JP5699443B2 - Thermosetting resin composition for light reflection, substrate for mounting optical semiconductor element, method for manufacturing the same, and optical semiconductor device - Google Patents

Thermosetting resin composition for light reflection, substrate for mounting optical semiconductor element, method for manufacturing the same, and optical semiconductor device Download PDF

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Description

本発明は、光反射用熱硬化性樹脂組成物、光半導体素子搭載用基板及びその製造方法、並びに光半導体装置に関する。   The present invention relates to a thermosetting resin composition for light reflection, a substrate for mounting an optical semiconductor element, a method for manufacturing the same, and an optical semiconductor device.

LED(Light Emitting Diode:発光ダイオード)等の光半導体素子と蛍光体とを組み合わせた光半導体装置は、エネルギー効率が高く、寿命が長いことから、屋外用ディスプレイ、携帯液晶バックライト、車載用途に使用され、その需要が拡大しつつある。これに伴いLEDデバイスの高輝度化が進んでおり、素子の発熱量増大によるジャンクション温度の上昇や、直接的な光エネルギーの増大による光半導体装置の劣化を防ぐことが求められている。   An optical semiconductor device combining an optical semiconductor element such as an LED (Light Emitting Diode) and a phosphor is high in energy efficiency and has a long life, so it is used for outdoor displays, portable liquid crystal backlights, and in-vehicle applications. The demand is expanding. As a result, the brightness of LED devices is increasing, and it is required to prevent an increase in junction temperature due to an increase in the amount of heat generated by the element and deterioration of the optical semiconductor device due to a direct increase in light energy.

特許文献1には、硬化剤として酸無水物を含む熱硬化性樹脂組成物を、リフレクターの材料として用いた光半導体素子搭載用基板、及び光半導体装置が開示されている。   Patent Document 1 discloses an optical semiconductor element mounting substrate and an optical semiconductor device using a thermosetting resin composition containing an acid anhydride as a curing agent as a reflector material.

特開2006−140207号公報JP 2006-140207 A

従来、熱硬化性樹脂組成物からリフレクターを形成する方法としては、例えば、熱硬化性樹脂組成物をタブレットに成形した後、トランスファーモールド成形する方式が提案されている。   Conventionally, as a method of forming a reflector from a thermosetting resin composition, for example, a method of forming a thermosetting resin composition into a tablet and then performing transfer molding is proposed.

熱硬化性樹脂組成物からタブレットを成形する方法としては、例えば、図1に示すような方法が挙げられる。すなわち、熱硬化性樹脂組成物の原料を供給する工程(原料供給工程)、原料を加熱し溶融させて混合する工程(混練工程)、混練後の熱硬化性樹脂組成物を冷却する工程(冷却工程)、冷却後の熱硬化性樹脂組成物を粉砕する工程(粉砕工程)、粉砕された熱硬化性樹脂組成物の粉末を成形金型に入れ打錠してタブレットを得る工程(打錠工程)を備える方法である。   Examples of a method for molding a tablet from the thermosetting resin composition include a method as shown in FIG. That is, a step of supplying a raw material of the thermosetting resin composition (raw material supply step), a step of heating and melting the raw material and mixing (kneading step), and a step of cooling the thermosetting resin composition after kneading (cooling) Step), a step of crushing the thermosetting resin composition after cooling (crushing step), a step of putting the pulverized thermosetting resin composition powder into a molding die and tableting to obtain a tablet (tablet step) ).

ところで、タブレットの生産性を向上させる観点から、これらの工程を連続的に行うことが求められている。   By the way, from the viewpoint of improving the productivity of tablets, it is required to perform these steps continuously.

しかしながら、上記粉砕工程においては、熱硬化性樹脂組成物が付着性を有していると
粉砕装置内に付着し、粉砕が困難となる場合がある。また、上記打錠工程においては、成形金型の表面に粉末が付着し、打錠する際にタブレットが破壊されることがある。
However, in the above pulverization step, if the thermosetting resin composition has adhesiveness, it may adhere to the pulverizer and may be difficult to pulverize. In the tableting step, the powder may adhere to the surface of the molding die, and the tablet may be destroyed when tableting.

本発明は、上記従来技術の有する課題に鑑みてなされたものであり、室温付近において粉砕できる程度の剛性を有し、加工装置や成形装置への付着を十分に低減した光反射用熱硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた光半導体搭載用基板及び光半導体搭載用基板の製造方法、並びに光半導体装置を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, has a rigidity that can be pulverized in the vicinity of room temperature, and has sufficiently reduced adhesion to a processing apparatus and a molding apparatus. An object is to provide a resin composition, a substrate for mounting an optical semiconductor using the resin composition, a method for manufacturing the substrate for mounting an optical semiconductor, and an optical semiconductor device.

本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、(B)硬化剤として、融点が100℃以上の有機酸無水物を用いることによって、室温付近において粉砕できる程度の剛性を有し、加工装置や成形装置への付着を十分に低減した熱硬化性樹脂組成物が得られることを見出し、本発明を完成するに至った。   As a result of intensive studies to achieve the above object, the inventors of the present invention (B) use an organic acid anhydride having a melting point of 100 ° C. or higher as the curing agent, so that the rigidity can be pulverized near room temperature. It has been found that a thermosetting resin composition having a sufficient adhesion to a processing apparatus and a molding apparatus can be obtained, and the present invention has been completed.

すなわち、本発明は、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤及び(C)白色顔料を含有する熱硬化性樹脂組成物であって、上記(B)硬化剤は、融点が100℃以上の有機酸無水物を含む、光反射用熱硬化性樹脂組成物を提供する。   That is, the present invention is a thermosetting resin composition containing (A) an epoxy resin, (B) a curing agent and (C) a white pigment, and the (B) curing agent has a melting point of 100 ° C. or higher. Provided is a light-reflective thermosetting resin composition containing an organic acid anhydride.

ここで、上記有機酸無水物が、非芳香族化合物であると、上記本発明の効果をより一層有効かつ確実に発現することができる。   Here, when the organic acid anhydride is a non-aromatic compound, the effects of the present invention can be expressed more effectively and reliably.

また、上記有機酸無水物は、ハーゼン色数が50以下の有機酸無水物であることがより好ましい。これにより、本発明の熱硬化性樹脂組成物の硬化物を光半導体搭載用基板に用いた場合に、光の反射率が向上し、光半導体装置の輝度を向上させることができる。   The organic acid anhydride is more preferably an organic acid anhydride having a Hazen color number of 50 or less. Thereby, when the hardened | cured material of the thermosetting resin composition of this invention is used for the board | substrate for optical semiconductor mounting, the reflectance of light improves and the brightness | luminance of an optical semiconductor device can be improved.

また、有機酸無水物は、下記式(1)、(2)、(3)及び(4)でそれぞれ表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸無水物を含むことができる。   The organic acid anhydride can contain at least one acid anhydride selected from the group consisting of compounds represented by the following formulas (1), (2), (3) and (4).

Figure 0005699443
Figure 0005699443

上記式(1)で表わされる無水コハク酸、上記式(2)で表わされる水素化無水ピロメリット酸、上記式(3)で表わされる水素化ビフェニル酸二無水物、及び上記式(4)で表わされるテトラヒドロ無水フタル酸のうち少なくとも1種を硬化剤として用いることにより、上記本発明の効果を確実に得ることができる。   In the succinic anhydride represented by the above formula (1), the hydrogenated pyromellitic anhydride represented by the above formula (2), the hydrogenated biphenyl dianhydride represented by the above formula (3), and the above formula (4) By using at least one of the tetrahydrophthalic anhydrides represented as a curing agent, the effects of the present invention can be reliably obtained.

また、上記有機酸無水物の含有量が、上記(B)硬化剤の質量を基準として、3〜100質量%であることが好ましい。   Moreover, it is preferable that content of the said organic acid anhydride is 3-100 mass% on the basis of the mass of the said (B) hardening | curing agent.

また、上記(C)白色顔料が、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び無機中空粒子からなる群より選ばれる少なくとも1種の無機物を含むことが好ましい。   The white pigment (C) preferably contains at least one inorganic substance selected from the group consisting of silica, alumina, magnesium oxide, antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide, and inorganic hollow particles.

本発明の熱硬化性樹脂組成物において、シリカ、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び無機中空粒子からなる群より選ばれる少なくとも1種の無機物を含む(C)白色顔料を用いることにより、熱硬化性樹脂組成物の硬化物の反射特性を確保でき、光学材料としての性能を十分に発揮することができる。   In the thermosetting resin composition of the present invention, (C) a white pigment containing at least one inorganic substance selected from the group consisting of silica, alumina, magnesium oxide, antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide and inorganic hollow particles is used. Thereby, the reflective characteristic of the hardened | cured material of a thermosetting resin composition can be ensured, and the performance as an optical material can fully be exhibited.

さらに、本発明は、底面及び壁面から構成される凹部を有し、上記凹部の底面が光半導体素子搭載部であり、上記凹部の壁面の少なくとも一部が上記熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる、光半導体素子搭載用基板を提供する。   Furthermore, the present invention has a recess composed of a bottom surface and a wall surface, the bottom surface of the recess is an optical semiconductor element mounting portion, and at least a part of the wall surface of the recess is a cured product of the thermosetting resin composition. An optical semiconductor element mounting substrate is provided.

またさらに、凹部の壁面の少なくとも一部を、上記熱硬化性樹脂組成物を用いて形成する工程を備える、光半導体素子搭載用基板の製造方法を提供する。   Furthermore, the manufacturing method of the board | substrate for optical semiconductor element mounting provided with the process of forming at least one part of the wall surface of a recessed part using the said thermosetting resin composition is provided.

またさらに、底面及び壁面から構成される凹部を有する光半導体素子搭載用基板と、上記光半導体素子搭載用基板の凹部内に設けられた光半導体素子と、上記凹部を充填して上記光半導体素子を封止する封止樹脂部と、を備え、上記凹部の壁面の少なくとも一部が、上記熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる、光半導体装置を提供する。   Furthermore, an optical semiconductor element mounting substrate having a recess composed of a bottom surface and a wall surface, an optical semiconductor element provided in the recess of the optical semiconductor element mounting substrate, and the optical semiconductor element filled with the recess An optical semiconductor device comprising: a sealing resin portion that seals, wherein at least a part of the wall surface of the recess is made of a cured product of the thermosetting resin composition.

本発明によれば、室温付近において粉砕できる程度の剛性を有し、加工装置や成形装置のへ付着を十分に低減した光反射用熱硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた光半導体搭載用基板及び光半導体搭載用基板の製造方法、並びに光半導体装置を提供すことができる。   According to the present invention, a light-reflective thermosetting resin composition having rigidity enough to be pulverized near room temperature and sufficiently reduced adhesion to a processing apparatus or a molding apparatus, and an optical semiconductor using the resin composition A mounting substrate, an optical semiconductor mounting substrate manufacturing method, and an optical semiconductor device can be provided.

熱硬化性樹脂組成物からタブレットを作製する工程を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the process of producing a tablet from a thermosetting resin composition. 熱硬化性樹脂組成物からタブレットの原料粉末を作製する工程を示す概略図である。It is the schematic which shows the process of producing the raw material powder of a tablet from a thermosetting resin composition. 熱硬化性樹脂組成物から作製したタブレットを成形する工程を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the process of shape | molding the tablet produced from the thermosetting resin composition. 本発明の光半導体素子搭載用基板の一実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows one Embodiment of the board | substrate for optical semiconductor element mounting of this invention. 本発明の光半導体素子搭載用基板を製造する工程の一実施形態を示す概略図である。It is the schematic which shows one Embodiment of the process of manufacturing the board | substrate for optical semiconductor element mounting of this invention. 本発明の光半導体素子搭載用基板に光半導体素子を搭載した状態の一実施形態を示す斜視図である。It is a perspective view which shows one Embodiment of the state which mounted the optical semiconductor element in the board | substrate for optical semiconductor element mounting of this invention. 本発明の光半導体装置の一実施形態を示す模式断面図である。1 is a schematic cross-sectional view showing an embodiment of an optical semiconductor device of the present invention. 本発明の光半導体装置の他の一実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows other one Embodiment of the optical semiconductor device of this invention. 本発明の光半導体装置の他の一実施形態を示す模式断面図である。It is a schematic cross section which shows other one Embodiment of the optical semiconductor device of this invention.

以下、場合により図面を参照しつつ本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。また、図面の寸法比率は図示の比率に限られるものではない。また、本明細書における「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」又はそれに対応する「メタクリレート」を意味する。     Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings as the case may be. In the drawings, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted. Further, the dimensional ratios in the drawings are not limited to the illustrated ratios. In addition, “(meth) acrylate” in the present specification means “acrylate” or “methacrylate” corresponding thereto.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、(A)エポキシ樹脂(B)硬化剤及び(C)白色顔料を含有し、上記(B)硬化剤は、融点が100℃以上の有機酸無水物を含むことを特徴とする。以下、本発明の熱硬化性樹脂組成物の構成成分について詳述する。   The thermosetting resin composition of the present invention contains (A) an epoxy resin (B) curing agent and (C) a white pigment, and the (B) curing agent contains an organic acid anhydride having a melting point of 100 ° C. or higher. It is characterized by including. Hereafter, the structural component of the thermosetting resin composition of this invention is explained in full detail.

<(A)エポキシ樹脂>
本発明の熱硬化性樹脂組成物における(A)エポキシ樹脂としては、電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料で一般に使用されているものを用いることができる。エポキシ樹脂として、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂及びオルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等のフェノール類とアルデヒド類のノボラック樹脂をエポキシ化したもの、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェノールS及びアルキル置換ビスフェノール等のジグリシジルエーテル、ジアミノジフェニルメタン及びイソシアヌル酸等のポリアミンとエピクロルヒドリンとの反応により得られるグリシジルアミン型エポキシ樹脂、オレフィン結合を過酢酸等の過酸で酸化して得られる線状脂肪族エポキシ樹脂、並びに脂環族エポキシ樹脂が挙げられる。これらは、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
<(A) Epoxy resin>
As (A) epoxy resin in the thermosetting resin composition of this invention, what is generally used with the epoxy resin molding material for electronic component sealing can be used. Epoxy resins include, for example, epoxidized phenol and aldehyde novolak resins such as phenol novolac type epoxy resin and orthocresol novolak type epoxy resin, diglycidyl such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S and alkyl substituted bisphenol Glycidylamine type epoxy resin obtained by reaction of polyamine such as ether, diaminodiphenylmethane and isocyanuric acid with epichlorohydrin, linear aliphatic epoxy resin obtained by oxidizing olefin bond with peracid such as peracetic acid, and alicyclic An epoxy resin is mentioned. These can be used alone or in combination of two or more.

これらのうち、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹脂、ジグリシジルイソシアヌレート、トリグリシジルイソシアヌレート、及び、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸又は1,4−シクロヘキサンジカルボン酸から誘導されるジカルボン酸ジグリシジルエステルが、比較的着色が少ないことから好ましい。同様の理由から、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ナジック酸及びメチルナジック酸等のジカルボン酸のジグリシジルエステルも好適である。芳香環が水素化された脂環式構造を有する核水素化トリメリット酸、核水素化ピロメリット酸等のグリシジルエステルも挙げられる。シラン化合物を有機溶媒、有機塩基及び水の存在下に加熱して、加水分解・縮合させることにより製造される、エポキシ基を有するポリオルガノシロキサンも挙げられる。また、(A)エポキシ樹脂として、グリシジル(メタ)アクリレート単量体と、これと重合可能な単量体との共重合体である、下記式(5)で示されるエポキシ樹脂を用いることもできる。   Among these, 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) cyclohexane adduct of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type Dicarboxylic acid diglycidyl ester derived from epoxy resin, diglycidyl isocyanurate, triglycidyl isocyanurate and 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid or 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid This is preferable because of less coloration. For the same reason, diglycidyl esters of dicarboxylic acids such as phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, methyltetrahydrophthalic acid, nadic acid and methylnadic acid are also suitable. Examples thereof include glycidyl esters such as nuclear hydrogenated trimellitic acid and nuclear hydrogenated pyromellitic acid having an alicyclic structure in which an aromatic ring is hydrogenated. Polyorganosiloxane having an epoxy group produced by heating and hydrolyzing and condensing a silane compound in the presence of an organic solvent, an organic base and water is also included. Further, as the epoxy resin (A), an epoxy resin represented by the following formula (5), which is a copolymer of a glycidyl (meth) acrylate monomer and a polymerizable monomer, can also be used. .

Figure 0005699443
Figure 0005699443

式(5)中、Rはグリシジル基を示し、Rは水素原子又はメチル基を示し、Rは水素原子又は炭素数1〜6の飽和若しくは不飽和の1価の炭化水素基を示し、Rは1価の飽和炭化水素基を示す。a及びbは正の整数を示す。 In Formula (5), R 1 represents a glycidyl group, R 2 represents a hydrogen atom or a methyl group, R 3 represents a hydrogen atom or a saturated or unsaturated monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. , R 4 represents a monovalent saturated hydrocarbon group. a and b represent a positive integer.

(A)エポキシ樹脂は、本発明の熱硬化性樹脂組成物のよごれを抑制する観点から2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールの1,2−エポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキサン付加物であることが好ましく、ダイセル化学社製、製品名:EHPE3150が市販品として入手可能である。   (A) The epoxy resin is 1,2-epoxy-4- (2-oxiranyl) of 2,2-bis (hydroxymethyl) -1-butanol from the viewpoint of suppressing the contamination of the thermosetting resin composition of the present invention. A cyclohexane adduct is preferable, and a product name: EHPE3150 manufactured by Daicel Chemical Industries, Ltd. is commercially available.

また、(A)エポキシ樹脂は、本発明の熱硬化性樹脂組成物の硬化物の着色を抑制するために、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロへプタン、シクロオクタン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、アダマンタン、水素化ヒドロナフタレン及び水素化ビフェニルから選ばれる環式脂肪族炭化水素から水素原子を除くことにより誘導される脂肪族炭化水素基を有する脂環式エポキシ樹脂であることも好ましい。上記環式脂肪族炭化水素は、ハロゲン原子又は直鎖状若しくは分岐状の炭化水素基で置換されていてもよい。   In addition, (A) the epoxy resin contains cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, norbornene, dicyclopentadiene, adamantane in order to suppress coloring of the cured product of the thermosetting resin composition of the present invention. An alicyclic epoxy resin having an aliphatic hydrocarbon group derived by removing a hydrogen atom from a cyclic aliphatic hydrocarbon selected from hydrogenated hydronaphthalene and hydrogenated biphenyl is also preferred. The cycloaliphatic hydrocarbon may be substituted with a halogen atom or a linear or branched hydrocarbon group.

<(B)硬化物>
本発明の熱硬化性樹脂組成物において、(B)硬化剤は、融点が100℃以上の有機酸無水物を含む。これにより、室温付近(0℃〜30℃)で粉砕できる程度の剛性を有し、さらに、加工装置又は成形装置への付着を十分に低減した熱硬化性樹脂組成物を得ることができる。なお、本発明において「融点が100℃以上の有機酸無水物」とは、100℃未満において固体である有機酸無水物を意味し、200℃以上において軟化、分解等示す有機酸無水物を含む。
<(B) Cured product>
In the thermosetting resin composition of the present invention, the (B) curing agent contains an organic acid anhydride having a melting point of 100 ° C. or higher. Thereby, the thermosetting resin composition which has the rigidity which can be grind | pulverized near room temperature (0 degreeC-30 degreeC), and also reduced fully the adhesion to a processing apparatus or a shaping | molding apparatus can be obtained. In the present invention, “an organic acid anhydride having a melting point of 100 ° C. or higher” means an organic acid anhydride that is solid at a temperature lower than 100 ° C., and includes organic acid anhydrides that are softened and decomposed at 200 ° C. or higher. .

また、低融点或は低軟化点の(A)エポキシ樹脂又は(B)硬化剤を含む熱硬化性樹脂組成物を加熱混合し、溶融させることにより得られた混合物を再度冷却する場合に、熱硬化性樹脂組成物が固体化するまでの時間を短かくすることができる。   In addition, when the mixture obtained by heating and melting a thermosetting resin composition containing (A) an epoxy resin or (B) a curing agent having a low melting point or a low softening point is cooled again, The time until the curable resin composition is solidified can be shortened.

ここで、上記有機酸無水物が、非芳香族化合物であることが好ましい。これにより、上記の効果を確実に得ることができる。   Here, the organic acid anhydride is preferably a non-aromatic compound. Thereby, said effect can be acquired reliably.

また、上記有機酸無水物としては、例えば下記式(1)〜(4)でそれぞれ表される化合物が挙げられる。   Examples of the organic acid anhydride include compounds represented by the following formulas (1) to (4), respectively.

Figure 0005699443
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本発明に係る熱硬化性樹脂組成物は、上記式(1)で表わされる無水コハク酸、上記式(2)で表わされる水素化無水ピロメリット酸、上記式(3)で表わされる水素化ビフェニル酸二無水物、及び、上記式(4)で表わされるテトラヒドロ無水フタル酸のうち、少なくとも1種の酸無水物を硬化剤として用いることにより、上記の効果を確実に得ることができる。   The thermosetting resin composition according to the present invention includes a succinic anhydride represented by the above formula (1), a hydrogenated pyromellitic anhydride represented by the above formula (2), and a hydrogenated biphenyl represented by the above formula (3). Of the acid dianhydride and the tetrahydrophthalic anhydride represented by the above formula (4), the above effect can be obtained with certainty by using at least one acid anhydride as a curing agent.

上記式(1)で表わされる化合物は、融点が120〜130℃であり、上記式(2)及び(3)で表わされる化合物は、融点が明確ではないが、100℃未満において固体であり、上記式(4)で表わされる化合物は、融点が110〜120℃である。これらの化合物は結晶性が高く、これらの化合物を混合することで、加熱混合後、室温放置した際に固化を促進し、作業性、粉砕加工等取扱いが容易になる。   The compound represented by the above formula (1) has a melting point of 120 to 130 ° C., and the compounds represented by the above formulas (2) and (3) are not clear but have a solid at a temperature below 100 ° C. The compound represented by the above formula (4) has a melting point of 110 to 120 ° C. These compounds have high crystallinity, and by mixing these compounds, solidification is promoted when allowed to stand at room temperature after heating and mixing, and handling such as workability and pulverization is facilitated.

また、上記有機酸無水物のハーゼン色数が、50以下であることが好ましく、20以下であることがより好ましい。これにより、本発明の熱硬化性樹脂組成物の硬化物を光半導体搭載用基板に用いた場合に、光の反射率が向上し、光半導体装置の輝度を向上させることができる。   The Hazen color number of the organic acid anhydride is preferably 50 or less, and more preferably 20 or less. Thereby, when the hardened | cured material of the thermosetting resin composition of this invention is used for the board | substrate for optical semiconductor mounting, the reflectance of light improves and the brightness | luminance of an optical semiconductor device can be improved.

ここで、ハーゼン色数は、ASTM D1209−1980(米国規格協会規格)に準拠して測定される値である。色数標準液は、塩化白金(IV)酸カリウム1.245g(白金として0.500g)、および塩化コバルト(II)六水和物1.000g(コバルトとして0.250g)を塩酸100mlに溶解し、さらに蒸留水で1000mlに稀釈して、これをハーゼン色数500の色数標準液とするものである。ハーゼン色数100、50、20、10などの色数標準液は、ハーゼン色数500の色数標準液をそれぞれ蒸留水で5、10、25、50倍希釈して調製して得ることができる。ハーゼン色数は、試料を規定の大きさの試験管(直径3cm、長さ約20cm)に入れて、目視で比較して同じ感じの色数標準液の番号で表示される。試験管の上面から観察した場合には、ハーゼン色数(APHA)と表記される。APHAは、アメリカ公衆衛生協会(American Pubric Health Assosiation)の略である。   Here, the Hazen color number is a value measured in accordance with ASTM D1209-1980 (American Standards Association Standard). The color number standard solution was prepared by dissolving 1.245 g of potassium platinum chloride (IV) (0.500 g as platinum) and 1.000 g of cobalt chloride (II) hexahydrate (0.250 g as cobalt) in 100 ml of hydrochloric acid. Further, it is diluted to 1000 ml with distilled water to obtain a color number standard solution having a Hazen color number of 500. Hazen color number standard solutions such as 100, 50, 20, 10, etc. can be obtained by diluting a Hazen color number standard solution of 500, 5, 10, 25, 50 times with distilled water, respectively. . The Hazen color number is indicated by the number of the color standard solution having the same feeling when the sample is put in a test tube (diameter: 3 cm, length: about 20 cm) of a prescribed size and visually compared. When observed from the upper surface of the test tube, it is expressed as Hazen color number (APHA). APHA is an abbreviation for American Public Health Association.

本発明の熱硬化性樹脂組成物において、(B)硬化剤中に、上記式(1)〜(4)でそれぞれ表される化合物が全量含まれていてもよく、以下に示す化合物を含んでいてもよい。ただし、本発明の効果を十分に得るためには、本発明に係る有機酸無水物の含有量は、(B)硬化剤の質量を基準として、3〜100質量%であることが好ましい。   In the thermosetting resin composition of the present invention, the compound represented by the above formulas (1) to (4) may be included in the (B) curing agent, and the compounds shown below are included. May be. However, in order to sufficiently obtain the effects of the present invention, the content of the organic acid anhydride according to the present invention is preferably 3 to 100% by mass based on the mass of the (B) curing agent.

本発明の熱硬化性樹脂組成物において、(B)硬化剤は、2つ以上の多価カルボン酸が縮合した多価カルボン酸縮合縮合体を含んでいてもよい。「多価カルボン酸縮合体」とは、2以上のカルボキシル基を有する多価カルボン酸の1種又は2種以上が分子間で縮合して形成される重合体を意味する。より詳細には、多価カルボン酸縮合体は、2以上のカルボキル基を有する2分子以上のモノマーの分子間で、それぞれが有するカルボキシ基が脱水縮合することにより酸無水物基(酸無水物結合)を生成し、生成した酸無水物基によって各モノマー単位が鎖状又は環状に連結されている重合体である。多価カルボン酸縮合体は、通常、重合度の異なる複数の成分から構成され、繰り返し単位及び末端基の構成が異なる。下記式(6)で表される成分の割合は、多価カルボン酸縮合体全量を基準として60質量%以上である。   In the thermosetting resin composition of the present invention, the (B) curing agent may contain a polyvalent carboxylic acid condensation condensate obtained by condensing two or more polyvalent carboxylic acids. “Polyvalent carboxylic acid condensate” means a polymer formed by condensing one or more polycarboxylic acids having two or more carboxyl groups between molecules. More specifically, the polyvalent carboxylic acid condensate has an acid anhydride group (an acid anhydride bond) formed by dehydration condensation between carboxy groups of two or more monomers having two or more carboxy groups. ) And each monomer unit is linked in a chain or cyclic manner by the generated acid anhydride group. The polycarboxylic acid condensate is usually composed of a plurality of components having different degrees of polymerization, and the constitution of repeating units and terminal groups is different. The proportion of the component represented by the following formula (6) is 60% by mass or more based on the total amount of the polyvalent carboxylic acid condensate.

Figure 0005699443
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上記式(6)中、Rは、2価の有機基であり、Rは、1価の有機基であり、nは1以上の整数を示す。nは、1〜200の整数であることが好ましい。 In the above formula (6), R x is a divalent organic group, R y is a monovalent organic group, and n 1 represents an integer of 1 or more. n 1 is preferably an integer of 1 to 200.

は飽和炭化水素環を有する2価の飽和炭化水素基であることが好ましい。Rが飽和炭化水素環を有する飽和炭化水素基であることにより、当該多価カルボン酸縮合体はエポキシ樹脂の透明な硬化物を形成させることが可能である。同一分子中の複数のRは同一でも異なっていてもよい。Rの飽和炭化水素環はハロゲン原子又は直鎖状若しくは分岐状の炭化水素基で置換されていてもよい。飽和炭化水素環を置換する炭化水素基は好ましくは飽和炭化水素基である。飽和炭化水素環は単環でもよいし、2以上の環から構成される縮合環、ポリシクロ環、スピロ環又は環集合であってもよい。Rの炭素数は好ましくは3〜15である。 R x is preferably a divalent saturated hydrocarbon group having a saturated hydrocarbon ring. When R x is a saturated hydrocarbon group having a saturated hydrocarbon ring, the polyvalent carboxylic acid condensate can form a transparent cured product of an epoxy resin. A plurality of R x in the same molecule may be the same or different. The saturated hydrocarbon ring of R x may be substituted with a halogen atom or a linear or branched hydrocarbon group. The hydrocarbon group that substitutes the saturated hydrocarbon ring is preferably a saturated hydrocarbon group. The saturated hydrocarbon ring may be a single ring or a condensed ring, a polycyclo ring, a spiro ring or a ring assembly composed of two or more rings. R x preferably has 3 to 15 carbon atoms.

は上記式(6)で表される成分(重合体)を得るために用いられるモノマーとしての多価カルボン酸からカルボキシル基を除いて誘導される基である。モノマーとしての多価カルボン酸は、重縮合の反応温度よりも高い沸点を有することが好ましい。 R x is a group derived by removing a carboxyl group from a polyvalent carboxylic acid as a monomer used to obtain the component (polymer) represented by the above formula (6). The polyvalent carboxylic acid as a monomer preferably has a boiling point higher than the reaction temperature of polycondensation.

より具体的には、Rはシクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロへプタン、シクロオクタン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、アダマンタン、水素化ヒドロナフタレン及び水素化ビフェニルから選ばれる環式脂肪族炭化水素から水素原子を除くことにより誘導される2価の基であることが好ましい。Rがこれらの基であることにより、透明で熱による着色の少ない硬化物が得られるという効果がより一層顕著に奏される。これら環式飽和炭化水素は、ハロゲン原子又は直鎖状若しくは分岐状の炭化水素基(好ましくは飽和炭化水素基)で置換されていてもよい。 More specifically, R x is hydrogen from a cycloaliphatic hydrocarbon selected from cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, norbornene, dicyclopentadiene, adamantane, hydrogenated hydronaphthalene and hydrogenated biphenyl. A divalent group derived by removing an atom is preferable. When R x is these groups, the effect of obtaining a cured product that is transparent and less colored by heat is more remarkably exhibited. These cyclic saturated hydrocarbons may be substituted with a halogen atom or a linear or branched hydrocarbon group (preferably a saturated hydrocarbon group).

特に、Rは1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、1,4−シクロヘキサンジカルボン酸又はこれらの誘導体からカルボキシル基を除いて誘導される基であることが好ましい。すなわち、Rは下記式(7)で表される2価の基であることが好ましい。下記式(7)中、mは0〜4の整数を示す。Rはハロゲン原子又は直鎖状若しくは分岐状の炭素数1〜4の炭化水素基を示す。mが2〜4であるとき、複数のRは同一でも異なっていてもよく、互いに連結して環を形成していてもよい。 In particular, R x is preferably a group derived by removing a carboxyl group from 1,2-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid or derivatives thereof. That is, R x is preferably a divalent group represented by the following formula (7). In following formula (7), m shows the integer of 0-4. R z represents a halogen atom or a linear or branched hydrocarbon group having 1 to 4 carbon atoms. When m is 2 to 4, a plurality of R z may be the same or different, and may be connected to each other to form a ring.

Figure 0005699443
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上記式(6)中の末端基であるRは酸無水物基又はカルボン酸エステル基で置換されていてもよい1価の炭化水素基を示す。2個のRは同一でも異なっていてもよい。Rは、直鎖状、分岐状若しくは環状の炭素数2〜15の脂肪族若しくは芳香族モノカルボン酸(安息香酸等)からカルボキシル基を除くことにより誘導される1価の基であってもよい。 R y which is a terminal group in the above formula (6) represents a monovalent hydrocarbon group which may be substituted with an acid anhydride group or a carboxylic ester group. Two R y may be the same or different. R y may be a monovalent group derived by removing a carboxyl group from a linear, branched, or cyclic C 2-15 aliphatic or aromatic monocarboxylic acid (benzoic acid or the like). Good.

は、好ましくは、下記式(8)で表される1価の基、又は、シクロブタン、シクロペンタン、シクロヘキサン、シクロへプタン、シクロオクタン、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、アダマンタン、水素化ナフタレン及び水素化ビフェニルから選ばれる環式脂肪族炭化水素から水素原子を除くことにより誘導される1価の基である。Rがこれらの基であることにより、熱による着色の少ない硬化物が得られるという効果がより一層顕著に奏される。また、Rがこれらの基であると、多価カルボン酸縮合体中のカルボン酸残基の濃度が低減すると共に、分子量の分散を抑えることができる。 R y is preferably a monovalent group represented by the following formula (8), or cyclobutane, cyclopentane, cyclohexane, cycloheptane, cyclooctane, norbornene, dicyclopentadiene, adamantane, hydrogenated naphthalene and hydrogen It is a monovalent group derived by removing a hydrogen atom from a cycloaliphatic hydrocarbon selected from conjugated biphenyl. By Ry being these groups, the effect of obtaining a cured product with less coloring due to heat is more remarkably exhibited. Further, when R y is such a group, the concentration of the carboxylic acid residue in the polyvalent carboxylic acid condensate can be reduced, and dispersion of the molecular weight can be suppressed.

Figure 0005699443
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が上記式(7)で表される2価の基であり、同時に、Rが上記式(8)で表される1価の基であってもよい。すなわち、本実施形態に係る多価カルボン酸縮合体は、上記式(6)で表される成分として、下記式(1a)で表される成分を含んでいてもよい。 R x may be a divalent group represented by the above formula (7), and at the same time, R y may be a monovalent group represented by the above formula (8). That is, the polyvalent carboxylic acid condensate according to the present embodiment may include a component represented by the following formula (1a) as the component represented by the above formula (6).

Figure 0005699443
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上記式(1a)のnは、上記式(6)のnと同様に、1以上の整数を示し、好ましくは1〜200の整数である。 N 1 in the above formula (1a), similarly to the n 1 of the formula (6) represents an integer of 1 or more, preferably 1 to 200 integer.

多価カルボン酸縮合体の重量平均分子量(Mw)は、200〜20000であることが好ましい。Mwが200未満では、粘度が低くなりすぎて熱硬化性樹脂組成物のトランスファー成形時の熱硬化性樹脂組成物の汚れの発生を抑制し難くなる傾向があり、20000を超えると、エポキシ樹脂との相溶性が低下する傾向や、熱硬化性樹脂組成物のトランスファー成形時の流動性が低下する傾向がある。   The weight average molecular weight (Mw) of the polyvalent carboxylic acid condensate is preferably 200 to 20000. If Mw is less than 200, the viscosity tends to be too low to make it difficult to suppress the occurrence of contamination of the thermosetting resin composition during transfer molding of the thermosetting resin composition. There is a tendency that the compatibility of the thermosetting resin composition is lowered and the fluidity at the time of transfer molding of the thermosetting resin composition is lowered.

重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により標準ポリスチレンによる検量線を用いて下記条件で測定することで得られる。
(GPC条件)
ポンプ:L−6200型(株式会社日立製作所製、商品名)
カラム:TSKgel―G5000HXL及びTSKgel−G2000HXL(東ソー株式会社製、商品名)
検出器:L−3300RI型(株式会社日立製作所製、商品名)
溶離液:テトラヒドロフラン
測定温度:30℃
流量:1.0mL/分
The weight average molecular weight is obtained by measuring under the following conditions using a standard polystyrene calibration curve by gel permeation chromatography (GPC).
(GPC conditions)
Pump: L-6200 type (manufactured by Hitachi, Ltd., trade name)
Column: TSKgel-G5000HXL and TSKgel-G2000HXL (trade name, manufactured by Tosoh Corporation)
Detector: L-3300RI type (manufactured by Hitachi, Ltd., trade name)
Eluent: Tetrahydrofuran Measurement temperature: 30 ° C
Flow rate: 1.0 mL / min

多価カルボン酸縮合体は、多価カルボン酸及び必要に応じて用いられるモノカルボン酸を含む反応液中で脱水縮合させることにより得られる。例えば、下記式(9)で表されるジカルボン酸及び下記式(10)で表されるモノカルボン酸を含む反応液中で、それぞれが有するカルボキシル基を分子間で脱水縮合させる工程を備える方法によって得ることができる。   The polyvalent carboxylic acid condensate can be obtained by dehydration condensation in a reaction solution containing a polyvalent carboxylic acid and a monocarboxylic acid used as necessary. For example, in a reaction solution containing a dicarboxylic acid represented by the following formula (9) and a monocarboxylic acid represented by the following formula (10), a method comprising a step of dehydrating and condensing each carboxyl group between molecules Can be obtained.

Figure 0005699443
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Figure 0005699443
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脱水縮合の反応液は、例えば、多価カルボン酸及びモノカルボン酸と、これらを溶解する無水酢酸又は無水プロピオン酸、塩化アセチル、脂肪族酸塩化物及び有機塩基(トリメチルアミン等)から選ばれる脱水剤とを含有する。例えば、反応液を5〜60分にわたって窒素雰囲気下で還流した後、反応液の温度を180℃まで上昇させて窒素気流下の開放系で、生成する酢酸及び水を留去することにより重縮合を進行させる。揮発成分の発生が認められなくなった時点で、反応容器内を減圧しながら180℃の温度で3時間にわたって、より好ましくは8時間にわたって溶融状態で重縮合を進行させる。生成した多価カルボン酸縮合体を、無水酢酸等の非プロトン性溶媒を用いた再結晶や再沈殿法によって精製してもよい。   The dehydrating condensation reaction liquid is, for example, a polyhydric carboxylic acid and a monocarboxylic acid, and a dehydrating agent selected from acetic anhydride or propionic anhydride, acetyl chloride, an aliphatic acid chloride, and an organic base (such as trimethylamine) that dissolve them. Containing. For example, after the reaction solution is refluxed in a nitrogen atmosphere for 5 to 60 minutes, the temperature of the reaction solution is increased to 180 ° C., and polycondensation is performed by distilling off the generated acetic acid and water in an open system under a nitrogen stream. To advance. When generation of volatile components is no longer observed, polycondensation proceeds in a molten state at a temperature of 180 ° C. for 3 hours, more preferably for 8 hours while reducing the pressure in the reaction vessel. The produced polyvalent carboxylic acid condensate may be purified by recrystallization or reprecipitation using an aprotic solvent such as acetic anhydride.

なお、脱水縮合反応において、所望のICIコーンプレート粘度、重量平均分子量、軟化点が得られるように適宜反応条件を変えることができ、上記反応条件に限られるものではない。例えば、多価カルボン酸縮合体の縮合反応前の、多価カルボン酸とモノカルボン酸の仕込み組成比により、生成物のICIコーンプレート粘度、重量平均分子量および軟化点を所望の値に調整することができる。多価カルボン酸の比率が多くなるほど、ICIコーンプレート粘度、重量平均分子量、軟化点が増加する傾向にある。   In the dehydration condensation reaction, reaction conditions can be appropriately changed so as to obtain desired ICI corn plate viscosity, weight average molecular weight, and softening point, and the reaction conditions are not limited to the above. For example, the ICI cone plate viscosity, weight average molecular weight and softening point of the product are adjusted to desired values by the composition ratio of the polycarboxylic acid and monocarboxylic acid before the condensation reaction of the polycarboxylic acid condensate. Can do. As the ratio of polyvalent carboxylic acid increases, the ICI cone plate viscosity, weight average molecular weight, and softening point tend to increase.

多価カルボン酸縮合体は、モノカルボン酸の2分子との縮合物、多価カルボン酸とモノカルボン酸との縮合物、多価カルボン酸及びモノカルボン酸の未反応物、並びに、無水酢酸及び無水プロピオン酸等の反応試薬と多価カルボン酸又はモノカルボン酸とが縮合反応して生成する酸無水物のような副生成物を含んでいる場合がある。これら副生成物は、精製によって除いてもよく、また、混合物のまま硬化剤として用いることも出来る。   The polycarboxylic acid condensate is a condensate of two molecules of monocarboxylic acid, a condensate of polycarboxylic acid and monocarboxylic acid, an unreacted product of polycarboxylic acid and monocarboxylic acid, and acetic anhydride and There may be cases where a by-product such as an acid anhydride formed by a condensation reaction between a reaction reagent such as propionic anhydride and a polyvalent carboxylic acid or monocarboxylic acid is included. These by-products may be removed by purification, or may be used as a curing agent in a mixture.

多価カルボン酸縮合体の軟化点は、40℃〜180℃であることが好ましい。軟化点が40℃未満では熱硬化性樹脂組成物の製造時においてハンドリング性、混練性及び白色顔料の分散性が低下し、トランスファー成形時の熱硬化性樹脂組成物の汚れの発生を効果的に抑え難くなる傾向がある。軟化点が180℃を超えると、トランスファー成形によって170℃〜190℃に加熱した場合に樹脂組成物中に硬化剤が溶け残る可能性があり、均一な成形体が得られ難くなる傾向がある。   The softening point of the polyvalent carboxylic acid condensate is preferably 40 ° C to 180 ° C. When the softening point is less than 40 ° C., the handling property, kneading property and white pigment dispersibility are reduced during the production of the thermosetting resin composition, and the occurrence of contamination of the thermosetting resin composition during transfer molding is effectively prevented. There is a tendency to be difficult to suppress. When the softening point exceeds 180 ° C., the curing agent may remain undissolved in the resin composition when heated to 170 ° C. to 190 ° C. by transfer molding, and it tends to be difficult to obtain a uniform molded body.

多価カルボン酸縮合体の軟化点は、主鎖の構造の選択と重量平均分子量の調整で所望の範囲にすることができる。一般に、モノマーとして長鎖の二価カルボン酸を用いると軟化点を低くすることができ、また、極性の高い構造を導入すると軟化点を高くすることができる。また、一般に、重量平均分子量を大きくすれば軟化点を低下させることができる。   The softening point of the polyvalent carboxylic acid condensate can be set to a desired range by selecting the structure of the main chain and adjusting the weight average molecular weight. Generally, when a long-chain divalent carboxylic acid is used as a monomer, the softening point can be lowered, and when a highly polar structure is introduced, the softening point can be raised. In general, the softening point can be lowered by increasing the weight average molecular weight.

本発明の熱硬化性樹脂組成物において、(B)硬化剤として、上記多価カルボン酸縮合体と共に、電子部品封止用エポキシ樹脂成形材料で一般に使用されている硬化剤を併用することができる。このような硬化剤としては、エポキシ樹脂と反応するものであれば、特に限定されないが、無色又は淡黄色であることが好ましい。このような硬化剤として、例えば、酸無水物系硬化剤、イソシアヌル酸誘導体系硬化剤、フェノール系硬化剤が挙げられる。   In the thermosetting resin composition of the present invention, as the (B) curing agent, together with the polyvalent carboxylic acid condensate, a curing agent generally used in epoxy resin molding materials for electronic component sealing can be used in combination. . Such a curing agent is not particularly limited as long as it reacts with the epoxy resin, but is preferably colorless or light yellow. Examples of such a curing agent include an acid anhydride curing agent, an isocyanuric acid derivative curing agent, and a phenol curing agent.

酸無水物系硬化剤としては、例えば、無水フタル酸、無水マレイン酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、無水ナジック酸、無水グルタル酸、無水ジメチルグルタル酸、無水ジエチルグルタル酸、無水コハク酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸が挙げられる。   Examples of the acid anhydride curing agent include phthalic anhydride, maleic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyl nadic anhydride, nadic anhydride, glutaric anhydride. Examples include acid, dimethyl glutaric anhydride, diethyl glutaric anhydride, succinic anhydride, methyl hexahydrophthalic anhydride, and methyl tetrahydrophthalic anhydride.

イソシアヌル酸誘導体としては、1,3,5−トリス(1−カルボキシメチル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(2−カルボキシエチル)イソシアヌレート、1,3,5−トリス(3−カルボキシプロピル)イソシアヌレート、1,3−ビス(2−カルボキシエチル)イソシアヌレートが挙げられる。   Isocyanuric acid derivatives include 1,3,5-tris (1-carboxymethyl) isocyanurate, 1,3,5-tris (2-carboxyethyl) isocyanurate, 1,3,5-tris (3-carboxypropyl) ) Isocyanurate, 1,3-bis (2-carboxyethyl) isocyanurate.

これらの硬化剤の中では、無水フタル酸、無水トリメリット酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水グルタル酸、無水ジメチルグルタル酸、無水ジエチルグルタル酸又は1,3,5−トリス(3−カルボキシプロピル)イソシアヌレートを用いることが好ましい。また、上記硬化剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせてもよい。これらの併用可能な硬化剤を含む場合、上記多価カルボン酸縮合体との配合比率を変えることによって、(B)硬化剤の全体としての粘度を調整することができ、好ましい。   Among these curing agents, phthalic anhydride, trimellitic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, glutaric anhydride, dimethylglutaric anhydride, anhydrous It is preferable to use diethyl glutaric acid or 1,3,5-tris (3-carboxypropyl) isocyanurate. Moreover, the said hardening | curing agent may be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. When these curing agents that can be used in combination are included, the viscosity of the (B) curing agent as a whole can be adjusted by changing the blending ratio with the polyvalent carboxylic acid condensate, which is preferable.

上述の併用可能な硬化剤は、分子量が100〜400であることが好ましい。また、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸等の芳香環を有する酸無水物よりも、芳香環の不飽和結合のすべてを水素化した無水物が好ましい。酸無水物系硬化剤として、ポリイミド樹脂の原料として一般的に使用される酸無水物を用いてもよい。   The above-described curing agent that can be used in combination preferably has a molecular weight of 100 to 400. In addition, an anhydride obtained by hydrogenating all unsaturated bonds of an aromatic ring is preferable to an acid anhydride having an aromatic ring such as trimellitic anhydride or pyromellitic anhydride. As the acid anhydride curing agent, an acid anhydride generally used as a raw material for the polyimide resin may be used.

本発明の熱硬化性樹脂組成物において、(B)硬化剤の配合量は、(A)エポキシ樹脂100質量部に対して、1〜150質量部であることが好ましく、熱硬化性樹脂組成物の硬化物のよごれを抑制するという観点から、50〜120質量部であることがより好ましい。   In the thermosetting resin composition of the present invention, the blending amount of the (B) curing agent is preferably 1 to 150 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the (A) epoxy resin, and the thermosetting resin composition. From the viewpoint of suppressing the contamination of the cured product, it is more preferably 50 to 120 parts by mass.

また、(B)硬化剤は、(A)エポキシ樹脂中のエポキシ基1当量に対して、当該エポキシ基との反応可能な(B)硬化剤中の活性基(酸無水物基又は水酸基)が0.5〜0.9当量となるように配合することが好ましく、0.7〜0.8当量となることがより好ましい。上記活性基が0.5当量未満では、熱硬化性樹脂組成物の硬化速度が遅くなると共に、得られる硬化物のガラス転移温度が低くなり、充分な弾性率が得られ難くなる傾向がある。一方、上記活性基が0.9当量を超えると、硬化物の強度が低下する傾向がある。   Further, (B) the curing agent has an active group (an acid anhydride group or a hydroxyl group) in (B) the curing agent capable of reacting with the epoxy group with respect to 1 equivalent of the epoxy group in (A) the epoxy resin. It is preferable to mix | blend so that it may become 0.5-0.9 equivalent, and it is more preferable that it will be 0.7-0.8 equivalent. If the said active group is less than 0.5 equivalent, while the cure rate of a thermosetting resin composition will become slow, the glass transition temperature of the hardened | cured material obtained will become low, and there exists a tendency for sufficient elasticity modulus to become difficult to be obtained. On the other hand, when the said active group exceeds 0.9 equivalent, there exists a tendency for the intensity | strength of hardened | cured material to fall.

<(C)白色顔料>
本発明の熱硬化性樹脂組成物において、(C)白色顔料としては、公知のものを使用することができ、特に限定されない。(C)白色顔料としては、例えば、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸バリウム、マイカ、ベリリア、チタン酸バリウム、チタン酸カリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム、炭酸アルミニウム、ケイ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、窒化ケイ素、窒化ホウ素、焼成クレー等のクレー、タルク、ホウ酸アルミニウム、ホウ酸アルミニウム、炭化ケイ素、無機中空粒子が挙げられる。中でも特に、(C)白色顔料は、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び無機中空粒子からなる群より選ばれる少なくとも1種の無機物を含むことが好ましい。無機中空粒子としては、例えば、珪酸ソーダガラス、アルミ珪酸ガラス、硼珪酸ソーダガラス、シラス(白砂)が挙げられる。
<(C) White pigment>
In the thermosetting resin composition of the present invention, as the white pigment (C), a known pigment can be used and is not particularly limited. The (C) a white pigment, for example, Alumina, magnesium oxide, antimony oxide, titanium oxide, zirconium oxide, antimony oxide, aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, barium sulfate, magnesium carbonate, barium carbonate, mica, beryllia, titanium Barium, potassium titanate, strontium titanate, calcium titanate, aluminum carbonate, aluminum silicate, calcium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, silicon nitride, boron nitride, calcined clay, etc., talc, aluminum borate , Aluminum borate, silicon carbide, and inorganic hollow particles. Among others, (C) a white pigment, the alumina, magnesium oxide, antimony oxide, titanium oxide, may comprise at least one inorganic material selected from the group consisting of zirconium oxide and inorganic hollow particles preferably. Examples of the inorganic hollow particles include sodium silicate glass, aluminum silicate glass, borosilicate soda glass, and shirasu (white sand).

本発明の熱硬化性樹脂組成物が、(C)白色顔料を含むことにより、熱硬化性樹脂組成物の硬化物は優れた反射率を有することとなり、光半導体搭載用基板に備えられる光反射用材料として用いた場合に、高輝度の光半導体装置を得ることができる。   When the thermosetting resin composition of the present invention contains (C) a white pigment, the cured product of the thermosetting resin composition has an excellent reflectance, and the light reflection provided in the substrate for mounting an optical semiconductor. When used as a material for an optical device, a high-brightness optical semiconductor device can be obtained.

白色顔料の粒径は、中心粒径が0.1〜50μmであることが好ましい。中心粒径が0.1μm未満であると粒子が凝集しやすく分散性が低下する傾向があり、50μmを超えると熱硬化性樹脂組成物からなる硬化物の反射特性が十分に得られ難くなる。   The white pigment preferably has a center particle size of 0.1 to 50 μm. When the center particle size is less than 0.1 μm, the particles tend to aggregate and the dispersibility tends to decrease, and when it exceeds 50 μm, it is difficult to sufficiently obtain the reflection characteristics of the cured product made of the thermosetting resin composition.

(C)白色顔料の配合量は、特に限定されないが、熱硬化性樹脂組成物全体に対して、10〜85体積%であることが好ましく、20〜75体積%であることがより好ましい。この配合量が10体積%未満であると硬化後の熱硬化性樹脂組成物の光反射特性が十分に得られ難い傾向があり、85体積%を超えると熱硬化性樹脂組成物の成形性が低下する傾向がある。   (C) Although the compounding quantity of a white pigment is not specifically limited, It is preferable that it is 10-85 volume% with respect to the whole thermosetting resin composition, and it is more preferable that it is 20-75 volume%. If the blending amount is less than 10% by volume, the light-reflecting properties of the cured thermosetting resin composition tend not to be sufficiently obtained, and if it exceeds 85% by volume, the moldability of the thermosetting resin composition tends to be low. There is a tendency to decrease.

<その他の成分>
(硬化促進剤)
本発明の熱硬化性樹脂組成物には、必要に応じて硬化促進剤を配合することができる。硬化促進剤としては、(A)エポキシ樹脂及び(B)硬化剤の硬化反応を促進させるような触媒機能を有するものであれば、特に限定されることなく用いることができる。硬化促進剤としては、例えば、アミン化合物、イミダゾール化合物、有機リン化合物、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、第4級アンモニウム塩が挙げられる。これらの硬化促進剤の中でも、アミン化合物、イミダゾール化合物又は有機リン化合物を用いることが好ましい。
<Other ingredients>
(Curing accelerator)
A curing accelerator can be blended in the thermosetting resin composition of the present invention as necessary. As a hardening accelerator, if it has a catalyst function which accelerates | stimulates hardening reaction of (A) epoxy resin and (B) hardening | curing agent, it can use without being specifically limited. Examples of the curing accelerator include amine compounds, imidazole compounds, organic phosphorus compounds, alkali metal compounds, alkaline earth metal compounds, and quaternary ammonium salts. Among these curing accelerators, it is preferable to use an amine compound, an imidazole compound, or an organic phosphorus compound.

アミン化合物としては、例えば、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,4,0)ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、トリ−2,4,6−ジメチルアミノメチルフェノールが挙げられる。イミダゾール化合物として、例えば、2−エチル−4−メチルイミダゾールが挙げられる。有機リン化合物としては、例えば、トリフェニルホスフィン、テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチオエート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−テトラフルオロボレート、テトラ−n−ブチルホスホニウム−テトラフェニルボレートが挙げられる。これらの硬化促進剤は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用してもよい。   Examples of the amine compound include 1,8-diaza-bicyclo (5,4,0) undecene-7, triethylenediamine, and tri-2,4,6-dimethylaminomethylphenol. Examples of the imidazole compound include 2-ethyl-4-methylimidazole. Examples of the organic phosphorus compound include triphenylphosphine, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate, tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethylphosphorodithioate, tetra-n-butylphosphonium-tetrafluoroborate, tetra-n. -Butylphosphonium-tetraphenylborate. These curing accelerators may be used alone or in combination of two or more.

上記硬化促進剤の配合量は、(A)エポキシ樹脂100質量部に対して、0.01〜8重量部であることが好ましく、0.1〜3質量部であることがより好ましい。硬化促進剤の含有量が、0.01質量部未満では、十分な硬化促進効果を得られない場合があり、8質量部を超えると、熱硬化性油脂組成物の硬化物に変色が見られる場合がある。   The blending amount of the curing accelerator is preferably 0.01 to 8 parts by weight and more preferably 0.1 to 3 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (A) epoxy resin. When the content of the curing accelerator is less than 0.01 parts by mass, a sufficient curing acceleration effect may not be obtained. When the content exceeds 8 parts by mass, discoloration is observed in the cured product of the thermosetting oil and fat composition. There is a case.

(カップリング剤)
熱硬化性樹脂組成物には、(A)エポキシ樹脂及び(B)硬化剤と、(C)白色顔料との接着性を向上させる観点からカップリング剤を添加することが好ましい。カップリング剤としては、特に限定されないが、例えば、シランカップリング剤及びチタネート系カップリング剤が挙げられる。シランカップリング剤としては、一般にエポキシシラン系、アミノシラン系、カチオニックシラン系、ビニルシラン系、アクリルシラン系、メルカプトシラン系及びこれらの複合系が挙げられ、任意の添加量で用いることができる。なお、カップリング剤の配合量は、熱硬化性樹脂組成物全体に対して5質量%以下であることが好ましい。
(Coupling agent)
A coupling agent is preferably added to the thermosetting resin composition from the viewpoint of improving the adhesion between (A) the epoxy resin and (B) the curing agent and (C) the white pigment. Although it does not specifically limit as a coupling agent, For example, a silane coupling agent and a titanate coupling agent are mentioned. Examples of the silane coupling agent generally include epoxy silane, amino silane, cationic silane, vinyl silane, acryl silane, mercapto silane, and composites thereof, and can be used in any amount. In addition, it is preferable that the compounding quantity of a coupling agent is 5 mass% or less with respect to the whole thermosetting resin composition.

また、本実施形態の樹熱硬化性脂組成物には、必要に応じて、酸化防止剤、離型剤、イオン捕捉剤等の添加剤を添加してもよい。   Moreover, you may add additives, such as antioxidant, a mold release agent, and an ion capture agent, to the tree thermosetting fat composition of this embodiment as needed.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、上記した各種成分を均一に分散混合することで得ることができ、その手段や条件等は特に限定されない。   The thermosetting resin composition of the present invention can be obtained by uniformly dispersing and mixing the various components described above, and means and conditions thereof are not particularly limited.

以下、本発明の熱硬化性樹脂組成物からなる硬化物を製造する方法について説明する。熱硬化性樹脂組成物からなる硬化物は、例えば熱硬化性樹脂組成物をトランスファー成形することにより製造される。熱硬化性樹脂組成物は、液体、固体、ペースト等、いずれの状態であってもよいが、トランスファー成形の際、成形金型に注入する前段階の形状をタブレットとする観点から、固体であることが好ましく、剛性を有する固体であることがより好ましい。   Hereinafter, a method for producing a cured product comprising the thermosetting resin composition of the present invention will be described. A cured product made of the thermosetting resin composition is produced, for example, by transfer molding the thermosetting resin composition. The thermosetting resin composition may be in any state such as liquid, solid, paste, etc., but is solid from the viewpoint of forming a tablet at the previous stage of injection molding into a molding die. It is preferable that it is a solid having rigidity.

ここで、本発明の熱硬化性樹脂組成物の好適な一実施形態として、本発明の熱硬化性樹脂組成物からなる粉末、タブレット及びその製造方法について、図2及び3を参照しながら説明する。図2は、本発明の熱硬化性樹脂組成物を原料として用い、タブレットの原料となる粉末を製造する方法を示す概略図である。図3は、タブレットを成形する方法を示す概略断面図である。   Here, as a preferred embodiment of the thermosetting resin composition of the present invention, a powder, a tablet comprising the thermosetting resin composition of the present invention, and a manufacturing method thereof will be described with reference to FIGS. . FIG. 2 is a schematic view showing a method for producing a powder as a raw material for tablets using the thermosetting resin composition of the present invention as a raw material. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a method for forming a tablet.

本実施形態のタブレットの原料となる粉末の製造方法は、(I)原料供給工程、(II)混練工程、(III)シート化工程及び(IV)粉砕工程を備える。   The manufacturing method of the powder used as the raw material of the tablet of this embodiment comprises (I) raw material supply process, (II) kneading process, (III) sheeting process, and (IV) pulverization process.

(I)原料供給工程
上述した、本発明の熱硬化性樹脂組成物の構成成分である原料を、原料供給部11に供給する。
(I) Raw material supply process The raw material which is a structural component of the thermosetting resin composition of this invention mentioned above is supplied to the raw material supply part 11. FIG.

(II)混練工程
原料供給部11から供給された原料を、ニーダー、ロールミル、エクストルーダー等の混練機12によって混練する。原料を混練する際には、各成分の分散性を向上する観点から、溶融状態で、スクリューを備える混練機を用いることが好ましい。混練の条件は、各成分の種類や配合量により適宜決定すればよく、例えば、40℃〜150℃で0.5〜40分間混練することが好ましく、50℃〜130℃で1〜20分間混練することがより好ましい。混練温度が40℃未満であると、各成分を混練させ難くなり、分散性も低下する傾向にあり、150℃を超えると、樹脂組成物の高分子量化が進行し、樹脂組成物が硬化してしまう可能性がある。また、混練時間が5分未満であると、トランスファー成形時に樹脂バリが発生してしまう可能性がある。混練時間が40分を超えると、樹脂組成物の高分子量化が進行し、樹脂組成物が硬化してしまう可能性がある。
(II) Kneading Step The raw material supplied from the raw material supply unit 11 is kneaded by a kneader 12 such as a kneader, a roll mill, or an extruder. When kneading the raw materials, it is preferable to use a kneader equipped with a screw in a molten state from the viewpoint of improving the dispersibility of each component. The kneading conditions may be appropriately determined depending on the type and blending amount of each component. For example, kneading is preferably performed at 40 ° C. to 150 ° C. for 0.5 to 40 minutes, and kneaded at 50 ° C. to 130 ° C. for 1 to 20 minutes. More preferably. When the kneading temperature is less than 40 ° C., it becomes difficult to knead each component and the dispersibility tends to decrease. When the kneading temperature exceeds 150 ° C., the resin composition is increased in molecular weight, and the resin composition is cured. There is a possibility that. If the kneading time is less than 5 minutes, resin burrs may be generated during transfer molding. If the kneading time exceeds 40 minutes, the resin composition may be increased in molecular weight and the resin composition may be cured.

(II)混練工程では、まず、(A)エポキシ樹脂及び(B)硬化剤を予め混合する予備混合を行い、その後、他の成分を加えて、上記の混練を行ってもよい。(A)エポキシ樹脂及び(B)硬化剤を用いて予備混合を行うことで得られる熱硬化性樹脂組成物は、貯蔵安定性が向上し、トランスファー成形時の成形性により優れるものとなる。   In the (II) kneading step, first, (A) an epoxy resin and (B) a curing agent may be preliminarily mixed, and then other components may be added to perform the kneading. A thermosetting resin composition obtained by premixing using (A) an epoxy resin and (B) a curing agent has improved storage stability and is excellent in moldability during transfer molding.

予備混合工程における、(A)エポキシ樹脂及び(B)硬化剤からなる予備混合物の粘度は、100〜150℃で10〜10000mPa・sであることが好ましく、100℃での粘度が10〜10000mPa・sであることがより好ましい。該粘度が10mPa・s未満ではトランスファー成形時にバリが発生しやすくなり、10000mPa・sを超えると成形時の流動性が低下し、金型に熱硬化性樹脂組成物を流し込み難くなり、成形性が低下する傾向がある。   In the premixing step, the viscosity of the premix consisting of (A) the epoxy resin and (B) the curing agent is preferably 10 to 10,000 mPa · s at 100 to 150 ° C., and the viscosity at 100 ° C. is 10 to 10,000 mPa · s. More preferably, it is s. When the viscosity is less than 10 mPa · s, burrs are likely to occur during transfer molding. There is a tendency to decrease.

予備混合工程において、析出物が発生することによって、予備混合物の粘度が増加することを防ぐ観点から、(A)エポキシ樹脂及び(B)硬化剤からなる硬化反応物であるゲル等が析出して、析出物による予備混合物に白濁が生じないように混合条件を調製することが好ましい。「析出物による白濁」とは、電磁波の可視光領域における散乱があることを示す。より具体的には光のレイリー散乱、ミー散乱、回折散乱現象を生じるような、散乱中心を有する微粒子が存在しないことを示す。   From the viewpoint of preventing the viscosity of the premix from increasing due to the generation of precipitates in the premixing step, a gel or the like, which is a curing reaction product composed of (A) an epoxy resin and (B) a curing agent, is deposited. It is preferable to prepare the mixing conditions so as not to cause white turbidity in the preliminary mixture due to precipitates. “White turbidity due to precipitates” indicates that there is scattering of electromagnetic waves in the visible light region. More specifically, it indicates that there is no fine particle having a scattering center that causes Rayleigh scattering, Mie scattering, and diffraction scattering phenomenon of light.

予備混合工程において、具体的には、(A)エポキシ100質量部及び(B)硬化剤120質量部を耐熱ガラス製の容器に秤量し、この混合容器をシリコーンオイルや水等の流体を媒体としたヒーターを用いて、35〜180℃で加熱する方法を用いることができる。加熱方法としては上記の方法に限定されるものではなく、熱電対、電磁波照射等を用いることができ、さらに溶解を促進するために超音波を照射してもよい。   Specifically, in the preliminary mixing step, 100 parts by mass of (A) epoxy and 120 parts by mass of (B) curing agent are weighed in a heat-resistant glass container, and the mixing container is made of a fluid such as silicone oil or water as a medium. The method of heating at 35-180 degreeC can be used using the heater which was made. The heating method is not limited to the above method, and a thermocouple, electromagnetic wave irradiation, or the like can be used, and ultrasonic waves may be irradiated to promote dissolution.

また、予備混合工程において、(A)エポキシ樹脂及び(B)硬化剤は、熱硬化性樹脂組成物に配合する(A)エポキシ樹脂及び(B)硬化剤の一部を予備混合することが可能である。具体的には、(A)エポキシ樹脂100質量部に対し、(B)硬化剤120質量部含む熱硬化性樹脂組成物を製造する場合、まず、(A)エポキシ樹脂50質量部及び(B)硬化剤120質量部を耐熱ガラス製の容器に秤量し、この混合容器をシリコーンオイルや水などの流体を媒体としたヒーターを用いて35〜180℃で加熱することで予備混合物を得る。そして、得られた予備混合物と、残りの(A)エポキシ樹脂50質量部、(C)白色顔料及びその他の成分とを混練機12等により混合し、熱硬化性樹脂組成物を製造してもよい。   In the premixing step, (A) epoxy resin and (B) curing agent can be premixed with (A) epoxy resin and (B) a part of curing agent to be blended in the thermosetting resin composition. It is. Specifically, when producing a thermosetting resin composition containing 120 parts by mass of (B) curing agent with respect to 100 parts by mass of (A) epoxy resin, first, 50 parts by mass of (A) epoxy resin and (B) 120 parts by mass of the curing agent is weighed in a container made of heat-resistant glass, and this mixing container is heated at 35 to 180 ° C. using a heater using a fluid such as silicone oil or water as a medium to obtain a preliminary mixture. And even if the obtained preliminary mixture, the remaining (A) 50 mass parts of epoxy resin, (C) white pigment and other components are mixed by the kneader 12 etc., a thermosetting resin composition is manufactured. Good.

(III)シート形成工程
混練機12から押し出された混練後の熱硬化性樹脂組成物は、室温付近に冷却された二つの回転ロール13の間で、例えば、圧縮、延伸されることによりシート化される。このようにして、シート状の熱硬化性樹脂組成物20が形成される。熱硬化性樹脂組成物が融点100℃以上の有機酸無水物を含むことにより、シート形成工程において、回転ロール表面への混練物の付着を抑制することもできる。
(III) Sheet forming step The kneaded thermosetting resin composition extruded from the kneader 12 is formed into a sheet by, for example, being compressed and stretched between two rotating rolls 13 cooled to near room temperature. Is done. Thus, the sheet-like thermosetting resin composition 20 is formed. When the thermosetting resin composition contains an organic acid anhydride having a melting point of 100 ° C. or higher, adhesion of the kneaded material to the surface of the rotating roll can be suppressed in the sheet forming step.

(III)シート形成工程においては、回転ロールによりシート化された熱硬化性樹脂組成物は、搬送コンベア14上でスポットクーラ等により空冷される。   (III) In the sheet forming step, the thermosetting resin composition formed into a sheet by a rotating roll is air-cooled by a spot cooler or the like on the transport conveyor 14.

(IV)粉砕工程
シート化された熱硬化性樹脂組成物20は、室温付近において乾式粉砕が可能である。本工程においては、シート化された熱硬化性樹脂組成物20を乾式粉砕する。乾式粉砕は、例えば、高速攪拌ミル、ヘンシェルミキサ、パワーミル、ジェットミル、ロールグラニュレータなどの粉砕装置15を用いて行うことができる。これらの粉砕装置15は、目的の粉末粒径により使い分けることができる。シート状の熱硬化性樹脂組成物20が室温付近(0〜30℃)で粉砕できる程度の剛性を有していない(柔軟性を有する)と、摩擦による発熱が生じ、この発熱により、熱硬化性樹脂組成物が粉砕装置15内で付着し、加工が困難となるある場合がある。本発明の熱硬化性樹脂組成物によれば、熱硬化性樹脂組成物の粉砕装置15内への付着を抑制できる。
(IV) Pulverization process The sheet-formed thermosetting resin composition 20 can be dry-pulverized near room temperature. In this step, the sheet-formed thermosetting resin composition 20 is dry-pulverized. The dry pulverization can be performed using a pulverizer 15 such as a high-speed stirring mill, a Henschel mixer, a power mill, a jet mill, or a roll granulator. These pulverizers 15 can be selectively used depending on the target powder particle size. If the sheet-like thermosetting resin composition 20 does not have a rigidity that can be pulverized at around room temperature (0 to 30 ° C.) (has flexibility), heat is generated due to friction. In some cases, the conductive resin composition adheres in the pulverizing apparatus 15 and processing becomes difficult. According to the thermosetting resin composition of the present invention, adhesion of the thermosetting resin composition into the pulverizing device 15 can be suppressed.

また、(IV)粉砕工程においては、粉砕装置15の後段に、微粉末化装置16を備えることが好ましい。これにより、粉砕装置15で得られた粉末を、微粉末化装置16を用いてさらに微粉末化して、タブレットの成形性及びタブレットの強度を向上させることができる。本発明の熱硬化性樹脂組成物によれば、粉末状の熱硬化性樹脂組成物30の微粉末化装置16への付着もまた抑制でき、微粉末化装置16からの粉末状の熱硬化性樹脂組成物30の吐出量が多い場合でも、微粉末化装置16の目詰まりが抑制される。   In addition, in the (IV) pulverization step, it is preferable that a pulverization device 16 is provided at the subsequent stage of the pulverization device 15. Thereby, the powder obtained with the grinding | pulverization apparatus 15 can be further micronized using the micronization apparatus 16, and the moldability of a tablet and the intensity | strength of a tablet can be improved. According to the thermosetting resin composition of the present invention, the adhesion of the powdery thermosetting resin composition 30 to the fine powdering device 16 can also be suppressed, and the powdery thermosetting property from the fine powdering device 16 can be suppressed. Even when the discharge amount of the resin composition 30 is large, clogging of the pulverization apparatus 16 is suppressed.

なお、(IV)粉砕工程を経て得られた粉末状の熱硬化性樹脂組成物30から、後述するようにタブレットを製造する場合において、タブレットを連続自動成形する際には、粉末の熱硬化性樹脂組成物をテーブルフィーダにより定量供給することが好ましい。テーブルフィーダを用いる場合には、粉砕装置15としてパワーミルを用い、加工された粉末を使用することが好ましい。本発明の熱硬化性樹脂組成物によれば、粉末状の熱硬化性樹脂組成物30のテーブルフィーダへの付着もまた抑制できる。   In addition, when manufacturing a tablet from the powdery thermosetting resin composition 30 obtained through the pulverization step as described later, when the tablet is continuously automatically formed, the thermosetting property of the powder It is preferable to quantitatively supply the resin composition with a table feeder. When using a table feeder, it is preferable to use a processed powder using a power mill as the grinding device 15. According to the thermosetting resin composition of the present invention, the adhesion of the powdery thermosetting resin composition 30 to the table feeder can also be suppressed.

上述のようにして、タブレットの原料粉末を製造することができる。以上説明した原料粉末の製造方法によれば、粉末を連続的に製造することができる。これにより、原料粉末及びタブレットの大量生産が可能となる。   As described above, the raw material powder for the tablet can be produced. According to the raw material powder manufacturing method described above, the powder can be continuously manufactured. Thereby, mass production of raw material powder and a tablet is attained.

[タブレットの製造方法]
本実施形態に係るタブレットの製造方法は、タブレットの原料粉末を加圧成形する工程(打錠工程)を備える。本実施形態に係るタブレットの原料粉末を加圧成形することにより、タブレットを作製することができる。図3(a)、(b)に示すように、粉末を充填するための円筒形状の孔を有する第一の成形型(臼型状成形型)21に、原料粉末24を充填し、当該第一の成形型の円筒形状の孔に密着し、かつ、当該孔から出し入れ可能な大きさを有する円筒状の第二の成形型(杵型状成形型)22,23を用いて原料粉末24を加圧することにより、円筒形状に成形された熱硬化性樹脂組成物25が得られる。加圧成形は、例えば、室温において、5〜50MPa、0.1〜5秒間、0.1〜10tの加圧条件で行うことができる。
[Tablet manufacturing method]
The manufacturing method of the tablet which concerns on this embodiment is equipped with the process (tablet process) of pressure-molding the raw material powder of a tablet. A tablet can be produced by pressure-molding the raw material powder of the tablet according to this embodiment. As shown in FIGS. 3 (a) and 3 (b), a raw material powder 24 is filled in a first molding die (mortar-shaped molding die) 21 having a cylindrical hole for filling powder. The raw material powder 24 is formed using cylindrical second molding dies (saddle-shaped molding dies) 22 and 23 that are in close contact with a cylindrical hole of one molding die and have a size that can be taken in and out of the hole. By applying pressure, a thermosetting resin composition 25 molded into a cylindrical shape is obtained. The pressure molding can be performed, for example, at room temperature under a pressing condition of 5 to 50 MPa, 0.1 to 5 seconds, and 0.1 to 10 t.

上記の加圧成形後、成形された熱硬化性樹脂組成物25を抜き出し、図3(c)に示すようなタブレット26を得る。本発明の熱硬化性樹脂組成物からなる原料粉末から成形された熱硬化性樹脂組成物25は、第一及び第二の成形型の表面に付着し難く、ひび割れ等が生じにくいため、良好な外観を有するタブレット26を得ることができる。   After the above pressure molding, the molded thermosetting resin composition 25 is extracted to obtain a tablet 26 as shown in FIG. The thermosetting resin composition 25 molded from the raw material powder composed of the thermosetting resin composition of the present invention is good because it hardly adheres to the surfaces of the first and second molding dies and does not easily crack. A tablet 26 having an appearance can be obtained.

本発明の熱硬化性樹脂組成物は、高い耐熱性を必要とする電気絶縁材料、光半導体封止材料、接着材料、塗料材料並びにトランスファー成形用エポキシ樹脂成形材料など様々な用途において有用である。特に、本発明の熱硬化性樹脂組成物により製造されるタブレット26は、トランスファー成形用の材料として特に有用である。   The thermosetting resin composition of the present invention is useful in various applications such as electrical insulating materials, optical semiconductor sealing materials, adhesive materials, coating materials, and epoxy resin molding materials for transfer molding that require high heat resistance. In particular, the tablet 26 produced by the thermosetting resin composition of the present invention is particularly useful as a material for transfer molding.

[光半導体素子搭載用基板]
本発明の半導体素子搭載用基板は、底面及び壁面から構成される凹部を有し、凹部の底面が光半導体素子搭載部であり、凹部の壁面の少なくとも一部が本発明の熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなるものである。図4は、本発明の光半導体素子搭載用基板の一実施形態を示す斜視図である。光半導体素子搭載用基板110は、Ni/Agめっき104が形成された金属配線105と、リフレクター103とを備え、Ni/Agめっき104が形成された金属配線105とリフレクター103とから形成された凹部200を有している。すなわち、凹部200の底面はNi/Agめっき104が形成された金属配線105から構成され、凹部200の壁面はリフレクター103から構成されるものであり、リフレクター103は、上記本発明の熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる成形体である。
[Optical semiconductor device mounting substrate]
The substrate for mounting a semiconductor element of the present invention has a recess composed of a bottom surface and a wall surface, the bottom surface of the recess is an optical semiconductor element mounting portion, and at least a part of the wall surface of the recess is the thermosetting resin composition of the present invention. It consists of a cured product. FIG. 4 is a perspective view showing an embodiment of the optical semiconductor element mounting substrate of the present invention. The optical semiconductor element mounting substrate 110 includes a metal wiring 105 on which the Ni / Ag plating 104 is formed and a reflector 103, and a recess formed from the metal wiring 105 on which the Ni / Ag plating 104 is formed and the reflector 103. 200. That is, the bottom surface of the concave portion 200 is composed of the metal wiring 105 on which the Ni / Ag plating 104 is formed, and the wall surface of the concave portion 200 is composed of the reflector 103. The reflector 103 is the thermosetting resin of the present invention. It is a molded article made of a cured product of the composition.

本発明の光半導体素子搭載用基板の製造方法は特に限定されないが、例えば、本発明の熱硬化性樹脂組成物を用いたトランスファー成形により製造することができる。図5は、本発明の光半導体素子搭載用基板を製造する工程の一実施形態を示す概略図である。光半導体素子搭載用基板は、例えば、金属箔から打ち抜きやエッチング等の公知の方法により金属配線105を形成し、電気めっきによりNi/Agめっき104を施す工程(図5(a))、次いで、該金属配線105を所定形状の金型151に配置し、金型151の樹脂注入口150から本発明の熱硬化性樹脂組成物を注入し、所定の条件でトランスファー成形する工程(図5(b))、そして、金型151を外す工程(図5(c))を経て製造することができる。このようにして、光半導体素子搭載用基板には、熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなるリフレクター103に周囲を囲まれてなる光半導体素子搭載領域(凹部)200が形成される。好ましくは本発明の熱硬化性樹脂組成物により製造されるタブレット26は、予め30℃〜100℃に加熱することによって、金型151に注入し易い粘度にしておくとよい。なお、上記トランスファー成形の条件としては、金型温度170〜200℃、成形圧力0.5〜20MPaで60〜120秒間、アフターキュア温度120℃〜180℃で1〜3時間が好ましい。   Although the manufacturing method of the optical semiconductor element mounting substrate of this invention is not specifically limited, For example, it can manufacture by transfer molding using the thermosetting resin composition of this invention. FIG. 5 is a schematic view showing an embodiment of a process for producing an optical semiconductor element mounting substrate of the present invention. The substrate for mounting an optical semiconductor element is formed, for example, by forming a metal wiring 105 from a metal foil by a known method such as punching or etching, and applying Ni / Ag plating 104 by electroplating (FIG. 5A), A step of placing the metal wiring 105 in a mold 151 having a predetermined shape, injecting the thermosetting resin composition of the present invention from the resin injection port 150 of the mold 151, and performing transfer molding under predetermined conditions (FIG. 5B )), And a step of removing the mold 151 (FIG. 5C). In this manner, the optical semiconductor element mounting region (recessed portion) 200 is formed on the optical semiconductor element mounting substrate. The optical semiconductor element mounting region (concave portion) 200 is surrounded by the reflector 103 made of a cured product of the thermosetting resin composition. Preferably, the tablet 26 produced by the thermosetting resin composition of the present invention is preliminarily heated to 30 ° C. to 100 ° C. so as to have a viscosity that can be easily injected into the mold 151. The transfer molding is preferably performed at a mold temperature of 170 to 200 ° C., a molding pressure of 0.5 to 20 MPa for 60 to 120 seconds, and an after cure temperature of 120 to 180 ° C. for 1 to 3 hours.

[光半導体装置]
本発明の光半導体装置は、上記光半導体素子搭載用基板と、光半導体素子搭載用基板の凹部内に設けられた光半導体素子と、凹部を充填して光半導体素子を封止する封止樹脂部とを備えるものである。
[Optical semiconductor device]
An optical semiconductor device of the present invention includes the optical semiconductor element mounting substrate, an optical semiconductor element provided in a recess of the optical semiconductor element mounting substrate, and a sealing resin that fills the recess and seals the optical semiconductor element. Part.

図6は、本発明の光半導体素子搭載用基板110に光半導体素子100を搭載した状態の一実施形態を示す斜視図である。図6に示すように、光半導体素子100は、光半導体素子搭載用基板110の光半導体素子搭載領域(凹部)200の所定位置に搭載され、金属配線105とボンディングワイヤ102により電気的に接続される。図7及び8は、本発明の光半導体装置の一実施形態を示す模式断面図である。図7及び8に示すように、光半導体装置は、光半導体素子搭載用基板110と、光半導体素子搭載用基板110の凹部200内の所定位置に設けられた光半導体素子100と、凹部200を充填して光半導体素子を封止する蛍光体106を含む透明封止樹脂101からなる封止樹脂部とを備えており、光半導体素子100とNi/Agめっき104が形成された金属配線105とがボンディングワイヤ102又ははんだバンプ107により電気的に接続されている。   FIG. 6 is a perspective view showing an embodiment in which the optical semiconductor element 100 is mounted on the optical semiconductor element mounting substrate 110 of the present invention. As shown in FIG. 6, the optical semiconductor element 100 is mounted at a predetermined position of the optical semiconductor element mounting region (recessed portion) 200 of the optical semiconductor element mounting substrate 110 and is electrically connected by the metal wiring 105 and the bonding wire 102. The 7 and 8 are schematic cross-sectional views showing an embodiment of the optical semiconductor device of the present invention. As shown in FIGS. 7 and 8, the optical semiconductor device includes an optical semiconductor element mounting substrate 110, an optical semiconductor element 100 provided at a predetermined position in the concave portion 200 of the optical semiconductor element mounting substrate 110, and the concave portion 200. A sealing resin portion made of a transparent sealing resin 101 including a phosphor 106 that fills and seals the optical semiconductor element, and the optical semiconductor element 100 and the metal wiring 105 on which the Ni / Ag plating 104 is formed; Are electrically connected by bonding wires 102 or solder bumps 107.

図9もまた、本発明の光半導体装置の一実施形態を示す模式断面図である。図9に示す光半導体装置では、リフレクター303が形成されたリード304上の所定位置にダイボンド材306を介してLED素子300が配置され、LED素子300とリード304とがボンディングワイヤ301により電気的に接続され、蛍光体305を含む透明封止樹脂302によりLED体素子300が封止されている。   FIG. 9 is also a schematic cross-sectional view showing an embodiment of the optical semiconductor device of the present invention. In the optical semiconductor device shown in FIG. 9, the LED element 300 is disposed through a die bonding material 306 at a predetermined position on the lead 304 on which the reflector 303 is formed, and the LED element 300 and the lead 304 are electrically connected by the bonding wire 301. The LED body element 300 is sealed with a transparent sealing resin 302 that is connected and includes a phosphor 305.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はこれに制限されるものではない。   As mentioned above, although preferred embodiment of this invention was described, this invention is not restrict | limited to this.

以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example and a comparative example, this invention is not limited to a following example.

<合成例A1>
[多価カルボン酸縮合体の作製]
繰り返し単位用モノマーとして、125gの水素化テレフタル酸(東京化成社製)と、両末端用のモノマーとして、126gの水素化−1,2−無水トリメリット酸(三菱ガス化学社製)とを、無水酢酸中で5〜60分にわたって窒素雰囲気下で還流した後、温度を180℃まで上昇させ、窒素気流下、開放系で反応させ、生成した酢酸及び水を留去した。揮発成分が認められなくなったところで、反応容器内を減圧しながら180℃の温度で1〜15時間にわたって溶融縮合し、多価カルボン酸縮合体を得た。
<Synthesis Example A1>
[Preparation of polyvalent carboxylic acid condensate]
As a repeating unit monomer, 125 g of hydrogenated terephthalic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and as a monomer for both ends, 126 g of hydrogenated 1,2-trimellitic anhydride (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company), After refluxing in acetic anhydride for 5 to 60 minutes under a nitrogen atmosphere, the temperature was raised to 180 ° C., the reaction was carried out in an open system under a nitrogen stream, and the produced acetic acid and water were distilled off. When no volatile components were observed, the reaction vessel was melt-condensed at a temperature of 180 ° C. for 1 to 15 hours while reducing the pressure in the reaction vessel to obtain a polyvalent carboxylic acid condensate.

[多価カルボン酸縮合体の特性評価]
合成例A1で得られた多価カルボン酸縮合体の重量平均分子量、150℃における粘度、軟化点及び外観を評価した。その結果を表1に示す。
[Characteristic evaluation of polyvalent carboxylic acid condensate]
The weight average molecular weight, viscosity at 150 ° C., softening point and appearance of the polyvalent carboxylic acid condensate obtained in Synthesis Example A1 were evaluated. The results are shown in Table 1.

なお、重量平均分子量は、下記条件のゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC)により標準ポリスチレンによる検量線を用いて測定した。
・装置:ポンプ(株式会社日立製作所製、商品名:L−6200型)、カラム(東ソー株式会社製、商品名:TSKgel―G5000HXL、TSKgel−G2000HXL)、検出器(株式会社日立製作所製、商品名:L−3300RI型)
・溶離液:テトラヒドロフラン、流量1.0mL/分
・測定温度:30℃
The weight average molecular weight was measured using a standard polystyrene calibration curve by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions.
Apparatus: Pump (manufactured by Hitachi, Ltd., trade name: L-6200 type), column (manufactured by Tosoh Corporation, trade name: TSKgel-G5000HXL, TSKgel-G2000HXL), detector (trade name, manufactured by Hitachi, Ltd.) : L-3300RI type)
・ Eluent: Tetrahydrofuran, flow rate 1.0 mL / min ・ Measurement temperature: 30 ° C.

粘度測定は、Reseach Equipment(London)LTD.製のICIコーンプレート型粘度計を用いて行った。   Viscosity measurements were taken from Research Equipment (London) LTD. This was carried out using an ICI cone plate viscometer made by the manufacturer.

軟化点は、JISK2207に準拠し、環球式軟化点試験法を用いて測定した。外観については目視で判断した。   The softening point was measured using a ring and ball softening point test method in accordance with JISK2207. The appearance was judged visually.

Figure 0005699443
Figure 0005699443

上記合成例A1で得られた多価カルボン酸縮合体は、軟化点及び粘度ともに熱硬化性樹脂組成物を製造するには非常に扱い易い性状となり、硬化剤の一部として熱硬化性樹脂組成物に好適に用いることができる。   The polyvalent carboxylic acid condensate obtained in Synthesis Example A1 is very easy to handle for producing a thermosetting resin composition with both a softening point and a viscosity, and the thermosetting resin composition as a part of the curing agent. It can use suitably for a thing.

<実施例1〜9、参考例10、11、比較例1〜7>
[熱硬化性樹脂組成物の作製]
表2、3に示した配合比(質量部)に従い、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤を予備混合した後、残りの成分を加え、ミキサーを用いて十分混合した後、ミキシングロールにより所定条件で溶融混練し、冷却した後、25℃において粉砕を行い、実施例1〜9、参考例10、11及び比較例1〜7の熱硬化性樹脂組成物を作製した。
<Examples 1 to 9 , Reference Examples 10 and 11 , Comparative Examples 1 to 7>
[Preparation of thermosetting resin composition]
According to the mixing ratio (parts by mass) shown in Tables 2 and 3, after premixing (A) epoxy resin and (B) curing agent, the remaining components were added and mixed thoroughly using a mixer, and then mixed with a mixing roll. After melt-kneading under a predetermined condition and cooling, pulverization was performed at 25 ° C., and thermosetting resin compositions of Examples 1 to 9 , Reference Examples 10 and 11, and Comparative Examples 1 to 7 were produced.

[熱硬化性樹脂組成物の評価]
(光反射性試験)
得られた熱硬化性樹脂組成物を成形金型温度:180℃、成形圧力:6.9MPa、キュア時間:90秒の条件でトランスファー成形した後、150℃で2時間ポストキュアして、厚み1.0mmのテストピースを作製した。積分球型分光光度計V−750型(日本分光株式会社製、商品名)を用いて、波長460nmにおける上記テストピースの初期光学反射率(光反射率)を測定した。そして、下記の評価基準により光反射特性を評価した。結果を表2、3に示す。
A:光波長460nmにおいて光反射率80%以上
B:光波長460nmにおいて光反射率70%以上、80%未満
C:光波長460nmにおいて光反射率70%未満
[Evaluation of thermosetting resin composition]
(Light reflectivity test)
The obtained thermosetting resin composition was transfer molded under the conditions of molding die temperature: 180 ° C., molding pressure: 6.9 MPa, curing time: 90 seconds, and then post-cured at 150 ° C. for 2 hours to obtain a thickness of 1 A test piece of 0.0 mm was produced. The initial optical reflectivity (light reflectivity) of the test piece at a wavelength of 460 nm was measured using an integrating sphere spectrophotometer V-750 type (trade name, manufactured by JASCO Corporation). The light reflection characteristics were evaluated according to the following evaluation criteria. The results are shown in Tables 2 and 3.
A: Light reflectance of 80% or more at a light wavelength of 460 nm B: Light reflectance of 70% or more and less than 80% at a light wavelength of 460 nm C: Light reflectance of less than 70% at a light wavelength of 460 nm

(混練後の性状評価)
表2、3に示した配合比(質量部)に従い、(A)エポキシ樹脂及び(B)硬化剤を予備混合した後、残りの成分を加え、ミキサーを用いて十分混合した後、小平製作所製2本ロールミルを用いて溶融混練を行なった。60℃で15分間混練した。得られた混練物を25℃で1時間放置した際の性状を、下記の評価基準により評価した。結果を表2、3に示す。
A:固体、柔軟性なし
B:固体、柔軟性あり
C:液体、流動性あり
(Evaluation of properties after kneading)
According to the mixing ratio (parts by mass) shown in Tables 2 and 3, after premixing (A) epoxy resin and (B) curing agent, the remaining components were added and mixed thoroughly using a mixer. Melt kneading was performed using a two-roll mill. It knead | mixed for 15 minutes at 60 degreeC. Properties when the obtained kneaded product was allowed to stand at 25 ° C. for 1 hour were evaluated according to the following evaluation criteria. The results are shown in Tables 2 and 3.
A: Solid, not flexible B: Solid, flexible C: Liquid, fluid

(粉砕性の評価)
スクリーン網目にφ3(径:3mm)を選定し、粉砕装置(ダルトン社製、製品名:P−5)を用いて、上述のように作製した熱硬化性樹脂組成物を粉砕した。100g/minの速度で熱硬化性樹脂組成物を断続的に供給し、粉砕性を評価した。結果を表2、3に示す。
A:良好な粉末が得られる。
B:装置に張り付く成分が見られるが、問題なく粉末が得られる。
C:粉砕不可能(液状、および柔らかすぎて排出されない)
(Evaluation of grindability)
Φ3 (diameter: 3 mm) was selected for the screen mesh, and the thermosetting resin composition produced as described above was pulverized using a pulverizer (product name: P-5, manufactured by Dalton). The thermosetting resin composition was intermittently supplied at a rate of 100 g / min, and the grindability was evaluated. The results are shown in Tables 2 and 3.
A: A good powder is obtained.
B: A component sticking to the apparatus can be seen, but a powder can be obtained without any problem.
C: cannot be pulverized (liquid and too soft to be discharged)

(打錠性の評価)
打錠機(粉末機械工業社製、製品名:FK−10)を使用し、粉末充填部の径の大きさがφ13mmであり、ストロークが60mmである第一の金型を使用した。打錠圧が0.5〜3tの範囲になるよう材料を第一の金型に供給し、6個/分の速度で成形した。打錠後のタブレットが良好に成形できること及び、第二の金型に張り付く程度を下記基準に基づき判定した。結果を表2、3に示す。
(Evaluation of tabletability)
A tableting machine (manufactured by Powder Machinery Co., Ltd., product name: FK-10) was used, and the first mold having a diameter of the powder filling portion of φ13 mm and a stroke of 60 mm was used. The material was supplied to the first mold so that the tableting pressure was in the range of 0.5 to 3 t and molded at a rate of 6 pieces / min. Based on the following criteria, it was determined whether the tablet after tableting could be molded well and the degree of sticking to the second mold. The results are shown in Tables 2 and 3.

A:良好なタブレットが得られる。
B:装置に張り付く成分が見られるが、問題なくタブレットが得られる。
C:打錠不可能(液状、やわらかすぎて成形不可能)。
A: A good tablet is obtained.
B: Although a component sticking to the apparatus is seen, a tablet can be obtained without any problem.
C: Tableting is impossible (liquid, too soft to mold).

(タブレットの外観評価)
上述のようにして作製したタブレットの外観を、下記基準に基づき評価した。結果を表2、3に示す。
(Appearance evaluation of tablet)
The appearance of the tablet produced as described above was evaluated based on the following criteria. The results are shown in Tables 2 and 3.

A:クラックやカケがない。
B:微小なクラックやカケが見られるが、強度は問題がない。
C:クラックやカケが見られる。
A: There are no cracks or chips.
B: Although micro cracks and chips are seen, the strength is not a problem.
C: Cracks and chips are seen.

Figure 0005699443
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Figure 0005699443
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*1:トリスグリシジルイソシアヌレート(エポキシ当量100、日産化学社製、商品名:TEPIC−S)
*2:ヘキサヒドロ無水フタル酸(新日本理化社製 製品名:リカシッドHH)
*3:メチルヘキサヒドロ無水フタル酸(日立化成工業社製 商品名:HN5500)
*4:無水コハク酸(新日本理化工業社製 商品名:リカシッドSA)
*5:水素化無水ピロメリット酸(岩谷瓦斯化学社製 商品名:PMDAHS)
*6:水素化ビフェニル酸二無水物(岩谷瓦斯化学社製 商品名:HBPDA)
*7:テトラヒドロ無水フタル酸(新日本理化社製 製品名:リカシッドTH)
*8:中空粒子(住友3M社製、商品名:S60−HS)
*9:酸化チタン(石原産業社製、商品名:CR−63)
*10:テトラ−n−ブチルホスホニウム−o,o−ジエチルホスホロジチエート(日本化学工業社製、商品名:PX−4ET)
*11:トリメトキシエポキシシラン(東レダウコーニング社製、商品名:A−187)
*12:溶融シリカ(電気化学工業社製、商品名:FB−950)
*13:溶融シリカ(電気化学工業社製、商品名:S0−25R)
* 1: Trisglycidyl isocyanurate (epoxy equivalent 100, manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd., trade name: TEPIC-S)
* 2: Hexahydrophthalic anhydride (product name: Ricacid HH, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.)
* 3: Methylhexahydrophthalic anhydride (trade name: HN5500, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.)
* 4: Succinic anhydride (trade name: Ricacid SA, manufactured by Shin Nippon Rika Kogyo Co., Ltd.)
* 5: Hydrogenated pyromellitic anhydride (trade name: PMDAHS, manufactured by Iwatani Gas Chemical Co., Ltd.)
* 6: Hydrogenated biphenyl dianhydride (trade name: HBPDA, manufactured by Iwatani Gas Chemical Co., Ltd.)
* 7: Tetrahydrophthalic anhydride (Product name: Ricacid TH, manufactured by Shin Nippon Rika Co., Ltd.)
* 8: Hollow particles (manufactured by Sumitomo 3M, trade name: S60-HS)
* 9: Titanium oxide (Ishihara Sangyo Co., Ltd., trade name: CR-63)
* 10: Tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethyl phosphorodithioate (Nippon Chemical Industry Co., Ltd., trade name: PX-4ET)
* 11: Trimethoxyepoxysilane (Toray Dow Corning, product name: A-187)
* 12: Fused silica (manufactured by Denki Kagaku Kogyo, trade name: FB-950)
* 13: Fused silica (trade name: S0-25R, manufactured by Denki Kagaku Kogyo Co., Ltd.)

表2、3に示したように、上記式(1)〜(4)でそれぞれ表わされる酸無水物を(B)硬化剤として含む熱硬化性樹脂組成物は、溶融混練後、25℃において、柔軟性のない固体であった。そして、粉砕装置に付着を生じることなく粉砕できた。得られた粉末をタブレットに成形する際には、金型への粉末の付着は見られず、また、タブレットはひび割れを生じておらず良好な外観を有していた。また、熱硬化性樹脂組成物の硬化物は、光反射特性に優れていた。無水コハク酸は比較例6、7に示したように(C)白色顔料を含まない場合には、硬化物の変色が著しい。しかしながら、実施例1、2及び参考例10に示したように(C)白色顔料として、中空粒子及び酸化チタンを用いる場合には、硬化物は変色しないことが判明した。 As shown in Tables 2 and 3, the thermosetting resin composition containing the acid anhydride represented by each of the above formulas (1) to (4) as the (B) curing agent is obtained at 25 ° C. after melt-kneading. It was an inflexible solid. And it was able to grind | pulverize without producing adhesion to a grinder. When the obtained powder was molded into a tablet, no adhesion of the powder to the mold was observed, and the tablet did not crack and had a good appearance. Moreover, the cured product of the thermosetting resin composition was excellent in light reflection characteristics. As shown in Comparative Examples 6 and 7, when succinic anhydride does not contain (C) a white pigment, discoloration of the cured product is remarkable. However, as shown in Examples 1 and 2 and Reference Example 10 , when hollow particles and titanium oxide were used as the white pigment (C), it was found that the cured product did not change color.

10…原料粉末製造装置、11…原料供給部、12…混練機、13…回転ロール、14…搬送コンベア、15…粉砕装置、16…微粉末化装置、20…シート状の熱硬化性樹脂組成物、13、24…粉末状の熱硬化性樹脂組成物、21…第一の成形型、22、23…第二の成形型、25…加圧成形中の熱硬化性樹脂組成物、26…タブレット、100…光半導体素子、101…透明封止樹脂、102…ボンディングワイヤ、103…熱硬化性樹脂組成物の硬化物(リフレクター)、104…Ni/Agめっき、105…金属配線、106…蛍光体、107…はんだバンプ、110…光半導体素子搭載用基板、200…光半導体素子搭載領域、150…樹脂注入口、151…金型、300…LED素子、301…ボンディングワイヤ、302…透明封止樹脂、303…リフレクター、304…リード、305…蛍光体、306…ダイボンド材。 DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Raw material powder manufacturing apparatus, 11 ... Raw material supply part, 12 ... Kneading machine, 13 ... Rotary roll, 14 ... Conveyor, 15 ... Grinding device, 16 ... Fine powdering apparatus, 20 ... Sheet-like thermosetting resin composition , 13, 24 ... powdered thermosetting resin composition, 21 ... first molding die, 22, 23 ... second molding die, 25 ... thermosetting resin composition during pressure molding, 26 ... Tablet: 100: optical semiconductor element, 101: transparent sealing resin, 102: bonding wire, 103: cured product of thermosetting resin composition (reflector), 104: Ni / Ag plating, 105: metal wiring, 106: fluorescence , 107 ... solder bump, 110 ... substrate for mounting optical semiconductor element, 200 ... mounting area for optical semiconductor element, 150 ... resin injection port, 151 ... mold, 300 ... LED element, 301 ... bonding wire, 302 ... Akirafutome resin, 303 ... Reflector 304 ... lead, 305 ... phosphor, 306 ... die bonding material.

Claims (8)

(A)エポキシ樹脂(B)硬化剤及び(C)白色顔料を含有する熱硬化性樹脂組成物であって、
前記(B)硬化剤は、融点が100℃以上の有機酸無水物と、多価カルボン酸縮合体とを含み、
前記(C)白色顔料は、アルミナ、酸化マグネシウム、酸化アンチモン、酸化チタン、酸化ジルコニウム及び無機中空粒子からなる群より選ばれる少なくとも1種の無機物を含み、
前記無機中空粒子が、珪酸ソーダガラス、アルミ珪酸ガラス、硼珪酸ソーダガラス及びシラス(白砂)からなる群より選ばれる少なくとも1種である、トランスファー成形に用いられる光反射用熱硬化性樹脂組成物。
(A) an epoxy resin (B) a thermosetting resin composition containing a curing agent and (C) a white pigment,
The (B) curing agent includes an organic acid anhydride having a melting point of 100 ° C. or higher, and a polyvalent carboxylic acid condensate,
Wherein (C) white pigment, alumina, magnesium oxide, looking contains at least one inorganic antimony oxide, titanium oxide, selected from the group consisting of zirconium oxide and inorganic hollow particles,
A thermosetting resin composition for light reflection used in transfer molding, wherein the inorganic hollow particles are at least one selected from the group consisting of sodium silicate glass, aluminum silicate glass, sodium borosilicate glass, and shirasu (white sand) .
前記有機酸無水物が、非芳香族化合物である、請求項1に記載の光反射用熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition for light reflection according to claim 1, wherein the organic acid anhydride is a non-aromatic compound. 前記有機酸無水物のハーゼン色数が、50以下である、請求項1又は2に記載の光反射用熱硬化性樹脂組成物。   The thermosetting resin composition for light reflection according to claim 1 or 2, wherein the organic acid anhydride has a Hazen color number of 50 or less. 前記有機酸無水物が、下記式(1)、(2)、(3)、及び(4)でそれぞれ表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種の酸無水物を含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の光反射用熱硬化性樹脂組成物。
Figure 0005699443
The organic acid anhydride contains at least one acid anhydride selected from the group consisting of compounds represented by the following formulas (1), (2), (3), and (4), respectively. The thermosetting resin composition for light reflection as described in any one of -3.
Figure 0005699443
前記有機酸無水物の含有量が、前記(B)硬化剤の質量を基準として、3〜100質量%である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の光反射用熱硬化性樹脂組成物。   The light-reflective thermosetting resin according to any one of claims 1 to 4, wherein the content of the organic acid anhydride is 3 to 100% by mass based on the mass of the (B) curing agent. Composition. 底面及び壁面から構成される凹部を有し、
前記凹部の底面が光半導体素子搭載部であり、前記凹部の壁面の少なくとも一部が請求項1〜5のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる、光半導体素子搭載用基板。
Having a recess composed of a bottom surface and a wall surface;
The optical semiconductor element which the bottom face of the said recessed part is an optical semiconductor element mounting part, and at least one part of the wall surface of the said recessed part consists of hardened | cured material of the thermosetting resin composition as described in any one of Claims 1-5. Mounting board.
底面及び壁面から構成される凹部を有する光半導体素子搭載用基板の製造方法であって、
前記凹部の壁面の少なくとも一部を、請求項1〜5のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物を用いて形成する工程を備える、光半導体素子搭載用基板の製造方法。
A method of manufacturing a substrate for mounting an optical semiconductor element having a recess composed of a bottom surface and a wall surface,
The manufacturing method of the board | substrate for optical semiconductor element mounting provided with the process of forming at least one part of the wall surface of the said recessed part using the thermosetting resin composition as described in any one of Claims 1-5.
底面及び壁面から構成される凹部を有する光半導体素子搭載用基板と、
前記光半導体素子搭載用基板の凹部内に設けられた光半導体素子と、
前記凹部を充填して前記光半導体素子を封止する封止樹脂部と、
を備え、
前記凹部の壁面の少なくとも一部が、請求項1〜5のいずれか一項に記載の熱硬化性樹脂組成物の硬化物からなる、光半導体装置。

An optical semiconductor element mounting substrate having a recess composed of a bottom surface and a wall surface;
An optical semiconductor element provided in a recess of the optical semiconductor element mounting substrate;
A sealing resin portion that fills the recess and seals the optical semiconductor element;
With
The optical semiconductor device in which at least one part of the wall surface of the said recessed part consists of hardened | cured material of the thermosetting resin composition as described in any one of Claims 1-5.

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