JP5685046B2 - 光学純度低下防止方法 - Google Patents
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Landscapes
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Description
本発明は以下の[1]〜[7]の内容を含むものである。
[1]遷移金属錯体を用いて還元反応を行なった反応液に含窒素化合物を添加した後、反応溶媒回収及び/又は蒸留を行なう還元反応生成物の製造方法。
[2]還元反応が不斉水素化又は不斉水素移動である前記[1]に記載の製造方法。
[3]遷移金属錯体がルテニウム錯体、ロジウム錯体又はイリジウム錯体である前記[1]又は[2]に記載の製造方法。
[4]遷移金属錯体に対して含窒素化合物を1当量以上加える前記[3]に記載の製造方法。
[5]含窒素化合物における窒素原子の数が2以上である前記[4]に記載の製造方法。
[6]含窒素化合物がイミダゾール類である[5]に記載の製造方法。
[7]含窒素化合物の添加が、反応溶媒回収及び/又は蒸留を行なう際の還元反応生成物の光学純度低下を抑制することを目的とするものである前記[1]〜[6]に記載の製造方法。
[8]含窒素化合物の添加により、含窒素化合物を遷移金属錯体と反応させて含窒素化合物を含む錯体を形成させることにより還元反応生成物の光学純度低下を抑制する前記[7]に記載の製造方法。
本発明に用いられる遷移金属錯体の遷移金属としては、周期表第8〜10族の金属が挙げられ、その中でもロジウム、ルテニウム及びイリジウムが好ましく、ルテニウムが特に好ましい。
好ましい遷移金属錯体としては、配位子としてジアミン類、ジホスフィン、低級アルキル基(例えば、炭素数1〜10の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられ、具体的には、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基等が挙げられる。好ましくは、炭素数1〜6の直鎖又は分岐のアルキル基である。)置換ベンゼン、ハロゲン原子、ペンタメチルシクロペンタジエン等が配位した錯体が挙げられる。配位子としてのジアミン類及びジホスフィンは光学活性体がより好ましい。
RN1及びRN2のC1〜C20アルキル基、C3〜C8シクロアルキル基、C7〜C20アラルキル基、アリール基及びヘテロ環基が有することができる置換基としては、メチル基、エチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロへキシル基、ベンジル、1−フェニルエチル基、フェニル基、o―トルイル基、p−トルイル基、チエニル基、フリル基、ピリジル基、ピペリジニル基、ピペリジノ基等が挙げられる。
RP1RP2P−Q−PRP3RP4 (B)
(式中、RP1、RP2、RP3及びRP4は、それぞれ独立して置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルキル基を表し、RP1とRP2とで及び/又はRP3とRP4とで環を形成してもよい。Qは置換基を有していてもよい二価のアリーレン基又はフェロセンジイル基を表す。)
上記式中、RP1、RP2、RP3及びRP4で表される、置換基を有していてもよいアリール基としては、例えば炭素数6〜14のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基等が挙げられる。これらアリール基は1乃至2以上の置換基を有していてもよく、該置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、複素環基等が挙げられる。
アリール基の置換基としてのアルキル基としては、直鎖状又は分岐状の、例えば炭素数1〜15、好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜6のアルキル基が挙げられ、具体例としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、イソブチル基及びt−ブチル基等が挙げられる。
アリール基の置換基としてのアルコキシ基としては、直鎖状又は分岐状の、例えば炭素数1〜6のアルコキシ基が挙げられ、具体的にはメトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、イソプロポキシ基、n−ブトキシ基、s−ブトキシ基、イソブトキシ基及びt−ブトキシ基等が挙げられる。
アリール基の置換基としてのアリール基としては、例えば炭素数6〜14のアリール基が挙げられ、具体的にはフェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基等が挙げられる。
アリール基の置換基としての複素環基としては、脂肪族複素環基及び芳香族複素環基が挙げられ、脂肪族複素環基としては、例えば炭素数2〜14で、異種原子として少なくとも1個、好ましくは1〜3個の例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる、5〜8員、好ましくは5又は6員の単環、それら単環からなる多環又は縮合環の脂肪族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基の具体例としては、例えば、2−オキソピロリジル基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチエニル基等が挙げられる。一方、芳香族複素環基としては、例えば炭素数2〜15で、ヘテロ原子として少なくとも1個、好ましくは1〜3個の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる、5〜8員、好ましくは5又は6員の単環、それら単環からなる多環又は縮合環のヘテロアリール基が挙げられ、具体的にはフリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、ピリダジニル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリル基、フタラジニル基、キナゾリニル基、ナフチリジニル基、シンノリニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基等が挙げられる。
また、RP1、RP2、RP3及びRP4で表される、置換基を有していてもよいアルキル基としては、直鎖状又は分岐状の、例えば炭素数1〜15、好ましくは炭素数1〜10、より好ましくは炭素数1〜6のアルキル基が挙げられる。具体例としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられる。これらアルキル基は1乃至2以上の置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、アルコキシ基、ハロゲン原子等が挙げられる。アルコキシ基としては、前記アリール基の置換基として記載したアルコキシ基が挙げられる。
また、RP1とRP2及び/又はRP3とRP4とで形成してもよい環としては、RP1、RP2、RP3及びRP4が結合しているリン原子を含めた環として、四員環、五員環又は六員環の環が挙げられる。具体的な環としては、ホスフェタン環、ホスホラン環、ホスファン環、2,4−ジメチルホスフェタン環、2,4−ジエチルホスフェタン環、2,5−ジメチルホスホラン環、2,5−ジエチルホスホラン環、2,6−ジメチルホスファン環、2,6−ジエチルホスファン環等が挙げられ、これらの環は光学活性体でもよい。
上記のR1及びR2における、フェニル基の置換基としてのアルキル基としては、例えば、メチル基、t−ブチル基等の直鎖状又は分岐状の炭素数1〜6のアルキル基が挙げられ、フェニル基の置換基としてのアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、t−ブトキシ基等の直鎖状又は分岐状の炭素数1〜6のアルコキシ基が挙げられ、フェニル基の置換基としてのハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等が挙げられ、これら置換基は該フェニル基上に複数置換していてもよい。
また、一般式(C)で表される化合物の基本骨格であるビナフチル環は、置換基で置換されていてもよく、該置換基としては、例えばメチル基、t−ブチル基等のC1〜C20アルキル基;メトキシ基、t−ブトキシ基等のC1〜C20アルコキシ基;トリメチルシリル基、トリイソプロピルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基等のトリC1〜C20アルキルシリル基及びトリフェニルシリル基等のトリC1〜C20アリールシリル基が挙げられる。
また、R5〜R10で示されるアルキル基としては、例えば、メチル基、t−ブチル基等の直鎖状又は分岐状の炭素数1〜6のアルキル基が挙げられ、アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、t−ブトキシ基等の直鎖状又は分岐状の炭素数1〜6のアルコキシ基が挙げられ、アシルオキシ基としては、例えば、アセトキシ基、プロパノイルオキシ基、トリフルオロアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基等の炭素数2〜10のアシルオキシ基が挙げられ、ハロゲン原子としては、例えば、塩素原子、臭素原子、フッ素原子等が挙げられ、ハロアルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の炭素数1〜4のハロアルキル基が挙げられ、ジアルキルアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等のジC1〜C20アルキルアミノ基が挙げられる。
また、R5、R6及びR7のうちの二つで置換基を有していてもよいメチレン鎖を形成する場合、R8、R9及びR10の内の二つで置換基を有していてもよいメチレン鎖を形成する場合、並びにR7とR10とで置換基を有していてもよいメチレン鎖を形成する場合のメチレン鎖の具体例としては、メチレン基。エチレン基。トリメチレン基、プロピレン基等の炭素数1〜4のメチレン鎖が挙げられる。また、該メチレン鎖に置換する置換基としては、アルキル基及びハロゲン原子等が挙げられ、その具体例としては、例えば、炭素数1〜6の前記したようなアルキル基及びフッ素原子等が挙げられる。
また、R5、R6及びR7のうちの二つで置換基を有していてもよい(ポリ)メチレンジオキシ基を形成する場合、R8、R9及びR10の内の二つで置換基を有していてもよい(ポリ)メチレンジオキシ基を形成する場合、並びにR7とR10とで置換基を有していてもよい(ポリ)メチレンジオキシ基を形成する場合の(ポリ)メチレンジオキシ基の具体例としては、例えば、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基、トリメチレンジオキシ基等の炭素数1〜4の(ポリ)メチレンジオキシ基が挙げられる。また、該(ポリ)メチレンジオキシ基に置換する置換基としては、アルキル基及びハロゲン原子等が挙げられ、その具体例としては、例えば、炭素数1〜6の前記したようなアルキル基及びフッ素原子等が挙げられる。
ホスフィン)、((6R)−6,7−ジメチル−6,7−ジヒドロジベンゾ[e,g][1,4]ジオキソシン−1,12−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、((6R)−6,7−ジメチル−6,7−ジヒドロジベンゾ[e,g][1,4]ジオキソシン−1,12−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(4,4’,5,5’,6,6’−ヘキサメチルビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(4,4’,5,5’,6,6’−ヘキサメチルビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(4,4’,5,5’,6,6’−ヘキサメトキシビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(4,4’,5,5’,6,6’−ヘキサメトキシビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(5,5’−ジクロロ−4,4’,6,6’−テトラメチルビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(5,5’−ジクロロ−4,4’,6,6’−テトラメチルビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(5,5’−ジメトキシ−4,4’,6,6’−テトラメチルビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(5,5’−ジメトキシ−4,4’,6,6’−テトラメチルビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−6,6’−ジメトキシビフェニル−3,3’−ジオール、2,2’−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)−6,6’−ジメトキシビフェニル−3,3’−ジオール、(3,3’,6,6’−テトラメトキシビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(3,3’,6,6’−テトラメトキシビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(3,3’−ジイソプロピル−6,6’−ジメトキシビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(3,3’−ジイソプロピル−6,6’−ジメトキシビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(6,6’−ジメトキシ−3,3’−ビス(p−トリルオキシ)ビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(6,6’−ジメトキシ−3,3’−ビス(p−トリルオキシ)ビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−6,6’−ジメトキシビフェニル−3,3’−ジイル ビス(2,2−ジメチルプロパノエート)、2,2’−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)−6,6’−ジメトキシビフェニル−3,3’−ジイルビス(2,2−ジメチルプロパノエート)、(5,5’−ジクロロ−6,6’−ジメトキシビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(5,5’−ジクロロ−6,6’−ジメトキシビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、6,6’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル−2,2’−ジイル ジアセテート、6,6’−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)ビフェニル−2,2’−ジイル ジアセテート、6,6’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル−2,2’−ジイルビス(2,2−ジメチルプロパノエート)、6,6’−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)ビフェニル−2,2’−ジイルビス(2,2−ジメチルプロパノエート)、6,6’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル−2,2’−ジイルビス(2−メチルプロパノエート)、6,6’−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)ビフェニル−2,2’−ジイルビス(2−メチルプロパノエート、6,6’−ビス(ジフェニルホスフィノ)ビフェニル−2,2’−ジイル ジシクロヘキサンカルボキシレート、6,6’−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)ビフェニル−2,2’−ジイル ジシクロヘキサンカルボキシレート、(4,4’,6,6’−テトラキス(トリフルオロメチル)ビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(4,4’,6,6’−テトラキス(トリフルオロメチル)ビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(5−メトキシ−4,6−ジメチル−4’,6’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(5−メトキシ−4,6−ジメチル−4’,6’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル−2,2’−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、(2,2,2’,2’−テトラメチル−4,4’−ビベンゾ[d][1,3]ジオキソール−5,5’−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(2,2,2’,2’−テトラメチル−4,4’−ビベンゾ[d][1,3]ジオキソール−5,5’−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、6,6’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−2,2’,3,3’−テトラヒドロ−7,7’−ビベンゾフラン、6,6’−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)−2,2’,3,3’−テトラヒドロ−7,7’−ビベンゾフラン、(2,2,2’,2’−テトラフルオロ−4,4’−ビベンゾ[d][1,3]ジオキソール−5,5’−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)、(2,2,2’,2’−テトラフルオロ−4,4’−ビベンゾ[d][1,3]ジオキソール−5,5’−ジイル)ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィン)、2−(ナフチル)−8−ジフェニルホスフィノ−1−[3,5−ジオサ−4−ホスファ−シクロヘプタ[2,1−a;3,4−a’]ジナフタレン−4−イル]−1,2−ジヒドロキノリン、4,12−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)−[2.2]−パラシクロファン、7,7’−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)−2,2’,3,3’−テトラヒドロ−1,1’−スピロビインダン(Xyl−SDP)、7,7’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−2,2’,3,3’−テトラヒドロ−1,1’−スピロビインダン(SDP)、ビス(2−ジフェニルホスフィノフェニル)エーテル(DPEphos)、4,5−ビス(ジフェニルホスフィノメチル)−2,2−ジメチル−1,3−ジオキソラン(DIOP)、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン(PROPHOS)、2,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン(CHIRAPHOS)、1,2−ビス[(2−メトキシフェニル)(フェニル)ホスフィノ]エタン(DIPAMP)、3,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1−ベンジルピロリジン(DEGUPHOS)、2,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)−ビシクロ[2.2.1]ヘプト−5−エン(NORPHOS)、1−ターシャリーブトキシカルボニル−4−ジフェニルホスフィノ−2−(ジフェニルホスフィノメチル)ピロリジン(BPPM)、(2,2’−ビス−(ジベンゾフラン−3,3−ジイル)−ビス−ジフェニルホスフィン(BIBFUP)、2,2‐ビス(ジフェニルホスフィノ)‐3,3‐ビナフト[b]フラン(BINAPFu)、2,2’‐ビス(ジフェニルホスフィノ)‐3,3’‐ビ[ベンゾ[b]チオフェン](BITIANP)、N,N’−ジメチル−7,7’−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)−3,3’,4,4’−テトラヒドロ−8,8’−ビ−2H−1,4−ベンズオキサジン(Xyl−Solphos)、2,3−ビス(ターシャリーブチルメチルホスフィノ)キノキサリン(QuinoxP*)、2,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ペンタン(SKEWPHOS)、2,4−ビス(ジ(3,5−キシリル)ホスフィノ)ペンタン(XylSKEWPHOS)、4,4’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−2,2’,5,5’−テトラメチル−3,3’−ビチオフェン(TMBTP)、3,3’−ビス(ジフェニルホスホニル)−1,1’−2,2’−ビインドール(N−Me−2−BINPO)、(2,2’,5,5’−テトラメチル−3,3’−ビチオフェン−4,4’−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)(BITIANP)、(4,4’,6,6’−テトラメチル−3,3’−ビベンゾ[b]チオフェン−2,2’−ジイル)ビス(ジフェニルホスフィン)(tetraMe−BITIANP)、1,1’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−3,3’−ジメチル−1H,1’H−2,2’−ビインドール(BISCAP)、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−3,3’−ビベンゾフラン(BICUMP)、2,2’−ビス(ジフェニルホスフィノ)−1,1’−ビベンゾ[d]イミダゾール(BIMIP)などが挙げられる。
脂肪族アミンとはアンモニア(NH3)の水素原子の代わりに脂肪族基が置換したものを意味する。脂肪族基としては、炭素数1〜10の直鎖又は分岐のアルキル基あるいは脂環式基が挙げられる。好ましくは、炭素数1〜6の直鎖又は分岐のアルキル基あるいは脂環式基である。具体的な脂肪族アミンとしては、例えばメチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、イソプロピルアミン、2−エチルヘキシルアミン、tert−ブチルアミン、ジエチルアミン、ジイソプロピルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、トリス(2,2’,2’’−アミノエチル)アミン、N,N’−ビス(2−アミノエチル)−1,3−プロパンジアミン、N,N’−ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミン、ビス(3−アミノプロピル)アミン、1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタン、1,4−ビス(3−アミノプロピル)ピペリジン、シクロプロピルアミン、シクロヘキシルアミン等が挙げられる。好ましくは、脂肪族アミンは、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、トリス(2,2’,2’’−アミノエチル)アミン、N,N’−ビス(2−アミノエチル)−1,3−プロパンジアミン、N,N’−ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミン、ビス(3−アミノプロピル)アミン、1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタン、1,4−ビス(3−アミノプロピル)ピペリジン等であり、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミンがより好ましい。
含窒素複素環化合物としては、ピロール、ピリジン、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、1,3−チアゾール、オキサゾール、ピラゾール、1,2,4−トリアゾール、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、インドール、キノリン、プリン等の芳香族化合物、またはジアザビシクロウンデカン(DBU)、ピペリジン、ジアザビシクロオクタン(DABCO)、スパルテイン等の環内脂環式アミンが挙げられる。好ましい含窒素複素環化合物としては、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、1,3−チアゾール、1,3−オキサゾール、ピラゾール、1,2,4−トリアゾール等であり、2−メチルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、イミダゾールなどのイミダゾール類がより好ましい。
本発明により、特に光学活性な遷移金属錯体を触媒として用いた不斉還元反応後に、触媒を分離することなく生成物の光学純度の低下を避けることができる。
不斉水素化反応としては、特に限定されるものではないが、カルボニル基の不斉水素化による光学活性アルコールの製法(例えば、文献(第5版 実験化学講座19 有機化合物の合成VII 丸善株式会社 p122)など)、炭素−炭素二重結合及びイミノ基などの不斉水素化による光学活性化合物の製法(例えば、文献(Asymmetric Catalysis In Organic Synthesis, p16−p94)など)が挙げられる。
不斉水素移動反応としては、特に限定されるものではないが、例えば、文献(J.Am.Chem.Soc., 1997, 119, 8378、J.Am.Chem.Soc.1996, 118,2521など)に記載のような、カルボニル基の不斉還元による光学活性アルコールの製法等が挙げられる。
本発明の製造方法においては、遷移金属錯体を用いて還元反応を行なった反応液に含窒素化合物を添加した後、反応溶媒回収及び/又は蒸留を行なう。
200ml反応容器にアセトフェノン0.5g(4.15mmol)、[Ru(R,R)−Tsdpen(p-cymene)]250mg(0.415mmol)及び2−プロパノール42mgを加え窒素置換を行った。この溶液を室温で2時間反応を行なった。(R)−フェニルエタノールへの転化率は86%及び光学純度は91%eeであった。
さらに、反応溶液に、α−フェニレンジアミン67.3mg(0.622mmol)を加えて攪拌したところ、溶液の色は赤褐色から紫色に変化した。減圧下溶媒を留去し、さらにヘプタンリスラリーを行いアセトフェノンとフェニルエタノールを除き、乾燥後質量分析を行ったところ679.1438であった。質量分析から、得られた化合物はRu[(R,R)−Tsdpen](フェニレンジアミン)2であると推定される。
基質((R)−フェニルエタノールの光学純度が94.5%eeであるフェニルエタノール)に対して0.5当量のRu[(R,R)−Tsdpen](フェニレンジアミン)2の存在下で下記反応を行った。また、Ru[(R,R)−Tsdpen](フェニレンジアミン)2に代えて、[Ru(R,R)−Tsdpen(p-cymene)]の存在下で同様に下記反応を行った。さらに、[Ru(R,R)−Tsdpen(p-cymene)]に加えて1.5当量のα−フェニレンジアミンを添加して同様に下記反応を行った。
200ml反応容器にアセトフェノン10g(8.32mmol)、[RuCl(S,S)−Tsdpen(p−cymene)]1.06g(1.6646mmol)及びギ酸/トリエチルアミン(5/2(容量比))41.5mlを加え窒素置換を行った。この溶液を30℃で17時間攪拌を行なった後に塩化メチレン45ml及び水40mlを加えて有機層を分液した。有機層から塩化メチレンを留去して13.5gの(S)−フェニルエタノール濃縮物を得た。この濃縮物を5℃で4日間保管したところ、反応終了時からの光学純度の変化は以下の通りであった。
参考例1で得た、5℃で4日間保管した光学純度79.5%eeの(S)−フェニルエタノール濃縮物1gを80℃で16時間加熱を行ったところ光学純度は13.6%eeまで低下した。
参考例1で得た、5℃で4日間保管した光学純度79.5%eeの(S)−フェニルエタノール濃縮物1g(Ru:0.123mmol)に、含窒素化合物を加え80℃で16時間加熱を行った結果は下表の通りである。
200mLの四つ口フラスコに4−アセチルベンゾニトリル15.0g(103.3mmol)、MeOH30ml及び[RuCl(R,R)−Tsdpen(p−cymene)]126mg(0.2mmol)を加えた。温度を15℃に保ちながら、ギ酸/トリエチルアミン(5/2(容量比))75mlを20℃以下で30分かけて滴下し、25℃まで昇温後64時間撹拌した。反応終了後、15℃に冷却し、水30mlを加え、酢酸エチル90mlで抽出した後、水30mlで2回洗浄した。続いて、300mlのナスフラスコにトリエチレンテトラミン75.5mg(0.5mmol)を計量し、酢酸エチル抽出溶液を加え減圧下で酢酸エチルを留去した。得られた濃縮液14.4g(95.9%ee)を減圧蒸留(118〜120℃/1torr)により精製して、目的とする(R)−4−(1−ヒドロキシエチル)ベンゾニトリル11.7g (収率76.9%)を得た。光学純度は95.6%eeであった。
実施例6においてトリエチレンテトラミンを添加しない以外は同様の操作を行ったところ、蒸留物の光学純度は86.2%eeであった。
200ml反応容器にアセトフェノン10g(8.30mmol)、[RuCl(S,S)−Tsdpen(p−cymene)]1.00g(1.5712mmol)、2−プロパノール300ml及び水酸化ナトリウム300mg(7.500mmol)を加え窒素置換を行った。この溶液を40℃で22時間攪拌を行なった後に溶媒を留去して11.3gの(S)−フェニルエタノール濃縮物を得た。反応終了時からの光学純度の変化は以下の通りであった。
参考例2で得た、光学純度83.9%eeの(S)−フェニルエタノール濃縮物1gを80℃で17時間加熱を行ったところ光学純度は78.2%eeまで低下した。
参考例2と同様の操作で得た、光学純度83.9%eeの(S)−フェニルエタノール濃縮物1g(Ru:0.138mmol)に、含窒素化合物を加え80℃で17時間加熱を行った結果は下表の通りである。
200ml反応容器に94.5%eeの(R)−フェニルエタノール100mg(0.819mmol)、[Ru(R,R)−Tsdpen(p−cymene)]24.6mg(0.041mmol)及びギ酸/トリエチルアミン(5/2(容量比))2mlを加え窒素置換を行った。この溶液を80℃で17時間攪拌を行なったところ、光学純度は55.4%eeであった。
Claims (6)
- 遷移金属錯体を用いて還元反応を行なった反応液に含窒素化合物を添加した後、反応溶媒回収及び/又は蒸留を行なう還元反応生成物の製造方法であって、
遷移金属錯体がルテニウム錯体、ロジウム錯体又はイリジウム錯体であり、
遷移金属錯体が配位子として一般式(A)で表されるジアミンを含み、
含窒素化合物が、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、トリス(2,2’,2’’−アミノエチル)アミン、N,N’−ビス(2−アミノエチル)−1,3−プロパンジアミン、N,N’−ビス(3−アミノプロピル)エチレンジアミン、ビス(3−アミノプロピル)アミン、1,2−ビス(3−アミノプロピルアミノ)エタン及び1,4−ビス(3−アミノプロピル)ピペリジンからなる群から選ばれる脂肪族アミン;1,2−フェニレンジアミン、4−フルオロ−1,2−フェニレンジアミン、2,3−ジアミノピリジン、3,4−ジアミノピリジン、2,3−ジアミノトルエン、3,4−ジアミノトルエン、3,3’−ジアミノベンジジン、3,4−ジアミノベンゾフェノン、2,5−ジアミノ−5−ブロモピリジン、6,6’−ジアミノ−2,2’−ビピリジル、4,5−ジクロロ−1,2−フェニレンジアミン、3,4−ジアミノ安息香酸、2,2’−ビピリジル、2,2’−ビ−4−ピコリン、6,6’−ビ−3−ピコリン及び2,2’−ビキノリンからなる群から選ばれる芳香族アミン;又はイミダゾール、2−メチルイミダゾール、1−メチルイミダゾール、1,3−チアゾール、1,3−オキサゾール、ピラゾール、1,2,4−トリアゾール及び2−ピリジノールからなる群から選ばれる含窒素複素環化合物であり、
含窒素化合物の添加量が遷移金属錯体に対して等モル以上である、前記製造方法。
(式中、*は不斉炭素原子を示し、RN1及びRN2は、それぞれ独立して置換基を有してもよいC1〜C20アルキル基、置換基を有してもよいC3〜C8シクロアルキル基、置換基を有してもよいC7〜C20アラルキル基、置換基を有してもよいC6〜C20アリール基、又は置換基を有してもよいC3〜C20ヘテロ環基を表すか、RN1とRN2とでアルキレン基又はアルキレンジオキシ基を形成してもよい。RN3は水素原子または置換基を有してもよいC1〜C20アルキル基を示し、RN4は炭素数1〜10のアルキル基;炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基;又は炭素数1〜10のアルキル基、炭素数1〜10のハロゲン化アルキル基、若しくはハロゲン原子で置換されていてもよいC6〜C20アリール基を示す。) - 還元反応が不斉水素化又は不斉水素移動である請求項1に記載の製造方法。
- 含窒素化合物における窒素原子の数が2以上である請求項1に記載の製造方法。
- 含窒素化合物が、イミダゾール、2−メチルイミダゾール及び1−メチルイミダゾールからなる群から選ばれるイミダゾールである請求項3に記載の製造方法。
- 含窒素化合物の添加が、反応溶媒回収及び/又は蒸留を行なう際の還元反応生成物の光学純度低下を抑制することを目的とするものである請求項1〜4に記載の製造方法。
- 含窒素化合物の添加により、含窒素化合物を遷移金属錯体と反応させて含窒素化合物を含む錯体を形成させることにより還元反応生成物の光学純度低下を抑制する請求項5記載の製造方法。
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