JP5634216B2 - ガス供給システム - Google Patents
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- 第1のガスラインと第2のガスラインとを有し、いずれか一方のガスラインを介して原料ガスを流すと共に、いずれか他方にパージガスを供給して第1及び第2の両ガスライン内のガス流量が同等に保持されるようにしたガス供給システムであって、
原料が夫々収納される複数の容器と、
各容器にプッシングガスを供給するプッシングガスラインと、このプッシングガスラインから分岐された、プッシングガスの流量制御を行う流量制御手段を有するプッシングガス分岐ラインと、
プッシングガスの容器内への導入により容器内からの原料ガスを導く原料ガスラインと、第1のガスラインと第2のガスラインとの間で原料ガスの導入を切換える切換手段と、を備えたものにおいて、
各原料ガスラインを2本に分岐し、分岐した原料ガス分岐ラインに前記切換手段を夫々介設し、各切換手段の二次側を集合ガスラインに合流させて、集合ガスラインと第1及び第2の両ガスラインとの間に、一次圧を制御し得るレギュレータを夫々介設し、
前記切換手段は、原料ガスの供給をオンオフ制御する開閉弁であり、各開閉弁を同一平面内に配置し、切換手段から集合ガスラインまでの各原料ガス分岐ラインの長さを同等としたことを特徴とするガス供給システム。 - 前記プッシングガスラインと集合ガスラインとの間に、他の流量制御手段を有するカウンターガスラインを介設したことを特徴とする請求項1記載のガス供給システム。
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