JP5630774B1

JP5630774B1 - Transparent sheet and transparent touch panel

Info

Publication number: JP5630774B1
Application number: JP2013118630A
Authority: JP
Inventors: 山下　淳; 淳山下
Original assignee: Gunze Ltd
Current assignee: Gunze Ltd
Priority date: 2013-06-05
Filing date: 2013-06-05
Publication date: 2014-11-26
Anticipated expiration: 2033-06-05
Also published as: JP2014235684A

Abstract

【課題】視認性を向上させることができる透明面状体及び透明タッチパネルを提供する。【解決手段】透明基板１１，２１の少なくとも一方面側にパターニングされた透明導電膜層１２，２２を有する透明面状体１，２であって、前記透明基板と前記透明導電膜層との間に、前記透明導電膜層側から第１薄膜層１３，２３、第２薄膜層１４，２４及びハードコート層１５，２５が積層されており、前記透明導電膜層、前記第１薄膜層、前記第２薄膜層および前記ハードコート層は、それぞれについて規定された膜厚と光屈折率とを有し、パターン形成領域と非パターン形成領域とにおいて照射される光の反射率の差に関し、波長３８０〜４００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第１反射率平均値と、波長５００〜８００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第２反射率平均値との差の絶対値を０．７以下とする。【選択図】図１A transparent planar body and a transparent touch panel capable of improving visibility are provided. A transparent planar body 1, 2 having transparent conductive film layers 12, 22 patterned on at least one surface side of transparent substrates 11, 21, between the transparent substrate and the transparent conductive film layer. The first thin film layers 13, 23, the second thin film layers 14, 24, and the hard coat layers 15, 25 are laminated from the transparent conductive film layer side, and the transparent conductive film layer, the first thin film layer, Each of the second thin film layer and the hard coat layer has a film thickness and a light refractive index defined for each, and the wavelength 380 is related to a difference in reflectance of light irradiated between the pattern formation region and the non-pattern formation region. The absolute value of the difference between the first reflectance average value that is the average value of each reflectance difference at ˜400 nm and the second reflectance average value that is the average value of each reflectance difference at wavelengths of 500 to 800 nm is 0.7. The following. [Selection] Figure 1

Description

本発明は、透明面状体及び透明タッチパネルに関する。 The present invention relates to a transparent sheet and a transparent touch panel.

入力位置を検出するためのタッチパネルの構成は、従来から種々検討されているが、一例として静電容量式のタッチパネルが知られている。例えば、特許文献１に開示されたタッチパネルは、それぞれ所定のパターン形状を有する透明導電膜層を備えた一対の透明面状体の間に誘電体層が介在されて構成されており、指などが操作面に触れると、人体を介して接地されることによる静電容量の変化を利用して、タッチ位置を検出することができる。 Various configurations of a touch panel for detecting an input position have been conventionally studied. As an example, a capacitive touch panel is known. For example, the touch panel disclosed in Patent Document 1 is configured by interposing a dielectric layer between a pair of transparent planar bodies each having a transparent conductive film layer having a predetermined pattern shape. When the operation surface is touched, the touch position can be detected by utilizing the change in capacitance caused by being grounded via the human body.

特開２００３−１７３２３８号公報（図１、図５）JP2003-173238A (FIGS. 1 and 5)

上述したタッチパネルは、液晶表示装置やＣＲＴなどの表面に装着して用いられるが、透明面状体に形成された透明導電膜層のパターン形状が目立ってしまい、視認性の低下を招いていた。 The touch panel described above is used by being mounted on the surface of a liquid crystal display device, a CRT or the like, but the pattern shape of the transparent conductive film layer formed on the transparent sheet is conspicuous, leading to a decrease in visibility.

そこで、本発明は、視認性を向上させることができる透明面状体及び透明タッチパネルの提供を目的とする。 Then, an object of this invention is to provide the transparent planar body and transparent touch panel which can improve visibility.

本発明の上記目的は、透明基板の少なくとも一方面側にパターニングされた透明導電膜層を有する透明面状体であって、前記透明基板と前記透明導電膜層との間に、前記透明導電膜層側から第１薄膜層、第２薄膜層及びハードコート層が積層されており、前記第２薄膜層の膜厚は、前記第１薄膜層の膜厚よりも大きくなるように形成されており、前記透明導電膜層は、その膜厚が１５ｎｍ以上３８ｎｍ以下、光屈折率が１．９以上２．３以下であり、前記第１薄膜層は、その膜厚が２ｎｍ以上２５ｎｍ以下、光屈折率が１．３以上１．５５以下であり、前記第２薄膜層は、その膜厚が３８ｎｍ以上７５ｎｍ以下、光屈折率が１．６以上１．９以下であり、前記ハードコート層は、その膜厚が１μｍ以上７μｍ以下、光屈折率が１．６以上１．８以下であり、前記透明基板の一方面側から前記透明導電膜層が形成されているパターン形成領域に照射される光の波長毎の反射率、及び、前記透明基板の一方面側から前記透明導電膜層が形成されていない非パターン形成領域に照射される光の波長毎の反射率の差に関し、波長３８０ｎｍから４００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第１反射率平均値と、波長５００ｎｍから８００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第２反射率平均値との差の絶対値が、０．７以下となることを特徴とする透明面状体により達成される。

The object of the present invention is a transparent planar body having a transparent conductive film layer patterned on at least one surface side of a transparent substrate, wherein the transparent conductive film is interposed between the transparent substrate and the transparent conductive film layer. A first thin film layer, a second thin film layer, and a hard coat layer are laminated from the layer side, and the film thickness of the second thin film layer is formed to be larger than the film thickness of the first thin film layer. The transparent conductive film layer has a thickness of 15 nm to 38 nm and a photorefractive index of 1.9 to 2.3, and the first thin film layer has a thickness of 2 nm to 25 nm, photorefractive. The second thin film layer has a film thickness of 38 nm or more and 75 nm or less, an optical refractive index of 1.6 or more and 1.9 or less, and the hard coat layer is The film thickness is 1 μm or more and 7 μm or less, and the optical refractive index is 1.6 or more and 1.8. It is the following, The reflectance for every wavelength of the light irradiated to the pattern formation area in which the said transparent conductive film layer is formed from the one surface side of the said transparent substrate, and the said transparent conductive material from the one surface side of the said transparent substrate The first reflectance average value, which is the average value of each reflectance difference at wavelengths from 380 nm to 400 nm, and the wavelength of 500 nm with respect to the difference in reflectance for each wavelength of light irradiated to the non-pattern forming region where the film layer is not formed To 800 nm, the absolute value of the difference from the second reflectance average value, which is the average value of each reflectance difference, is 0.7 or less.

また、この透明面状体において、前記ハードコート層の光屈折率は、前記第２薄膜層の光屈折率よりも低いことが好ましい。 Moreover, in this transparent sheet, the light refractive index of the hard coat layer is preferably lower than the light refractive index of the second thin film layer.

また、前記第１薄膜層は、酸化珪素からなることが好ましい。 The first thin film layer is preferably made of silicon oxide.

また、前記ハードコート層は、無機微粒子が添加された樹脂組成物により形成されていることが好ましい。 The hard coat layer is preferably formed of a resin composition to which inorganic fine particles are added.

また、上記目的は、上記透明面状体を備える透明タッチパネルにより達成される。 Moreover, the said objective is achieved by a transparent touch panel provided with the said transparent planar body.

本発明によれば、視認性を向上させることができる透明面状体及び透明タッチパネルを提供することができる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the transparent planar body and transparent touch panel which can improve visibility can be provided.

本発明の一実施形態に係る透明タッチパネルの概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the transparent touch panel which concerns on one Embodiment of this invention. 図１に示す透明タッチパネルの一部を示す平面図である。It is a top view which shows a part of transparent touch panel shown in FIG. 図１に示す透明タッチパネルの他の一部を示す平面図である。It is a top view which shows a part of other transparent touch panel shown in FIG. 図１に示す透明タッチパネルの変形例の一部を示す平面図である。It is a top view which shows a part of modification of the transparent touch panel shown in FIG. 図１に示す透明タッチパネルの変形例の他の一部を示す平面図である。It is a top view which shows another part of the modification of the transparent touch panel shown in FIG. 図１に示す透明タッチパネルを構成する透明面状体の概略構成断面図である。It is a schematic structure sectional drawing of the transparent planar body which comprises the transparent touch panel shown in FIG. 透明導電膜層の有無による波長毎の反射率シミュレーション結果例を示す図である。It is a figure which shows the example of a reflectance simulation result for every wavelength by the presence or absence of a transparent conductive film layer.

以下、本発明の実態形態について添付図面を参照して説明する。尚、各図面は、構成の理解を容易にするため、実寸比ではなく部分的に拡大又は縮小されている。 Hereinafter, actual forms of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. Each drawing is partially enlarged or reduced to facilitate understanding of the configuration, not the actual size ratio.

図１は、本発明の一実施形態に係る透明タッチパネルの概略構成断面図である。この透明タッチパネル１０１は、静電容量式のタッチパネルであり、第１透明面状体１と第２透明面状体２とを備えている。第１透明面状体１は、透明基板１１と、当該透明基板１１の一方面側にパターニングされた透明導電膜層１２とを備えている。また、透明基板１１と透明導電膜層１２との間には、透明導電膜層１２側から順に、第１薄膜層１３、第２薄膜層１４及びハードコート層１５が積層されている。透明導電膜層１２は、第１薄膜層１３上に形成されており、ハードコート層１５は、透明基板１１上に形成されている。第２透明面状体２は、第１透明面状１と同様な構成を備えており、透明基板２１と、当該透明基板２１の一方面側にパターニングされた透明導電膜層２２とを備えている。また、透明基板２１と透明導電膜層２２との間には、透明導電膜層２２側から順に、第１薄膜層２３、第２薄膜層２４及びハードコート層２５が積層されている。透明導電膜層２２は、第１薄膜層２３上に形成されており、ハードコート層２５は、透明基板２１上に形成されている。 FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a transparent touch panel according to an embodiment of the present invention. The transparent touch panel 101 is a capacitive touch panel and includes a first transparent planar body 1 and a second transparent planar body 2. The first transparent planar body 1 includes a transparent substrate 11 and a transparent conductive film layer 12 patterned on one surface side of the transparent substrate 11. Further, a first thin film layer 13, a second thin film layer 14, and a hard coat layer 15 are laminated in this order from the transparent conductive film layer 12 side between the transparent substrate 11 and the transparent conductive film layer 12. The transparent conductive film layer 12 is formed on the first thin film layer 13, and the hard coat layer 15 is formed on the transparent substrate 11. The second transparent planar body 2 has the same configuration as the first transparent planar state 1, and includes a transparent substrate 21 and a transparent conductive film layer 22 patterned on one surface side of the transparent substrate 21. Yes. A first thin film layer 23, a second thin film layer 24, and a hard coat layer 25 are stacked between the transparent substrate 21 and the transparent conductive film layer 22 in order from the transparent conductive film layer 22 side. The transparent conductive film layer 22 is formed on the first thin film layer 23, and the hard coat layer 25 is formed on the transparent substrate 21.

第１透明面状体１と第２透明面状体２とは、図１に示すように第１透明面状体１における透明基板１１の他方面（ハードコート層１５が形成されていない面）と、第２透明面状体２における透明導電膜層２２とが互いに離間して対向するようにして、粘着層４を介して貼着されている。また、第１透明面状体１における透明導電膜層１２上には、透明導電膜層１２を保護するための保護層３が粘着層５を介して設けられている。この保護層３としては、耐擦傷性、耐摩耗性、耐指紋性、ノングレア性等向上のため表面処理加工が施された各種シートを好適に用いることができる。 As shown in FIG. 1, the first transparent planar body 1 and the second transparent planar body 2 are the other surface of the transparent substrate 11 in the first transparent planar body 1 (a surface on which the hard coat layer 15 is not formed). And the transparent conductive film layer 22 in the second transparent planar body 2 are pasted through the adhesive layer 4 so as to face each other while being separated from each other. In addition, a protective layer 3 for protecting the transparent conductive film layer 12 is provided on the transparent conductive film layer 12 in the first transparent planar body 1 via an adhesive layer 5. As the protective layer 3, various sheets that have been subjected to a surface treatment for improving scratch resistance, abrasion resistance, fingerprint resistance, non-glare property, and the like can be suitably used.

透明基板１１，２１は、絶縁層を構成する誘電体基板であり、透明性が高い材料からなることが好ましい。具体的には、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン（ＰＳ）、ポリアミド（ＰＡ）、ポリアクリル（ＰＡＣ）、アクリル、非晶性ポリオレフィン系樹脂、環状ポリオレフィン系樹脂、脂肪族環状ポリオレフィン、ノルボルネン系の熱可塑性透明樹脂などの合成樹脂製の可撓性フィルムやこれら２種以上の積層体、或いは、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどのガラス板により形成される。透明基板１１，２１の厚みは、特に限定されないが、例えば、合成樹脂製の可撓性フィルムにより透明基板１１，２１を構成する場合には、１０μｍ〜５００μｍ程度とすることが好ましく、２０μｍ〜２００μｍ程度とすることがさらに好ましい。また、ガラス板により透明基板１１，２１を構成する場合には、２０μｍ〜１０００μｍ程度とすることが好ましい。また、透明基板１１，２１の光屈折率は、１．４以上１．７以下の範囲に設定することが好ましい。 The transparent substrates 11 and 21 are dielectric substrates that constitute an insulating layer, and are preferably made of a highly transparent material. Specifically, for example, polyethylene terephthalate (PET), polyimide (PI), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone (PES), polyetheretherketone (PEEK), polycarbonate (PC), polypropylene (PP) Made of synthetic resin such as polystyrene (PS), polyamide (PA), polyacryl (PAC), acrylic, amorphous polyolefin resin, cyclic polyolefin resin, aliphatic cyclic polyolefin, norbornene thermoplastic transparent resin It is formed of a flexible film, a laminate of two or more of these, or a glass plate such as soda glass, alkali-free glass, borosilicate glass, or quartz glass. The thickness of the transparent substrates 11 and 21 is not particularly limited. For example, when the transparent substrates 11 and 21 are formed of a synthetic resin flexible film, the thickness is preferably about 10 μm to 500 μm, and 20 μm to 200 μm. More preferably, it is about. In addition, when the transparent substrates 11 and 21 are formed of glass plates, it is preferable to set the thickness to about 20 μm to 1000 μm. Moreover, it is preferable to set the optical refractive index of the transparent substrates 11 and 21 in the range of 1.4 or more and 1.7 or less.

また、可撓性を有する材料から透明基板１１，２１を形成する場合、当該透明基板１１，２１に剛性を付与するために支持体を貼着してもよい。支持体としては、ガラス板や、ガラスに準ずる硬度を有する樹脂材料を例示することができ、その厚さは１００μｍ以上であることが好ましく、０．２ｍｍ〜１０ｍｍであることがより好ましい。 Moreover, when forming the transparent substrates 11 and 21 from the material which has flexibility, in order to provide rigidity to the said transparent substrates 11 and 21, you may stick a support body. Examples of the support include a glass plate and a resin material having a hardness equivalent to glass, and the thickness is preferably 100 μm or more, and more preferably 0.2 mm to 10 mm.

透明基板１１，２１の一方面にそれぞれ形成されているハードコート層１５，２５は、例えば、アクリル系ＵＶ硬化性樹脂、エポキシ系樹脂、シロキサン系樹脂、シリコーン系熱硬化性樹脂などの樹脂組成物により形成されている。このハードコート層１５，２５の厚みは、１μｍ以上７μｍ以下の範囲となるように構成されている。また、ハードコート層１５，２５の光屈折率は、１．６以上１．８以下の範囲となるように構成されている。また、ハードコート層１５，２５の光屈折率は、後述の第２薄膜層１４，２４の光屈折率よりも低くなるように設定することが好ましい。ハードコート層１５，２５と第２薄膜層１４，２４との光屈折率の差は０．０３〜０．２０程度が好ましい。光屈折率が比較的高いハードコート層１５，２５（光屈折率が１．６５以上のハードコート層１５，２５）を形成するためには、無機微粒子が分散又は複合化するようにアクリル系ＵＶ硬化性樹脂等の樹脂組成物に添加すればよい。無機微粒子としては、粒径１ｎｍ以上２００ｎｍ以下のＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３等を例示することができる。ここで、ハードコート層１５，２５は、塗工法によって形成してもよく、或いは、フィルム状に形成したものを透明基板１１，２１上に貼着することにより形成してもよい。 The hard coat layers 15 and 25 respectively formed on one surface of the transparent substrates 11 and 21 are, for example, resin compositions such as acrylic UV curable resin, epoxy resin, siloxane resin, and silicone thermosetting resin. It is formed by. The thickness of the hard coat layers 15 and 25 is configured to be in a range of 1 μm or more and 7 μm or less. Further, the optical refractive indexes of the hard coat layers 15 and 25 are configured to be in the range of 1.6 to 1.8. Moreover, it is preferable to set the light refractive index of the hard coat layers 15 and 25 to be lower than the light refractive index of the second thin film layers 14 and 24 described later. The difference in optical refractive index between the hard coat layers 15 and 25 and the second thin film layers 14 and 24 is preferably about 0.03 to 0.20. In order to form the hard coat layers 15 and 25 having a relatively high light refractive index (the hard coat layers 15 and 25 having a light refractive index of 1.65 or more), an acrylic UV is used so that inorganic fine particles are dispersed or combined. What is necessary is just to add to resin compositions, such as curable resin. Examples of the inorganic fine particles include SiO ₂ , TiO ₂ , ZrO ₂ , Al ₂ O ₃ having a particle diameter of 1 nm to 200 nm. Here, the hard coat layers 15 and 25 may be formed by a coating method, or may be formed by sticking a film-like one on the transparent substrates 11 and 21.

ハードコート層１５，２５のそれぞれに積層される第２薄膜層１４，２４は、光屈折率が１．６以上１．９以下、より好ましくは１．６５以上１．８５以下の範囲となるように構成されている。第２薄膜層１４，２４は、例えば、酸化アルミニウム（Ａｌ_２Ｏ_３）、二酸化ジルコニウム（ＺｒＯ_２）、窒化ケイ素（ＳｉＮ）、硫化亜鉛（ＺｎＳ）、セレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）、酸化セリウム（iv）（ＣｅＯ_２）などにより形成される膜であり、特にシリコン錫酸化物（silicon-tin oxide）を好ましく用いることができる。シリコン錫酸化物を用いる場合は、シリコンと錫の成分比を変えることにより光屈折率を適宜調整できる。また、第２薄膜層１４，２４の膜厚は、３８ｎｍ以上７５ｎｍ以下、より好ましくは４０ｎｍ以上６５ｎｍ以下の範囲となるように構成されている。また、第２薄膜層１４，２４は、スパッタリング法や塗工法等の種々の方法により形成することができる。 The second thin film layers 14 and 24 laminated on the hard coat layers 15 and 25 have an optical refractive index in the range of 1.6 to 1.9, more preferably 1.65 to 1.85. It is configured. The second thin film layers 14 and 24 are made of, for example, aluminum oxide (Al ₂ O ₃ ), zirconium dioxide (ZrO ₂ ), silicon nitride (SiN), zinc sulfide (ZnS), zinc selenide (ZnSe), cerium oxide (iv) ) (CeO ₂ ) and the like, and silicon-tin oxide can be preferably used. When silicon tin oxide is used, the optical refractive index can be adjusted as appropriate by changing the component ratio of silicon and tin. The film thickness of the second thin film layers 14 and 24 is configured to be in the range of 38 nm to 75 nm, more preferably 40 nm to 65 nm. The second thin film layers 14 and 24 can be formed by various methods such as a sputtering method and a coating method.

第２薄膜層１４，２４のそれぞれに積層される第１薄膜層１３，２３は、光屈折率が１．３以上１．５５以下、より好ましくは１．４以上１．５以下の範囲となるように構成されている。第１薄膜層１３，２３は、例えば、酸化珪素（ＳｉＯ_ｘ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）、フッ化イットリウム（ＹＦ_３）、フッ化カルシウム（ＣａＦ_３）、フッ化バリウム（ＢａＦ₂）、フッ化セリウム（ＣｅＦ_３）、酸化セリウム（iii）（Ｃｅ_２Ｏ_３）などにより形成される膜であり、その膜厚は、２ｎｍ以上２５ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以上２５ｎｍ以下の範囲となるように構成されている。この第１薄膜層１３，２３は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などのＰＶＤ法や、ＣＶＤ法などにより形成することができる。ここで、第１薄膜層１３，２３の光屈折率は、上述の第２薄膜層１４，２４の光屈折率よりも低い。このように構成することにより、透明面状体１，２の視認性をより一層向上させることが可能となる。 The first thin film layers 13 and 23 laminated on the second thin film layers 14 and 24 have a light refractive index in the range of 1.3 to 1.55, more preferably 1.4 to 1.5. It is configured as follows. The first thin film layers 13 and 23 are made of, for example, silicon oxide (SiO _x ), magnesium fluoride (MgF ₂ ), yttrium fluoride (YF ₃ ), calcium fluoride (CaF ₃ ), barium fluoride (BaF ₂ ), It is a film formed of cerium fluoride (CeF ₃ ), cerium oxide (iii) (Ce ₂ O ₃ ), etc. The film thickness is in the range of 2 nm to 25 nm, more preferably 5 nm to 25 nm. It is configured. The first thin film layers 13 and 23 can be formed by a PVD method such as a sputtering method, a vacuum deposition method, or an ion plating method, a CVD method, or the like. Here, the optical refractive index of the first thin film layers 13 and 23 is lower than the optical refractive index of the second thin film layers 14 and 24 described above. By comprising in this way, it becomes possible to improve the visibility of the transparent planar bodies 1 and 2 further.

第１薄膜層１３，２３のそれぞれに積層して形成される透明導電膜層１２，２２の材料としては、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化インジウム、アンチモン添加酸化錫、フッ素添加酸化錫、アルミニウム添加酸化亜鉛、カリウム添加酸化亜鉛、シリコン添加酸化亜鉛や、酸化亜鉛−酸化錫系、酸化インジウム−酸化錫系、酸化亜鉛−酸化インジウム−酸化マグネシウム系、酸化亜鉛、スズ酸化膜等の透明導電材料、或いは、スズ、銅、アルミニウム、ニッケル、クロムなどの金属材料、金属酸化物材料を例示することができ、これら２種以上を複合して形成してもよい。 The materials of the transparent conductive film layers 12 and 22 formed by laminating the first thin film layers 13 and 23 are indium tin oxide (ITO), indium oxide, antimony-added tin oxide, fluorine-added tin oxide, aluminum Transparent conductive materials such as added zinc oxide, potassium added zinc oxide, silicon added zinc oxide, zinc oxide-tin oxide system, indium oxide-tin oxide system, zinc oxide-indium oxide-magnesium oxide system, zinc oxide, tin oxide film Alternatively, metal materials such as tin, copper, aluminum, nickel, chromium, and metal oxide materials can be exemplified, and two or more of these materials may be formed in combination.

透明導電膜層１２，２２の形成方法は、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法などのＰＶＤ法や、ＣＶＤ法、塗工法、印刷法などを例示することができる。透明導電膜層１２，２２の厚みは、１５ｎｍ以上３８ｎｍ以下の範囲に設定することが好ましい。また、透明導電膜層１２，２２の光屈折率は、１．９以上２．３以下、より好ましくは１．９以上２．１以下の範囲となるように設定する。 Examples of the method for forming the transparent conductive layers 12 and 22 include PVD methods such as sputtering, vacuum deposition, and ion plating, CVD, coating, and printing. The thickness of the transparent conductive film layers 12 and 22 is preferably set in the range of 15 nm or more and 38 nm or less. The optical refractive index of the transparent conductive film layers 12 and 22 is set to be in the range of 1.9 to 2.3, more preferably 1.9 to 2.1.

透明導電膜層１２，２２は、図２及び図３に示すように、平行に延びる複数の帯状導電部１２ａ，２２ａの集合体としてそれぞれ形成されており、各透明導電膜層１２，２２の帯状導電部１２ａ，２２ａは、互いに直交するように配置されている。透明導電膜層１２，２２は、導電性インクや金属薄膜などからなる引き廻し回路（図示せず）を介して外部の駆動回路（図示せず）に接続される。透明導電膜層１２，２２のパターン形状は、本実施形態のものに限定されず、指などの接触ポイントを検出可能である限り、任意の形状とすることが可能である。例えば、図４及び図５に示すように、透明導電膜層１２，２２を、複数の菱形状導電部１２ｂ，２２ｂが直線状に連結された構成とし、各透明導電膜層１２，２２における菱形状導電部１２ｂ，２２ｂの連結方向が互いに直交し、且つ、平面視において上下の菱形状導電部１２ｂ，２２ｂが重なり合わないように配置してもよい。なお、透明タッチパネル１０１の分解能などの動作性能については、第１透明面状体１と第２透明面状体２とを重ね合わせた場合に、導電部が存在しない領域を少なくする構成を採用する方が優れている。このような観点から、透明導電膜層１２，２２のパターン形状として、矩形状の構成よりも、複数の菱形状導電部１２ｂ，２２ｂが直線状に連結された構成の方が望ましい。 As shown in FIGS. 2 and 3, the transparent conductive film layers 12 and 22 are each formed as an aggregate of a plurality of strip-shaped conductive portions 12 a and 22 a extending in parallel, and the strips of the transparent conductive film layers 12 and 22 are formed. The conductive portions 12a and 22a are arranged so as to be orthogonal to each other. The transparent conductive film layers 12 and 22 are connected to an external drive circuit (not shown) through a routing circuit (not shown) made of conductive ink, a metal thin film, or the like. The pattern shape of the transparent conductive film layers 12 and 22 is not limited to that of the present embodiment, and may be any shape as long as a contact point such as a finger can be detected. For example, as shown in FIGS. 4 and 5, the transparent conductive film layers 12 and 22 are configured such that a plurality of rhombus-shaped conductive portions 12 b and 22 b are linearly connected, and the rhombus in each transparent conductive film layer 12 and 22 is formed. The connecting directions of the shape conductive portions 12b and 22b may be orthogonal to each other, and the upper and lower rhomboid conductive portions 12b and 22b may not be overlapped in plan view. As for the operation performance such as the resolution of the transparent touch panel 101, a configuration is adopted in which when the first transparent planar body 1 and the second transparent planar body 2 are overlapped, the area where no conductive portion exists is reduced. Is better. From this point of view, the pattern shape of the transparent conductive film layers 12 and 22 is preferably a configuration in which a plurality of rhombus-shaped conductive portions 12b and 22b are connected in a straight line rather than a rectangular configuration.

透明導電膜層１２，２２のパターニングは、第１薄膜層１３，２３上にそれぞれ形成された透明導電膜層１２，２２の表面に、所望のパターン形状を有するマスク部を形成して露出部分を酸液などでエッチング除去した後、アルカリ液などによりマスク部を溶解させて行うことができる。 The patterning of the transparent conductive film layers 12 and 22 is performed by forming a mask portion having a desired pattern shape on the surfaces of the transparent conductive film layers 12 and 22 formed on the first thin film layers 13 and 23, respectively. After etching away with an acid solution or the like, the mask portion can be dissolved with an alkali solution or the like.

粘着層４，５は、エポキシ系やアクリル系など、一般的な透明な接着剤や粘着剤を用いることができ、ノルボルネン系樹脂の透明性フィルムからなる芯材を含むものであってもよい。また、シート状粘着材を複数枚重ね合わせることにより粘着層４を形成してもよく、更に、種類の異なる複数のシート状粘着材を重ね合わせて形成してもよい。粘着層４の厚みは、特に指定はないが、実用上では２００μｍ以下であることが好ましく、特に、１０μｍ〜１００μｍであることが好ましい。また、粘着層の光屈折率は、１．４以上１．７以下の範囲であることが好ましい。粘着層４の光屈折率は透明導電膜層２２の光屈折率に近づける（高くする）と、界面での屈折率差が小さくなり、パターン形状を目立たなくする効果は高まるが、粘着層４の高屈折率化には高屈折材微粒子の添加等が必要であり、透明面状体全体としての光の透過率が下がる問題がある。 The pressure-sensitive adhesive layers 4 and 5 can be made of a general transparent adhesive or pressure-sensitive adhesive such as epoxy or acrylic, and may include a core made of a norbornene-based resin transparent film. Moreover, the adhesive layer 4 may be formed by superimposing a plurality of sheet-like adhesive materials, and may be formed by superposing a plurality of different sheet-like adhesive materials. The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 4 is not particularly specified, but is practically preferably 200 μm or less, and particularly preferably 10 μm to 100 μm. Moreover, it is preferable that the photorefractive index of an adhesion layer is the range of 1.4 or more and 1.7 or less. When the optical refractive index of the adhesive layer 4 is brought close to (higher) the optical refractive index of the transparent conductive film layer 22, the difference in refractive index at the interface is reduced and the effect of making the pattern shape inconspicuous increases. In order to increase the refractive index, it is necessary to add fine particles of a high refractive material, and there is a problem that the light transmittance of the entire transparent planar body is lowered.

以上の構成を備える透明タッチパネル１０１において、タッチ位置の検出方法は、従来の静電容量式のタッチパネルと同様であり、第１透明面状体１の表面側における任意の位置を指などで触れると、透明導電膜層１２，２２は接触位置において人体の静電容量を介して接地され、透明導電膜層１２，２２を流れる電流値を検出することにより、接触位置の座標が演算される。 In the transparent touch panel 101 having the above configuration, the touch position detection method is the same as that of a conventional capacitive touch panel, and when an arbitrary position on the surface side of the first transparent planar body 1 is touched with a finger or the like. The transparent conductive film layers 12 and 22 are grounded through the capacitance of the human body at the contact positions, and the coordinates of the contact positions are calculated by detecting the current value flowing through the transparent conductive film layers 12 and 22.

ここで、図６の透明面状体１の概略構成断面図に示すように、透明基板１１の一方面側から透明導電膜層１２が形成されているパターン形成領域に照射される光の反射光Ｌ１における波長毎の反射率、及び、透明基板１１の一方面側から透明導電膜層１２が形成されていない非パターン形成領域に照射される光の反射光Ｌ２における波長毎の反射率の差に関し、波長３８０ｎｍから４００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第１反射率平均値と、波長５００ｎｍから８００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第２反射率平均値との差の絶対値が、０．７以下となることが好ましい。つまり下記関係式を満たすことが好ましい。
｜第１反射率平均値−第２反射率平均値｜ ≦ ０．７
このように、第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値が、０．７以下である場合には、透明導電膜層１２のパターン形状を目立たなくすることができ、視認性を向上させることができる。 Here, as shown in the schematic cross-sectional view of the transparent planar body 1 in FIG. 6, the reflected light of the light applied to the pattern formation region where the transparent conductive film layer 12 is formed from one side of the transparent substrate 11. Regarding the reflectance for each wavelength in L1 and the difference in reflectance for each wavelength in the reflected light L2 of light irradiated from one side of the transparent substrate 11 to the non-pattern forming region where the transparent conductive film layer 12 is not formed The absolute value of the difference between the first reflectance average value that is the average value of each reflectance difference at wavelengths from 380 nm to 400 nm and the second reflectance average value that is the average value of each reflectance difference at wavelengths from 500 nm to 800 nm is , 0.7 or less is preferable. That is, it is preferable to satisfy the following relational expression.
| First Reflectance Average Value−Second Reflectance Average Value | ≦ 0.7
Thus, when the absolute value of the difference between the first reflectance average value and the second reflectance average value is 0.7 or less, the pattern shape of the transparent conductive film layer 12 can be made inconspicuous. Visibility can be improved.

本発明者らは、透明面状体１についてのサンプルを作成して、透明基板１１の一方面側から透明導電膜層１２が形成されているパターン形成領域に照射される光の反射光Ｌ１における波長毎の反射率、及び、透明基板１１の一方面側から透明導電膜層１２が形成されていない非パターン形成領域に照射される光の反射光Ｌ２における波長毎の反射率の差に関し、波長３８０ｎｍから４００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第１反射率平均値と、波長５００ｎｍから８００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第２反射率平均値との差の絶対値を算出すると共に、透明導電膜層１２のパターン形状が目立たないか否かの官能試験を行った。 The inventors create a sample for the transparent planar body 1, and in the reflected light L <b> 1 of light irradiated from the one surface side of the transparent substrate 11 to the pattern formation region where the transparent conductive film layer 12 is formed. Regarding the reflectance for each wavelength, and the difference in reflectance for each wavelength in the reflected light L2 of the light irradiated to the non-pattern forming region where the transparent conductive film layer 12 is not formed from one side of the transparent substrate 11, the wavelength An absolute value of a difference between a first reflectance average value that is an average value of each reflectance difference from 380 nm to 400 nm and a second reflectance average value that is an average value of each reflectance difference from a wavelength of 500 nm to 800 nm is calculated. At the same time, a sensory test was performed to determine whether the pattern shape of the transparent conductive film layer 12 was not noticeable.

作成したサンプルは、１２種類（サンプル１〜サンプル１２）であり、サンプル１を除いて、それぞれが図６に示す構造を有している。サンプル１については、第２薄膜層１４を設けず、ハードコート層１５上に第１薄膜層１３を形成するようにして構成した。また、透明基板１１を厚み１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）により形成し、第２薄膜層１４をシリコン錫酸化物により形成した。また、第１薄膜層１３を酸化珪素により形成し、透明導電膜層１２をインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）により形成した。なお、透明導電膜層１２、第１薄膜層１３および第２薄膜層１４は、スパッタリングで成膜した。透明導電膜層１２上には、厚み５０μｍの粘着層５（アクリル系粘着剤、屈折率１．５）、および保護膜３（ここでは粘着層５のセパレートフィルム（ＰＥＴフィルム、厚み１５μｍ））を配置した。また、ハードコート層１５については、サンプル８はアクリル系紫外線硬化性樹脂（ＪＳＲ株式会社製オプスター）を、サンプル８以外については、アクリル系紫外線硬化性樹脂（東洋インキ製造株式会社製リオデュラスＴＶＺシリーズ）を塗工することで形成した。 The created samples are 12 types (sample 1 to sample 12), and each sample has the structure shown in FIG. Sample 1 was configured such that the first thin film layer 13 was formed on the hard coat layer 15 without providing the second thin film layer 14. The transparent substrate 11 was formed of polyethylene terephthalate (PET) having a thickness of 100 μm, and the second thin film layer 14 was formed of silicon tin oxide. The first thin film layer 13 was formed of silicon oxide, and the transparent conductive film layer 12 was formed of indium tin oxide (ITO). The transparent conductive film layer 12, the first thin film layer 13, and the second thin film layer 14 were formed by sputtering. On the transparent conductive film layer 12, an adhesive layer 5 (acrylic adhesive, refractive index 1.5) having a thickness of 50 μm and a protective film 3 (here, a separate film (PET film, thickness 15 μm) of the adhesive layer 5) are provided. Arranged. As for the hard coat layer 15, the sample 8 is an acrylic UV curable resin (Opstar manufactured by JSR Corporation), and the sample other than the sample 8 is an acrylic UV curable resin (Ryoduras TVZ series manufactured by Toyo Ink Manufacturing Co., Ltd.). It was formed by coating.

また、各サンプルにおける透明基板１１、ハードコート層１５、第２薄膜層１４、第１薄膜層１３、透明導電膜層１２及び粘着層５のそれぞれの厚み及び光屈折率を下記表１ａ及び表１ｂに示す。なお、光学測定は透明基板１１側から行った。 In addition, the thicknesses and photorefractive indexes of the transparent substrate 11, the hard coat layer 15, the second thin film layer 14, the first thin film layer 13, the transparent conductive film layer 12, and the adhesive layer 5 in each sample are shown in Tables 1a and 1b below. Shown in The optical measurement was performed from the transparent substrate 11 side.

また、第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値算出は、サイバネットシステム（株）製薄膜設計ソフトウエア（OPTAS-FILM）を用いたシミュレーションにより行った。具体的には、まず、各サンプルに関し、透明基板１１の一方面側から透明導電膜層１２が形成されているパターン形成領域に照射される光の反射光Ｌ１における波長毎の反射率（パターン形成領域反射率）を求めると共に、透明基板１１の一方面側から透明導電膜層１２が形成されていない非パターン形成領域に照射される光の反射光Ｌ２における波長毎の反射率（非パターン形成領域反射率）を求める（例えば、図７に示すようなデータ；当該図７に示すデータは、上記サンプル３に関するデータである）。その後、波長毎のパターン形成領域反射率と非パターン形成領域反射率との差を算出する。この算出したパターン形成領域反射率と非パターン形成領域反射率との差に関するデータから、波長３８０ｎｍから４００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第１反射率平均値を求めると共に、波長５００ｎｍから８００ｎｍにおける各反射率差の平均値である第２反射率平均値を求め、両者の差の絶対値（｜第１反射率平均値−第２反射率平均値｜）を算出した。なお、透明基板１１は、透明導電膜層１２、第１薄膜層１３、第２薄膜層１４及びハードコート層１５に比べて極めて厚みの大きい部材であるため、透明基板１１については、その厚みを∞（無限大）としてシミュレーションを行った。また保護膜３（ＰＥＴフィルム、厚み１５μｍ）は光学設計的に影響が微小であり、計算に加えていない。 Moreover, the absolute value calculation of the difference of the 1st reflectance average value and the 2nd reflectance average value was performed by the simulation using Cybernet System Co., Ltd. thin film design software (OPTAS-FILM). Specifically, first, with respect to each sample, the reflectance for each wavelength (pattern formation) in the reflected light L1 of the light irradiated to the pattern formation region where the transparent conductive film layer 12 is formed from one side of the transparent substrate 11. Area reflectance), and the reflectance for each wavelength (non-pattern forming area) in the reflected light L2 of light irradiated from one side of the transparent substrate 11 to the non-pattern forming area where the transparent conductive film layer 12 is not formed. (Reflectance) is obtained (for example, data as shown in FIG. 7; the data shown in FIG. 7 is data relating to the sample 3). Thereafter, the difference between the pattern formation region reflectance and the non-pattern formation region reflectance for each wavelength is calculated. From the data regarding the difference between the calculated pattern formation region reflectance and the non-pattern formation region reflectance, a first reflectance average value that is an average value of each reflectance difference at wavelengths from 380 nm to 400 nm is obtained, and wavelengths from 500 nm to 800 nm are obtained. The second reflectance average value, which is the average value of the respective reflectance differences, was obtained, and the absolute value of the difference between them (| first reflectance average value−second reflectance average value |) was calculated. In addition, since the transparent substrate 11 is a member having an extremely large thickness compared to the transparent conductive film layer 12, the first thin film layer 13, the second thin film layer 14, and the hard coat layer 15, the thickness of the transparent substrate 11 is reduced. The simulation was performed as ∞ (infinity). Further, the protective film 3 (PET film, thickness 15 μm) has a small influence on optical design, and is not added to the calculation.

各サンプルに関し、第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値（Δ平均値）及び、官能試験結果を下記表２〜表６に示す。なお、試験は、黒色背景のブース内で三波長蛍光灯（２７Ｗ）を照射し、本サンプルと目との距離を２０ｃｍに設定して評価した。また、表２〜表５の官能試験結果においては、透明導電膜層１２のパターン形状が全く見えないものを◎とし、色目の違う部分があることはわかるが、パターン形状がわからないものを○とした。また、パターンは確認できるが境界がぼやけて見えないものを△とし、パターン形状の外形（境界）が確認できるものを×とした。 Tables 2 to 6 show the absolute value (Δ average value) of the difference between the first reflectance average value and the second reflectance average value and the sensory test results for each sample. The test was evaluated by irradiating a three-wavelength fluorescent lamp (27 W) in a black background booth and setting the distance between this sample and the eyes to 20 cm. In addition, in the sensory test results of Tables 2 to 5, when the pattern shape of the transparent conductive film layer 12 is not visible at all, it is ◎, and it can be seen that there is a different part of the color, but when the pattern shape is not known, ○ did. In addition, a pattern that can be confirmed but the boundary is blurred and cannot be seen is indicated by Δ, and a pattern shape that can be confirmed (boundary) is indicated by ×.

ここで、表２は、第２薄膜層１４の厚みのみを０ｎｍ（サンプル１）、４５ｎｍ（サンプル２）、６０ｎｍ（サンプル３）、８０ｎｍ（サンプル４）と種々変化させた場合の第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値（Δ平均値）及び、官能試験結果を示している。また、表３は、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みのみを２０ｎｍ（サンプル５）、２５ｎｍ（サンプル３）と変化させた場合の第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値（Δ平均値）及び、官能試験結果を示している。また、表４は、第１薄膜層１３の厚みのみを１０ｎｍ（サンプル３）、２０ｎｍ（サンプル６）、４５ｎｍ（サンプル７）、８０ｎｍ（サンプル４）と種々変化させた場合の第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値（Δ平均値）及び、官能試験結果を示している。表５は、ハードコート層１５の光屈折率のみを１．５２（サンプル８）、１．６５（サンプル３）と変化させた場合の第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値（Δ平均値）及び、官能試験結果を示している。最後に、表６は、ハードコート層１５の光屈折率を１．７５と高くしたうえ、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みのみを２５ｎｍ（サンプル９）、３５ｎｍ（サンプル１０）、４０ｎｍ（サンプル１１）、４５ｎｍ（サンプル１２）と種々変化させた場合の第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値（Δ平均値）及び、官能試験結果を示している。 Here, Table 2 shows the first reflectivity when only the thickness of the second thin film layer 14 is variously changed to 0 nm (sample 1), 45 nm (sample 2), 60 nm (sample 3), and 80 nm (sample 4). The absolute value (Δ average value) of the difference between the average value and the second reflectance average value and the sensory test results are shown. Table 3 shows the first reflectance average value and the second reflectance average value when only the thickness of the transparent conductive film layer 12 (ITO film) is changed to 20 nm (sample 5) and 25 nm (sample 3). The absolute value of the difference (Δ average value) and the sensory test results are shown. Table 4 shows the first reflectance average when the thickness of only the first thin film layer 13 is variously changed to 10 nm (sample 3), 20 nm (sample 6), 45 nm (sample 7), and 80 nm (sample 4). The absolute value (Δ average value) of the difference between the value and the second reflectance average value and the sensory test results are shown. Table 5 shows the first reflectance average value and the second reflectance average value when only the optical refractive index of the hard coat layer 15 is changed to 1.52 (sample 8) and 1.65 (sample 3). The absolute value of the difference (Δ average value) and the sensory test results are shown. Finally, Table 6 shows that the optical refractive index of the hard coat layer 15 is increased to 1.75, and only the thickness of the transparent conductive film layer 12 (ITO film) is 25 nm (sample 9), 35 nm (sample 10), and 40 nm. (Sample 11), absolute value (Δ average value) of difference between first reflectance average value and second reflectance average value when variously changed to 45 nm (sample 12) and sensory test results are shown. .

表２〜表６から、サンプル２、サンプル３、サンプル５、サンプル６、サンプル９及びサンプル１０については、透明導電膜層１２のパターン形状が目立ちにくく優れた視認性を有するものであることが分かる。また、第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値が約０．７２６であるサンプル４は、僅かに透明導電膜層１２のパターン形状が確認されたが、第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値が０．７以下であるサンプル２、サンプル３、サンプル５、サンプル６、サンプル９及びサンプル１０に関しては、透明導電膜層１２のパターン形状を確認できなかった。つまり、透明導電膜層１２のパターン形状の目立ちにくさは、第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値と相関性を有していると認められ、この第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値が、０．７以下である場合に、透明導電膜層１２のパターン形状を目立たなくすることができ、視認性を向上させることができることが分かる。 From Table 2 to Table 6, it can be seen that Sample 2, Sample 3, Sample 5, Sample 6, Sample 9, and Sample 10 have excellent visibility because the pattern shape of the transparent conductive film layer 12 is not noticeable. . Further, in Sample 4 in which the absolute value of the difference between the first reflectance average value and the second reflectance average value is about 0.726, the pattern shape of the transparent conductive film layer 12 was slightly confirmed. Regarding Sample 2, Sample 3, Sample 5, Sample 6, Sample 9, and Sample 10 in which the absolute value of the difference between the reflectance average value and the second reflectance average value is 0.7 or less, the transparent conductive film layer 12 The pattern shape could not be confirmed. That is, it is recognized that the inconspicuousness of the pattern shape of the transparent conductive film layer 12 has a correlation with the absolute value of the difference between the first reflectance average value and the second reflectance average value. When the absolute value of the difference between the reflectance average value and the second reflectance average value is 0.7 or less, the pattern shape of the transparent conductive film layer 12 can be made inconspicuous, and visibility is improved. You can see that

また、透明導電膜層１２のパターン形状を目立ちにくくする方策の一つとして、透明導電膜層１２の厚みを極力薄く形成すること（例えば１５ｎｍ未満の厚みに形成すること）により対応するという考え方がある。このような方策の場合、透明導電膜層１２の電気抵抗値が大きく上昇してしまうという問題があるが、サンプル２、サンプル３、サンプル５、サンプル６、サンプル９及びサンプル１０に係る透明面状体１の場合、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みが比較的大きい２０ｎｍ以上であるが、透明導電膜層１２のパターン形状は目立ちにくいものであり、本発明に係る透明面状体１によれば、透明導電膜層１２の電気抵抗値が高くならない厚み範囲（透明導電膜層１２の厚みが１５ｎｍ以上の範囲）において視認性向上を達成することが可能であることが分かる。 In addition, as one of the measures for making the pattern shape of the transparent conductive film layer 12 inconspicuous, there is a concept that the thickness of the transparent conductive film layer 12 is reduced as much as possible (for example, formed to a thickness of less than 15 nm). is there. In the case of such a measure, there is a problem that the electric resistance value of the transparent conductive film layer 12 is greatly increased. However, the transparent planar shape according to Sample 2, Sample 3, Sample 5, Sample 6, Sample 9, and Sample 10 In the case of the body 1, the transparent conductive film layer 12 (ITO film) has a relatively large thickness of 20 nm or more, but the pattern shape of the transparent conductive film layer 12 is inconspicuous, and the transparent planar body 1 according to the present invention. According to this, it can be seen that it is possible to achieve improved visibility in a thickness range in which the electrical resistance value of the transparent conductive film layer 12 does not increase (the thickness of the transparent conductive film layer 12 is 15 nm or more).

また、表２から、第２薄膜層１４の厚みのみが相違するサンプル１、サンプル２、サンプル３及びサンプル４を比較すると、第２薄膜層１４の厚みが８０ｎｍであるサンプル４に関しては、官能試験結果が△となっており、第２薄膜層１４の厚みが４５ｎｍであるサンプル２や６０ｎｍであるサンプル３に関しては、官能試験結果が良好（○或いは◎）となっている。このことから、視認性向上の観点からは、第２薄膜層１４の厚みが７５ｎｍ以下の範囲となるように設定することが好ましいと考えられる。また、第２薄膜層１４を形成していないサンプル１に関しては、官能試験結果が×となっており、第２薄膜層１４の厚みが４５ｎｍであるサンプル２に関しては、官能試験結果が○となっていることから、視認性向上の観点からは、第２薄膜層１４の厚みが３８ｎｍ以上の範囲となるように設定することが好ましいと考えられる。 Further, from Table 2, when Sample 1, Sample 2, Sample 3 and Sample 4 in which only the thickness of the second thin film layer 14 is different are compared, for the sample 4 in which the thickness of the second thin film layer 14 is 80 nm, the sensory test is performed. The result is Δ, and the sensory test result is good (◯ or ◎) for Sample 2 where the thickness of the second thin film layer 14 is 45 nm and Sample 3 where the thickness is 60 nm. From this point of view, it is considered preferable to set the thickness of the second thin film layer 14 to be in the range of 75 nm or less from the viewpoint of improving the visibility. Further, the sensory test result is x for sample 1 in which the second thin film layer 14 is not formed, and the sensory test result is ○ for sample 2 in which the thickness of the second thin film layer 14 is 45 nm. Therefore, from the viewpoint of improving visibility, it is considered preferable to set the thickness of the second thin film layer 14 to be in a range of 38 nm or more.

また、表３から、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みのみが相違するサンプル５とサンプル３とを比較すると、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みが薄い方（サンプル５）が、第１反射率平均値と第２反射率平均値との差の絶対値（Δ平均値）が小さくなることが分かり、視認性向上の観点からは、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みが薄い方が好ましいことが分かる。 Also, from Table 3, comparing sample 5 and sample 3 in which only the thickness of the transparent conductive film layer 12 (ITO film) is different, the thinner one (sample 5) of the transparent conductive film layer 12 (ITO film). It can be seen that the absolute value (Δ average value) of the difference between the first reflectance average value and the second reflectance average value becomes small. From the viewpoint of improving the visibility, the transparent conductive film layer 12 (ITO film) It can be seen that a thinner thickness is preferable.

また、表４から、第１薄膜層１３の厚みのみが相違するサンプル３、サンプル６及びサンプル７を比較すると、第１薄膜層１３の厚みが４５ｎｍであるサンプル７に関しては、官能試験結果が×となっており、第１薄膜層１３の厚みが１０ｎｍであるサンプル３や２０ｎｍであるサンプル６に関しては、官能試験結果が良好（◎或いは○）となっている。このことから、視認性向上の観点からは、第１薄膜層１３の厚みが２５ｎｍ以下の範囲となるように設定することが好ましいと考えられる。 Also, from Table 4, comparing Sample 3, Sample 6 and Sample 7 in which only the thickness of the first thin film layer 13 is different, the sensory test result is × for Sample 7 where the thickness of the first thin film layer 13 is 45 nm. As for the sample 3 in which the thickness of the first thin film layer 13 is 10 nm and the sample 6 in which the thickness is 20 nm, the sensory test result is good (或いは or ○). From this point of view, it is considered preferable to set the thickness of the first thin film layer 13 to be in a range of 25 nm or less from the viewpoint of improving the visibility.

また、表５から、ハードコート層１５の光屈折率のみが相違するサンプル８とサンプル３とを比較すると、光屈折率が１．５２であるサンプル８は、官能試験結果が×となっており、光屈折率が１．６５であるサンプル３２は官能試験結果が◎となっていることから、ハードコート層１５の光屈折率は、１．６以上であることが好ましいことが分かる。 Also, from Table 5, comparing sample 8 and sample 3 in which only the optical refractive index of the hard coat layer 15 is different, sample 8 with an optical refractive index of 1.52 has an x result of sensory test. In the sample 32 having a light refractive index of 1.65, the sensory test result is “◎”, so that it is understood that the light refractive index of the hard coat layer 15 is preferably 1.6 or more.

また、表６から、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みのみが相違するサンプル９、サンプル１０、サンプル１１及びサンプル１２を比較すると、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みが２５ｎｍであるサンプル９や３５ｎｍであるサンプル１０に関しては、官能試験結果が良好（◎或いは○）となっており、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みが４０ｎｍ以上であるサンプル１１及びサンプル１２は、官能試験結果が×となっていることから、視認性向上の観点からは、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みが３８ｎｍ以下の範囲となるように設定することが好ましいと考えられる。なお、ハードコート層１５の光屈折率は、サンプル９、サンプル１０、サンプル１１及びサンプル１２のいずれも１．７５であることから、透明導電膜層１２（ＩＴＯ膜）の厚みを３８ｎｍ以下の範囲に設定する場合、ハードコート層１５の光屈折率を１．８以下に設定しても透明導電膜層１２のパターン形状を目立ちにくくすることが可能であると考えられる。 Also, from Table 6, comparing Sample 9, Sample 10, Sample 11, and Sample 12 that differ only in the thickness of the transparent conductive film layer 12 (ITO film), the thickness of the transparent conductive film layer 12 (ITO film) is 25 nm. Regarding the sample 9 and the sample 10 which is 35 nm, the sensory test result is good (◎ or ◯), and the thickness of the transparent conductive film layer 12 (ITO film) is 40 nm or more. Since the sensory test result is x, from the viewpoint of improving visibility, it is considered preferable to set the thickness of the transparent conductive film layer 12 (ITO film) to be in a range of 38 nm or less. In addition, since the optical refractive index of the hard coat layer 15 is 1.75 in all of the sample 9, the sample 10, the sample 11, and the sample 12, the thickness of the transparent conductive film layer 12 (ITO film) is in the range of 38 nm or less. In the case of setting to 1, the pattern shape of the transparent conductive layer 12 can be made inconspicuous even if the optical refractive index of the hard coat layer 15 is set to 1.8 or less.

以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明の具体的な態様は上記実施形態に限定されない。例えば、上記実施形態においては、第１透明面状体１と第２透明面状体２とは、図１に示すように第１透明面状体１における透明基板１１の他方面（ハードコート層１５が形成されていない面）と、第２透明面状体２における透明導電膜層２２とが互いに離間して対向するようにして、粘着層４を介して貼着されているが、このような構成に特に限定されない。例えば、第１透明面状体１における透明導電膜層１２と、第２透明面状体２における透明導電膜層２２とが互いに離間して対向するようにして、第１透明面状体１と第透明２面状体２とを粘着層４を介して貼着してもよい。また、１枚の透明面状体の両側に透明導電膜層１２，２２をそれぞれ設けてもよい。また、１枚の透明面状体の一方面側に、透明導電膜層１２，２２を、一つの層として形成してもよい。このように透明導電膜層１２，２２を、一つの層として形成する場合、例えば特開昭６０−７５９２７号公報に開示されているように、帯状導電部１２ａと帯状導電部２２ａとの交差部分において、絶縁膜を介した状態で、一方の帯状導電部１２ａ（２２ａ）と他方の帯状導電部２２ａ（１２ａ）とが積層されるように構成する。 As mentioned above, although one Embodiment of this invention was described, the specific aspect of this invention is not limited to the said embodiment. For example, in the said embodiment, the 1st transparent planar body 1 and the 2nd transparent planar body 2 are the other surfaces (hard-coat layer) of the transparent substrate 11 in the 1st transparent planar body 1 as shown in FIG. 15) and the transparent conductive film layer 22 in the second transparent planar body 2 are attached to each other with the adhesive layer 4 interposed therebetween so as to face each other. The configuration is not particularly limited. For example, the transparent conductive film layer 12 in the first transparent planar body 1 and the transparent conductive film layer 22 in the second transparent planar body 2 are spaced apart from each other so as to face each other. The second transparent dihedral body 2 may be attached via the adhesive layer 4. Moreover, you may provide the transparent conductive film layers 12 and 22 in the both sides of one transparent planar body, respectively. Moreover, you may form the transparent conductive film layers 12 and 22 as one layer in the one surface side of one transparent planar body. Thus, when forming the transparent conductive film layers 12 and 22 as one layer, for example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-75927, an intersection between the strip-shaped conductive portion 12a and the strip-shaped conductive portion 22a. In FIG. 5, one band-shaped conductive portion 12a (22a) and the other band-shaped conductive portion 22a (12a) are stacked with an insulating film interposed therebetween.

１０１透明タッチパネル
１第１透明面状体
２第２透明面状体
１１，２１透明基板
１２，２２透明導電膜層
１３，２３第１薄膜層
１４，２４第２薄膜層
１５，２５ハードコート層
３保護層
４，５粘着層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 101 Transparent touch panel 1 1st transparent planar body 2 2nd transparent planar body 11,21 Transparent substrate 12,22 Transparent electrically conductive layer 13,23 1st thin film layer 14,24 2nd thin film layer 15,25 Hard coat layer 3 Protective layer 4, 5 Adhesive layer

Claims

A transparent planar body having a transparent conductive film layer patterned on at least one surface side of a transparent substrate,
Between the transparent substrate and the transparent conductive film layer, a first thin film layer, a second thin film layer and a hard coat layer are laminated from the transparent conductive film layer side,
The film thickness of the second thin film layer is formed to be larger than the film thickness of the first thin film layer,
The transparent conductive film layer has a film thickness of 15 nm or more and 38 nm or less, and a light refractive index of 1.9 or more and 2.3 or less,
The first thin film layer has a film thickness of 2 nm or more and 25 nm or less, a light refractive index of 1.3 or more and 1.55 or less,
The second thin film layer has a film thickness of 38 nm to 75 nm and an optical refractive index of 1.6 to 1.9,
The hard coat layer has a film thickness of 1 μm or more and 7 μm or less, and a light refractive index of 1.6 or more and 1.8 or less,
The reflectance for each wavelength of light irradiated to the pattern formation region where the transparent conductive film layer is formed from one side of the transparent substrate, and the transparent conductive layer formed from one side of the transparent substrate The first reflectance average value, which is the average value of each reflectance difference in the wavelength range from 380 nm to 400 nm, and each in the wavelength range from 500 nm to 800 nm, regarding the difference in reflectance for each wavelength of the light irradiated to the non-pattern forming region that has not been performed An absolute value of a difference from a second reflectance average value, which is an average value of the reflectance difference, is 0.7 or less.

The transparent planar body according to claim 1, wherein the light refractive index of the hard coat layer is lower than the light refractive index of the second thin film layer.

The transparent planar body according to claim 1, wherein the first thin film layer is made of silicon oxide.

The transparent sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the hard coat layer is formed of a resin composition to which inorganic fine particles are added.

A transparent touch panel provided with the transparent planar body in any one of Claim 1 to 4.