布終了部分の領域の内の少なくとも一方の塗布領域で、ディスペンサーの移動方向を変える。   In a specific aspect of the method for manufacturing a connection structure according to the present invention, the movement direction of the dispenser is changed in at least one of the application start area and the application end area.

本発明に係る接続構造体の製造方法の他の特定の局面では、塗布開始部分の領域及び塗布終了部分の領域の内の少なくとも一方の塗布領域で、ディスペンサーの移動方向を30度以上、180度以下変える。   In another specific aspect of the method for manufacturing a connection structure according to the present invention, the movement direction of the dispenser is 30 degrees or more and 180 degrees in at least one of the application start area and the application end area. Change the following.

本発明に係る接続構造体の製造方法の他の特定の局面では、塗布開始部分の領域及び塗布終了部分の領域の内の少なくとも一方の塗布領域で、ディスペンサーをV字状又はU字状に移動方向を変える。   In another specific aspect of the method for manufacturing the connection structure according to the present invention, the dispenser is moved in a V shape or a U shape in at least one of the application start region and the application end region. Change direction.

本発明に係る接続構造体の製造方法の別の特定の局面では、上記硬化物層の一方の縁部を、塗布開始時に塗布される上記異方性導電ペーストにより形成し、上記硬化物層の他方の縁部を、塗布終了時に塗布される上記異方性導電ペーストにより形成し、上記硬化物層の一方の縁部及び他方の縁部の内の少なくとも一方を、上記硬化物層の一方の縁部と他方の縁部との間の上記硬化物層の中央部よりも、上記硬化物層の存在量を多くする。   In another specific aspect of the method for manufacturing a connection structure according to the present invention, one edge of the cured product layer is formed by the anisotropic conductive paste applied at the start of coating, The other edge portion is formed by the anisotropic conductive paste applied at the end of the application, and at least one of the one edge portion and the other edge portion of the cured material layer is set to one of the cured material layers. The abundance of the cured product layer is increased compared to the central portion of the cured product layer between the edge and the other edge.

本発明に係る接続構造体の製造方法のさらに別の特定の局面では、上記フレキシブルプリント基板の外周側面よりも側方及び上記第2の接続対象部材の外周側面よりも側方の内の少なくとも一方で、該外周側面の少なくとも一部の領域に、上記硬化物層によるフィレットを形成する。   In still another specific aspect of the method for manufacturing a connection structure according to the present invention, at least one of the side more than the outer peripheral side of the flexible printed board and the side more than the outer peripheral side of the second connection target member. Thus, a fillet of the cured product layer is formed in at least a part of the outer peripheral side surface.

本発明に係る接続構造体の製造方法の他の特定の局面では、上記硬化物層の一方の縁部及び他方の縁部の内の少なくとも一方で、上記硬化物層によるフィレットを形成する。   In another specific aspect of the method for manufacturing a connection structure according to the present invention, a fillet of the cured product layer is formed on at least one of the one edge and the other edge of the cured product layer.

本発明に係る接続構造体の製造方法のさらに他の特定の局面では、上記硬化物層の一方の縁部及び他方の縁部と、上記硬化物層の一方の縁部と他方の縁部との間の中央部とで、上記硬化物層によるフィレットを形成し、上記硬化物層の一方の縁部及び他方の縁部における上記フィレットの上記フレキシブルプリント基板又は上記第2の接続対象部材の外周側面からのはみ出し距離を、上記硬化物層の一方の縁部と他方の縁部との間の上記硬化物層の中央部における上記フィレットの上記フレキシブルプリント基板又は上記第2の接続対象部材の外周側面からのはみ出し距離よりも大きくする。   In still another specific aspect of the method for manufacturing a connection structure according to the present invention, one edge and the other edge of the cured product layer, and one edge and the other edge of the cured product layer, The fillet by the said hardened | cured material layer is formed in the center part between, The outer periphery of the said flexible printed circuit board of the said fillet in the one edge part of the said hardened | cured material layer, and the other edge or the said 2nd connection object member The protrusion distance from the side surface is the outer circumference of the flexible printed circuit board or the second connection target member of the fillet at the center of the cured product layer between one edge and the other edge of the cured product layer. Make it larger than the protruding distance from the side.

本発明に係る接続構造体の製造方法の別の特定の局面では、上記塗布開始部分の領域と上記塗布終了部分の領域との間の塗布領域において、上記ディスペンサーの移動方向と直交する方向における上記第1の電極の中心部よりも縁部側に上記ディスペンサーの位置をずらした状態で、上記第1の電極上で上記ディスペンサーを移動させながら、上記異方性導電ペーストを上記ディスペンサーから塗布する。   In another specific aspect of the method for manufacturing a connection structure according to the present invention, in the application region between the region of the application start portion and the region of the application end portion, the direction in the direction orthogonal to the movement direction of the dispenser. The anisotropic conductive paste is applied from the dispenser while moving the dispenser on the first electrode in a state where the position of the dispenser is shifted to the edge side from the center of the first electrode.

本発明に係る接続構造体の製造方法のさらに別の特定の局面では、上記フレキシブルプリント基板が、突出した上記第1の電極を表面に有し、かつ上記第1の電極よりも突出高さが大きい突出した電子部品を表面に有する。   In still another specific aspect of the method for manufacturing a connection structure according to the present invention, the flexible printed circuit board has the protruding first electrode on the surface, and the protruding height is higher than that of the first electrode. Has a large protruding electronic component on the surface.

本発明に係る接続構造体の製造方法では、第1の電極を表面に有するフレキシブルプリント基板を用いて、該フレキシブルプリント基板の上記第1の電極上に、硬化性成分と導電性粒子とを含む異方性導電ペーストを用いて異方性導電材料層を配置する工程と、第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材を用いて、上記第1の電極と上記第2の電極とを対向させて、上記フレキシブルプリント基板と上記第2の接続対象部材とを、上記異方性導電材料層を介して積層する工程と、上記異方性導電材料層を硬化させて、硬化物層を形成する工程とを備え、上記異方性導電材料層を配置する工程において、上記第1の電極上でディスペンサーを移動させながら、上記異方性導電ペーストを上記ディスペンサーから塗布するので、異方性導電材料層を効率的にかつ精度よく配置できる。さらに、本発明に係る接続構造体の製造方法では、塗布開始部分の領域及び塗布終了部分の領域の内の少なくとも一方の塗布領域で、上記塗布開始部分の領域と上記塗布終了部分の領域との間の塗布領域よりも、上記異方性導電ペーストを多く塗布するので、フレキシブルプリント基板と第2の接続対象部材との接続信頼性を高めることができる。   In the manufacturing method of the connection structure according to the present invention, a curable component and conductive particles are included on the first electrode of the flexible printed board using the flexible printed board having the first electrode on the surface. Using the anisotropic conductive paste to dispose the anisotropic conductive material layer, and using the second connection target member having the second electrode on the surface, the first electrode and the second electrode; Facing each other, laminating the flexible printed circuit board and the second connection target member via the anisotropic conductive material layer, curing the anisotropic conductive material layer, and a cured product layer Forming the anisotropic conductive material layer, and applying the anisotropic conductive paste from the dispenser while moving the dispenser on the first electrode. Conductive material Layers can be arranged efficiently and accurately. Furthermore, in the manufacturing method of the connection structure according to the present invention, the application start portion region and the application end portion region are at least one of the application start portion region and the application end portion region. Since the anisotropic conductive paste is applied in a larger amount than the intermediate application region, the connection reliability between the flexible printed circuit board and the second connection target member can be increased.

図1(a)〜(c)は、本発明の一実施形態に係る接続構造体の製造方法により得られる接続構造体を模式的に示す部分切欠断面図である。1A to 1C are partial cutaway cross-sectional views schematically showing a connection structure obtained by a method for manufacturing a connection structure according to an embodiment of the present invention. 図2(a)及び(b)は、本発明の一実施形態に係る接続構造体の製造方法に用いられるフレキシブルプリント基板を模式的に示す平面図及び断面図である。2A and 2B are a plan view and a cross-sectional view schematically showing a flexible printed board used in the method for manufacturing a connection structure according to an embodiment of the present invention. 図3(a1)、(a2)、(a3)、(b)及び(c)は、本発明の一実施形態に係る接続構造体の製造方法の各工程を説明するための部分切欠断面図である。3 (a1), (a2), (a3), (b), and (c) are partially cutaway cross-sectional views for explaining the respective steps of the connection structure manufacturing method according to an embodiment of the present invention. is there. 図4は、本発明の一実施形態に係る接続構造体の製造方法におけるディスペンサーの移動方向を説明するための模式図である。FIG. 4 is a schematic diagram for explaining the movement direction of the dispenser in the method for manufacturing the connection structure according to the embodiment of the present invention. 図5(a)及び(b)は、本発明の一実施形態に係る接続構造体の製造方法において、塗布装置を用いて、異方性導電材料層をBステージ化する方法を説明するための模式図である。FIGS. 5A and 5B are diagrams for explaining a method for forming an anisotropic conductive material layer into a B-stage using a coating apparatus in a method for manufacturing a connection structure according to an embodiment of the present invention. It is a schematic diagram. 図6(a)及び(b)は、フレキシブルプリント基板の変形例を示す平面図及び断面図である。6A and 6B are a plan view and a cross-sectional view showing a modification of the flexible printed circuit board. 図7(a)〜(d)はディスペンサーの移動方向の変形例を説明するための模式図である。FIGS. 7A to 7D are schematic diagrams for explaining a modification of the movement direction of the dispenser.

以下、本発明の詳細を説明する。   Details of the present invention will be described below.

本発明に係る接続構造体の製造方法は、第1の電極を表面に有するフレキシブルプリント基板(第1の接続対象部材)を用いて、該フレキシブルプリント基板の上記第1の電極上に、硬化性成分と導電性粒子とを含む異方性導電ペーストを用いて異方性導電材料層を配置する工程と、第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材を用いて、上記第1の電極と上記第2の電極とを対向させて、上記フレキシブルプリント基板と上記第2の接続対象部材とを、上記異方性導電材料層を介して積層する工程と、上記異方性導電材料層を硬化させて、硬化物層を形成する工程とを備える。   The method for manufacturing a connection structure according to the present invention uses a flexible printed circuit board (first connection target member) having a first electrode on the surface, and is curable on the first electrode of the flexible printed circuit board. Using the anisotropic conductive paste containing an ingredient and conductive particles, and using the second connection target member having the second electrode on the surface, the first connection A step of laminating the flexible printed circuit board and the second connection target member via the anisotropic conductive material layer with the electrode facing the second electrode, and the anisotropic conductive material layer And a step of forming a cured product layer.

本発明に係る接続構造体の製造方法では、上記異方性導電材料層を配置する工程において、上記第1の電極上でディスペンサーを移動させながら、上記異方性導電ペーストを上記ディスペンサーから塗布する。さらに、塗布開始部分の領域A1及び塗布終了部分の領域A2の内の少なくとも一方の塗布領域で、上記塗布開始部分の領域A1と上記塗布終了部分の領域A2との間の塗布領域Bよりも、上記異方性導電ペーストを多く塗布する。   In the manufacturing method of the connection structure according to the present invention, in the step of disposing the anisotropic conductive material layer, the anisotropic conductive paste is applied from the dispenser while moving the dispenser on the first electrode. . Further, in at least one of the application start area A1 and the application end area A2, the application area B between the application start area A1 and the application end area A2 is greater than the application area B. A large amount of the anisotropic conductive paste is applied.

本発明に係る接続構造体の製造方法における上記構成の採用により、比較的多く塗布された異方性導電ペースト部分において硬化物層の存在量を多くすることができる。このため、フレキシブルプリント基板と第2の接続対象部材との接続信頼性を高めることができる。特に、剥離が比較的生じやすい傾向がある部分を、上記異方性導電ペーストが多く塗布される塗布開始部分の領域A1又は塗布終了部分の領域A2とすることで、フレキシブルプリント基板と第2の接続対象部材との接続信頼性を効果的に高めることができる。   By adopting the above configuration in the method for manufacturing a connection structure according to the present invention, it is possible to increase the abundance of the cured product layer in a relatively large amount of anisotropic conductive paste applied. For this reason, the connection reliability of a flexible printed circuit board and a 2nd connection object member can be improved. In particular, the portion where the peeling tends to occur relatively easily is the region A1 of the application start portion or the region A2 of the application end portion where a large amount of the anisotropic conductive paste is applied. Connection reliability with a connection object member can be improved effectively.

また、上記異方性導電ペーストを上記ディスペンサーから塗布することで、所定の領域に異方性導電材料層を配置しやすく、かつ接続構造体の製造効率を高めることができる。さらに、ディスペンサーによる塗布では、得られる接続構造体における硬化物層を特定の領域に精度よくかつ均一に配置できる。この結果、得られる接続構造体においてボイドが生じ難くなり、更にフレキシブルプリント基板と第2の接続対象部材との接続信頼性及び導通信頼性が高くなる。また、異方性導電ペーストを塗布する対象がフレキシブルプリント基板である場合には、該フレキシブルプリント基板はガラス基板に比べて電極の高さが高いことが多く、スクリーン印刷法では異方性導電ペーストを精度よくかつ均一に塗布することが困難であるという問題がある。ディスペンサーにより異方性導電ペーストを塗布することで、異方性導電ペーストを精度よくかつ均一に塗布することができる。   Further, by applying the anisotropic conductive paste from the dispenser, it is easy to dispose the anisotropic conductive material layer in a predetermined region, and the manufacturing efficiency of the connection structure can be increased. Furthermore, in application | coating by a dispenser, the hardened | cured material layer in the connection structure obtained can be arrange | positioned accurately and uniformly to a specific area | region. As a result, voids are less likely to occur in the resulting connection structure, and the connection reliability and conduction reliability between the flexible printed circuit board and the second connection target member are increased. In addition, when the target to which the anisotropic conductive paste is applied is a flexible printed board, the flexible printed board often has a higher electrode height than the glass substrate. Is difficult to apply accurately and uniformly. By applying the anisotropic conductive paste with a dispenser, the anisotropic conductive paste can be applied accurately and uniformly.

また、フレキシブルプリント基板は比較的柔らかいことから、フレキシブルプリント基板と第2の接続対象部材との圧着時に上記異方性導電材料層が濡れ拡がり、導電性粒子が意図しない領域に配置されやすいという問題がある。これに対して、本発明に係る接続構造体の製造方法では、フレキシブルプリント基板を用いているにもかかわらず、導電性粒子の配置精度を十分に高めることができる。   In addition, since the flexible printed circuit board is relatively soft, the anisotropic conductive material layer spreads out when the flexible printed circuit board is bonded to the second connection target member, and the conductive particles are likely to be disposed in an unintended region. There is. On the other hand, in the manufacturing method of the connection structure according to the present invention, the arrangement accuracy of the conductive particles can be sufficiently increased even though the flexible printed board is used.

フレキシブルプリント基板と第2の接続対象部材との接続信頼性をより一層高める観点からは、塗布開始部分の領域A1及び塗布終了部分の領域A2の双方の塗布領域で、上記塗布開始部分の領域A1と上記塗布終了部分の領域A2との間の塗布領域Bよりも、上記異方性導電ペーストを多く塗布することが好ましい。   From the viewpoint of further improving the connection reliability between the flexible printed circuit board and the second connection target member, the application start part area A1 in both the application start part area A1 and the application end part area A2. It is preferable to apply a larger amount of the anisotropic conductive paste than the application region B between the region A2 and the region A2 where the application is completed.

塗布開始部分の領域A1及び塗布終了部分の領域A2の内の少なくとも一方の塗布領域で、ディスペンサーの移動方向を変えることが好ましく、移動方向が変えられた部分で上記異方性導電ペーストを多く塗布することが好ましい。ディスペンサーからの異方性導電ペーストの吐出速度が一定である場合に、ディスペンサーの移動方向を変えることで、塗布開始部分の領域A1又は塗布終了部分の領域A2における上記異方性導電ペーストの塗布量を多くすることができる。   It is preferable to change the movement direction of the dispenser in at least one of the application area A1 and the application end area A2, and the anisotropic conductive paste is applied more in the changed movement direction. It is preferable to do. When the discharge speed of the anisotropic conductive paste from the dispenser is constant, the application amount of the anisotropic conductive paste in the application start portion area A1 or the application end portion area A2 is changed by changing the movement direction of the dispenser. Can be more.

ディスペンサーの移動方向を変えて上記異方性導電ペーストの塗布量を多くする場合には、ディスペンサーの移動方向を、所定の角度で2つの直線状で変えてもよく、曲線状で変えてもよい。また、ディスペンサーの移動方向を、ランダムな方向に変えてもよい。さらに、ディスペンサーの移動方向を、ジグザグ状に変えてもよい。   When the amount of application of the anisotropic conductive paste is increased by changing the movement direction of the dispenser, the movement direction of the dispenser may be changed in two straight lines at a predetermined angle or may be changed in a curved line shape. . Moreover, you may change the moving direction of a dispenser into a random direction. Further, the moving direction of the dispenser may be changed to a zigzag shape.

塗布開始部分の領域A1及び塗布終了部分の領域A2の内の少なくとも一方の塗布領域で、ディスペンサーの移動方向を0度を超え、180度以下変えることが好ましく、それによって移動方向が変えられた部分で上記異方性導電ペーストを多く塗布することが好ましい。   It is preferable that the movement direction of the dispenser is changed by more than 0 degrees and 180 degrees or less in at least one of the application start area A1 and the application end area A2. It is preferable to apply a large amount of the anisotropic conductive paste.

塗布開始部分の領域A1及び塗布終了部分の領域A2の内の少なくとも一方の塗布領域で、ディスペンサーの移動方向を30度以上変えることがより好ましい。この場合には、塗布開始部分の領域A1又は塗布終了部分の領域A2における塗布量を容易に多くすることができ、更に塗布された異方性導電ペーストのはみ出しを抑制することができる。さらに、異方性導電ペーストが硬化した硬化物層が意図しない領域に配置され難くなり、該異方性導電ペーストが硬化した硬化物層による汚染を抑制できる。   More preferably, the movement direction of the dispenser is changed by 30 degrees or more in at least one of the application start area A1 and the application end area A2. In this case, it is possible to easily increase the application amount in the area A1 of the application start portion or the area A2 of the application end portion, and to suppress the protrusion of the applied anisotropic conductive paste. Furthermore, it becomes difficult to arrange | position the hardened | cured material layer which the anisotropic conductive paste hardened | cured in the area | region which is not intended, and contamination by the hardened | cured material layer which this anisotropic conductive paste hardened can be suppressed.

塗布開始部分の領域A1及び塗布終了部分の領域A2の内の少なくとも一方の塗布領域で、ディスペンサーの移動方向を90度を超えて変えることが好ましく、120度以上変えることがより好ましい。この場合には、塗布開始部分の領域A1又は塗布終了部分の領域A2における末端部分(折り返し先端)の塗布量が少なくなる。このため、異方性導電ペーストが硬化した硬化物層が意図しない領域により一層配置され難く、該異方性導電ペーストが硬化した硬化物層による汚染をより一層抑制できる。   It is preferable to change the movement direction of the dispenser by more than 90 degrees, and more preferably by 120 degrees or more, in at least one of the application start area A1 and the application end area A2. In this case, the application amount of the end portion (folding tip) in the area A1 of the application start portion or the area A2 of the application end portion is reduced. For this reason, it is hard to arrange | position further the hardened | cured material layer which the anisotropic conductive paste hardened | cured by the area | region which is not intended, and it can suppress further the contamination by the hardened | cured material layer which this anisotropic conductive paste hardened | cured.

塗布開始部分の領域A1及び塗布終了部分の領域A2の内の少なくとも一方の塗布領域で、ディスペンサーの移動方向を160度以下変えることが好ましい。この場合には、比較的塗布量が多い塗布開始部分の領域A1又は塗布終了部分の領域A2における塗布厚みが厚くなるのを抑制できる。この結果、異方性導電材料が硬化した硬化物層が意図しない領域により一層配置され難くなり、該異方性導電材料が硬化した硬化物層による汚染をより一層抑制できる。   It is preferable that the moving direction of the dispenser is changed by 160 degrees or less in at least one of the application start area A1 and the application end area A2. In this case, it is possible to suppress an increase in the coating thickness in the area A1 of the application start portion or the area A2 of the application end portion where the application amount is relatively large. As a result, the cured product layer in which the anisotropic conductive material is cured is more difficult to be disposed in an unintended region, and contamination by the cured product layer in which the anisotropic conductive material is cured can be further suppressed.

塗布開始部分の領域A1及び塗布終了部分の領域A2の内の少なくとも一方の塗布領域で、ディスペンサーをV字状又はU字状に移動方向を変えることが好ましく、それによって移動方向が変えられた部分で上記異方性導電ペーストを多く塗布することが好ましい。この場合には、塗布開始部分の領域A1又は塗布終了部分の領域A2における塗布量の制御が容易である。   The movement direction of the dispenser is preferably changed to a V-shape or U-shape in at least one of the application start area A1 and the application end area A2. It is preferable to apply a large amount of the anisotropic conductive paste. In this case, it is easy to control the application amount in the area A1 of the application start portion or the area A2 of the application end portion.

上記硬化物層の一方の縁部を、塗布開始時に塗布される上記異方性導電ペーストにより形成し、上記硬化物層の他方の縁部を、塗布終了時に塗布される上記異方性導電ペーストにより形成することが好ましい。上記硬化物層の一方の縁部及び他方の縁部の内の少なくとも一方を、上記硬化物層の一方の縁部と他方の縁部との間の上記硬化物層の中央部よりも、上記硬化物層の存在量を多くすることが好ましい。上記硬化物層の縁部及び他方の縁部は、フレキシブルプリント基板と第2の接続対象部材との剥離起点となりやすい傾向がある。これに対して、上記硬化物層の一方の縁部及び他方の縁部の内の少なくとも一方における硬化物層の存在量を多くすることで、剥離を効果的に抑制でき、接続構造体における接続信頼性をより一層高めることができる。   One edge of the cured product layer is formed by the anisotropic conductive paste applied at the start of application, and the other edge of the cured product layer is applied at the end of application. It is preferable to form by. At least one of the one edge and the other edge of the cured product layer is more than the central portion of the cured product layer between the one edge and the other edge of the cured product layer. It is preferable to increase the abundance of the cured product layer. The edge part of the said hardened | cured material layer and the other edge part tend to become a peeling start point of a flexible printed circuit board and a 2nd connection object member. On the other hand, peeling can be effectively suppressed by increasing the abundance of the cured product layer in at least one of the one edge and the other edge of the cured product layer, and the connection in the connection structure Reliability can be further increased.

また、上記第1の電極の一方の縁部側から他方の縁部側にむけて、上記第1の電極上で上記ディスペンサーを移動させることが好ましい。   Moreover, it is preferable to move the dispenser on the first electrode from one edge side to the other edge side of the first electrode.

上記硬化物層の少なくとも一部の領域は、上記フレキシブルプリント基板の外周側面よりも側方及び上記第2の接続対象部材の外周側面よりも側方の内の少なくとも一方ではみ出していることが好ましい。上記硬化物層の少なくとも一部の領域は、上記フレキシブルプリント基板の外周側面よりも側方及び上記第2の接続対象部材の外周側面よりも側方の双方ではみ出していることが好ましい。上記フレキシブルプリント基板の外周側面よりも側方及び上記第2の接続対象部材の外周側面よりも側方の内の少なくとも一方で、該外周側面の少なくとも一部の領域に、上記硬化物層によるフィレットを形成することが好ましい。上記フレキシブルプリント基板の外周側面よりも側方及び上記第2の接続対象部材の外周側面よりも側方の双方で、該外周側面の少なくとも一部の領域に、上記硬化物層によるフィレットを形成することがより好ましい。このように硬化物層をはみ出させ、フィレットを形成する場合には、剥離を効果的に抑制でき、接続構造体における接続信頼性をより一層高めることができる。   It is preferable that at least a part of the region of the cured product layer protrudes from at least one of the lateral side of the outer peripheral side surface of the flexible printed board and the lateral side of the outer peripheral side surface of the second connection target member. . It is preferable that at least a part of the region of the cured product layer protrudes both on the side of the outer peripheral side surface of the flexible printed board and on the side of the outer peripheral side surface of the second connection target member. A fillet of the cured product layer is formed in at least a part of the outer peripheral side surface of at least one of the outer side surface of the flexible printed circuit board and the side of the outer peripheral side surface of the second connection target member. Is preferably formed. A fillet of the cured product layer is formed in at least a part of the outer peripheral side surface both on the side of the outer peripheral side surface of the flexible printed board and on the side of the outer peripheral side surface of the second connection target member. It is more preferable. Thus, when a hardened | cured material layer is protruded and a fillet is formed, peeling can be suppressed effectively and the connection reliability in a connection structure can be improved further.

上記硬化物層の一方の縁部及び他方の縁部の内の少なくとも一方で、上記硬化物層によるフィレットを形成することが好ましく、上記硬化物層の一方の縁部及び他方の縁部の双方で、上記硬化物層によるフィレットを形成することがより好ましい。剥離起点となりやすい上記硬化物層の一方の縁部及び他方の縁部で剥離を効果的に抑制できるので、接続構造体における接続信頼性をさらに一層高めることができる。   It is preferable to form a fillet of the cured product layer on at least one of the one edge and the other edge of the cured product layer, and both the one edge and the other edge of the cured product layer are formed. Thus, it is more preferable to form a fillet of the cured product layer. Since peeling can be effectively suppressed at one edge and the other edge of the cured product layer that is likely to become a separation starting point, connection reliability in the connection structure can be further enhanced.

フレキシブルプリント基板と第2の接続対象部材との接続信頼性をより一層高める観点からは、上記硬化物層の一方の縁部及び他方の縁部と、上記硬化物層の一方の縁部と他方の縁部との間の中央部とで、上記硬化物層によるフィレットを形成することが更に好ましい。   From the viewpoint of further improving the connection reliability between the flexible printed circuit board and the second connection target member, one edge and the other edge of the cured product layer, and one edge and the other of the cured product layer It is more preferable to form a fillet of the cured product layer at the central portion between the edges of the cured product layer.

フレキシブルプリント基板と第2の接続対象部材との接続信頼性を更に一層高める観点からは、上記硬化物層の一方の縁部及び他方の縁部における上記フィレットの上記フレキシブルプリント基板又は上記第2の接続対象部材の外周側面からのはみ出し距離を、上記硬化物層の一方の縁部と他方の縁部との間の上記硬化物層の中央部における上記フィレットの上記フレキシブルプリント基板又は上記第2の接続対象部材の外周側面からのはみ出し距離よりも大きくすることが好ましい。   From the viewpoint of further enhancing the connection reliability between the flexible printed circuit board and the second connection target member, the flexible printed circuit board or the second printed circuit board of the fillet at one edge and the other edge of the cured product layer. The protruding distance from the outer peripheral side surface of the member to be connected is set so that the fillet of the fillet at the center of the cured product layer between one edge and the other edge of the cured product layer or the second It is preferable to make it larger than the protruding distance from the outer peripheral side surface of the connection target member.

上記フレキシブルプリント基板は、突出した上記第1の電極を表面に有し、かつ上記第1の電極よりも突出高さが大きい突出した電子部品を上記表面に有することが好ましい。このようなフレキシブルプリント基板を用いる場合には、該フレキシブルプリント基板上にスクリーン印刷により異方性導電ペーストを配置することが困難である。一方で、上記フレキシブルプリント基板上にディスペンサーを用いて異方性導電ペーストを塗布した場合には、異方性導電ペーストが流動しやすく、意図しない領域に異方性導電材料層及び導電性粒子が配置されやすいという問題がある。これに対して、本発明に係る接続構造体の製造方法では、突出した上記第1の電極を表面に有し、かつ上記第1の電極よりも突出高さが大きい突出した電子部品を上記表面に有するフレキシブルプリント基板を用いたとしても、導電性粒子の配置精度を高めることができる。ディスペンサーによる塗布では、フレキシブルプリント基板が表面に突出した電子部品を有していても、該電子部品による塗布作業の阻害を抑制できるので、異方性導電ペーストの塗布効率をかなり高めることができる。   It is preferable that the flexible printed circuit board has a protruding first electronic electrode on the surface and a protruding electronic component having a higher protruding height than the first electrode on the surface. When such a flexible printed circuit board is used, it is difficult to dispose the anisotropic conductive paste on the flexible printed circuit board by screen printing. On the other hand, when the anisotropic conductive paste is applied onto the flexible printed board using a dispenser, the anisotropic conductive paste easily flows, and the anisotropic conductive material layer and the conductive particles are present in unintended areas. There is a problem that it is easy to arrange. On the other hand, in the manufacturing method of the connection structure according to the present invention, the protruding electronic component having the protruding first electrode on the surface and having a protruding height larger than the first electrode is provided on the surface. Even if the flexible printed circuit board is used, the arrangement accuracy of the conductive particles can be increased. In application by a dispenser, even if the flexible printed circuit board has an electronic component protruding on the surface, since the inhibition of the application operation by the electronic component can be suppressed, the application efficiency of the anisotropic conductive paste can be considerably increased.

上記第1の電極は、複数の第1の電極であってもよく、第1の電極パターンであってもよい。この場合に、上記第2の電極は、複数の第2の電極であってもよく、第2の電極パターンであってもよい。この場合、複数の第1の電極上ではない複数の第1の電極間の隙間上にも、異方性導電材料層を配置することが好ましい。複数の第1の電極上と複数の第1の電極間の隙間上とに、連続して上記異方性導電ペーストを塗布して、異方性導電材料層を配置することが好ましい。   The first electrode may be a plurality of first electrodes or a first electrode pattern. In this case, the second electrode may be a plurality of second electrodes or a second electrode pattern. In this case, it is preferable to dispose the anisotropic conductive material layer not on the plurality of first electrodes but also on the gaps between the plurality of first electrodes. It is preferable that the anisotropic conductive material layer is disposed by continuously applying the anisotropic conductive paste on the plurality of first electrodes and on the gaps between the plurality of first electrodes.

フレキシブルプリント基板の複数の第1の電極間の隙間は突出していないか、又は第1の電極よりも突出高さが小さいことが好ましく、フレキシブルプリント基板の第1の電極間は突出していないことが好ましい。この場合には、フレキシブルプリント基板の表面は、複数の第1の電極上と、複数の第1の電極間の隙間上とで凹凸になる。フレキシブルプリント基板の表面の突出していない領域又は第1の電極よりも突出度合いが小さい領域にも、異方性導電材料層を配置することが好ましい。   It is preferable that the gap between the plurality of first electrodes of the flexible printed circuit board does not protrude or the height of protrusion is smaller than that of the first electrode, and does not protrude between the first electrodes of the flexible printed circuit board. preferable. In this case, the surface of the flexible printed circuit board is uneven on the plurality of first electrodes and on the gaps between the plurality of first electrodes. It is preferable to dispose the anisotropic conductive material layer also in a region where the surface of the flexible printed board does not protrude or a region where the degree of protrusion is smaller than that of the first electrode.

複数の第1の電極上に配置される異方性導電材料層部分の厚みを、複数の第1の電極間の隙間上に配置される異方性導電材料層部分の厚みよりも薄くすることが好ましい。この場合には、複数の第1の電極上及び複数の第1の電極間の隙間上に配置される異方性導電材料層の上面の凹凸を少なくすることができる。この結果、接続構造体において、ボイドを生じ難くし、かつ接続信頼性を高めることができる。   The thickness of the anisotropic conductive material layer portion disposed on the plurality of first electrodes is made thinner than the thickness of the anisotropic conductive material layer portion disposed on the gap between the plurality of first electrodes. Is preferred. In this case, unevenness on the upper surface of the anisotropic conductive material layer disposed on the plurality of first electrodes and on the gaps between the plurality of first electrodes can be reduced. As a result, voids are less likely to occur in the connection structure, and connection reliability can be improved.

複数の第1の電極上に配置される異方性導電材料層部分の上面と複数の第1の電極間上に配置される異方性導電材料層部分の上面とを連なるように平滑にすることが好ましい。この場合には、接続構造体において、ボイドをより一層生じ難くし、かつ接続信頼性をより一層高めることができる。   The upper surface of the anisotropic conductive material layer portion disposed on the plurality of first electrodes and the upper surface of the anisotropic conductive material layer portion disposed between the plurality of first electrodes are smoothed so as to be continuous. It is preferable. In this case, in the connection structure, voids can be made more difficult to occur, and connection reliability can be further improved.

上記フレキシブルプリント基板が複数の第1の電極を表面に有する場合に、第1の電極の高さが30μm以上であり、かつ複数の第1の電極間の隙間(スペース)の間隔が30μm以下であることが好ましい。このような第1の電極を有するフレキシブルプリント基板の表面に異方性導電材料層を配置する場合には、スクリーン印刷では、異方性導電材料層を精度よくかつ均一に配置することはかなり困難である。これに対して、上記ディスペンサーを移動させながら、上記異方性導電ペーストを上記ディスペンサーから塗布することで、上記異方性導電材料層を精度よくかつ均一に配置することができる。また、第2の接続対象部材の第2の電極は、フレキシブルプリント基板の第1の電極に対応する位置に配置されていることが好ましい。複数の第2の電極間の隙間(スペース)の間隔が30μm以下であることが好ましい。   When the flexible printed circuit board has a plurality of first electrodes on the surface, the height of the first electrodes is 30 μm or more, and the gap between the plurality of first electrodes is 30 μm or less. Preferably there is. When an anisotropic conductive material layer is arranged on the surface of a flexible printed board having such a first electrode, it is quite difficult to arrange the anisotropic conductive material layer accurately and uniformly in screen printing. It is. On the other hand, the anisotropic conductive material layer can be accurately and uniformly disposed by applying the anisotropic conductive paste from the dispenser while moving the dispenser. Moreover, it is preferable that the 2nd electrode of the 2nd connection object member is arrange | positioned in the position corresponding to the 1st electrode of a flexible printed circuit board. It is preferable that the space | interval of the clearance gap (space) between several 2nd electrodes is 30 micrometers or less.

上記異方性導電ペーストの25℃及び2.5rpmでの粘度η1は、200Pa・sを超え、800Pa・s以下であることが好ましい。上記粘度η1はより好ましくは300Pa・s以上、より好ましくは500Pa・s以下である。上記粘度η1が上記下限以上及び上記上限以下であると、上記フレキシブルプリント基板を用いた接続構造体において、ボイドをより一層生じ難くし、かつ接続信頼性をより一層高めることができる。   The anisotropic conductive paste has a viscosity η1 at 25 ° C. and 2.5 rpm of more than 200 Pa · s and preferably 800 Pa · s or less. The viscosity η1 is more preferably 300 Pa · s or more, and more preferably 500 Pa · s or less. When the viscosity η1 is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, in the connection structure using the flexible printed circuit board, voids are further hardly generated and connection reliability can be further improved.

上記異方性導電ペーストの25℃及び2.5rpmの粘度η2の25℃及び5rpmでの粘度η3に対する粘度比(η2/η3)は1以上、4以下であることが好ましい。上記粘度比(η2/η3)はより好ましくは1.1以上、より好ましくは3.5以下である。上記粘度比(η2/η3)が上記下限以上及び上記上限以下であると、上記フレキシブルプリント基板を用いた接続構造体において、ボイドをより一層生じ難くし、かつ接続信頼性をより一層高めることができる。   The viscosity ratio (η2 / η3) of the anisotropic conductive paste to the viscosity η3 at 25 ° C. and 5 rpm of the viscosity η2 at 25 ° C. and 2.5 rpm is preferably 1 or more and 4 or less. The viscosity ratio (η2 / η3) is more preferably 1.1 or more, and more preferably 3.5 or less. When the viscosity ratio (η2 / η3) is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, in the connection structure using the flexible printed circuit board, voids are further less likely to be generated, and connection reliability is further improved. it can.

上記フレキシブルプリント基板が複数の第1の電極を表面に有し、上記第2の接続対象部材が複数の第2の電極を表面に有し、上記第1の電極の高さが5μm以上、複数の上記第1の電極間の隙間の間隔が30μm以下であり、上記粘度η1が200Pa・sを超え、800Pa・s以下であり、上記粘度比(η2/η3)が1以上、4以下であることが特に好ましい。特に、複数の第1の電極間の間隔が狭いと、この複数の第1の電極間の狭い隙間の領域に、異方性導電材料層を精度よくかつ均一に配置することはかなり困難である。これに対して、上記ディスペンサーを移動させながら、上記粘度η1及び上記粘度比(η2/η3)が上記下限以上及び上記上限以下である異方性導電ペーストを上記ディスペンサーから塗布することで、上記狭い隙間の領域に対しても異方性導電材料層を精度よくかつ均一に配置できる。このため、接続構造体において、ボイドをさらに一層効果的に生じ難くし、かつ接続信頼性をさらに一層効果的に高めることができる。   The flexible printed circuit board has a plurality of first electrodes on the surface, the second connection target member has a plurality of second electrodes on the surface, and the height of the first electrode is 5 μm or more. The gap between the first electrodes is 30 μm or less, the viscosity η1 is more than 200 Pa · s and not more than 800 Pa · s, and the viscosity ratio (η2 / η3) is 1 or more and 4 or less. It is particularly preferred. In particular, when the interval between the plurality of first electrodes is narrow, it is very difficult to accurately and uniformly dispose the anisotropic conductive material layer in the narrow gap region between the plurality of first electrodes. . On the other hand, while moving the dispenser, by applying an anisotropic conductive paste having the viscosity η1 and the viscosity ratio (η2 / η3) that are equal to or higher than the lower limit and equal to or lower than the upper limit, the narrowness is achieved. The anisotropic conductive material layer can be accurately and evenly disposed in the gap region. For this reason, in a connection structure, it becomes difficult to produce a void still more effectively and can improve connection reliability still more effectively.

第1の電極上に配置される異方性導電材料層部分の厚みを、上記異方性導電ペーストに含まれている導電性粒子の平均粒子径の3倍以上にすることが好ましい。この場合には、接続構造体において、ボイドをより一層生じ難くし、かつ接続信頼性をより一層高めることができる。第1の電極上に配置される異方性導電材料層部分の厚みを、上記異方性導電ペーストに含まれている導電性粒子の平均粒子径の4倍以上にすることがより好ましく、10倍以下にすることが好ましい。この場合には、接続構造体におけるボイドの発生をより一層抑制できる。   It is preferable that the thickness of the anisotropic conductive material layer portion disposed on the first electrode is at least three times the average particle diameter of the conductive particles contained in the anisotropic conductive paste. In this case, in the connection structure, voids can be made more difficult to occur, and connection reliability can be further improved. More preferably, the thickness of the anisotropic conductive material layer portion disposed on the first electrode is at least four times the average particle diameter of the conductive particles contained in the anisotropic conductive paste. It is preferable to make it less than twice. In this case, generation of voids in the connection structure can be further suppressed.

以下、図面を参照しつつ本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。   Hereinafter, the present invention will be clarified by describing specific embodiments of the present invention with reference to the drawings.

図1(a)〜(c)に、本発明の一実施形態に係る接続構造体の製造方法により得られる接続構造体を模式的に部分切欠断面図で示す。図2(a)及び(b)に、本発明の一実施形態に係る接続構造体の製造方法に用いられるフレキシブルプリント基板を模式的に平面図及び断面図で示す。   1A to 1C schematically show a connection structure obtained by the method for manufacturing a connection structure according to one embodiment of the present invention in a partially cutaway cross-sectional view. 2A and 2B schematically show a flexible printed board used in the method for manufacturing a connection structure according to one embodiment of the present invention in a plan view and a cross-sectional view.

図1(a)は、塗布開始部分の領域A1における断面図である。図1(b)は、塗布開始部分の領域A1と塗布終了部分の領域A2との間の塗布領域Bにおける断面図である。図1(c)は、塗布終了部分の領域A2における断面図である。図1(a)では、図2(a)に示すフレキシブルプリント基板におけるI−I線に沿って、該フレキシブルプリント基板に第2の接続対象部材が接続されている状態における断面図が示されている。図1(b)では、図2(a)に示すフレキシブルプリント基板におけるII−II線に沿って、該フレキシブルプリント基板に第2の接続対象部材が接続されている状態における断面図が示されている。図1(c)では、図2(a)に示すフレキシブルプリント基板におけるIII−III線に沿って、該フレキシブルプリント基板に第2の接続対象部材が接続されている状態における断面図が示されている。図2(b)では、図2(a)に示すIV−IV線に沿う断面図が示されている。   Fig.1 (a) is sectional drawing in area | region A1 of the application | coating start part. FIG. 1B is a cross-sectional view of the application region B between the application start portion region A1 and the application end portion region A2. FIG.1 (c) is sectional drawing in area | region A2 of the application completion part. In FIG. 1A, a cross-sectional view in a state in which a second connection target member is connected to the flexible printed board is shown along line II in the flexible printed board shown in FIG. Yes. In FIG.1 (b), sectional drawing in the state in which the 2nd connection object member is connected to this flexible printed circuit board is shown along the II-II line in the flexible printed circuit board shown to Fig.2 (a). Yes. In FIG.1 (c), sectional drawing in the state in which the 2nd connection object member is connected to this flexible printed circuit board is shown along the III-III line in the flexible printed circuit board shown to Fig.2 (a). Yes. FIG. 2B shows a cross-sectional view taken along the line IV-IV shown in FIG.

図1に示す接続構造体1は、フレキシブルプリント基板4と、第2の接続対象部材2と、硬化物層3とを備える。硬化物層3は、フレキシブルプリント基板4と第2の接続対象部材2とを接続しており、接続部である。硬化物層3は、硬化性成分と導電性粒子5とを含む異方性導電材料を硬化させることにより形成されている。上記異方性導電材料は、複数の導電性粒子5を含む。   A connection structure 1 shown in FIG. 1 includes a flexible printed circuit board 4, a second connection target member 2, and a cured product layer 3. The cured product layer 3 connects the flexible printed circuit board 4 and the second connection target member 2 and is a connection part. The cured product layer 3 is formed by curing an anisotropic conductive material including a curable component and the conductive particles 5. The anisotropic conductive material includes a plurality of conductive particles 5.

第2の接続対象部材2は表面2a(下面)に、第2の電極2bを有する。第2の電極2bは表面2aから突出している。第2の電極2bは全体で、長さ方向と幅方向とを有する。図1(a)〜(c)では、第2の電極2b全体での幅方向における断面が示されている。   The 2nd connection object member 2 has the 2nd electrode 2b in the surface 2a (lower surface). The second electrode 2b protrudes from the surface 2a. The second electrode 2b as a whole has a length direction and a width direction. 1A to 1C show a cross section in the width direction of the entire second electrode 2b.

フレキシブルプリント基板4は表面(上面)4aに、第1の電極4bを有する。第1の電極4bは表面4aから突出している。第1の電極4bは全体で、長さ方向と幅方向とを有する。図1(a)〜(c)では、第1の電極4b全体での幅方向における断面が示されている。   The flexible printed circuit board 4 has a first electrode 4b on the surface (upper surface) 4a. The first electrode 4b protrudes from the surface 4a. The first electrode 4b as a whole has a length direction and a width direction. 1A to 1C show a cross section in the width direction of the entire first electrode 4b.

第2の電極2bと第1の電極4bとは、1つ又は複数の導電性粒子5により電気的に接続されている。   The second electrode 2b and the first electrode 4b are electrically connected by one or a plurality of conductive particles 5.

接続構造体1では、第2の接続対象部材2としてガラス基板が用いられている。上記第2の接続対象部材は特に限定されない。上記第2の接続対象部材としては、具体的には、半導体チップ、コンデンサ及びダイオード等の電子部品、並びにプリント基板、フレキシブルプリント基板及びガラス基板等の回路基板などの電子部品等が挙げられる。上記第2の接続対象部材はガラス基板であることが好ましい。   In the connection structure 1, a glass substrate is used as the second connection target member 2. The second connection target member is not particularly limited. Specific examples of the second connection target member include electronic components such as a semiconductor chip, a capacitor, and a diode, and electronic components such as a circuit board such as a printed board, a flexible printed board, and a glass board. The second connection object member is preferably a glass substrate.

接続構造体1では、硬化物層3の一方の縁部を、塗布開始時に塗布される異方性導電ペーストにより形成している。硬化物層3の他方の縁部を、塗布終了時に塗布される上記異方性導電ペーストにより形成している。硬化物層3の一方の縁部は、第1,第2の電極4b,2bの一方の縁部側に配置されている。硬化物層3の他方の縁部は、第1,第2の電極4b,2bの他方の縁部側に配置されている。   In the connection structure 1, one edge part of the hardened | cured material layer 3 is formed with the anisotropic electrically conductive paste apply | coated at the time of an application | coating start. The other edge part of the hardened | cured material layer 3 is formed with the said anisotropic conductive paste apply | coated at the time of completion | finish of application | coating. One edge of the cured product layer 3 is disposed on one edge of the first and second electrodes 4b and 2b. The other edge part of the hardened | cured material layer 3 is arrange | positioned at the other edge part side of the 1st, 2nd electrodes 4b and 2b.

また、図1(a)〜(c)に示すように、フレキシブルプリント基板4の外周側面よりも側方で、硬化物層3によるフィレットFが形成されている。第2の接続対象部材2の外周側面よりも側方で、硬化物層3によるフィレットFが形成されている。但し、フレキシブルプリント基板の外周側面よりも側方及び上記第2の接続対象部材の外周側面よりも側方の内の一方のみで、上記硬化物層によるフィレットが形成されていてもよい。   Further, as shown in FIGS. 1A to 1C, fillets F made of the cured product layer 3 are formed on the side of the outer peripheral side surface of the flexible printed circuit board 4. A fillet F made of the cured product layer 3 is formed on the side of the outer peripheral side surface of the second connection target member 2. However, the fillet by the said hardened | cured material layer may be formed only in one of the side from the outer peripheral side surface of the flexible printed circuit board and the outer peripheral side surface of the said 2nd connection object member.

図1(a)〜(c)に示すように、硬化物層3の一方の縁部及び他方の縁部と、硬化物層3の一方の縁部と他方の縁部との間の中央部とで、硬化物層3によるフィレットFを形成している。硬化物層3のフィレットFは第1の接続対象部材4又は第2の接続対象部材2の外周側面からはみ出している。硬化物層3の一方の縁部及び他方の縁部におけるフィレットFのフレキシブルプリント基板4又は第2の接続対象部材2の外周側面からのはみ出し距離Dは、硬化物層3の一方の縁部と他方の縁部との間の硬化物層3の中央部におけるフィレットFのフレキシブルプリント基板4又は第2の接続対象部材2の外周側面からのはみ出し距離Dよりも大きい。   As shown in FIGS. 1 (a) to 1 (c), one edge and the other edge of the cured product layer 3 and a central portion between the one edge and the other edge of the cured product layer 3. And the fillet F by the hardened | cured material layer 3 is formed. The fillet F of the cured product layer 3 protrudes from the outer peripheral side surface of the first connection target member 4 or the second connection target member 2. The protrusion distance D from the outer peripheral side surface of the flexible printed circuit board 4 or the second connection target member 2 of the fillet F at one edge and the other edge of the cured product layer 3 is equal to one edge of the cured product layer 3. It is larger than the protruding distance D from the outer peripheral side surface of the flexible printed circuit board 4 or the second connection target member 2 of the fillet F in the central portion of the cured product layer 3 between the other edge portion.

また、図2(a)及び(b)に示すように、フレキシブルプリント基板4は表面4aに、電子部品4cを有する。電子部品4cは、第1の電極4bが配置されている側と同じ表面4aに配置されている。フレキシブルプリント基板4に設けられた第1の電極4bと電子部品4cとは、同じ表面4aにおいて突出している。また、フレキシブルプリント基板4は第2の接続対象部材2と、電子部品4cが設けられていない領域において接続される。   As shown in FIGS. 2A and 2B, the flexible printed circuit board 4 has an electronic component 4c on the surface 4a. The electronic component 4c is disposed on the same surface 4a as the side on which the first electrode 4b is disposed. The first electrode 4b and the electronic component 4c provided on the flexible printed board 4 protrude on the same surface 4a. The flexible printed circuit board 4 is connected to the second connection target member 2 in an area where the electronic component 4c is not provided.

表面4aにおいて、電子部品4cの突出高さHcは第1の電極4bの突出高さHbよりも大きいことが好ましい。電子部品4cの突出高さHcは、好ましくは10μm以上、より好ましくは15μm以上、好ましくは50μm以下、より好ましくは30μm以下である。電子部品4cの突出高さHcは、第1の電極4bの突出高さHbの1倍を超えることが好ましい。電子部品4cの突出高さHcは、第1の電極4bの突出高さHbの10倍以上であることがより好ましく、20倍以上であることが更に好ましく、200倍以下であることが好ましく、100倍以下であることがより好ましい。突出高さHcが突出高さHbよりも大きくても、上記ディスペンサーを移動させながら、上記異方性導電ペーストを上記ディスペンサーから塗布することで、異方性導電材料層を効率的にかつ精度よく配置できる。   On the surface 4a, the protruding height Hc of the electronic component 4c is preferably larger than the protruding height Hb of the first electrode 4b. The protruding height Hc of the electronic component 4c is preferably 10 μm or more, more preferably 15 μm or more, preferably 50 μm or less, more preferably 30 μm or less. It is preferable that the protrusion height Hc of the electronic component 4c exceeds one time the protrusion height Hb of the first electrode 4b. The projecting height Hc of the electronic component 4c is more preferably 10 times or more of the projecting height Hb of the first electrode 4b, more preferably 20 times or more, and preferably 200 times or less, More preferably, it is 100 times or less. Even if the protrusion height Hc is larger than the protrusion height Hb, the anisotropic conductive material layer can be efficiently and accurately applied by applying the anisotropic conductive paste from the dispenser while moving the dispenser. Can be placed.

電子部品4cとしては、半導体チップ及びコネクタ等が挙げられる。電子部品4cは半導体チップであることが好ましい。   Examples of the electronic component 4c include a semiconductor chip and a connector. The electronic component 4c is preferably a semiconductor chip.

なお、図6(a),(b)に平面図及び断面図で示すように、第1の接続対象部材4にかえて、複数の第1の電極61b(第1の電極パターン)を表面61aに有し、かつ第1の電極61bよりも突出高さが大きい突出した電子部品61cを表面61aに有するフレキシブルプリント基板61を用いてもよい。   6A and 6B, as shown in a plan view and a cross-sectional view, a plurality of first electrodes 61b (first electrode patterns) are replaced with a surface 61a in place of the first connection target member 4. A flexible printed circuit board 61 having a protruding electronic component 61c on the surface 61a that has a protruding height larger than that of the first electrode 61b may be used.

接続構造体1は、以下のようにして得ることができる。ここでは、上記異方性導電ペーストとして、光硬化性成分と熱硬化性成分と導電性粒子5とを含む異方性導電ペーストを用いた場合の、接続構造体1の製造方法を具体的に説明する。すなわち、光の照射及び熱の付与により硬化可能な異方性導電ペーストを用いて、接続構造体1を製造する方法を説明する。   The connection structure 1 can be obtained as follows. Here, the manufacturing method of the connection structure 1 when the anisotropic conductive paste containing a photocurable component, a thermosetting component, and the conductive particles 5 is used as the anisotropic conductive paste is specifically described. explain. That is, a method of manufacturing the connection structure 1 using an anisotropic conductive paste that can be cured by light irradiation and heat application will be described.

先ず、図2(a)及び(b)に示すフレキシブルプリント基板4を用意する。すなわち、突出した第1の電極4bを表面4aに有し、かつ第1の電極4bよりも突出高さが大きい突出した電子部品4cを表面4aに有するフレキシブルプリント基板4を用意する。このフレキシブルプリント基板4を、第1の電極4b及び電子部品4cが設けられている側の表面4aが上側となるように配置する。   First, the flexible printed circuit board 4 shown in FIGS. 2A and 2B is prepared. That is, the flexible printed circuit board 4 is prepared which has the protruding first electrode 4b on the surface 4a and the protruding electronic component 4c having a protruding height larger than that of the first electrode 4b on the surface 4a. The flexible printed circuit board 4 is arranged such that the surface 4a on the side where the first electrode 4b and the electronic component 4c are provided is on the upper side.

図3(a1)は、塗布開始部分の領域A1における断面図である。図3(a2),(b)及び(c)は、塗布開始部分の領域A1と塗布終了部分の領域A2との間の塗布領域Bにおける断面図である。図3(a3)は、塗布終了部分の領域A2における断面図である。   FIG. 3A1 is a cross-sectional view in the area A1 of the application start portion. 3A2, 3B, and 3C are cross-sectional views in the application region B between the application start portion area A1 and the application end portion area A2. FIG. 3A3 is a cross-sectional view in the region A2 of the application end portion.

図3(a1)では、図2(a)に示すフレキシブルプリント基板におけるI−I線に沿って、該フレキシブルプリント基板に異方性導電ペーストを塗布した状態における断面図が示されている。図3(a2)では、図2(a)に示すフレキシブルプリント基板におけるII−II線に沿って、該フレキシブルプリント基板に異方性導電ペーストを塗布した状態における断面図が示されている。図3(a3)では、図2(a)に示すフレキシブルプリント基板におけるIII−III線に沿って、該フレキシブルプリント基板に異方性導電ペーストを塗布した状態における断面図が示されている。   FIG. 3A1 shows a cross-sectional view of the flexible printed board with an anisotropic conductive paste applied along the line II in the flexible printed board shown in FIG. FIG. 3A2 shows a cross-sectional view in a state where an anisotropic conductive paste is applied to the flexible printed board along the line II-II in the flexible printed board shown in FIG. FIG. 3A3 shows a cross-sectional view in the state in which the anisotropic conductive paste is applied to the flexible printed board along the line III-III in the flexible printed board shown in FIG.

図3(a1)〜(a3)に示すように、フレキシブルプリント基板4の表面4aに、光硬化性成分と熱硬化性成分と導電性粒子5とを含む異方性導電ペーストを用いて、該異方性導電ペーストを塗布して、フレキシブルプリント基板4の表面4aに異方性導電材料層3Aを配置する。第1の電極4b上に異方性導電材料層3Aを配置する。第1の電極4b上に、1つ又は複数の導電性粒子5が配置されていることが好ましい。塗布開始部部分の領域A1(図3(a1))及び塗布終了部分の領域A2(図3(a3))における上記異方性導電ペーストの塗布量は、塗布領域B(図3(a2))における上記異方性導電ペーストの塗布量よりも多い。   As shown in FIGS. 3 (a1) to (a3), on the surface 4a of the flexible printed board 4, an anisotropic conductive paste containing a photocurable component, a thermosetting component, and conductive particles 5 is used. An anisotropic conductive paste is applied to dispose the anisotropic conductive material layer 3 </ b> A on the surface 4 a of the flexible printed circuit board 4. An anisotropic conductive material layer 3A is disposed on the first electrode 4b. It is preferable that one or a plurality of conductive particles 5 are arranged on the first electrode 4b. The application amount of the anisotropic conductive paste in the region A1 (FIG. 3 (a1)) of the application start portion and the region A2 (FIG. 3 (a3)) of the application end portion is the application region B (FIG. 3 (a2)). More than the application amount of the anisotropic conductive paste in.

図2(a)及び図4の直線Xで示す位置でディスペンサーを移動させて、フレキシブルプリント基板4の表面4aに、上記異方性導電ペーストを塗布することで、図3(a1),図3(a2)及び図3(a3)に示す状態にすることができる。具体的には、図4に示すように、地点x1から地点x2にディスペンサーを移動させ、次に地点x2から地点x3にディスペンサーを移動させ、次に地点x3から地点x4にディスペンサーを移動させる。地点x1から地点x2に至る部分と地点x2から地点x3に至る最初の部分とが塗布開始部分の領域A1に相当し、地点x2から地点x3に至る最終の部分と地点x3から地点x4に至る部分とが塗布終了部分の領域A2に相当する。また、地点x2から地点x3に至る最初の部分と最終の部分とを除く部分が塗布領域Bに相当する。ここでは、塗布開始部分の領域A1及び塗布終了部分の領域A2の双方の塗布領域で、ディスペンサーの移動方向をV字状に150度変えている。   By moving the dispenser at a position indicated by a straight line X in FIGS. 2A and 4 and applying the anisotropic conductive paste to the surface 4a of the flexible printed circuit board 4, FIGS. The state shown in (a2) and FIG. 3 (a3) can be obtained. Specifically, as shown in FIG. 4, the dispenser is moved from point x1 to point x2, then the dispenser is moved from point x2 to point x3, and then the dispenser is moved from point x3 to point x4. The part from the point x1 to the point x2 and the first part from the point x2 to the point x3 correspond to the area A1 of the application start part, and the final part from the point x2 to the point x3 and the part from the point x3 to the point x4 Corresponds to the region A2 of the application end portion. Further, a portion excluding the first portion and the final portion from the point x2 to the point x3 corresponds to the application region B. Here, the movement direction of the dispenser is changed to a V shape by 150 degrees in both the application area of the application start area A1 and the application end area A2.

図7(a)〜(d)に示すように、上記ディスペンサーの移動方向は適宜変更可能である。図7(a)では、ディスペンサーの移動方向を90度変えている。図7(b)では、ディスペンサーの移動方向をU字状に180度変えている。図7(c)では、ディスペンサーの移動方向をジグザグ状に70度変えている。   As shown to Fig.7 (a)-(d), the moving direction of the said dispenser can be changed suitably. In FIG. 7A, the movement direction of the dispenser is changed by 90 degrees. In FIG. 7B, the movement direction of the dispenser is changed to a U shape by 180 degrees. In FIG. 7C, the movement direction of the dispenser is changed in a zigzag manner by 70 degrees.

また、図2(a)及び図4では、上記ディスペンサーの移動方向と直交する方向における第1の電極4bの中心部よりも縁部側にディスペンサーの位置をずらした状態で、第1の電極4b上でディスペンサーを移動させながら、上記異方性導電ペーストを上記ディスペンサーから塗布している。   2A and 4, the first electrode 4b is in a state where the position of the dispenser is shifted to the edge side from the center of the first electrode 4b in the direction orthogonal to the movement direction of the dispenser. The anisotropic conductive paste is applied from the dispenser while moving the dispenser.

図7(d)に示すように、上記ディスペンサーの移動方向と直交する方向における第1の電極4bの中心部に沿って、第1の電極4b上でディスペンサーを移動させながら、上記異方性導電ペーストを上記ディスペンサーから塗布してもよい。   As shown in FIG. 7 (d), while the dispenser is moved on the first electrode 4b along the central portion of the first electrode 4b in the direction orthogonal to the movement direction of the dispenser, the anisotropic conduction is performed. The paste may be applied from the dispenser.

第1の電極4bの長さ方向において、第1の電極4bの一方の縁部側から他方の縁部側にむけて、第1の電極4b上でディスペンサーを移動させている。従って、第1の電極4bの一方の縁部側に塗布開始部分の領域A1が位置し、第1の電極4bの他方の縁部側に塗布終了部分の領域A2が位置する。また、第1の電極4bの一方の縁部と他方の縁部との間に塗布領域Bが位置する。   In the length direction of the first electrode 4b, the dispenser is moved on the first electrode 4b from the one edge side to the other edge side of the first electrode 4b. Therefore, the region A1 of the application start portion is located on one edge side of the first electrode 4b, and the region A2 of the application end portion is located on the other edge side of the first electrode 4b. In addition, the application region B is located between one edge and the other edge of the first electrode 4b.

また、図2(a)及び図4の破線Yで囲まれた領域内に、上記異方性導電ペーストを塗布している。なお、フレキシブルプリント基板4と第2の接続対象部材2との接続時に、異方性導電材料層又はBステージ化された異方性導電材料層は破線Yで囲まれた領域外にも拡がる。   In addition, the anisotropic conductive paste is applied in a region surrounded by a broken line Y in FIGS. Note that, when the flexible printed circuit board 4 and the second connection target member 2 are connected, the anisotropic conductive material layer or the B-staged anisotropic conductive material layer extends beyond the region surrounded by the broken line Y.

次に、異方性導電材料層3Aに光を照射することにより、異方性導電材料層3Aの硬化を進行させる。異方性導電材料層3Aの硬化を進行させて、異方性導電材料層3AをBステージ化する。異方性導電材料層3AのBステージ化により、図3(b)に示すように、フレキシブルプリント基板4の表面4aに、Bステージ化された異方性導電材料層3Bを形成する。   Next, the anisotropic conductive material layer 3A is cured by irradiating the anisotropic conductive material layer 3A with light. By curing the anisotropic conductive material layer 3A, the anisotropic conductive material layer 3A is B-staged. By forming the anisotropic conductive material layer 3A into a B-stage, the B-staged anisotropic conductive material layer 3B is formed on the surface 4a of the flexible printed circuit board 4 as shown in FIG. 3B.

図5(a)及び(b)に、異方性導電材料層を配置する際の状態を側面図で示す。なお、図5(a)及び(b)では、第1の電極4b及び電子部品4cの図示は省略している。異方性導電材料層3Aを形成するために、図5(a)に示す塗布装置11が好適に用いられる。図5(a)では、ディスペンサー12の移動方向、並びに異方性導電ペーストの塗布方向は、右側から左側に向かう方向である。   5A and 5B are side views showing a state when the anisotropic conductive material layer is arranged. In FIGS. 5A and 5B, illustration of the first electrode 4b and the electronic component 4c is omitted. In order to form the anisotropic conductive material layer 3A, a coating apparatus 11 shown in FIG. 5A is preferably used. In FIG. 5A, the moving direction of the dispenser 12 and the application direction of the anisotropic conductive paste are directions from the right side to the left side.

塗布装置11は、フレキシブルプリント基板4の表面4aに、硬化性成分と導電性粒子5とを含む異方性導電ペーストを塗布するために用いられる。塗布装置11は、ディスペンサー12と、該ディスペンサー12に接続されている光照射装置13とを備える。ディスペンサー12は、異方性導電ペーストを内部に充填するためのシリンジ12aと、該シリンジ12aの外周面を把持している把持部12bとを備える。光照射装置13は、光照射装置本体13aと、光照射部13bとを備える。   The coating device 11 is used to apply an anisotropic conductive paste containing a curable component and conductive particles 5 to the surface 4 a of the flexible printed circuit board 4. The coating device 11 includes a dispenser 12 and a light irradiation device 13 connected to the dispenser 12. The dispenser 12 includes a syringe 12a for filling the inside with an anisotropic conductive paste, and a grip portion 12b that grips the outer peripheral surface of the syringe 12a. The light irradiation device 13 includes a light irradiation device main body 13a and a light irradiation unit 13b.

ディスペンサー12は、フレキシブルプリント基板4の表面4aに、上記異方性導電ペーストを塗布するためのディスペンサーである。光照射装置13は、フレキシブルプリント基板4の表面4aに、上記異方性導電ペーストを塗布して、該異方性導電ペーストに光を照射するための光照射装置である。   The dispenser 12 is a dispenser for applying the anisotropic conductive paste to the surface 4 a of the flexible printed board 4. The light irradiation device 13 is a light irradiation device for applying the anisotropic conductive paste to the surface 4a of the flexible printed circuit board 4 and irradiating the anisotropic conductive paste with light.

図5(a)に示すように、異方性導電ペーストを塗布する際には、塗布装置11を矢印Aの方向に移動させながら、フレキシブルプリント基板4の表面4aに、ディスペンサー12のシリンジ12aの先端12cから異方性導電ペーストを塗布し、異方性導電材料層3Aを形成する。   As shown in FIG. 5A, when applying the anisotropic conductive paste, the syringe 12a of the dispenser 12 is placed on the surface 4a of the flexible printed circuit board 4 while moving the coating device 11 in the direction of arrow A. An anisotropic conductive paste is applied from the tip 12c to form the anisotropic conductive material layer 3A.

図5(b)に示すように、光を照射する際には、ディスペンサー12に接続された光照射装置13の光照射部13bから、矢印Bで示すように異方性導電材料層3Aに光を照射する。ここでは、上記異方性導電ペーストを塗布しながら、ディスペンサー12に接続された光照射装置13の光照射部13bから、矢印Bで示すように異方性導電材料層3Aに光を照射している。   As shown in FIG. 5B, when irradiating light, light is irradiated to the anisotropic conductive material layer 3A from the light irradiation unit 13b of the light irradiation device 13 connected to the dispenser 12 as indicated by an arrow B. Irradiate. Here, while applying the anisotropic conductive paste, the anisotropic conductive material layer 3A is irradiated with light from the light irradiation unit 13b of the light irradiation device 13 connected to the dispenser 12 as indicated by an arrow B. Yes.

フレキシブルプリント基板4の表面4aに、異方性導電ペーストを塗布しながら、異方性導電材料層3Aに光を照射することが好ましい。さらに、フレキシブルプリント基板4の表面4aへの異方性導電ペーストの塗布と同時に、又は塗布の直後に、異方性導電材料層3Aに光を照射することも好ましい。塗布と光の照射とが上記のように行われた場合には、異方性導電材料層3A又はBステージ化された異方性導電材料層3Bの流動をより一層抑制できる。このため、フレキシブルプリント基板4と接続対象部材2との接続信頼性、及び第1,第2の電極4b,2b間の導通信頼性がより一層高くなる。光の照射までの時間を高精度に制御する観点からは、ディスペンサー12と光照射装置13とを移動させることが好ましく、ディスペンサー12と光照射装置13とを連動して移動させることが好ましく、ディスペンサー12と光照射装置13とを同じ速度で移動させることが好ましい。このように、ディスペンサー12と光照射装置13とを移動させながら、上記異方性導電ペーストを塗布し、異方性導電材料層3Aに光を照射することが好ましい。フレキシブルプリント基板4の表面4aに上記異方性導電ペーストを塗布してから光を照射するまでの時間は、0秒以上、好ましくは3秒以下、より好ましくは2秒以下である。ただし、塗布装置11を移動させずに、台31を矢印Aの逆方向に移動させてもよい。   It is preferable to irradiate the anisotropic conductive material layer 3 </ b> A with light while applying the anisotropic conductive paste to the surface 4 a of the flexible printed circuit board 4. Furthermore, it is also preferable to irradiate the anisotropic conductive material layer 3 </ b> A with light immediately after the application of the anisotropic conductive paste to the surface 4 a of the flexible printed board 4 or immediately after the application. When the application and the light irradiation are performed as described above, the flow of the anisotropic conductive material layer 3A or the B-staged anisotropic conductive material layer 3B can be further suppressed. For this reason, the connection reliability between the flexible printed circuit board 4 and the connection target member 2 and the conduction reliability between the first and second electrodes 4b and 2b are further enhanced. From the viewpoint of controlling the time until light irradiation with high accuracy, it is preferable to move the dispenser 12 and the light irradiation device 13, and it is preferable to move the dispenser 12 and the light irradiation device 13 in conjunction with each other. 12 and the light irradiation device 13 are preferably moved at the same speed. As described above, it is preferable to apply the anisotropic conductive paste while moving the dispenser 12 and the light irradiation device 13 to irradiate the anisotropic conductive material layer 3A with light. The time from the application of the anisotropic conductive paste to the surface 4a of the flexible printed board 4 to the irradiation with light is 0 second or more, preferably 3 seconds or less, more preferably 2 seconds or less. However, the table 31 may be moved in the direction opposite to the arrow A without moving the coating apparatus 11.

塗布装置11では、把持部12bと光照射装置本体13aとが接続されていることによって、ディスペンサー12と光照射装置13とが接続されている。従って、ディスペンサー12と光照射装置13とを連動して移動させることができ、更にディスペンサー12と光照射装置13とを同じ速度で移動させることができる。さらに、ディスペンサー12と光照射装置13との距離を小さくすることができ、すなわち、ディスペンサー12の吐出部と、光照射部13bとの距離を小さくすることができる。この結果、ディスペンサー12により塗布された異方性導電材料層3Aに速やかに光を照射することができる。なお、シリンジ12aと光照射装置本体13aとが直接接続されていてもよい。   In the coating device 11, the dispenser 12 and the light irradiation device 13 are connected by connecting the grip portion 12b and the light irradiation device main body 13a. Accordingly, the dispenser 12 and the light irradiation device 13 can be moved in conjunction with each other, and the dispenser 12 and the light irradiation device 13 can be moved at the same speed. Furthermore, the distance between the dispenser 12 and the light irradiation device 13 can be reduced, that is, the distance between the discharge part of the dispenser 12 and the light irradiation part 13b can be reduced. As a result, the anisotropic conductive material layer 3A applied by the dispenser 12 can be quickly irradiated with light. In addition, the syringe 12a and the light irradiation apparatus main body 13a may be directly connected.

異方性導電材料層3Aに光を照射するために、ディスペンサー12と、該ディスペンサー12に接続されていない光照射装置とを用いてもよい。ディスペンサー12と、該ディスペンサー12に接続されていない光照射装置とを用いる場合には、例えば、フレキシブルプリント基板4の上方に光照射装置を配置する。次に、フレキシブルプリント基板4と光照射装置との間においてディスペンサー12を矢印Aの方向に移動させながら、フレキシブルプリント基板4の表面4aに、シリンジ12aから上記異方性導電ペーストを塗布し、異方性導電材料層3Aを形成する。次に、上記異方性導電ペーストの塗布が終了した後、フレキシブルプリント基板4の上方に配置された光照射装置の光照射部から、異方性導電材料層3Aに光を照射する。光の照射は、例えば異方性導電ペーストの塗布と同時又は塗布の直後に行われる。   In order to irradiate light to the anisotropic conductive material layer 3 </ b> A, a dispenser 12 and a light irradiation device that is not connected to the dispenser 12 may be used. When using the dispenser 12 and the light irradiation device that is not connected to the dispenser 12, for example, the light irradiation device is disposed above the flexible printed circuit board 4. Next, the anisotropic conductive paste is applied from the syringe 12a to the surface 4a of the flexible printed circuit board 4 while moving the dispenser 12 in the direction of arrow A between the flexible printed circuit board 4 and the light irradiation device. The isotropic conductive material layer 3A is formed. Next, after the application of the anisotropic conductive paste is completed, the anisotropic conductive material layer 3 </ b> A is irradiated with light from the light irradiation unit of the light irradiation device disposed above the flexible printed circuit board 4. The light irradiation is performed, for example, simultaneously with the application of the anisotropic conductive paste or immediately after the application.

光の照射により異方性導電材料層3AをBステージ化させて、硬化を適度に進行させるための光照射強度は、例えば、好ましくは0.1〜10000mW/cm程度である。また、異方性導電材料層3Aの硬化を適度に進行させるための光の照射エネルギーは、好ましくは50mJ/cm以上、より好ましくは100mJ/cm以上、好ましくは100000mJ/cm以下、より好ましくは50000mJ/cm以下である。 The light irradiation intensity for causing the anisotropic conductive material layer 3A to be B-staged by light irradiation and allowing the curing to proceed appropriately is, for example, preferably about 0.1 to 10,000 mW / cm 2 . Moreover, the light irradiation energy for advancing moderately curing the anisotropic conductive material layer 3A is preferably 50 mJ / cm 2 or more, more preferably 100 mJ / cm 2 or more, preferably 100000mJ / cm 2 or less, more Preferably it is 50000 mJ / cm 2 or less.

光を照射する際に用いる光源は特に限定されない。該光源としては、例えば、波長420nm以下に充分な発光分布を有する光源等が挙げられる。また、光源の具体例としては、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ、及びLEDランプ等が挙げられる。   The light source used when irradiating light is not specifically limited. Examples of the light source include a light source having a sufficient light emission distribution at a wavelength of 420 nm or less. Specific examples of the light source include, for example, a low pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a chemical lamp, a black light lamp, a microwave excitation mercury lamp, a metal halide lamp, and an LED lamp.

なお、光の照射により異方性導電材料層3AをBステージ化せずに、熱の付与により異方性導電材料層3AをBステージ化してもよい。異方性導電材料層3Aに熱を付与することにより硬化を進行させて、異方性導電材料層3AをBステージ化する場合には、異方性導電材料層3Aを適度にBステージ化させるための加熱温度は好ましくは80℃以上、好ましくは150℃以下、より好ましくは120℃以下である。光の照射ではなく熱の付与により異方性導電材料層3AをBステージ化した場合でも、上述したようにディスペンサー12から上記異方性導電ペーストを塗布していれば、第1,第2の電極4b,2b間の位置ずれを抑制できる。   Note that the anisotropic conductive material layer 3A may be B-staged by applying heat without the anisotropic conductive material layer 3A being B-staged by light irradiation. When the anisotropic conductive material layer 3A is B-staged by applying heat to the anisotropic conductive material layer 3A to cure the anisotropic conductive material layer 3A, the anisotropic conductive material layer 3A is appropriately B-staged. The heating temperature for this is preferably 80 ° C or higher, preferably 150 ° C or lower, more preferably 120 ° C or lower. Even when the anisotropic conductive material layer 3A is B-staged by applying heat instead of irradiating with light, as long as the anisotropic conductive paste is applied from the dispenser 12 as described above, the first and second The positional deviation between the electrodes 4b and 2b can be suppressed.

次に、図3(c)に示すように、Bステージ化された異方性導電材料層3Bの上面3aに、第2の接続対象部材2を積層する。フレキシブルプリント基板4の表面4aの第1の電極4bと、第2の接続対象部材2の表面2aの第2の電極2bとが対向するように、第2の接続対象部材2を積層する。なお、第2の接続対象部材2の積層の後に、異方性導電材料層3AをBステージ化させるために光を照射してもよく、熱を付与してもよい。但し、第2の接続対象部材2の積層の後に、異方性導電材料層3AをBステージ化させるために熱を付与又は光を照射することが好ましい。   Next, as shown in FIG. 3C, the second connection target member 2 is laminated on the upper surface 3a of the B-staged anisotropic conductive material layer 3B. The second connection target member 2 is laminated so that the first electrode 4b on the surface 4a of the flexible printed circuit board 4 and the second electrode 2b on the surface 2a of the second connection target member 2 face each other. In addition, after lamination | stacking of the 2nd connection object member 2, in order to make anisotropic conductive material layer 3A into B stage, you may irradiate light and may provide heat. However, after the second connection target member 2 is stacked, it is preferable to apply heat or irradiate light in order to make the anisotropic conductive material layer 3A into a B-stage.

さらに、第2の接続対象部材2の積層の際に、Bステージ化された異方性導電材料層3Bを加熱して本硬化させ、硬化物層3を形成する。ただし、第2の接続対象部材2の積層の前に、異方性導電材料層3Bを加熱してもよい。但し、第2の接続対象部材2の積層の後に、異方性導電材料層3Bを加熱して本硬化させることが好ましい。   Further, when the second connection target member 2 is laminated, the B-staged anisotropic conductive material layer 3B is heated and fully cured to form the cured product layer 3. However, the anisotropic conductive material layer 3B may be heated before the second connection target member 2 is laminated. However, it is preferable that the anisotropic conductive material layer 3B is heated and fully cured after the second connection target member 2 is laminated.

熱の付与により異方性導電材料層3Bを硬化させるために、異方性導電材料層3Bを充分に硬化させるための加熱温度は好ましくは160℃以上、好ましくは250℃以下、より好ましくは200℃以下である。   In order to cure the anisotropic conductive material layer 3B by applying heat, the heating temperature for sufficiently curing the anisotropic conductive material layer 3B is preferably 160 ° C or higher, preferably 250 ° C or lower, more preferably 200. It is below ℃.

なお、異方性導電材料層3Aに熱を付与又は光を照射せずに、異方性導電材料層3AをBステージ化しない場合には、異方性導電材料層3Aの上面3aに第2の接続対象部材2を積層し、異方性導電材料層3Aを加熱して、本硬化させればよい。   When the anisotropic conductive material layer 3A is not B-staged without applying heat or irradiating light to the anisotropic conductive material layer 3A, the second surface is formed on the upper surface 3a of the anisotropic conductive material layer 3A. The connection target member 2 may be laminated, and the anisotropic conductive material layer 3A may be heated to be fully cured.

異方性導電材料層3Bを硬化させる際に、加圧することが好ましい。加圧によって第1の電極4bと第2の電極2bとで導電性粒子5を圧縮することにより、第1,第2の電極4b,2bと導電性粒子5との接触面積を大きくすることができる。このため、導通信頼性を高めることができる。   It is preferable to apply pressure when the anisotropic conductive material layer 3B is cured. By compressing the conductive particles 5 with the first electrode 4b and the second electrode 2b by pressurization, the contact area between the first and second electrodes 4b, 2b and the conductive particles 5 can be increased. it can. For this reason, conduction reliability can be improved.

異方性導電材料層3Bを硬化させることにより、フレキシブルプリント基板4と第2の接続対象部材2とが、硬化物層3を介して接続される。また、第1の電極4bと第2の電極2bとが、導電性粒子5を介して電気的に接続される。このようにして、図1に示す接続構造体1を得ることができる。本実施形態では、光硬化と熱硬化とが併用されているため、異方性導電ペーストを短時間で硬化させることができる。   By curing the anisotropic conductive material layer 3 </ b> B, the flexible printed circuit board 4 and the second connection target member 2 are connected via the cured product layer 3. In addition, the first electrode 4 b and the second electrode 2 b are electrically connected through the conductive particles 5. In this way, the connection structure 1 shown in FIG. 1 can be obtained. In this embodiment, since photocuring and thermosetting are used together, the anisotropic conductive paste can be cured in a short time.

また、接続構造体の作製時に、上記異方性導電ペーストを熱の付与又は光の照射によりBステージ化した後に、本硬化させることで、フレキシブルプリント基板上に配置された異方性ペースト層に含まれている導電性粒子が、硬化段階で大きく流動し難くなる。従って、導電性粒子が所定の領域に配置されやすくなる。具体的には、接続されるべき上下の電極間に導電性粒子を配置することができ、接続されてはならない隣接する電極間が複数の導電性粒子を介して電気的に接続されるのを抑制できる。このため、接続構造体における電極間の導通信頼性を高めることができる。   In addition, when the connection structure is produced, the anisotropic conductive paste is made into a B-stage by applying heat or irradiating light, and then cured to form an anisotropic paste layer disposed on the flexible printed circuit board. The contained conductive particles are difficult to flow greatly in the curing stage. Accordingly, the conductive particles are easily arranged in a predetermined region. Specifically, conductive particles can be arranged between upper and lower electrodes to be connected, and adjacent electrodes that should not be connected are electrically connected via a plurality of conductive particles. Can be suppressed. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between the electrodes in a connection structure can be improved.

また、接続構造体の作製時に、上記異方性導電ペーストを熱の付与又は光の照射によりBステージ化する場合には、Bステージ化される前の異方性導電材料層の表面形状の影響により、第1,第2の電極の位置ずれが生じやすい傾向がある。例えば、Bステージ化された異方性導電材料層では、Bステージ化により粘度がある程度上昇しているため、例えば、Bステージ化された異方性導電材料層の上面に大きな凸部又は凹部があると、得られる接続構造体において、第1,第2の接続対象部材における電極間の位置ずれが生じやすい傾向がある。   In addition, when the anisotropic conductive paste is made into a B stage by applying heat or irradiating light during the production of the connection structure, the influence of the surface shape of the anisotropic conductive material layer before the B stage is made. Therefore, the first and second electrodes tend to be misaligned. For example, in a B-staged anisotropic conductive material layer, the viscosity has increased to some extent as a result of B-stage formation. For example, a large convex or concave portion is formed on the upper surface of the B-staged anisotropic conductive material layer. If it exists, in the connection structure obtained, there exists a tendency for the position shift between the electrodes in the 1st, 2nd connection object member to arise easily.

これに対して、異方性導電材料層3Aの上面3aの凹凸を少なくしたり、凹凸を無くして平滑にしたりすることによって、Bステージ化をしたとしても、第1,第2の接続対象部材における電極間の位置ずれを効果的に抑制できる。   On the other hand, even if the B-stage is achieved by reducing the unevenness of the upper surface 3a of the anisotropic conductive material layer 3A or smoothing it by eliminating the unevenness, the first and second connection target members The positional deviation between the electrodes can be effectively suppressed.

また、接続構造体の作製時に、上記異方性導電ペーストを熱の付与又は光の照射によりBステージ化しなかった場合には、Bステージ化前の異方性導電材料層の粘度が低すぎて、得られる接続構造体において、第1,第2の電極間の位置ずれが生じやすい傾向がある。これに対して、接続構造体の作製時に、上記異方性導電ペーストを熱の付与又は光の照射によりBステージ化することにより、第1,第2の接続対象部材における電極間の位置ずれを効果的に抑制できる。   In addition, when the anisotropic conductive paste is not B-staged by applying heat or irradiating light when the connection structure is produced, the viscosity of the anisotropic conductive material layer before B-stage is too low. In the obtained connection structure, there is a tendency that positional displacement between the first and second electrodes is likely to occur. On the other hand, when the connection structure is produced, the anisotropic conductive paste is made into a B-stage by applying heat or irradiating light, so that the positional deviation between the electrodes in the first and second connection target members is reduced. It can be effectively suppressed.

上記異方性導電ペーストは、硬化性成分と導電性粒子とを含む。該硬化性成分は熱硬化性成分を含むことが好ましい。該硬化性成分は光硬化性成分を含んでいてもよい。上記熱硬化性成分は、熱硬化性化合物と熱硬化剤とを含有することが好ましい。また、上記異方性導電ペーストは、熱硬化性成分に加えて、光硬化性成分をさらに含むことが好ましい。該光硬化性成分は、光硬化性化合物と光硬化開始剤とを含むことが好ましい。上記異方性導電ペーストは、硬化性化合物として、熱硬化性化合物を含み、光硬化性化合物をさらに含むことが好ましい。上記熱硬化性化合物は、エポキシ基又はチイラン基を有する化合物であることが好ましい。上記光硬化性化合物は(メタ)アクリロイル基を有する化合物であることが好ましい。   The anisotropic conductive paste includes a curable component and conductive particles. The curable component preferably includes a thermosetting component. The curable component may contain a photocurable component. The thermosetting component preferably contains a thermosetting compound and a thermosetting agent. The anisotropic conductive paste preferably further includes a photocurable component in addition to the thermosetting component. The photocurable component preferably contains a photocurable compound and a photocuring initiator. The anisotropic conductive paste preferably contains a thermosetting compound as a curable compound and further contains a photocurable compound. The thermosetting compound is preferably a compound having an epoxy group or a thiirane group. The photocurable compound is preferably a compound having a (meth) acryloyl group.

以下、上記異方性導電ペーストに含まれる各成分、及び含まれることが好ましい各成分の詳細を説明する。   Hereinafter, each component contained in the anisotropic conductive paste and details of each component preferably contained will be described.

[熱硬化性化合物]
上記熱硬化性化合物は熱硬化性を有する。上記熱硬化性化合物は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
[Thermosetting compound]
The thermosetting compound has thermosetting properties. As for the said thermosetting compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記熱硬化性化合物としては、オキセタン化合物、エポキシ化合物、エピスルフィド化合物、(メタ)アクリル化合物、フェノール化合物、アミノ化合物、不飽和ポリエステル化合物、ポリウレタン化合物、シリコーン化合物及びポリイミド化合物等が挙げられる。上記熱硬化性化合物は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   Examples of the thermosetting compound include oxetane compounds, epoxy compounds, episulfide compounds, (meth) acrylic compounds, phenolic compounds, amino compounds, unsaturated polyester compounds, polyurethane compounds, silicone compounds, and polyimide compounds. As for the said thermosetting compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記異方性導電ペーストの硬化を容易に制御したり、接続構造体における導通信頼性をより一層高めたりする観点からは、上記熱硬化性化合物は、エポキシ基又はチイラン基を有する熱硬化性化合物を含むことが好ましく、チイラン基を有する熱硬化性化合物を含むことがより好ましい。エポキシ基を有する熱硬化性化合物は、エポキシ化合物である。チイラン基を有する熱硬化性化合物は、エピスルフィド化合物である。異方性導電ペーストの硬化性を高める観点からは、上記熱硬化性化合物100重量%中、上記エポキシ基又はチイラン基を有する化合物の含有量は、好ましくは10重量%以上、より好ましくは20重量%以上、100重量%以下である。上記熱硬化性化合物の全量が上記エポキシ基又はチイラン基を有する化合物であってもよい。   From the viewpoint of easily controlling the curing of the anisotropic conductive paste or further improving the conduction reliability in the connection structure, the thermosetting compound is a thermosetting compound having an epoxy group or a thiirane group. It is preferable that a thermosetting compound having a thiirane group is included. The thermosetting compound having an epoxy group is an epoxy compound. The thermosetting compound having a thiirane group is an episulfide compound. From the viewpoint of enhancing the curability of the anisotropic conductive paste, the content of the compound having an epoxy group or thiirane group is preferably 10% by weight or more, more preferably 20% by weight in 100% by weight of the thermosetting compound. % Or more and 100% by weight or less. The total amount of the thermosetting compound may be a compound having the epoxy group or thiirane group.

上記エピスルフィド化合物は、エポキシ基ではなくチイラン基を有するので、低温で速やかに硬化させることができる。すなわち、チイラン基を有するエピスルフィド化合物は、エポキシ基を有するエポキシ化合物と比較して、チイラン基に由来してより一層低い温度で硬化可能である。   Since the episulfide compound has a thiirane group instead of an epoxy group, it can be quickly cured at a low temperature. That is, the episulfide compound having a thiirane group can be cured at a lower temperature derived from the thiirane group as compared with the epoxy compound having an epoxy group.

上記エポキシ基又はチイラン基を有する熱硬化性化合物は、芳香族環を有することが好ましい。上記芳香族環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、テトラセン環、クリセン環、トリフェニレン環、テトラフェン環、ピレン環、ペンタセン環、ピセン環及びペリレン環等が挙げられる。なかでも、上記芳香族環は、ベンゼン環、ナフタレン環又はアントラセン環であることが好ましく、ベンゼン環又はナフタレン環であることがより好ましい。また、ナフタレン環は、平面構造を有するためにより一層速やかに硬化させることができるので好ましい。   The thermosetting compound having an epoxy group or thiirane group preferably has an aromatic ring. Examples of the aromatic ring include a benzene ring, naphthalene ring, anthracene ring, phenanthrene ring, tetracene ring, chrysene ring, triphenylene ring, tetraphen ring, pyrene ring, pentacene ring, picene ring, and perylene ring. Especially, it is preferable that the said aromatic ring is a benzene ring, a naphthalene ring, or an anthracene ring, and it is more preferable that it is a benzene ring or a naphthalene ring. A naphthalene ring is preferred because it has a planar structure and can be cured more rapidly.

[光硬化性化合物]
光の照射によって硬化するように、上記異方性導電ペーストは、光硬化性化合物を含むことが好ましい。光の照射により光硬化性化合物を半硬化(Bステージ化)させ、異方性導電ペーストの流動性を低下させることができる。
[Photocurable compound]
The anisotropic conductive paste preferably contains a photocurable compound so as to be cured by irradiation with light. The photocurable compound can be semi-cured (B-staged) by irradiation with light to reduce the fluidity of the anisotropic conductive paste.

上記光硬化性化合物としては特に限定されず、(メタ)アクリロイル基を有する光硬化性化合物及び環状エーテル基を有する光硬化性化合物等が挙げられる。   The photocurable compound is not particularly limited, and examples thereof include a photocurable compound having a (meth) acryloyl group and a photocurable compound having a cyclic ether group.

上記光硬化性化合物は、(メタ)アクリロイル基を有する光硬化性化合物であることが好ましい。(メタ)アクリロイル基を有する光硬化性化合物の使用により、接続構造体の導通信頼性をより一層高めることができる。得られる接続構造体の導通信頼性を効果的に高める観点からは、上記光硬化性化合物は、(メタ)アクリロイル基を1個又は2個有することが好ましい。   The photocurable compound is preferably a photocurable compound having a (meth) acryloyl group. By using the photocurable compound having a (meth) acryloyl group, the conduction reliability of the connection structure can be further enhanced. From the viewpoint of effectively increasing the conduction reliability of the resulting connection structure, the photocurable compound preferably has one or two (meth) acryloyl groups.

上記(メタ)アクリロイル基を有する光硬化性化合物としては、エポキシ基及びチイラン基を有さず、かつ(メタ)アクリロイル基を有する光硬化性化合物、及びエポキシ基又はチイラン基を有し、かつ(メタ)アクリロイル基を有する光硬化性化合物が挙げられる。   The photocurable compound having the (meth) acryloyl group has no epoxy group and thiirane group, and has a (meth) acryloyl group, and has an epoxy group or thiirane group, and ( The photocurable compound which has a (meth) acryloyl group is mentioned.

上記(メタ)アクリロイル基を有する光硬化性化合物として、(メタ)アクリル酸と水酸基を有する化合物とを反応させて得られるエステル化合物、(メタ)アクリル酸とエポキシ化合物とを反応させて得られるエポキシ(メタ)アクリレート、又はイソシアネートに水酸基を有する(メタ)アクリル酸誘導体を反応させて得られるウレタン(メタ)アクリレート等が好適に用いられる。上記「(メタ)アクリロイル基」は、アクリロイル基とメタクリロイル基とを示す。上記「(メタ)アクリル」は、アクリルとメタクリルとを示す。上記「(メタ)アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートとを示す。   As a photocurable compound having the above (meth) acryloyl group, an ester compound obtained by reacting a compound having (meth) acrylic acid and a hydroxyl group, an epoxy obtained by reacting (meth) acrylic acid and an epoxy compound. (Meth) acrylate or urethane (meth) acrylate obtained by reacting a (meth) acrylic acid derivative having a hydroxyl group with isocyanate is preferably used. The “(meth) acryloyl group” refers to an acryloyl group and a methacryloyl group. The “(meth) acryl” refers to acryl and methacryl. The “(meth) acrylate” refers to acrylate and methacrylate.

上記(メタ)アクリル酸と水酸基を有する化合物とを反応させて得られるエステル化合物は特に限定されない。該エステル化合物として、単官能のエステル化合物、2官能のエステル化合物及び3官能以上のエステル化合物のいずれも用いることができる。   The ester compound obtained by making the said (meth) acrylic acid and the compound which has a hydroxyl group react is not specifically limited. As the ester compound, any of a monofunctional ester compound, a bifunctional ester compound, and a trifunctional or higher functional ester compound can be used.

上記エポキシ基又はチイラン基を有し、かつ(メタ)アクリロイル基を有する光硬化性化合物は、エポキシ基を2個以上又はチイラン基を2個以上有する化合物の一部のエポキシ基又は一部のチイラン基を、(メタ)アクリロイル基に変換することにより得られた光硬化性化合物であることが好ましい。このような光硬化性化合物は、部分(メタ)アクリレート化エポキシ化合物又は部分(メタ)アクリレート化エピスルフィド化合物である。   The photocurable compound having the epoxy group or thiirane group and having a (meth) acryloyl group is a part of the epoxy group or part of thiirane of the compound having two or more epoxy groups or two or more thiirane groups. It is preferable that it is a photocurable compound obtained by converting a group into a (meth) acryloyl group. Such a photocurable compound is a partially (meth) acrylated epoxy compound or a partially (meth) acrylated episulfide compound.

光硬化性化合物は、エポキシ基を2個以上又はチイラン基を2個以上有する化合物と、(メタ)アクリル酸との反応物であることが好ましい。この反応物は、エポキシ基を2個以上又はチイラン基を2個以上有する化合物と(メタ)アクリル酸とを、常法に従って塩基性触媒の存在下で反応することにより得られる。エポキシ基又はチイラン基の20%以上が(メタ)アクリロイル基に変換(転化率)されていることが好ましい。該転化率は、より好ましくは30%以上、好ましくは80%以下、より好ましくは70%以下である。エポキシ基又はチイラン基の40%以上、60%以下が(メタ)アクリロイル基に変換されていることが最も好ましい。   The photocurable compound is preferably a reaction product of a compound having two or more epoxy groups or two or more thiirane groups and (meth) acrylic acid. This reaction product is obtained by reacting a compound having two or more epoxy groups or two or more thiirane groups with (meth) acrylic acid in the presence of a basic catalyst according to a conventional method. It is preferable that 20% or more of the epoxy group or thiirane group is converted (converted) to a (meth) acryloyl group. The conversion is more preferably 30% or more, preferably 80% or less, more preferably 70% or less. Most preferably, 40% or more and 60% or less of the epoxy group or thiirane group is converted to a (meth) acryloyl group.

上記部分(メタ)アクリレート化エポキシ化合物としては、ビスフェノール型エポキシ(メタ)アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート、カルボン酸無水物変性エポキシ(メタ)アクリレート、及びフェノールノボラック型エポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Examples of the partially (meth) acrylated epoxy compound include bisphenol type epoxy (meth) acrylate, cresol novolac type epoxy (meth) acrylate, carboxylic acid anhydride-modified epoxy (meth) acrylate, and phenol novolac type epoxy (meth) acrylate. Is mentioned.

上記光硬化性化合物として、エポキシ基を2個以上又はチイラン基を2個以上有するフェノキシ樹脂の一部のエポキシ基又は一部のチイラン基を(メタ)アクリロイル基に変換した変性フェノキシ樹脂を用いてもよい。すなわち、エポキシ基又はチイラン基と(メタ)アクリロイル基とを有する変性フェノキシ樹脂を用いてもよい。   As the photocurable compound, a modified phenoxy resin obtained by converting a part of epoxy groups or a part of thiirane groups of a phenoxy resin having two or more epoxy groups or two or more thiirane groups into (meth) acryloyl groups is used. Also good. That is, a modified phenoxy resin having an epoxy group or thiirane group and a (meth) acryloyl group may be used.

また、上記光硬化性化合物は、架橋性化合物であってもよく、非架橋性化合物であってもよい。   Further, the photocurable compound may be a crosslinkable compound or a non-crosslinkable compound.

上記架橋性化合物の具体例としては、例えば、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールジ(メタ)アクリレート、グリセリンメタクリレートアクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、(メタ)アクリル酸アリル、(メタ)アクリル酸ビニル、ジビニルベンゼン、ポリエステル(メタ)アクリレート、及びウレタン(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the crosslinkable compound include 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, (poly ) Ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol di (meth) acrylate, glycerol methacrylate acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, tri Examples include methylolpropane trimethacrylate, allyl (meth) acrylate, vinyl (meth) acrylate, divinylbenzene, polyester (meth) acrylate, and urethane (meth) acrylate.

上記非架橋性化合物の具体例としては、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n−オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレート及びテトラデシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Specific examples of the non-crosslinkable compound include ethyl (meth) acrylate, n-propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) ) Acrylate, pentyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (Meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, tridecyl (meth) acrylate, tetradecyl (meth) acrylate, and the like.

光硬化性化合物を用いる場合には、光硬化性化合物と熱硬化性化合物との配合比は、光硬化性化合物と熱硬化性化合物との種類に応じて適宜調整される。上記異方性導電ペーストは、光硬化性化合物と熱硬化性化合物とを重量比で、1:99〜90:10で含むことが好ましく、5:95〜70:30で含むことがより好ましく、10:90〜50:50で含むことが更に好ましい。上記異方性導電ペーストは、光硬化性化合物と熱硬化性化合物とを重量比で、1:99〜50:50で含むことが特に好ましい。   When using a photocurable compound, the compounding ratio of a photocurable compound and a thermosetting compound is suitably adjusted according to the kind of a photocurable compound and a thermosetting compound. The anisotropic conductive paste preferably contains a photocurable compound and a thermosetting compound in a weight ratio of 1:99 to 90:10, more preferably 5:95 to 70:30, More preferably, it is included at 10:90 to 50:50. The anisotropic conductive paste particularly preferably contains a photocurable compound and a thermosetting compound in a weight ratio of 1:99 to 50:50.

(熱硬化剤)
上記異方性導電ペーストは、熱硬化剤を含むことが好ましい。上記熱硬化剤には、熱ラジカル開始剤が含まれる。熱硬化剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Thermosetting agent)
The anisotropic conductive paste preferably contains a thermosetting agent. The thermosetting agent includes a thermal radical initiator. As for a thermosetting agent, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記熱硬化剤は特に限定されない。上記熱硬化剤としては、イミダゾール熱硬化剤、アミン熱硬化剤、フェノール熱硬化剤、ポリチオール熱硬化剤、酸無水物及び熱ラジカル開始剤等が挙げられる。なかでも、異方性導電ペーストを低温でより一層速やかに硬化させることができるので、イミダゾール熱硬化剤、ポリチオール熱硬化剤又はアミン熱硬化剤が好ましい。また、異方性導電ペーストの保存安定性を高めることができるので、潜在性の熱硬化剤が好ましい。該潜在性の熱硬化剤は、潜在性イミダゾール熱硬化剤、潜在性ポリチオール熱硬化剤又は潜在性アミン熱硬化剤であることが好ましい。なお、上記熱硬化剤は、ポリウレタン樹脂又はポリエステル樹脂等の高分子物質で被覆されていてもよい。   The said thermosetting agent is not specifically limited. Examples of the thermosetting agent include an imidazole thermosetting agent, an amine thermosetting agent, a phenol thermosetting agent, a polythiol thermosetting agent, an acid anhydride, and a thermal radical initiator. Especially, since an anisotropic electrically conductive paste can be hardened more rapidly at low temperature, an imidazole thermosetting agent, a polythiol thermosetting agent, or an amine thermosetting agent is preferable. Moreover, since the storage stability of anisotropic conductive paste can be improved, a latent thermosetting agent is preferable. The latent thermosetting agent is preferably a latent imidazole thermosetting agent, a latent polythiol thermosetting agent, or a latent amine thermosetting agent. In addition, the said thermosetting agent may be coat | covered with polymeric substances, such as a polyurethane resin or a polyester resin.

上記イミダゾール熱硬化剤としては、特に限定されないが、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン及び2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物等が挙げられる。   The imidazole thermosetting agent is not particularly limited, but 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2 , 4-Diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-triazine and 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s -A triazine isocyanuric acid adduct etc. are mentioned.

上記ポリチオール熱硬化剤としては、特に限定されないが、トリメチロールプロパン トリス−3−メルカプトプロピオネート、ペンタエリスリトール テトラキス−3−メルカプトプロピオネート及びジペンタエリスリトール ヘキサ−3−メルカプトプロピオネート等が挙げられる。   The polythiol thermosetting agent is not particularly limited, and examples thereof include trimethylolpropane tris-3-mercaptopropionate, pentaerythritol tetrakis-3-mercaptopropionate, and dipentaerythritol hexa-3-mercaptopropionate. It is done.

上記アミン熱硬化剤としては、特に限定されないが、ヘキサメチレンジアミン、オクタメチレンジアミン、デカメチレンジアミン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)2,4,8,10−テトラスピロ[5.5]ウンデカン、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、メタフェニレンジアミン及びジアミノジフェニルスルホン等が挙げられる。   Although it does not specifically limit as said amine thermosetting agent, Hexamethylene diamine, octamethylene diamine, decamethylene diamine, 3,9-bis (3-aminopropyl) 2,4,8,10-tetraspiro [5.5] Examples include undecane, bis (4-aminocyclohexyl) methane, metaphenylenediamine, and diaminodiphenylsulfone.

上記熱ラジカル開始剤としては、特に限定されず、アゾ化合物及び過酸化物等が挙げられる。上記過酸化物としては、ジアシルパーオキサイド化合物、パーオキシエステル化合物、ハイドロパーオキサイド化合物、パーオキシジカーボネート化合物、パーオキシケタール化合物、ジアルキルパーオキサイド化合物、及びケトンパーオキサイド化合物等が挙げられる。   The thermal radical initiator is not particularly limited, and examples thereof include azo compounds and peroxides. Examples of the peroxide include diacyl peroxide compounds, peroxyester compounds, hydroperoxide compounds, peroxydicarbonate compounds, peroxyketal compounds, dialkyl peroxide compounds, and ketone peroxide compounds.

上記アゾ化合物としては、例えば、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、1,1’−アゾビス−1−シクロヘキサンカルボニトリル、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレート、ジメチル−2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオネート)、ジメチル−1,1’−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボキシレート)、4,4’−アゾビス(4−シアノ吉草酸)、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)二塩酸塩、2−tert−ブチルアゾ−2−シアノプロパン、2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミド)二水和物、及び2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペンタン)等が挙げられる。   Examples of the azo compound include 2,2′-azobisisobutyronitrile, 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile), and 2,2′-azobis (2,4-dimethylvaleronitrile). 1,1′-azobis-1-cyclohexanecarbonitrile, dimethyl-2,2′-azobisisobutyrate, dimethyl-2,2′-azobis (2-methylpropionate), dimethyl-1,1 ′ -Azobis (1-cyclohexanecarboxylate), 4,4'-azobis (4-cyanovaleric acid), 2,2'-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride, 2-tert-butylazo-2-cyanopropane 2,2′-azobis (2-methylpropionamide) dihydrate, 2,2′-azobis (2,4,4-trimethylpentane), and the like.

上記ジアシルパーオキサイド化合物としては、過酸化ベンゾイル、ジイソブチリルパーオキサイド、ジ(3,5,5−トリメチルヘキサノイル)パーオキサイド、ジラウロイルパーオキサイド、及びDisuccinic acid peroxide等が挙げられる。上記パーオキシエステル化合物としては、クミルパーオキシネオデカノエート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ヘキシルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパーオキシネオヘプタノエート、tert−ヘキシルパーオキシピバレート、1,1,3,3−テトラメチルブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、2,5−ジメチル−2,5―ジ(2−エチルヘキサノイルパーオキシ)ヘキサン、tert−ヘキシルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、tert−ブチルパーオキシピバレート、tert−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、tert−ブチルパーオキシイソブチレート、tert−ブチルパーオキシラウレート、tert−ブチルパーオキシイソフタレート、tert−ブチルパーオキシアセテート、tert−ブチルパーオキシオクトエート及びtert−ブチルパーオキシベンゾエート等が挙げられる。上記ハイドロパーオキサイド化合物としては、キュメンハイドロパーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイド等が挙げられる。上記パーオキシジカーボネート化合物としては、ジ−sec−ブチルパーオキシジカーボネート、ジ(4−t−ブチルシクロヘキシル)パーオキシジカーボネート、ジ−n−プロピルパーオキシジカーボネート、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、及びジ(2−エチルヘキシル)パーオキシカーボネート等が挙げられる。また、上記過酸化物の他の例としては、メチルエチルケトンパーオキサイド、カリウムパーサルフェイト、及び1,1−ビス(tert−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン等が挙げられる。   Examples of the diacyl peroxide compound include benzoyl peroxide, diisobutyryl peroxide, di (3,5,5-trimethylhexanoyl) peroxide, dilauroyl peroxide, and disuccinic acid peroxide. Examples of the peroxyester compound include cumylperoxyneodecanoate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxyneodecanoate, tert-hexylperoxyneodecanoate, and tert-butylperoxyneo. Decanoate, tert-butylperoxyneoheptanoate, tert-hexylperoxypivalate, 1,1,3,3-tetramethylbutylperoxy-2-ethylhexanoate, 2,5-dimethyl-2 , 5-di (2-ethylhexanoylperoxy) hexane, tert-hexylperoxy-2-ethylhexanoate, tert-butylperoxypivalate, tert-butylperoxy-2-ethylhexanoate, tert -Butyl peroxyisobutyrate, tert-butyl per Kishiraureto, tert- butylperoxy isophthalate, tert- butylperoxy acetate, tert- butylperoxy octoate and tert- butyl peroxybenzoate, and the like. Examples of the hydroperoxide compound include cumene hydroperoxide and p-menthane hydroperoxide. Examples of the peroxydicarbonate compound include di-sec-butyl peroxydicarbonate, di (4-t-butylcyclohexyl) peroxydicarbonate, di-n-propyl peroxydicarbonate, diisopropyl peroxycarbonate, and di- (2-ethylhexyl) peroxycarbonate and the like. Other examples of the peroxide include methyl ethyl ketone peroxide, potassium persulfate, and 1,1-bis (tert-butylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane.

上記熱ラジカル開始剤の10時間半減期を得るための分解温度は、好ましくは30℃以上、より好ましくは40℃以上、好ましくは90℃以下、より好ましくは80℃以下である。上記熱ラジカル開始剤の10時間半減期を得るための分解温度が、30℃未満であると、異方性導電ペーストの貯蔵安定性が低下する傾向があり、90℃を超えると、異方性導電ペーストを充分に熱硬化させることが困難になる傾向がある。   The decomposition temperature for obtaining the 10-hour half-life of the thermal radical initiator is preferably 30 ° C. or higher, more preferably 40 ° C. or higher, preferably 90 ° C. or lower, more preferably 80 ° C. or lower. When the decomposition temperature for obtaining the 10-hour half-life of the thermal radical initiator is less than 30 ° C., the storage stability of the anisotropic conductive paste tends to be lowered. It tends to be difficult to sufficiently heat cure the conductive paste.

上記熱硬化剤の含有量は特に限定されない。上記熱硬化剤の含有量は、熱硬化剤の種類に応じて適宜調整される。上記熱硬化性化合物100重量部に対して、上記熱硬化剤の含有量は好ましくは0.01重量部以上、好ましくは200重量部以下である。   The content of the thermosetting agent is not particularly limited. Content of the said thermosetting agent is suitably adjusted according to the kind of thermosetting agent. The content of the thermosetting agent is preferably 0.01 parts by weight or more and preferably 200 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the thermosetting compound.

上記熱硬化剤が熱ラジカル開始剤以外の熱硬化剤である場合に、上記熱硬化性化合物100重量部に対して、上記熱硬化剤の含有量は好ましくは0.01重量部以上、より好ましくは30重量部以上、好ましくは200重量部以下、より好ましくは100重量部以下、更に好ましくは75重量部以下、特に好ましくは40重量部以下である。熱硬化剤の含有量が上記下限以上であると、異方性導電ペーストを充分に硬化させることが容易である。熱硬化剤の含有量が上記上限以下であると、硬化後に硬化に関与しなかった余剰の熱硬化剤が残存し難くなり、かつ硬化物の耐熱性がより一層高くなる。   When the thermosetting agent is a thermosetting agent other than a thermal radical initiator, the content of the thermosetting agent is preferably 0.01 parts by weight or more, more preferably, with respect to 100 parts by weight of the thermosetting compound. Is 30 parts by weight or more, preferably 200 parts by weight or less, more preferably 100 parts by weight or less, still more preferably 75 parts by weight or less, and particularly preferably 40 parts by weight or less. When the content of the thermosetting agent is not less than the above lower limit, it is easy to sufficiently cure the anisotropic conductive paste. When the content of the thermosetting agent is not more than the above upper limit, it is difficult for an excess thermosetting agent that did not participate in curing after curing to remain, and the heat resistance of the cured product is further enhanced.

上記熱硬化剤が熱ラジカル開始剤である場合に、上記熱ラジカル開始剤の含有量は特に限定されない。上記熱硬化性化合物100重量部に対して、上記熱ラジカル開始剤の含有量は好ましくは0.01重量部以上、より好ましくは0.05重量部以上、好ましくは10重量部以下、より好ましくは5重量部以下である。上記熱ラジカル硬化剤の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、異方性導電ペーストが充分に熱硬化する。   When the thermosetting agent is a thermal radical initiator, the content of the thermal radical initiator is not particularly limited. The content of the thermal radical initiator is preferably 0.01 parts by weight or more, more preferably 0.05 parts by weight or more, preferably 10 parts by weight or less, more preferably 100 parts by weight of the thermosetting compound. 5 parts by weight or less. When the content of the thermal radical curing agent is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the anisotropic conductive paste is sufficiently cured by heat.

(光硬化開始剤)
上記光硬化開始剤は特に限定されない。上記光硬化開始剤として、従来公知の光硬化開始剤を用いることができる。上記光硬化開始剤は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Photocuring initiator)
The photocuring initiator is not particularly limited. A conventionally known photocuring initiator can be used as the photocuring initiator. As for the said photocuring initiator, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記光硬化開始剤としては、特に限定されず、アセトフェノン光硬化開始剤、ベンゾフェノン光硬化開始剤、チオキサントン、ケタール光硬化開始剤、ハロゲン化ケトン、アシルホスフィノキシド及びアシルホスフォナート等が挙げられる。   The photocuring initiator is not particularly limited, and examples thereof include acetophenone photocuring initiator, benzophenone photocuring initiator, thioxanthone, ketal photocuring initiator, halogenated ketone, acyl phosphinoxide, and acyl phosphonate. .

上記アセトフェノン光硬化開始剤の具体例としては、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、メトキシアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、及び2−ヒドロキシ−2−シクロヘキシルアセトフェノン等が挙げられる。上記ケタール光硬化開始剤の具体例としては、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。   Specific examples of the acetophenone photocuring initiator include 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, methoxy Examples include acetophenone, 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, and 2-hydroxy-2-cyclohexylacetophenone. Specific examples of the ketal photocuring initiator include benzyldimethyl ketal.

上記光硬化開始剤の含有量は特に限定されない。上記光硬化性化合物100重量部に対して、上記光硬化開始剤の含有量は、好ましくは0.1重量部以上、より好ましくは0.2重量部以上、好ましくは2重量部以下、より好ましくは1重量部以下である。上記光硬化開始剤の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、異方性導電ペーストが適度に光硬化する。異方性導電ペーストに光を照射し、Bステージ化することにより、異方性導電ペーストの流動を抑制できる。   The content of the photocuring initiator is not particularly limited. The content of the photocuring initiator is preferably 0.1 parts by weight or more, more preferably 0.2 parts by weight or more, preferably 2 parts by weight or less, more preferably 100 parts by weight of the photocurable compound. Is 1 part by weight or less. When the content of the photocuring initiator is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the anisotropic conductive paste is appropriately photocured. The anisotropic conductive paste can be prevented from flowing by irradiating the anisotropic conductive paste with light to form a B stage.

(導電性粒子)
上記異方性導電ペーストに含まれている導電性粒子は、フレキシブルプリント基板と接続対象部材の第1,第2の電極間を電気的に接続する。上記導電性粒子は、導電性を有する粒子であれば特に限定されない。導電性粒子の導電層の表面が絶縁層により被覆されていてもよい。この場合には、フレキシブルプリント基板と接続対象部材との接続時に、導電層と電極との間の絶縁層が排除される。上記導電性粒子としては、例えば、有機粒子、無機粒子、有機無機ハイブリッド粒子もしくは金属粒子等の表面を金属層で被覆した導電性粒子、並びに実質的に金属のみで構成される金属粒子等が挙げられる。上記金属層は特に限定されない。上記金属層としては、金層、銀層、銅層、ニッケル層、パラジウム層及び錫を含有する金属層等が挙げられる。
(Conductive particles)
The conductive particles contained in the anisotropic conductive paste electrically connect the flexible printed circuit board and the first and second electrodes of the connection target member. The conductive particles are not particularly limited as long as they are conductive particles. The surface of the conductive layer of the conductive particles may be covered with an insulating layer. In this case, the insulating layer between the conductive layer and the electrode is excluded when the flexible printed board and the connection target member are connected. Examples of the conductive particles include conductive particles obtained by coating the surfaces of organic particles, inorganic particles, organic-inorganic hybrid particles, or metal particles with a metal layer, and metal particles that are substantially composed of only metal. It is done. The metal layer is not particularly limited. Examples of the metal layer include a gold layer, a silver layer, a copper layer, a nickel layer, a palladium layer, and a metal layer containing tin.

電極間の導通信頼性をより一層高める観点からは、上記導電性粒子は、樹脂粒子と、該樹脂粒子の表面上に配置された導電層とを有することが好ましい。   From the viewpoint of further improving the conduction reliability between the electrodes, the conductive particles preferably include resin particles and a conductive layer disposed on the surface of the resin particles.

上記導電性粒子の平均粒子径は、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1μm以上、好ましくは100μm以下、より好ましくは20μm以下、更に好ましくは15μm以下、特に好ましくは10μm以下である。   The average particle diameter of the conductive particles is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, preferably 100 μm or less, more preferably 20 μm or less, still more preferably 15 μm or less, and particularly preferably 10 μm or less.

上記導電性粒子の「平均粒子径」は、数平均粒子径を示す。上記導電性粒子の平均粒子径は、任意の導電性粒子50個を電子顕微鏡又は光学顕微鏡にて観察し、平均値を算出することにより求められる。   The “average particle size” of the conductive particles indicates a number average particle size. The average particle diameter of the conductive particles is determined by observing 50 arbitrary conductive particles with an electron microscope or an optical microscope and calculating an average value.

上記導電性粒子の含有量は特に限定されない。異方性導電ペースト100重量%中、上記導電性粒子の含有量は、好ましくは0.1重量%以上、より好ましくは0.5重量%以上、更に好ましくは1重量%以上、好ましくは40重量%以下、より好ましくは30重量%以下、更に好ましくは19重量%以下である。上記導電性粒子の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、接続されるべき上下の電極間に導電性粒子を容易に配置できる。さらに、接続されてはならない隣接する電極間が複数の導電性粒子を介して電気的に接続され難くなる。すなわち、隣り合う電極間の短絡をより一層防止できる。   The content of the conductive particles is not particularly limited. The content of the conductive particles in 100% by weight of the anisotropic conductive paste is preferably 0.1% by weight or more, more preferably 0.5% by weight or more, still more preferably 1% by weight or more, preferably 40% by weight. % Or less, more preferably 30% by weight or less, still more preferably 19% by weight or less. A conductive particle can be easily arrange | positioned between the upper and lower electrodes which should be connected as content of the said electroconductive particle is more than the said minimum and below the said upper limit. Furthermore, it becomes difficult to electrically connect adjacent electrodes that should not be connected via a plurality of conductive particles. That is, a short circuit between adjacent electrodes can be further prevented.

(他の成分)
上記異方性導電ペーストは、フィラーを含むことが好ましい。該フィラーの使用により、異方性導電ペーストの硬化物の潜熱膨張を抑制できる。上記フィラーの具体例としては、シリカ、窒化アルミニウム及びアルミナ等が挙げられる。上記フィラーは1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。
(Other ingredients)
The anisotropic conductive paste preferably contains a filler. By using the filler, the latent thermal expansion of the cured anisotropic conductive paste can be suppressed. Specific examples of the filler include silica, aluminum nitride, and alumina. As for the said filler, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記異方性導電ペーストは、硬化促進剤をさらに含むことが好ましい。該硬化促進剤の使用により、異方性導電ペーストの硬化速度がより一層速くなる。上記硬化促進剤は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The anisotropic conductive paste preferably further contains a curing accelerator. Use of the curing accelerator further increases the curing rate of the anisotropic conductive paste. As for the said hardening accelerator, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記硬化促進剤の具体例としては、イミダゾール硬化促進剤及びアミン硬化促進剤等が挙げられる。なかでも、イミダゾール硬化促進剤が好ましい。なお、イミダゾール硬化促進剤又はアミン硬化促進剤は、イミダゾール硬化剤又はアミン硬化剤としても用いることができる。   Specific examples of the curing accelerator include imidazole curing accelerators and amine curing accelerators. Of these, imidazole curing accelerators are preferred. In addition, an imidazole hardening accelerator or an amine hardening accelerator can be used also as an imidazole hardening agent or an amine hardening agent.

上記異方性導電ペーストは、溶剤を含んでいてもよい。該溶剤の使用により、異方性導電ペーストの粘度を容易に調整できる。上記溶剤としては、例えば、酢酸エチル、メチルセロソルブ、トルエン、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサン、n−ヘキサン、テトラヒドロフラン及びジエチルエーテル等が挙げられる。   The anisotropic conductive paste may contain a solvent. By using the solvent, the viscosity of the anisotropic conductive paste can be easily adjusted. Examples of the solvent include ethyl acetate, methyl cellosolve, toluene, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, n-hexane, tetrahydrofuran, and diethyl ether.

以下、本発明について、実施例及び比較例を挙げて具体的に説明する。本発明は、以下の実施例のみに限定されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited only to the following examples.

(実施例1)
(1)異方性導電ペーストの調製
ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタンと1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルを付加重合反応させることにより、ビス(4−ヒドロキシフェニル)メタンに由来する骨格と1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルに由来する骨格とが結合した構造単位を主鎖に有し、かつ両末端に1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルに由来するエポキシ基を有する反応物を得た。その後、アクリル酸を反応させることにより、両末端にエポキシ基を有し、かつ側鎖にビニル基を有するエポキシ化合物を得た。
Example 1
(1) Preparation of anisotropic conductive paste Bis (4-hydroxyphenyl) methane and 1,6-hexanediol diglycidyl ether are subjected to an addition polymerization reaction, whereby a skeleton derived from bis (4-hydroxyphenyl) methane and 1 , 6-hexanediol diglycidyl ether has a structural unit bonded with a skeleton derived from the main chain, and a reaction product having an epoxy group derived from 1,6-hexanediol diglycidyl ether at both ends was obtained. . Thereafter, acrylic acid was reacted to obtain an epoxy compound having an epoxy group at both ends and a vinyl group in the side chain.

得られたエポキシ化合物30重量部と、熱硬化剤であるアミンアダクト(味の素ファインテクノ社製「PN−23J」)10重量部と、光硬化性化合物であるエポキシアクリレート(ダイセル・サイテック社製「EBECRYL3702」)8重量部と、光重合開始剤であるアシルホスフィンオキサイド系化合物(チバ・ジャパン社製「DAROCUR TPO」)0.2重量部と、硬化促進剤である2−エチル−4−メチルイミダゾール1重量部と、フィラーである平均粒子径0.25μmのシリカ20重量部及び平均粒子径0.5μmのアルミナ20重量部とを配合し、さらに平均粒子径5μmの導電性粒子を得られる異方性導電ペースト100重量%中での含有量が5重量%となるように添加した後、遊星式攪拌機を用いて2000rpmで5分間攪拌することにより、異方性導電ペーストを得た。   30 parts by weight of the resulting epoxy compound, 10 parts by weight of an amine adduct (“PN-23J” manufactured by Ajinomoto Fine Techno Co.) as a thermosetting agent, and an epoxy acrylate (“EBECRYL 3702 manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) as a photocurable compound. ”) 8 parts by weight, 0.2 part by weight of an acylphosphine oxide compound (“ DAROCUR TPO ”manufactured by Ciba Japan) as a photopolymerization initiator, and 2-ethyl-4-methylimidazole 1 as a curing accelerator Anisotropy that blends 20 parts by weight of silica, 20 parts by weight of silica with an average particle diameter of 0.25 μm and 20 parts by weight of alumina with an average particle diameter of 0.5 μm, and further provides conductive particles with an average particle diameter of 5 μm. After adding so that the content in 100% by weight of the conductive paste is 5% by weight, 2000 rp using a planetary stirrer In by stirring for 5 minutes, to obtain an anisotropic conductive paste.

なお、用いた上記導電性粒子は、ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面にニッケルめっき層が形成されており、かつ該ニッケルめっき層の表面に金めっき層が形成されている金属層を有する導電性粒子である。   The conductive particles used are conductive particles having a metal layer in which a nickel plating layer is formed on the surface of divinylbenzene resin particles and a gold plating layer is formed on the surface of the nickel plating layer. is there.

(2)接続構造体の作製
L/Sが20μm/20μm、長さ2mm、及び厚み10μmの金メッキされたCu電極パターンを表面に有し、かつ縦15mm、横2mm、及び厚み800μmの半導体チップを表面に有するフレキシブルプリント基板を用意した。なお、該フレキシブルプリント基板は、一端の外周縁に上記Cu電極パターンを有し、かつ中央に上記半導体チップを有する。
(2) Fabrication of connection structure A semiconductor chip having a gold-plated Cu electrode pattern with L / S of 20 μm / 20 μm, length of 2 mm, and thickness of 10 μm on the surface, and length of 15 mm, width of 2 mm, and thickness of 800 μm A flexible printed circuit board on the surface was prepared. The flexible printed board has the Cu electrode pattern on the outer periphery of one end and the semiconductor chip in the center.

また、L/Sが20μm/20μm、長さ1mm、及び厚み0.3μmのアルミニウム電極パターンを表面に有するガラス基板(接続対象部材)を用意した。なお、ガラス基板は、一端の外周縁に上記アルミニウム電極パターンを有する。   In addition, a glass substrate (member to be connected) having an aluminum electrode pattern with L / S of 20 μm / 20 μm, a length of 1 mm, and a thickness of 0.3 μm on the surface was prepared. The glass substrate has the aluminum electrode pattern on the outer peripheral edge at one end.

また、図5(a)に示す塗布装置を用意した。該塗布装置は、ディスペンサーと、該ディスペンサーに接続された光照射装置である紫外線照射ランプとを備える。   In addition, a coating apparatus shown in FIG. The coating device includes a dispenser and an ultraviolet irradiation lamp that is a light irradiation device connected to the dispenser.

上記Cu電極パターン及び上記半導体チップが上方に位置するように、上記フレキシブルプリント基板を配置した。上記Cu電極パターン上で塗布装置を移動させながら、上記フレキシブルプリント基板の表面に、異方性導電ペーストを塗布し、異方性導電材料層を形成した。電極パターンの長さ方向の一方の縁部から他方の縁部にむけて、ディスペンサーを移動させた。また、上記Cu電極パターンの長さ方向の一方の縁部上を塗布開始部分の領域とし、上記Cu電極パターンの長さ方向の他方の縁部上を塗布終了部分の領域とした。塗布開始部分の領域と塗布終了部分との双方で、ディスペンサーの移動方向をV字状に150度変えて、塗布開始部分の領域と塗布終了部分の領域との双方の塗布領域で、塗布開始部分の領域と塗布終了部分の領域の間の領域よりも、異方性導電ペーストを多く塗布した。   The flexible printed circuit board was arranged so that the Cu electrode pattern and the semiconductor chip were positioned above. While moving the coating apparatus on the Cu electrode pattern, an anisotropic conductive paste was applied to the surface of the flexible printed board to form an anisotropic conductive material layer. The dispenser was moved from one edge in the length direction of the electrode pattern to the other edge. Further, one of the edges in the length direction of the Cu electrode pattern was used as a region for the application start portion, and the other edge in the length direction of the Cu electrode pattern was used as a region for the application end portion. In both the application start part area and the application end part, the movement direction of the dispenser is changed to a V shape by 150 degrees, and the application start part is applied in both the application start part area and the application end part area. More anisotropic conductive paste was applied than the region between the region and the region where the application was completed.

また、塗布開始部分の領域と塗布終了部分の領域との間の塗布領域において、ディスペンサーの移動方向と直交する方向における上記Cu電極パターンの中心部よりも縁部側(ガラス基板の外周側面側)に上記ディスペンサーの位置をずらした状態で、上記Cu電極パターン上で上記ディスペンサーを移動させながら、上記異方性導電ペーストを上記ディスペンサーから塗布した。   Further, in the coating region between the coating start portion region and the coating end portion region, the edge side (outer side surface side of the glass substrate) from the center of the Cu electrode pattern in the direction orthogonal to the movement direction of the dispenser. The anisotropic conductive paste was applied from the dispenser while moving the dispenser on the Cu electrode pattern with the position of the dispenser being shifted.

また、上記Cu電極パターンの電極上と、上記Cu電極パターンにおける電極間の隙間上とに、直線状に連続して異方性導電ペーストを塗布した。このとき、上記ディスペンサーからの上記異方性導電ペーストの吐出量を制御して、電極上に配置された異方性導電材料層部分の厚みと、複数の電極間の隙間上に配置された異方性導電材料層部分の厚みとを制御して、電極上に配置された異方性導電材料層部分と、複数の電極間の隙間上に配置された異方性導電材料層部分とが連なるように上面を平滑にした。なお、上記フレキシブルプリント基板の上記半導体チップ上には、異方性導電ペーストを塗布しなかった。   Moreover, the anisotropic conductive paste was continuously applied linearly on the electrodes of the Cu electrode pattern and on the gaps between the electrodes in the Cu electrode pattern. At this time, by controlling the discharge amount of the anisotropic conductive paste from the dispenser, the thickness of the anisotropic conductive material layer portion disposed on the electrodes and the difference disposed on the gaps between the plurality of electrodes. By controlling the thickness of the anisotropic conductive material layer portion, the anisotropic conductive material layer portion disposed on the electrode and the anisotropic conductive material layer portion disposed on the gap between the plurality of electrodes are connected. The upper surface was made smooth. The anisotropic conductive paste was not applied on the semiconductor chip of the flexible printed board.

次に、異方性導電材料層に、紫外線照射ランプを用いて紫外線を照射エネルギーが6000mJ/cmとなるように照射し、光重合によって異方性導電材料層を半硬化させ、Bステージ化した。次に、上記Cu電極パターンと上記アルミニウム電極パターンとを対向させて、上記フレキシブルプリント基板と上記ガラス基板とを、Bステージ化された異方性導電材料層を介して積層した。その後、Bステージ化された異方性導電材料層の温度が185℃となるようにヘッドの温度を調整しながら、上記ガラス基板の上面に加圧加熱ヘッドを載せ、3MPaの圧力をかけて異方性導電材料層を185℃で完全硬化させ、接続構造体を得た。 Next, the anisotropic conductive material layer is irradiated with ultraviolet rays using an ultraviolet irradiation lamp so that the irradiation energy is 6000 mJ / cm 2, and the anisotropic conductive material layer is semi-cured by photopolymerization to form a B stage. did. Next, the said Cu electrode pattern and the said aluminum electrode pattern were made to oppose, and the said flexible printed circuit board and the said glass substrate were laminated | stacked through the anisotropic conductive material layer made into B stage. Then, while adjusting the temperature of the head so that the temperature of the B-staged anisotropic conductive material layer becomes 185 ° C., a pressure heating head is placed on the upper surface of the glass substrate, and a pressure of 3 MPa is applied. The isotropic conductive material layer was completely cured at 185 ° C. to obtain a connection structure.

(実施例2〜6)
塗布開始部分の領域及び塗布終了部分の領域におけるディスペンサーの移動方向及び該移動方向の変更角度、並びに導電性粒子の平均粒子径を下記の表1に示すように設定したこと以外は実施例1と同様にして、接続構造体を得た。
(Examples 2 to 6)
Example 1 except that the movement direction of the dispenser in the region of the application start part and the region of the application end part, the change angle of the movement direction, and the average particle diameter of the conductive particles were set as shown in Table 1 below. Similarly, a connection structure was obtained.

(実施例7〜9)
接続構造体の作製時に使用するフレキシブルプリント基板を、L/Sが30μm/30μm、長さ2mm、及び厚み30μmの金メッキされたCu電極パターンを表面に有し、かつ縦15mm、横2mm、及び厚み800μmの半導体チップを表面に有するフレキシブルプリント基板に変更したこと、及び第2の接続対象部材を、L/Sが30μm/30μm、長さ1mm、及び厚み0.3μmのアルミニウム電極パターンを表面に有するガラス基板に変更したこと、並びに塗布開始部分の領域及び塗布終了部分の領域におけるディスペンサーの移動方向及び該移動方向の変更角度と、導電性粒子の平均粒子径とを、下記の表1に示すように設定しこと以外は実施例1と同様にして、接続構造体を得た。
(Examples 7 to 9)
A flexible printed circuit board used for manufacturing a connection structure has a gold-plated Cu electrode pattern with L / S of 30 μm / 30 μm, a length of 2 mm, and a thickness of 30 μm on the surface, and a length of 15 mm, a width of 2 mm, and a thickness. Changed to a flexible printed circuit board having a semiconductor chip of 800 μm on the surface, and the second connection target member has an aluminum electrode pattern with an L / S of 30 μm / 30 μm, a length of 1 mm, and a thickness of 0.3 μm on the surface Table 1 below shows the change to the glass substrate, the movement direction of the dispenser in the region of the application start portion and the region of the application end portion, the change angle of the movement direction, and the average particle diameter of the conductive particles. A connection structure was obtained in the same manner as in Example 1 except that it was set to.

(実施例10)
異方性導電ペーストの調製の際に、光硬化性化合物であるエポキシアクリレート(ダイセル・サイテック社製「EBECRYL3702」)8重量部を、光硬化性化合物であるウレタンアクリレート(ダイセル・サイテック社製「EBECRYL8804」)8重量部に変更したこと以外は実施例1と同様にして、異方性導電ペーストを得た。また、得られた異方性導電ペーストを用いたこと、並びに塗布開始部分の領域及び塗布終了部分の領域におけるディスペンサーの移動方向及び該移動方向の変更角度と、導電性粒子の平均粒子径とを、下記の表1に示すように設定しこと以外は実施例1と同様にして、接続構造体を得た。
(Example 10)
When preparing the anisotropic conductive paste, 8 parts by weight of epoxy acrylate (“EBECRYL 3702”, manufactured by Daicel-Cytec), which is a photocurable compound, and urethane acrylate (“EBECRYL8804, manufactured by Daicel-Cytec, Inc.), which is a photocurable compound, are used. ]) An anisotropic conductive paste was obtained in the same manner as in Example 1 except that the amount was changed to 8 parts by weight. In addition, using the obtained anisotropic conductive paste, the movement direction of the dispenser in the region of the application start portion and the region of the application end portion, the change angle of the movement direction, and the average particle diameter of the conductive particles A connection structure was obtained in the same manner as in Example 1 except that settings were made as shown in Table 1 below.

(比較例1)
塗布開始部分の領域と塗布終了部分の領域との双方でディスペンサーの移動方向を変えずに、ディスペンサーを直線状に移動させ、塗布開始部分の領域と塗布終了部分の領域との双方の塗布領域で、塗布開始部分の領域と塗布終了部分の領域の間の塗布領域と、異方性導電ペーストの塗布量を同量にしたこと以外は実施例1と同様にして、接続構造体を得た。
(Comparative Example 1)
Without changing the movement direction of the dispenser in both the application start part area and the application end part area, the dispenser is moved linearly in both the application start part area and the application end part area. A connection structure was obtained in the same manner as in Example 1 except that the application area between the application start area and the application end area and the application amount of the anisotropic conductive paste were the same.

(比較例2)
上記フレキシブルプリント基板の上記Cu電極パターンの電極上に全面に均一に異方性導電ペーストを塗布したこと以外は実施例1と同様にして、接続構造体を得た。
(Comparative Example 2)
A connection structure was obtained in the same manner as in Example 1 except that the anisotropic conductive paste was uniformly applied over the entire surface of the electrode of the Cu electrode pattern of the flexible printed board.

(評価)
(1)粘度η1及び粘度比(η2/η3)
E型粘度計(東機産業社製)を用いて、25℃及び2.5rpmの条件で、得られた異方性導電ペースト(塗布前の異方性導電ペーストの粘度)の粘度η1を測定した。また、上記E型粘度計を用いて、25℃及び2.5rpmでの粘度η2と25℃及び5rpmでの粘度η3とを測定した。
(Evaluation)
(1) Viscosity η1 and viscosity ratio (η2 / η3)
Using an E-type viscometer (manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.), the viscosity η1 of the obtained anisotropic conductive paste (viscosity of the anisotropic conductive paste before application) was measured at 25 ° C. and 2.5 rpm. did. Moreover, the viscosity η2 at 25 ° C. and 2.5 rpm and the viscosity η3 at 25 ° C. and 5 rpm were measured using the E-type viscometer.

(2)導通信頼性(端部の上下の電極間の導通試験)
得られた接続構造体10個の端部配線(20箇所)において上下の電極間の接続抵抗をそれぞれ、4端子法により測定した。20箇所の接続抵抗の平均値と標準偏差を算出した。なお、電圧=電流×抵抗の関係から、一定の電流を流した時の電圧を測定することにより接続抵抗を求めることができる。接続抵抗の標準偏差が1Ω以下である場合を「○」、接続抵抗の標準偏差が1Ωを超える場合を「×」と判定した。
(2) Conduction reliability (conductivity test between upper and lower electrodes at the end)
The connection resistance between the upper and lower electrodes was measured by the four-terminal method in the end wirings (20 places) of the 10 connection structures obtained. The average value and standard deviation of 20 connection resistances were calculated. Note that the connection resistance can be obtained by measuring the voltage when a constant current is passed from the relationship of voltage = current × resistance. The case where the standard deviation of the connection resistance was 1Ω or less was judged as “◯”, and the case where the standard deviation of the connection resistance exceeded 1Ω was judged as “X”.

(3)接続信頼性(ピール強度)
得られた接続構造体10個において90度ピール試験を行った。平均の測定値が10N/cm以上である場合を「○」、平均の測定値が10N/cm未満である場合を「×」と判定した。
(3) Connection reliability (peel strength)
A 90-degree peel test was performed on 10 obtained connection structures. The case where the average measurement value was 10 N / cm or more was determined as “◯”, and the case where the average measurement value was less than 10 N / cm was determined as “x”.

結果を下記の表1に示す。なお、実施例及び比較例で用いた上記導電性粒子は全て、ジビニルベンゼン樹脂粒子の表面にニッケルめっき層が形成されており、かつ該ニッケルめっき層の表面に金めっき層が形成されている金属層を有する導電性粒子である。   The results are shown in Table 1 below. The conductive particles used in the examples and comparative examples are all metals in which a nickel plating layer is formed on the surface of the divinylbenzene resin particles and a gold plating layer is formed on the surface of the nickel plating layer. A conductive particle having a layer.

結果を下記の表1に示す。   The results are shown in Table 1 below.

Figure 0005721593
Figure 0005721593

1…接続構造体
2…第2の接続対象部材
2a…表面
2b…第2の電極
3…硬化物層
3a…上面
3A…異方性導電材料層
3B…Bステージ化された異方性導電材料層
4…フレキシブルプリント基板
4a…表面
4b…第1の電極
4c…電子部品
5…導電性粒子
11…塗布装置
12…ディスペンサー
12a…シリンジ
12b…把持部
12c…先端
13…光照射装置
13a…光照射装置本体
13b…光照射部
31…台
61…フレキシブルプリント基板
61a…表面
61b…第1の電極
61c…電子部品
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Connection structure 2 ... 2nd connection object member 2a ... Surface 2b ... 2nd electrode 3 ... Hardened | cured material layer 3a ... Upper surface 3A ... Anisotropic conductive material layer 3B ... An anisotropic conductive material made into B stage Layer 4 ... Flexible printed circuit board 4a ... Surface 4b ... First electrode 4c ... Electronic component 5 ... Conductive particles 11 ... Application device 12 ... Dispenser 12a ... Syringe 12b ... Grasping part 12c ... Tip 13 ... Light irradiation device 13a ... Light irradiation Device main body 13b ... Light irradiation unit 31 ... Stand 61 ... Flexible printed circuit board 61a ... Surface 61b ... First electrode 61c ... Electronic component

Claims (9)

第1の電極を表面に有するフレキシブルプリント基板を用いて、該フレキシブルプリント基板の前記第1の電極上に、硬化性成分と導電性粒子とを含む異方性導電ペーストを用いて異方性導電材料層を配置する工程と、
第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材を用いて、前記第1の電極と前記第2の電極とを対向させて、前記フレキシブルプリント基板と前記第2の接続対象部材とを、前記異方性導電材料層を介して積層する工程と、
前記異方性導電材料層を硬化させて、硬化物層を形成する工程とを備え、
前記異方性導電材料層を配置する工程において、前記第1の電極上でディスペンサーを移動させながら、前記異方性導電ペーストを前記ディスペンサーから塗布し、
塗布開始部分の領域及び塗布終了部分の領域の内の少なくとも一方の塗布領域で、前記塗布開始部分の領域と前記塗布終了部分の領域との間の塗布領域よりも、前記異方性導電ペーストを多く塗布し、
塗布開始部分の領域及び塗布終了部分の領域の内の少なくとも一方の塗布領域で、ディスペンサーの移動方向を変える、接続構造体の製造方法。
Using a flexible printed board having a first electrode on its surface, anisotropic conductive using an anisotropic conductive paste containing a curable component and conductive particles on the first electrode of the flexible printed board Arranging a material layer;
Using the second connection target member having the second electrode on the surface, the first electrode and the second electrode are opposed to each other, and the flexible printed circuit board and the second connection target member are Laminating via the anisotropic conductive material layer;
Curing the anisotropic conductive material layer to form a cured product layer,
In the step of disposing the anisotropic conductive material layer, the anisotropic conductive paste is applied from the dispenser while moving the dispenser on the first electrode,
The anisotropic conductive paste is applied in at least one of the application start part area and the application end part area more than the application area between the application start part area and the application end part area. Apply a lot ,
At least one of the application area of the region of the area and the coating end portion of the coating start portion, Ru changing the moving direction of the dispenser, the manufacturing method of the connection structure.
塗布開始部分の領域及び塗布終了部分の領域の内の少なくとも一方の塗布領域で、ディスペンサーの移動方向を30度以上、180度以下変える、請求項1に記載の接続構造体の製造方法。 The method for manufacturing a connection structure according to claim 1, wherein the movement direction of the dispenser is changed by 30 degrees or more and 180 degrees or less in at least one of the application start area and the application end area. 塗布開始部分の領域及び塗布終了部分の領域の内の少なくとも一方の塗布領域で、ディスペンサーをV字状又はU字状に移動方向を変える、請求項1又は2に記載の接続構造体の製造方法。 The method of manufacturing a connection structure according to claim 1 or 2 , wherein the direction of movement of the dispenser is changed to a V shape or a U shape in at least one of the application start region and the application end region. . 前記硬化物層の一方の縁部を、塗布開始時に塗布される前記異方性導電ペーストにより形成し、前記硬化物層の他方の縁部を、塗布終了時に塗布される前記異方性導電ペーストにより形成し、
前記硬化物層の一方の縁部及び他方の縁部の内の少なくとも一方を、前記硬化物層の一方の縁部と他方の縁部との間の前記硬化物層の中央部よりも、前記硬化物層の存在量を多くする、請求項1〜のいずれか1項に記載の接続構造体の製造方法。
One edge portion of the cured product layer is formed by the anisotropic conductive paste applied at the start of application, and the other edge portion of the cured product layer is applied at the end of application. Formed by
At least one of the one edge and the other edge of the cured product layer is more than the center of the cured product layer between the one edge and the other edge of the cured product layer. The manufacturing method of the connection structure of any one of Claims 1-3 which increases the abundance of a hardened | cured material layer.
前記フレキシブルプリント基板の外周側面よりも側方及び前記第2の接続対象部材の外周側面よりも側方の内の少なくとも一方で、該外周側面の少なくとも一部の領域に、前記硬化物層によるフィレットを形成する、請求項1〜のいずれか1項に記載の接続構造体の製造方法。 A fillet made of the cured product layer is provided in at least one of the outer side surface of the flexible printed circuit board and at least one side of the outer side surface of the second connection target member. The manufacturing method of the connection structure of any one of Claims 1-4 which forms. 前記硬化物層の一方の縁部及び他方の縁部の内の少なくとも一方で、前記硬化物層によるフィレットを形成する、請求項に記載の接続構造体の製造方法。 The manufacturing method of the connection structure of Claim 5 which forms the fillet by the said hardened | cured material layer in at least one of the one edge part and the other edge part of the said hardened | cured material layer. 前記硬化物層の一方の縁部及び他方の縁部と、前記硬化物層の一方の縁部と他方の縁部との間の中央部とで、前記硬化物層によるフィレットを形成し、
前記硬化物層の一方の縁部及び他方の縁部における前記フィレットの前記フレキシブルプリント基板又は前記第2の接続対象部材の外周側面からのはみ出し距離を、前記硬化物層の一方の縁部と他方の縁部との間の前記硬化物層の中央部における前記フィレットの前記フレキシブルプリント基板又は前記第2の接続対象部材の外周側面からのはみ出し距離よりも大きくする、請求項又はに記載の接続構造体の製造方法。
Forming a fillet by the cured product layer at one edge and the other edge of the cured product layer, and a central portion between the one edge and the other edge of the cured product layer,
The protruding distance from the outer peripheral side surface of the flexible printed circuit board or the second connection target member of the fillet at one edge portion and the other edge portion of the cured product layer is set as one edge portion and the other of the cured product layer. of the larger than protrusion distance from the outer peripheral side surface of the flexible printed circuit board or the second connection object member of the fillet at the central portion of the cured layer between the edge, according to claim 5 or 6 A manufacturing method of a connection structure.
前記塗布開始部分の領域と前記塗布終了部分の領域との間の塗布領域において、前記ディスペンサーの移動方向と直交する方向における前記第1の電極の中心部よりも縁部側に前記ディスペンサーの位置をずらした状態で、前記第1の電極上で前記ディスペンサーを移動させながら、前記異方性導電ペーストを前記ディスペンサーから塗布する、請求項1〜のいずれか1項に記載の接続構造体の製造方法。 In the application region between the region of the application start portion and the region of the application end portion, the position of the dispenser is positioned closer to the edge than the center of the first electrode in the direction orthogonal to the movement direction of the dispenser. The manufacturing of the connection structure according to any one of claims 1 to 7 , wherein the anisotropic conductive paste is applied from the dispenser while moving the dispenser on the first electrode in a shifted state. Method. 前記フレキシブルプリント基板が、突出した前記第1の電極を表面に有し、かつ前記第1の電極よりも突出高さが大きい突出した電子部品を表面に有する、請求項1〜のいずれか1項に記載の接続構造体の製造方法。 The flexible printed circuit board has a first electrode that protrudes to the surface, and having said first electronic component protruding greater protruding height than the electrode to the surface, either of claims 1-8 1 The manufacturing method of the connection structure as described in a term.
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