JP5646230B2 - Lead-free bonding material and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、鉛フリー接合用材料およびその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a lead-free bonding material and a method for manufacturing the same.

一般的なパワーモジュールはBGA(ボールグリッドアレイ)で半導体素子を基板と接合、また半導体素子から発生する熱を逃がすための放熱板がはんだ等の接合材で取り付けられている。近年、モジュール自体の出力増大や電子制御機器が必要となる電気自動車やハイブリッド自動車用途として車載用に耐熱性、信頼性の更なる向上が求められているため、耐熱性向上には、接続材であるはんだの融点向上(高温はんだの適用)が検討されている。   A general power module is a BGA (ball grid array) in which a semiconductor element is bonded to a substrate, and a heat radiating plate for releasing heat generated from the semiconductor element is attached by a bonding material such as solder. In recent years, there has been a demand for further improvements in heat resistance and reliability for electric vehicles and hybrid vehicles that require increased output of the module itself and electronic control equipment. Improvement of the melting point of certain solder (application of high-temperature solder) has been studied.

高温はんだにはPb−5Snはんだ(融点:310〜314℃)等があるが、組成より鉛を多く含む成分となっている。近年、環境の問題からRoHS指令を始めとしたPbフリー化への対応が求められており、一般的なはんだ成分としては、Sn−Ag−Cu系共晶系合金が実用化されている。他方、高温はんだについては、Au−20Sn(融点:280℃)が知られているが、Pb−Sn系はんだに対してコストや機械的特性の点で劣っているため殆ど使用されておらず、他の成分系についても実用化には至っていないため、EUが電子機器などに含まれるPbなどの特定有害物質を規制するRoHS指令においてもPb高温はんだについては除外項目となっている。そのためPbフリーの高温はんだの開発要求が高まっている。   High-temperature solder includes Pb-5Sn solder (melting point: 310 to 314 ° C.) and the like, which is a component containing more lead than the composition. In recent years, due to environmental problems, it has been required to cope with Pb-free such as the RoHS command, and Sn—Ag—Cu eutectic alloys have been put to practical use as general solder components. On the other hand, Au-20Sn (melting point: 280 ° C.) is known for the high temperature solder, but it is hardly used because it is inferior to the Pb—Sn solder in terms of cost and mechanical properties. Since other component systems have not yet been put into practical use, the EU directive restricting specific harmful substances such as Pb contained in electronic devices and the like is also an excluded item for Pb high-temperature solder. Therefore, there is an increasing demand for the development of Pb-free high-temperature solder.

高温はんだ合金の開発に関しては、例えば特開2003−260587号公報(特許文献1)には、Sn−Cu系はんだが記載されている。この方法によると、Sn粉末とCu粉末とを混合した材料をはんだペーストとして用い、高温はんだ付け時には、Sn粉末が溶けてはんだ付けに寄与すると同時に、Cu粉末と反応して高融点のSn−Cu金属間化合物相が生成する。この化合物相はリフロー時には溶けずにはんだ付け部の強度を保つ働きをするものである。   Regarding the development of high-temperature solder alloys, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-260587 (Patent Document 1) describes Sn—Cu based solder. According to this method, a material in which Sn powder and Cu powder are mixed is used as a solder paste. During high-temperature soldering, Sn powder melts and contributes to soldering, and at the same time, reacts with Cu powder and has a high melting point Sn—Cu. An intermetallic phase is formed. This compound phase functions to maintain the strength of the soldered part without melting during reflow.

また、パワーモジュールは動作で発熱するため半導体素子の接合面には熱サイクルが加わる。そのため半導体素子と接合材界面の応力状態を制御することが重要であり、接合部の形状、接合層の厚み等を精密に制御して最適な状態になるように設計されている。そのため、溶融はんだ内部に金属の粉末を添加することで粘性を制御して接合層の厚みばらつきを抑えることなどが検討されている。例えば「Packaging of Double−sided Cooling Power Module」,15th Sympsium on ゛Microjoining and Assembly Technology in Electronics゛,P91〜94(非特許文献1)等である。 Further, since the power module generates heat during operation, a thermal cycle is applied to the bonding surface of the semiconductor element. Therefore, it is important to control the stress state at the interface between the semiconductor element and the bonding material, and it is designed so that the shape of the bonding portion, the thickness of the bonding layer, and the like are precisely controlled to obtain an optimum state. For this reason, it has been studied to control the viscosity by adding metal powder inside the molten solder to suppress the thickness variation of the bonding layer. For example, “Packaging of Double-sided Cooling Power Module”, 15 th Sympium on “Microjoining and Assembly Technology in Electronics”, P91-94 (Non-Patent Document 1).

また、発明者らは、特開2008−178909号公報(特許文献2)にて、2種類の元素A及びBからなる合金で、元素Aが元素Bより融点が高く、元素Bからなる常温安定相と元素A及びBからなる常温安定相AmBn(m,nは合金系による固有の数値)を有する合金において元素Aを元素Bからなる常温安定相中に過飽和固溶させることによって作製した接合材料を用い、過飽和固溶体が分解して常温安定相AmBnが析出する温度に保持して溶解接合させることによってPb−Sn共晶はんだやSn−Ag−Cu鉛フリーはんだのリフロー温度においても接合強度を維持できることを見出した。
特開2003−260587号公報 特開2008−178909号公報 「Packaging of Double−sided Cooling Power Module」,15th Sympsium on ゛Microjoining and Assembly Technology in Electronics゛,P91〜94
Further, the inventors have disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-178909 (Patent Document 2) an alloy composed of two types of elements A and B. Element A has a higher melting point than element B and is stable at room temperature composed of element B. A bonding material produced by supersaturating solid solution of element A in a room temperature stable phase composed of element B in an alloy having a room temperature stable phase AmBn composed of a phase and elements A and B (m and n are values inherent to the alloy system) Is used to maintain the bonding strength even at the reflow temperature of Pb-Sn eutectic solder and Sn-Ag-Cu lead-free solder by maintaining the temperature at which the supersaturated solid solution decomposes and depositing at room temperature stable phase AmBn I found out that I can do it.
JP 2003-260587 A JP 2008-178909 A “Packaging of Double-sided Cooling Power Module”, 15th Sympium on “Microjoining and Assembly Technology in Electronics”, P91-94.

しかしながら、上述した特許文献1の発明によると、実用的に使用される粉末は10μm程度の大きさであるため、Sn粉末とCu粉末との界面に生成する金属間化合物相の組織はCu粉末の表面に形成されるため粗く、強度にばらつきが生じると共に、強度重視のためにはCu粉末を多く使用しなければならないため、Sn粉末に起因するはんだ付け特性が低下するなどの問題がある。さらに金属間化合物の生成は融液状態のSnと固体状態のCuとの拡散反応によるため強度維持に寄与するCu6 Sn5 金属間化合物相の生成速度が遅く反応させるのに時間がかかるなどの問題もある。 However, according to the above-described invention of Patent Document 1, since the powder that is practically used is about 10 μm, the structure of the intermetallic compound phase formed at the interface between the Sn powder and the Cu powder is that of the Cu powder. Since it is formed on the surface, it is rough and variation in strength occurs, and in order to place importance on strength, a large amount of Cu powder must be used, so that there are problems such as deterioration in soldering characteristics due to Sn powder. Furthermore, since the formation of intermetallic compounds is due to the diffusion reaction between melted Sn and solid state Cu, the rate of formation of the Cu 6 Sn 5 intermetallic compound phase that contributes to strength maintenance is slow and it takes time to react. There is also a problem.

さらに、接合層の厚みを制御する場合、通常のBGAはんだボールや汎用のSn−Ag−Cuはんだでは接合時には完全溶融するため、凝固後の厚みや傾きが設計値とのずれを生じ、これが熱サイクルでの信頼性を損なう可能性もある。逆に、非特許文献1のように金属粉末を溶融しているはんだに添加して溶融はんだの粘性を制御するには、溶融はんだ層への粉末添加機構がはんだ付け装置として必要となる上に、微小なパワーモジュールパッケージではBGAはんだ等が使われるが、これには適用できない問題もあった。   Furthermore, when controlling the thickness of the bonding layer, normal BGA solder balls and general-purpose Sn-Ag-Cu solders are completely melted at the time of bonding. Therefore, the thickness and inclination after solidification deviate from the design values. There is also a possibility of impairing reliability in the cycle. Conversely, as in Non-Patent Document 1, in order to control the viscosity of the molten solder by adding metal powder to the molten solder, a mechanism for adding powder to the molten solder layer is required as a soldering device. In a small power module package, BGA solder or the like is used, but there is a problem that cannot be applied to this.

また、特許文献2で上述した技術よりも優れた高温接合材料を示したが、その特許文献範囲であるSnCu合金系において、急冷プロセスであるアトマイズ粉末を用いても、高温はんだとしての強度が安定しない状態があることが分かってきた。   Moreover, although the high temperature joining material superior to the technique mentioned in patent document 2 was shown, even if it uses the atomized powder which is a rapid cooling process in the SnCu alloy system which is the patent document range, the strength as a high temperature solder is stable. It has become clear that there is no state.

上述のような問題を解消するために、発明者らはSnCu系合金およびSnMn系合金を更に詳細に検討し、溶湯状態から凝固に至る急冷速度を適切に制御することで、特許文献2で示した急冷凝固により過飽和固溶体の有無に関わらず、Sn相中に非常に細かい(ナノオーダー:1μm以下)にSnCu合金相(Cu6 Sn5 相)が分散した組織が得られる。このようにCu6 Sn5 相をSn相中に微細に分散することより、Sn溶融時のはんだ付けに必要なぬれ性や均一溶融性に影響を及ぼさない。さらに微細分散相は表面エネルギーが高いため、はんだ付け温度に保持した場合に表面エネルギーを低下させるために、急激にCu6 Sn5 相が粗大化して明確になり、通常のはんだ付け温度以上の融点を持つCu6 Sn5 金属間化合物相が結合、粗大化する。これにより、安定した高温はんだ領域の接合強度を維持することが出来ることを見出した。 In order to solve the problems as described above, the inventors examined SnCu-based alloy and SnMn-based alloy in more detail, and showed in Patent Document 2 by appropriately controlling the rapid cooling rate from the molten metal state to solidification. By rapid solidification, a structure in which the SnCu alloy phase (Cu 6 Sn 5 phase) is dispersed in a very fine (nano order: 1 μm or less) in the Sn phase is obtained regardless of the presence or absence of the supersaturated solid solution. Thus, by finely dispersing the Cu 6 Sn 5 phase in the Sn phase, it does not affect the wettability and the uniform meltability required for soldering during Sn melting. Furthermore, since the finely dispersed phase has a high surface energy, the Cu 6 Sn 5 phase suddenly coarsens and becomes clear in order to lower the surface energy when held at the soldering temperature, and the melting point exceeds the normal soldering temperature. Cu 6 Sn 5 intermetallic compound phase having a bond and coarsening. As a result, it has been found that stable joint strength in a high-temperature solder region can be maintained.

一方、SnMn系合金についても、同様に、溶湯状態から凝固に至る急冷速度を適切に制御することで、特許文献2で示した急冷凝固により過飽和固溶体の有無に関わらず、Sn相中に非常に細かい(ナノオーダー:1μm以下)にSnMn合金粒子(MnSn2 相)が分散した組織が得られる。このようにSn相中に微細に分散することより、Sn溶融時のはんだ付けに必要なぬれ性や均一溶融性に影響を及ぼさない、さらに微細分散相は表面エネルギーが高いため、はんだ付け温度に保持した場合に表面エネルギーを低下させるために、SnMn合金粒子が急激に粗大化してSnMn合金相が明確に現れ、SnMn金属間化合物相が結合、粗大化する。これにより、安定した高温はんだ領域の接合強度を維持することが出来ることを見出した。 On the other hand, for SnMn-based alloys as well, by appropriately controlling the rapid cooling rate from the molten metal state to solidification, the rapid solidification shown in Patent Document 2 is extremely A microstructure in which SnMn alloy particles (MnSn 2 phase) are finely dispersed (nano order: 1 μm or less) is obtained. By finely dispersing in the Sn phase in this way, it does not affect the wettability and uniform meltability required for soldering at the time of Sn melting. Furthermore, since the finely dispersed phase has a high surface energy, the soldering temperature is not affected. In order to reduce the surface energy when held, the SnMn alloy particles are rapidly coarsened, and the SnMn alloy phase appears clearly, and the SnMn intermetallic compound phase is bonded and coarsened. As a result, it has been found that stable joint strength in a high-temperature solder region can be maintained.

その発明の要旨とするところは、
(1)SnとCuからなる合金であって、Cuが10〜38質量%で残部がSnおよび不可避的不純物からなり、SnとCuで構成される金属間化合物からなる相をSn基地中に1μm以下の微細粒子として分散させた状態にあることを特徴とする鉛フリー接合用材料。
The gist of the invention is that
(1) An alloy composed of Sn and Cu , wherein Cu is 10 to 38% by mass, the balance is composed of Sn and inevitable impurities, and a phase composed of an intermetallic compound composed of Sn and Cu is 1 μm in the Sn base. A lead-free bonding material characterized by being dispersed as the following fine particles.

SnとMnからなる合金であって、Mnが4〜18質量%で残部がSnおよび不可避的不純物からなり、SnとMnで構成される金属間化合物からなる相をSn基地中に1μm以下の微細粒子として分散させた状態にあることを特徴とする鉛フリー接合用材料。
(3)前記(1)または(2)に記載の鉛フリー接合用材料であって、該CuまたはMnとSnで構成される金属間化合物からなる相が、Cu6 Sn5 相またはMnSn2 相であることを特徴とする鉛フリー接合用材料。
(2) a Sn and Mn or Ranaru alloy, Mn is Ri Do the balance of Sn and unavoidable impurities 4-18 wt%, the Sn base phase consisting configured intermetallic compound of Sn and Mn The lead-free bonding material is characterized by being dispersed as fine particles having a size of 1 μm or less .
(3) The lead-free bonding material according to (1) or (2), wherein the phase composed of an intermetallic compound composed of Cu or Mn and Sn is a Cu 6 Sn 5 phase or a MnSn 2 phase A lead-free bonding material characterized by

)前記(1)または(2)に記載の合金組成の溶湯を急冷凝固させることにより、Cu6 Sn5 相またはMnSn2 相を1μm以下の微細相としてSn中に分散させたことを特徴とする鉛フリー接合用材料の製造方法。
)急冷速度が100℃/秒以上であることを特徴とする、前記()に記載の鉛フリー接合用材料の製造方法にある。
( 4 ) The molten metal having the alloy composition described in the above (1) or (2) is rapidly cooled and solidified to disperse the Cu 6 Sn 5 phase or the MnSn 2 phase in Sn as a fine phase of 1 μm or less. A method for manufacturing a lead-free bonding material.
( 5 ) The method for producing a lead-free joining material according to ( 4 ) above, wherein the rapid cooling rate is 100 ° C./second or more.

以上述べたように、本発明により、SnCu合金またはSnMn合金と急冷を利用することにより、従来のPb−5Snなどが用いられていた高温はんだ付けに対応できる鉛フリーはんだ成分であり、かつ、はんだ付け部の強度にばらつきがなく、しかも強度安定性とはんだ付け特性とのバランスに優れた経済性や高温はんだとしての基本特性に優れた鉛フリーはんだを製造することが出来る極めて優れた効果を奏するものである。   As described above, according to the present invention, by using SnCu alloy or SnMn alloy and rapid cooling, it is a lead-free solder component that can be used for high-temperature soldering in which conventional Pb-5Sn or the like has been used, and solder There is no variation in the strength of the soldered part, and there is an extremely excellent effect that can produce lead-free solder with excellent balance between strength stability and soldering characteristics and basic characteristics as high-temperature solder. Is.

以下、本発明について詳細に説明する。
図1は、CuとSnの2元系平衡状態図、図2は、MnとSnの2元系平衡状態図である。この図1、2に示す平衡状態図において、Snと隣り合う位置にリフロー温度以上の融点の金属間化合物Cu6 Sn5 を示す金属Cuを用いてSnCu合金、またはSnと隣り合う位置にリフロー温度以上の融点の金属間化合物MnSn2 を示す金属Mnを用いてSnMn合金を製造する。急冷プロセスではない方法を用いた場合、この合金はCu含有量またはMn含有量に応じて平衡状態図通りの割合でSnとCu6 Sn5 金属間化合物またはSnとMnSn2 金属間化合物の二相組織になる。
Hereinafter, the present invention will be described in detail.
FIG. 1 is a binary system equilibrium state diagram of Cu and Sn, and FIG. 2 is a binary system equilibrium state diagram of Mn and Sn. In the equilibrium diagram shown in FIGS. 1 and 2, the reflow temperature is used at the position adjacent to SnCu alloy or Sn using metal Cu indicating the intermetallic compound Cu 6 Sn 5 having a melting point equal to or higher than the reflow temperature at the position adjacent to Sn. An SnMn alloy is manufactured using metal Mn indicating the intermetallic compound MnSn 2 having the above melting point. When a method that is not a quenching process is used, this alloy has a two-phase composition of Sn and Cu 6 Sn 5 intermetallic compound or Sn and MnSn 2 intermetallic compound in proportion to the equilibrium diagram depending on the Cu content or Mn content. Become an organization.

しかし、アトマイズ法やメルトスパン法などの急冷プロセスで、かつ溶融状態から凝固に至る冷却速度を制御することによって合金を作製することにより、特許文献2で示した急冷凝固による過飽和固溶体の有無に関わらず、Cu6 Sn5 相またはMnSn2 相が成長せず通常の顕微鏡観察で検出するのが困難な1μm以下の非常に細かいCu6 Sn5 相またはMnSn2 相がSn中に分散した組織となる。この効果は、凝固するときの冷却速度に強く影響を受けるため、アトマイズ法やメルトスパン法などの急冷速度が高いプロセスを用いると共に、100℃/秒以上の冷却速度を確保する必要がある。メルトスパン法では冷却速度100℃/秒を容易に確保できるため問題ない。アトマイズ法では噴霧媒体(ガス種)、噴霧圧力、噴霧温度、溶融金属の滴下量(ルツボノズル直径)に左右されるが、50μm以下の粉末であれば冷却速度100℃/秒以上を確保できる。 However, regardless of the presence or absence of the supersaturated solid solution by the rapid solidification shown in Patent Document 2 by preparing an alloy by controlling the cooling rate from the molten state to solidification by a rapid cooling process such as the atomizing method or the melt span method. The Cu 6 Sn 5 phase or MnSn 2 phase does not grow, and a very fine Cu 6 Sn 5 phase or MnSn 2 phase of 1 μm or less which is difficult to detect by ordinary microscopic observation is dispersed in Sn. Since this effect is strongly influenced by the cooling rate at the time of solidification, it is necessary to use a process having a high quenching rate such as an atomizing method or a melt span method and to ensure a cooling rate of 100 ° C./second or more. In the melt span method, there is no problem because a cooling rate of 100 ° C./second can be easily secured. In the atomization method, although it depends on the spray medium (gas species), spray pressure, spray temperature, and the amount of molten metal dropped (crucible nozzle diameter), a cooling rate of 100 ° C./second or more can be secured if the powder is 50 μm or less.

はんだ用材料としては、上記急冷プロセスによって製造された合金は、ナノオーダーのCuSn合金の金属間化合物Cu6 Sn5 相やSnMn合金の金属間化合物MnSn2 相がSn相中に分散した組織となっている。この状態で提供した場合、基材のSnによるはんだ付け性にCu6 Sn5 相やMnSn2 相は影響を及ぼすことなく、均一でぬれ性の良いはんだ付けが可能となる。 As a soldering material, the alloy produced by the rapid cooling process has a structure in which the intermetallic compound Cu 6 Sn 5 phase of the nano-order CuSn alloy and the intermetallic compound MnSn 2 phase of the SnMn alloy are dispersed in the Sn phase. ing. When provided in this state, the Cu 6 Sn 5 phase and MnSn 2 phase do not affect the solderability of the substrate with Sn, and uniform and good wettability can be achieved.

更に、はんだ付け時の加熱により、Sn中のCu6 Sn5 やMnSn2 微細分散相は表面エネルギーが高いため、表面エネルギーを低下させるために、Cu6 Sn5 合金相やMnSn2 合金相が急激に粗大化するとともに、Cu6 Sn5 金属間化合物相やMnSn2金属間化合物相が結合し溶融Sn中に分散した状態となる。この状態から凝固すれば高融点を持つCu6 Sn5 やMnSn2 が結合した中にSnが分散した混在組織となり、はんだ全体として高温強度を安定して保持できる。また、はんだ付け時には、この液相中に固体の金属間化合物相が分散することで、溶融はんだ状態での粘性を制御できる。これが本発明の基本的な考え方である。 Furthermore, due to heating during soldering, Cu 6 Sn 5 and MnSn 2 finely dispersed phases in Sn have a high surface energy, so the Cu 6 Sn 5 alloy phase and the MnSn 2 alloy phase suddenly decrease in order to reduce the surface energy. In addition, the Cu 6 Sn 5 intermetallic compound phase and the MnSn 2 intermetallic compound phase are combined and dispersed in the molten Sn. If it solidifies from this state, it becomes a mixed structure in which Sn is dispersed while Cu 6 Sn 5 and MnSn 2 having a high melting point are bonded together, and the high-temperature strength can be stably maintained as a whole solder. Further, at the time of soldering, the viscosity in the molten solder state can be controlled by dispersing the solid intermetallic compound phase in the liquid phase. This is the basic idea of the present invention.

SnCu系合金中のCu含有量は10〜38重量%が最適である。その理由は、はんだ付けに寄与するSn固溶体量とはんだ付け後の強度維持に寄与するCu6 Sn5 金属間化合物量とのバランスで決定される。発明者らはCu含有量の範囲について詳細に検討した結果、Cu量が38重量%を超えると急冷法であっても、1μm以下ではなく粗大化したCu6 Sn5 金属間化合物生成量が大幅に多くなり、はんだ付けに寄与するSn固溶体量が減少し、良好なはんだ付けが困難となるため、その上限を38重量%とした。またCu量が10%未満では、Sn中に1μm以下で分散するCu6 Sn5 相の両方が十分ではなく、はんだ付け後の強度維持に寄与するCu6 Sn5 金属間化合物量が十分に確保できない。以上より、Cu量の範囲を10〜38%とした。好ましくは15〜32%とする。 The Cu content in the SnCu alloy is optimally 10 to 38% by weight. The reason is determined by the balance between the Sn solid solution amount contributing to soldering and the Cu 6 Sn 5 intermetallic compound amount contributing to maintaining the strength after soldering. As a result of examining the range of the Cu content in detail, the inventors have found that when the Cu amount exceeds 38% by weight, the amount of coarse Cu 6 Sn 5 intermetallic compound produced is not 1 μm or less, even if the quenching method is used. The amount of Sn solid solution that contributes to soldering decreases and good soldering becomes difficult, so the upper limit was made 38% by weight. If the Cu content is less than 10%, both of the Cu 6 Sn 5 phases dispersed in Sn at 1 μm or less are not sufficient, and a sufficient amount of Cu 6 Sn 5 intermetallic compound that contributes to maintaining the strength after soldering is secured. Can not. As mentioned above, the range of Cu amount was 10 to 38%. Preferably it is 15 to 32%.

一方、 SnMn系合金中のMn含有量は4〜18重量%が最適である。その理由は、はんだ付けに寄与するSn固溶体量とはんだ付け後の強度維持に寄与するMnSn2 金属間化合物量とのバランスで決定される。発明者らはMn含有量の範囲について詳細に検討した結果、Mn量が18重量%を超えると急冷法であっても、1μm以下ではなく粗大化したMnSn2 金属間化合物生成量が大幅に多くなり、はんだ付けに寄与するSn固溶体量が減少し、良好なはんだ付けが困難となるため、その上限を18重量%とした。またMn量が4%未満では、Sn中に1μm以下で分散するMnSn2 相の両方が十分ではなく、はんだ付け後の強度維持に寄与するMnSn2 金属間化合物量が十分に確保できない。以上より、Mn量の範囲を4〜18%とした。好ましくは8〜15%とする。 On the other hand, the Mn content in the SnMn alloy is optimally 4 to 18% by weight. The reason is determined by the balance between the Sn solid solution amount contributing to soldering and the MnSn 2 intermetallic compound amount contributing to strength maintenance after soldering. As a result of examining the range of the Mn content in detail, the inventors have found that when the amount of Mn exceeds 18% by weight, even if the quenching method is used, the amount of MnSn 2 intermetallic compound that is coarsened rather than 1 μm or less is greatly increased. Therefore, the amount of Sn solid solution that contributes to soldering decreases and it becomes difficult to perform good soldering, so the upper limit was made 18% by weight. If the amount of Mn is less than 4%, both of the MnSn 2 phases dispersed in Sn at 1 μm or less are not sufficient, and a sufficient amount of MnSn 2 intermetallic compound contributing to strength maintenance after soldering cannot be ensured. As mentioned above, the range of the amount of Mn was made 4-18%. Preferably it is 8 to 15%.

SnCu系においては、Sn−(10〜38重量%)Cu合金をアトマイズ法やメルトスパン法および水中紡糸法などの急冷法によって作製し、溶融金属の冷却速度を100℃/以上を確保する。そのときの形状については特に限定するものではなく、粉末、線、棒、薄帯、板等でもよい。   In the SnCu system, a Sn- (10 to 38% by weight) Cu alloy is produced by a rapid cooling method such as an atomizing method, a melt span method, or an underwater spinning method, and a cooling rate of the molten metal is ensured to be 100 ° C./more. The shape at that time is not particularly limited, and may be powder, wire, bar, ribbon, plate or the like.

急冷する方法は上述したように、アトマイズ法やメルトスパン法などがあるが、特に、ヘリウムガスアトマイズ法やメルトスパン法が急冷手段としては有効である。しかし、ディスクアトマイズやアルゴンアトマイズ、窒素ガスアトマイズは、はんだ粉末を量産的に製造する手段としては非常に有効であり、その冷却速度はアトマイズされた後の粉末粒径に依存するため、手段であっても50μm以下の細粒については、溶融金属の冷却速度を100℃/以上を確保でき、本発明の範疇に帰属するものである。また、例えば水中紡糸法によれば線材が得られ、中紡糸法と矯正または引抜き加工をすれば棒線が得られる。   As described above, the rapid cooling method includes the atomizing method and the melt span method, and the helium gas atomizing method and the melt span method are particularly effective as the rapid cooling means. However, disk atomization, argon atomization, and nitrogen gas atomization are very effective as means for mass production of solder powder, and the cooling rate depends on the particle size of the powder after atomization. In addition, for fine particles of 50 μm or less, the cooling rate of the molten metal can be secured at 100 ° C./more, which belongs to the category of the present invention. Further, for example, a wire rod is obtained by the underwater spinning method, and a rod wire is obtained by correcting or drawing with the medium spinning method.

以下に急冷箔帯にて、本発明の挙動を説明する。
図3は、SEMにてメルトスパン法によるSn−Cu組成例の合金の急冷箔帯断面を示す電子顕微鏡写真である。このSEMにてメルトスパン法によるSnCu組成例の合金の急冷箔帯断面を観察した所、図のように組織は均一組織となっている。しかし、表面ミリングを施し、更に高分解能を有する電子顕微鏡にて観察を行った結果、ナノオーダー(1μm以下)の微細なCu6 Sn5 相が分散していることが分かった。
The behavior of the present invention will be described below with a quenched foil strip.
FIG. 3 is an electron micrograph showing a cross section of a quenched foil strip of an alloy of Sn—Cu composition example by melt span method in SEM. When the cross section of the quenched foil strip of the alloy of the SnCu composition example by the melt span method was observed with this SEM, the structure was uniform as shown in the figure. However, as a result of surface milling and observation with an electron microscope having higher resolution, it was found that nano-order (1 μm or less) fine Cu 6 Sn 5 phases were dispersed.

すなわち、図4は、表面ミリングを施し、更に高分解能を有する電子顕微鏡にて観察を行った結果の電子顕微鏡写真である。この図に示すように、Cu6 Sn5 相(模様がある部位、平均300nm相)とSn相(ミリングが進み穴状になった部位)とが1μm以下で混在している組織となっている。 That is, FIG. 4 is an electron micrograph of the result of surface milling and observation with an electron microscope having higher resolution. As shown in this figure, Cu 6 Sn 5 phase (part with pattern, average 300 nm phase) and Sn phase (part where milling progressed to form a hole) are mixed at 1 μm or less. .

分散しているナノオーダーの微細なCu6 Sn5 相組織は、比表面積が大きいために表面エネルギーが高く不安定になる。そのため、ミクロンオーダーやミリオーダーの組織に比べて表面エネルギーを下げるために熱的安定性が無く、粗大化しやすい傾向がある。そのため、図5に示すように、227℃の液相線以下で、固体状態である180℃、10分加熱においても、通常の凝固組織では時間が必要な固相状態での拡散が進み、Cu6 Sn5 相の粗大化が起こる。すなわち、図5は、Cu6 Sn5 相がSn相中に粗大化している組織となっていることを示す電子顕微鏡写真である。この図からも分かるように、全体が溶融していないにも関わらず、Cu6 Sn5 相がSn相中に粗大化している組織となっている。 The dispersed nano-order fine Cu 6 Sn 5 phase structure has a high surface energy and becomes unstable due to its large specific surface area. For this reason, there is no thermal stability to reduce the surface energy as compared to a micron-order or millimeter-order structure, and there is a tendency to be coarse. Therefore, as shown in FIG. 5, even in the case of heating at 180 ° C. for 10 minutes, which is a solid state, below the liquidus at 227 ° C., diffusion in a solid state requiring time in a normal solidified structure proceeds, and Cu 6 Sn 5 phase coarsening occurs. That is, FIG. 5 is an electron micrograph showing that the Cu 6 Sn 5 phase has a coarsened structure in the Sn phase. As can be seen from this figure, the Cu 6 Sn 5 phase is coarsened in the Sn phase although the whole is not melted.

これにより、はんだ付け時の保持時間が短い場合でも、例えばリフロー加熱のパターンのような250℃で30秒保持して空冷するといった短時間熱処理でも、十分な高融点金属間化合物を形成することが出来る。図6は、Snが液相となったため、Cu6 Sn5 相が粗大化し、Sn中に高融点金属間化合物が形成している状態を示す電子顕微鏡写真である。この図に示すように、短時間加熱でも、Snが液相となったため、Cu6 Sn5 相が一気に粗大化し、Sn中に高融点金属間化合物が形成されている。 As a result, even when the holding time at the time of soldering is short, a sufficient refractory intermetallic compound can be formed even by short-time heat treatment such as holding at 250 ° C. for 30 seconds and air cooling, such as a reflow heating pattern. I can do it. FIG. 6 is an electron micrograph showing a state where the Cu 6 Sn 5 phase is coarsened and a refractory intermetallic compound is formed in Sn because Sn has become a liquid phase. As shown in this figure, even after heating for a short time, Sn became a liquid phase, so the Cu 6 Sn 5 phase was coarsened at once, and a refractory intermetallic compound was formed in Sn.

以下、本発明について実施例により具体的に説明する。
表1は、CuSn系合金について、また、表2は、SnMn系合金について、それぞれ、はんだ付け時のぬれ性とはんだ付け後の250℃再加熱時のはんだ付け部強度を記した組成の比較表である。製法については、急冷箔帯は、単ロール液体急冷法にて目的組成の溶湯を回転銅ロールに押し付け目的の箔帯を作製している。粉末は窒素を噴霧ガスとして用い、溶湯温度を目的組成の融点より300℃上まで加熱し、噴霧圧0.45MPaにて急冷粉末を得た。これを篩い分級により目的粒度の粉末を得ている。通常凝固材は、目的組成の凝固材を粉砕処理にて実施例の比較材を得ている。なお、粒径については累積体積50%の平均粒径D50にて表記している。得られた粉末は、常温樹脂に埋め込み可能後、湿式研磨にて断面出しおよび鏡面仕上げを行い、電子顕微鏡観察試料とした。電子顕微鏡観察前にArイオンによりミリング処理を行い、表面研磨の影響層を除去した。高分解能電子顕微鏡はフィールドエミッション型走査電子顕微鏡(FE−SEM)を用い、本発明鋼の内部組織を観察した。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.
Table 1 is a comparative table of compositions describing the wettability during soldering and the strength of the soldered part when reheated at 250 ° C. after soldering for the CuSn alloy and Table 2 for the SnMn alloy, respectively. It is. About the manufacturing method, the quenching foil strip is pressing the molten metal of a target composition on a rotating copper roll with the single roll liquid quenching method, and producing the target foil strip. As the powder, nitrogen was used as a spray gas, the molten metal temperature was heated to 300 ° C. above the melting point of the target composition, and a rapidly cooled powder was obtained at a spray pressure of 0.45 MPa. This is sieved to obtain a powder of the desired particle size. Usually, as a solidified material, a comparative material of an example is obtained by crushing a solidified material having a target composition. Incidentally, it is denoted by the average particle diameter D 50 of the cumulative volume of 50% for the particle diameter. The obtained powder could be embedded in a normal temperature resin, and then subjected to a cross-section and mirror finish by wet polishing to obtain an electron microscope observation sample. Before observation with an electron microscope, milling treatment was performed with Ar ions to remove the influence layer of surface polishing. As the high-resolution electron microscope, a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) was used to observe the internal structure of the steel of the present invention.

表1、2中、はんだ付け時のぬれ性の評価については、Cu板上、またはMn板上にはんだを塗布した状態で加熱後のはんだ塗布部の変化を確認し、◎:ぬれ性が優れている(はんだが十分に広がる)、○:ぬれ性が良い(はんだが広がる)、×:ぬれ性が悪い(はんだが塗布状態から広がらない)とした。また、250℃加熱時の粘性についての評価については、厚み1mmのCu板同士、またはMn板同士を50μmのはんだ層の間隔で配置できる冶具を用いて位置決めし、これで接合を実施した場合に、接合後のCu位置変化、またはMn位置変化(はんだ相の厚みばらつき)を測定した。
◎:ばらつきが±1μm未満、○:ばらつきが±5μm未満、×:ばらつきが±5μm以上で評価した。また、250℃再加熱時の強度評価は、○強度が優れている、×強度がない(せん断強度測定限界以下≒0MPa)。
In Tables 1 and 2, regarding the evaluation of wettability during soldering, changes in the solder application part after heating were confirmed with the solder applied on the Cu plate or Mn plate, and ◎: Excellent wettability Yes (solder spreads sufficiently), ○: good wettability (solder spreads), x: poor wettability (solder does not spread from the applied state). Moreover, about the evaluation about the viscosity at the time of 250 degreeC heating, when positioning by using the jig which can arrange | position Cu boards with a thickness of 1 mm, or Mn boards with the space | interval of a 50 micrometer solder layer, and it joined by this Then, the Cu position change after bonding or the Mn position change (solder phase thickness variation) was measured.
A: Variation was less than ± 1 μm, O: Variation was less than ± 5 μm, and X: Variation was ± 5 μm or more. In addition, the strength evaluation at the time of reheating at 250 ° C. is that the strength is excellent and the strength is not good (the shear strength measurement limit is below or equal to 0 MPa).

Figure 0005646230
表1に示すように、No.1〜7は本発明例であり、No.8〜13は比較例である。
Figure 0005646230
As shown in Table 1, no. Nos. 1 to 7 are examples of the present invention. 8 to 13 are comparative examples.

比較例No.8およびNo.9は本発明例No.1およびNo.2と同一組成であるが、急冷凝固を施していないため、組織中にCu6 Sn5 相を1μm以下で微細分散させることが出来ず、粗大なCu6 Sn5 相とさらにCu3 Sn相が形成されており、ぬれ性を確保するSn相が均一分散できていない。そのため、はんだ付け時のぬれ性が悪い。比較例No.10はSnが100%の成分組成のものであり、250℃加熱時は完全に液相となるため粘性のばらつきが大きく、かつ金属間化合物の生成もないため250℃再加熱時の強度がない。 Comparative Example No. 8 and no. No. 9 is an example of the present invention. 1 and no. 2 is the same composition as that of No. 2, but it is not subjected to rapid solidification, so the Cu 6 Sn 5 phase cannot be finely dispersed in the structure at 1 μm or less, and the coarse Cu 6 Sn 5 phase and further the Cu 3 Sn phase The Sn phase that is formed and ensures wettability is not uniformly dispersed. Therefore, the wettability during soldering is poor. Comparative Example No. No. 10 has a component composition of 100% Sn, and when heated at 250 ° C., it is completely in a liquid phase, so there is a large variation in viscosity, and there is no intermetallic compound formation, so there is no strength at 250 ° C. reheating. .

比較例No.11は本発明鋼No.4と同一組成でありガスアトマイズにより粉末を得ているが、粒度が大きいため冷却速度100℃/sを確保できず、組織中にCu6 Sn5相を1μm以下で微細分散させることが出来ず、粗大なCu6 Sn5 相とさらにCu3 Sn相が形成されており、ぬれ性を確保するSn相が均一分散できていない。そのため、はんだ付け時のぬれ性が確保できない。比較例No.12はCuが55%、Snが45%の成分組成のものであり、このものは、はんだ付けぬれ性が悪く、溶合しないため強度の測定が出来なかった。 Comparative Example No. 11 is a steel No. 11 of the present invention. 4 is obtained by gas atomization, but the particle size is large so that a cooling rate of 100 ° C./s cannot be secured, and the Cu 6 Sn 5 phase cannot be finely dispersed in the structure at 1 μm or less. A coarse Cu 6 Sn 5 phase and a Cu 3 Sn phase are formed, and the Sn phase for ensuring wettability cannot be uniformly dispersed. Therefore, the wettability during soldering cannot be ensured. Comparative Example No. No. 12 has a component composition of 55% Cu and 45% Sn, and this was poor in solderability and could not be measured because it did not melt.

比較例No.13はCuが60%、Snが40%の成分組成のものであり、このものは、比較例No.12と同様に、はんだ付けぬれ性が悪く、溶合しないため強度の測定が出来なかった。これに対し、本発明例No.1〜7はいずれも本発明の条件とする成分組成を満足していることから、はんだ付けぬれ性、250℃加熱時の粘性、および250℃再加熱時の強度について優れていることが分かる。   Comparative Example No. No. 13 has a component composition of Cu 60% and Sn 40%. Similar to 12, the solderability was poor and the strength could not be measured because it did not melt. On the other hand, the present invention example No. Since all of Nos. 1 to 7 satisfy the component composition as a condition of the present invention, it is understood that the soldering wettability, the viscosity at 250 ° C. heating, and the strength at 250 ° C. reheating are excellent.

Figure 0005646230
表2に示すように、No.1〜5は本発明例であり、No.6〜11は比較例である。
Figure 0005646230
As shown in Table 2, no. Nos. 1 to 5 are examples of the present invention. 6 to 11 are comparative examples.

比較例No.6およびNo.7は本発明例No.1およびNo.2と同一組成であるが、急冷凝固を施していないため、組織中にMnSn2 相を1μm以下で微細分散させることが出来ず、ぬれ性を確保するSn相が均一分散できていない。そのため、はんだ付け時のぬれ性が悪い。比較例No.8はSnが100%の成分組成のものであり、250℃加熱時は完全に液相となるため粘性のばらつきが大きく、かつ金属間化合物の生成もないため250℃再加熱時の強度がない。 Comparative Example No. 6 and no. 7 is an example of the present invention. 1 and no. Although the composition is the same as that of No. 2 , the MnSn 2 phase cannot be finely dispersed in the structure at 1 μm or less because the rapid solidification is not performed, and the Sn phase for ensuring wettability cannot be uniformly dispersed. Therefore, the wettability during soldering is poor. Comparative Example No. 8 has a component composition of Sn of 100%, and when heated at 250 ° C., it is completely in a liquid phase, so there is a large variation in viscosity, and there is no intermetallic compound formation, so there is no strength at 250 ° C. reheating. .

比較例No.9は本発明鋼No.4と同一組成でありガスアトマイズにより粉末を得ているが、粒度が大きいため冷却速度100℃/sを確保できず、組織中にMnSn2 相を1μm以下で微細分散させることが出来ず、ぬれ性を確保するSn相が均一分散できていない。そのため、はんだ付け時のぬれ性が確保できない。比較例No.10はMnが25%、Snが75%の成分組成のものであり、このものは、はんだ付けぬれ性が悪く、溶合しないため強度の測定が出来なかった。 Comparative Example No. 9 is a steel No. 9 of the present invention. The powder is obtained by gas atomization with the same composition as No. 4 , but because of the large particle size, a cooling rate of 100 ° C./s cannot be secured, the MnSn 2 phase cannot be finely dispersed in the structure at 1 μm or less, and wettability The Sn phase that secures the thickness is not uniformly dispersed. Therefore, the wettability during soldering cannot be ensured. Comparative Example No. No. 10 has a component composition with Mn of 25% and Sn of 75%, and this was poor in solderability and could not be measured because it was not fused.

比較例No.11はMnが40%、Snが60%の成分組成のものであり、このものは、比較例No.10と同様に、はんだ付けぬれ性が悪く、溶合しないため強度の測定が出来なかった。これに対し、本発明例No.1〜5はいずれも本発明の条件とする成分組成を満足していることから、はんだ付けぬれ性、250℃加熱時の粘性、および250℃再加熱時の強度について優れていることが分かる。   Comparative Example No. No. 11 has a component composition of 40% Mn and 60% Sn. Similar to 10, the solderability was poor and the strength could not be measured because it did not melt. On the other hand, the present invention example No. Since 1 to 5 all satisfy the component composition as a condition of the present invention, it can be seen that solderability, viscosity at 250 ° C. heating, and strength at 250 ° C. reheating are excellent.

CuとSnの2元系平衡状態図である。It is a binary system equilibrium state diagram of Cu and Sn. MnとSnの2元系平衡状態図である。It is a binary system equilibrium state diagram of Mn and Sn. SEMにてメルトスパン法によるSn−Cu組成例の合金の急冷箔帯断面を示す電子顕微鏡写真である。It is an electron micrograph which shows the quenching foil strip cross section of the alloy of the Sn-Cu composition example by the melt span method in SEM. 表面ミリングを施し、更に高分解能を有する電子顕微鏡にて観察を行った結果の電子顕微鏡写真である。It is the electron micrograph of the result of having performed surface milling and observing with the electron microscope which has high resolution further. Cu6 Sn5 相がSn相中に粗大化している組織となっていることを示す電子顕微鏡写真である。Is an electron micrograph showing that Cu 6 Sn 5 phase is in the organization that coarsened in Sn phase. Snが液相となったため、Cu6 Sn5 相が粗大化し、Sn中に高融点金属間化合物が形成している状態を示す電子顕微鏡写真である。Since Sn became a liquid phase, it is an electron micrograph showing a state in which a Cu 6 Sn 5 phase is coarsened and a refractory intermetallic compound is formed in Sn.

Claims (5)

SnとCuからなる合金であって、Cuが10〜38質量%で残部がSnおよび不可避的不純物からなり、SnとCuで構成される金属間化合物からなる相をSn基地中に1μm以下の微細粒子として分散させた状態にあることを特徴とする鉛フリー接合用材料。 An alloy composed of Sn and Cu , Cu is 10 to 38% by mass, the balance is composed of Sn and inevitable impurities, and a phase composed of an intermetallic compound composed of Sn and Cu is finely 1 μm or less in the Sn base. A lead-free bonding material characterized by being dispersed as particles. SnとMnからなる合金であって、Mnが4〜18質量%で残部がSnおよび不可避的不純物からなり、SnとMnで構成される金属間化合物からなる相をSn基地中に1μm以下の微細粒子として分散させた状態にあることを特徴とする鉛フリー接合用材料。 A Sn and Mn or Ranaru alloy, Mn is Ri Do the balance of Sn and unavoidable impurities 4-18 wt%, 1 [mu] m or less phase consisting configured intermetallic compound of Sn and Mn in the Sn base A lead-free bonding material characterized by being dispersed in the form of fine particles . 請求項1または2に記載の鉛フリー接合用材料であって、該CuまたはMnとSnで構成される金属間化合物からなる相が、Cu6 Sn5 相またはMnSn2相であることを特徴とする鉛フリー接合用材料。 The lead-free bonding material according to claim 1 or 2, wherein the phase composed of an intermetallic compound composed of Cu or Mn and Sn is a Cu 6 Sn 5 phase or a MnSn 2 phase. Lead-free bonding material. 請求項1または2に記載の合金組成の溶湯を急冷凝固させることにより、Cu6 Sn5 相またはMnSn2 相を1μm以下の微細相としてSn中に分散させたことを特徴とする鉛フリー接合用材料の製造方法。 3. For lead-free bonding, wherein the molten alloy having the alloy composition according to claim 1 or 2 is rapidly solidified to disperse the Cu 6 Sn 5 phase or the MnSn 2 phase in Sn as a fine phase of 1 μm or less. Material manufacturing method. 急冷速度が100℃/秒以上であることを特徴とする、請求項に記載の鉛フリー接合用材料の製造方法。 The method for producing a lead-free bonding material according to claim 4 , wherein the rapid cooling rate is 100 ° C./second or more.
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