JP6002947B2 - Metal filler, solder paste, and connection structure - Google Patents

Metal filler, solder paste, and connection structure Download PDF

Info

Publication number
JP6002947B2
JP6002947B2 JP2012169584A JP2012169584A JP6002947B2 JP 6002947 B2 JP6002947 B2 JP 6002947B2 JP 2012169584 A JP2012169584 A JP 2012169584A JP 2012169584 A JP2012169584 A JP 2012169584A JP 6002947 B2 JP6002947 B2 JP 6002947B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mass
particles
solder
metal filler
alloy particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2012169584A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2014028380A (en
Inventor
軌人 田中
軌人 田中
剛 白鳥
剛 白鳥
利典 柏木
利典 柏木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koki Co Ltd
Original Assignee
Koki Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Koki Co Ltd filed Critical Koki Co Ltd
Priority to JP2012169584A priority Critical patent/JP6002947B2/en
Publication of JP2014028380A publication Critical patent/JP2014028380A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6002947B2 publication Critical patent/JP6002947B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)

Description

本発明は、例えば電子部品及び電子デバイスのはんだ接合に使用される金属フィラーに関するものであり、特にはんだペースト、導電性接着剤、及び接続構造体に関する。   The present invention relates to a metal filler used for, for example, solder bonding of electronic components and electronic devices, and more particularly to a solder paste, a conductive adhesive, and a connection structure.

近年の情報化社会の発達に伴い、携帯電話を中心とした電子機器では、高機能化、軽薄短小化が求められ、それに伴い高密度実装技術も急速な進歩を遂げている。   With the development of the information society in recent years, electronic devices such as mobile phones are required to be highly functional, light and thin, and high-density mounting technology has also made rapid progress.

部品を基板に内蔵したり、複数のLSIを1パッケージ化したりして、限られた容積を有効利用するため、多様な実装技術が開発されているが、一方で、高密度化が進めば進むほど、基板内部やパッケージ内部に組込まれた部品のはんだ接続部は、後工程で熱処理を受ける回数が多くなり、部品と封止樹脂の隙間で起こる、はんだ再溶融によるショート問題が顕在化してきている。また近年では環境問題に対応して鉛フリーはんだが求められている。   Various mounting technologies have been developed to make effective use of the limited volume by incorporating components on a board or packaging multiple LSIs into one package. As a result, the solder joints of components built into the board or package are frequently subjected to heat treatment in the subsequent process, and the short-circuit problem due to solder remelting that occurs in the gap between the component and the sealing resin has become apparent. Yes. In recent years, lead-free solder has been demanded in response to environmental problems.

その為、基板内部やパッケージ内部に組込まれた部品の接続において、後工程で複数回の熱処理を受けても、再溶融しない耐熱性を有する鉛フリーはんだ材料の開発が望まれている。   For this reason, it is desired to develop a lead-free solder material having heat resistance that does not remelt even if it is subjected to a plurality of heat treatments in a subsequent process in connecting components incorporated in the substrate or package.

本発明者等は、鉛フリーはんだのリフロー熱処理条件で溶融接合でき、接合後は、同じ熱処理条件では再溶融しない鉛フリーはんだ材料を提案した(特許文献1参照)。   The present inventors have proposed a lead-free solder material that can be melt-bonded under reflow heat treatment conditions for lead-free solder and that does not re-melt under the same heat-treatment conditions after bonding (see Patent Document 1).

鉛フリーはんだのリフロー熱処理条件とは、代表的なSn−3.0Ag−0.5Cu(融点217℃)で、はんだ接続する場合の一般的なリフロー熱処理条件であり、ピーク温度240〜260℃の範囲のことである。   The reflow heat treatment conditions for lead-free solder are typical Sn-3.0Ag-0.5Cu (melting point: 217 ° C), and are general reflow heat treatment conditions for solder connection, and have a peak temperature of 240-260 ° C. It is a range.

該はんだ材料の金属フィラーは、Cu主成分の第1の金属粒子とリフロー熱処理において溶融する第2の金属粒子との混合体からなり、リフロー熱処理において、新たな安定合金相を形成することで、再度のリフロー熱処理においても、再溶融しない特徴を有するものであった。   The metal filler of the solder material is composed of a mixture of the first metal particles based on Cu and the second metal particles that melt in the reflow heat treatment, and forms a new stable alloy phase in the reflow heat treatment, Even in the reflow heat treatment again, it had the characteristic of not being remelted.

一方で、Cu粒子とSn粒子との混合体を金属フィラーとするはんだ材料が提案されている(特許文献2参照)。   On the other hand, a solder material using a mixture of Cu particles and Sn particles as a metal filler has been proposed (see Patent Document 2).

該はんだ材料は、熱処理により、Cu6Sn5を含む化合物を形成し、Cu粒子同士は、Cu6Sn5を含む化合物で結合される状態となることを特徴としている。   The solder material is characterized in that a compound containing Cu6Sn5 is formed by heat treatment, and the Cu particles are bonded to each other by a compound containing Cu6Sn5.

また、更には、Cu粒子の表面をNiめっきした粒子とSn粒子との混合体を金属フィラーとするはんだ材料が提案されている(特許文献3参照)。   Furthermore, a solder material is proposed in which a mixture of particles obtained by plating the surface of Cu particles with Ni and Sn particles is used as a metal filler (see Patent Document 3).

該はんだ材料は、Cu粒子の表面にSnへの拡散を阻害する金属の被膜を設けることによって、CuSn化合物の形成を阻害し、Snが電極や部品端子に濡れる時間を確保することで濡れ性を改善することを特徴としている。   The solder material is provided with a metal coating that inhibits diffusion to Sn on the surface of Cu particles, thereby inhibiting the formation of a CuSn compound and ensuring wettability by ensuring the time for Sn to wet the electrodes and component terminals. It is characterized by improvement.

国際公開第2006/109573号パンフレットInternational Publication No. 2006/109573 Pamphlet 特開2002−254194号公報JP 2002-254194 A 国際公開第2007/125861号パンフレットInternational Publication No. 2007/125861 Pamphlet

しかしながら、特許文献1及び2に記載される技術においては、該はんだ材料は、再度のリフロー熱処理において、再溶融しない優れた特徴を有しているが、はんだ接合後の熱的疲労に対する接続信頼性についてはさらなる改善の余地があった。また、特許文献3に記載のはんだ材料においては、Cu粒子へのNi被膜を電解又は無電解めっきにより形成しなければならないため、湿式のめっき処理プロセスを伴い、生産性、コスト面、及び環境負荷の観点において改善の余地があった。   However, in the techniques described in Patent Documents 1 and 2, the solder material has an excellent feature that it does not remelt in the reflow heat treatment, but the connection reliability against thermal fatigue after soldering is known. There was room for further improvement. Further, in the solder material described in Patent Document 3, since the Ni coating on the Cu particles must be formed by electrolysis or electroless plating, it involves a wet plating process, which leads to productivity, cost, and environmental load. There was room for improvement in terms of

本発明は、上記問題を鑑みて成されたものであり、鉛フリーはんだのリフロー熱処理条件で溶融接合でき、接合後は、後工程で複数回の熱処理を受けても再溶融しない耐熱性を持ち、熱的疲労に対する接続信頼性に優れた鉛フリーはんだ材料又は導電性接着剤を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and can be melt-bonded under reflow heat treatment conditions for lead-free solder. After bonding, it has heat resistance that does not remelt even if subjected to multiple heat treatments in the subsequent process. An object of the present invention is to provide a lead-free solder material or a conductive adhesive excellent in connection reliability against thermal fatigue.

本発明者等は、上記課題を解決すべく鋭意検討し、実験を重ねた結果、本発明を成すに至った。
即ち、本発明は、以下の通りである。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems and repeated experiments, the present inventors have reached the present invention.
That is, the present invention is as follows.

[1]Cu合金粒子とはんだ粒子との混合体からなる金属フィラーであって、前記混合体は、Cu合金粒子100質量部に対してはんだ粒子を54〜567質量部含み、
前記Cu合金粒子は、Sn、Ag、Bi、In及びGeからなる群より選ばれる1種以上の元素を1〜50質量%、Ni、Fe及びCoからなる群より選ばれる1種以上の元素を0.01〜1質量%、残部がCuからなるCu合金粒子であり、
前記はんだ粒子が、Sn粒子、又はSn90質量%以上を含有するSn合金粒子である、ことを特徴とする金属フィラー。
]該Cu合金粒子が、Sn13.5〜16.5質量%、Ag0.1〜10質量%、Bi4.5〜5.5質量%、In0.1〜5質量%、Fe0.01〜1質量%、及び残部CuからなるCu合金粒子、又はSn13.5〜16.5質量%、Ag9〜11質量%、Bi4.5〜5.5質量%、Ge0.1〜5質量%、Fe0.01〜1質量%、及び残部CuからなるCu合金粒子、又はSn1〜25質量%、Fe0.01〜1質量%、及び残部CuからなるCu合金粒子である、上記[1]〜[3]のいずれかに記載の金属フィラー。
]上記[1]又は]に記載の金属フィラーを含む、はんだペースト。
]上記[1]又は]に記載の金属フィラーを含み、リフロー熱処理される導電性接着剤。
5][3]に記載のはんだペースト又は[]に記載の導電性接着剤により第1の電子部品と第2の電子部品とを接合したはんだ接合部を有し、前記はんだ接合部は、前記はんだ粒子の融点よりも高融点の安定合金相が形成されている、接続構造体。
]基板と、該基板の上に搭載された上記[]に記載の接続構造体とを有する、部品搭載基板。
]基板と、該基板の上に搭載された上記[]に記載の接続構造体とを有する、部品内蔵モジュール。
[1] A metal filler comprising a mixture of Cu alloy particles and solder particles, wherein the mixture includes 54 to 567 parts by mass of solder particles with respect to 100 parts by mass of Cu alloy particles,
The Cu alloy particles contain 1 to 50% by mass of one or more elements selected from the group consisting of Sn, Ag, Bi, In and Ge, and one or more elements selected from the group consisting of Ni, Fe and Co. 0.01-1% by mass , the balance being Cu alloy particles made of Cu,
The metal filler , wherein the solder particles are Sn particles or Sn alloy particles containing Sn 90 mass% or more .
[ 2 ] The Cu alloy particles are Sn 13.5 to 16.5% by mass, Ag 0.1 to 10% by mass, Bi 4.5 to 5.5% by mass, In 0.1 to 5% by mass, Fe 0.01 to 1%. Cu alloy particles consisting of the remaining mass Cu and the remaining Cu, or Sn 13.5 to 16.5 mass%, Ag 9 to 11 mass%, Bi 4.5 to 5.5 mass%, Ge 0.1 to 5 mass%, Fe 0.01 Any one of the above [1] to [3], which is a Cu alloy particle composed of ˜1 mass% and the balance Cu, or a Cu alloy particle composed of Sn 1 to 25 mass%, Fe 0.01 to 1 mass%, and the balance Cu. Metal filler according to crab.
[ 3 ] A solder paste containing the metal filler according to [1] or [ 2 ].
[4] [1] or a conductive adhesive seen including, reflowed heat treated metal filler described in [2].
[ 5] It has a solder joint that joins the first electronic component and the second electronic component with the solder paste according to [3 ] or the conductive adhesive according to [ 4 ], and the solder joint is A connection structure in which a stable alloy phase having a melting point higher than the melting point of the solder particles is formed .
[ 6 ] A component mounting board having a board and the connection structure according to the above [ 5 ] mounted on the board.
[ 7 ] A component built-in module having a substrate and the connection structure according to [ 5 ] mounted on the substrate.

本発明の金属フィラー、及びそれを含むはんだ材料又は導電性接着剤は、鉛フリーはんだのリフロー熱処理条件で溶融接合でき、接合後は、後工程で複数回の熱処理を受けても再溶融しない耐熱性を有する。また、はんだ接合後の熱的疲労に対する接続信頼性にも優れている。   The metal filler of the present invention and the solder material or conductive adhesive containing the same can be melt-bonded under reflow heat treatment conditions of lead-free solder, and after bonding, heat resistance that does not remelt even if subjected to multiple heat treatments in the subsequent process Have sex. Moreover, it is excellent in connection reliability against thermal fatigue after soldering.

以下、本発明を実施するための形態(以下、実施の形態と略記する)を詳細に説明する。尚、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で変形して実施することができる。   Hereinafter, modes for carrying out the present invention (hereinafter abbreviated as embodiments) will be described in detail. In addition, this invention is not limited to the following embodiment, It can deform | transform and implement within the range of the summary.

<金属フィラー>
本実施の形態の金属フィラーは、Cu合金粒子とはんだ粒子との混合体からなる金属フィラーであって、該Cu合金粒子が、Ni、Fe及びCoからなる群より選ばれる1種以上の元素を0.01〜1質量%含有することを特徴とする。なおこの含有量は存在するNi、Fe及びCoの合計量である。本開示において、構成要素に関し「からなる」というときは、本発明の効果を損なわない範囲で他の要素(例えば不可避的不純物)が含まれうる可能性を排除しないことを意図する。本実施の形態の金属フィラーは、以下に詳述するような特性により、特に、はんだ接合に有利に適用される。
<Metal filler>
The metal filler of the present embodiment is a metal filler made of a mixture of Cu alloy particles and solder particles, and the Cu alloy particles contain one or more elements selected from the group consisting of Ni, Fe and Co. 0.01 to 1% by mass is contained. This content is the total amount of Ni, Fe and Co present. In the present disclosure, when “consisting of” regarding a constituent element is intended not to exclude the possibility that other elements (for example, inevitable impurities) may be included within a range not impairing the effects of the present invention. The metal filler of the present embodiment is particularly advantageously applied to solder joints due to the characteristics described in detail below.

(Cu合金粒子)
本開示で、Cu合金粒子とは、Cu含有合金を含む粒子を意味し、典型的にはCu含有合金からなる粒子である。より典型的な態様においては、Cu合金粒子の構成元素のうちCuの含有率が最も高い。本実施の形態においてCu合金粒子に含まれる、Ni、Fe及びCoからなる群より選ばれる1種以上の元素は、熱処理時に、溶融したはんだ粒子との接合界面に濃化することで、接合界面に生成する金属間化合物の結晶粒を微細化し、該金属間化合物の成長を抑制する。従って、本実施の形態の金属フィラーによれば、該金属フィラーを含むはんだペースト又は導電性接着剤を用いて形成されるはんだ接合部における内部応力の増加を防ぎ、接続信頼性を向上させることができる。
(Cu alloy particles)
In the present disclosure, Cu alloy particles mean particles containing a Cu-containing alloy, and are typically particles made of a Cu-containing alloy. In a more typical embodiment, the Cu content is the highest among the constituent elements of the Cu alloy particles. In the present embodiment, one or more elements selected from the group consisting of Ni, Fe, and Co contained in the Cu alloy particles are concentrated at the bonding interface with the molten solder particles during the heat treatment, so that the bonding interface The crystal grains of the intermetallic compound produced in the step are refined to suppress the growth of the intermetallic compound. Therefore, according to the metal filler of the present embodiment, it is possible to prevent an increase in internal stress in a solder joint formed using a solder paste or a conductive adhesive containing the metal filler and improve connection reliability. it can.

本実施の形態では、鉄族元素であるNi、Fe及びCoからなる群より選ばれる1種以上の元素のCu合金粒子中の含有量が0.01質量%以上であることで、接合界面における金属間化合物の成長を抑制する効果を好適に得られ、1質量%以下であることで、例えば、はんだペースト又は導電性接着剤のはんだ接合部におけるボイドの発生を抑制し、高い機械強度を得ることができる。Ni、Fe及びCoからなる群より選ばれる1種以上の元素のCu合金粒子中の含有量は、好ましくは、0.02質量%以上、より好ましくは、0.03質量%以上であり、好ましくは、0.9質量%以下、より好ましくは、0.8質量%以下である。   In the present embodiment, the content in the Cu alloy particles of one or more elements selected from the group consisting of iron group elements Ni, Fe, and Co is 0.01% by mass or more, so that The effect of suppressing the growth of intermetallic compounds is suitably obtained, and when it is 1% by mass or less, for example, the generation of voids in the solder joints of the solder paste or conductive adhesive is suppressed, and high mechanical strength is obtained. be able to. The content of one or more elements selected from the group consisting of Ni, Fe and Co in the Cu alloy particles is preferably 0.02% by mass or more, more preferably 0.03% by mass or more, preferably Is 0.9 mass% or less, more preferably 0.8 mass% or less.

より典型的な態様において、Cu合金粒子は、金属原料の入手性と製品安全性の観点から、Feを上記範囲の量で含む。   In a more typical embodiment, the Cu alloy particles contain Fe in an amount in the above range from the viewpoint of availability of metal raw materials and product safety.

なお本開示において記載する各元素の含有量は、それぞれ、ICP発光分析法で確認できる。通常、Cu合金粒子中の各元素の含有比率は、該粒子の製造時に用いる材料金属の配合比率に対応する。   The content of each element described in the present disclosure can be confirmed by ICP emission analysis. Usually, the content ratio of each element in the Cu alloy particles corresponds to the compounding ratio of the material metals used in the production of the particles.

Cu合金粒子とはんだ粒子との熱拡散による良好な合金化によって良好な電気的、機械的接合を得るという観点から、Cu合金粒子は、Sn、Ag、Bi、In及びGeからなる群より選ばれる1種以上の元素1〜50質量%、Ni、Fe及びCoからなる群より選ばれる1種以上の元素0.01〜1質量%、並びに残部Cuからなることが好ましい。   The Cu alloy particles are selected from the group consisting of Sn, Ag, Bi, In, and Ge from the viewpoint of obtaining good electrical and mechanical bonding by good alloying by thermal diffusion between the Cu alloy particles and the solder particles. It is preferably composed of 1 to 50% by mass of one or more elements, 0.01 to 1% by mass of one or more elements selected from the group consisting of Ni, Fe and Co, and the balance Cu.

特に、上記の理由で好ましい一つの態様としては、Sn13.5〜16.5質量%、Ag0.1〜10質量%、Bi4.5〜5.5質量%、In0.1〜5質量%、Fe0.01〜1質量%、及び残部CuからなるCu合金粒子が挙げられ、別の好ましい態様としては、Sn13.5〜16.5質量%、Ag9〜11質量%、Bi4.5〜5.5質量%、Ge0.1〜5質量%、Fe0.01〜1質量%、及び残部CuからなるCu合金粒子が挙げられ、更に別の好ましい態様としては、Sn1〜25質量%、Fe0.01〜1質量%、及び残部CuからなるCu合金粒子が挙げられる。   In particular, as a preferred embodiment for the above reasons, Sn 13.5 to 16.5% by mass, Ag 0.1 to 10% by mass, Bi 4.5 to 5.5% by mass, In 0.1 to 5% by mass, Fe0 Cu alloy particles composed of 0.01 to 1% by mass and the balance Cu are included, and as another preferred embodiment, Sn 13.5 to 16.5% by mass, Ag 9 to 11% by mass, Bi 4.5 to 5.5% by mass. %, Ge 0.1 to 5% by mass, Fe 0.01 to 1% by mass, and Cu alloy particles composed of the balance Cu, and yet another preferred embodiment includes Sn 1 to 25% by mass, Fe 0.01 to 1% by mass. %, And Cu alloy particles composed of the balance Cu.

尚、Cu合金粒子は、内部に準安定合金相を有することが好ましい。準安定合金相は、反応性が高いので、熱処理において溶融したはんだ粒子との合金化を迅速に行うことができる。尚、準安定合金相は、示差走査熱量測定(DSC)において発熱ピークとして確認することができる。示差走査熱量測定における発熱は、新たな合金相が形成される際に発生する潜熱の検出であり、Cu合金粒子に準安定合金相が存在することを示す。準安定合金相は、例えば、急冷凝固法により形成できる。   The Cu alloy particles preferably have a metastable alloy phase inside. Since the metastable alloy phase is highly reactive, it can be rapidly alloyed with the solder particles melted in the heat treatment. The metastable alloy phase can be confirmed as an exothermic peak in differential scanning calorimetry (DSC). Heat generation in differential scanning calorimetry is detection of latent heat generated when a new alloy phase is formed, and indicates that a metastable alloy phase is present in Cu alloy particles. The metastable alloy phase can be formed by, for example, a rapid solidification method.

典型的な態様において、Cu合金粒子の融点(但し、複数の融点が存在する場合には、最低融点)は、300℃以上である。融点は、好ましくは、350℃以上、より好ましくは、400℃以上、更に好ましくは、450℃以上である。該融点が、300℃以上である場合、はんだ接合後に耐熱性を発現する。   In a typical embodiment, the melting point of the Cu alloy particles (however, when there are a plurality of melting points, the lowest melting point) is 300 ° C. or higher. The melting point is preferably 350 ° C. or higher, more preferably 400 ° C. or higher, and still more preferably 450 ° C. or higher. When the melting point is 300 ° C. or higher, heat resistance is exhibited after solder joining.

(はんだ粒子)
本開示で、はんだ粒子とは、1種又は2種以上の金属元素からなる融点300℃未満の粒子を意味する。はんだ粒子は典型的にはSnを含む。好ましい態様において、はんだ粒子は鉛を実質的に含まない。はんだ粒子の融点は、好ましくは、100℃以上260℃以下であり、より好ましくは、150℃以上250℃以下であり、更に好ましくは、180℃以上240℃以下である。該融点が100℃以上であれば、良好なはんだ接合が可能であり、260℃以下であれば、一般的なリフロー熱処理条件においてはんだ接合が可能である。はんだ粒子中の、Ni、Fe及びCoからなる群より選ばれる1種以上の元素の合計含有量は、0.01質量%未満であることが、はんだ溶融時の濡れ性が良好となる点で好ましい。
(Solder particles)
In the present disclosure, the solder particles mean particles having a melting point of less than 300 ° C. made of one or more metal elements. The solder particles typically include Sn. In a preferred embodiment, the solder particles are substantially free of lead. The melting point of the solder particles is preferably 100 ° C. or higher and 260 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or higher and 250 ° C. or lower, and still more preferably 180 ° C. or higher and 240 ° C. or lower. If the melting point is 100 ° C. or higher, good solder bonding is possible, and if it is 260 ° C. or lower, solder bonding is possible under general reflow heat treatment conditions. The total content of one or more elements selected from the group consisting of Ni, Fe and Co in the solder particles is less than 0.01% by mass in that the wettability at the time of melting the solder is good. preferable.

はんだ粒子としては、はんだ粒子とCu合金粒子及び基板電極表面との濡れ性、並びにはんだ粒子とCu合金粒子との熱拡散による合金化促進の観点から、Sn粒子(すなわちSnからなる粒子)又はSn合金粒子が好ましい。Sn合金粒子としては、上記の観点から、Snを90質量%以上含有するSn合金粒子が好ましく、Snを90〜99.5質量%含むSn合金粒子が特に好ましい。Sn合金粒子は、一般にSn粒子よりも融点が低いため、熱処理におけるCu合金粒子との合金化反応が速くなる傾向がある。具体的には、Sn−Cu共晶系はんだ、Sn−Ag共晶系はんだ、及びSn−Ag−Cu共晶系はんだの粒子が好ましく、又はこれらにIn、Zn、Bi等の金属を1種以上添加したはんだ粒子を用いることもできる。Inは、その添加により合金の金属特性をあまり低下させないで融点を低下させる事ができる。Zn及びBiも、In同様にその添加により融点を低下させる効果がある。   As the solder particles, Sn particles (that is, particles made of Sn) or Sn from the viewpoints of wettability between the solder particles, the Cu alloy particles and the substrate electrode surface, and promotion of alloying by thermal diffusion between the solder particles and the Cu alloy particles. Alloy particles are preferred. As the Sn alloy particles, Sn alloy particles containing 90% by mass or more of Sn are preferable from the above viewpoint, and Sn alloy particles containing 90 to 99.5% by mass of Sn are particularly preferable. Since Sn alloy particles generally have a lower melting point than Sn particles, the alloying reaction with Cu alloy particles during heat treatment tends to be faster. Specifically, particles of Sn—Cu eutectic solder, Sn—Ag eutectic solder, and Sn—Ag—Cu eutectic solder are preferable, or one kind of metal such as In, Zn, or Bi is added thereto. Solder particles added as described above can also be used. By adding In, the melting point can be lowered without significantly reducing the metal properties of the alloy. Zn and Bi, as well as In, have the effect of lowering the melting point due to their addition.

Sn合金粒子の好ましい組成を例示すれば、Sn−0.3Ag−0.7Cu、Sn−0.7Cu、Sn−3.0Ag−0.5Cu、Sn−3.5Ag、Sn−4.0Ag−0.5Cu、Sn−2.5Ag−0.5Cu−1Bi等が挙げられる。また、これらは1種を単独で、又は2種以上を混合して用いても良い。Sn単体が価格面で優れるが、例えばSn−Ag系合金、及びSn−Ag−Cu系合金は、Sn単体より融点が10℃以上低いので、熱処理温度を低く設定することができる。   Illustrative examples of the preferred composition of the Sn alloy particles include Sn-0.3Ag-0.7Cu, Sn-0.7Cu, Sn-3.0Ag-0.5Cu, Sn-3.5Ag, Sn-4.0Ag-0. .5Cu, Sn-2.5Ag-0.5Cu-1Bi and the like. Moreover, you may use these individually by 1 type or in mixture of 2 or more types. Although Sn alone is excellent in terms of price, for example, Sn—Ag alloy and Sn—Ag—Cu alloy have a melting point lower by 10 ° C. or more than Sn alone, so that the heat treatment temperature can be set low.

本実施の形態の金属フィラーのCu合金粒子及びはんだ粒子の粒子サイズとしては、それぞれ、平均粒径で5〜30μmの範囲が好ましい。平均粒径が5μm以上であると、粒子の比表面積が小さくなるので、例えば後述するフラックスを用いてはんだペーストを形成した場合、粒子とフラックスとの接触面積が少ないのではんだペーストの寿命が長くなる。更に、平均粒径が5μm以上である場合、リフロー熱処理においては、フラックスによる還元反応(粒子酸化膜除去)で発生するアウトガスも少なくなるので、接続内部に発生するボイドを低減させることができる。また、平均粒径は、ペースト特性の観点から30μm以下が好ましい。平均粒径が30μm以下であることで、粒子間の隙間が適切となり、粘着力が損なわれにくくなり、はんだ接続される部品の搭載からリフロー熱処理が終わるまでの工程で、部品の外れを防止できる。
また、粒度分布は、ペースト用途に応じて定めることができる。例えば、スクリーン印刷用途では、版抜け性を重視して、粒度分布はブロードにするのが好ましく、ディスペンス用途及びビア充填用途では、吐出流動性及び穴埋め性を重視して、粒度分布はシャープにするのが好ましい。
The particle size of the Cu alloy particles and solder particles of the metal filler of the present embodiment is preferably in the range of 5 to 30 μm in average particle size. When the average particle size is 5 μm or more, the specific surface area of the particles becomes small. For example, when a solder paste is formed using a flux described later, the contact area between the particles and the flux is small, so the life of the solder paste is extended. . Further, when the average particle size is 5 μm or more, outgas generated in the reflow heat treatment due to the reduction reaction (particle oxide film removal) by the flux is reduced, so that voids generated inside the connection can be reduced. The average particle size is preferably 30 μm or less from the viewpoint of paste characteristics. When the average particle size is 30 μm or less, the gap between the particles becomes appropriate, the adhesive force is less likely to be impaired, and the removal of components can be prevented in the process from mounting of components to be soldered to completion of reflow heat treatment. .
The particle size distribution can be determined according to the paste application. For example, in screen printing applications, it is preferable to make the particle size distribution broader, with emphasis on plate slippage, and in dispensing applications and via filling applications, emphasis is placed on ejection fluidity and hole filling properties, and the particle size distribution is sharpened. Is preferred.

本実施の形態の金属フィラーのCu合金粒子とはんだ粒子との混合比は、耐熱性の観点から、Cu合金粒子100質量部に対し、はんだ粒子が好ましくは567質量部以下であり、より好ましくは400質量部以下であり、更に好ましくは300質量部以下である。一方、本実施の形態の金属フィラーを含むはんだペースト又は導電性接着剤等による初期の接合状態が向上するという観点から、Cu合金粒子100質量部に対し、はんだ粒子が好ましくは54質量部以上であり、より好ましくは82質量部以上である。   From the viewpoint of heat resistance, the mixing ratio of the Cu alloy particles and the solder particles of the metal filler of the present embodiment is preferably 567 parts by mass or less, more preferably 100 parts by mass of the Cu alloy particles. It is 400 parts by mass or less, more preferably 300 parts by mass or less. On the other hand, from the viewpoint of improving the initial bonding state with the solder paste or conductive adhesive containing the metal filler of the present embodiment, the solder particles are preferably 54 parts by mass or more with respect to 100 parts by mass of the Cu alloy particles. Yes, more preferably 82 parts by mass or more.

Cu合金粒子及びはんだ粒子の製造法としては、微粉末の製造方法として公知の方法を採用できるが、急冷凝固法が好ましい。急冷凝固法による微粉末の製造法としては、水噴霧法、ガス噴霧法、遠心噴霧法等が挙げられ、粒子の酸素含有量を抑えることができる点から、ガス噴霧法、及び遠心噴霧法がより好ましい。ガス噴霧法では、通常、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスを使用することができるが、より粒径が小さい微粒子を製造する場合には、ガス噴霧時の線速を高くし、冷却速度を速くするため、比重の軽いヘリウムガスを用いることが好ましい。冷却速度は、500〜5000℃/秒の範囲であることが好ましい。遠心噴霧法では、回転ディスク上面に均一な溶融膜を形成する観点から、ディスクの材質は、サイアロンであることが好ましく、ディスク回転速度は、6万〜12万rpmの範囲であることが好ましい。   As a method for producing Cu alloy particles and solder particles, a known method can be adopted as a method for producing fine powder, but a rapid solidification method is preferred. Examples of the method for producing fine powder by the rapid solidification method include a water spray method, a gas spray method, a centrifugal spray method, and the like. From the point that the oxygen content of particles can be suppressed, a gas spray method and a centrifugal spray method are used. More preferred. In the gas spray method, an inert gas such as nitrogen gas, argon gas, or helium gas can be usually used. However, when producing fine particles having a smaller particle diameter, the linear velocity during gas spray is increased. In order to increase the cooling rate, it is preferable to use helium gas having a low specific gravity. The cooling rate is preferably in the range of 500 to 5000 ° C./second. In the centrifugal spraying method, from the viewpoint of forming a uniform molten film on the upper surface of the rotating disk, the disk material is preferably sialon, and the disk rotation speed is preferably in the range of 60,000 to 120,000 rpm.

<はんだペースト>
本実施の形態は、上述した本実施の形態の金属フィラーを含むはんだペーストも提供する。当該はんだペーストは、鉛フリーとすることができる。本実施の形態において、鉛フリーとは、EUの環境規制(RoHS)に準じ、鉛の含有量が0.1質量%以下であることを意味する。前記はんだペーストは、金属フィラー成分及びフラックス成分を含むことが好ましく、典型的には、金属フィラー成分及びフラックス成分から成る。金属フィラー成分は、上述した金属フィラーであるが、本発明の効果を損なわない範囲で、他の金属フィラーを少量含んでもよい。
<Solder paste>
The present embodiment also provides a solder paste including the metal filler of the present embodiment described above. The solder paste can be lead-free. In the present embodiment, lead-free means that the lead content is 0.1% by mass or less in accordance with EU environmental regulations (RoHS). The solder paste preferably includes a metal filler component and a flux component, and typically includes a metal filler component and a flux component. The metal filler component is the metal filler described above, but may contain a small amount of other metal filler as long as the effects of the present invention are not impaired.

前記はんだペースト中の金属フィラー成分の含有量は、ペースト特性の観点から、はんだペーストの全質量(即ち、100質量%)を基準として、84〜94質量%の範囲であることが好ましい。はんだペースト中の金属フィラー成分の含有量のより好ましい範囲はペーストの用途に応じて定めることができる。例えば、スクリーン印刷用途では、版抜け性が重視されるので、はんだペースト中の金属フィラー成分の含有量は、はんだペーストの全質量を基準として、好ましくは、87〜92質量%の範囲であり、より好ましくは、88〜91質量%の範囲である。また、ディスペンス用途では、吐出流動性が重視されるので、はんだペースト中の金属フィラー成分の含有量は、はんだペーストの全質量を基準として、好ましくは、85〜89質量%の範囲であり、より好ましくは、86〜88質量%の範囲である。   The content of the metal filler component in the solder paste is preferably in the range of 84 to 94% by mass based on the total mass of the solder paste (that is, 100% by mass) from the viewpoint of paste characteristics. A more preferable range of the content of the metal filler component in the solder paste can be determined according to the use of the paste. For example, in screen printing applications, the ability to remove the plate is important, so the content of the metal filler component in the solder paste is preferably in the range of 87 to 92% by mass, based on the total mass of the solder paste, More preferably, it is the range of 88-91 mass%. Also, in dispensing applications, discharge fluidity is important, so the content of the metal filler component in the solder paste is preferably in the range of 85 to 89% by mass, based on the total mass of the solder paste, and more Preferably, it is the range of 86-88 mass%.

一般に、フラックスとは、はんだより速く溶融して、金属表面を洗浄する材料をいう。本実施の形態で使用されるフラックス成分は、ロジン、溶剤、活性剤及びチクソ剤を含むことが好ましい。そのようなフラックス成分は、金属フィラーの表面処理に好適である。即ち、フラックス成分は、リフロー熱処理時にはんだペースト中の金属フィラー成分の酸化膜を除去し、再酸化を抑制することで、金属の溶融及び熱拡散による合金化を促進する。フラックス成分としては、既知の材料を使用することができる。   In general, flux refers to a material that melts faster than solder and cleans the metal surface. The flux component used in the present embodiment preferably contains rosin, a solvent, an activator and a thixotropic agent. Such a flux component is suitable for the surface treatment of the metal filler. That is, the flux component removes the oxide film of the metal filler component in the solder paste during the reflow heat treatment and suppresses reoxidation, thereby promoting alloying by melting and thermal diffusion of the metal. As the flux component, a known material can be used.

<導電性接着剤>
本実施の形態は、上述した本実施の形態の金属フィラーを含む導電性接着剤も提供する。一般に、導電性接着剤とは、熱硬化性樹脂組成物に銀、銅、カーボンファイバー等の導電性の良い材料を加えて形成される接着剤をいう。本実施の形態の導電性接着剤は、本実施の形態の金属フィラー、及び熱硬化性樹脂を含む。本実施の形態の導電性接着剤は、フラックス成分を含んでもよいし、含まなくてもよい。本実施の形態の導電性接着剤は、任意に、本実施の形態の金属フィラー以外の金属フィラーとして、銀、銅、ニッケル等を更に含んでもよい。一態様において、導電性接着剤は、金属フィラー、熱硬化性樹脂、及び任意にフラックス成分から成ることができる。導電性接着剤中の金属フィラー成分の含有量は、40〜95質量%の範囲が好ましく、60〜94質量%の範囲がより好ましく、更に好ましくは80〜93質量%の範囲である。金属フィラーの含有率が95質量%以下であると、ペーストの粘度が最適化され、スクリーン印刷等での印刷性が良好となる。金属フィラーの含有率が40質量%以上であると、金属フィラーの沈降を抑制できる。
<Conductive adhesive>
The present embodiment also provides a conductive adhesive containing the metal filler of the present embodiment described above. In general, the conductive adhesive refers to an adhesive formed by adding a material having good conductivity such as silver, copper, or carbon fiber to a thermosetting resin composition. The conductive adhesive of the present embodiment includes the metal filler of the present embodiment and a thermosetting resin. The conductive adhesive of the present embodiment may or may not include a flux component. The conductive adhesive of the present embodiment may optionally further contain silver, copper, nickel or the like as a metal filler other than the metal filler of the present embodiment. In one aspect, the conductive adhesive can comprise a metal filler, a thermosetting resin, and optionally a flux component. The content of the metal filler component in the conductive adhesive is preferably in the range of 40 to 95% by mass, more preferably in the range of 60 to 94% by mass, and still more preferably in the range of 80 to 93% by mass. When the content of the metal filler is 95% by mass or less, the viscosity of the paste is optimized, and the printability in screen printing or the like is improved. When the content of the metal filler is 40% by mass or more, precipitation of the metal filler can be suppressed.

熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、シリコン樹脂、ポリウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられ、中でも金属表面との親和性に優れること、硬化時の体積収縮が少ない観点からエポキシ樹脂が好ましい。   Examples of thermosetting resins include epoxy resins, phenolic resins, amino resins, silicon resins, polyurethane resins, unsaturated polyester resins, etc. Among them, excellent compatibility with metal surfaces, and viewpoints of less volume shrinkage during curing To epoxy resins are preferred.

一般に、導電性接着剤は、鉛フリー、揮発性有機化合物(VOC)フリー、フラックスレス、容易な低温実装等の特徴を有することができるので、本実施の形態の導電性接着剤は、電気接続したいがはんだ付けできない部品(例えば、半導体チップ、液晶、有機EL、LED等に関連するデバイス)に適している。   In general, the conductive adhesive can have characteristics such as lead-free, volatile organic compound (VOC) -free, flux-less, easy low-temperature mounting, and the like. It is suitable for parts that are desired to be soldered but cannot be soldered (for example, devices related to semiconductor chips, liquid crystals, organic EL, LEDs, etc.).

<接続構造体>
本実施の形態は、第1の電子部品、第2の電子部品、及び、該第1の電子部品と該第2の電子部品とを接合しているはんだ接合部を有する接続構造体であって、はんだ接合部が、本実施の形態のはんだペースト又は本実施の形態の導電性接着剤をリフロー熱処理することによって形成されたものである、接続構造体も提供する。
<Connection structure>
The present embodiment is a connection structure having a first electronic component, a second electronic component, and a solder joint that joins the first electronic component and the second electronic component. Also provided is a connection structure in which the solder joint is formed by reflow heat treatment of the solder paste of the present embodiment or the conductive adhesive of the present embodiment.

例えば、はんだペーストを用いて、電子デバイス等の搭載部品電極と基板電極とを接続する場合、鉛フリーはんだのリフロー熱処理条件において、前述のはんだ粒子の融点以上の熱履歴が与えられると、該はんだ粒子は溶融し、前述のCu合金粒子を介して搭載部品電極と基板電極とを接合する。これにより金属間の熱拡散反応が加速的に進み、該はんだ粒子の融点よりも高融点の新たな安定合金相が形成され、該Cu合金粒子を介して搭載部品電極と基板電極とを接続する接続構造体を形成する。   For example, when a solder paste is used to connect a mounting component electrode such as an electronic device and a substrate electrode, if the thermal history above the melting point of the solder particles is given under the reflow heat treatment conditions of lead-free solder, the solder The particles are melted, and the mounted component electrode and the substrate electrode are joined via the Cu alloy particles described above. As a result, the thermal diffusion reaction between the metals proceeds at an accelerated rate, and a new stable alloy phase having a melting point higher than the melting point of the solder particles is formed, and the component electrode and the substrate electrode are connected via the Cu alloy particles. A connection structure is formed.

この新たな安定合金相の融点は、鉛フリーはんだのリフロー熱処理温度より高く、後工程で複数回の熱処理を受けても溶融しない。従って、本実施の形態のはんだペーストによれば、はんだ再溶融によるショートを抑制することができる。   The melting point of this new stable alloy phase is higher than the reflow heat treatment temperature of lead-free solder, and does not melt even when subjected to multiple heat treatments in the subsequent process. Therefore, according to the solder paste of the present embodiment, it is possible to suppress a short circuit due to solder remelting.

第1の電子部品及び第2の電子部品の組合せとしては、基板電極と搭載部品電極との組合せ等が挙げられる。本実施の形態の接続構造体を形成するための第1の電子部品と第2の電子部品との接合方法としては、基板電極にはんだペーストを塗布した後に搭載部品電極を載せてリフロー熱処理により接合する方法、搭載部品電極又は基板電極にはんだペーストを塗布し、リフロー熱処理によるバンプ形成後、搭載部品電極と基板電極とを重ね合せて再度リフロー熱処理で接合する方法等が挙げられる。上記の場合、電極間のはんだ接合により該電極間を接続できる。   Examples of the combination of the first electronic component and the second electronic component include a combination of a substrate electrode and a mounted component electrode. As a method of joining the first electronic component and the second electronic component for forming the connection structure according to the present embodiment, a solder paste is applied to the substrate electrode, and then the mounting component electrode is placed and joined by reflow heat treatment. And a method in which a solder paste is applied to the mounting component electrode or the substrate electrode, bumps are formed by reflow heat treatment, the mounting component electrode and the substrate electrode are overlapped, and then reflow heat treatment is performed again. In the above case, the electrodes can be connected by solder bonding between the electrodes.

リフロー時の熱処理ピーク温度は、好ましくは、240〜260℃の範囲であり、より好ましくは250〜260℃の範囲である。この熱処理時のピーク温度は、典型的には、はんだ粒子の融点以上に設定される。   The heat treatment peak temperature during reflow is preferably in the range of 240 to 260 ° C, more preferably in the range of 250 to 260 ° C. The peak temperature during this heat treatment is typically set to be equal to or higher than the melting point of the solder particles.

特に、本実施の形態に係る鉛フリーはんだを用いて、電子デバイス等の搭載部品電極と基板電極とを接続する場合、はんだ粒子の融点以上の熱履歴が与えられるとはんだ粒子は溶融し、Cu合金粒子とはんだ粒子との間で熱拡散による合金化反応が進み、前述したような、はんだ粒子の融点よりも高い融点を有する安定合金相が形成される。   In particular, when the mounting component electrode such as an electronic device and the substrate electrode are connected using the lead-free solder according to the present embodiment, the solder particles are melted when a thermal history equal to or higher than the melting point of the solder particles is given. The alloying reaction by thermal diffusion proceeds between the alloy particles and the solder particles, and a stable alloy phase having a melting point higher than that of the solder particles as described above is formed.

この新たな安定合金相の融点は、Sn−3.0Ag−0.5Cuから成る鉛フリーはんだの一般的なリフロー熱処理温度(例えば260℃程度)より高く、後工程で複数回の熱処理を受けてもはんだが溶融しない。従って、本実施の形態によれば、はんだの再溶融によって部品電極間で発生するショートを防止することできる。   The melting point of this new stable alloy phase is higher than the general reflow heat treatment temperature (for example, about 260 ° C.) of lead-free solder composed of Sn-3.0Ag-0.5Cu. Even the solder does not melt. Therefore, according to the present embodiment, it is possible to prevent a short circuit occurring between the component electrodes due to remelting of the solder.

一方、本実施の形態の導電性接着剤においては、本実施の形態の金属フィラーを用いることで得られるはんだ接合部の耐熱性、熱的疲労に対する接続信頼性に加え、熱硬化樹脂による接着補完で、より強固な接続を得ることができる。   On the other hand, in the conductive adhesive of the present embodiment, in addition to the heat resistance of the solder joint obtained by using the metal filler of the present embodiment and the connection reliability against thermal fatigue, the adhesion supplement by the thermosetting resin Thus, a stronger connection can be obtained.

<部品搭載基板>
本実施の形態は、基板と、該基板の上に搭載された本実施の形態の接続構造体とを有する部品搭載基板も提供する。上記の部品搭載基板は、好ましくは、電子部品が搭載されている基板であり、そして従来公知の各種の電子機器の製造に従来公知の各種の方法で使用することができる。
<Component mounting board>
The present embodiment also provides a component mounting board having a substrate and the connection structure of the present embodiment mounted on the substrate. The component mounting board is preferably a board on which an electronic component is mounted, and can be used in various conventionally known methods for manufacturing various conventionally known electronic devices.

<部品内蔵モジュール>
本実施の形態は、基板と、該基板の上に搭載された本実施の形態の接続構造体とを有する部品内蔵モジュールも提供する。上記の部品内蔵モジュールは、好ましくは、樹脂封止されたモジュールであり、そして従来公知の各種の電子機器の製造に従来公知の様式で使用することができる。
尚、上述した各種パラメータについては特段の記載のない限り、後述する実施例における測定方法に準じて測定される。
<Component built-in module>
The present embodiment also provides a component built-in module having a substrate and the connection structure of the present embodiment mounted on the substrate. The component-embedded module is preferably a resin-sealed module, and can be used in a conventionally known manner for manufacturing various known electronic devices.
The various parameters described above are measured according to the measurement method in the examples described later unless otherwise specified.

次に実施例及び比較例を挙げて本実施の形態をより具体例に説明するが、本実施の形態はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
各金属粒子及び金属フィラー、並びにはんだペーストの物性は、下記に示す方法で評価した。
Next, the present embodiment will be described more specifically by way of examples and comparative examples. However, the present embodiment is not limited to the following examples as long as it does not exceed the gist thereof.
The physical properties of each metal particle, metal filler, and solder paste were evaluated by the methods shown below.

(a)示差走査熱量測定(DSC)
島津製作所株式会社製「DSC−60」を用い、窒素雰囲気下、昇温温度10℃/分の条件で、温度範囲30〜600℃の範囲で行った。発熱量又は吸熱量が±1.5J/g以上あるものを測定対象物由来のピークとして定量し、それ未満のピークは分析精度の観点から除外した。
(A) Differential scanning calorimetry (DSC)
Using “DSC-60” manufactured by Shimadzu Corporation, the temperature was increased within a temperature range of 30 to 600 ° C. under a nitrogen atmosphere under a temperature rising temperature of 10 ° C./min. Those having an exotherm or endotherm of ± 1.5 J / g or more were quantified as peaks derived from the measurement object, and peaks below that were excluded from the viewpoint of analysis accuracy.

(b)平均粒径
Sympatec社(ドイツ)製レーザー回折式粒子径分布測定装置「HELOS&RODOS」により体積積算平均値を測定し、平均粒径値とした。
(B) Average particle diameter A volume integrated average value was measured by a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus “HELOS & RODOS” manufactured by Sympatec (Germany), and was defined as an average particle diameter value.

(c)粒度分布
Sympatec社(ドイツ)製レーザー回折式粒子径分布測定装置「HELOS&RODOS」を用いて測定した。測定レンジは、累積分布を0.9μmから175μmの範囲で測定できる[R3:0.5/0.9...175μm]を選択し、トリガー条件を乾式標準に設定した後、分散器をRODOSに設定し、分散圧力を3.0barとした。また、計算モードをLDとし、形状係数を1.0とした。HELOS検出器のエレメントが10%以上であることを確認し、測定濃度5〜10%になるようにして行った。
(C) Particle size distribution The particle size distribution was measured using a laser diffraction particle size distribution measuring apparatus “HELOS & RODOS” manufactured by Sympatec (Germany). The measurement range can measure the cumulative distribution in the range of 0.9 μm to 175 μm [R3: 0.5 / 0.9. . . 175 μm] was selected, the trigger condition was set to dry standard, the disperser was set to RODOS, and the dispersion pressure was 3.0 bar. The calculation mode was LD, and the shape factor was 1.0. It was confirmed that the element of the HELOS detector was 10% or more, and the measurement concentration was 5 to 10%.

[実施例1]
(1)Cu合金粒子の製造
Cu6.5kg(純度99.9質量%以上)、Sn1.5kg(純度99.9質量%以上)、Ag1.0kg(純度99.9質量%以上)、Bi0.5kg(純度99.9質量%以上)、In0.5kg(純度99.9量%以上)、及びFe0.001kg(純度99.9質量%以上)をアルミナ坩堝に入れ、真空下において高周波誘導加熱装置により加熱、融解した後、窒素ガスアトマイズにより、Cu合金粒子を作製した。
[Example 1]
(1) Production of Cu alloy particles Cu 6.5 kg (purity 99.9 mass% or more), Sn 1.5 kg (purity 99.9 mass% or more), Ag 1.0 kg (purity 99.9 mass% or more), Bi 0.5 kg (Purity 99.9% by mass or more), In 0.5kg (Purity 99.9% by mass or more), and Fe0.001kg (Purity 99.9% by mass or more) are put in an alumina crucible and are subjected to high-frequency induction heating apparatus in a vacuum. After heating and melting, Cu alloy particles were produced by nitrogen gas atomization.

このCu合金粒子を日清エンジニアリング株式会社製気流式分級機「TC−15N」を用いて、5μm設定で分級し、大粒子側を回収後、再度30μm設定で分級し、小粒子側を回収した。回収したCu合金粒子の平均粒径を測定したところ、11.2μmであった。   The Cu alloy particles were classified at a setting of 5 μm using an airflow classifier “TC-15N” manufactured by Nissin Engineering Co., Ltd. After collecting the large particles, they were classified again at a setting of 30 μm, and the small particles were collected. . When the average particle diameter of the recovered Cu alloy particles was measured, it was 11.2 μm.

次にCu合金粒子の示差走査熱量測定をしたところ、497℃、517℃で吸熱ピークが検出され、複数の融点(即ち493℃及び512℃、何れも融解開始温度:固相線温度)から、複数の合金相の存在を確認することができた。また、251℃、269℃では発熱ピークが検出され、準安定合金相の存在を確認することができた。   Next, when differential scanning calorimetry of the Cu alloy particles was performed, endothermic peaks were detected at 497 ° C. and 517 ° C., and from a plurality of melting points (that is, 493 ° C. and 512 ° C., both melting start temperatures: solidus temperature), The presence of multiple alloy phases could be confirmed. Further, an exothermic peak was detected at 251 ° C. and 269 ° C., and the presence of a metastable alloy phase could be confirmed.

(2)はんだ粒子
はんだ粒子として山石金属株式会社製Sn粒子「Y−Sn100−Q2510」を用いた。このSn粒子の平均粒径を測定したところ、20.4μmであった。
次にSn粒子の示差走査熱量測定をしたところ、242℃で吸熱ピークが検出され、融点232℃(融解開始温度:固相線温度)を有することが確認できた。尚、特徴的な発熱ピークは検出されなかった。
(2) Solder Particles Yamaishi Metal Co., Ltd. Sn particles “Y-Sn100-Q2510” were used as solder particles. The average particle diameter of the Sn particles was measured and found to be 20.4 μm.
Next, when differential scanning calorimetry of the Sn particles was performed, an endothermic peak was detected at 242 ° C., and it was confirmed that it had a melting point of 232 ° C. (melting start temperature: solidus temperature). A characteristic exothermic peak was not detected.

(3)はんだペーストの製造
前記のCu合金粒子とはんだ粒子とを質量比100:186で混合し、金属フィラーとした。
次に金属フィラー89.5質量%とロジン系フラックス10.5質量%とを混合し、株式会社マルコム製ソルダーソフナー「SPS−1」、松尾産業株式会社製脱泡混練機「SNB−350」に順次かけてはんだペーストを作製した。
(3) Production of solder paste The Cu alloy particles and solder particles were mixed at a mass ratio of 100: 186 to obtain a metal filler.
Next, 89.5% by mass of the metal filler and 10.5% by mass of the rosin-based flux are mixed, and this is applied to a solder softener “SPS-1” manufactured by Malcolm Co., Ltd. and a defoaming kneader “SNB-350” manufactured by Matsuo Sangyo Co., Ltd. Solder paste was produced in sequence.

(4)1005R部品接合強度の測定
次に高耐熱エポキシ樹脂ガラス布からなるプリント基板のCu電極上に前記のはんだペーストを印刷塗布し、1005サイズの0Ω抵抗部品(以下、1005Rと表記)を搭載後、窒素雰囲気にて、ピーク温度250℃でリフロー熱処理してサンプルを作製した。印刷パターン形成は、マイクロテック(株)製スクリーン印刷機(MT−320TV)を使用した。印刷マスクはメタル製で、スキージはウレタン製を用いた。マスク開口サイズは、1005R電極部分に合わせて400μm×500μmと設定し、マスク厚みは、0.08mmとした。印刷条件は、速度50mm/秒、印圧0.1MPa、スキージ圧0.2MPa、背圧0.1MPa、アタック角度20°、クリアランス0mm、印刷回数1回とした。
(4) Measurement of 1005R component bonding strength Next, the above solder paste is printed on the Cu electrode of a printed circuit board made of high heat-resistant epoxy resin glass cloth, and a 1005 size 0Ω resistance component (hereinafter referred to as 1005R) is mounted. Thereafter, a reflow heat treatment was performed at a peak temperature of 250 ° C. in a nitrogen atmosphere to prepare a sample. For the printing pattern formation, a screen printer (MT-320TV) manufactured by Microtech Co., Ltd. was used. The printing mask was made of metal, and the squeegee was made of urethane. The mask opening size was set to 400 μm × 500 μm according to the 1005R electrode portion, and the mask thickness was 0.08 mm. The printing conditions were a speed of 50 mm / second, a printing pressure of 0.1 MPa, a squeegee pressure of 0.2 MPa, a back pressure of 0.1 MPa, an attack angle of 20 °, a clearance of 0 mm, and a printing frequency of once.

次に前記のように作製したサンプルの剪断方向の部品接合強度をプッシュ・プルゲージにより、押し速度10mm/分で測定したところ、30点の平均値は8.5Nであった。1005R部品の接合強度は、5N以上あれば十分に実用レベルである。   Next, when the component bonding strength in the shearing direction of the sample produced as described above was measured with a push-pull gauge at a pushing speed of 10 mm / min, the average value of 30 points was 8.5 N. The bonding strength of the 1005R component is sufficiently practical if it is 5N or more.

(5)熱疲労特性の確認
次に熱疲労特性を熱衝撃試験により評価した。
前記のように作製したサンプル(すなわち1005R部品実装サンプル)をエスペック社製「HC−120」に投入し、−40℃、125℃各30分を1サイクルと設定し、3000サイクル終了後に取出して、上記(4)と同様に部品接合強度を測定したところ、30点の平均値は6.9Nであり、接合強度の減少率は18.8%であった。
(5) Confirmation of thermal fatigue characteristics Next, thermal fatigue characteristics were evaluated by a thermal shock test.
The sample produced as described above (that is, 1005R component mounting sample) is put into “HC-120” manufactured by Espec, and -40 ° C., 125 ° C. for 30 minutes each is set as one cycle, and is taken out after the end of 3000 cycles. When the component bonding strength was measured in the same manner as in (4) above, the average value of 30 points was 6.9 N, and the reduction rate of the bonding strength was 18.8%.

(6)260℃強度(耐熱性)の確認
前記のはんだペーストをサイズ25mm×25mm、厚み0.25mmのCu基板上に印刷塗布し、サイズ2mm×2mm、厚み0.5mmのCuチップを搭載後、窒素雰囲気にて、ピーク温度250℃でリフロー熱処理してサンプルを作製した。
(6) Confirmation of 260 ° C. strength (heat resistance) After the above solder paste is printed on a Cu substrate having a size of 25 mm × 25 mm and a thickness of 0.25 mm, and a Cu chip having a size of 2 mm × 2 mm and a thickness of 0.5 mm is mounted A sample was prepared by reflow heat treatment at a peak temperature of 250 ° C. in a nitrogen atmosphere.

熱処理装置は、株式会社マルコム製リフローシミュレータ「SRS−1C」を使用した。温度プロファイルは、熱処理開始(常温)から140℃までを1.5℃/秒で昇温し、140℃から170℃までを110秒かけて徐々に昇温後、170℃から250℃までを2.0℃/秒で昇温し、ピーク温度250℃で15秒間保持する条件を採用した。   The heat treatment apparatus used was a reflow simulator “SRS-1C” manufactured by Malcolm Corporation. The temperature profile was raised from the start of heat treatment (room temperature) to 140 ° C. at 1.5 ° C./second, gradually increased from 140 ° C. to 170 ° C. over 110 seconds, and then from 170 ° C. to 250 ° C. The temperature was raised at a rate of 0.0 ° C./second, and the conditions were maintained at a peak temperature of 250 ° C. for 15 seconds.

印刷パターン形成は、マイクロテック株式会社製スクリーン印刷機「MT−320TV」を用いた。印刷マスクはメタル製で、スキージはウレタン製を用いた。印刷マスク開口サイズは2mm×3.5mmとし、厚みは0.1mmとした。印刷条件は、速度50mm/秒、印圧0.1MPa、スキージ圧0.2MPa、背圧0.1MPa、アタック角度20°、クリアランス0mm、及び印刷回数1回とした。   For the printing pattern formation, a screen printer “MT-320TV” manufactured by Microtech Co., Ltd. was used. The printing mask was made of metal, and the squeegee was made of urethane. The printing mask opening size was 2 mm × 3.5 mm, and the thickness was 0.1 mm. The printing conditions were a speed of 50 mm / second, a printing pressure of 0.1 MPa, a squeegee pressure of 0.2 MPa, a back pressure of 0.1 MPa, an attack angle of 20 °, a clearance of 0 mm, and a printing frequency of once.

次に常温(25℃)で、前記のように作製したサンプルをホットプレート上で260℃に加熱し、1分間保持した後、剪断方向のチップ接合強度をプッシュ・プルゲージにより、押し速度10mm/分で測定し、単位面積換算した。30個の平均値は1.7MPaであり、260℃でも接合強度を保持できる耐熱性を確認した。   Next, at room temperature (25 ° C.), the sample prepared as described above was heated to 260 ° C. on a hot plate and held for 1 minute, and then the chip bonding strength in the shear direction was pushed by a push / pull gauge at a pushing speed of 10 mm / min. And measured in terms of unit area. The average value of 30 pieces was 1.7 MPa, and heat resistance capable of maintaining the bonding strength even at 260 ° C. was confirmed.

[実施例2〜3、比較例1、2]
実施例1記載のCu合金粒子の組成を変えた混合体を金属フィラーとして、実施例1と同様にペースト化、及びサンプル作製を行い、各評価を実施した。結果を表1に実施例2〜3、並びに比較例1及び2として示す。
[Examples 2 and 3, Comparative Examples 1 and 2]
Using the mixture in which the composition of the Cu alloy particles described in Example 1 was changed as a metal filler, pasting and sample preparation were performed in the same manner as in Example 1, and each evaluation was performed. The results are shown in Table 1 as Examples 2-3 and Comparative Examples 1 and 2.

尚、比較例1におけるCu合金粒子のFe含有率(5ppm)は、窒素ガスアトマイズにおいて原料金属として配合したものではなく、Sn及びBi原料由来の不純物である。尚、金属組成は、ICP発光分析法により測定した。   In addition, the Fe content (5 ppm) of the Cu alloy particles in Comparative Example 1 is not a compound as a raw material metal in nitrogen gas atomization, but is an impurity derived from Sn and Bi raw materials. The metal composition was measured by ICP emission analysis.

表1から判るように、Feを本発明所定の量含有する場合(実施例1〜3)では、熱衝撃試験における接合強度低下(すなわち表中の減少率)が、比較例1に比べ約25〜30%改善されている。また、260℃に加熱した状態において、0.2MPa以上の接合強度があり、接続状態を保持する十分な耐熱性が確認された。   As can be seen from Table 1, in the case where Fe is contained in a predetermined amount of the present invention (Examples 1 to 3), the bonding strength decrease in the thermal shock test (that is, the reduction rate in the table) is about 25 compared with Comparative Example 1. ~ 30% improvement. Moreover, in the state heated to 260 degreeC, there existed joint strength of 0.2 Mpa or more, and sufficient heat resistance which hold | maintains a connection state was confirmed.

[実施例4]
実施例2におけるはんだ粒子の代わりに山石金属株式会社製Sn−3.5Ag粒子「Y−SnAg3.5−Q2510」を用いた。この粒子の平均粒径を測定したところ、20.1μmであった。次にこの粒子の示差走査熱量測定をしたところ、融点221℃(融解開始温度:固相線温度)を有することが確認できた。尚、特徴的な発熱ピークは検出されなかった。この粒子を用いて実施例1と同様にペースト化及びサンプル作製を行い、各評価を実施した。結果を表2に示す。
[Example 4]
Instead of the solder particles in Example 2, Yamauchi Metal Co., Ltd. Sn-3.5Ag particles “Y-SnAg3.5-Q2510” were used. The average particle size of the particles was measured and found to be 20.1 μm. Next, when differential scanning calorimetry of the particles was performed, it was confirmed that the particles had a melting point of 221 ° C. (melting start temperature: solidus temperature). A characteristic exothermic peak was not detected. Using these particles, pasting and sample preparation were performed in the same manner as in Example 1, and each evaluation was performed. The results are shown in Table 2.

[実施例5]
実施例2におけるはんだ粒子の代わりに山石金属株式会社製Sn−3.0Ag−0.5Cu粒子「Y−SnAg3Cu0.5−Q2510」を用いた。この粒子の平均粒径を測定したところ、20.2μmであった。次にこの粒子の示差走査熱量測定をしたところ、融点217℃(融解開始温度:固相線温度)を有することが確認できた。尚、特徴的な発熱ピークは検出されなかった。この粒子を用いて実施例1と同様にペースト化及びサンプル作製を行い、各評価を実施した。結果を表2に示す。
[Example 5]
Instead of the solder particles in Example 2, Sn-3.0Ag-0.5Cu particles “Y-SnAg3Cu0.5-Q2510” manufactured by Yamaishi Metal Co., Ltd. were used. The average particle size of the particles was measured and found to be 20.2 μm. Next, when differential scanning calorimetry of the particles was performed, it was confirmed that the particles had a melting point of 217 ° C. (melting start temperature: solidus temperature). A characteristic exothermic peak was not detected. Using these particles, pasting and sample preparation were performed in the same manner as in Example 1, and each evaluation was performed. The results are shown in Table 2.

表2から判るように、本実施の形態において、はんだ粒子を変えた場合でも、同様の効果が奏されることが確認された。   As can be seen from Table 2, in the present embodiment, it was confirmed that the same effect was exhibited even when the solder particles were changed.

[実施例6〜10、比較例3]
実施例2におけるCu合金粒子とはんだ粒子との混合比を変えた混合体を金属フィラーとして、実施例1と同様にペースト化及びサンプル作製を行い、各評価を実施した。結果を表3に実施例6〜10、及び比較例3として示す。
[Examples 6 to 10, Comparative Example 3]
Using the mixture in which the mixing ratio of Cu alloy particles and solder particles in Example 2 was changed as a metal filler, pasting and sample preparation were performed in the same manner as in Example 1, and each evaluation was performed. The results are shown in Table 3 as Examples 6 to 10 and Comparative Example 3.

表1〜3から判るように、260℃に加熱した状態において、比較例3では、はんだ接合部が溶融して強度が得られないのに対し、実施例1〜10では、0.2MPa以上の接合強度があり、接続状態を保持する十分な耐熱性が確認された。   As can be seen from Tables 1 to 3, in Comparative Example 3, the solder joint was melted and the strength was not obtained in the state heated to 260 ° C., whereas in Examples 1 to 10, the pressure was 0.2 MPa or more. There was bonding strength, and sufficient heat resistance to maintain the connected state was confirmed.

[実施例11]
Cu9.99kg(純度99.9質量%以上)、及びFe0.01kg(純度99.9質量%以上)をアルミナ坩堝に入れ、真空下において高周波誘導加熱装置により加熱、融解した後、窒素ガスアトマイズにより、Cu合金粒子を作製した。
[Example 11]
Cu 9.9 kg (purity 99.9% by mass or more) and Fe 0.01 kg (purity 99.9% by mass or more) were put in an alumina crucible, heated and melted by a high-frequency induction heating device under vacuum, and then by nitrogen gas atomization. Cu alloy particles were prepared.

このCu合金粒子を日清エンジニアリング株式会社製気流式分級機「TC−15N」を用いて、20μm設定で分級し、大粒子側を回収後、再度30μm設定で分級し、小粒子側を回収した。回収したCu合金粒子の平均粒径を測定したところ、15.4μmであった。なお、この粒子はほぼCu100質量%であるため、示差走査熱量測定の温度範囲(30〜600℃)では吸熱ピーク及び発熱ピークを有さない。   The Cu alloy particles were classified using an airflow classifier “TC-15N” manufactured by Nissin Engineering Co., Ltd. at a setting of 20 μm, and after collecting the large particles, they were classified again at a setting of 30 μm, and the small particles were collected. . The average particle diameter of the recovered Cu alloy particles was measured and found to be 15.4 μm. In addition, since this particle | grain is about 100 mass% of Cu, it does not have an endothermic peak and an exothermic peak in the temperature range (30-600 degreeC) of differential scanning calorimetry.

このCu合金粒子を実施例1におけるCu合金粒子の代りに用いて、実施例1と同様にペースト化及びサンプル作製を行い、各評価を実施した。結果を表4に示す。   Using the Cu alloy particles instead of the Cu alloy particles in Example 1, pasting and sample preparation were performed in the same manner as in Example 1, and each evaluation was performed. The results are shown in Table 4.

[実施例12〜17]
実施例11におけるCu合金粒子の組成を変えた混合体を金属フィラーとして用い、実施例11と同様にペースト化及びサンプル作製を行い、各評価を実施した。結果を表4に示す。
表4から判るように、本実施の形態において、Cu合金粒子として、異なる種類のCu主成分の合金粒子を用いた場合でも、Niを含有した場合でも同様の効果が奏されることが確認された。
[Examples 12 to 17]
Using the mixture in which the composition of the Cu alloy particles in Example 11 was changed as the metal filler, pasting and sample preparation were performed in the same manner as in Example 11, and each evaluation was performed. The results are shown in Table 4.
As can be seen from Table 4, in the present embodiment, it is confirmed that the same effect can be obtained when Cu alloy particles of different types of Cu main component are used or when Ni is contained. It was.

Figure 0006002947
Figure 0006002947

Figure 0006002947
Figure 0006002947

Figure 0006002947
Figure 0006002947

Figure 0006002947
Figure 0006002947

本発明は、電子部品、電子デバイス等のはんだ接合に使用される金属フィラー及びそれを含むはんだペースト又は導電性接着剤を提供する。本発明は、後工程で複数回の熱処理を受ける用途(例えば、部品内蔵モジュール等の電子デバイスに用いられる接続材料)に好適に適用される。   The present invention provides a metal filler used for solder joining of electronic components, electronic devices and the like, and a solder paste or a conductive adhesive containing the same. The present invention is preferably applied to an application (for example, a connection material used for an electronic device such as a component built-in module) that undergoes a plurality of heat treatments in a subsequent process.

Claims (7)

Cu合金粒子とはんだ粒子との混合体からなる金属フィラーであって、前記混合体は、Cu合金粒子100質量部に対してはんだ粒子を54〜567質量部含み、
前記Cu合金粒子は、Sn、Ag、Bi、In及びGeからなる群より選ばれる1種以上の元素を1〜50質量%、Ni、Fe及びCoからなる群より選ばれる1種以上の元素を0.01〜1質量%、残部がCuからなるCu合金粒子であり、
前記はんだ粒子が、Sn粒子、又はSn90質量%以上を含有するSn合金粒子である、ことを特徴とする金属フィラー。
A metal filler comprising a mixture of Cu alloy particles and solder particles, wherein the mixture includes 54 to 567 parts by mass of solder particles with respect to 100 parts by mass of Cu alloy particles,
The Cu alloy particles contain 1 to 50% by mass of one or more elements selected from the group consisting of Sn, Ag, Bi, In and Ge, and one or more elements selected from the group consisting of Ni, Fe and Co. 0.01-1% by mass , the balance being Cu alloy particles made of Cu,
The metal filler , wherein the solder particles are Sn particles or Sn alloy particles containing Sn 90 mass% or more .
前記Cu合金粒子が、Sn13.5〜16.5質量%、Ag0.1〜10質量%、Bi4.5〜5.5質量%、In0.1〜5質量%、Fe0.01〜1質量%、及び残部CuからなるCu合金粒子、又はSn13.5〜16.5質量%、Ag9〜11質量%、Bi4.5〜5.5質量%、Ge0.1〜5質量%、Fe0.01〜1質量%、及び残部CuからなるCu合金粒子、又はSn1〜25質量%、Fe0.01〜1質量%、及び残部CuからなるCu合金粒子である、請求項1に記載の金属フィラー。 The Cu alloy particles are Sn 13.5 to 16.5% by mass, Ag 0.1 to 10% by mass, Bi 4.5 to 5.5% by mass, In 0.1 to 5% by mass, Fe 0.01 to 1% by mass, And Cu alloy particles composed of the remaining Cu, or Sn 13.5 to 16.5% by mass, Ag 9 to 11% by mass, Bi 4.5 to 5.5% by mass, Ge 0.1 to 5% by mass, Fe 0.01 to 1% by mass The metal filler according to claim 1, which is Cu alloy particles made of Cu and the balance Cu, or Cu alloy particles made of Sn 1 to 25 mass%, Fe 0.01 to 1 mass%, and the balance Cu. 請求項1又は2に記載の金属フィラーを含む、はんだペースト。 To claim 1 or 2 containing a metal filler described, the solder paste. 請求項1又は2に記載の金属フィラーを含み、リフロー熱処理される導電性接着剤。 Conductive adhesive seen including, reflowed heat treated metal filler according to claim 1 or 2. 請求項に記載のはんだペースト又は請求項に記載の導電性接着剤により第1の電子部品と第2の電子部品とを接合したはんだ接合部を有し、前記はんだ接合部は、前記はんだ粒子の融点よりも高融点の安定合金相が形成されている、接続構造体。 It has the solder joint which joined the 1st electronic component and the 2nd electronic component with the solder paste according to claim 3 , or the conductive adhesive according to claim 4 , and the solder joint is the solder A connection structure in which a stable alloy phase having a melting point higher than the melting point of the particles is formed . 基板と、前記基板の上に搭載された請求項に記載の接続構造体とを有する、部品搭載基板。 A component mounting board comprising: a board; and the connection structure according to claim 5 mounted on the board. 基板と、前記基板の上に搭載された請求項に記載の接続構造体とを有する、部品内蔵モジュール。
The component built-in module which has a board | substrate and the connection structure of Claim 5 mounted on the said board | substrate.
JP2012169584A 2012-07-31 2012-07-31 Metal filler, solder paste, and connection structure Active JP6002947B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012169584A JP6002947B2 (en) 2012-07-31 2012-07-31 Metal filler, solder paste, and connection structure

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012169584A JP6002947B2 (en) 2012-07-31 2012-07-31 Metal filler, solder paste, and connection structure

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2014028380A JP2014028380A (en) 2014-02-13
JP6002947B2 true JP6002947B2 (en) 2016-10-05

Family

ID=50201368

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012169584A Active JP6002947B2 (en) 2012-07-31 2012-07-31 Metal filler, solder paste, and connection structure

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6002947B2 (en)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2015079844A1 (en) * 2013-11-29 2015-06-04 株式会社村田製作所 Method for generating intermetallic compound, and method for connecting articles to be connected by using intermetallic compound
WO2016039056A1 (en) * 2014-09-09 2016-03-17 株式会社村田製作所 Metal composition and bonding material
JP5876609B1 (en) * 2015-08-05 2016-03-02 山陽特殊製鋼株式会社 Conductive filler powder
CN110140206A (en) * 2016-12-19 2019-08-16 拓自达电线株式会社 Conductive paste
CN114340834A (en) * 2019-09-02 2022-04-12 日本斯倍利亚社股份有限公司 Solder paste and solder joint
JP2023000704A (en) 2021-06-18 2023-01-04 パナソニックIpマネジメント株式会社 Conductive paste and conductive film formed using the same

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002161259A (en) * 2000-09-07 2002-06-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd Electro-conductive adhesive, electronics packaging structure, and method for fabricating electronics packaging structure
WO2003021664A1 (en) * 2001-08-31 2003-03-13 Hitachi, Ltd. Semiconductor device, structural body and electronic device
WO2011027659A1 (en) * 2009-09-03 2011-03-10 株式会社村田製作所 Soldering paste, bonding method using same, and bonding structure
JP5699472B2 (en) * 2010-07-27 2015-04-08 富士通株式会社 Solder material, manufacturing method thereof, and manufacturing method of semiconductor device using the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014028380A (en) 2014-02-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5166261B2 (en) Conductive filler
JP4667455B2 (en) Conductive filler and solder material
EP0655961B1 (en) Tin-bismuth solder paste and method of use
JP5643972B2 (en) Metal filler, low-temperature connection lead-free solder, and connection structure
JP6002947B2 (en) Metal filler, solder paste, and connection structure
JP5584909B2 (en) Connection structure
JP2012250240A (en) Metal filler, solder paste, and connected structure
JP4667103B2 (en) Conductive filler and low-temperature solder material
JP2011147982A (en) Solder, electronic component, and method for manufacturing the electronic component
JP5975377B2 (en) Metal filler, solder paste, and connection structure
JP5188999B2 (en) Metal filler and solder paste
JP4703581B2 (en) Conductive filler and solder paste
JP5724088B2 (en) Metal filler and lead-free solder containing the same
JP5147349B2 (en) Bump forming paste and bump structure
JP2014072398A (en) Semiconductor device and manufacturing method of the same
JP5609774B2 (en) Ternary alloy particles
JP2012250239A (en) Metal filler, solder paste, and connected structure
JP2008027588A (en) Conductive filler, and intermediate-temperature soldering material
KR102069276B1 (en) Electronic parts soldering cream and method thereof
JP2011041979A (en) Lead-free joining material, and method for producing the same
JP2011062752A (en) Conductive filler, and low-temperature solder material

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20150624

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20160224

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20160401

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20160531

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20160715

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20160809

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6002947

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250