JP5641427B2 - 顕微鏡装置及び観察方法 - Google Patents
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Description
min(F1) > 2NA/λ …(1)
min(F2) > 2NA/λ …(2)
max(F1−F2) < 2NA/λ …(3)
r max /Fθ < M・λ/2NA
また、前記第1回折格子および前記第2回折格子は、前記結像光学系の焦点深度内に互いに近接して設置されていることが好ましい。
min(F1) > 2NA/λ …(1)
min(F2) > 2NA/λ …(2)
max(F1−F2) < 2NA/λ …(3)
転回折格子82とを介して第2対物レンズ9へ入射し、平行光に変換された後、対物レンズ10を介して標本11上に固定回折格子81と回転回折格子のモアレ像23を形成する。標本11は、空間変調された照明光であるモアレ像23によって照明(構造化照明)される。このとき、対物レンズ10の後側焦点面には光源像32が形成される。
min(F2)>2NA/λ …(2)
max(F1−F2)<2NA/λ …(3)
子である。固定回折格子81の空間変調パターンは、固定回折格子81と回転回折格子82とで生成されるモアレ像23が特定の一方向に周期を持った像(例えば、図4参照)となるように作成された空間変調パターンとなっている。
空間変調パターンが持つ波数ベクトルをK2(x,y)、構造化照明に必要なモアレ像が
持つ波数ベクトルをKm(x,y)としたとき、波数ベクトルKm(x,y)は次式(4)又は(5)で表せる。
Km(x,y)=K2(x,y)−K1(x,y) …(5)
次式(6)と表せる。
y)ではなく空間変調像位相のみが変化するものとなっていなければならないので、放射状の空間変調パターンとなる。回転中心を原点とする極座標表示(r,θ)でその空間変調パターンを表すと、rには依存せず、θのみの関数となる。回転方向の空間周波数をFθとすると、回転回折格子82を通過する光の空間変調像位相φ1(θ)が、φ1(θ)=πcos2π(Fθ・θ)となるようにしておく。なお、このとき空間変調パターンが実際
に使用される領域の外周部rmaxにおいて回折格子の周期がrmaxωとなる。そのため、周期rmaxωの回折格子によって標本11形成される空間変調パターンが解像限界以下とな
るようにrmaxとFθの値を設定する。
(θ)はφ1(θ)=acos(ωtan-1(y/x))である。上記ではφ1(θ)が連続的に変化するものとしたが、同一周期で空間変調像位相変化が0とaとなるような2値の変化でもかまわない。また、aの値は必要な回折ビームの0次光と1次光の強度比を勘案して決めればよい。0次光が不要であればaの値はπである。
,y)と所望のモアレ像が持つ波数ベクトルKm(x,y)から、固定回折格子81の空
間変調パターンが持つ波数ベクトルK1(x,y)は上述の式(3)のようにK1(x,y)=K2(x,y)±Km(x,y)の関係となるように設計すればよい。そして、上記の
式で決定された波数ベクトルK1(x,y)を使って、次式(7)で表せる空間変調像位
相分布を持った固定回折格子81を設計製作すればよい。
像中の位置ベクトルを示す。
小さいと近似すると、次式(10)と表せる。
となる。また、回転回折格子82の回転速度として、毎秒m/(2π2FθT)以上が必
要であると表すことができる。
ると、その半径上のある点における回折格子の周期はrmax/Fθである。この周期は、開口数NAの対物レンズ10を含む照明光学系LS1により空間変調された照明を1/M倍で標本11上に投影しようとしたときに解像限界以下となっている必要があるため、照明光の波長をλexとすると、rmax/Fθ<M(λex)/(2NA)となる。
ターンを持った回転回折格子82を、毎秒m/(2π2FθT)回転で、第2のモータ2
7により回転させればよい。なお、回転速度は理想的には撮像素子25の階調数に応じて決まるが、顕微鏡に搭載した撮像素子25にかかわらず、階調数m=100と仮定した回転速度以上で回転させれば、本発明の効果を得ることができる。
であることが好ましい。
になっている。
3 レンズ 4 励起フィルタ
5 ダイクロイックミラー 6 バリアフィルタ
7 レンズ
81 固定回折格子(第1の素子) 82 回転回折格子(第2の素子)
83 リング状回折格子
9 第2対物レンズ 10 対物レンズ
11 標本 12 レンズ
25 撮像素子 26 第1のモータ
27 第2のモータ (位相変化手段) 28 回転機構
42 制御・演算装置(画像処理手段) 43 画像表示装置
LS1 照明光学系 LS2 観察光学系
LS21 結像光学系 LS22 リレー光学系
M1 顕微鏡装置(第1実施形態)
M2 顕微鏡装置(第2実施形態)
Claims (18)
- 光源から射出された光の空間周波数を変調する空間変調素子を有し、前記空間変調素子によって形成される空間変調像を標本に照明する照明光学系と、
前記照明光学系により照明された前記標本からの光を前記空間変調素子上に中間像として結像させる結像光学系と、
前記中間像をリレーするリレー光学系と、
前記リレー光学系によりリレーされた前記中間像を撮像する撮像装置と、
前記標本を照明する前記空間変調像の空間変調像位相を変化させる位相変化手段とを有する顕微鏡装置であって、
前記空間変調素子は、前記結像光学系に関して前記標本と共役な位置において前記結像光学系の光軸に沿って近接して配置された第1回折格子および第2回折格子から構成され、
前記第2回折格子は、前記結像光学系の光軸に対して平行な回転軸を中心に回転可能に構成され、
前記照明光学系の開口数をNA、前記光源から射出された光の波長をλ、前記第1回折格子が有する第1回折格子パターンにより形成された空間変調像の空間周波数をF1、前記第2回折格子が有する第2回折格子パターンにより形成された空間変調像の空間周波数をF2、空間周波数Fの絶対値の最小値および最大値を夫々min(F)およびmax(F)としたとき、空間周波数F1および空間周波数F2が以下の条件式を満足するように前記第1回折格子パターンおよび前記第2回折格子パターンが構成され、
min(F1) > 2NA/λ
min(F2) > 2NA/λ
max(F1−F2) < 2NA/λ
前記位相変化手段は、前記回転軸を中心に前記第2回折格子を回転させることにより、前記第1回折格子および前記第2回折格子により形成される前記空間変調像の空間変調像位相を変化させることを特徴とする顕微鏡装置。 - 前記第2回折格子パターンは、前記回転軸に対して回転対称な放射状のパターンによって構成され、前記第2回折格子パターンの回転方向の空間周波数をFθ、前記第2回折格子上の顕微鏡視野に相当する領域において最も外側の半径をr max 、前記照明光学系の開口数をNA、前記光源から射出された光の波長をλ、前記照明光学系により空間変調像を1/M倍で前記標本に照明したとき、以下の条件式を満足するように前記第2回折格子パターンが設定されることを特徴とする請求項1に記載の顕微鏡装置。
r max /Fθ < M・λ/2NA - 前記第1回折格子パターンは、同一の繰り返し周期で、繰り返し方向が互いに異なるパターンを少なくとも3つ有することを特徴とする請求項1または2に記載の顕微鏡装置。
- 前記第1回折格子および前記第2回折格子は、前記結像光学系の焦点深度内に互いに近接して設置されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。
- 前記第1回折格子および前記第2回折格子は、前記光源から射出された光の空間周波数を変調するための連続した回折格子パターンを夫々有し、
前記中間像を撮像する撮像時間をT、前記空間変調像の空間周波数をFθ、前記撮像装置の階調数をmとしたとき、前記第2回折格子は、毎秒m/(2π2FθT)以上の回転数で回転されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。 - 前記第1回折格子および前記第2回折格子は、前記光源から射出された光の空間周波数を変調するための連続した回折格子パターンを夫々有し、
前記中間像を撮像する撮像時間をT、前記空間変調像の空間周波数をFθとしたとき、前記第2回折格子は、毎秒100/(2π2FθT)以上の回転数で回転されることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。 - 前記回折格子は、位相型の回折格子であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。
- 前記回折格子は、濃度型の回折格子であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。
- 前記撮像装置により撮像された前記中間像から前記標本の画像を生成する画像処理手段を有することを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。
- 前記リレー光学系によりリレーされた前記中間像を観察するための接眼レンズを有することを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の顕微鏡装置。
- 光源から射出された光の空間周波数を空間変調素子によって変調し、前記空間変調素子によって形成された空間変調像を照明光学系により標本に照明し、
前記照明光学系により照明された前記標本からの光を結像光学系により前記空間変調素子上に中間像を結像し、
リレー光学系により前記中間像をリレーし、
前記リレー光学系によりリレーされた前記中間像を撮像装置により撮像し、
前記標本を照明する前記空間変調像の空間変調像位相を位相変化手段により変化させ、
前記空間変調素子は、前記結像光学系に関して前記標本と共役な位置において前記結像光学系の光軸に沿って近接して配置された第1回折格子および第2回折格子から構成され、
前記第2回折格子は、前記結像光学系の光軸に対して平行な回転軸を中心に回転可能に構成され、
前記照明光学系の開口数をNA、前記光源から射出された光の波長をλ、前記第1回折格子が有する第1回折格子パターンにより形成された空間変調像の空間周波数をF1、前記第2回折格子が有する第2回折格子パターンにより形成された空間変調像の空間周波数をF2、空間周波数Fの絶対値の最小値および最大値を夫々min(F)およびmax(F)としたとき、空間周波数F1および空間周波数F2が以下の条件式を満足するように前記第1回折格子パターンおよび前記第2回折格子パターンが構成され、
min(F1) > 2NA/λ
min(F2) > 2NA/λ
max(F1−F2) < 2NA/λ
前記位相変化手段は、前記第1回折格子および前記第2回折格子により形成される前記空間変調像の空間変調像位相を、前記回転軸を中心に前記第2回折格子を回転させることにより変化させることを特徴とする観察方法。 - 前記第2回折格子パターンは、前記回転軸に対して回転対称な放射状のパターンによって構成され、前記第2回折格子パターンの回転方向の空間周波数をFθ、前記第2回折格子上の顕微鏡視野に相当する領域において最も外側の半径をr max 、前記照明光学系の開口数をNA、前記光源から射出された光の波長をλ、前記照明光学系により空間変調像を1/M倍で前記標本に照明したとき、以下の条件式を満足するように前記第2回折格子パターンが設定されることを特徴とする請求項11に記載の観察方法。
r max /Fθ < M・λ/2NA - 前記第1回折格子パターンは、同一の繰り返し周期で、繰り返し方向が互いに異なるパターンを少なくとも3つ有することを特徴とする請求項11または12に記載の観察方法。
- 前記第1回折格子および前記第2回折格子は、前記結像光学系の焦点深度内に互いに近接して設置されていることを特徴とする請求項11〜13のいずれか一項に記載の観察方法。
- 前記第1回折格子および前記第2回折格子は、前記光源から射出された光の空間周波数を変調するための連続した回折格子パターンを夫々有し、
前記中間像を撮像する撮像時間をT、前記空間変調像の空間周波数をFθ、前記撮像装置の階調数をmとしたとき、前記第2回折格子は、毎秒m/(2π2FθT)以上の回転数で回転されることを特徴とする請求項11〜14のいずれか一項に記載の観察方法。 - 前記第1回折格子および前記第2回折格子は、前記光源から射出された光の空間周波数を変調するための連続した回折格子パターンを夫々有し、
前記中間像を撮像する撮像時間をT、前記空間変調像の空間周波数をFθとしたとき、
前記第2回折格子は、毎秒100/(2π2FθT)以上の回転数で回転されることを特徴とする請求項11〜14のいずれか一項に記載の観察方法。 - 前記回折格子は、位相型の回折格子であることを特徴とする請求項11〜16のいずれか一項に記載の観察方法。
- 前記回折格子は、濃度型の回折格子であることを特徴とする請求項11〜16のいずれか一項に記載の観察方法。
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