JP5681757B2 - Substrate processing apparatus and substrate support apparatus - Google Patents
Substrate processing apparatus and substrate support apparatus Download PDFInfo
- Publication number
- JP5681757B2 JP5681757B2 JP2013125124A JP2013125124A JP5681757B2 JP 5681757 B2 JP5681757 B2 JP 5681757B2 JP 2013125124 A JP2013125124 A JP 2013125124A JP 2013125124 A JP2013125124 A JP 2013125124A JP 5681757 B2 JP5681757 B2 JP 5681757B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- unit
- imaging
- board
- component
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 296
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 51
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 94
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 4
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 52
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 34
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 30
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 10
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 8
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000013461 design Methods 0.000 description 5
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)
Description
本発明は、基板処理装置および基板支持装置に関し、特に、基板を支持する基板支持部を備えた基板処理装置および基板支持装置に関する。 The present invention relates to a substrate processing apparatus and a substrate support apparatus, and more particularly, to a substrate processing apparatus and a substrate support apparatus provided with a substrate support portion that supports a substrate.
従来、基板を支持する基板支持部を備えた基板処理装置などが知られている(たとえば、特許文献1参照)。 2. Description of the Related Art Conventionally, a substrate processing apparatus including a substrate support unit that supports a substrate is known (see, for example, Patent Document 1).
上記特許文献1には、サポートピンを保持するホルダプレートが載置されるサポートテーブルと、サポートテーブル全体を昇降させる昇降機構部とを含む基板保持装置(基板支持装置)を備えた部品実装装置(基板処理装置)が開示されている。この部品実装装置では、基板への部品実装時に、ホルダプレートに複数のサポートピンが立てられた状態でサポートテーブルが上昇してサポートピンの先端部が基板の下面を支持するように構成されている。なお、複数のサポートピンは、基板サイズや基板内の電子部品の実装位置に支障のない位置に対応させてホルダプレート内の所定のピン固定穴にセットされている。 In the above-mentioned Patent Document 1, a component mounting apparatus (substrate mounting device) including a substrate holding device (substrate supporting device) including a support table on which a holder plate for holding support pins is placed, and an elevating mechanism for raising and lowering the entire support table ( A substrate processing apparatus) is disclosed. This component mounting apparatus is configured such that, when a component is mounted on a substrate, the support table rises with a plurality of support pins standing on the holder plate, and the tip of the support pin supports the lower surface of the substrate. . The plurality of support pins are set in predetermined pin fixing holes in the holder plate so as to correspond to positions where there is no hindrance to the board size and the mounting position of the electronic components in the board.
上記特許文献1に記載された部品実装装置では、ホルダプレートと基板とに相対的な位置ずれが生じない場合には複数のサポートピンを使用して基板の下面を支障なく支持することが可能な一方、ホルダプレートと基板とに相対的な位置ずれが生じた場合には、サポートピンの先端部が基板下面の適切な位置を支持できなくなり実装動作に支障を来たす場合がある。また、このような位置ずれの発生が実装不良基板の発生とともにオペレータ側で把握された場合には、オペレータが実装動作を中断して位置ずれを解消するための調整作業を行う必要がある。このため、位置ずれを解消する調整作業が必要となる分、部品実装装置の稼働率が低下するという問題点がある。 In the component mounting apparatus described in Patent Document 1, when the relative displacement between the holder plate and the substrate does not occur, it is possible to support the lower surface of the substrate without any trouble using a plurality of support pins. On the other hand, if a relative displacement occurs between the holder plate and the substrate, the tip of the support pin cannot support an appropriate position on the lower surface of the substrate, which may hinder the mounting operation. Further, when the occurrence of such a positional deviation is grasped on the operator side together with the occurrence of a defective mounting board, it is necessary for the operator to interrupt the mounting operation and perform adjustment work for eliminating the positional deviation. For this reason, there is a problem that the operation rate of the component mounting apparatus is reduced by the amount of adjustment work for eliminating the positional deviation.
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、この発明の1つの目的は、装置の調整作業に起因して稼働率が低下するのを抑制することが可能な基板処理装置および基板支持装置を提供することである。 The present invention has been made in order to solve the above-described problems, and one object of the present invention is a substrate capable of suppressing a reduction in operating rate due to the adjustment work of the apparatus. A processing apparatus and a substrate support apparatus are provided.
上記目的を達成するために、この発明の第1の局面における基板処理装置は、基板を支持する基板支持部と、基板支持部を撮像可能に構成された撮像部とを備え、撮像部による基板支持部の撮像結果に基づいて基板支持部に対する基板の位置が調整されるように構成されている。 To achieve the above object, a substrate processing apparatus according to a first aspect of the present invention includes a substrate support unit that supports a substrate, and an imaging unit configured to be able to image the substrate support unit. The position of the substrate relative to the substrate support portion is adjusted based on the imaging result of the support portion.
この発明の第1の局面による基板処理装置では、上記のように、基板支持部を撮像可能に構成された撮像部を備え、撮像部による基板支持部の撮像結果に基づいて基板支持部に対する基板の位置が調整されるように構成されることによって、撮像部による基板支持部の撮像結果に基づいて基板支持部に対する基板の位置ずれを解消するための調整動作が基板処理装置内で自動的に行われた状態で、その後の基板に対する処理を行うことができる。これにより、基板支持部に対する基板の位置ずれに起因して実際に不良基板が発生した際にこの点に気付いた操作者(オペレータ)が処理を中断して位置ずれを解消するための調整作業を行う必要がなくなる。これにより、基板処理装置の調整作業に起因して稼働率が低下するのを抑制することができる。 In the substrate processing apparatus according to the first aspect of the present invention, as described above, the substrate processing unit includes the imaging unit configured to be able to image the substrate support unit, and the substrate with respect to the substrate support unit based on the imaging result of the substrate support unit by the imaging unit. By adjusting the position of the substrate, the adjustment operation for eliminating the positional deviation of the substrate relative to the substrate support unit based on the imaging result of the substrate support unit by the imaging unit is automatically performed in the substrate processing apparatus. In the performed state, subsequent processing can be performed on the substrate. As a result, when a defective substrate is actually generated due to the displacement of the substrate with respect to the substrate support portion, an operator (operator) who notices this point interrupts the process and performs adjustment work to eliminate the displacement. There is no need to do it. Thereby, it can suppress that an operation rate falls due to adjustment work of a substrate processing apparatus.
上記第1の局面による基板処理装置において、好ましくは、基板を搬送する基板搬送部をさらに備え、撮像部による基板支持部の撮像結果に基づいて基板搬送部による基板搬送後の基板停止位置が調整されることにより、調整後の基板停止位置において基板支持部により基板が支持されるように構成されている。このように構成すれば、基板搬送部側の基板停止位置の調整動作が自動的に行われるので基板支持部に対する基板の位置ずれを容易に解消することができる。この際、基板支持部側の設置位置については調整する必要がないので、機器調整自体も簡便となりタクトタイムの増加を抑制することができる。 The substrate processing apparatus according to the first aspect preferably further includes a substrate transport unit that transports the substrate, and the substrate stop position after the substrate transport by the substrate transport unit is adjusted based on the imaging result of the substrate support unit by the imaging unit Thus, the substrate is supported by the substrate support portion at the adjusted substrate stop position. If comprised in this way, since the adjustment operation | movement of the board | substrate stop position by the side of a board | substrate conveyance part is performed automatically, the position shift of the board | substrate with respect to a board | substrate support part can be eliminated easily. At this time, since it is not necessary to adjust the installation position on the substrate support portion side, the device adjustment itself is simplified and an increase in tact time can be suppressed.
上記第1の局面による基板処理装置において、好ましくは、基板支持部は、基板支持部の位置が特定可能な基準マークを有しており、撮像部により基準マークが撮像されることにより把握された基板支持部の基準位置からの位置ずれ量に応じて基板支持部に対する基板の位置が調整されるように構成されている。このように構成すれば、撮像部による基準マークの撮像に基づいて基板支持部の基準位置からの位置ずれ量を容易に把握することができるとともに、把握された位置ずれ量を基板の位置の調整量に反映して基板処理時に基板を適切な位置に配置することができる。 In the substrate processing apparatus according to the first aspect described above, preferably, the substrate support portion has a reference mark with which the position of the substrate support portion can be specified, and is grasped when the reference mark is imaged by the imaging unit. The position of the substrate with respect to the substrate support portion is adjusted according to the amount of positional deviation from the reference position of the substrate support portion. If comprised in this way, while being able to grasp | ascertain easily the positional offset amount from the reference | standard position of a board | substrate support part based on the imaging of the reference mark by an imaging part, adjustment of the position of a board | substrate is grasped | ascertained. Reflecting the quantity, the substrate can be arranged at an appropriate position during substrate processing.
この場合、好ましくは、撮像部は、基板の上面を撮像可能に構成されており、基板支持部は、基板の下面を支持するバックアップピンを含み、撮像部による基準マークとしてのバックアップピンの先端部の撮像結果に基づいて基板支持部の基準位置からの位置ずれ量が把握されるように構成されている。このように構成すれば、基板の上面を撮像可能な撮像部を有効に使用して、基板の上面とは反対側の基板の下面を支持するバックアップピンの先端部を容易に撮像することができる。これにより、バックアップピンの先端部の撮像に基づく基板支持部の基準位置からのずれ量を正確に把握することができる。また、基準マークとしてバックアップピンを用いることにより、基準マークを別途設ける必要がないので、その分、構成が複雑化するのを抑制することができる。 In this case, preferably, the imaging unit is configured to be able to image the upper surface of the substrate, and the substrate support unit includes a backup pin that supports the lower surface of the substrate, and a tip portion of the backup pin as a reference mark by the imaging unit The positional deviation amount from the reference position of the substrate support portion is grasped based on the imaging result. If comprised in this way, the imaging part which can image the upper surface of a board | substrate can be used effectively, and the front-end | tip part of the backup pin which supports the lower surface of the board | substrate opposite to the upper surface of a board | substrate can be imaged easily. . Thereby, the deviation | shift amount from the reference position of the board | substrate support part based on imaging of the front-end | tip part of a backup pin can be grasped | ascertained correctly. Further, by using a backup pin as a reference mark, it is not necessary to separately provide a reference mark, and accordingly, the configuration can be suppressed from being complicated.
上記第1の局面による基板処理装置において、好ましくは、撮像部による基板支持部の撮像結果に基づき把握された基板支持部に対する基板の位置の調整量に基づいて、その後の基板に対する処理が行われるように構成されている。このように構成すれば、基板の位置の調整量を基板処理に関する基板処理装置の動作制御データに反映させてその後の基板処理を支障なく継続することができる。 In the substrate processing apparatus according to the first aspect, preferably, the subsequent processing is performed on the substrate based on the adjustment amount of the position of the substrate with respect to the substrate support portion grasped based on the imaging result of the substrate support portion by the imaging portion. It is configured as follows. If comprised in this way, the adjustment amount of the position of a board | substrate can be reflected in the operation control data of the substrate processing apparatus regarding a substrate process, and a subsequent substrate process can be continued without trouble.
この発明の第2の局面における基板支持装置は、基板を支持する基板支持部と、基板支持部を撮像可能に構成された撮像部とを備え、撮像部による基板支持部の撮像結果に基づいて基板支持部に対する基板の位置が調整されるように構成されている。 A substrate support apparatus according to a second aspect of the present invention includes a substrate support unit that supports a substrate, and an imaging unit configured to be able to image the substrate support unit, and based on an imaging result of the substrate support unit by the imaging unit. The position of the substrate relative to the substrate support portion is adjusted.
この発明の第2の局面による基板支持装置では、上記のように、基板支持部を撮像可能に構成された撮像部とを備え、撮像部による基板支持部の撮像結果に基づいて基板支持部に対する基板の位置が調整されるように構成されることによって、撮像部による基板支持部の撮像結果に基づいて基板支持部に対する基板の位置ずれを解消するための調整動作が基板支持装置内で自動的に行われた状態で、その後の基板に対する処理を行うことができる。これにより、基板支持部に対する基板の位置ずれに起因して実際に基板の支持状態に不具合が発生した際にこの点に気付いた操作者(オペレータ)が基板支持動作を中断して位置ずれを解消するための調整作業を行う必要がなくなる。これにより、基板支持装置の調整作業に起因して稼働率が低下するのを抑制することができる。 In the substrate support apparatus according to the second aspect of the present invention, as described above, the substrate support unit includes the imaging unit configured to be able to image the substrate support unit, and is based on the imaging result of the substrate support unit by the imaging unit. By being configured so that the position of the substrate is adjusted, an adjustment operation for eliminating the displacement of the substrate relative to the substrate support unit based on the imaging result of the substrate support unit by the imaging unit is automatically performed in the substrate support device. Then, the subsequent processing can be performed on the substrate. As a result, the operator (operator) who noticed this point when the problem occurred in the support state of the substrate due to the displacement of the substrate with respect to the substrate support part, canceled the substrate support operation and eliminated the displacement. It is not necessary to perform adjustment work for the purpose. Thereby, it can suppress that an operation rate falls by the adjustment operation | work of a board | substrate support apparatus.
本発明によれば、上記のように、装置の調整作業に起因して稼働率が低下するのを抑制することが可能な基板処理装置および基板支持装置を提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, as mentioned above, the substrate processing apparatus and substrate support apparatus which can suppress that an operation rate falls by the adjustment work of an apparatus can be provided.
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1〜図7を参照して、本発明の一実施形態による部品実装装置100の構成について説明する。なお、部品実装装置100は、本発明の「基板処理装置」および「基板支持装置」の一例である。
With reference to FIGS. 1-7, the structure of the
本発明の一実施形態による部品実装装置100は、図1に示すように、クリーム半田(図示せず)が印刷された基板1の実装面1aに、後述するヘッドユニット60を用いて部品2を実装(搭載)する装置である。なお、実装面1aは、本発明の「上面」の一例である。
As shown in FIG. 1, a
部品実装装置100は、図1に示すように、基台10と、基台10の上面10a(Z1側)上に配置された基板搬送部20と、基台10と基板搬送部20との間に配置されたバックアップ支持機構部30(基板1の奥側に2点鎖線で示す)と、基板搬送部20の両側(Y1側およびY2側)にそれぞれ配置された部品供給部50および55とを備えている。また、部品実装装置100は、基板搬送部20の上方(紙面手前側)をX−Y面に沿って移動可能なヘッドユニット60と、基板1の認識用の基板撮像部70と、実装前の部品2の吸着状態を撮像する部品撮像部80と、制御装置90(図7参照)とをさらに備えている。
As shown in FIG. 1, the
基板搬送部20は、図2に示すように、基板1の搬送方向(X方向)に延びる一対のコンベア部21を有している。一対のコンベア部21は、制御装置90(図7参照)からの指令に基づきサーボモータおよび搬送ベルト(図示せず)が駆動されることにより、基台10の一方側(X1側)に接続された搬入コンベア110から基板1を受け入れて部品実装位置(基板停止位置)まで搬送する機能を有している。また、基板1は、基板停止位置においてコンベア部21に設けられた図示しないクランプ機構によりこの位置に固定されるように構成されている。なお、コンベア部21における基板停止位置(X方向の位置)は、後述するバックアップ支持機構部30の上方に位置しており、予め実装プログラム側で設定されている。また、コンベア部21は、部品2の実装後の基板1を基台10の他方側(X2側)に接続された搬出コンベア120に搬出する機能を有している。
As shown in FIG. 2, the
また、基板搬送部20の後方側(Y1側)に配置された部品供給部50には、複数のフィーダ51がX方向に並べられている。各フィーダ51には、複数のチップ部品(部品2)を所定の間隔を隔てて保持した部品テープが巻回されたリール(図示せず)が保持されている。そして、部品供給部50は、フィーダ51から間欠的に部品テープを繰り出すことによって、部品テープ上のチップ部品を部品供給位置に供給するように構成されている。ここで、チップ部品とは、LSI、IC、トランジスタ、コンデンサおよび抵抗器などの小片状の電子部品を示す。また、基板搬送部20の前方側(Y2側)に配置された部品供給部55には、X方向に所定の間隔を隔ててトレイ56および57が配置されている。トレイ56および57には、QFPやBGAなどの大型のパッケージ部品が載置されている。
A plurality of
バックアップ支持機構部30は、図2に示すように、基板1がコンベア部21における部品実装位置(基板停止位置)にクランプ固定された状態で後述するバックアップピン43を用いて基板1を下方から下支えする機能を有している。これにより、基板1の搬送方向(X方向)と直交するY方向の両端部(図1参照)がクランプ固定された状態において、一対のコンベア部21間の基板1の中央部が下方(Z2方向)に撓み変形するのが防止されている。なお、バックアップ支持機構部30は、本発明の「基板支持部」の一例である。
As shown in FIG. 2, the backup
また、図3に示すように、バックアップ支持機構部30は、基台10の上面10a(図2参照)の略中央部に固定的に設置された台座部31(外形を破線で示す)と、台座部31に取り付けられた昇降機構部32と、昇降機構部32により台座部31の上部をZ方向(Z1方向およびZ2方向)に昇降される支持テーブル33と、支持テーブル33の上面上に略水平に組み付けられた金属製のベース部34とを備えている。
Further, as shown in FIG. 3, the
昇降機構部32は、一対のガイドシャフト35と、Z方向に延びるボールねじ軸36と、ボールねじ軸36を駆動するためのサーボモータ37とを含んでいる。なお、ガイドシャフト35は、台座部31にボルト5を介して固定されたハウジング35aに対してZ方向にスライド移動可能に保持されている。また、ボールねじ軸36は、台座部31にボルト5を介して固定されたブラケット36aを介してR方向に回転可能に支持されている。また、サーボモータ37の回転軸37aには小径プーリ38が同軸状に固定されるとともに、ボールねじ軸36に大径プーリ39の内周部が同軸状に噛合した状態でブラケット36a上の固定位置において回転可能に支持されている。また、環状の駆動ベルト40が小径プーリ38および大径プーリ39に亘って掛けられている。これにより、サーボモータ37の駆動力が駆動ベルト40を介して大径プーリ39を回転させることにより、ボールねじ軸36が台座部31に対してZ1方向またはZ2方向に昇降されるように構成されている。
The elevating
また、図4に示すように、ベース部34は、Z1側の上面34a(図3参照)が略矩形形状を有しており、板金製(アルミ製)のマトリクスプレート41がベース部34の上面34aに着脱可能に装着されるように構成されている。なお、ベース部34には、位置合わせ用のピン34bが2箇所に設けられており、マトリクスプレート41に形成された2箇所の装着穴41aを各々に対応するピン34bに差し込みながらマトリクスプレート41を被せることによってマトリクスプレート41がベース部34に装着される。
As shown in FIG. 4, the
また、図3に示すように、マトリクスプレート41には下面から下方に突出するホルダ42が取り付けられている。ホルダ42には磁石が組み込まれておりホルダ42が磁力によりベース部34(上面34a)に吸着することによってマトリクスプレート41の装着状態が保持されるように構成されている。また、図4に示すように、マトリクスプレート41は、マトリクス状(本実施形態では13行×29列)に配置された複数(377個)の保持穴41bを有している。そして、基板1を支持するための複数のバックアップピン43がマトリクスプレート41に立てられるように構成されている。
Further, as shown in FIG. 3, a
具体的には、バックアップピン43は、図3に示すように、最大直径を有する円柱状の胴体部43aと、段付き加工により胴体部43aよりも縮径され下方(Z2方向)に延びる根元部43bと、胴体部43aから上方(Z1方向)に細く棒状に延びるとともに略平坦な頂面(端面)を有する先端部43cとを有している。マトリクスプレート41の保持穴41bはバックアップピン43の根元部43bよりもごく僅かだけ大きい内径を有しており、マトリクスプレート41の段取り時に根元部43bが保持穴41bに差し込まれることによって胴体部43aの根元部43bとの段差部がマトリクスプレート41の上面(Z1側)に当接してバックアップピン43がマトリクスプレート41上に一時的に保持されるように構成されている。なお、バックアップピン43の先端部43cは、本発明の「基準マーク」の一例である。
Specifically, as shown in FIG. 3, the
ここで、バックアップピン43は、オペレータによってマトリクスプレート41内の所定の位置に取り付けられる。また、個々のバックアップピン43の取付位置については、部品2が実装される基板1のサイズや基板1における複数の部品2の実装位置によって把握されている。たとえば、取付位置の一例として、図6に示すように、マトリクスプレート41の「J行2列目」、「A行9列目」、「G行11列目」、「B行19列目」および「L行22列目」の計5箇所がバックアップピン43の取付位置とされている。これらの取付位置は、いずれもバックアップピン43の先端部43cが部品2の実装時に基板1の下面1bを支障なく支持することが可能な位置として設定されている。また、このような位置情報(マトリクスプレート41の番地情報)は実装予定の基板1ごとに予め定められており、オペレータが位置情報を参照しながらバックアップピン43を順次マトリクスプレート41に取り付ける。
Here, the
そして、図4に示すように、複数のバックアップピン43が立てられたマトリクスプレート41をオペレータがベース部34に被せることにより、実装動作前のバックアップ支持機構部30に関する段取りが行われる。なお、図5に示すように、マトリクスプレート41がベース部34に被せられた状態(段取り完了状態)では、バックアップピン43の根元部43bの底面がベース部34の上面34aに当接するので、各々のバックアップピン43は根元部43bが保持穴41bに差し込まれたままマトリクスプレート41に対して若干上方に相対移動される。すなわち、バックアップピン43のZ方向の長さによってベース部34の上面34aから基板1までの高さ位置が規定されている。
Then, as shown in FIG. 4, the operator places the
なお、ベース部34に対して繰り返し装着可能なマトリクスプレート41は汎用部品である。したがって、ベース部34に対してマトリクスプレート41を装着した場合、マトリクスプレート41は、設計上の位置(基板1を支障なく支持可能な位置)に対して±0.5mm程度の組付け誤差を有している。言い換えると、マトリクスプレート41上のバックアップピン43の先端部43cの位置も、基板1を支障なく支持可能な設計上の位置に対して±0.5mm程度の位置ずれを潜在的に有している。
The
また、バックアップ支持機構部30に関する段取りが完了した後は、図5に示すように、コンベア部21(図2参照)により実装予定の基板1が部品実装位置(基板停止位置)まで搬送されてこの位置にクランプ固定される。そして、基板1が基板停止位置に固定された状態でベース部34が基板1に向けて上昇される。この際、マトリクスプレート41上のバックアップピン43の先端部43cが基板1の下面1bに接触することによって基板1が下方から下支えされる。なお、図5では、基板1がバックアップピン43により支持される様子を説明する都合上、コンベア部21の図示を省略している。
After the setup relating to the
ここで、本実施形態では、バックアップ支持機構部30におけるマトリクスプレート41の組み付け誤差(±0.5mm程度)が予め解消された状態でバックアップピン43が基板1を支持することが可能に構成されている。すなわち、ベース部34が基板1に向けて上昇される前(図5に示した状態になる前)に、まず、ヘッドユニット60(図1参照)に取り付けられた基板撮像部70(カメラ部71)を用いて組み付け誤差を有するマトリクスプレート41(バックアップピン43)に対する基板1の位置(搬送後の基板1の基板停止位置)が予め調整されるように構成されている。なお、カメラ部71は、本発明の「撮像部」の一例である。
Here, in the present embodiment, the
この点を具体的に説明する。すなわち、カメラ部71(図1参照)によりマトリクスプレート41に取り付けられた特定のバックアップピン43の先端部43c(図4参照)が撮像される。そして、撮像された先端部43cの撮像結果(画像データ)に基づいてマトリクスプレート41が有する組み付け誤差が算出される。そして、コンベア部21(図1参照)により実装予定の基板1が部品実装位置まで搬送される際、算出された組み付け誤差を解消するようにバックアップピン43に対する基板1の基板停止位置(支持位置)が調整される動作が行われるように構成されている。言い換えると、カメラ部71によるバックアップピン43の先端部43cの撮像結果に基づいて組み付け誤差を解消する方向に基板搬送部20による基板1の基板搬送後の基板停止位置が調整されることにより、バックアップピン43に対する基板1の支持位置が調整されるように構成されている。
This point will be specifically described. That is, the
たとえば、図6に示すように、カメラ部71(図1参照)によりマトリクスプレート41の「J行2列目」の保持穴41bに固定されているバックアップピン43の先端部43c(黒く塗り潰して図示)が撮像される。画像処理部95(図7参照)による画像処理の結果、「J行2列目」の先端部43cの設計上の基準位置(部分拡大図中に破線で示す)に対して実際の先端部43cがX2方向に「ΔX」だけ組付け誤差が生じていることが認識される。したがって、コンベア部21(図1参照)により実装予定の基板1が部品実装位置まで搬送される際、基板1の基板停止位置も、当初の予定停止位置に対して位置ずれ量ΔX分だけX2方向における手前側の位置へと変更される。
For example, as shown in FIG. 6, the
これにより、バックアップピン43の先端部43cがX方向(基板1の搬送方向)に沿って位置ずれを起こしたままであっても、先端部43cの現在位置に合わせて基板1の基板停止位置が調整されるとともに、調整後の基板停止位置においてバックアップピン43により基板1が支持されるように構成されている。なお、図6では、紙面手前側に基板1が配置されるとともに、基板1の奥側にマトリクスプレート41が配置されている状態を示している。また、図6では、マトリクスプレート41と基板1との位置関係を示すために、X方向に延びるコンベア部21などの図示を省略している。
Thereby, even if the
部品実装装置100では、このようにしてカメラ部71によりマトリクスプレート41上のバックアップピン43が撮像されることによりマトリクスプレート41(バックアップピン43)の設計上の基準位置からの位置ずれ量ΔXが把握されるとともに位置ずれ量ΔXを反映させて基板1の停止位置が調整されるように構成されている。
In the
また、本実施形態では、カメラ部71によるバックアップピン43の先端部43cの撮像結果に基づき把握された位置ずれ量ΔXに基づいて、その後の基板1に対する部品2の実装動作が行われるように構成されている。すなわち、実装プログラムに指定されている各部品2の実装位置座標に関し、X方向の座標をすべて位置ずれ量ΔX分だけ補正した状態で部品2の実装動作が行われるように構成されている。また、同品種の基板1に対して連続的に部品実装動作が行われる場合においても、一連の実装動作の最初に行われたバックアップピン43の先端部43cの位置ずれ量ΔXに基づいて、その後の個々の基板1の基板停止位置が調整されるとともに各基板1への実装動作が繰り返されるように構成されている。
In the present embodiment, the subsequent mounting operation of the
また、ヘッドユニット60は、図1および図2に示すように、部品供給部50および55から供給される部品2を一時的に吸着/保持した状態で基板1上の所定位置まで移送し、その位置で部品2を基板1に実装する機能を有している。具体的には、ヘッドユニット60の下面60aには、X方向に沿って列状に配置された複数(6基)の実装ヘッド61が下方に露出しており、各々の実装ヘッド61には、先端部が下方(Z1方向)に向けられた部品吸着用のノズル5が取り付けられている。これにより、部品実装動作時には、部品実装装置100に設けられた負圧発生機(図示せず)によりノズル5の下端部に発生する負圧によって部品2が吸着されるように構成されている。
Further, as shown in FIGS. 1 and 2, the
また、ヘッドユニット60は、基台10上をX方向に延びる支持部62を介して移動可能に支持されている。ヘッドユニット60は、支持部62に設けられたX軸サーボモータ63によりボールねじ軸64が回動されることによってスライドガイド部65がX方向に移動される。また、基台10の上面には、Y方向に延びる一対の高架フレーム11が配置されており、高架フレーム11には、Y軸サーボモータ13とボールねじ軸14とが設けられている。ここで、支持部62は、一対の固定レール12を介して高架フレーム11上をX方向に跨いでいる。そして、支持部62は、Y軸サーボモータ13によりボールねじ軸14が回動されることによって高架フレーム11上をY方向に移動される。これにより、ヘッドユニット60は、ボールねじ軸64および14がそれぞれ回転されて、基台10上のX−Y面内を任意の位置に移動することが可能に構成されている。
The
また、図2に示すように、各々の実装ヘッド61は、Z方向に昇降可能であるとともに、ノズル5の中心を通る鉛直軸線(Z方向)を回動中心として水平面内(R方向)に回動される。これにより、ノズル5に部品2が吸着された状態で部品2のX−Y面内での保持状態が調整されるように構成されている。
Further, as shown in FIG. 2, each mounting
基板撮像部70は、ヘッドユニット60における一方側(X1側)の側端部60bに取り付けられている。また、基板撮像部70は、カメラ部71と、基板1の実装面1aを照らす照明部72とを備えている。また、基板撮像部70は、図1に示すように、基板1の実装面1aに付された基板認識マーク3を撮像する機能を有している。
The
部品撮像部80は、図1に示すように、カメラ部81と、部品2の下面を照らす照明部82とを備えている。そして、部品撮像部80は、図2に示すように、ヘッドユニット60により部品供給部50および55(図1参照)から取り出された実装直前の部品2の下面側の形状をカメラ部81を用いて下面側(Z1側)から撮像する機能を有している。これにより、実装直前の部品2のノズル5に対する保持(吸着)状態が、部品実装装置100(図1参照)に認識されるように構成されている。
As shown in FIG. 1, the
また、制御装置90は、図7に示すように、部品実装装置100の部品実装動作に関する全体的な動作を制御する。具体的には、制御装置90は、CPUからなる主制御部91と、記憶部92と、カメラ制御部93と、照明制御部94と、画像処理部95と、駆動制御部96とを含んでいる。
Further, as shown in FIG. 7, the
記憶部92には、実装プログラムに加えて実装される部品2の部品名称、部品番号、形状などの個々の部品が特定可能な情報が格納されている。このような情報は、オペレータが部品2をフィーダ51やトレイ56および57(図1参照)などに補充する際に、図示しない入力装置(PC端末)を介して部品実装装置100に予め登録される。また、記憶部92には、実装予定の基板1に対応したマトリクスプレート41(図6参照)の種別およびマトリクスプレート41に取り付けられるバックアップピン43(図6参照)の位置情報(番地情報)が記憶されている。そして、主制御部91は、実装プログラムと記憶部92に登録された部品2に関する情報とに基づいて、駆動制御部96を介して基板搬送部20、ヘッドユニット60、基板撮像部70および部品撮像部80を駆動させて部品実装動作を実行する機能を有している。
In addition to the mounting program, the
また、カメラ制御部93は、基板撮像部70のカメラ部71および部品撮像部80のカメラ部81をそれぞれ駆動して撮像動作を行わせる機能を有している。照明制御部94は、基板撮像用の照明部72および部品撮像用の照明部82を動作させる機能を有している。画像処理部95は、カメラ部71および81が個々に取得した画像データの画像処理を行う機能を有している。駆動制御部96は、バックアップ支持機構部30を駆動するためのサーボモータ37などを駆動する機能を有している。そして、主制御部91は、画像処理部95による画像処理結果(撮像結果)に基づいて、ノズル5に吸着された部品2(図2参照)の保持状態を認識するとともに、基板1(基板認識マーク3(図1参照))を認識するように構成されている。このようにして、本実施形態における部品実装装置100は構成されている。
The
次に、図1〜図8を参照して、部品実装装置100における制御装置90(主制御部91)(図7参照)の制御処理フローについて説明する。なお、以下では、部品2の実装動作の前段階としての、基板1が基板搬送部20(図1参照)により部品実装位置に搬送される際の主制御部91の制御処理フローについて説明する。また、オペレータによるバックアップ支持機構部30(図1参照)に関する段取りや、基板搬送部20による基板搬送後(基板停止位置の調整動作後)の部品2の実装動作についても説明する。
Next, a control processing flow of the control device 90 (main control unit 91) (see FIG. 7) in the
まず、図3に示すように、部品実装の段取りとして、オペレータによってマトリクスプレート41がバックアップ支持機構部30におけるベース部34の上面34a上に装着される。この際、図4に示すように、マトリクスプレート41には部品実装予定の基板1(図5参照)に対応した配置レイアウトの状態で複数のバックアップピン43が固定される。そして、オペレータにより部品実装装置100(図1参照)の運転開始ボタン(図示せず)が押下される。なお、この時点では、基板1は、搬入コンベア110(図1参照)上で待機している。
First, as shown in FIG. 3, the
その後、図8に示すように、ステップS1では、ヘッドユニット60(図1参照)の基板撮像部70によりバックアップピン43の位置が撮像される。具体的には、主制御部91の指令に基づきX軸サーボモータ63(図1参照)およびY軸サーボモータ13(図1参照)が駆動されてヘッドユニット60のカメラ部71(図1参照)がバックアップ支持機構部30(図1参照)の上方まで移動される。ここで、実装プログラムによって部品実装予定の基板1(図1参照)の種別が予め把握されているので、マトリクスプレート41におけるこの基板1を支持するためのバックアップピン43の位置情報(マトリクスプレート41内のバックアップピン43の番地情報)も制御装置90(図7参照)側で予め把握されている。したがって、ステップS1では、予め記憶部92(図7参照)に記憶されているバックアップピン43の位置座標(設計上の位置座標)に対して基板撮像部70(カメラ部71(図2参照))が移動される。そして、ヘッドユニット60の停止後、カメラ部71により下方のバックアップピン43の先端部43cが撮像される。
Thereafter, as shown in FIG. 8, in step S <b> 1, the position of the
そして、本実施形態では、ステップS2において、主制御部91によりバックアップピン43の位置ずれ量ΔXが算出される。すなわち、図6に示すように、バックアップピン43の先端部43cを撮像した撮像結果に基づいて、設計上先端部43cが存在する基準位置に対する実際の先端部43cの「位置ずれ量ΔX」が画像処理部95(図7参照)による画像処理に基づいて算出される。これにより、バックアップピン43の位置ずれ量ΔXが制御装置90側で把握される。
In the present embodiment, in step S2, the main controller 91 calculates the positional deviation amount ΔX of the
その後、図8に示すように、ステップS3では、部品実装予定の基板1の部品実装装置100への搬入動作が開始される。すなわち、主制御部91の指令に基づき基板搬送部20におけるコンベア部21(図1参照)が駆動される。そして、ステップS4では、バックアップピン43(先端部43c)の基準位置からの位置ずれ量ΔXに対応した位置において基板1の搬送が停止される。すなわち、本実施形態では、カメラ部71によるバックアップピン43の先端部43cの撮像結果に基づいてコンベア部21による基板搬送後の基板停止位置が調整される。
Thereafter, as shown in FIG. 8, in step S <b> 3, the operation for carrying in the
そして、ステップS5では、基板停止位置においてコンベア部21に設けられたクランプ機構(図示せず)により基板1がクランプ固定される。その後、ステップS6では、基板1が基板停止位置に固定された状態でバックアップ支持機構部30(図1参照)が駆動されて基板1が下方から支持される。具体的には、主制御部91の指令に基づきサーボモータ37(図5参照)が駆動されてベース部34(図5参照)がマトリクスプレート41(図5参照)とともに基板1に向けて上昇される。そして、マトリクスプレート41上のバックアップピン43の先端部43c(図5参照)が基板1の下面1bに接触することによって基板1が下方から下支えされる。
In step S5, the substrate 1 is clamped and fixed by a clamp mechanism (not shown) provided in the
部品実装装置100では、上記した制御フロー終了後は、主制御部91の制御に基づいて部品2の実装動作が実行される。この際、上述したカメラ部71によるバックアップピン43の先端部43cの撮像結果に基づき把握された位置ずれ量ΔXに基づいて、その後の基板1に対する部品2の実装動作が行われる。
In the
すなわち、図1に示すように、実装プログラムに基づきヘッドユニット60が初期位置から部品供給部50および55上へと順次移動されて、各々のノズル5(図2参照)の先端部(下端部)に部品2(図2参照)が吸着される。そして、最大で6個の部品2が各々のノズル5に吸着される。そして、部品2が各々のノズル5に吸着された後、図2に示すように、ヘッドユニット60は、部品撮像部80上をX1方向に通過する。この際、個々の部品2が部品撮像部80の上方に到達する直前に照明部82が点灯を開始し、全ての部品2が部品撮像部80の上方を通過し終わるまで照明部82の点灯が継続される。そしてこの間、カメラ部81により実装直前の各部品2のノズル5に対する吸着状態が順次撮像される。
That is, as shown in FIG. 1, the
カメラ部81による部品2の撮像が終了すると、カメラ部81により撮像された各部品の撮像結果に基づいて部品2の吸着状態(各々の実装ヘッド61に対する部品2のX方向、Y方向およびR方向の位置ずれや傾きの状態)や部品2の欠陥の有無などが主制御部91(図7参照)によって認識される。そして、撮像された部品2の中に不良部品や吸着位置の補正が不可能な部品がある場合には、当該部品が廃棄対象部品としてデータ登録された後、廃棄対象部品以外の正常な部品2を、順次、基板1の実装面1aに実装する動作が実行される。
When the imaging of the
また、カメラ部71による基板認識マーク3(図1参照)の認識結果に基づいて、部品2が適切な位置に実装されるようにヘッドユニット60の位置(X方向およびY方向)および各実装ヘッド61の回動角度(R方向)などが補正される。そして、部品2の基板1への実装動作が実行される。このようにして実装動作の1回のサイクルが終了する。また、実装プログラムに基づいて上記動作が繰り返される。
Further, based on the recognition result of the substrate recognition mark 3 (see FIG. 1) by the
本実施形態では、上記のように、バックアップ支持機構部30におけるマトリクスプレート41上のバックアップピン43を撮像可能に構成されたカメラ部71(基板撮像部70)を備え、カメラ部71によるバックアップピン43の撮像結果に基づいてバックアップピン43に対する基板1の位置が調整されるように構成されることによって、カメラ部71によるバックアップピン43の撮像結果に基づいてバックアップピン43に対する基板1の位置ずれを解消するための調整動作が部品実装装置100内で自動的に行われた状態で、その後の基板1に対する処理を行うことができる。これにより、バックアップピン43に対する基板1の位置ずれに起因して実際に不良基板が発生した際にこの点に気付いた操作者(オペレータ)が処理を中断して位置ずれを解消するための調整作業を行う必要がなくなる。これにより、部品実装装置100の調整作業に起因して稼働率が低下するのを抑制することができる。
In the present embodiment, as described above, the camera unit 71 (substrate imaging unit 70) configured to be able to image the backup pins 43 on the
また、本実施形態では、基板1を搬送する基板搬送部20を備え、カメラ部71によるバックアップピン43の撮像結果に基づいて基板搬送部20による基板搬送後の基板停止位置が調整されることにより、調整後の基板停止位置においてバックアップピン43により基板1が支持されるように構成する。これにより、基板搬送部20側の基板停止位置の調整動作が自動的に行われるのでバックアップピン43に対する基板1の位置ずれを容易に解消することができる。この際、バックアップ支持機構部30におけるマトリクスプレート41の組み付け位置(バックアップピン43側の設置位置)については調整する必要がないので、部品実装装置100における機器調整自体も簡便となりタクトタイムの増加を抑制することができる。
Moreover, in this embodiment, the board |
また、本実施形態では、カメラ部71は、基板1の実装面1aを撮像可能に構成されており、カメラ部71によるバックアップピン43の先端部43cの撮像結果に基づいてバックアップピン43の基準位置からの位置ずれ量が把握されるように構成する。これにより、基板1の実装面1aを撮像可能なカメラ部71を有効に使用して、基板1の実装面1aとは反対側の基板1の下面1bを支持するバックアップピン43の先端部43cを容易に撮像することができる。その結果、バックアップピン43の先端部43cの撮像に基づくバックアップピン43の基準位置からのずれ量を正確に把握することができる。また、「基準マーク」としてバックアップピン43を用いることにより、基準マークなどを別途設ける必要がないので、その分、構成が複雑化するのを抑制することができる。
In the present embodiment, the
また、本実施形態では、カメラ部71によるバックアップピン43(先端部43c)の撮像結果に基づき把握されたバックアップピン43に対する基板1の位置の調整量に基づいて、その後の基板1に対する処理が行われるように構成する。これにより、基板1の位置の調整量を部品実装装置100の動作制御データに反映させてその後の部品2の実装動作を支障なく継続することができる。
In the present embodiment, the subsequent processing for the substrate 1 is performed based on the adjustment amount of the position of the substrate 1 with respect to the
なお、今回開示された実施形態は、すべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した実施形態の説明ではなく特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれる。 The embodiment disclosed this time should be considered as illustrative in all points and not restrictive. The scope of the present invention is shown not by the above description of the embodiments but by the scope of claims for patent, and further includes all modifications within the meaning and scope equivalent to the scope of claims for patent.
たとえば、上記実施形態では、基板処理装置または基板支持装置の一例として、基板1に部品2を実装する部品実装装置100に本発明を適用した例について示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、半田ペーストを基板に印刷する印刷機に本発明を適用してもよい。印刷機においては、半田ペースト印刷前の基板固定位置を、基板を支持する基板支持部(バックアップ支持機構部)の位置ずれに応じて微調整するように構成すればよい。この場合、バックアップピンの位置を撮像する撮像部は、印刷用のマスクプレート観察用(マスクスキャン動作用)のカメラを使用してもよいし、基板とマスクプレートとの位置合わせのための基板認識カメラを使用してもよい。また、半田ペーストのみならず電子部品を固定する接着剤などの塗布剤を基板上の所定の塗布位置に塗布するディスペンサに本発明を適用してもよい。また、基板支持部と、ヘッドユニット60などに設けられることなく単独で設けられた撮像部とを備えた基板支持装置に対して本発明を適用してもよい。また、X線源や可視光線源を備え、部品が実装された回路基板に対するX線検査や可視光による外観検査が行えるような基板検査装置に対しても本発明を適用することが可能である。
For example, in the above-described embodiment, the example in which the present invention is applied to the
また、上記実施形態では、本発明の「基準マーク」としてのバックアップピン43の先端部43cの撮像結果に基づいて先端部43cの基準位置からの位置ずれ量ΔXを把握した例について示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、マトリクスプレート41における特定の保持穴41bを基準マークとして保持穴41bの基準位置(設計上の配置位置)からの位置ずれ量を把握して基板1の支持位置(基板停止位置)の調整を行うように構成してもよいし、マトリクスプレート41の表面(上面)に基準位置からの位置ずれ量を把握可能な基準マークを印刷(刻印)していてもよい。
In the above embodiment, an example in which the positional deviation amount ΔX from the reference position of the
また、上記実施形態では、特定の1本のバックアップピン43の先端部43cの撮像結果に基づいて位置ずれ補正を行う例について示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、所定距離だけ互いに離間した2本のバックアップピン43の各々の先端部43cの撮像結果に基づいてバックアップピン43を含むマトリクスプレート41全体の基準位置(設計上の配置位置)からのずれ量を把握して基板1の支持位置の調整を行うように構成してもよい。この場合、2つの先端部43cの基準位置に対する幾何学的な位置ずれから、マトリクスプレート41の基準位置に対するX方向の位置ずれ量ΔXに加えてマトリクスプレート41の基準位置に対するY方向の位置ずれ量ΔYも容易に算出される。したがって、基板搬送部20上の基板1が搬送方向(X方向)のみならず搬送方向と直交する部品実装装置100における前後方向(Y方向)にも搬送位置が調整可能な機器構成である場合には、複数のバックアップピン43の位置ずれに基づいて基板1の基板停止位置が調整されるような構成は非常に有用である。
In the above-described embodiment, the example in which the positional deviation correction is performed based on the imaging result of the
また、上記実施形態では、単一の基板搬送レーン(基板搬送部20)に対して1台のバックアップ支持機構部30を有する部品実装装置100に対して本発明を適用した例について示したが、本発明はこれに限られない。たとえば、図9に示す変形例のように、単一の基板搬送レーン201に対して2台のバックアップ支持機構部230および235がX方向に沿って設けられた部品実装装置200に対して本発明を適用してもよい。この場合、基板搬送レーン201は、バックアップ支持機構部230に対応する基板搬送部221(X1側)と、バックアップ支持機構部235に対応する基板搬送部222(X1側)とに2分割されている。そして、基板搬送部221において部品実装が行われる基板1に対してバックアップ支持機構部230に装着されたマトリクスプレート41の位置ずれ(組み付け誤差)がカメラ部71による先端部43cの撮像結果に基づき補正される動作と、基板搬送部222において部品実装が行われる基板1に対してバックアップ支持機構部235に装着されたマトリクスプレート41の位置ずれ(組み付け誤差)がカメラ部71による先端部43cの撮像結果に基づき補正される動作とが、独立的に行われるように構成してもよい。なお、部品実装装置200は、本発明の「基板処理装置」および「基板支持装置」の一例である。また、バックアップ支持機構部230および235は、本発明の「基板支持部」の一例である。
In the above-described embodiment, an example in which the present invention is applied to the
また、上記実施形態およびその変形例(図9参照)では、単一の基板搬送レーン(基板搬送レーン201)を備えた部品実装装置100および200に対して本発明を適用した例について示したが、本発明はこれに限られない。複数の基板搬送レーンがY方向に並行配置された部品実装装置に対して本発明を適用してもよい。たとえば、2本の基板搬送レーンを備えるとともに、各々の基板搬送レーンに3台のバックアップ支持機構部が直列配置されたような部品実装装置に対して本発明を適用してもよい。この場合、カメラ部71を有するヘッドユニット60は1基であってもよいし、基板搬送レーンごとにヘッドユニットが設けられていてもよい。
In the above embodiment and its modification (see FIG. 9), an example in which the present invention is applied to the
また、上記実施形態では、部品2の実装されていない基板1に対する実装動作の前にカメラ部71による先端部43cの撮像結果に基づいて基板1の停止位置を調整する例について示したが、本発明はこれに限られない。すなわち、部品2が基板1の両面(上面および下面)に実装可能な基板1に対しても本発明を適用することが可能である。予め一方側の実装面(下面)に部品2が実装された基板1の他方側の実装面(上面)に別な部品2を実装する際、下面側の実装済みの部品2に干渉することなくバックアップピン43が基板1の下面を適切に支持するためにも、バックアップピン43に対する基板1の位置を調整する本発明は有効である。
In the above embodiment, the example in which the stop position of the substrate 1 is adjusted based on the imaging result of the
また、上記実施形態では、6基の実装ヘッド61がX方向に沿って1列に配置されたヘッドユニット60に基板撮像部70(カメラ部71)が設けられた例について示したが、本発明はこれに限られない。1本のノズル列が2列または3列にタンデム配置されたヘッド部や、複数の実装ヘッドが円環状に配置されたロータリー型のヘッド部に基板撮像部70(カメラ部71)が設けられていてもよい。
In the above-described embodiment, an example in which the board imaging unit 70 (camera unit 71) is provided in the
また、上記実施形態では、説明の便宜上、部品実装装置100の主制御部91の制御処理を、処理フローに沿って順番に処理を行うフロー駆動型のフローチャートを用いて説明した例について示したが、本発明はこれに限られない。本発明では、主制御部91の制御処理を、イベント単位で処理を実行するイベント駆動型(イベントドリブン型)の処理により行ってもよい。この場合、完全なイベント駆動型で行ってもよいし、イベント駆動およびフロー駆動を組み合わせて行ってもよい。
In the above embodiment, for the sake of convenience of explanation, the control processing of the main control unit 91 of the
1 基板
1a 実装面(上面)
1b 下面
20、221、222 基板搬送部
21 コンベア部
30、230、235 バックアップ支持機構部(基板支持部)
41 マトリクスプレート
43 バックアップピン
43c 先端部(基準マーク)
70 基板撮像部
71 カメラ部(撮像部)
90 制御装置
91 主制御部
100、200 部品実装装置(基板処理装置、基板支持装置)
1
41
70
90 control device 91
Claims (6)
前記基板支持部を撮像可能に構成された撮像部とを備え、
前記撮像部による前記基板支持部の撮像結果に基づいて前記基板支持部に対する前記基板の位置が調整されるように構成されている、基板処理装置。 A substrate support for supporting the substrate;
An imaging unit configured to be capable of imaging the substrate support unit,
A substrate processing apparatus configured to adjust a position of the substrate relative to the substrate support unit based on an imaging result of the substrate support unit by the imaging unit.
前記撮像部による前記基板支持部の撮像結果に基づいて前記基板搬送部による基板搬送後の基板停止位置が調整されることにより、調整後の前記基板停止位置において前記基板支持部により前記基板が支持されるように構成されている、請求項1に記載の基板処理装置。 Further comprising a substrate transport unit for transporting the substrate,
The substrate stop position after the substrate transfer by the substrate transfer unit is adjusted based on the imaging result of the substrate support unit by the imaging unit, so that the substrate is supported by the substrate support unit at the adjusted substrate stop position. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein the substrate processing apparatus is configured as described above.
前記撮像部により前記基準マークが撮像されることにより把握された前記基板支持部の基準位置からの位置ずれ量に応じて前記基板支持部に対する前記基板の位置が調整されるように構成されている、請求項1または2に記載の基板処理装置。 The substrate support part has a reference mark that can specify the position of the substrate support part,
The position of the substrate relative to the substrate support unit is adjusted according to the amount of positional deviation from the reference position of the substrate support unit, which is grasped by imaging the reference mark by the imaging unit. The substrate processing apparatus according to claim 1 or 2.
前記基板支持部は、前記基板の下面を支持するバックアップピンを含み、
前記撮像部による前記基準マークとしての前記バックアップピンの先端部の撮像結果に基づいて前記基板支持部の基準位置からの位置ずれ量が把握されるように構成されている、請求項3に記載の基板処理装置。 The imaging unit is configured to be able to image the upper surface of the substrate,
The substrate support portion includes a backup pin that supports the lower surface of the substrate,
4. The configuration according to claim 3, wherein a positional deviation amount from a reference position of the substrate support portion is grasped based on an imaging result of a tip portion of the backup pin as the reference mark by the imaging portion. Substrate processing equipment.
前記基板支持部を撮像可能に構成された撮像部とを備え、
前記撮像部による前記基板支持部の撮像結果に基づいて前記基板支持部に対する前記基板の位置が調整されるように構成されている、基板支持装置。 A substrate support for supporting the substrate;
An imaging unit configured to be capable of imaging the substrate support unit,
A substrate support device configured to adjust a position of the substrate relative to the substrate support unit based on an imaging result of the substrate support unit by the imaging unit.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013125124A JP5681757B2 (en) | 2013-06-14 | 2013-06-14 | Substrate processing apparatus and substrate support apparatus |
CN201310705670.9A CN104244692B (en) | 2013-06-14 | 2013-12-19 | Substrate board treatment and baseplate support device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013125124A JP5681757B2 (en) | 2013-06-14 | 2013-06-14 | Substrate processing apparatus and substrate support apparatus |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015002222A JP2015002222A (en) | 2015-01-05 |
JP5681757B2 true JP5681757B2 (en) | 2015-03-11 |
Family
ID=52231746
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013125124A Active JP5681757B2 (en) | 2013-06-14 | 2013-06-14 | Substrate processing apparatus and substrate support apparatus |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5681757B2 (en) |
CN (1) | CN104244692B (en) |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090205569A1 (en) * | 2008-02-14 | 2009-08-20 | Illinois Tool Works Inc. | Method and apparatus for placing substrate support components |
JP4465401B2 (en) * | 2008-11-04 | 2010-05-19 | 富士機械製造株式会社 | Substrate stop position control method and apparatus |
JP5830644B2 (en) * | 2011-12-06 | 2015-12-09 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Underpinning pin arrangement determination device and underpinning pin arrangement determination method |
-
2013
- 2013-06-14 JP JP2013125124A patent/JP5681757B2/en active Active
- 2013-12-19 CN CN201310705670.9A patent/CN104244692B/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015002222A (en) | 2015-01-05 |
CN104244692A (en) | 2014-12-24 |
CN104244692B (en) | 2017-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2013026278A (en) | Electronic component mounting device | |
JP2010003824A (en) | Electronic circuit producing method and system | |
JP6442625B2 (en) | Mounted work equipment | |
JPWO2015087420A1 (en) | Component mounting equipment | |
JP6796363B2 (en) | Parts mounting machine | |
JP6727768B2 (en) | Board working equipment | |
JP5739754B2 (en) | Electronic circuit component rise prevention method and electronic circuit manufacturing system | |
JP4824739B2 (en) | Component mounting apparatus and component mounting method | |
WO2017064777A1 (en) | Component mounter | |
EP2897449B1 (en) | Work system for substrate and workbench-quantity-determining program | |
JP6756467B2 (en) | Imaging method in component mounting device and component mounting device | |
JP2003289199A (en) | Working system for board | |
US11116121B2 (en) | Mounting target working device | |
JP5681757B2 (en) | Substrate processing apparatus and substrate support apparatus | |
WO2016174715A1 (en) | Working machine | |
JP2008130583A (en) | Component mounter | |
JP2007287838A (en) | Parts transfer device, mounting machine, and parts transfer device for parts inspection machine | |
JP6963021B2 (en) | Board work system | |
JP2008207217A (en) | Flux transfer apparatus | |
JP2008034758A (en) | Component mounter | |
JP5317857B2 (en) | Backup pin placement method, placement device, electronic component processing method, and electronic component placement device | |
JP2010056141A (en) | Component mounting system, method for mounting component, circuit board pasted state detecting device, printing condition data preparing device, and printing machine | |
JP2017092175A (en) | Component mounter, component suction method | |
JP2008091733A (en) | Component mounting equipment | |
JP6837941B2 (en) | Board backup device and board processing device using this |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150106 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150109 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5681757 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |