JP5672189B2 - ガスホルダー側板の腐食防止方法 - Google Patents

ガスホルダー側板の腐食防止方法

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本発明は、副生ガス、毒性ガス、可燃性ガス等を貯蔵するガスホルダーの側板の腐食防止方法に関するものである。
副生ガス、毒性ガス、可燃性ガス等を貯蔵するガスホルダーにおいては、貯蔵したガスが、CO、HS、SOx等のような、ガスホルダーの側板の内面に腐食・損傷を与える成分(腐食性成分)を含有している場合が多い。そのため、しばしば、ガスホルダーの側板が腐食によって破損し、ガス漏洩を発生させていた。
通常、ガスホルダーでは、貯蔵したガスの量(ガスの圧力)に対応して、ピストンが側板の内面に沿って上昇・下降するが、その際のピストンと側板の間をシールするために、ガスシール装置がピストンに付置されている。このガスシール装置はシールゴムを備えているとともに、内部にシール油を貯留していて、ピストンの上昇・下降により、自動的に側板内面側に、そのシール油が塗布されるようになっている。このシール油には、ピストンと側板内面の間からガス漏れが発生しないようにするシール機能と、ピストンが側板内面に沿って円滑に上昇・下降してシールゴムを摩耗させないようにする潤滑機能と、ガスホルダーの側板や底板が腐食しないようにする耐腐食機能を持たせている(例えば、特許文献1、2参照)。
特開平4−153297号公報 特開2002−226830号公報
しかしながら、既存のガスホルダーにおいては、ピストンが上昇・下降するのにともなって、シールゴムも側板内面に接触しながら上昇・下降する故に、シールゴムによって側板内面の油膜が削りとられてしまう状態にある。そのため、貯蔵したガスが、CO、HS、SOx等のような、ガスホルダーの側板の内面に腐食・損傷を与える成分を含有している場合には、その腐食成分が側板に直接接触し、経年的に側板内面の腐食と減肉が進行していくという問題点があった。
本発明は、上記のような事情に鑑みてなされたものであり、副生ガス、毒性ガス、可燃性ガス等を貯蔵するガスホルダーにおいて、貯蔵したガスが、CO、HS、SOx等のような、ガスホルダーの側板の内面に腐食・損傷を与える成分を含有している場合であっても、側板の腐食を的確に防止することができるガスホルダー側板の腐食防止方法を提供することを目的とするものである。
前記課題を解決するために、本発明は以下の特徴を有する。
[1]ガスホルダーの側板の腐食を防止する方法であって、ガスホルダーのガスシール装置の下部に前記側板の周方向に沿って複数のスプレーノズルを等間隔に設置し、前記複数のスプレーノズルから前記側板の内面に対してシール油を噴霧することを特徴とするガスホルダー側板の腐食防止方法。
[2]前記シール油の噴霧径が100〜300μmであることを特徴とする前記[1]に記載のガスホルダー側板の腐食防止方法。
[3]前記側板の内面でのシール油膜厚が1mm以上であることを特徴とする前記[1]または[2]に記載のガスホルダー側板の腐食防止方法。
本発明においては、ピストンが上昇・下降するのにともなって、シールゴムが側板内面に接触しながら上昇・下降しても、ガスホルダーの側板内面の油膜が常時確保される状態になるので、貯蔵したガスが、CO、HS、SOx等のような、ガスホルダーの側板の内面に腐食・損傷を与える成分を含有している場合であっても、側板の腐食を的確に防止することができる。
本発明の一実施形態を示す図である。 図1における要部拡大図である。
本発明の一実施形態を図面に基づいて説明する。なお、ここでは、製鉄所の副生ガスである転炉ガスを貯蔵するガスホルダーを念頭において述べる。
図1は、一実施形態におけるガスホルダーを示す立面図(右半分側が外観図、左半分が断面図)であり、図2は図1における要部拡大図(ガスシール装置部分の拡大図)である。
図1、図2に示すように、この実施形態におけるガスホルダー10は、下部のガス貯蔵室13と上部の空気室14がピストン15によって区切られており、ガス貯蔵室13に貯蔵した転炉ガスの量(転炉ガスの圧力)に対応して、ピストン15が側板11の内面に沿って上昇・下降するようになっている。その際のピストン15と側板11の間をシールするために、ガスシール装置20がピストン15に付置されている。
このガスシール装置20はシールゴム21を備えているとともに、キャンパス25に保持されて内部にシール油26を貯留していて、ピストン15の上昇・下降により、自動的に側板11の内面側に、シール油26が塗布されるようになっている。このシール油26には、ピストン15と側板11内面の間からガス漏れが発生しないようにするシール機能と、ピストン15が側板11内面に沿って円滑に上昇・下降してシールゴム21を摩耗させないようにする潤滑機能と、ガスホルダー10の側板11や底板12が腐食しないようにする耐腐食機能を持たせている。
なお、図1に示すように、ガスホルダー10は、シール油26を循環させるためのポンプステーション27とシール油ヘッドタンク28を備えている。また、図2に示すように、ピストン15は、コンクリート部16とガイドローラ17を備えており、ガスシール装置20は、吊りロッド22、リンク機構(金具)23、カウンターウエイト24を備えている。
その上で、この実施形態においては、ガスホルダー10の側板11の腐食を確実に防止するために、ガスシール装置20の下部にガスホルダー10の側板11の周方向に沿って複数のスプレーノズル30を1m置き等間隔に186個設置し、それら複数のスプレーノズル30から側板11の内面に対してシール油26を噴霧するようにしている。スプレーノズルの設置間隔は1m置きである必要はなく、シール油膜厚が均一になるよう側板の大きさに応じて決めればよい。
これによって、この実施形態においては、ピストン15が上昇・下降するのにともなって、シールゴム21が側板11の内面に接触しながら上昇・下降しても、側板11の内面の油膜が常時確保される状態になるので、貯蔵したガスが、CO、HS、SOx等のような、側板11の内面に腐食・損傷を与える成分(腐食性成分)を含有している場合であっても、側板11の腐食を的確に防止することができる。
そして、従来は側板の交換寿命が15年程度であったものが、30年以上に長寿命化させることが可能となる。
なお、スプレーノズル30から側板11の内面に対してシール油26を噴霧する際には、噴霧径が100μm以上、300μm以下となるように噴霧するのが好ましい。噴霧径が100μm未満であると霧状となり所定の膜厚が確保できない、また噴霧径が300μmを超えると雨状となりシール油が側板からはね返り、飛散してしまうので噴霧効率上好ましくない。ここで、噴霧径とは、数μm〜数百μmまでの無数の粒子が混在した微粒化状態を表す数値であり、噴霧粒度分布上の平均粒径をいう。噴霧粒子にレーザー光を照射し、種々の粒子から散乱した光を集光して形成する回折光の強度を測定し決定できる。
また、スプレーノズル30の材質は、腐食性ガス(腐食性成分を含有するガス)にダストが含有した環境に設置されるため、ダストの変性によるスプレーノズル30への固着や腐食を防止する観点から、セラミクス製のスプレーノズルがメンテナンスすることなく長期間使用可能である。
また、スプレーノズル30の設置については、既存シール装置20の直下にガスホルダー10の側板11の周方向に一列に配置し、スプレーパターンを重ねれば幅方向に、シール油26の未到達部分がカバーされ、濡れ性は向上し、良い油膜ができる。
さらに、各スプレーノズル30の噴霧流量は、3L/min〜6L/minとするのが好ましく、側板11上に平均厚さ1mm以上の良好な油膜が常時確保できる。油膜厚は、平均で1mm以上が好ましい。油膜厚が平均で1mm未満であると、薄い部分と厚い部分のムラが発生しやすく、薄い部分に腐食成分が接触しやすくなるので好ましくない。
そして、この実施形態では、製鉄所の副生ガスである転炉ガスを貯蔵するガスホルダーを念頭において述べたが、本発明は、同じく製鉄所の副生ガスである高炉ガスやコークスガスを貯蔵するガスホルダー、あるいは、石油系のガスを貯蔵するガスホルダー(ガスタンク)にも適用することができる。
10 ガスホルダー
11 側板
12 底板
13 ガス貯蔵室
14 空気室
15 ピストン
16 コンクリート部
17 ガイドローラ
20 ガスシール装置
21 シールゴム
22 吊りロッド
23 リンク機構(金具)
24 カウンターウエイト
25 キャンパス
26 シール油
27 ポンプステーション
28 シール油ヘッドタンク
30 スプレーノズル

Claims (3)

  1. ガスホルダーの側板の腐食を防止する方法であって、ガスホルダーのガスシール装置の下部に前記側板の周方向に沿って複数のスプレーノズルを等間隔に設置し、前記複数のスプレーノズルから前記側板の内面に対してシール油を噴霧することを特徴とするガスホルダー側板の腐食防止方法。
  2. 前記シール油の噴霧径が100〜300μmであることを特徴とする請求項1に記載のガスホルダー側板の腐食防止方法。
  3. 前記側板の内面でのシール油膜厚が1mm以上であることを特徴とする請求項1または2に記載のガスホルダー側板の腐食防止方法。
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