JP5700087B2 - 電解質膜−触媒層接合体、これを用いた電解質膜−電極接合体及び固体高分子形燃料電池、触媒層転写フィルム、並びに電解質膜−触媒層接合体の製造方法 - Google Patents
電解質膜−触媒層接合体、これを用いた電解質膜−電極接合体及び固体高分子形燃料電池、触媒層転写フィルム、並びに電解質膜−触媒層接合体の製造方法 Download PDFInfo
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Description
2 電解質膜
3 アノード触媒層
31 凹部
4 カソード触媒層
5 ガス拡散層
6 ガスケット
7 セパレータ
8 アノード触媒層転写フィルム
81 基材フィルム
811 凸部(又は凹部)
9 カソード触媒層転写フィルム
10 固体高分子形燃料電池
20 電解質膜−電極接合体
Claims (9)
- 電解質膜と、
前記電解質膜の一方面に形成されたアノード触媒層と、
前記電解質膜の他方面に形成されたカソード触媒層と、を備えており、
前記アノード触媒層及び前記カソード触媒層の表面に、凹部又は凸部が形成されており、
前記凹部及び凸部は、凹部模様及び凸部模様であり、
前記アノード触媒層及び前記カソード触媒層は、互いに異なる前記凹部模様又は凸部模様が表面に形成されている、電解質膜−触媒層接合体。 - 前記凹部模様及び凸部模様は、凹部及び凸部の形状、位置、又は数が前記アノード触媒層と前記カソード触媒層とで異なるように形成されている、請求項1に記載の電解質膜−触媒層接合体。
- 前記凹部の深さは、0.2μm以上であるとともに当該凹部が形成される触媒層の厚さよりも小さい、請求項1又は2に記載の電解質膜−触媒層接合体。
- 前記凹部の深さは、0.3μm以上である、請求項3に記載の電解質膜−触媒層接合体。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の電解質膜−触媒層接合体と、
前記各触媒層上に形成されたガス拡散層と、を備えた、電解質膜−電極接合体。 - 請求項5に記載の電解質膜−電極接合体と、
前記電解質膜−電極接合体の周囲を囲むように設置されたガスケットと、
前記電解質膜−電極接合体を挟持するように設置されたセパレータと、を備えた、固体高分子形燃料電池。 - 電解質膜を準備する工程と、
前記電解質膜の一方面にアノード触媒層を形成する工程と、
前記電解質膜の他方面にカソード触媒層を形成する工程と、
前記アノード触媒層及びカソード触媒層の表面に、凹部又は凸部を形成する工程と、を備え、
前記凹部及び凸部は、凹部模様及び凸部模様であり、
前記凹部又は凸部を形成する工程では、前記アノード触媒層及びカソード触媒層の表面に、互いに異なる前記凹部模様又は凸部模様を形成する、電解質膜−触媒層接合体の製造方法。 - 前記電解質膜に触媒層としてアノード触媒層を転写するためのアノード触媒層転写フィルムと、前記電解質膜に触媒層としてカソード触媒層を転写するためのカソード触媒層転写フィルムと、を備え、
前記アノード触媒層転写フィルム及び前記カソード触媒層転写フィルムは、
一方面又は他方面に、凹部又は凸部が形成されたシート状の基材フィルムと、
前記基材フィルムの一方面に形成された触媒層と、を備え、
前記凹部及び凸部は、凹部模様及び凸部模様であり、アノード触媒層転写フィルムであるかカソード触媒層転写フィルムであるかで互いに異なる前記凹部模様又は凸部模様が形成されており、
前記アノード触媒層を形成する工程、前記カソード触媒層を形成する工程、及び前記凹部又は凸部を形成する工程では、前記アノード触媒層転写フィルムを前記アノード触媒層が前記電解質膜側を向くように前記電解質膜の一方面に配置するとともに、前記カソード触媒層転写フィルムを前記カソード触媒層が前記電解質膜側を向くように前記電解質膜の他方面に配置し、前記各触媒層転写フィルムの背面側から加熱プレスを施して前記アノード触媒層及び前記カソード触媒層を前記電解質膜に転写させる、請求項7に記載の電解質膜−触媒層接合体の製造方法。 - 前記凹部模様及び凸部模様は、凹部及び凸部の形状、位置、又は数が前記アノード触媒層と前記カソード触媒層とで異なるように形成されている、請求項7又は8に記載の電解質膜−触媒層接合体の製造方法。
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