JP5660991B2 - 光電変換素子およびイメージセンサ - Google Patents
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Description
図1は、全体が100で表される、本発明の実施の形態1にかかる光電変換素子の斜視図であり、図2は図1の光電変換素子をI−I方向に見た場合の断面図である。
まず、スリットの無い光電変換素子(図2で、受光部1がスリット3を有さない場合)について考える。光が媒質1(真空)を伝搬し、媒質2(受光部1)に入射し、これらの境界面で表面プラズモンに変換されるとする。入射光の角周波数をω、波数をk、表面プラズモン伝搬方向の波数をkx、真空中の高速をc、光が伝搬する媒質1の誘電率をε1、屈折率をn、入射する媒質2の誘電率をε2、入射角(入射表面の法線と入射光とのなす角)をθとすると、一般に、
図8は、全体が400で表される、本発明の実施の形態2にかかる光電変換素子の断面図である。図8中、図1、2と同一符号は、同一または相当箇所を示す。光電変換素子400では、スリット3の断面がくさび形である以外は、上述の光電変換素子100と同じ構造である。
図9は、全体が500で表される、本発明の実施の形態3にかかる光電変換素子の断面図である。図9中、図1、2と同一符号は、同一または相当箇所を示す。光電変換素子500では、受光部1がスリット3を有するとともに、スリット3に平行に配置された、溝状の反射用スリット5を有する。
図10は、全体が600で表される、本発明の実施の形態4にかかる光電変換素子の断面図である。図10中、図1、2と同一符号は、同一または相当箇所を示す。光電変換素子600では、受光部1が、所定のピッチで周期的に平行に設けられた、複数の溝状のスリット6を有する。スリット6の周期(ピッチ)は、検出波長と同程度である。
図11は、全体が700で表される、本実施の形態5にかかる光電変換素子の断面図である。図11中、図1、2と同一符号は、同一または相当箇所を示す。光電変換素子700では、支持基板2の上に絶縁層7が設けられ、その上に受光部1が設けられている。絶縁層7は、例えばSiO2、SiN、HSQ(Hydrogen Silsesquioxane)からなる。また、光電変換素子200と同様に、スリット3、受光部1を貫通する構造となっている。
図12は、光電変換素子100をマトリックス状に配置した光電変換素子アレイの上面図である。光電変換素子としては、実施の形態1〜5に示したいずれの光電変換素子を用いても構わない。なお、図12では、電圧検出部4は図示していない。
図13は、光電変換素子100をマトリックス状に配置した光電変換素子アレイの上面図である。光電変換素子アレイは、検出波長の異なる3種類のピクセル、即ち、検出波長λ1ピクセル8、検出波長λ2ピクセル9、および検出波長λ3ピクセル10を含む。ピクセルの検出波長は、受光部1に形成されたスリット3の幅wを変えて、表面プラズモンへの変換効率の高い波長を変えることにより選択する。図11のように、3種類の光電変換素子を設けることで、3種類の波長の分解能を有する光電変換素子アレイを得ることができる。
Claims (9)
- 表面プラズモンを用いる光電変換素子であって、
光電変換素子の最表面に設けられ、表面と裏面とを有して表面で入射光を受ける、金属からなる板状の受光部と、
受光部の表面に設けられた溝状のスリットと、
受光部の裏面上に設けられた絶縁性の支持基板と、
受光部の表面の電位を測定する電圧検出部とを含み、
スリットにより入射光が表面プラズモンを励起し、表面プラズモンにより生じた受光部の電位を電圧検出部で測定することを特徴とする光電変換素子。 - スリットで反射された入射光の一部が、表面プラズモン共鳴により表面プラズモンを励起することを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子。
- スリットは、受光部の表面に垂直な断面が矩形であることを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子。
- スリットは、受光部の表面に垂直な断面がV字型であることを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子。
- 電圧検出部が接続された表面と、スリットを挟んで反対側の表面に、スリットと平行に配置された、溝状の反射用スリットを含むことを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子。
- 受光部が、所定の周期で平行に設けられた、複数の溝状のスリットを含むことを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子。
- 受光部の裏面が絶縁層の表面上に接続され、スリットの底部に絶縁層の表面が露出することを特徴とする請求項1に記載の光電変換素子。
- 請求項1〜7のいずれかに記載の光電変換素子をマトリックス状に配置したことを特徴とするイメージセンサ。
- スリットの幅が互いに異なる光電変換素子を含む請求項8に記載のイメージセンサ。
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