JP5655384B2 - 凹凸基板およびその製造方法 - Google Patents
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Description
式中、R1は水素、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜15のアリール基のいずれかを表し、複数のR1はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。R2は水素、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアシル基、炭素数6〜15のアリール基のいずれかを表し、複数のR2はそれぞれ同じでも異なっていてもよい。nは0から3の整数を表す。
これらのオルガノシランは単独で使用しても、2種類以上を組み合わせて使用してもよいが、硬化した凹凸層のクラック防止と、樹脂型押圧時の柔軟性の観点から3官能性シランと2官能性シランを組み合わせることが好ましい。
(1)原子間力顕微鏡(AFM)による凹凸形状およびサイズの測定
原子間力顕微鏡を使用して下記条件で表面凹凸形状およびサイズを測定し、解析した。
スキャナ:AS−130(J−Scanner)
プローブ:NCH−W型 単結晶シリコン(ナノワールド社製)
走査モード:タッピングモード
走査速度:0.3Hz
観察倍率:以下の通り
(1−1)ドーム状突起またはボウル状窪みのサイズ
2千倍、1万倍、5万倍、20万倍の各倍率で表面形状のデータを取得し、15cm四方の測定用の画像(倍率により取得面積は異なる)を準備し、2千倍ではサイズが2000nm以上10000nm未満のドーム状突起またはボウル状窪みについて、1万倍ではサイズが500nm以上2000nm未満のドーム状突起またはボウル状窪みについて、5万倍ではサイズが100nm以上500nm未満のドーム状突起またはボウル状窪みについて、20万倍ではサイズが20nm以上100nm未満のドーム状突起またはボウル状窪みについて、サイズと数を測定し本文に説明した方法で平均サイズを算出した。
(1−2)ドーム状突起またはボウル状窪みの傾斜角
(1−1)で求めたドーム状突起またはボウル状窪みの平均サイズにより、(1−1)で用いた画像から測定に供する画像を次のように選択した。平均サイズが、2000nm以上10000nm未満の場合2千倍、500nm以上2000nm未満の場合1万倍、500nm以上2000nm未満の場合5万倍、100nm以上500nm未満の場合5万倍、20nm以上100nm未満の場合20万倍の画像を選択し、選択した画像の縦横を各4等分する線の交点上にある9つのドーム状突起またはボウル状窪みについてドーム状突起またはボウル状窪みの中心点を通るラインに沿った断面のデータをAFMにより得、各断面について頂点傾斜角と中間点傾斜角を測定し、それぞれの傾斜角の平均値を頂点傾斜角、中間点傾斜角とした。なお、上記交点がドーム状突起またはボウル状窪みを外れる場合には、交点に最も外縁が近接したドーム状突起またはボウル状窪みについて測定した。
(2)比抵抗の評価
JIS−K7194(1994)に準拠した4深針測定器(三菱化学製MCP−T610)にPSPプローブを取り付けて、抵抗率補正係数を4.438として、透明導電層の抵抗、抵抗率、比抵抗をサンプル毎に各3点計測した。
(3)太陽電池特性の評価
25℃の雰囲気中で、ソーラーシミュレーターによってAM1.5、100mW/cm2の擬似太陽光を作り出し、これを各太陽電池サンプルに照射して、開放電圧、曲線因子、および短絡電流の3つの特性をサンプル毎に各3点測定した。
支持フィルムの表面に樹脂凹凸形成層を有する型フィルムを用いて、以下に示す方法で凹凸基板を作製した。
厚さ75μmの東レ株式会社製ポリエステルフィルム“ルミラー(登録商標)”タイプU34に、バインダー樹脂としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製SHC900、20質量部に対して、凹凸を形成する粒子として平均粒径300nmの日揮触媒化成株式会社製シリカ球状微粒子スラリーOSCALを80質量部混合し、撹拌、分散させた塗剤を、乾燥厚みが1.5μmになるように塗工した。塗工後、120℃で60秒間乾燥させることで、ポリエステルフィルム表面にドーム状突起の凹凸形状を有するフィルムを得た。前記凹凸形状を有するフィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で型フィルムを作製し、凹凸基板を得た。得られた凹凸基板の表面を(1)の方法で観察した結果、平均サイズ581nm、頂点傾斜角22°、中間点傾斜角39°のドーム型凸状の表面凹凸形状が形成されていた。なお、極大値が負であるものと極小値が正であるものの合計個数は6個であった。
厚さ75μmの東レ株式会社製ポリエステルフィルム“ルミラー(登録商標)”タイプU34に、バインダー樹脂としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製SHC900、20質量部に対して、凹凸を形成する粒子として平均粒径800nmの綜研化学株式会社製架橋アクリル球状微粒子“ケミスノー(登録商標)”MX−80−H3wtを40質量部混合し、撹拌、分散させた塗剤を、乾燥厚みが1.5μmになるように塗工した。塗工後、120℃で60秒間乾燥させることで、ポリエステルフィルム表面にドーム状突起を有する凹凸形状を有するフィルムを得た。前記凹凸形状を有するフィルムを用いた以外は、実施例1と同様の方法で凹凸基板を得た。凹凸基板の表面を(1)の方法で観察した結果、平均サイズ1619nm、頂点傾斜角24°、中間点傾斜角40°のドーム型凸状の表面凹凸形状が形成されていた。なお、極大値が負であるものと極小値が正であるものの合計個数は5個であった。
厚さ75μmの東レ株式会社製ポリエステルフィルム“ルミラー(登録商標)”タイプU34に、バインダー樹脂としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製SHC900、20質量部に対して、凹凸を形成する粒子として平均粒径300nmの日揮触媒化成株式会社製シリカ球状微粒子スラリーOSCALを80質量部混合し、撹拌、分散させた塗剤を、乾燥厚みが1.5μmになるように塗工した。塗工後、120℃で60秒間乾燥させることで、ポリエステルフィルム表面にドーム状突起の凹凸形状を有するフィルムを得た。前記凹凸形状を有するフィルムから反転した型フィルムを作製することなく、そのまま型フィルムとして用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で凹凸基板を得た。凹凸基板の表面を(1)の方法で観察した結果、平均サイズ416nm、頂点傾斜角24°、中間点傾斜角46°のボウル状窪みの表面凹凸形状が形成されていた。なお、極大値が負であるものと極小値が正であるものの合計個数は4個であった。
厚さ75μmの東レ株式会社製ポリエステルフィルム“ルミラー(登録商標)”タイプU34に、バインダー樹脂としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製SHC900、20質量部に対して、凹凸を形成する粒子として平均粒径800nmの綜研化学株式会社製架橋アクリル球状微粒子“ケミスノー(登録商標)”MX−80−H3wtを40質量部混合し、撹拌、分散させた塗剤を、乾燥厚みが1.5μmになるように塗工した。塗工後、120℃で60秒間乾燥させることで、ポリエステルフィルム表面にドーム状突起を有する凹凸形状を有するフィルムを得た。前記凹凸形状を有するフィルムから反転した型フィルムを作製することなく、そのまま型フィルムとして用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で凹凸基板を得た。凹凸基板の表面を(1)の方法で観察した結果、平均サイズ724nm、頂点傾斜角25°、中間点傾斜角53°のボウル状窪みの表面凹凸形状が形成されていた。なお、極大値が負であるものと極小値が正であるものの合計個数は6個であった。
厚さ75μmの東レ株式会社製ポリエステルフィルム“ルミラー(登録商標)”タイプU34に、バインダー樹脂としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製SHC900、20質量部に対して、凹凸を形成する粒子として平均粒径300nmの日揮触媒化成株式会社製シリカ球状微粒子スラリーOSCALを80質量部混合し、撹拌、分散させた塗剤を、乾燥厚みが1.5μmになるように塗工した。塗工後、120℃で60秒間乾燥させることで、ポリエステルフィルム表面にドーム状突起の凹凸形状を有するフィルムを得た。塗工後、120℃で60秒間乾燥させることで、ポリエステルフィルム表面にドーム状突起の凹凸形状を有するフィルムを得た。前記凹凸形状を有するフィルムを用いたこと以外は、実施例1と同様の方法で型フィルムを作製し、凹凸基板を得た。凹凸基板の表面を(1)の方法で観察した結果、平均サイズ425nm、頂点傾斜角27°、中間点傾斜角41°のドーム型凸状の表面凹凸形状が形成されていた。なお、極大値が負であるものと極小値が正であるものの合計個数は11個であった。
厚さ75μmの東レ株式会社製ポリエステルフィルム“ルミラー(登録商標)”タイプU34に、バインダー樹脂としてモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製SHC900、60質量部に対して、樹脂凹凸形成層を形成するために使用する粒子として平均粒径110nmの信越化学工業株式会社製X−24−9163Nシリカ球状微粒子スラリーを50質量部の割合で混合し、撹拌、分散させた塗剤を、乾燥後の厚みが0.5μmになるように塗工した。塗工後、120℃で60秒間乾燥させることで、ポリエステルフィルム表面にドーム状突起を有する凹凸形状を有するフィルムを得た。前記凹凸形状を有するフィルムを用いた以外は、実施例1と同様の方法で凹凸基板を得た。得られた凹凸基板表面を(1)の方法で観察した結果、平均サイズ377nm、頂点傾斜角17°、中間点傾斜角21°のドーム型凸状の表面凹凸形状が形成されていた。なお、極大値が負であるものと極小値が正であるものの合計個数は13個であった。
平均サイズ3.0μm、ピッチ3.75μmの円状の凸型マイクロレンズアレイの反転形状型を準備し、この形状を賦形した以外は、実施例1と同様の方法で太陽電池サンプルを作製した。なお、透明導電膜付ガラス基板の比抵抗は1.74E−03〔Ωcm〕であった。
実施例3において、型フィルムをアスペクト比0.5、ピッチ2μm、頂点傾斜角45°のプリズム形状にした以外は、同様の方法で太陽電池サンプルを作製した。なお、凹凸基板の表面形状を(1)の方法で観察した結果、ピッチ2μm、頂点傾斜角40°、中間点傾斜角42°のプリズム形状が形成されていた。なお、極大値が負であるものと極小値が正であるものは存在しなかった。得られた凹凸基板を用いて実施例1と同様の方法で太陽電池サンプルを作製した。なお、透明導電膜付ガラス基板の比抵抗は、1.25E−03〔Ωcm〕であった。
基板表面の凹凸形状を作製するために、ガラス基板上に、平均粒径300nmの日揮触媒化成株式会社製シリカ球状微粒子スラリーOSCALを80質量部添加した、メチルシロキサン、フェニルシロキサン、ジメチルシロキサンからなるポリシロキサンゾルを、厚さ1.1mmの低アルカリケイ酸塩ガラス基板にスピンコートで塗布し、120℃で5分間プレベークした後、220℃で1時間キュアすることで、凹凸基板を得た。得られた凹凸基板表面を(1)の方法で観察した結果、平均サイズ782nm、頂点傾斜角14°、中間点傾斜角18°のドーム型凸状の表面凹凸形状が形成されていた。なお、極大値が負であるものと極小値が正であるものの合計個数は17個であった。
基板表面の凹凸層を作製するために、ガラス基板上に、平均粒径300nmの日揮触媒化成株式会社製シリカ球状微粒子スラリーOSCALを5質量部添加した、メチルシロキサン、フェニルシロキサン、ジメチルシロキサンからなるポリシロキサンゾルを、厚さ1.1mmの低アルカリケイ酸塩ガラス基板にスピンコートで塗布し、120℃で5分間プレベークした後、220℃で1時間キュアすることで、凹凸基板を得た。得られた凹凸基板表面を(1)の方法で観察した結果、平均サイズ426nm、頂点傾斜角24°、中間点傾斜角36°のドーム型凸状の表面凹凸形状が形成されていた。なお、極大値が負であるものと極小値が正であるものの合計個数は6個であった。
また、得られた凹凸基板を用いて実施例1と同様の方法で太陽電池サンプルを作製した。なお、透明導電膜付ガラス基板の比抵抗は、1.24E−03〔Ωcm〕であった。
表面に凹凸形状をもたないコーニング社製低アルカリガラス基板1737を用いた以外は、実施例1と同様にして太陽電池サンプルを作製した。透明導電膜付ガラス基板の比抵抗は1.23E−03〔Ωcm〕であった。
2:凹凸層
3:頂点傾斜角
4:中間点傾斜角
5:ガラス表面と平行な、極小値(ドーム状突起の場合)または極大値(ボウル状窪みの場合)を通る直線
30:型フィルム/ポリシロキサンゲル/ガラス基板積層体
31:型フィルム
32:ポリシロキサンゲル
Claims (5)
- ガラス基板と、該ガラス基板上に粒子を含有する凹凸層を有する凹凸基板であって、
該粒子は直径10〜100nmであり、該凹凸層は、表面が、複数のドーム状突起またはボウル状窪みが分布した凹凸形状を有し、前記ドーム状突起または前記ボウル状窪みの平均サイズが416〜1619nmで、頂点傾斜角が21°以上27°以下、中間点傾斜角が34°以上53°以下、かつ頂点傾斜角と中間点傾斜角との差が13°以上28°以下であることを特徴とする凹凸基板。 - 前記粒子を含有する凹凸層が、粒子を含有するポリシロキサンからなる請求項1の凹凸基板。
- 前記粒子がシリカ粒子である請求項1または2に記載の凹凸基板。
- 支持フィルム表面に、粒子とバインダー樹脂とからなる樹脂凹凸形成層を形成した表面凹凸フィルムを型フィルムとして、該型フィルムの凹凸面とガラス基板を対向させ、その間隙に粒子を含有するポリシロキサンゾルを挟んだ積層体を構成した上で全体を加熱および/または加圧してポリシロキサンゾルを固化せしめた後、前記型フィルムを剥離することを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載の凹凸基板の製造方法。
- 請求項1〜3の何れかに記載の凹凸基板の凹凸形成面に、導電性金属酸化物薄膜を厚み100〜1000nmの範囲で積層した凹凸基板。
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