JP5690298B2 - 真空制御ユニット - Google Patents

Description

本発明は、電空レギュレータと、エジェクタと、圧力センサを有する真空制御ユニットに関する。

従来から真空制御ユニットは、吐出ノズルから吐出される液の量を調整するためにインクジェット装置に用いられてきた。従来から使用される真空制御ユニットとして、特許文献１に記載される真空制御ユニット１００が存在する。図１０に真空制御ユニット１００の正面図を示す。
図１０の真空制御ユニット１００においては、直方体形状のボディ１０１の上面１０１Ａに電空レギュレータ１０２、エジェクタ１０３、圧力センサ１０４が、それぞれボディ１０１に対して直角に組付け固設されている。
図示しない圧縮流体供給源からの圧縮流体は、ボディ１０１の入力ポート１０１ａを介して電空レギュレータ１０２に供給される。また、エジェクタ１０３の排気ポート１０３ａから圧縮流体が排出されるようになっている。

特開２０１０−２３６４３３号公報

しかしながら、従来技術の真空制御ユニットには、以下の問題があった。
すなわち、本来、真空制御ユニットは、吐出ノズルの１つのノズルヘッドに対して１つ設けられていることが望ましい。その理由は、吐出ノズルから吐出される液の量を正確に調整するためである。しかし、従来技術である特許文献１の真空制御ユニットでは、大きさの問題から吐出ノズル３つに対して１つの真空制御ユニットを用いるのが限界であった。そこで、真空制御ユニットの小型化が求められてきた。

また、特許文献１の真空制御ユニット１００では、電空レギュレータ１０２、エジェクタ１０３がボディ１０１に対して直角に形成されている。そのため、電空レギュレータ１０２を流れる圧縮流体がエジェクタ１０３に流入する際には、圧縮流体が直角方向に流れを変更することになる。直角方向に流れが変更されると圧縮流体の消費効率が悪くなるため問題となる。

そこで、本発明は、上記問題点を解決するためになされたものであり、その目的は圧縮流体の流れを良くした小型の真空制御ユニットを提供することを目的とする。

上記目的を達成するために、本発明の一態様における真空制御ユニットは、以下の構成を有する。
（１）電空レギュレータと、エジェクタと、圧力センサを有する真空制御ユニットにおいて、前記エジェクタは、エジェクタブロックとエジェクタ部材を有すること、前記エジェクタブロックにエジェクタ挿入孔が形成され、前記エジェクタ部材が前記エジェクタ挿入孔に挿入され内蔵されていること、前記電空レギュレータは、出力ポート及び入力ポートを有すること、前記エジェクタ部材は、入力オリフィス孔と排気ポートを有すること、前記入力オリフィス孔と前記排気ポートは同軸心状に形成されていること、前記出力ポートの軸心と前記入力オリフィス孔及び前記排気ポートの同軸心が一致すること、前記エジェクタ部材は、流入口部材、流出口部材を有すること、前記流入口部材と前記流出口部材との間にエジェクタ吸引空間が形成され、前記エジェクタブロック内に前記エジェクタ吸引空間と真空容器を連通する真空流路が形成されていること、前記真空流路内に、ニードル弁又は固定オリフィス、及び前記圧力センサが形成されていること、前記エジェクタブロックが、上面、下面、一側面、他側面、前記排気ポートが形成されている排気ポート面、前記電空レギュレータと当接するレギュレータ当接面を有する直方体形状であること、前記上面と前記下面、前記一側面と前記他側面、前記排気ポート面と前記レギュレータ当接面がそれぞれ向かい合う面であること、前記エジェクタ吸引空間は、前記排気ポート面と前記レギュレータ当接面との間の断面であって、前記エジェクタブロックの中心部に形成されていること、前記真空流路は、前記エジェクタ吸引空間を囲うように形成され、前記ニードル弁又は前記固定オリフィスの中心線は、前記エジェクタ部材の軸心とねじれの位置にあること、を特徴とする。

電空レギュレータに出力ポートが形成され、エジェクタ部材に形成された入力オリフィス孔と排気ポートが同軸心状に形成され、さらに出力ポートの軸心と入力オリフィス孔及び排気ポートの同軸心が一致することにより、電空レギュレータの出力ポートから出力される圧縮流体が直線状にエジェクタの排気ポートへ出力される。そのため、圧縮流体の消費効率があがるため、低い供給圧力で効率よく真空度を得ることができる。
また、エジェクタブロックにエジェクタ挿入孔が形成されており、エジェクタ部材が挿入固定されエジェクタ部材がエジェクタブロックに内蔵されている。そのため、真空制御ユニットを小型化、軽量化することができる。
さらに、真空流路内に必要な機器であるニードル弁又は固定オリフィス、及び圧力センサがエジェクタブロック内に挿入内蔵されていることにより、真空制御ユニットを小型化、軽量化することができる。

（２）（１）に記載する真空制御ユニットにおいて、前記真空流路は、第１真空流路、第２真空流路、第３真空流路、第４真空流路、第５真空流路を有すること、前記第１真空流路は、前記一側面から前記エジェクタ吸引空間に対して垂直に形成されていること、前記第１真空流路と前記エジェクタ吸引空間が直接連通していないこと、前記第２真空流路は、前記上面から前記下面に対して垂直方向に形成され、前記第１真空流路と連通していること、前記第３真空流路は、前記一側面から前記他側面に対して垂直方向に形成されていること、前記第４真空流路は、前記上面から前記下面に対して垂直方向に形成され前記第３真空流路及び前記第５真空流路と連通していること、前記第５真空流路は前記他側面から前記エジェクタ吸引空間に対して垂直に形成されていること、前記第５真空流路は前記エジェクタ吸引空間と連通していること、を特徴とする。

それにより、エジェクタ吸引空間を中心に、第１真空流路、第２真空流路、第３真空流路、第４真空流路、第５真空流路が囲むように真空流路を形成する。それにより、エジェクタブロック内の真空流路を直交するように無駄なく形成することができる。したがって、真空制御ユニットを小型化、軽量化することができる。また、真空流路を直交する形で形成することにより、部品精度を高くし、容易に真空制御ユニットを製造することができるためコストダウンを図ることができる。さらに、真空流路を直交する形で形成することができるため、ニードル弁及び圧力センサを内蔵することができる。さらに、真空流路が直交する形で形成されているためシール性も向上させることができる。

（３）（２）に記載する真空制御ユニットにおいて、前記圧力センサ内に固定された固定オリフィスが形成されていること、前記圧力センサが前記第４真空流路内に挿入内蔵されていること、前記ニードル弁が前記第３真空流路内に挿入内蔵されていること、前記固定オリフィスと前記ニードル弁が前記第３真空流路を通じて連通していること、を特徴とする。真空流路内に必要な機器であるニードル弁及び圧力センサを挿入内蔵することができるため、真空制御ユニットを小型化、軽量化することができる。また、センサオリフィスを固定オリフィスに変更して用いることで、さらに、真空制御ユニットを小型化、軽量化することができる。

本発明によれば、圧縮流体の流れを良くした小型の真空制御ユニットを提供することができる。

本実施形態に係る真空制御ユニットの外観斜視図である。 本実施形態に係る真空制御ユニットの上面図である。 本実施形態に係る図２に示す真空制御ユニットのＡＡ断面図である。 本実施形態に係る図２に係る真空制御ユニットのＢＢ断面図である。 本実施形態に係る真空制御ユニットの右側面図である。 本実施形態に係る真空制御ユニットの背面図である。 本実施形態に係る真空制御ユニットの左側面図である。 本実施形態に係る真空制御ユニットの正面図である。 真空制御ユニットの圧縮流体の圧力―真空容器内の制御圧力の実験結果である。 従来技術に係る真空制御ユニットの正面図である。

以下、本発明を具体化した実施の形態について、添付図面を参照しつつ詳細に説明する。本実施形態は、真空制御ユニットについて、本発明を具体化したものである。

１．本実施形態の全体構成
１−１．真空制御ユニットの構成
図１に、真空制御ユニット１の外観斜視図を示す。図２に、上面図を示す。図３に、図２に示す真空制御ユニットのＡＡ断面図を示し、図４に、図２に係る真空制御ユニットのＢＢ断面図を示す。図５に、真空制御ユニット１の右側面図を示す。図６に、背面図を示す。図７に、左側面図を示す。図８に、真空制御ユニットの正面図を示す。

図１及び図２に示すように、真空制御ユニット１は、電空レギュレータ５０と、エジェクタ２と、圧力センサ４と、ニードル弁８と、固定板９により構成されている。
エジェクタ２は、エジェクタブロック２２を有する。また、圧力センサ４と、ニードル弁８は、エジェクタブロック２２に固定内蔵されている。
エジェクタ２と電空レギュレータ５０は面同士が面接触しており、面接触した状態で固定板９に固定され一体として形成されている。

１−２．電空レギュレータの構成
図３に示すように、電空レギュレータ５０は、電空変換器５０Ｂ、及び、電磁弁５０Ａを１つのユニットにまとめたものである。
電磁弁５０Ａの下部に、電空変換器５０Ｂが付設されている。電磁弁５０Ａは、供給用電磁弁と排気用電磁弁とが付設されている。電空変換器５０Ｂには、入力ポート５１と、出力ポート５２、７７が同軸心状に形成されている。パイロット弁５５がダイヤフラム構造であり、そのパイロット弁５５により隔離される第１ダイヤフラム室５６と、第２ダイヤフラム室５７とを備える。また、第２ダイヤフラム室５７と主弁の出力ポート５２、７７とが連通路５４により連通されている。これにより、第２ダイヤフラム室５７には、制御対象である主弁の出力圧がかかるようになっている。

また、電空変換器５０Ｂには、第１弁座６１及び第２弁座６２が形成されている。第１弁座６１と当接または離間する第１弁体５９が摺動可能に保持されている。また、第２弁座６２と当接または離間する第２弁体６０が摺動可能に保持されている。第１弁体５９は、第１弁座６１と当接する方向に第１復帰バネ６３により付勢されている。また、第２弁体６０は、第２弁座６２と当接する方向に第２復帰バネ６４により付勢されている。電磁弁５０Ａの供給用電磁弁は、入力ポート５１が圧力ガス供給源に接続し、出力ポートが図示しない流通路により第１ダイヤフラム室５６に連通している。また、電磁弁５０Ａの排気用電磁弁は、出力ポートが排気ダクトに接続し、入力ポートが図示しない流通路により第１ダイヤフラム室５６に連通している。

電磁弁５０Ａの供給用電磁弁及び排気用電磁弁はパルス式電磁弁であり、それらをデューティ制御しているので、高い応答性で正確な開度を得ることができ、これら２つの電磁弁を制御することで、正確かつ高い応答性でパイロット弁５５を制御することが可能である。
なお、電空レギュレータ５０の構成は従来技術と変わるところがないため詳細な説明を割愛する。

１−３．エジェクタの構成
エジェクタ２は、容器内のエアを真空にするための機器である。図３に示すように、エジェクタ２は、エジェクタ部材２０及びエジェクタブロック２２を有する。

エジェクタ部材２０について説明する。エジェクタ部材２０は、流出口部材２１及び流入口部材７５を有する。
流出口部材２１は、略円筒形状であり、図３の出口側に出口側端部２１Ａ、入口側に入口側端部２１Ｂが形成されている。出口側端部２１Ａには排気ポート３８が形成されている。入口側端部２１Ｂには流入口３９が形成されている。排気ポート３８から流入口３９にかけて流通路３０が形成されている。流通路３０は、流入口３９から排気ポート３８にかけて、導入部３３、助走部３４、出口部３５となっている。導入部３３から助走部３４にかけて流通路３０は流路径が狭くなっている。また助走部３４から出口部３５にかけて流通路３０は流路径が広くなっている。入口側端部２１Ｂの周辺部には、流入口部材７５と係合する部位であるノズル部３６が形成されている。ノズル部３６の内側にはエジェクタ吸引空間３１が形成されている。

円筒形状の流出口部材２１のうちノズル部３６の周辺部及び導入部３３の外周流路を形成する部分は、エジェクタブロック２２に挿入される挿入部２１Ｃとなる。挿入部２１Ｃは、円筒形状の流出口部材２１のうち、エジェクタブロック２２から突出している突出部２１Ｄの径よりも径が小さく構成されている。そのため、エジェクタブロック２２のエジェクタ挿入孔２２１に挿入した際に挿入がし易い。また、挿入部２１Ｃの周りにＯリング３２を設けた際にも、挿入部２１Ｃがエジェクタ挿入孔２２１に押し込まれる形になるためエア漏れが発生しにくくなる。

流入口部材７５は、エジェクタ部材２０の一部材である。図３に示すように、流入口部材７５は略中空円錐形状をしており、入口側に入口孔７５Ａが形成されており、出口側に入口孔７５Ａよりも孔径の小さいオリフィス孔７５Ｂが形成されている。流入口部材７５と流出口部材２１の間には、所定の空間であるエジェクタ吸引空間３１が形成される。入口孔７５Ａからオリフィス孔７５Ｂにかけては孔径が小さくなるため、入口孔７５Ａからオリフィス孔７５Ｂにかけて流路は狭まる。オリフィス孔７５Ｂと流通路３０の中心軸は同軸心状に形成されている。オリフィス孔７５Ｂは、エジェクタ吸引空間３１に連通している。

図３に示すように、流出口部材２１の排気ポート３８、流通路３０及び、流入口部材７５のオリフィス孔７５Ｂの中心軸は、同軸心状に形成されている。さらに、流出口部材２１の排気ポート３８、流通路３０及び、流入口部材７５のオリフィス孔７５Ｂの軸心は、電空レギュレータ５０の出力ポート５２、７７と軸心が一致する位置に形成されている。それにより、オリフィス孔７５Ｂ、流通路３０、排気ポート３８、及び出力ポート５２、７７が同軸心状に位置することになるため、出力ポート５２、７７から排気ポート３８までの流路が直線状に形成される。したがって、電空レギュレータ５０の出力ポート５２、７７から出力される圧縮流体が直線状に流出口部材２１のオリフィス孔７５Ｂ、流通路３０、排気ポート３８へと流れ出力される。そのため、圧縮流体の消費効率があがるため、低い供給圧力で効率よく真空度を得ることができる。

エジェクタブロック２２について説明する。図３乃至図８に示すように、エジェクタブロック２２は、直方体形状である。エジェクタブロック２２は、排気ポート面２２Ａ、一側面２２Ｂ、他側面２２Ｃ、上面２２Ｄ、下面２２Ｅ、レギュレータ当接面２２Ｆを有する。また、上面２２Ｄと下面２２Ｅ、一側面２２Ｂと他側面２２Ｃ、排気ポート面２２Ａとレギュレータ当接面２２Ｆは、それぞれ向かい合う面である。図３に示すように排気ポート面２２Ａからレギュレータ当接面２２Ｆ方向に垂直にエジェクタ挿入孔２２１が形成されている。エジェクタ挿入孔２２１には、流出口部材２１が固定内蔵され、エジェクタ挿入孔２２１を塞いでいる。

図４に示すように、エジェクタブロック２２内には、真空容器からエジェクタ吸引空間３１へと連通する真空流路２２０が形成されている。真空流路２２０は、第１真空流路２２２、第２真空流路２２３、第３真空流路２２４、第４真空流路２２５、第５真空流路２２６により構成されている。
一側面２２Ｂには、真空容器と連通する第１真空流路２２２が形成されている。第１真空流路２２２は、エジェクタ吸引空間３１に対して垂直に形成されている。また、第１真空流路２２２は、エジェクタ吸引空間３１とは直接連通していない。
また、上面２２Ｄから下面２２Ｅ方向に垂直に第２真空流路２２３が形成され、第３真空流路２２４と第１真空流路２２２と連通している。第２真空流路２２３の上面２２Ｄには止栓２２８が固定されている。
第３真空流路２２４は、第１真空流路２２２と平行に一側面２２Ｂから他側面２２Ｃ方向へと形成され、第４真空流路２２５に連通している。第３真空流路２２４の一側面２２Ｂには、ニードル弁８が挿入され固定内蔵されている。

第４真空流路２２５は、第２真空流路２２３と平行に上面２２Ｄから下面２２Ｅ方向に形成されている。第４真空流路２２５は、第５真空流路２２６に連通する部分まで形成されている。第４真空流路２２５の上面２２Ｄには、圧力センサ４が挿入され固定内蔵されている。第４真空流路２２５のうち圧力センサ４が挿入される部分は、圧力センサ４が挿入できるように他の流路よりも径が大きいセンサ挿入部２２７を形成する。
第５真空流路２２６は、他側面２２Ｃから一側面２２Ｂ方向に垂直に形成され、エジェクタ吸引空間３１に連通している。第５真空流路２２６と第１真空流路２２２は同軸心状に形成されている。第５真空流路２２６の他側面２２Ｃには止栓２２９が固定されている。

以上から、第１真空流路２２２から流入した流体は、第２真空流路２２３、第３真空流路２２４、第４真空流路２２５、第５真空流路２２６、を通り、エジェクタ吸引空間３１に流出する。それにより、真空容器から流入した流体がエジェクタ吸引空間３１、流通路３０を介し、排気ポート３８から排出される。それにより、真空容器内を真空圧状態にすることができる。

本実施形態においては、エジェクタ吸引空間３１を中心に、第１真空流路２２２、第２真空流路２２３、第３真空流路２２４、第４真空流路２２５、第５真空流路２２６が囲むように真空流路２２０を形成する。それにより、エジェクタブロック２２内の真空流路２２０を無駄なスペースなく直交した形で形成することができる。そのため、真空制御ユニット１を小型化、軽量化することができる。また、真空流路２２０を直交する形で形成することにより、部品精度を高くし、容易に真空制御ユニット１を製造することができるためコストダウンを図ることができる。さらに、真空流路２２０を直交する形で形成することができるため、シール性を向上させることができる。

１−４．圧力センサの構成
圧力センサ４は、真空容器内の圧力を計測するための計測装置である。図４に示すように、圧力センサ４のうちセンサ挿入部２２７に挿入される挿入部４１は雄ネジが形成されており、センサ挿入部２２７は雌ネジが形成されている。そのため、挿入部４１を第４真空流路２２５のセンサ挿入部２２７に挿入することにより、圧力センサ４を固定内蔵することができる。圧力センサ４がエジェクタブロック２２内に挿入され圧力センサ４の一部が内蔵されていることにより、真空制御ユニット１を小型化、軽量化することができる。図５及び図７に示すように、圧力センサ４は真空制御ユニット１からはみ出すことがない。

また、図４に示すように圧力センサ４の挿入部４１の先端部には固定オリフィス部４２が固定されている。従来は、センサオリフィスを用いていたところに固定オリフィス部４２を用い、固定型のオリフィスとしたことにより、真空制御ユニット１を小型化、軽量化することができる。
なお、その他の圧力センサ４の構成は、従来技術と変わるところがないため詳細な説明を割愛する。

１−５．ニードル弁の構成
ニードル弁８は、容器内を真空にする時に吸い込むエアの流量を調整するための調整弁である。図４に示すように、ニードル弁８のニードル弁挿入部８０がエジェクタブロック２２内の第３真空流路２２４に挿入されている。エジェクタブロック２２内にニードル弁８の一部が内蔵されていることにより、真空制御ユニット１を小型化、軽量化することができる。図６及び図８に示すように、ニードル弁８は内蔵されていることにより、真空制御ユニット１から大きくはみ出すことがない。
ニードル弁８内には、弁室８５と連通する連通流路８１及び弁孔８６が形成されている。また、弁室８５内には、ニードル弁体８２及び弁座８３が形成されており、ハンドル８４を回転することにより弁座８３内に形成された弁孔８６の流路面積を調整することにより流れる流体の流量を調整する。
なお、その他のニードル弁８の構成は、従来技術と変わるところがないため詳細な説明を割愛する。

２．本実施形態の作用効果
図３に示す電空レギュレータ５０の入力ポート５１に圧縮流体が流入する。第２弁体６０が第２弁座６３と離間しているときに、圧縮流体が入力ポート５１から出力ポート５２、７７へと流出する。電空レギュレータ５０の作用は従来技術と変わるところがないため詳細な説明を割愛する。さらに、流入口部材７５のオリフィス孔７５Ｂから流出口部材２１の流通路３０、排気ポート３８へと流出する。
また、同時に真空容器内から第１真空流路２２２へ流入した流体は、第２真空流路２２３、第３真空流路２２４、第４真空流路２２５、第５真空流路２２６を通り、エジェクタ吸引空間３１に流出する。それにより、真空容器から流入した流体がエジェクタ吸引空間３１、流通路３０を介し、排気ポート３８から排出される。そのため、真空容器内の圧力が低下し、真空容器内が真空圧状態になる。

図９に、真空制御ユニットの圧縮流体の圧力―真空容器内の制御圧力の実験結果を示す。縦軸に真空容器内の制御圧力（ｋＰａ）を示し、横軸に供給される圧縮流体の圧力（ｋＰａ）を示す。実線Ｘ１に本実施形態における真空制御ユニット１を用いた場合の実験結果を示す。破線Ｘ２に従来技術における真空制御ユニットを用いた場合の実験結果を示す。
図９に示すように、圧縮流体の圧力を８０ｋＰａとし、本実施形態のおける真空制御ユニット１を使用した場合のＸ１１においては、真空容器内の制御圧力は約−１０ｋＰａとなる。それに対して従来技術における真空制御ユニットを使用した場合のＸ２１においては、真空容器内の制御圧力は約−９ｋＰａとなる。したがって、真空制御ユニット１を使用した同じ８０ｋＰａの圧縮流体を流した場合、約１０パーセント程度真空容器内の制御圧力を向上させることができた。

その理由は、図３に示すように、流出口部材２１の流通路３０の中心軸は、電空変換器５０Ｂの出力ポート５２、７７と軸心が一致する位置に形成されているためである。それにより、流通路３０、出力ポート５２、７７が同軸心状に位置することになるため流路が直線状に形成される。したがって、電空変換器５０Ｂの出力ポート５２、７７から出力される圧縮流体が直線状に流出口部材２１の流通路３０へと流れ出力される。そのため、圧縮流体の消費効率があがるため、低い供給圧力で効率よく真空度を得ることができる。

＜変形例＞
尚、本発明は、上記実施形態に限定されることなく、発明の趣旨を逸脱することのない範囲で色々な応用が可能である。
例えば、エジェクタブロック２２に流出口部材２１を内蔵し、圧力センサ４内に固定された固定オリフィス部４２を形成し、固定オリフィス部４２と連通するニードル弁８をエジェクタブロック２２に内蔵する。さらに、圧力センサ４をエジェクタブロック２２に内蔵することにより、さらに真空制御ユニット１を小型化、軽量化することができる。
また、ニードル弁８を固定オリフィスにすることでさらなる小型化、軽量化、コストダウンをすることができる。同様にセンサの固定オリフィスは必要な真空条件によっては省略することも可能である。

１ 真空制御ユニット
２ エジェクタ
２１ 流出口部材
２２ エジェクタブロック
２２１ エジェクタ挿入孔
３８ 排気ポート
７５Ｂ オリフィス孔
４ 圧力センサ
５０ 電空レギュレータ
５１ 入力ポート
５２、７７ 出力ポート
８ ニードル弁

Claims (3)

1. 電空レギュレータと、エジェクタと、圧力センサを有する真空制御ユニットにおいて、
   前記エジェクタは、エジェクタブロックとエジェクタ部材を有すること、
   前記エジェクタブロックにエジェクタ挿入孔が形成され、前記エジェクタ部材が前記エジェクタ挿入孔に挿入され内蔵されていること、
   前記電空レギュレータは、出力ポート及び入力ポートを有すること、
   前記エジェクタ部材は、入力オリフィス孔と排気ポートを有すること、前記入力オリフィス孔と前記排気ポートは同軸心状に形成されていること、
   前記出力ポートの軸心と前記入力オリフィス孔及び前記排気ポートの同軸心が一致すること、
   前記エジェクタ部材は、流入口部材、流出口部材を有すること、
   前記流入口部材と前記流出口部材との間にエジェクタ吸引空間が形成されていること、
   前記エジェクタブロック内に前記エジェクタ吸引空間と真空容器を連通する真空流路が形成され、前記真空流路内に、ニードル弁又は固定オリフィス、及び前記圧力センサが形成されていること、
   前記エジェクタブロックが、上面、下面、一側面、他側面、前記排気ポートが形成されている排気ポート面、前記電空レギュレータと当接するレギュレータ当接面を有する直方体形状であること、前記上面と前記下面、前記一側面と前記他側面、前記排気ポート面と前記レギュレータ当接面がそれぞれ向かい合う面であること、
   前記エジェクタ吸引空間は、前記排気ポート面と前記レギュレータ当接面との間の断面であって、前記エジェクタブロックの中心部に形成されていること、
   前記真空流路は、前記エジェクタ吸引空間を囲うように形成され、前記ニードル弁又は前記固定オリフィスの中心線は、前記エジェクタ部材の軸心とねじれの位置にあること、
   を特徴とする真空制御ユニット。
2. 請求項１に記載する真空制御ユニットにおいて、
   前記真空流路は、第１真空流路、第２真空流路、第３真空流路、第４真空流路、第５真空流路を有すること、
   前記第１真空流路は、前記一側面から前記エジェクタ吸引空間に対して垂直に形成されていること、前記第１真空流路と前記エジェクタ吸引空間が直接連通していないこと、
   前記第２真空流路は、前記上面から前記下面に対して垂直方向に形成され、前記第１真空流路と連通していること、
   前記第３真空流路は、前記一側面から前記他側面に対して垂直方向に形成されていること、
   前記第４真空流路は、前記上面から前記下面に対して垂直方向に形成され前記第３真空流路及び前記第５真空流路と連通していること、
   前記第５真空流路は前記他側面から前記エジェクタ吸引空間に対して垂直に形成されていること、前記第５真空流路は前記エジェクタ吸引空間と連通していること、
   を特徴とする真空制御ユニット。
3. 請求項２に記載する真空制御ユニットにおいて、
   前記圧力センサ内に固定された固定オリフィスが形成されていること、
   前記圧力センサが前記第４真空流路内に挿入内蔵されていること、
   前記ニードル弁が前記第３真空流路内に挿入内蔵されていること、
   前記固定オリフィスと前記ニードル弁が前記第３真空流路を通じて連通していること、を特徴とする真空制御ユニット。

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