JP5626788B2 - Sealant paint and use thereof - Google Patents

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Description

本発明は、発光ダイオードの封止材用塗料および該塗料を使用した発光ダイオードに関する。   The present invention relates to a coating material for a sealing material of a light emitting diode and a light emitting diode using the coating material.

従来、発光ダイオード(Light Emitting Diode:LED)において、半導体素子を保護するために、エポキシ樹脂やシリコーン樹脂などの透明な封止材によって半導体素子を封止している。しかしながら、LEDの短波長化や高輝度化に伴ってLEDから放出されるエネルギーが増加し、場合によっては蓄熱して封止樹脂が黄変してLEDの輝度が低下する問題があった。   2. Description of the Related Art Conventionally, in a light emitting diode (LED), a semiconductor element is sealed with a transparent sealing material such as an epoxy resin or a silicone resin in order to protect the semiconductor element. However, there is a problem that energy emitted from the LED increases as the wavelength of the LED becomes shorter and the luminance increases, and in some cases, heat is stored and the sealing resin is yellowed to lower the luminance of the LED.

また、封止材の屈折率が低いためにLEDから放出される光が、封止材によって反射して光透過率が低下する問題、エネルギー効率の低下する問題があった。
このため、熱的安定性に優れ、屈折率を向上させて光透過率を向上させた封止材として、粒子径が1〜20nmの表面修飾したジルコニア粒子をシリコーン樹脂に配合した組成物が提案されている。(特開2009−173757号公報、特許文献1)
Moreover, since the refractive index of the sealing material is low, there is a problem that light emitted from the LED is reflected by the sealing material and the light transmittance is lowered, and energy efficiency is lowered.
For this reason, a composition in which silicone resin is blended with surface-modified zirconia particles having a particle diameter of 1 to 20 nm is proposed as a sealing material that has excellent thermal stability, improved refractive index, and improved light transmittance. Has been. (Unexamined-Japanese-Patent No. 2009-173757, patent document 1)

特開2009−173757号公報JP 2009-173757 A

しかしながら、特許文献1のようにジルコニア粒子のシリコーン樹脂への分散性を改良するために、一次表面修飾、二次表面修飾をし、さらに残存OH基を無くするためにアルキルシラザン系表面処理剤により三次表面修飾をする必要があることから、生産性が低いことに加え、表面修飾剤の必要量が多く、これら表面処理剤は屈折率が1.4近辺であることから得られる粒子の屈折率が1.6以下であり、これを用いた樹脂硬化物(封止材)の屈折率は必ずしも高くなく、このため光透過率の向上には限界があった。また、使用する表面処理剤が多いことに加え、高価であることから経済性の面で不利であった。   However, as disclosed in Patent Document 1, in order to improve the dispersibility of zirconia particles in a silicone resin, primary surface modification and secondary surface modification are performed, and in order to eliminate residual OH groups, an alkylsilazane surface treatment agent is used. Since tertiary surface modification is required, in addition to low productivity, a large amount of surface modification agent is required, and these surface treatment agents have a refractive index of around 1.4. Is 1.6 or less, and the refractive index of the cured resin (encapsulant) using the same is not necessarily high, and thus there is a limit to the improvement of the light transmittance. In addition to the large number of surface treatment agents used, it is expensive, which is disadvantageous in terms of economy.

本発明者等は、このような問題点に鑑み鋭意検討した結果、疎水性処理がされた酸化ジルコニウム粒子、中空シリカ粒子を含む封止材用塗料を使用することで、上記問題点をいずれも解消しうることを見出した。   As a result of intensive investigations in view of such problems, the present inventors have used any of the above-mentioned problems by using a coating material for sealing material containing hydrophobically treated zirconium oxide particles and hollow silica particles. I found that it can be resolved.

そして、このような、屈折率の異なる粒子を含む塗料を用いて、屈折率の異なる封止材からなる封止層を屈折率の高い順に積層させて形成すると、封止性能に優れるとともに光透過率の向上した封止層を形成できることを見出して本発明を完成するに至った。 本発明の構成は以下のとおりである。   And, using such a paint containing particles having different refractive indexes, if sealing layers made of sealing materials having different refractive indexes are laminated in order of higher refractive index, the sealing performance is excellent and light transmission is achieved. The inventors have found that a sealing layer having an improved rate can be formed and have completed the present invention. The configuration of the present invention is as follows.

[1]平均粒子径が5〜50nmの範囲にある疎水性酸化ジルコニウム粒子および/または平均粒子径が5〜200nmの範囲にある疎水性シリカ系中空粒子とマトリックス樹脂成分とを含み、該粒子の含有量が10〜90重量%の範囲にある封止材用塗料。
[2]前記疎水性粒子が、表面にトリアルキルシリル基を含有し、該トリアルキルシリル基を、酸化ジルコニウム粒子およびシリカ系中空粒子に対して固形分(R3−SiO1/2)として、10〜100重量%の範囲で含有する[1]の封止材用塗料。
[3]前記疎水性粒子が、表面にシリカ被覆層を有し、該シリカ被覆層表面に、トリアルキルシリル基を有する[2]の封止材用塗料。
[4]前記マトリックス樹脂成分が、エポキシ樹脂またはシリコーン樹脂である[1]〜[3]の封止材用塗料。
[5]前記塗料からなる封止層が設けられてなる発光ダイオード封止材。
[6]屈折率が異なる2〜20層の封止層が積層されてなり、最下層の封止層(第1封止層)の屈折率n1が1.55〜1.85の範囲にあり、最上層の封止層(n番目の封止層、n=2〜20)の屈折率nnが1.30〜1.65の範囲にあり、少なくとも2層以上の屈折率が異なる封止層が屈折率の高い順に積層してなり、各封止層が疎水性ジルコニウム粒子および/または疎水性シリカ系中空粒子とマトリックス樹脂とを含むことを特徴とする、発光ダイオード封止材。
[1] Hydrophobic zirconium oxide particles having an average particle diameter of 5 to 50 nm and / or hydrophobic silica-based hollow particles having an average particle diameter of 5 to 200 nm and a matrix resin component, A coating material for encapsulant having a content of 10 to 90% by weight.
[2] The hydrophobic particles contain a trialkylsilyl group on the surface, and the trialkylsilyl group as a solid content (R 3 —SiO 1/2 ) with respect to the zirconium oxide particles and the silica-based hollow particles, [1] The sealing material coating material according to [1], which is contained in the range of 10 to 100% by weight.
[3] The encapsulant coating material according to [2], wherein the hydrophobic particles have a silica coating layer on the surface, and a trialkylsilyl group on the surface of the silica coating layer.
[4] The encapsulant coating material according to [1] to [3], wherein the matrix resin component is an epoxy resin or a silicone resin.
[5] A light-emitting diode sealing material provided with a sealing layer made of the paint.
[6] 2 to 20 sealing layers having different refractive indexes are laminated, and the refractive index n 1 of the lowermost sealing layer (first sealing layer) is in the range of 1.55 to 1.85. There, sealing the top layer of the sealing layer (n-th sealing layer, n = 2 to 20) the refractive index n n of the range of 1.30 to 1.65, at least two or more layers of different refractive indices A light-emitting diode encapsulating material, wherein a stop layer is laminated in order of high refractive index, and each encapsulating layer contains hydrophobic zirconium particles and / or hydrophobic silica-based hollow particles and a matrix resin.

本発明によれば、発光ダイオード封止層を形成しうる封止材用塗料が提供される。かかる塗料の組成を変更することによって封止層の屈折率の調整が容易となる。また、少なくとも2種以上の屈折率が異なる封止層を屈折率の高い順に積層することによって、封止性能に優れるとともに反射が抑制され、光透過率(発光効率)が高く、また光エネルギーが熱エネルギーとして素子内に残らないので蓄熱が少なく、輝度に優れた発光ダイオード(LED)が提供できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the coating material for sealing materials which can form a light emitting diode sealing layer is provided. The refractive index of the sealing layer can be easily adjusted by changing the composition of the paint. Further, by laminating at least two kinds of sealing layers having different refractive indexes in the order of increasing refractive index, the sealing performance is excellent, reflection is suppressed, light transmittance (luminous efficiency) is high, and light energy is high. Since it does not remain in the device as thermal energy, a light-emitting diode (LED) with less heat storage and excellent luminance can be provided.

本発明にかかる塗料が使用される発光ダイオードの概略模式図を示す。The schematic diagram of the light emitting diode in which the coating material concerning this invention is used is shown.

まず、本発明に係る封止材用塗料について説明する。
[封止材用塗料]
本発明にかかる塗料は、粒子成分と樹脂成分とから構成される。
粒子成分は、疎水性酸化ジルコニウム粒子および/または疎水性シリカ系中空粒子からなる。
First, the encapsulant coating material according to the present invention will be described.
[Encapsulant paint]
The paint according to the present invention includes a particle component and a resin component.
The particle component is composed of hydrophobic zirconium oxide particles and / or hydrophobic silica-based hollow particles.

疎水性酸化ジルコニウム粒子
本発明に用いる疎水性酸化ジルコニウム粒子の平均粒子径は5〜50nm、さらには8〜30nmの範囲にあることが好ましい。
Hydrophobic zirconium oxide particles The average particle diameter of the hydrophobic zirconium oxide particles used in the present invention is preferably in the range of 5 to 50 nm, more preferably 8 to 30 nm.

疎水性酸化ジルコニウム粒子の平均粒子径が小さいものは、疎水性、分散性に優れた疎水性酸化ジルコニウム粒子としては得ることが困難であり、疎水性酸化ジルコニウム粒子の平均粒子径が大きすぎると、得られる封止材の透明性が不充分となり、光透過率が不充分となる場合がある。   Hydrophobic zirconium oxide particles having a small average particle diameter are difficult to obtain as hydrophobic zirconium oxide particles having excellent hydrophobicity and dispersibility. If the average particle diameter of the hydrophobic zirconium oxide particles is too large, In some cases, the resulting sealing material has insufficient transparency and insufficient light transmittance.

本発明では、疎水性酸化ジルコニウム粒子および後述する疎水性シリカ系中空粒子の平均粒子径は、透過型電子顕微鏡写真(TEM)を撮影し、50個の粒子について粒子径を測定し、これを平均して求めることができる。   In the present invention, the average particle diameter of the hydrophobic zirconium oxide particles and the hydrophobic silica-based hollow particles described later is obtained by taking a transmission electron micrograph (TEM), measuring the particle diameters of 50 particles, and averaging the average particle diameters. Can be obtained.

疎水性酸化ジルコニウム粒子の屈折率は、1.58〜2.0、さらには1.65〜2.0の範囲にあることが好ましい。この範囲での屈折率は、シリカ被覆層の形成、トリアルキルシリル基の形成、さらにこれらの形成量によって調整できる。なお、酸化ジルコニウムの屈折率は2.0〜2.2の範囲にある。   The refractive index of the hydrophobic zirconium oxide particles is preferably in the range of 1.58 to 2.0, more preferably 1.65 to 2.0. The refractive index in this range can be adjusted by the formation of a silica coating layer, the formation of a trialkylsilyl group, and the amount of these formations. The refractive index of zirconium oxide is in the range of 2.0 to 2.2.

なお、本発明の疎水性酸化ジルコニウム粒子の代わりに、酸化ジルコニウム粒子をより高屈折率である酸化チタン粒子に代えた場合には耐光性に問題が残る。
本発明で用いる疎水性酸化ジルコニウム粒子の屈折率の測定方法は、標準屈折液としてCARGILL製のSeriesA、AAを用い、以下の方法で測定した。
(1)疎水性酸化ジルコニウム粒子分散液をエバポレーターに採り、分散媒を蒸発させる。
(2)これを80℃で12時間乾燥し、粉末とする。
(3)屈折率が既知の標準屈折液を2、3滴ガラス板上に滴下し、これに上記粉末を混合する。
(4)上記(3)の操作を種々の標準屈折液で行い、混合液が透明になったときの標準屈折液の屈折率を疎水性酸化ジルコニウム粒子の屈折率とする。
If the zirconium oxide particles are replaced with titanium oxide particles having a higher refractive index instead of the hydrophobic zirconium oxide particles of the present invention, there remains a problem in light resistance.
The refractive index of the hydrophobic zirconium oxide particles used in the present invention was measured by the following method using Series A and AA manufactured by CARGILL as the standard refractive liquid.
(1) Take the hydrophobic zirconium oxide particle dispersion in an evaporator and evaporate the dispersion medium.
(2) This is dried at 80 ° C. for 12 hours to obtain a powder.
(3) A standard refraction liquid having a known refractive index is dropped on a glass plate of a few drops, and the above powder is mixed therewith.
(4) The operation of (3) is performed with various standard refractive liquids, and the refractive index of the standard refractive liquid when the mixed liquid becomes transparent is set as the refractive index of the hydrophobic zirconium oxide particles.

なお、屈折率の測定方法は後述する疎水性シリカ系中空粒子についても同様である。
本発明の疎水性酸化ジルコニウム粒子は、必要に応じて酸化ジルコニウム粒子の表面にシリカ被覆層が形成されていることが好ましい。
In addition, the measuring method of a refractive index is the same also about the hydrophobic silica type | system | group hollow particle mentioned later.
The hydrophobic zirconium oxide particles of the present invention preferably have a silica coating layer formed on the surface of the zirconium oxide particles as necessary.

シリカ被覆層の重量割合は酸化ジルコニウム粒子の粒子径によっても異なるが、固形分(SiO2)として酸化ジルコニウム粒子の1〜50重量%、さらには3〜40重量%の範囲にあることが好ましい。 The weight ratio of the silica coating layer varies depending on the particle diameter of the zirconium oxide particles, but is preferably in the range of 1 to 50% by weight, more preferably 3 to 40% by weight of the zirconium oxide particles as a solid content (SiO 2 ).

この範囲であれば、酸化ジルコニウム粒子表面へのトリメチルシリル基の導入が十分に行え、また、屈折率が低くなりすぎることもない。この範囲で、シリカ被覆層の重量割合を変更し、たとえば重量割合をすくなくすれば、酸化ジルコニウム粒子表面へのトリメチルシリル基の結合量も少なくなるものの、得られる疎水性酸化ジルコニウム粒子の屈折率が高くなり、封止材の光透過率が高めることが可能であり、LEDの発光効率(輝度)を高くできる。また、前記範囲で重量割合を高くすれば、屈折率が低くなるが、トリメチルシリル基の結合量を多くできるので、疎水性が高く、樹脂への分散性を高めることができる。   Within this range, the trimethylsilyl group can be sufficiently introduced to the surface of the zirconium oxide particles, and the refractive index does not become too low. If the weight ratio of the silica coating layer is changed within this range, for example, if the weight ratio is reduced, the amount of trimethylsilyl groups bonded to the surface of the zirconium oxide particles is reduced, but the resulting hydrophobic zirconium oxide particles have a high refractive index. Thus, the light transmittance of the sealing material can be increased, and the light emission efficiency (luminance) of the LED can be increased. Further, if the weight ratio is increased within the above range, the refractive index is decreased, but the amount of trimethylsilyl groups can be increased, so that the hydrophobicity is high and the dispersibility in the resin can be increased.

なお、シリカ被覆層を形成しない場合、トリメチルシリル基の結合が不十分となることがあり、その結果、LEDは光が散乱し、透過率が低下したり、ヘーズが高くなったりするため、発光効率(輝度)が不充分となる場合がある。   In addition, when the silica coating layer is not formed, the bonding of the trimethylsilyl group may be insufficient. As a result, the LED scatters light, and the transmittance decreases or the haze increases. (Brightness) may be insufficient.

シリカ被覆層の重量割合が、表面に導入多すぎると、かかるシリカ被覆層は、後述するようなテトラアルコキシシランで処理することによって形成される。
疎水性酸化ジルコニウム粒子の表面にはトリアルキルシリル基が結合している。
When the weight ratio of the silica coating layer is excessively introduced to the surface, the silica coating layer is formed by treatment with tetraalkoxysilane as described later.
A trialkylsilyl group is bonded to the surface of the hydrophobic zirconium oxide particles.

トリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、n-オクチルジメチルシリル基等が挙げられる。トリアルキルシリル基は、直接、酸化ジルコニウム粒子、シリカ粒子に導入されていてもよい。また、シリカ被覆層表面にこのようなトリアルキルシリル基を有していると疎水性が高く、樹脂への分散性に優れた屈折率の高い疎水性酸化ジルコニウム微粒子が得られる。前記有機樹脂が分散媒相溶性を有していることが好ましい。 Examples of the trialkylsilyl group include a trimethylsilyl group and an n -octyldimethylsilyl group . The trialkylsilyl group may be directly introduced into the zirconium oxide particles and the silica particles. Further, when such a trialkylsilyl group is present on the surface of the silica coating layer, hydrophobic zirconium oxide fine particles having high hydrophobicity and high refractive index excellent in dispersibility in the resin can be obtained. It is preferable that the organic resin has dispersion medium compatibility.

その結果、特にエポキシ樹脂、シリコーン樹脂への分散性に優れ、光透過率が高く、耐熱性に優れた樹脂硬化物膜(発光ダイオード(LED))を得ることができる。
前記トリアルキルシリル基の重量割合は、アルキル基の種類によっても異なるが、固形分(R3−SiO1/2)として酸化ジルコニウム粒子の10〜100重量%、さらには20〜80重量%の範囲にあることが好ましい。
As a result, it is possible to obtain a cured resin film (light emitting diode (LED)) having excellent dispersibility in epoxy resin and silicone resin, high light transmittance, and excellent heat resistance.
The weight ratio of the trialkylsilyl group varies depending on the type of the alkyl group, but is in the range of 10 to 100% by weight, more preferably 20 to 80% by weight of the zirconium oxide particles as the solid content (R 3 —SiO 1/2 ). It is preferable that it exists in.

トリアルキルシリル基を前記範囲で含むことで、屈折率も所定の範囲となり、十分な疎水性を有するので、LED封止用樹脂と混合した場合、粒子の分散性や安定性が高く、封止材のヘーズが低いので、光透過率が高い。この範囲で、トリアルキルシリル基を少なくすれば、屈折率を高めることができ、トリアルキルシリル基の量を多くすればと疎水性酸化ジルコニウム粒子の分散性や安定性を高めることができる。なお、シリカ被覆層やトリアルキルシリル基の量を多くしすぎると、屈折率を低くしてしまい、場合によってはLED封止材に使用した場合、発光した光が外部に出ず、内部で散乱し発熱が起こるため、発光効率(輝度)が低下することがある。   By including a trialkylsilyl group in the above range, the refractive index is also in a predetermined range and has sufficient hydrophobicity, so when mixed with an LED sealing resin, the dispersibility and stability of the particles are high, sealing Since the haze of the material is low, the light transmittance is high. Within this range, the refractive index can be increased by reducing the number of trialkylsilyl groups, and the dispersibility and stability of the hydrophobic zirconium oxide particles can be increased by increasing the amount of trialkylsilyl groups. Note that if the amount of the silica coating layer or trialkylsilyl group is excessively increased, the refractive index is lowered. In some cases, when used as an LED sealing material, the emitted light does not come out and is scattered inside. However, since heat generation occurs, the light emission efficiency (luminance) may be reduced.

また、疎水性酸化ジルコニウム粒子の表面電荷量が3〜30μeq/g、さらには5〜28μeq/gの範囲にあることが好ましい。
疎水性酸化ジルコニウム粒子の表面電荷量が低いと、疎水性酸化ジルコニウム粒子の疎水性が高すぎるため、封止材を形成した場合、樹脂との結合が悪くなり、封止材の硬度が低下する場合がある。
The surface charge amount of the hydrophobic zirconium oxide particles is preferably in the range of 3 to 30 μeq / g, more preferably 5 to 28 μeq / g.
If the surface charge amount of the hydrophobic zirconium oxide particles is low, the hydrophobicity of the hydrophobic zirconium oxide particles is too high. Therefore, when the sealing material is formed, the bond with the resin is deteriorated and the hardness of the sealing material is reduced. There is a case.

疎水性酸化ジルコニウム粒子の表面電荷量が高いと、疎水性酸化ジルコニウム粒子の分散性や安定性が不充分となり、樹脂と混合した場合、凝集したり、形成した封止材のヘーズが高くなり、光透過率が不充分となる場合がある。   If the surface charge amount of the hydrophobic zirconium oxide particles is high, the dispersibility and stability of the hydrophobic zirconium oxide particles become insufficient, and when mixed with a resin, they aggregate or increase the haze of the formed sealing material, The light transmittance may be insufficient.

疎水性酸化ジルコニウム粒子の表面電荷量は、前記トリアルキルシリル基の重量割合、アルキル基の種類によって調整することができる。
具体的には、トリアルキルシリル基の重量割合が大きいと表面電荷量は低下し、また炭素数の多いアルキル基の含有量が多いと表面電荷量は低下する。
The surface charge amount of the hydrophobic zirconium oxide particles can be adjusted by the weight ratio of the trialkylsilyl group and the type of the alkyl group.
Specifically, when the weight ratio of the trialkylsilyl group is large, the surface charge amount decreases, and when the content of the alkyl group having a large number of carbon atoms is large, the surface charge amount decreases.

本発明での前記表面電荷量の測定方法は、表面電位滴定装置(Mutek(株):pcd-03)を用いて、粒子の分散液を0.001Nのpoly-塩化ジアリルジメチルアンモニウムを用いて滴定し、粒子単位重量当たりの表面電荷量(μeq/g)として求める。   In the present invention, the surface charge amount is measured by using a surface potential titration apparatus (Mutek Co., Ltd .: pcd-03) and titrating the particle dispersion using 0.001 N poly-diallyldimethylammonium chloride. And obtained as a surface charge amount (μeq / g) per particle unit weight.

[疎水性酸化ジルコニウム粒子の製造方法]
本発明に用いる疎水性酸化ジルコニウム粒子は、下記の工程(a)〜(f)によって調製することができる。
(a)平均粒子径が5〜50nmの範囲にある酸化ジルコニウム粒子分散液を調製する工程
(b)下記式(1)で表される有機珪素化合物(1)を添加する工程
SiX4 (1)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基)
(c)有機珪素化合物(1)を加水分解する工程
(d)有機溶媒に溶媒置換する工程
(e)トリアルキルシリル基を有する有機珪素化合物(2)を添加する工程
(f)トリアルキルシリル化する工程
[Method for producing hydrophobic zirconium oxide particles]
The hydrophobic zirconium oxide particles used in the present invention can be prepared by the following steps (a) to (f).
(A) Step of preparing a zirconium oxide particle dispersion having an average particle size in the range of 5 to 50 nm (b) Step of adding an organosilicon compound (1) represented by the following formula (1) SiX 4 (1)
(Where X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms)
(C) Step of hydrolyzing organosilicon compound (1) (d) Step of solvent substitution with organic solvent (e) Step of adding organosilicon compound (2) having trialkylsilyl group (f) Trialkylsilylation Process

工程(a)
平均粒子径が5〜50nmの範囲にある酸化ジルコニウム粒子分散液を調製する。
本発明に用いる酸化ジルコニウム粒子の平均粒子径は5〜50nm、さらには8〜30nmの範囲にあることが好ましい。
Step (a)
A zirconium oxide particle dispersion having an average particle size in the range of 5 to 50 nm is prepared.
The average particle diameter of the zirconium oxide particles used in the present invention is preferably in the range of 5 to 50 nm, more preferably 8 to 30 nm.

酸化ジルコニウム粒子が小さすぎると、前記したとおり、結晶性が低く、屈折率も低いことに加えて、本発明の疎水性酸化ジルコニウム粒子を得る際のシリカ被覆層を形成する際に凝集することがあり、このためトリアルキルシリル化が不均一になり、疎水性、分散性が不充分になる場合がある。酸化ジルコニウム粒子が大きすぎても、理由は明らかではないが、該酸化ジルコニウム粒子から得られる樹脂硬化物膜(封止材)の透明性が不充分となり、光透過率が不充分となる場合がある。   If the zirconium oxide particles are too small, as described above, in addition to low crystallinity and low refractive index, they may aggregate when forming the silica coating layer for obtaining the hydrophobic zirconium oxide particles of the present invention. For this reason, trialkylsilylation becomes nonuniform, and hydrophobicity and dispersibility may be insufficient. If the zirconium oxide particles are too large, the reason is not clear. However, the transparency of the cured resin film (encapsulant) obtained from the zirconium oxide particles may be insufficient and the light transmittance may be insufficient. is there.

分散液に用いる分散媒には、水、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール、他の有機溶媒が好適に用いられる。
酸化ジルコニウム粒子分散液の濃度は固形分として0.5〜30重量%、さらには5〜20重量%の範囲にあることが好ましい。濃度が低すぎると工程(b)での生産性が低下する。濃度が高すぎても、工程(c)で酸化ジルコニウム粒子が凝集する場合があり、このため工程(f)でトリメチルシリル化が不均一となり、得られる疎水性酸化ジルコニウム粒子の疎水性、分散性が低下し、封止材の透明性、強度等が不充分となる場合がある。
As the dispersion medium used for the dispersion, water, alcohol such as methanol, ethanol, propanol, butanol, and other organic solvents are preferably used.
The concentration of the zirconium oxide particle dispersion is preferably from 0.5 to 30% by weight, more preferably from 5 to 20% by weight as the solid content. If the concentration is too low, the productivity in the step (b) decreases. Even if the concentration is too high, the zirconium oxide particles may agglomerate in step (c). For this reason, trimethylsilylation becomes non-uniform in step (f), and the hydrophobic and dispersibility of the resulting hydrophobic zirconium oxide particles is poor. In some cases, the transparency, strength, and the like of the sealing material become insufficient.

工程(b)
下記式(1)で表される有機珪素化合物(1)を添加する。これによりシリカ被覆層を形成する。なお、 トリアルキルシリル基を直接導入できる場合、工程(b)および(c)は必ずしも行わなくともよい。
Step (b)
An organosilicon compound (1) represented by the following formula (1) is added. Thereby, a silica coating layer is formed. If a trialkylsilyl group can be directly introduced, steps (b) and (c) are not necessarily performed.

SiX4 (1)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基))
このような有機珪素化合物(1)として、具体的にはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシシラン、テトラブトキシシラン等が挙げられる。
SiX 4 (1)
(Where X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms))
Specific examples of such an organosilicon compound (1) include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and tetrabutoxysilane.

有機珪素化合物(1)の添加量は、用いる酸化ジルコニウム粒子の粒子径によっても異なるが、SiO2として酸化ジルコニウム粒子の1〜50重量%、さらには3〜40重量%の範囲にあることが好ましい。 The amount of the organosilicon compound (1) added varies depending on the particle diameter of the zirconium oxide particles used, but is preferably in the range of 1 to 50% by weight, more preferably 3 to 40% by weight of the zirconium oxide particles as SiO 2. .

この範囲にあれば、前記したように、酸化ジルコニウム粒子表面へのトリメチルシリル基の導入が十分に行え、また、屈折率が低くなりすぎることもない。この範囲で、有機珪素化合物(1)の添加量を変更し、たとえばすくなくすれば、酸化ジルコニウム粒子表面へのトリメチルシリル基の結合量も少なくなるものの、得られる疎水性酸化ジルコニウム粒子の屈折率が高くなり、封止材の光透過率を高めることが可能であり、LEDの発光効率(輝度)を高くできる。また、前記範囲で多くすれば、屈折率が低くなるが、トリメチルシリル基の結合量を多くできるので、疎水性が高く、樹脂への分散性を高めることができる。   Within this range, as described above, the trimethylsilyl group can be sufficiently introduced to the surface of the zirconium oxide particles, and the refractive index does not become too low. If the addition amount of the organosilicon compound (1) is changed within this range, for example, if it is eliminated, the amount of trimethylsilyl groups bonded to the surface of the zirconium oxide particles will be reduced, but the resulting hydrophobic zirconium oxide particles have a high refractive index. Thus, the light transmittance of the sealing material can be increased, and the light emission efficiency (luminance) of the LED can be increased. Further, if the amount is increased in the above range, the refractive index is lowered, but the amount of trimethylsilyl groups bonded can be increased, so that the hydrophobicity is high and the dispersibility in the resin can be improved.

なお、本工程では有機珪素化合物(1)とともに下記式(3)で表される有機珪素化合物(3)を混合して、用いることができる。
1-SiX3 (3)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素)
In this step, the organosilicon compound (3) represented by the following formula (3) can be mixed and used together with the organosilicon compound (1).
R 1 -SiX 3 (3)
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, Halogen, hydrogen)

有機珪素化合物(3)として、例えば、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(βメトキシエトキシ)シラン、3,3,3−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、メチル-3,3,3−トリフルオロプロピルジメトキシシラン、β−(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシメチルトリエキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシエチルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−(β−グリシドキシエトキシ)プロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシメチルトリエキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシエチルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリメトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、γ-(メタ)アクリロオキシプロピルトリエトキシシラン、およびこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the organosilicon compound (3) include methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, isobutyltrimethoxysilane. Methoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (βmethoxyethoxy) silane, 3,3,3-trifluoropropyltrimethoxysilane, methyl-3,3,3-trifluoropropyldimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxymethyltriethoxysilane, γ-glycidoxyethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxyethyltri Ethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ- (β-glycid Xyethoxy) propyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltrimethoxysilane, γ- (meth) acrylooxymethyltriethoxysilane, γ- (meth) acrylooxyethyltrimethoxysilane, γ- ( (Meth) acryloxyethyltriethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, γ- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane, γ -(Meth) acryloxypropyltriethoxysilane, and mixtures thereof Things.

このような有機珪素化合物(3)を使用することで、疎水性、分散性に優れた疎水性酸化ジルコニウムが得られる。またこのような有機珪素化合物(3)の使用量は、酸化ジルコニウム粒子のZrO2に対して、1〜50重量%、好ましくは3〜40重量%の範囲にあることが望ましい。 By using such an organosilicon compound (3), a hydrophobic zirconium oxide excellent in hydrophobicity and dispersibility can be obtained. The amount of the organosilicon compound (3) used is desirably in the range of 1 to 50% by weight, preferably 3 to 40% by weight, based on ZrO 2 of the zirconium oxide particles.

工程(c)
ついで、水および加水分解用触媒を添加し、有機珪素化合物(1)を加水分解して酸化ジルコニウム粒子の表面にシリカ被覆層を形成する。
Step (c)
Next, water and a catalyst for hydrolysis are added, and the organosilicon compound (1) is hydrolyzed to form a silica coating layer on the surface of the zirconium oxide particles.

このとき、添加する水のモル数(MH2O)と有機珪素化合物(1)のモル数(MOC)とのモル比(MH2O)/(MOC)が1〜300、さらには5〜200の範囲にあることが好ましい。 At this time, the molar ratio (M H2O ) / (M OC ) between the number of moles of water to be added (M H2O ) and the number of moles (M OC ) of the organosilicon compound (1) is 1 to 300, more preferably 5 to 200. It is preferable that it exists in the range.

モル比(MH2O)/(MOC)が低いと、加水分解が不充分となり、有機珪素化合物(1)が少ない場合と同様に、酸化ジルコニウム粒子表面へのトリメチルシリル基の結合が不充分となり、充分に疎水性を有する疎水性酸化ジルコニウム粒子が得られない場合がある。 When the molar ratio (M H2O ) / (M OC ) is low, hydrolysis is insufficient, and as in the case where the organosilicon compound (1) is low, the bonding of trimethylsilyl groups to the surface of the zirconium oxide particles is insufficient. In some cases, hydrophobic zirconium oxide particles having sufficient hydrophobicity cannot be obtained.

モル比(MH2O)/(MOC)が高すぎても、後に、除去する必要があるがその除去が困難な場合があり、樹脂への分散性が不充分となり、粒子が凝集し、ヘーズが高くなることがある。また、得られる封止材の硬化が不充分となったり、ボイドが発生する場合がある。 If the molar ratio (M H2O ) / (M OC ) is too high, it may need to be removed later, but it may be difficult to remove, resulting in insufficient dispersibility in the resin, aggregation of the particles, and haze. May be higher. Further, the obtained sealing material may be insufficiently cured or voids may be generated.

また、加水分解用触媒としてはアンモニアが好ましい。アンモニアを用いると、塗料に残存しても除去することが容易であり、残存量が少量であれば塗料中の疎水性酸化ジルコニウム粒子の分散性を大きく損なうことはなく、塗料を用いて形成した封止材の性能を損なうこともない。   Further, ammonia is preferable as the hydrolysis catalyst. When ammonia is used, it is easy to remove even if it remains in the paint, and if the residual amount is small, the dispersibility of the hydrophobic zirconium oxide particles in the paint will not be greatly impaired, and it is formed using the paint. The performance of the sealing material is not impaired.

添加するアンモニアのモル数(MNH3)と有機珪素化合物(1)のモル数(MOC)とのモル比(MNH3)/(MOC)は0.1〜12、さらには0.2〜10の範囲にあることが好ましい。 The molar ratio (M NH3 ) / (M OC ) of the number of moles of ammonia to be added (M NH3 ) and the number of moles (M OC ) of the organosilicon compound (1) is 0.1 to 12, more preferably 0.2 to A range of 10 is preferable.

モル比(MNH3)/(MOC)が低いと、加水分解が不充分となり、前記水が少ない場合と同様の問題がある。モル比(MNH3)/(MOC)が高すぎても、未加水分解物が残留することはなくなるものの、アンモニアが多く残留するようになり、塗料中の疎水性酸化ジルコニウム粒子の分散性が低下し、得られる樹脂硬化物膜(封止材)の硬化不良、ボイドの生々等の原因となることがあり、このため、残存するアンモニアを除去する必要が生じる。
水およびアンモニアの添加方法は、各々個別に添加することもできるが、アンモニア水として添加することが好ましい。
When the molar ratio (M NH3 ) / (M OC ) is low, hydrolysis becomes insufficient, and there are the same problems as in the case where the amount of water is small. If the molar ratio (M NH3 ) / (M OC ) is too high, no unhydrolyzed product will remain, but a large amount of ammonia will remain, and the dispersibility of the hydrophobic zirconium oxide particles in the paint will be In some cases, the resulting resin cured product film (encapsulant) may be poorly cured and voids may be generated. For this reason, it is necessary to remove the remaining ammonia.
Water and ammonia can be added individually, but it is preferably added as ammonia water.

工程(d)
有機溶媒に溶媒置換する。
有機溶媒としてはメタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール(IPA)、ブタノールなどのアルコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールイソプルピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プルピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類等が挙げられる。
Step (d)
The solvent is replaced with an organic solvent.
Organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, 2-propanol (IPA), butanol; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, propylene glycol monomethyl ether And ethers such as propylene glycol monoethyl ether; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone.

なかでも、メタノール、エタノール、2-プロパノール(IPA)などのアルコール類を用いると、工程(c)で得られたシリカ被覆ジルコニアゾルが凝集を起こしにくく安定するので好ましい。   Of these, the use of alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol (IPA) is preferable because the silica-coated zirconia sol obtained in the step (c) hardly stabilizes and is stable.

置換する方法としては、蒸留法、限外濾過膜法、ロータリーエバポレーター法等、従来公知の方法を採用することができる。
溶媒置換後の有機溶媒分散液の濃度は固形分として0.5〜40重量%、さらには1.0〜30重量%の範囲にあることが好ましい。
As a replacement method, a conventionally known method such as a distillation method, an ultrafiltration membrane method, or a rotary evaporator method can be employed.
The concentration of the organic solvent dispersion after solvent replacement is preferably in the range of 0.5 to 40% by weight, more preferably 1.0 to 30% by weight as the solid content.

工程(e)
疎水化剤として、トリアルキルシリル基を有する有機珪素化合物(2)を添加する。トリアルキルシリル基を有する有機珪素化合物(2)としてはヘキサメチルジシラザン、トリメチルシラノール、トリメチルメトキシシラン、トリメチルクロロシラン、n-オクチルジメチルクロロシラン等およびこれらの混合物が挙げられる。
Step (e)
As a hydrophobizing agent, an organosilicon compound (2) having a trialkylsilyl group is added. Hexamethyldisilazane as the organic silicon compound (2) having a trialkylsilyl group, trimethyl silanol, preparative trimethyl methoxy silane, trimethyl chloro silane, n- octyl dimethyl chlorosilane, and the like and mixtures thereof.

トリアルキルシリル基を有する有機珪素化合物(2)の添加量は、酸化ジルコニウム粒子の粒子径、アルキル基の種類(大きさ)によっても異なるが、酸化ジルコニウム粒子の表面に緻密に結合できる範囲で添加すれば良いが、(R3−SiO1/2)として酸化ジルコニウム粒子の10〜100重量%、さらには20〜80重量%となるように添加することが好ましい。 The addition amount of the organosilicon compound (2) having a trialkylsilyl group varies depending on the particle diameter of the zirconium oxide particle and the type (size) of the alkyl group, but is added within a range that can be closely bonded to the surface of the zirconium oxide particle. However, it is preferable to add (R 3 —SiO 1/2 ) so that it is 10 to 100% by weight, more preferably 20 to 80% by weight of the zirconium oxide particles.

トリアルキルシリル基を有する有機珪素化合物(2)の添加量が少ないと、分散性、特にエポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の疎水性樹脂への分散性が不充分となり、これを用いたLEDは、光透過率が不充分となる場合がある。トリアルキルシリル基を有する有機珪素化合物(2)の添加量が多すぎても、分散性がさらに向上することもなく、屈折率が低下し、光透過率が不充分となる場合がある。   If the addition amount of the organosilicon compound (2) having a trialkylsilyl group is small, dispersibility, particularly dispersibility in hydrophobic resins such as epoxy resins and silicone resins, becomes insufficient. The transmittance may be insufficient. Even if the amount of the organosilicon compound (2) having a trialkylsilyl group is too large, the dispersibility is not further improved, the refractive index is lowered, and the light transmittance may be insufficient.

工程(f)
ついで、加熱処理することによって、前記有機珪素化合物(2)を反応させてトリアルキルシリル化する。
Step (f)
Subsequently, the organosilicon compound (2) is reacted to be trialkylsilylated by heat treatment.

通常、加熱処理は撹拌下で行うことが好ましく、この時の温度は、溶媒の種類によっても異なるが、溶媒の沸点以下が好ましく、概ね30〜90℃の範囲である。別法としては、加熱還流する方法も採用することができる。   Usually, the heat treatment is preferably carried out under stirring, and the temperature at this time varies depending on the type of the solvent, but is preferably not more than the boiling point of the solvent, and is generally in the range of 30 to 90 ° C. As another method, a method of heating to reflux can also be employed.

加熱温度は有機溶媒の種類、有機珪素化合物(2)の種類によっても異なるが30〜90℃、さらには40〜80℃の範囲にあることが好ましい。この時、加熱時間は温度、有機珪素化合物(2)の反応性によっても異なるが、概ね1〜24時間である。   Although heating temperature changes also with the kind of organic solvent and the kind of organic silicon compound (2), it is preferable that it exists in the range of 30-90 degreeC, Furthermore, 40-80 degreeC. At this time, although the heating time varies depending on the temperature and the reactivity of the organosilicon compound (2), it is approximately 1 to 24 hours.

このようにして得られた疎水性酸化ジルコニウム粒子の有機溶媒分散液は、このまま用いることもでき、有機溶媒を除去して用いることもでき、さらには他の分散媒に置換して用いることもできる。   The thus obtained organic solvent dispersion of hydrophobic zirconium oxide particles can be used as it is, can be used after removing the organic solvent, and can also be used after being replaced with another dispersion medium. .

置換する方法としては、蒸留法、限外濾過膜法、ロータリーエバポレーター法等従来公知の方法を採用することができる。
他の分散媒としては従来公知の有機溶媒を使用することができ、メタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール(IPA)、ブタノールなどのアルコール類;酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルなどのエステル類;ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールイソプルピルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プルピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ブチルメチルケトン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジプロピルケトン、メチルペンチルケトン、ジイソブチルケトン、イソホロン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン類;トルエン、キシレン等が挙げられる。
As a replacement method, a conventionally known method such as a distillation method, an ultrafiltration membrane method, or a rotary evaporator method can be employed.
Other known organic solvents can be used as other dispersion media, and alcohols such as methanol, ethanol, propanol, 2-propanol (IPA) and butanol; esters such as methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate Class: diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, etc. Ethers; acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, butyl methyl ketone, cyclohexanone, methyl Cyclohexanone, dipropyl ketone, methyl pentyl ketone, diisobutyl ketone, isophorone, acetylacetone, ketones such as acetoacetate; toluene, xylene and the like.

さらに、分散媒として後述するエポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の樹脂成分等を溶媒として使用することも可能である。エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等を用いた場合には、他の有機溶媒を除去することによってそのまま本発明の塗料となる。   Furthermore, a resin component such as an epoxy resin and a silicone resin, which will be described later, can be used as a dispersion medium as a solvent. When an epoxy resin, a silicone resin, or the like is used, the paint of the present invention is directly obtained by removing other organic solvents.

上記製造方法によって得られる疎水性酸化ジルコニウム粒子は、表面にトリアルキルシリル基が結合してなり、平均粒子径が5〜50nmの範囲にあり、屈折率が1.58〜2.0の範囲にあり、表面電荷量が3〜30μeq/gの範囲にあり、樹脂への分散性に優れている。   Hydrophobic zirconium oxide particles obtained by the above production method have trialkylsilyl groups bonded to the surface, have an average particle diameter in the range of 5 to 50 nm, and a refractive index in the range of 1.58 to 2.0. Yes, the surface charge amount is in the range of 3 to 30 μeq / g, and the dispersibility in the resin is excellent.

[疎水性シリカ系中空粒子]
本発明に用いる疎水性シリカ系中空粒子の平均粒子径は2〜200nm、さらには10〜150nmの範囲にあることが好ましい。中空粒子は、その内部に空洞を有するものである。
[Hydrophobic silica-based hollow particles]
The average particle diameter of the hydrophobic silica-based hollow particles used in the present invention is preferably in the range of 2 to 200 nm, more preferably 10 to 150 nm. Hollow particles have cavities inside.

疎水性シリカ系中空粒子が小さすぎると、疎水性、分散性に優れた疎水性シリカ系中空粒子としては得ることが困難であり、疎水性シリカ系中空粒子が大きすぎても、封止材の透明性が不充分となり、光透過率が不充分となる場合がある。   If the hydrophobic silica-based hollow particles are too small, it is difficult to obtain hydrophobic silica-based hollow particles excellent in hydrophobicity and dispersibility. Even if the hydrophobic silica-based hollow particles are too large, the sealing material In some cases, the transparency is insufficient and the light transmittance is insufficient.

中空粒子の外殻層の厚さは、粒子径によっても異なるが、通常1〜20nmの範囲にある。
疎水性シリカ系中空粒子の屈折率は1.15〜1.45、さらには1.15〜1.40の範囲にあることが好ましい。疎水性シリカ系中空粒子の屈折率が上記範囲よりも低いものは得ることが困難である。通常、疎水性シリカ系中空粒子は屈折率が低い封止層を形成するために使用されるが、前記範囲を超えて屈折率が高いものは、最上層の封止層の屈折率を低くできないことがあり、光透過率を充分に高めることができない場合がある。なお、本発明では、最上層以外の封止層には、中空でない、通常のシリカ粒子を使用することもできる。
The thickness of the outer shell layer of the hollow particles varies depending on the particle diameter, but is usually in the range of 1 to 20 nm.
The refractive index of the hydrophobic silica-based hollow particles is preferably in the range of 1.15 to 1.45, more preferably 1.15 to 1.40. It is difficult to obtain a hydrophobic silica-based hollow particle having a refractive index lower than the above range. Usually, hydrophobic silica-based hollow particles are used to form a sealing layer having a low refractive index, but those having a high refractive index exceeding the above range cannot lower the refractive index of the uppermost sealing layer. In some cases, the light transmittance cannot be sufficiently increased. In the present invention, normal silica particles that are not hollow can be used for the sealing layer other than the uppermost layer.

本発明に用いる疎水性シリカ系中空粒子は、シリカ系中空粒子の表面にシリカ被覆層が形成されていてもよい。シリカ中空粒子(任意のシリカも同様に)の場合、上記の酸化ジルコニウム粒子のように、必ずしもシリカ被覆層を設ける必要はない。   The hydrophobic silica-based hollow particles used in the present invention may have a silica coating layer formed on the surface of the silica-based hollow particles. In the case of silica hollow particles (as well as arbitrary silica), it is not always necessary to provide a silica coating layer like the above-mentioned zirconium oxide particles.

シリカ被覆層の重量割合はシリカ系中空粒子の粒子径によっても異なるが、固形分(SiO2)としてシリカ系中空粒子の50重量%以下、さらには3〜40重量%の範囲にあることが好ましい。 The weight ratio of the silica coating layer varies depending on the particle size of the silica-based hollow particles, but is preferably 50% by weight or less, more preferably 3 to 40% by weight of the silica-based hollow particles as a solid content (SiO 2 ). .

シリカ被覆層が多すぎると、得られる疎水性シリカ系中空粒子の屈折率が高くなり最上層の封止層の屈折率を低くできずに、光透過率を充分に高めることができない場合がある。   If there are too many silica coating layers, the refractive index of the resulting hydrophobic silica-based hollow particles increases, and the refractive index of the uppermost sealing layer cannot be lowered, and the light transmittance may not be sufficiently increased. .

疎水性シリカ系中空粒子の表面にはトリアルキルシリル基が結合している。トリアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基、n-オクチルジメチルシリル基等が挙げられる。 A trialkylsilyl group is bonded to the surface of the hydrophobic silica-based hollow particles. Examples of the trialkylsilyl group include a trimethylsilyl group and an n -octyldimethylsilyl group .

トリアルキルシリル基が結合していると樹脂、特にエポキシ樹脂、シリコーン樹脂への分散性に優れ、光透過率が高く、耐熱性に優れた発光ダイオード(LED)を得ることができる。   When the trialkylsilyl group is bonded, a light emitting diode (LED) having excellent dispersibility in resins, particularly epoxy resins and silicone resins, high light transmittance, and excellent heat resistance can be obtained.

前記トリアルキルシリル基の重量割合は、アルキル基の種類によっても異なるが、固形分(R3−SiO1/2)としてシリカ系中空粒子の10〜100重量%、さらには20〜80重量%の範囲にあることが好ましい。 Although the weight ratio of the trialkylsilyl group varies depending on the type of the alkyl group, it is 10 to 100% by weight, more preferably 20 to 80% by weight of the silica-based hollow particles as a solid content (R 3 —SiO 1/2 ). It is preferable to be in the range.

トリアルキルシリル基を前記範囲で含むことで、屈折率も所定の範囲となり、十分な疎水性を有するので、LED封止用樹脂と混合した場合、粒子の分散性や安定性が高く、封止材のヘーズが低いので、光透過率が高くできる。この範囲で、トリアルキルシリル基を少なくすれば、屈折率を高めることができ、トリアルキルシリル基の量を多くすればと疎水性中空シリカ粒子の分散性や安定性を高めることができる。なお、シリカ被覆層やトリアルキルシリル基の量を多くしすぎると、屈折率が1.45を越える場合があり、最上層の封止層の屈折率を低くできないために、光透過率を充分に高めることができない場合がある。   By including a trialkylsilyl group in the above range, the refractive index is also in a predetermined range and has sufficient hydrophobicity, so when mixed with an LED sealing resin, the dispersibility and stability of the particles are high, sealing Since the haze of the material is low, the light transmittance can be increased. In this range, if the number of trialkylsilyl groups is decreased, the refractive index can be increased, and if the amount of trialkylsilyl groups is increased, the dispersibility and stability of the hydrophobic hollow silica particles can be increased. If the amount of the silica coating layer or trialkylsilyl group is too large, the refractive index may exceed 1.45, and the refractive index of the uppermost sealing layer cannot be lowered. It may not be possible to increase it.

また、疎水性シリカ系中空粒子の表面電荷量が3〜30μeq/g、さらには5〜28μeq/gの範囲にあることが好ましい。
疎水性シリカ系中空粒子の表面電荷量が低いと、疎水性シリカ系中空粒子の疎水性が高すぎるため、封止材を形成した場合、樹脂との結合が悪くなり、封止材の硬度が低下する場合がある。
The surface charge amount of the hydrophobic silica-based hollow particles is preferably in the range of 3 to 30 μeq / g, more preferably 5 to 28 μeq / g.
If the surface charge amount of the hydrophobic silica-based hollow particles is low, the hydrophobicity of the hydrophobic silica-based hollow particles is too high. Therefore, when the sealing material is formed, the bond with the resin is deteriorated, and the hardness of the sealing material is low. May decrease.

疎水性シリカ系中空粒子の表面電荷量が高すぎても、疎水性シリカ系中空粒子の分散性や安定性が不充分となり、樹脂と混合した場合、凝集したり、形成した封止材のヘーズが高くなり、光透過率が不充分となる場合がある。   Even if the surface charge amount of the hydrophobic silica-based hollow particles is too high, the dispersibility and stability of the hydrophobic silica-based hollow particles become insufficient, and when mixed with a resin, they aggregate or haze the formed sealing material. May increase and the light transmittance may be insufficient.

疎水性シリカ系中空粒子の表面電荷量は、前記トリアルキルシリル基の重量割合、アルキル基の種類によって調整することができる。
具体的には、トリアルキルシリル基の重量割合が大きいと表面電荷量は低下し、また炭素数の多いアルキル基の含有量が多いと表面電荷量は低下する。
The surface charge amount of the hydrophobic silica-based hollow particles can be adjusted by the weight ratio of the trialkylsilyl group and the type of the alkyl group.
Specifically, when the weight ratio of the trialkylsilyl group is large, the surface charge amount decreases, and when the content of the alkyl group having a large number of carbon atoms is large, the surface charge amount decreases.

[疎水性シリカ系中空粒子の製造方法]
本発明に用いる疎水性シリカ系中空粒子は、前記疎水性酸化ジルコニウム粒子の製造方法と同様に、下記の工程(a)〜(f)によって調製することができる。
(a)平均粒子径が5〜200nmの範囲にあるシリカ系中空粒子分散液を調製する工程
(b)下記式(1)で表される有機珪素化合物(1)を添加する工程
SiX4 (1)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基)
(c)有機珪素化合物(1)を加水分解する工程
(d)有機溶媒に溶媒置換する工程
(e)トリアルキルシリル基を有する有機珪素化合物(2)を添加する工程
(f)トリアルキルシリル化する工程
[Method for producing hydrophobic silica-based hollow particles]
The hydrophobic silica-based hollow particles used in the present invention can be prepared by the following steps (a) to (f) as in the method for producing the hydrophobic zirconium oxide particles.
(A) Step of preparing a silica-based hollow particle dispersion having an average particle size in the range of 5 to 200 nm (b) Step of adding an organosilicon compound (1) represented by the following formula (1) SiX 4 (1 )
(Where X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms)
(C) Step of hydrolyzing organosilicon compound (1) (d) Step of solvent substitution with organic solvent (e) Step of adding organosilicon compound (2) having trialkylsilyl group (f) Trialkylsilylation Process

工程(a)
平均粒子径が5〜200nmの範囲にあるシリカ系中空粒子分散液を調製する。
Step (a)
A silica-based hollow particle dispersion having an average particle size in the range of 5 to 200 nm is prepared.

シリカ系中空粒子としては、本願出願人の出願による特開2001−167637号公報、特開2001−233611号公報等に開示した内部に空洞を有するシリカ系粒子は屈折率が低く好適に用いることができる。   As silica-based hollow particles, silica-based particles having cavities therein disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open Nos. 2001-167737 and 2001-233611 filed by the applicant of the present application are preferably used with a low refractive index. it can.

本発明に用いるシリカ系中空粒子の平均粒子径は5〜200nm、さらには10〜150nmの範囲にあることが好ましい。
シリカ系中空粒子の平均粒子径が小さいと、疎水性シリカ系中空粒子を得る際のシリカ被覆層を形成する際に凝集することがあり、このためトリアルキルシリル化が不均一になり、疎水性、分散性が不充分になる場合がある。
The average particle diameter of the silica-based hollow particles used in the present invention is preferably in the range of 5 to 200 nm, more preferably 10 to 150 nm.
If the average particle size of the silica-based hollow particles is small, the silica-coating layer may be aggregated when forming the hydrophobic silica-based hollow particles, resulting in non-uniform trialkylsilylation and hydrophobicity. , Dispersibility may be insufficient.

シリカ系中空粒子が大きすぎても、得られる疎水性シリカ系中空粒子を用いて得られる封止層の透明性が不充分となり、光透過率が不充分となる場合がある。
分散液に用いる分散媒には、水、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール、他の有機溶媒が好適に用いられる。
Even if the silica-based hollow particles are too large, the transparency of the sealing layer obtained using the resulting hydrophobic silica-based hollow particles may be insufficient, and the light transmittance may be insufficient.
As the dispersion medium used for the dispersion, water, alcohol such as methanol, ethanol, propanol, butanol, and other organic solvents are preferably used.

シリカ系中空粒子分散液の濃度は固形分として0.5〜30重量%、さらには5〜20重量%の範囲にあることが好ましい。分散液の濃度が低すぎると、工程(b)での生産性が低下する。分散液の濃度が高すぎても、工程(c)でシリカ系中空粒子が凝集する場合があり、このため工程(f)でトリメチルシリル化が不均一となり、得られる疎水性シリカ系中空粒子の疎水性、分散性が低下し、封止材の透明性、強度等が不充分となる場合がある。   The concentration of the silica-based hollow particle dispersion is preferably in the range of 0.5 to 30% by weight, more preferably 5 to 20% by weight as the solid content. If the concentration of the dispersion is too low, productivity in the step (b) is lowered. Even if the concentration of the dispersion is too high, the silica-based hollow particles may be aggregated in the step (c). Therefore, trimethylsilylation becomes non-uniform in the step (f), and the hydrophobic silica-based hollow particles thus obtained are hydrophobic. And dispersibility may deteriorate, and the transparency and strength of the sealing material may be insufficient.

工程(b)
下記式(1)で表される有機珪素化合物(1)を添加する。なお、かかる工程(b)および(c)は必ずしも行わなくともよい。
Step (b)
An organosilicon compound (1) represented by the following formula (1) is added. Note that steps (b) and (c) are not necessarily performed.

SiX4 (1)
(但し、式中、Xは炭素数1〜4のアルコキシ基)
このような有機珪素化合物(1)として、前記したとおりである。
SiX 4 (1)
(Where X is an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms)
Such an organosilicon compound (1) is as described above.

有機珪素化合物(1)の添加量は、用いるシリカ系中空粒子の粒子径によっても異なるが、SiO2としてシリカ系中空粒子の50重量%以下、さらには3〜40重量%の範囲にあることが好ましい。 The addition amount of the organosilicon compound (1) varies depending on the particle diameter of the silica-based hollow particles to be used, but it may be 50% by weight or less, more preferably 3 to 40% by weight of the silica-based hollow particles as SiO 2. preferable.

有機珪素化合物(1)の添加量が少ないと、後述する工程(f)で、シリカ被覆したシリカ系中空粒子表面へのトリメチルシリル基の結合が不充分となり、疎水性、分散性に優れた疎水性シリカ系中空粒子が得られない場合があり、このような粒子を後述する樹脂へ混合しても分散性が不充分で、粒子が凝集するようになる。そのため得られるLED用は光が散乱し、透過率が低下したり、ヘーズが高くなったりするため、発光効率(輝度)が不充分となる場合がある。   When the amount of the organosilicon compound (1) is small, the bonding of the trimethylsilyl group to the silica-coated silica-based hollow particle surface becomes insufficient in the step (f) described later, and the hydrophobicity and dispersibility are excellent. Silica-based hollow particles may not be obtained, and even if such particles are mixed into a resin described later, the dispersibility is insufficient and the particles are aggregated. For this reason, the obtained LED is scattered in light, resulting in a decrease in transmittance and an increase in haze, resulting in insufficient luminous efficiency (luminance).

この範囲にあれば、前記したように、中空シリカ粒子表面へのトリメチルシリル基の導入が十分に行え、また、屈折率が低くなりすぎることもない。この範囲で、有機珪素化合物(1)の添加量を変更し、たとえば前記範囲で多くすれば、屈折率が低くなるが、トリメチルシリル基の結合量を多くできるので、疎水性が高く、樹脂への分散性を高めることができる。   Within this range, as described above, the trimethylsilyl group can be sufficiently introduced to the surface of the hollow silica particles, and the refractive index does not become too low. If the addition amount of the organosilicon compound (1) is changed within this range, for example, if the addition amount is increased within the above range, the refractive index decreases, but the amount of trimethylsilyl groups can be increased. Dispersibility can be increased.

なお、本工程では有機珪素化合物(1)と混合して、前記同様に下記式(3)で表される有機珪素化合物(3)を用いることができる。
1-SiX3 (3)
(但し、式中、Rは炭素数1〜10の非置換または置換炭化水素基であって、互いに同一であっても異なっていてもよい。X:炭素数1〜4のアルコキシ基、水酸基、ハロゲン、水素)
有機珪素化合物(3)として、前記したとおりである。またこのような有機珪素化合物(3)の使用量は、中空シリカ粒子のSiO2に対して、1〜50重量%、好ましくは3〜40重量%の範囲にあることが望ましい。
In this step, the organosilicon compound (3) represented by the following formula (3) can be used in the same manner as described above by mixing with the organosilicon compound (1).
R 1 -SiX 3 (3)
(In the formula, R is an unsubstituted or substituted hydrocarbon group having 1 to 10 carbon atoms, and may be the same or different from each other. X: an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a hydroxyl group, Halogen, hydrogen)
The organosilicon compound (3) is as described above. The amount of the organosilicon compound (3) used is desirably in the range of 1 to 50% by weight, preferably 3 to 40% by weight, based on SiO 2 of the hollow silica particles.

工程(c)
ついで、水および加水分解用触媒を添加し、有機珪素化合物(1)を加水分解してシリカ系中空粒子の表面にシリカ被覆層を形成する。
Step (c)
Next, water and a catalyst for hydrolysis are added to hydrolyze the organosilicon compound (1) to form a silica coating layer on the surface of the silica-based hollow particles.

このとき、添加する水のモル数(MH2O)と有機珪素化合物(1)のモル数(MOC)とのモル比(MH2O)/(MOC)は、前記疎水性酸化ジルコニウム粒子調製と同様に、1〜300、さらには5〜200の範囲にあることが好ましい。 At this time, the molar ratio (M H2O ) / (M OC ) between the number of moles of water to be added (M H2O ) and the number of moles (M OC ) of the organosilicon compound (1) is determined by the preparation of the hydrophobic zirconium oxide particles. Similarly, it is preferably in the range of 1 to 300, more preferably 5 to 200.

また、加水分解用触媒としてはアンモニアが好ましい。アンモニアを用いると、塗料に残存しても除去することが容易であり、残存量が少量であれば塗料中の疎水性シリカ系中空粒子の分散性を大きく損なうことはなく、本発明の塗料を用いて形成した封止材の性能を損なうこともない。   Further, ammonia is preferable as the hydrolysis catalyst. When ammonia is used, it can be easily removed even if it remains in the paint, and if the residual amount is small, the dispersibility of the hydrophobic silica-based hollow particles in the paint will not be greatly impaired. The performance of the sealing material formed by use is not impaired.

添加するアンモニアのモル数(MNH3)と有機珪素化合物(1)のモル数(MOC)とのモル比(MNH3)/(MOC)は、前記と同様に、0.1〜12、さらには0.2〜10の範囲にあることが好ましい。
なお、疎水性シリカ系中空粒子を製造する場合、シリカ被覆層を形成しなくともよい。
The molar ratio (M NH3 ) / (M OC ) between the number of moles of ammonia to be added (M NH3 ) and the number of moles (M OC ) of the organosilicon compound (1) is 0.1 to 12, Furthermore, it is preferable that it exists in the range of 0.2-10.
In addition, when manufacturing a hydrophobic silica type hollow particle, it is not necessary to form a silica coating layer.

工程(d)
有機溶媒に溶媒置換する。なお、工程(b)、(c)を省略した場合は、シリカ系中空粒子の有機溶媒分散液を調製する。
Step (d)
The solvent is replaced with an organic solvent. In addition, when a process (b) and (c) are abbreviate | omitted, the organic-solvent dispersion liquid of a silica type hollow particle is prepared.

有機溶媒としてはメタノール、エタノール、プロパノール、2-プロパノール(IPA)、ブタノールなどのアルコール類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールイソプルピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プルピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類等が挙げられる。   Organic solvents include alcohols such as methanol, ethanol, propanol, 2-propanol (IPA), butanol; ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, ethylene glycol isopropyl ether, propylene glycol monomethyl ether And ethers such as propylene glycol monoethyl ether; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, and methyl isobutyl ketone.

なかでも、メタノール、エタノール、2-プロパノール(IPA)などのアルコール類を用いると、シリカ被覆シリカ系中空粒子が凝集を起こしにくく安定するので好ましい。
置換する方法としては、蒸留法、限外濾過膜法、ロータリーエバポレーター法等、従来公知の方法を採用することができる。
溶媒置換後の有機溶媒分散液の濃度は固形分として0.5〜40重量%、さらには1.0〜30重量%の範囲にあることが好ましい。
Of these, the use of alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol (IPA) is preferable because the silica-coated silica-based hollow particles are less likely to aggregate and are stable.
As a replacement method, a conventionally known method such as a distillation method, an ultrafiltration membrane method, or a rotary evaporator method can be employed.
The concentration of the organic solvent dispersion after solvent replacement is preferably in the range of 0.5 to 40% by weight, more preferably 1.0 to 30% by weight as the solid content.

工程(e)
疎水化剤として、トリアルキルシリル基を有する有機珪素化合物(2)を添加する。
トリアルキルシリル基を有する有機珪素化合物(2)としては前記したとおりである。
トリアルキルシリル基を有する有機珪素化合物(2)の添加量は、シリカ系中空粒子の粒子径、アルキル基の種類(大きさ)によっても異なるが、シリカ系中空粒子の表面に緻密に結合できる範囲で添加すれば良いが、(R3−SiO1/2)としてシリカ系中空粒子の10〜100重量%、さらには20〜80重量%となるように添加することが好ましい。
Step (e)
As a hydrophobizing agent, an organosilicon compound (2) having a trialkylsilyl group is added.
The organosilicon compound (2) having a trialkylsilyl group is as described above.
The addition amount of the organosilicon compound (2) having a trialkylsilyl group varies depending on the particle size of the silica-based hollow particle and the type (size) of the alkyl group, but can be closely bonded to the surface of the silica-based hollow particle. However, it is preferable to add such that (R 3 —SiO 1/2 ) is 10 to 100% by weight, more preferably 20 to 80% by weight of the silica-based hollow particles.

トリアルキルシリル基を有する有機珪素化合物(2)が少ない場合は、分散性、特にエポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の疎水性樹脂への分散性が不充分となり、これを用いたLEDは、光透過率が不充分となる場合がある。トリアルキルシリル基を有する有機珪素化合物(2)が多すぎても、分散性がさらに向上することもなく、屈折率が高くなり、本発明では光透過率が不充分となる場合がある。   When there are few organosilicon compounds (2) which have a trialkylsilyl group, dispersibility, especially dispersibility to hydrophobic resins, such as an epoxy resin and a silicone resin, becomes inadequate, and LED using this has light transmittance. May be insufficient. If the organosilicon compound (2) having a trialkylsilyl group is too much, the dispersibility is not further improved, the refractive index is increased, and the light transmittance may be insufficient in the present invention.

工程(f)
ついで、工程(e)の後、加熱処理することによって有機珪素化合物(2)を反応させてトリアルキルシリル化する。加熱処理は撹拌下で行うことが好ましく、この時の温度は、溶媒の種類によっても異なるが、溶媒の沸点以下が好ましく、概ね30〜90℃の範囲である。別法としては、加熱還流する方法も採用することができる。
Step (f)
Next, after the step (e), the organosilicon compound (2) is reacted by heat treatment to be trialkylsilylated. The heat treatment is preferably performed under stirring, and the temperature at this time varies depending on the type of solvent, but is preferably not more than the boiling point of the solvent, and is generally in the range of 30 to 90 ° C. As another method, a method of heating to reflux can also be employed.

加熱温度は有機溶媒の種類、有機珪素化合物(2)の種類によっても異なるが30〜90℃、さらには40〜80℃の範囲にあることが好ましい。この時、加熱時間は温度、有機珪素化合物(2)の反応性によっても異なるが、概ね1〜24時間である。   Although heating temperature changes also with the kind of organic solvent and the kind of organic silicon compound (2), it is preferable that it exists in the range of 30-90 degreeC, Furthermore, 40-80 degreeC. At this time, although the heating time varies depending on the temperature and the reactivity of the organosilicon compound (2), it is approximately 1 to 24 hours.

このようにして得られた疎水性シリカ系中空粒子の有機溶媒分散液は、このまま用いることもでき、有機溶媒を除去して用いることもでき、さらには他の分散媒に置換して用いることもできる。   The organic solvent dispersion of the hydrophobic silica-based hollow particles obtained in this way can be used as it is, can be used after removing the organic solvent, and can also be used after being replaced with another dispersion medium. it can.

置換する方法としては、蒸留法、限外濾過膜法、ロータリーエバポレーター法等従来公知の方法を採用することができる。
他の分散媒としては従来公知の有機溶媒を使用することができ、前記疎水性酸化ジルコニウム粒子で例示したものと同様のものが挙げられる。
As a replacement method, a conventionally known method such as a distillation method, an ultrafiltration membrane method, or a rotary evaporator method can be employed.
As the other dispersion medium, a conventionally known organic solvent can be used, and examples thereof include those similar to those exemplified for the hydrophobic zirconium oxide particles.

さらに、他の分散媒として後述するエポキシ樹脂、シリコーン樹脂等の樹脂成分等を挙げることもできる。エポキシ樹脂、シリコーン樹脂等を用いた場合には、他の有機溶媒を除去することによってそのまま本発明の塗料となる。   Furthermore, resin components such as an epoxy resin and a silicone resin, which will be described later, can be exemplified as other dispersion media. When an epoxy resin, a silicone resin, or the like is used, the paint of the present invention is directly obtained by removing other organic solvents.

上記製造方法によって得られる疎水性シリカ系中空粒子は、表面にトリアルキルシリル基が結合してなり、平均粒子径が5〜30nmの範囲にあり、屈折率が1.15〜1.45の範囲にあり、表面電荷量が3〜30μeq/gの範囲にあり、樹脂への分散性に優れている。   Hydrophobic silica-based hollow particles obtained by the above production method have trialkylsilyl groups bonded to the surface, have an average particle diameter in the range of 5 to 30 nm, and a refractive index in the range of 1.15 to 1.45. The surface charge amount is in the range of 3 to 30 μeq / g, and the resin has excellent dispersibility.

樹脂成分
本発明に用いる樹脂成分としては、エポキシ樹脂またはシリコーン樹脂が好適に用いられる。
Resin component As the resin component used in the present invention, an epoxy resin or a silicone resin is preferably used.

エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA、フェノールノボラック、クレゾールノボラック等として市販されている樹脂およびこれらの混合物が挙げられる。シリコーン樹脂としては、ジメチルシリコーン樹脂、フェニルシリコン樹脂、メチルフェニルシルコン樹脂等およびこれらの混合物が挙げられる。   Examples of the epoxy resin include resins marketed as bisphenol A, phenol novolac, cresol novolak, and the like, and mixtures thereof. Examples of the silicone resin include dimethyl silicone resin, phenyl silicone resin, methylphenylsilcon resin, and mixtures thereof.

塗料組成
塗料中の疎水性酸化ジルコニウム粒子および/または疎水性シリカ系中空粒子の濃度(双方含まれる場合は合計量)は、固形分として10〜90重量%、さらには20〜85重量%の範囲にあることが好ましい。また所望の封止材の屈折率に応じて、疎水性酸化ジルコニウム粒子、疎水性シリカ系中空粒子の比率を調整してもよく、さらに、疎水性シリカ粒子(前記中空シリカ粒子同様に、シリカ粒子を疎水化させたもの)を含んでいてもよい。なお、疎水性酸化ジルコニウム粒子のみを含む塗料は、発光ダイオード封止層の最下層に使用し、疎水性中空シリカ粒子のみを含む塗料を最上層に使用する。
The concentration of the hydrophobic zirconium oxide particles and / or the hydrophobic silica-based hollow particles in the coating composition (the total amount when both are included) is in the range of 10 to 90% by weight, further 20 to 85% by weight as the solid content. It is preferable that it exists in. Further, the ratio of the hydrophobic zirconium oxide particles and the hydrophobic silica-based hollow particles may be adjusted according to the refractive index of the desired sealing material, and further, the hydrophobic silica particles (like the hollow silica particles, the silica particles May be included). A paint containing only hydrophobic zirconium oxide particles is used for the lowermost layer of the light-emitting diode sealing layer, and a paint containing only hydrophobic hollow silica particles is used for the uppermost layer.

塗料中の粒子成分が少ないと、用いる樹脂の屈折率が支配的となり、各封止層の屈折率を所望の屈折率に調整したり、前記した所望の屈折率差を有する封止層を得ることができない場合がある。塗料中の粒子成分が多すぎても、封止層の屈折率は調整できるものの粒子が凝集するようになり、その場合は封止層の光散乱の原因となり、光透過率が低下したり、ヘーズが高くなり、発光効率(輝度)が低下することに加えて、樹脂が少ないために封止性能が不充分となる場合がある。   When the particle component in the paint is small, the refractive index of the resin used becomes dominant, and the refractive index of each sealing layer is adjusted to a desired refractive index, or a sealing layer having the desired refractive index difference is obtained. It may not be possible. Even if there are too many particle components in the paint, the refractive index of the sealing layer can be adjusted, but the particles will aggregate, in this case causing light scattering of the sealing layer, reducing the light transmittance, In addition to an increase in haze and a decrease in luminous efficiency (brightness), sealing performance may be insufficient due to a small amount of resin.

このような塗料は、(1)前記疎水性酸化ジルコニウム粒子、疎水性シリカ系中空粒子の製造方法の工程(f)で得られた疎水性酸化ジルコニウム粒子および/または疎水性シリカ系中空粒子の有機溶媒分散液に、樹脂成分を所定量添加し、ついで、樹脂が硬化しない範囲で加熱して、必要に応じて減圧下で加熱して有機溶媒を除去する方法、(2)前記疎水性酸化ジルコニウム粒子、疎水性シリカ系中空粒子の製造方法の工程(f)で得られた疎水性酸化ジルコニウム粒子および/または疎水性シリカ系中空粒子の有機溶媒分散液から、有機溶媒を蒸発させて除去した後、樹脂成分と所定量混合する方法等があり、必要に応じてこれらを併用した方法によって調製することができる。   Such a paint comprises (1) the hydrophobic zirconium oxide particles and the organic particles of the hydrophobic silica-based hollow particles obtained in step (f) of the method for producing the hydrophobic silica-based hollow particles. A method in which a predetermined amount of a resin component is added to a solvent dispersion, followed by heating within a range where the resin does not cure, and heating under reduced pressure as necessary to remove the organic solvent; (2) the hydrophobic zirconium oxide After evaporating the organic solvent from the organic solvent dispersion of the hydrophobic zirconium oxide particles and / or the hydrophobic silica-based hollow particles obtained in the step (f) of the method for producing the particles and the hydrophobic silica-based hollow particles, There is a method of mixing a predetermined amount with a resin component, etc., and it can be prepared by a method using these together if necessary.

塗料には、必要に応じて、有機溶媒が含まれていてよいが、通常その濃度は3重量%以下、さらには1重量%以下、特に実質的に溶媒を含まないことが好ましい。
塗料中の有機溶媒の濃度が多く残存していると、封止層を形成する場合、溶媒除去工程が必要となり、また、有機溶媒が残存していると、ボイドの発生や硬化不良等の原因となる場合がある。
The paint may contain an organic solvent, if necessary, but the concentration is usually 3% by weight or less, more preferably 1% by weight or less, and particularly preferably substantially free of solvent.
If a high concentration of organic solvent remains in the paint, a solvent removal step is required when forming the sealing layer. If the organic solvent remains, it may cause voids or poor curing. It may become.

このような塗料には、必要に応じて硬化剤、重合開始剤等が含まれていてもよい。
次に、本発明に係る発光ダイオード(LED)について説明する。
Such a paint may contain a curing agent, a polymerization initiator, and the like as necessary.
Next, a light emitting diode (LED) according to the present invention will be described.

[発光ダイオード(LED)]
本発明に係る発光ダイオードは、前記塗料からなる封止層が形成されてなる。
まず、本発明に係る発光ダイオードを用いた発光ダイオードの一態様を図1に示す。図1は、発光ダイオードとレンズ(図示せず)との間に、本発明の上記塗料を用いた封止材からなる封止層が多層にわたり積層されてなる。なお、最上層は平坦であっても、凸面であってもよい。
[Light Emitting Diode (LED)]
The light emitting diode according to the present invention has a sealing layer made of the paint.
First, one mode of a light emitting diode using the light emitting diode according to the present invention is shown in FIG. In FIG. 1, a sealing layer made of a sealing material using the paint of the present invention is laminated between a light emitting diode and a lens (not shown). The uppermost layer may be flat or convex.

本発明では、設ける封止層の数は2以上であればよく、好ましくは2〜20層、さらには4〜20層の範囲にあることが好ましい。
封止層が単層の場合は、反射の抑制による光透過率の向上効果が得られず、封止層の数が多すぎると、光透過率の向上効果がさらに大きく改善することもなく、経済性の低下が大きくなる。
In the present invention, the number of sealing layers provided may be two or more, preferably 2 to 20 layers, more preferably 4 to 20 layers.
When the sealing layer is a single layer, the effect of improving the light transmittance by suppressing reflection is not obtained, and if the number of sealing layers is too large, the effect of improving the light transmittance is not further improved, The decline in economic efficiency will increase.

本発明に係る発光ダイオードは、第1封止層の屈折率n1が1.55〜1.85の範囲にあり、第n封止層(n番目の封止層、n=2〜20)の屈折率nnが1.30〜1.65の範囲にあり、少なくとも2層以上の屈折率が異なる封止層が屈折率の高い順に積層してなることを特徴としている。 In the light emitting diode according to the present invention, the refractive index n 1 of the first sealing layer is in the range of 1.55 to 1.85, and the nth sealing layer (nth sealing layer, n = 2 to 20). refractive index n n is in the range of 1.30 to 1.65, it is characterized in that sealing layer at least two or more layers of different refractive indices is formed by laminating a high refractive index order.

第1封止層の屈折率n1は1.55〜1.85、さらには1.60〜1.85の範囲にあることが好ましい。
第1封止層の屈折率n1が低すぎると、LED発光素子側に光が反射する度合いが大きくなり、透過率が低下すことがある。第1封止層の屈折率n1が高すぎると、封止性能、光透過率(発光効率)等が不充分となる場合がある。なお、このような、第1封止層は、通常、疎水性酸化ジルコニウム粒子を含むものが形成される。
The refractive index n 1 of the first sealing layer is preferably in the range of 1.55 to 1.85, more preferably 1.60 to 1.85.
If the refractive index n 1 of the first sealing layer is too low, the degree of light reflection on the LED light emitting element side increases, and the transmittance may decrease. If the refractive index n 1 of the first sealing layer is too high, sealing performance, light transmittance (light emission efficiency), and the like may be insufficient. Such a first sealing layer is usually formed containing hydrophobic zirconium oxide particles.

第n封止層(n番目の封止層:最上層)の屈折率nnは1.30〜1.65、さらには1.35〜1.55の範囲にあることが好ましい。第n封止層の屈折率nnが低いと、レンズの屈折率よりも低くなることがあり、レンズよりも屈折率が低いと、逆方向に反射し、光透過率が低下し、このため、発熱することがある。 The n sealing layer (n-th sealing layer: top layer) refractive index n n of 1.30 to 1.65, more preferably in the range of 1.35 to 1.55. If the refractive index n n of the n sealing layer is low, may be lower than the refractive index of the lens, the lower refractive index than the lens, is reflected in the opposite direction, light transmittance is reduced, Thus May generate heat.

隣接する封止層間の屈折率差は0.02〜0.2、さらには0.05〜0.15の範囲にあることが好ましい。そして、このような屈折率となるように、封止層を積層し、最終的に最上層の屈折率を上記範囲とする。   The difference in refractive index between adjacent sealing layers is preferably in the range of 0.02 to 0.2, more preferably 0.05 to 0.15. And a sealing layer is laminated | stacked so that it may become such a refractive index, and the refractive index of the uppermost layer is finally made into the said range.

隣接する封止層間の屈折率差が0.02未満の場合は反射を抑制できないので、光透過率(発光効率)等が不充分となる場合がある。
隣接する封止層間の屈折率差が0.2を越えると膜厚にもよるが、封止層の数が少なくなるため、光透過率(発光効率)等が不充分となる場合がある。
Since the reflection cannot be suppressed when the refractive index difference between adjacent sealing layers is less than 0.02, the light transmittance (light emission efficiency) or the like may be insufficient.
When the difference in refractive index between adjacent sealing layers exceeds 0.2, although depending on the film thickness, the number of sealing layers decreases, so that the light transmittance (light emission efficiency) and the like may be insufficient.

積層した封止層の厚みは0.1〜5mm、さらには0.5〜4mmの範囲にあることが好ましい。
積層封止層の厚みが薄いと封止層としての効果が得られにくくなる。一方積層封止層の厚みが厚すぎて封止層自体の光を吸収する割合が高くなり、封止層を多層形成する効果が得られないことがある。
The thickness of the laminated sealing layer is preferably 0.1 to 5 mm, and more preferably 0.5 to 4 mm.
When the thickness of the laminated sealing layer is thin, it is difficult to obtain the effect as the sealing layer. On the other hand, since the thickness of the laminated sealing layer is too thick, the ratio of absorbing the light of the sealing layer itself increases, and the effect of forming the sealing layer in multiple layers may not be obtained.

各封止層は、前記した平均粒子径が5〜50nmの範囲にある疎水性ジルコニウム粒子および/または平均粒子径が5〜200nmの範囲にある疎水性シリカ系中空粒子と樹脂とからなる。   Each sealing layer is composed of the hydrophobic zirconium particles having an average particle diameter of 5 to 50 nm and / or the hydrophobic silica-based hollow particles having an average particle diameter of 5 to 200 nm and a resin.

封止層中の疎水性ジルコニウム粒子および/または疎水性シリカ系中空粒子の含有量は固形分として10〜90重量%、さらには20〜85重量%の範囲にあることが好ましい。   The content of the hydrophobic zirconium particles and / or the hydrophobic silica-based hollow particles in the sealing layer is preferably in the range of 10 to 90% by weight, more preferably 20 to 85% by weight as the solid content.

封止層中の疎水性酸化ジルコニウム粒子および/または疎水性シリカ系中空粒子の含有量が固形分として10重量%未満の場合は、用いる樹脂の屈折率が支配的となり、各封止層の屈折率を所望の屈折率に調整したり、前記した所望の屈折率差を有する封止層を得ることができない場合がある。   When the content of the hydrophobic zirconium oxide particles and / or the hydrophobic silica-based hollow particles in the sealing layer is less than 10% by weight as the solid content, the refractive index of the resin used is dominant, and the refractive index of each sealing layer In some cases, it is impossible to adjust the refractive index to a desired refractive index or to obtain a sealing layer having the desired refractive index difference.

封止層中の疎水性酸化ジルコニウム粒子および/または疎水性シリカ系中空粒子の含有量が固形分として90重量%を超えると、封止層の屈折率は調整できるものの粒子が凝集するようになり、その場合はLEDの光散乱の原因となり、光透過率が低下したり、ヘーズが高くなり、発光効率(輝度)が低下することに加えて、樹脂が少ないために封止性能が不充分となる場合がある。   When the content of hydrophobic zirconium oxide particles and / or hydrophobic silica-based hollow particles in the sealing layer exceeds 90% by weight as the solid content, the refractive index of the sealing layer can be adjusted, but the particles will aggregate. In that case, it causes light scattering of the LED, the light transmittance is reduced, the haze is increased, the luminous efficiency (luminance) is lowered, and the sealing performance is insufficient due to the small amount of resin. There is a case.

封止層の屈折率の調整は、樹脂の屈折率を考慮し、(1)屈折率の高い疎水性ジルコニウム粒子と屈折率の低い樹脂との配合量を変えたり、(2)屈折率の高い疎水性ジルコニウム粒子と屈折率の低い疎水性シリカ系中空粒子の配合量および配合比を変えることによって行われる。屈折率の高い封止層を得るためには疎水性ジルコニウム粒子を多く配合し、屈折率の低い封止層を得るためには疎水性シリカ系中空粒子の配合量を多くすればよい。   Adjustment of the refractive index of the sealing layer takes into consideration the refractive index of the resin, (1) changing the blending amount of hydrophobic zirconium particles having a high refractive index and a resin having a low refractive index, or (2) having a high refractive index. This is done by changing the blending amount and blending ratio of the hydrophobic zirconium particles and the hydrophobic silica-based hollow particles having a low refractive index. In order to obtain a sealing layer having a high refractive index, a large amount of hydrophobic zirconium particles is blended, and in order to obtain a sealing layer having a low refractive index, the blending amount of hydrophobic silica-based hollow particles may be increased.

本発明の積層封止層としての光透過率は封止層(塗料硬化膜)の厚みによっても異なるが、80%以上、さらには90%以上であることが好ましい。
おのおの封止層は、所望の屈折率となるように調整した前記した塗料を用いて、所定の厚みとなるように塗布・硬化処理されて形成される。その塗布方法は特に制限されないが、ポッティング法、バーコーター法などが挙げられる。硬化処理としては特に制限されないが、加熱や電子線(紫外線)、電磁波などの照射によって行われる。このような加熱処理などは、樹脂成分が硬化する条件であれば、特に制限されない。
The light transmittance as the laminated sealing layer of the present invention varies depending on the thickness of the sealing layer (paint cured film), but is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more.
Each sealing layer is formed by applying and curing the coating layer so as to have a predetermined thickness using the coating material adjusted to have a desired refractive index. The coating method is not particularly limited, and examples thereof include a potting method and a bar coater method. Although it does not restrict | limit especially as a hardening process, It is performed by irradiation of heating, an electron beam (ultraviolet ray), electromagnetic waves, etc. Such heat treatment is not particularly limited as long as the resin component is cured.

また、硬化方法としては特に制限されないが、1層の封止層を硬化させたのち、2層目以降の封止層を硬化させて積層してもよく、未硬化の封止層を積層形成したのち、全体的に硬化処理を行ってもよい。   Further, the curing method is not particularly limited, but after curing one sealing layer, the second and subsequent sealing layers may be cured and laminated, or an uncured sealing layer is laminated and formed. Then, you may perform a hardening process entirely.

[実施例]
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。
[Example]
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention further more concretely, this invention is not limited by these Examples.

[製造例1]
疎水性酸化ジルコニウム粒子(1)の調製
純水1,300gにオキシ塩化ジルコニウム8水和物(ZrOCl2・8H2O(太陽鉱業(株)製:ZrO2濃度37.2重量%)35gを溶解し、これに濃度10重量%のKOH水溶液123gを添加してジルコニウム水酸化物ヒドロゲル(ZrO2濃度1重量%)を調製した。ついで、限外濾過膜法で電導度が0.5mS/cm以下になるまで洗浄した。
[Production Example 1]
Preparation of hydrophobic zirconium oxide particles (1 ) 35 g of zirconium oxychloride octahydrate (ZrOCl 2 .8H 2 O (manufactured by Taiyo Mining Co., Ltd .: ZrO 2 concentration 37.2% by weight)) was dissolved in 1,300 g of pure water. A zirconium hydroxide hydrogel (ZrO 2 concentration 1% by weight) was prepared by adding 123 g of a 10% by weight aqueous KOH solution, and the conductivity was 0.5 mS / cm or less by the ultrafiltration membrane method. Washed until

得られたZrO2として濃度1重量%のジルコニウム水酸化物ヒドロゲル2,000gに濃度10重量%のKOH水溶液400gを加えて十分攪拌した後、濃度35重量%の過酸化水素水溶液200gを加えた。このとき、激しく発泡して溶液は透明になり、pHは11.5であった。 400 g of a 10 wt% KOH aqueous solution was added to 2,000 g of 1 wt% zirconium hydroxide hydrogel as the obtained ZrO 2 , and after sufficient stirring, 200 g of a 35 wt% hydrogen peroxide aqueous solution was added. At this time, the solution foamed vigorously and the solution became transparent, and the pH was 11.5.

この溶液をオートクレーブに充填し、150℃で11時間水熱処理を行った後、遠心沈降法により分離し、白色沈殿物を回収した。
回収した白色沈殿物56.4gに純水281.6gを添加した後、酒石酸(関東化学(株)製:L−酒石酸)6.9g、濃度10重量%のKOH水溶液22.0gを加えて十分攪拌した。シリカビーズを1000g加えた後、分散機(カンペ(株)製:BATCH-SAND)に充填し、分散させ、ジルコニアゾルとした。ついで、限外濾過膜を用いて純水洗浄した後、陰イオン交換樹脂(ROHM−AND HAAS社製:デュオライトUP−5000)を40g加えて脱イオンを行って固形分濃度1.5重量%の酸化ジルコニウム微粒子(1)分散液を得た。得られた酸化ジルコニウム粒子(1)の平均粒子径は15nmであった。
This solution was filled in an autoclave, hydrothermally treated at 150 ° C. for 11 hours, and then separated by centrifugal sedimentation to recover a white precipitate.
After adding 281.6 g of pure water to 56.4 g of the recovered white precipitate, 6.9 g of tartaric acid (manufactured by Kanto Chemical Co., Ltd .: L-tartaric acid) and 22.0 g of a 10 wt% KOH aqueous solution are sufficiently added. Stir. After adding 1000 g of silica beads, it was filled in a dispersing machine (manufactured by Campe Co., Ltd .: BATCH-SAND) and dispersed to obtain a zirconia sol. Subsequently, after washing with pure water using an ultrafiltration membrane, 40 g of anion exchange resin (ROHM-AND HAAS: Duolite UP-5000) was added to perform deionization to obtain a solid content concentration of 1.5% by weight. A dispersion of zirconium oxide fine particles (1) was obtained. The average particle diameter of the obtained zirconium oxide particles (1) was 15 nm.

また、酸化ジルコニウム粒子(1)の結晶形はX線回折の測定で単斜晶であった。さらに、得られた酸化ジルコニウム粒子(1)の屈折率は2.2であった。   The crystal form of the zirconium oxide particles (1) was monoclinic as measured by X-ray diffraction. Furthermore, the refractive index of the obtained zirconium oxide particles (1) was 2.2.

シリカ被覆層の形成
固形分濃度1.5重量%の酸化ジルコニウム粒子(1)分散液1289gとメタノール1128gおよび濃度28重量%のアンモニア水溶液20.7gとの混合分散液を35℃に加温した後、メタノール31.94gとテトラエトキシシラン(多摩化学工業株式会社製:エチルシリケート-A、SiO2含有量28.8重量%)6.71gを混合した溶液を6時間かけてローラーポンプで添加した。その後35℃で1時間加熱攪拌した。ついで、限外濾過膜を用いて溶媒をメタノールに置換し、固形分濃度5重量%のシリカ被覆酸化ジルコニウム粒子(1)メタノール分散液を調製した。
Formation of silica coating layer After heating a mixed dispersion of 1289 g of a dispersion of zirconium oxide particles (1) having a solid content concentration of 1.5% by weight, 1128 g of methanol and 20.7 g of an aqueous ammonia solution having a concentration of 28% by weight to 35 ° C. Then, a solution prepared by mixing 31.94 g of methanol and 6.71 g of tetraethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd .: ethyl silicate-A, SiO 2 content 28.8 wt%) was added with a roller pump over 6 hours. Thereafter, the mixture was heated and stirred at 35 ° C. for 1 hour. Next, the solvent was replaced with methanol using an ultrafiltration membrane to prepare a silica-coated zirconium oxide particle (1) methanol dispersion having a solid content concentration of 5% by weight.

トリアルキルシリル化
セパラブルフラスコの中に固形分濃度5重量%のシリカ被覆酸化ジルコニウム粒子(1)メタノール分散液700gとメタノール700gを入れ十分攪拌混合した後、疎水化剤(トリアルキルシリル化剤)としてヘキサメチルジシラザン(HMDS)(和光純薬工業(株)製:1,1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン)17.5gを添加し、50℃に昇温した後、22時間加熱攪拌して、固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化した酸化ジルコニウム粒子(1)分散液を調製した。トリメチルシリル化した酸化ジルコニウム粒子(1)の屈折率は1.72であった。
Silica-coated zirconium oxide particles with a solid content concentration of 5% by weight (1) 700 g of methanol dispersion and 700 g of methanol are placed in a trialkylsilylated separable flask and thoroughly stirred and mixed, and then a hydrophobizing agent (trialkylsilylating agent). 17.5 g of hexamethyldisilazane (HMDS) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .: 1,1,1,1,3,3,3-hexamethyldisilazane) was added and the temperature was raised to 50 ° C. Thereafter, the mixture was heated and stirred for 22 hours to prepare a dispersion of trimethylsilylated zirconium oxide particles (1) having a solid content concentration of 2.5% by weight. The refractive index of the trimethylsilylated zirconium oxide particles (1) was 1.72.

また、トリメチルシリル化酸化ジルコニウム粒子(1)の表面電荷量を前記した測定方法によって測定したが21μeq/gであった。
さらに、固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化酸化ジルコニウム粒子(1)分散液の安定性を以下の方法および基準によって測定したが◎であった。
Further, the surface charge amount of the trimethylsilylated zirconium oxide particles (1) was measured by the above-described measuring method and found to be 21 μeq / g.
Furthermore, the stability of the dispersion of the trimethylsilylated zirconium oxide particles (1) having a solid content concentration of 2.5% by weight was measured by the following method and standard, and was evaluated as ◎.

安定性評価
トリメチルシリル化酸化ジルコニウム粒子(1)分散液を透明性容器に充填して静置し、容器の下部に沈降粒子の状況を観察し、以下の基準で評価し、結果を表に示した。
1週間以上、粒子の沈降層が認められなかった。 :◎
3〜6日で粒子の沈降層が認められた。 :○
1〜2日で粒子の沈降層が認められた。 :△
1日以内に粒子の沈降層が認められた。 :×
Stability evaluation The trimethylsilylated zirconium oxide particles (1) dispersion was filled in a transparent container and allowed to stand, and the state of precipitated particles was observed at the bottom of the container, evaluated according to the following criteria, and the results are shown in the table. .
No sedimentation layer of particles was observed for more than 1 week. : ◎
A sedimentation layer of particles was observed in 3 to 6 days. : ○
A sedimentation layer of particles was observed in 1 to 2 days. : △
Within 1 day, a sedimentation layer of particles was observed. : ×

[製造例2]
疎水性酸化ジルコニウム粒子(2)の調製
製造例1のトリメチルシリル化において、ヘキサメチルジシラザン(HMDS)を35.0g用いた以外は製造例1と同様にして固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化した酸化ジルコニウム粒子(2)分散液を調製した。トリメチルシリル化酸化ジルコニウム粒子(2)の屈折率は1.63、表面電荷量は13μeq/g、分散液の安定性は◎であった。
[Production Example 2]
Preparation of Hydrophobic Zirconium Oxide Particles (2) Trimethylsilyl having a solid content concentration of 2.5% by weight in the same manner as in Production Example 1 except that 35.0 g of hexamethyldisilazane (HMDS) was used in the trimethylsilylation of Production Example 1. Zirconium oxide particle (2) dispersion was prepared. The refractive index of the trimethylsilylated zirconium oxide particles (2) was 1.63, the surface charge amount was 13 μeq / g, and the dispersion stability was 液.

[製造例3]
疎水性酸化ジルコニウム粒子(3)の調製
製造例1のトリメチルシリル化において、ヘキサメチルジシラザン(HMDS)を7.0g用いた以外は製造例1と同様にして固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化した酸化ジルコニウム粒子(3)分散液を調製した。トリメチルシリル化酸化ジルコニウム粒子(3)の屈折率は1.85、表面電荷量は28μeq/g、分散液の安定性は○であった。
[Production Example 3]
Preparation of Hydrophobic Zirconium Oxide Particles (3) Trimethylsilyl having a solid content concentration of 2.5% by weight in the same manner as in Production Example 1 except that 7.0 g of hexamethyldisilazane (HMDS) was used in trimethylsilylation in Production Example 1. Zirconium oxide particle (3) dispersion was prepared. The trimethylsilylated zirconium oxide particles (3) had a refractive index of 1.85, a surface charge of 28 μeq / g, and the dispersion stability was good.

[製造例4]
疎水性シリカ系中空粒子(1)の調製
シリカ系中空粒子として、シリカ系中空微粒子分散ゾル(触媒化成工業(株)製:スルーリア1420、平均粒子径60nm、濃度20.5重量%、分散媒:イソプロパノ−ル、粒子屈折率1.25)を用い、これを稀釈して固形分濃度1.5重量%のシリカ系中空粒子(1)分散液とした。
[Production Example 4]
Preparation of hydrophobic silica-based hollow particles (1) Silica-based hollow fine particle-dispersed sol (manufactured by Catalytic Chemical Industry Co., Ltd .: Thruria 1420, average particle size 60 nm, concentration 20.5% by weight) Dispersion medium: isopropanol, particle refractive index 1.25) was diluted to obtain a silica-based hollow particle (1) dispersion having a solid content concentration of 1.5% by weight.

シリカ被覆層の形成
固形分濃度1.5重量%のシリカ系中空粒子(1)分散液1289gとメタノール1128gおよび濃度28重量%のアンモニア水溶液20.7gとの混合分散液を35℃に加温した後、メタノール31.94gとテトラエトキシシラン(多摩化学工業株式会社製:エチルシリケート-A、SiO2含有量28.8重量%)6.71gを混合した溶液を6時間かけてローラーポンプで添加した。その後35℃で1時間加熱攪拌した。ついで、限外濾過膜を用いて溶媒をメタノールに置換し、固形分濃度5重量%のシリカ被覆シリカ系中空粒子(1)メタノール分散液を調製した。
Formation of silica coating layer Silica-based hollow particles having a solid content concentration of 1.5% by weight (1) A dispersion of 1289 g of a dispersion, 1128 g of methanol and 20.7 g of an aqueous ammonia solution having a concentration of 28% by weight was heated to 35 ° C. Thereafter, a solution in which 31.94 g of methanol and 6.71 g of tetraethoxysilane (manufactured by Tama Chemical Industry Co., Ltd .: ethyl silicate-A, SiO 2 content 28.8 wt%) were mixed with a roller pump over 6 hours. . Thereafter, the mixture was heated and stirred at 35 ° C. for 1 hour. Subsequently, the solvent was replaced with methanol using an ultrafiltration membrane to prepare a silica-coated silica-based hollow particle (1) methanol dispersion having a solid content concentration of 5% by weight.

トリアルキルシリル化
セパラブルフラスコの中に固形分濃度5重量%のシリカ被覆シリカ系中空粒子(1)メタノール分散液700gとメタノール700gを入れ十分攪拌混合した後、疎水化剤(トリアルキルシリル化剤)としてヘキサメチルジシラザン(HMDS)(和光純薬工業(株)製:1,1,1,1,3,3,3−ヘキサメチルジシラザン)17.5gを添加し、50℃に昇温した後、22時間加熱攪拌して、固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化したシリカ系中空粒子(1)分散液を調製した。トリメチルシリル化シリカ系中空粒子(1)の屈折率は1.32であった。
Silica-coated silica-based hollow particles having a solid content concentration of 5% by weight in a trialkylsilylated separable flask (1) 700 g of methanol dispersion and 700 g of methanol were mixed and stirred sufficiently, and then a hydrophobizing agent (trialkylsilylating agent) ) 17.5 g of hexamethyldisilazane (HMDS) (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd .: 1,1,1,1,3,3,3-hexamethyldisilazane) is added, and the temperature is raised to 50 ° C. Then, the mixture was heated and stirred for 22 hours to prepare a dispersion of trimethylsilylated silica-based hollow particles (1) having a solid content concentration of 2.5% by weight. The refractive index of the trimethylsilylated silica-based hollow particles (1) was 1.32.

また、トリメチルシリル化シリカ系中空粒子(1)の表面電荷量を前記した測定方法によって測定したが17μeq/gであった。
さらに、固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化シリカ系中空粒子(1)分散液の安定性を以下の方法および基準によって測定したが◎であった。
Further, the surface charge amount of the trimethylsilylated silica-based hollow particles (1) was measured by the above-described measuring method and found to be 17 μeq / g.
Furthermore, the stability of the dispersion of the trimethylsilylated silica-based hollow particles (1) having a solid content concentration of 2.5% by weight was measured by the following method and standard, and was evaluated as ◎.

[製造例5]
疎水性シリカ系中空粒子(2)の調製
製造例4のトリメチルシリル化において、ヘキサメチルジシラザン(HMDS)を35.0g用いた以外は製造例4と同様にして固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化したシリカ系中空粒子(2)分散液を調製した。トリメチルシリル化シリカ系中空粒子(2)の屈折率は1.38、表面電荷量は13μeq/g、分散液の安定性は◎であった。
[Production Example 5]
Preparation of hydrophobic silica-based hollow particles (2) In the trimethylsilylation of Production Example 4, the solid content concentration was 2.5% by weight in the same manner as in Production Example 4 except that 35.0 g of hexamethyldisilazane (HMDS) was used. A dispersion of trimethylsilylated silica-based hollow particles (2) was prepared. The refractive index of the trimethylsilylated silica-based hollow particles (2) was 1.38, the surface charge amount was 13 μeq / g, and the dispersion stability was ◎.

[製造例6]
疎水性シリカ系中空粒子(3)の調製
製造例4のトリメチルシリル化において、ヘキサメチルジシラザン(HMDS)を7.0g用いた以外は製造例4と同様にして固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化したシリカ系中空粒子(2)分散液を調製した。トリメチルシリル化シリカ系中空粒子(2)の屈折率は1.29、表面電荷量は19μeq/g、分散液の安定性は◎であった。
[Production Example 6]
Preparation of hydrophobic silica-based hollow particles (3) In the trimethylsilylation of Production Example 4, a solid content concentration of 2.5% by weight was obtained in the same manner as in Production Example 4 except that 7.0 g of hexamethyldisilazane (HMDS) was used. A dispersion of trimethylsilylated silica-based hollow particles (2) was prepared. The refractive index of the trimethylsilylated silica-based hollow particles (2) was 1.29, the surface charge amount was 19 μeq / g, and the stability of the dispersion was ◎.

[製造比較例1]
疎水性酸化ジルコニウム粒子(R1)の調製
実施例1のトリアルキルシリル化としてヘキサメチルジシラザン(HMDS)17.5gを使用する代わりに、モノアルキルシリル化剤としてγ-メタアクリロオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株)製:KBM−503)17.5gを用いた以外は製造例1と同様にして固形分濃度2.5重量%のモノアルキルシリル化した酸化ジルコニウム粒子(R1)分散液を調製した。モノアルキルシリル化酸化ジルコニウム粒子(R1)の屈折率は1.73、表面電荷量は45μeq/g、分散液の安定性は△であった。
[Production Comparative Example 1]
Preparation of Hydrophobic Zirconium Oxide Particles (R1) Instead of using 17.5 g of hexamethyldisilazane (HMDS) as the trialkylsilylation in Example 1, γ-methacrylooxypropyltrimethoxy as the monoalkylsilylating agent Monoalkylsilylated zirconium oxide particles (R1) dispersion having a solid content concentration of 2.5 wt% in the same manner as in Production Example 1 except that 17.5 g of silane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-503) was used Was prepared. The monoalkylsilylated zirconium oxide particles (R1) had a refractive index of 1.73, a surface charge of 45 μeq / g, and the stability of the dispersion was Δ.

[製造比較例2]
疎水性シリカ系中空粒子(R2)の調製
製造例4のトリアルキルシリル化において、ヘキサメチルジシラザン(HMDS)17.5gの代わりに、モノアルキルシリル化剤としてγ-メタアクリロオキシプロピルトリメトキシシラン(信越化学(株)製:KBM−503)17.5gを用いた以外は製造例4と同様にして固形分濃度2.5重量%のモノアルキルシリル化した疎水性シリカ系中空粒子(R2)分散液を調製した。モノアルキルシリル化疎水性シリカ系中空粒子(R2)の屈折率は1.33、表面電荷量は30μeq/g、分散液の安定性は△であった。
[Production Comparative Example 2]
Preparation of hydrophobic silica-based hollow particles (R2) In the trialkylsilylation of Production Example 4, instead of 17.5 g of hexamethyldisilazane (HMDS), γ-methacrylooxypropyltrimethoxy was used as a monoalkylsilylating agent. Monoalkylsilylated hydrophobic silica-based hollow particles (R2 having a solid content concentration of 2.5% by weight in the same manner as in Production Example 4 except that 17.5 g of silane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KBM-503) was used. ) A dispersion was prepared. The monoalkylsilylated hydrophobic silica-based hollow particles (R2) had a refractive index of 1.33, a surface charge of 30 μeq / g, and the dispersion stability was Δ.

以上の製造例で調製した、粒子の特性を表1に示す。   Table 1 shows the characteristics of the particles prepared in the above production examples.

Figure 0005626788
[実施例1]
塗料(1-1)の調製
製造例1で調製した固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化した酸化ジルコニウム粒子(1)分散液128gにシリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・B)1.0gを添加し、ロータリーエバポレーターで、温浴の温度を50℃にし、徐々に減圧を高め2時間で溶媒を除去して塗料(1-1)を調製した。塗料(1-1)中の固形分100重量%に対する溶剤の濃度は0.1重量%であった。
Figure 0005626788
[Example 1]
Preparation of paint (1-1) A trimethylsilylated zirconium oxide particle (1) having a solid content concentration of 2.5% by weight prepared in Production Example 1 (1) was dispersed in 128 g of a silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E). B) 1.0 g was added, the temperature of the warm bath was adjusted to 50 ° C. with a rotary evaporator, the pressure was gradually increased and the solvent was removed in 2 hours to prepare paint (1-1). The concentration of the solvent relative to 100% by weight of the solid content in the paint (1-1) was 0.1% by weight.

得られた塗料(1-1)の安定性を以下の方法および基準で測定したが、◎であった。
なお、安定性は下記の方法、評価基準により評価した。
The stability of the obtained paint (1-1) was measured by the following method and standard, and was evaluated as ◎.
The stability was evaluated by the following method and evaluation criteria.

安定性評価
塗料(1-1)を透明性容器に充填して静置し、容器の下部に沈降粒子の状況を観察し、以下の基準で評価した。
1週間以上、粒子の沈降層が認められなかった。 :◎
3〜6日で粒子の沈降層が認められた。 :○
1〜2日で粒子の沈降層が認められた。 :△
1日以内に粒子の沈降層が認められた。 :×
塗料(1-2)の調製
塗料(1-1)2.1gに、シリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・A)0.5gを混合して塗料(1-2)を調製した。
Stability evaluation paint (1-1) was filled in a transparent container and allowed to stand, and the state of precipitated particles was observed at the bottom of the container, and evaluated according to the following criteria.
No sedimentation layer of particles was observed for more than 1 week. : ◎
A sedimentation layer of particles was observed in 3 to 6 days. : ○
A sedimentation layer of particles was observed in 1 to 2 days. : △
Within 1 day, a sedimentation layer of particles was observed. : ×
Preparation of paint (1-2) Prepare paint (1-2) by mixing 0.5 g of silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E • A) with 2.1 g of paint (1-1). did.

[実施例2]
塗料(2-1)の調製
製造例2で調製した固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化した酸化ジルコニウム粒子(2)分散液128gにシリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・B)1.0gを添加し、ロータリーエバポレーターで、温浴の温度を50℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶媒を除去して塗料(2-1)を調製した。塗料(2-1)中の固形分100重量%に対する溶剤の濃度は0.2重量%であった。
得られた塗料(2-1)の安定性は◎であった。
[Example 2]
Preparation of paint (2-1) A silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E) was added to 128 g of the trimethylsilylated zirconium oxide particles (2) dispersion having a solid content concentration of 2.5% by weight prepared in Production Example 2. B) 1.0 g was added, the temperature of the warm bath was adjusted to 50 ° C. with a rotary evaporator, the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare paint (2-1). The concentration of the solvent relative to 100% by weight of the solid content in the paint (2-1) was 0.2% by weight.
The stability of the obtained paint (2-1) was ◎.

塗料(2-2)の調製
塗料(2-1)2.1gに、シリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・A)0.5gを混合して塗料(2-2)を調製した。
Preparation of paint (2-2) Prepare paint (2-2) by mixing 0.5 g of silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E · A) with 2.1 g of paint (2-1). did.

[実施例3]
塗料(3-1)の調製
製造例3で調製した固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化した酸化ジルコニウム粒子(3)分散液128gにシリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・B)1.0gを添加し、ロータリーエバポレーターで、温浴の温度を50℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶媒を除去して塗料(3-1)を調製した。塗料(3-1)中の固形分100重量%に対する溶剤の濃度は0.1重量%であった。
得られた塗料(3-1)の安定性は○であった。
[Example 3]
Preparation of Paint (3-1) Silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E) was added to 128 g of the trimethylsilylated zirconium oxide particles (3) dispersion having a solid content concentration of 2.5% by weight prepared in Production Example 3. B) 1.0 g was added, the temperature of the warm bath was adjusted to 50 ° C. with a rotary evaporator, the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare paint (3-1). The concentration of the solvent relative to 100% by weight of the solid content in the paint (3-1) was 0.1% by weight.
The stability of the obtained paint (3-1) was good.

塗料(3-2)の調製
塗料(3-1)2.1gに、シリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・A)0.5gを混合して塗料(3-2)を調製した。
Preparation of paint (3-2) 2.1 g of paint (3-1) is mixed with 0.5 g of silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E · A) to prepare paint (3-2). did.

[実施例4]
塗料(4-2)の調製
実施例3と同様にして調製した塗料(3-2)2.1gにシリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・A)1.9gを混合して塗料(4-2)を調製した。
[Example 4]
Preparation of paint (4-2) 1.9 g of silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E · A) was mixed with 2.1 g of paint (3-2) prepared in the same manner as in Example 3. A paint (4-2) was prepared.

[実施例5]
塗料(5-2)の調製
実施例3と同様にして調製した塗料(3-2)2.1gにシリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・A)5.9gを混合して塗料(4-2)を調製した。
[Example 5]
Preparation of paint (5-2) 5.9 g of silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E · A) was mixed with 2.1 g of paint (3-2) prepared in the same manner as in Example 3. A paint (4-2) was prepared.

[実施例6]
塗料(6-1)の調製
製造例4で調製した固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化したシリカ系中空粒子(4)分散液128gにシリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・B)1.0gを添加し、ロータリーエバポレーターで、温浴の温度を50℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶媒を除去して塗料(6-1)を調製した。塗料(6-1)中の固形分100重量%に対する溶剤の濃度は0.1重量%であった。
得られた塗料(6-1)の安定性は◎であった。
[Example 6]
Preparation of Paint (6-1) A trimethylsilylated silica-based hollow particle (4) having a solid content concentration of 2.5% by weight prepared in Production Example 4 was added to 128 g of a silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E). B) 1.0 g was added, the temperature of the warm bath was adjusted to 50 ° C. with a rotary evaporator, the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare paint (6-1). The concentration of the solvent relative to 100% by weight of the solid content in the paint (6-1) was 0.1% by weight.
The stability of the obtained paint (6-1) was ◎.

塗料(6-2)の調製
塗料(6-1)2.1gに、シリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・A)0.5gを混合して塗料(6-2)を調製した。
Preparation of paint (6-2) Prepare paint (6-2) by mixing 0.5 g of silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E · A) with 2.1 g of paint (6-1). did.

[実施例7]
塗料(7-1)の調製
製造例5で調製した固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化したシリカ系中空粒子(5)分散液128gにシリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・B)1.0gを添加し、ロータリーエバポレーターで、温浴の温度を50℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶媒を除去して塗料(7-1)を調製した。塗料(7-1)中の固形分100重量%に対する溶剤の濃度は0.1重量%であった。
得られた塗料(7-1)の安定性は◎であった。
[Example 7]
Preparation of coating material (7-1) Silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E) was added to 128 g of the trimethylsilylated silica-based hollow particle (5) dispersion having a solid concentration of 2.5% by weight prepared in Production Example 5. B) 1.0 g was added, the temperature of the warm bath was adjusted to 50 ° C. with a rotary evaporator, the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare paint (7-1). The concentration of the solvent with respect to 100% by weight of the solid content in the paint (7-1) was 0.1% by weight.
The stability of the obtained paint (7-1) was ◎.

塗料(7-2)の調製
塗料(7-1)2.1gに、シリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・A)0.5gを混合して塗料(7-2)を調製した。
Preparation of paint (7-2) Prepare paint (7-2) by mixing 0.5 g of silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E • A) with 2.1 g of paint (7-1). did.

[実施例8]
塗料(8-1)の調製
製造例6で調製した固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化したシリカ系中空粒子(6)分散液128gにシリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・B)1.0gを添加し、ロータリーエバポレーターで、温浴の温度を50℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶媒を除去して塗料(8-1)を調製した。塗料(8-1)中の固形分100重量%に対する溶剤の濃度は0.1重量%であった。
得られた塗料(8-1)の安定性は◎であった。
[Example 8]
Preparation of Coating Material (8-1) Silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E) was added to 128 g of the trimethylsilylated silica-based hollow particle (6) dispersion having a solid content concentration of 2.5% by weight prepared in Production Example 6. B) 1.0 g was added, the temperature of the warm bath was adjusted to 50 ° C. with a rotary evaporator, the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare paint (8-1). The concentration of the solvent relative to 100% by weight of the solid content in the paint (8-1) was 0.1% by weight.
The stability of the obtained paint (8-1) was ◎.

塗料(8-2)の調製
塗料(8-1)2.1gに、シリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・A)0.5gを混合して塗料(8-2)を調製した。
Preparation of paint (8-2) 2.1 g of paint (8-1) is mixed with 0.5 g of silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E · A) to prepare paint (8-2). did.

[実施例9]
塗料(9-2)の調製
実施例1で調製した塗料(1-2)と実施例6で調製した塗料(4-2)とを重量比8:2で混合して塗料(9-2)を調製した。
[Example 9]
Preparation of paint (9-2) Paint (1-2) prepared in Example 1 and paint (4-2) prepared in Example 6 were mixed at a weight ratio of 8: 2, and paint (9-2) Was prepared.

[実施例10]
塗料(10-2)の調製
実施例1で調製した塗料(1-2)と実施例6で調製した塗料(4-2)とを重量比5:5で混合して塗料(10-2)を調製した。
[Example 10]
Preparation of paint (10-2) Paint (1-2) prepared in Example 1 and paint (4-2) prepared in Example 6 were mixed at a weight ratio of 5: 5 to give paint (10-2) Was prepared.

[実施例11]
塗料(11-2)の調製
実施例1で調製した塗料(1-2)と実施例6で調製した塗料(4-2)とを重量比2:8で混合して塗料(11-2)を調製した。
[Example 11]
Preparation of paint (11-2) Paint (1-2) prepared in Example 1 and paint (4-2) prepared in Example 6 were mixed at a weight ratio of 2: 8 to prepare paint (11-2) Was prepared.

[実施例12]
塗料(12-1)の調製
製造例3で調製した固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化した酸化ジルコニウム粒子(1)分散液128gにエポキシアクリレート樹脂(新中村化学(株)製:NKオリゴEA−5824)1.0gを添加し、ロータリーエバポレーターで、温浴の温度を50℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶媒を除去して塗料(12-1)を調製した。塗料(12-1)中の固形分100重量%に対する溶剤の濃度は0.1重量%であった。
得られた塗料(12-1)の安定性は◎であった。
[Example 12]
Preparation of paint (12-1) An epoxy acrylate resin (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK Oligo) was added to 128 g of trimethylsilylated zirconium oxide particles (1) dispersion having a solid content concentration of 2.5% by weight prepared in Production Example 3. EA-5824) 1.0 g was added, the temperature of the warm bath was adjusted to 50 ° C. with a rotary evaporator, the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare paint (12-1). The concentration of the solvent relative to 100% by weight of the solid content in the paint (12-1) was 0.1% by weight.
The stability of the obtained paint (12-1) was ◎.

塗料(12-2)の調製
塗料(12-1)2.1gに、エポキシアクリレート樹脂(新中村化学(株)製:NKオリゴEA−1020)0.5gと光重合開始剤(チバ・ジャパン(株)製:イルガキュア184)0.06gを混合して塗料(12-2)を調製した。
Preparation of paint (12-2) 2.1 g of paint (12-1), 0.5 g of epoxy acrylate resin (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK OligoEA-1020) and photopolymerization initiator (Ciba Japan ( Co., Ltd .: Irgacure 184) 0.06 g was mixed to prepare paint (12-2).

[実施例13]
塗料(13-1)の調製
製造例4で調製した固形分濃度2.5重量%のトリメチルシリル化したシリカ系中空粒子(4)分散液128gにエポキシアクリレート樹脂(新中村化学(株)製:NKオリゴEA−5824)1.0gを添加し、ロータリーエバポレーターで、温浴の温度を50℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶媒を除去して塗料(13-1)を調製した。塗料(13-1)中の固形分100重量%に対する溶剤の濃度は0.1重量%であった。
得られた塗料(13-1)の安定性は◎であった。
[Example 13]
Preparation of paint (13-1) Epoxy acrylate resin (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK) was added to 128 g of the trimethylsilylated silica-based hollow particle (4) dispersion having a solid concentration of 2.5% by weight prepared in Production Example 4. OligoEA-5824) (1.0 g) was added, and the temperature of the hot bath was adjusted to 50 ° C. with a rotary evaporator, the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare paint (13-1). The concentration of the solvent relative to 100% by weight of the solid content in the paint (13-1) was 0.1% by weight.
The stability of the obtained paint (13-1) was ◎.

塗料(13-2)の調製
塗料(13-1)2.1gに、エポキシアクリレート樹脂(新中村化学(株)製:NKオリゴEA−1020)0.5gと光重合開始剤(チバ・ジャパン(株)製:イルガキュア184)0.06gを混合して塗料(13-2)を調製した。
Preparation of paint (13-2) 2.1 g of paint (13-1), 0.5 g of epoxy acrylate resin (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd .: NK OligoEA-1020) and photopolymerization initiator (Ciba Japan ( Co., Ltd .: Irgacure 184) 0.06 g was mixed to prepare paint (13-2).

[比較例1]
塗料(R1-1)の調製
製造比較例1で調製した固形分濃度2.5重量%のモノアルキルシリル化した酸化ジルコニウム粒子(R1)分散液128gにシリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・B)1.0gを添加し、ロータリーエバポレーターで、温浴の温度を50℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶媒を除去して塗料(R1-1)を調製した。塗料(R1-1)中の固形分100重量%に対する溶剤の濃度は0.1重量%であった。得られた塗料(R1-1)の安定性は△であった。
[Comparative Example 1]
Preparation of paint (R1-1) 128 g of monoalkylsilylated zirconium oxide particle (R1) dispersion having a solid content concentration of 2.5% by weight prepared in Production Comparative Example 1 was added to a silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE). -109E · B) 1.0 g was added, the temperature of the warm bath was adjusted to 50 ° C. with a rotary evaporator, the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare paint (R1-1). The concentration of the solvent relative to 100% by weight of the solid content in the paint (R1-1) was 0.1% by weight. The stability of the obtained paint (R1-1) was Δ.

塗料(R1-2)の調製
塗料(R1-1)2.1gに、シリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・A)0.5gを混合して塗料(R1-2)を調製した。
Preparation of paint (R1-2) 2.1 g of paint (R1-1) is mixed with 0.5 g of silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E · A) to prepare paint (R1-2). did.

[比較例2]
塗料(R2-1)の調製
製造比較例2で調製した固形分濃度2.5重量%のモノアルキルシリル化したシリカ系中空粒子(R2)分散液128gにシリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・B)1.0gを添加し、ロータリーエバポレーターで、温浴の温度を50℃にし、減圧度を徐々に上げ2時間で溶媒を除去して塗料(R2-1)を調製した。塗料(R2-1)中の固形分100重量%に対する溶剤の濃度は0.1重量%であった。得られた塗料(R2-1)の安定性は△であった。
[Comparative Example 2]
Preparation of paint (R2-1) 128 g of monoalkylsilylated silica-based hollow particle (R2) dispersion having a solid content concentration of 2.5% by weight prepared in Production Comparative Example 2 was added to a silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: (KE-109E · B) (1.0 g) was added, and the temperature of the warm bath was adjusted to 50 ° C. with a rotary evaporator, the degree of vacuum was gradually increased, and the solvent was removed in 2 hours to prepare a paint (R2-1). The concentration of the solvent relative to 100% by weight of the solid content in the paint (R2-1) was 0.1% by weight. The stability of the obtained paint (R2-1) was Δ.

塗料(R2-2)の調製
塗料(R2-1)2.1gに、シリコーン樹脂(信越化学(株)製:KE−109E・A)0.5gを混合して塗料(R2-2)を調製した。
得られた塗料の組成を表2に示す。
Preparation of paint (R2-2) Prepare paint (R2-2) by mixing 0.5 g of silicone resin (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .: KE-109E · A) with 2.1 g of paint (R2-1). did.
The composition of the obtained paint is shown in Table 2.

Figure 0005626788
[実施例14](単層との区別をつけるために積層といれておきます)
積層封止層(1)の形成
実施例1で調製した塗料(1-2)をガラス基板(厚さ:3.0mm、屈折率:1.46、全光線透過率92.0%、ヘーズ0.1%)にバーコーター法(バー#50)で塗布し、80℃で3時間、熱処理して硬化させ、厚さ50μmの第1封止層を形成した。
Figure 0005626788
[Example 14] (In order to distinguish it from a single layer, it is referred to as a laminate.)
Formation of laminated sealing layer (1) Paint (1-2) prepared in Example 1 was applied to a glass substrate (thickness: 3.0 mm, refractive index: 1.46, total light transmittance 92.0%, haze 0 0.1%) by a bar coater method (bar # 50), and cured by heat treatment at 80 ° C. for 3 hours to form a first sealing layer having a thickness of 50 μm.

ついで、実施例6で調製した塗料(6-2)を同様に塗布、硬化させて2層からなる積層封止層(1)を形成した。
このときの封止層(1)の厚さは100μmであった。得られた封止層(1)の全光線透過率およびヘーズをヘーズメーター(日本電色工業(株)製NDH−300A)により測定し、結果を表3に示す。さらに、封止層(1)の屈折率と鉛筆硬度を以下の方法および評価基準で評価し、結果を表3に示す。
Subsequently, the coating material (6-2) prepared in Example 6 was applied and cured in the same manner to form a two-layer laminated sealing layer (1).
At this time, the thickness of the sealing layer (1) was 100 μm. The total light transmittance and haze of the obtained sealing layer (1) were measured with a haze meter (NDH-300A manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.), and the results are shown in Table 3. Furthermore, the refractive index and pencil hardness of the sealing layer (1) were evaluated by the following methods and evaluation criteria, and the results are shown in Table 3.

屈折率
上記ガラス基板に代えてシリコンウエハー上に塗料(1-2)を同様にして塗布、硬化させて厚さ50μmの塗膜を形成し、エリプソメーター(SOPRA社製:ESVG)により第1封止層の屈折率を測定した。同様に塗料(4-2)を用いて第2封止層の屈折率を測定し、結果を表3に示す。
Refractive index In place of the glass substrate, paint (1-2) is applied and cured in the same manner on a silicon wafer to form a 50 μm-thick coating film, which is first sealed with an ellipsometer (manufactured by SOPRA: ESVG). The refractive index of the stop layer was measured. Similarly, the refractive index of the second sealing layer was measured using paint (4-2), and the results are shown in Table 3.

鉛筆硬度の測定
JIS−K−5400に準じて鉛筆硬度試験器により測定した。
Measurement of pencil hardness It measured with the pencil hardness tester according to JIS-K-5400.

[実施例15]
積層封止層(2)の形成
実施例3で調製した塗料(3-2)をガラス基板(厚さ:3.0mm、屈折率:1.46、全光線透過率92.0%、ヘーズ0.1%)にバーコーター法(バー#50)で塗布し、80℃で3時間、熱処理して硬化させ、厚さ50μmの第1封止層を形成した。
[Example 15]
Formation of laminated sealing layer (2) Paint (3-2) prepared in Example 3 was applied to a glass substrate (thickness: 3.0 mm, refractive index: 1.46, total light transmittance 92.0%, haze 0 0.1%) by a bar coater method (bar # 50), and cured by heat treatment at 80 ° C. for 3 hours to form a first sealing layer having a thickness of 50 μm.

ついで、実施例10で調製した塗料(10-2) を同様に塗布、硬化させ、厚さ50μmの第2封止層を形成した。さらに実施例6で調製した塗料(6-2)を同様に塗布、硬化させて3層からなる封止層(2)を形成した。
このときの積層封止層(2)の厚さは150μmであった。また、積層封止層(2)の全光線透過率、ヘーズ、屈折率および鉛筆硬度を測定し、結果を表3に示す。
Next, the coating material (10-2) prepared in Example 10 was applied and cured in the same manner to form a second sealing layer having a thickness of 50 μm. Further, the coating material (6-2) prepared in Example 6 was applied and cured in the same manner to form a three-layer sealing layer (2).
At this time, the thickness of the laminated sealing layer (2) was 150 μm. Further, the total light transmittance, haze, refractive index and pencil hardness of the laminated sealing layer (2) were measured, and the results are shown in Table 3.

[実施例16]
積層封止層(3)の形成
実施例3で調製した塗料(3-2)をガラス基板(厚さ:3.0mm、屈折率:1.46、全光線透過率92.0%、ヘーズ0.1%)にバーコーター法(バー#50)で塗布し、80℃で3時間、熱処理して硬化させ、厚さ50μmの第1封止層を形成した。
[Example 16]
Formation of laminated sealing layer (3) Paint (3-2) prepared in Example 3 was applied to a glass substrate (thickness: 3.0 mm, refractive index: 1.46, total light transmittance 92.0%, haze 0 0.1%) by a bar coater method (bar # 50), and cured by heat treatment at 80 ° C. for 3 hours to form a first sealing layer having a thickness of 50 μm.

ついで、実施例9で調製した塗料(9-2) を同様に塗布、硬化させ、厚さ50μmの第2封止層を形成した。さらに、実施例10で調製した塗料(10-2) を同様に塗布、硬化させ、厚さ50μmの第3封止層を形成し、その上に、実施例11で調製した塗料(11-2) を同様に塗布、硬化させ、厚さ50μmの第4封止層を形成した。
そして、実施例6で調製した塗料(6-2)を同様に塗布、硬化させて5層からなる積層封止層(3)を形成した。
このときの積層封止層(3)の厚さは250μmであった。また、積層封止層(3)の全光線透過率、ヘーズ、屈折率および鉛筆硬度を測定し、結果を表3に示す。
Subsequently, the coating material (9-2) prepared in Example 9 was applied and cured in the same manner to form a second sealing layer having a thickness of 50 μm. Further, the coating material (10-2) prepared in Example 10 was applied and cured in the same manner to form a third sealing layer having a thickness of 50 μm, on which the coating material (11-2) prepared in Example 11 was formed. ) Was applied and cured in the same manner to form a fourth sealing layer having a thickness of 50 μm.
And the coating material (6-2) prepared in Example 6 was applied and cured in the same manner to form a laminated sealing layer (3) comprising 5 layers.
At this time, the thickness of the laminated sealing layer (3) was 250 μm. Further, the total light transmittance, haze, refractive index and pencil hardness of the laminated sealing layer (3) were measured, and the results are shown in Table 3.

[実施例17]
積層封止層(4)の形成
実施例3で調製した塗料(3-2)をガラス基板(厚さ:3.0mm、屈折率:1.46、全光線透過率92.0%、ヘーズ0.1%)にバーコーター法(バー#50)で塗布し、80℃で3時間、熱処理して硬化させ、厚さ50μmの第1封止層を形成した。
[Example 17]
Formation of laminated sealing layer (4) Paint (3-2) prepared in Example 3 was applied to a glass substrate (thickness: 3.0 mm, refractive index: 1.46, total light transmittance 92.0%, haze 0 0.1%) by a bar coater method (bar # 50), and cured by heat treatment at 80 ° C. for 3 hours to form a first sealing layer having a thickness of 50 μm.

ついで、実施例4で調製した塗料(4-2) を同様に塗布、硬化させ、厚さ50μmの第2封止層を形成した。さらに、実施例5で調製した塗料(5-2) を同様に塗布、硬化させ、厚さ50μmの第3封止層を形成した。そして、実施例6で調製した塗料(6-2)を同様に塗布、硬化させて4層からなる封積層止層(4)を形成した。
このときの積層封止層(4)の厚さは200μmであった。また、積層封止層(3)の全光線透過率、ヘーズ、屈折率および鉛筆硬度を測定し、結果を表3に示す。
Subsequently, the coating material (4-2) prepared in Example 4 was applied and cured in the same manner to form a second sealing layer having a thickness of 50 μm. Further, the coating material (5-2) prepared in Example 5 was applied and cured in the same manner to form a third sealing layer having a thickness of 50 μm. Then, the coating layer (6-2) prepared in Example 6 was applied and cured in the same manner to form a four-layer sealing lamination stopper layer (4).
At this time, the thickness of the laminated sealing layer (4) was 200 μm. Further, the total light transmittance, haze, refractive index and pencil hardness of the laminated sealing layer (3) were measured, and the results are shown in Table 3.

[実施例18]
積層封止層(5)の形成
実施例12で調製した塗料(12-2)をガラス基板(厚さ:3.0mm、屈折率:1.46、全光線透過率92.0%、ヘーズ0.1%)にバーコーター法(バー#50)で塗布し、80℃で3分乾燥後、UV照射機(高圧水銀灯)で600mJ/cm2照射して硬化させ、厚さ50μmの第1封止層を形成した。
[Example 18]
Formation of laminated sealing layer (5) The paint (12-2) prepared in Example 12 was applied to a glass substrate (thickness: 3.0 mm, refractive index: 1.46, total light transmittance 92.0%, haze 0). 1%), coated by the bar coater method (bar # 50), dried at 80 ° C. for 3 minutes, cured by irradiation with 600 mJ / cm 2 with a UV irradiator (high pressure mercury lamp), and first sealed with a thickness of 50 μm A stop layer was formed.

ついで、実施例13で調製した塗料(13-2)を同様に塗布、硬化させて2層からなる封止層(5)を形成した。
このときの積層封止層(5)の厚さは100μmであった。また、積層封止層(5)の全光線透過率、ヘーズ、屈折率および鉛筆硬度を測定し、結果を表3に示す。
Subsequently, the coating material (13-2) prepared in Example 13 was applied and cured in the same manner to form a two-layer sealing layer (5).
At this time, the thickness of the laminated sealing layer (5) was 100 μm. Further, the total light transmittance, haze, refractive index and pencil hardness of the laminated sealing layer (5) were measured, and the results are shown in Table 3.

[比較例3]
単層封止層(R1)の調製
実施例2で調製した塗料(2-2)をガラス基板(厚さ:3.0mm、屈折率:1.46、全光線透過率92.0%、ヘーズ0.1%)にバーコーター法(バー#50)で塗布し、80℃で3時間、熱処理して硬化させ、厚さ50μmの封止層(1)を調製した。封止層(R1)の全光線透過率、ヘーズ、屈折率および鉛筆硬度を測定し、結果を表3に示す。
[Comparative Example 3]
Preparation of single-layer sealing layer (R1) Paint (2-2) prepared in Example 2 was applied to a glass substrate (thickness: 3.0 mm, refractive index: 1.46, total light transmittance 92.0%, haze) 0.1%) was applied by a bar coater method (bar # 50), and was cured by heat treatment at 80 ° C. for 3 hours to prepare a sealing layer (1) having a thickness of 50 μm. The total light transmittance, haze, refractive index and pencil hardness of the sealing layer (R1) were measured, and the results are shown in Table 3.

[比較例4]
単層封止層(R2)の調製
実施例9で調製した塗料(9-2)をガラス基板(厚さ:3.0mm、屈折率:1.46、全光線透過率92.0%、ヘーズ0.1%)にバーコーター法(バー#50)で塗布し、80℃で3時間、熱処理して硬化させ、厚さ50μmの封止層(R3)を調製した。封止層(R3)の全光線透過率、ヘーズ、屈折率および鉛筆硬度を測定し、結果を表3に示す。
[Comparative Example 4]
Preparation of Single Layer Sealing Layer (R2) The paint (9-2) prepared in Example 9 was applied to a glass substrate (thickness: 3.0 mm, refractive index: 1.46, total light transmittance 92.0%, haze) 0.1%) was applied by a bar coater method (bar # 50), and was cured by heat treatment at 80 ° C. for 3 hours to prepare a sealing layer (R3) having a thickness of 50 μm. The total light transmittance, haze, refractive index and pencil hardness of the sealing layer (R3) were measured, and the results are shown in Table 3.

[比較例5]
単層封止層(R3)の調製
実施例4で調製した塗料(4-2)をガラス基板(厚さ:3.0mm、屈折率:1.46、全光線透過率92.0%、ヘーズ0.1%)にバーコーター法(バー#50)で塗布し、80℃で3時間、熱処理して硬化させ、厚さ50μmの封止層(R3)を調製した。封止層(R3)の全光線透過率、ヘーズ、屈折率および鉛筆硬度を測定し、結果を表3に示す。
[Comparative Example 5]
Preparation of Single-layer Sealing Layer (R3) Paint (4-2) prepared in Example 4 was applied to a glass substrate (thickness: 3.0 mm, refractive index: 1.46, total light transmittance 92.0%, haze) 0.1%) was applied by a bar coater method (bar # 50), and was cured by heat treatment at 80 ° C. for 3 hours to prepare a sealing layer (R3) having a thickness of 50 μm. The total light transmittance, haze, refractive index and pencil hardness of the sealing layer (R3) were measured, and the results are shown in Table 3.

Figure 0005626788
Figure 0005626788

Claims (10)

平均粒子径が5〜50nmの範囲にある疎水性酸化ジルコニウム粒子平均粒子径が5〜200nmの範囲にある疎水性シリカ系中空粒子の少なくとも一種の疎水性粒子と、マトリックス樹脂成分とを含む封止材用塗料であって、
前記疎水性粒子の含有量が10〜90重量%の範囲にあり、
前記疎水性粒子は、表面に設けられたシリカ被覆層と、前記シリカ被覆層の表面に設けられたトリアルキルシリル基を含むことを特徴とする封止材用塗料。
And at least one hydrophobic particles of the hydrophobic silica-based hollow particles with an average particle size an average particle diameter of the hydrophobic zirconium oxide particles in the range of 5~50nm is in the range of 5 to 200 nm, including a matrix resin component A coating material for sealing material,
The content of the hydrophobic particles is in the range of 10 to 90% by weight ,
The hydrophobic particles include a silica coating layer provided on a surface and a trialkylsilyl group provided on the surface of the silica coating layer .
前記トリアルキルシリル基、酸化ジルコニウム粒子およびシリカ系中空粒子に対して固形分(R3−SiO1/2)として、10〜100重量%の範囲で前記疎水性粒子に含まれることを特徴とする請求項1に記載の封止材用塗料。 The trialkylsilyl group is contained in the hydrophobic particles in a range of 10 to 100% by weight as a solid content (R 3 —SiO 1/2 ) with respect to the zirconium oxide particles and the silica-based hollow particles. The coating material for sealing materials according to claim 1. 前記マトリックス樹脂成分が、エポキシ樹脂またはシリコーン樹脂であることを特徴とする請求項1または2に記載の封止材用塗料。 The coating material for a sealing material according to claim 1 or 2 , wherein the matrix resin component is an epoxy resin or a silicone resin. 請求項1〜のいずれかに記載の封止材用塗料を用いて形成させてなる封止層を有することを特徴とする発光ダイオード。 Light emitting diode and having a sealing layer formed by formed using the paint sealing material according to any one of claims 1-3. 最下層の封止層(第1封止層)から最上層の封止層(n番目の封止層)まで屈折率の高い順に積層された積層封止層を有する発光ダイオードであって、
前記最下層の封止層の屈折率n 1 が1.55〜1.85の範囲にあり、
前記最上層の封止層の屈折率n n が1.30〜1.65の範囲にあり、
前記積層封止層の各封止層は、平均粒子径が5〜50nmの疎水性酸化ジルコニウム粒子と平均粒子径が5〜200nmの疎水性シリカ系中空粒子の少なくとも一種の疎水性粒子と、マトリックス樹脂成分を含み、
前記疎水性粒子は、表面に設けられたシリカ被覆層と、前記シリカ被覆層の表面に設けられたトリアルキルシリル基を含むことを特徴とする発光ダイオード。
A light-emitting diode having a laminated sealing layer laminated in order of high refractive index from the lowermost sealing layer (first sealing layer) to the uppermost sealing layer (n-th sealing layer),
The lowermost sealing layer has a refractive index n 1 in the range of 1.55 to 1.85,
The refractive index n n of the uppermost sealing layer is in the range of 1.30 to 1.65,
Each sealing layer of the laminated sealing layer comprises at least one hydrophobic particle of hydrophobic zirconium oxide particles having an average particle size of 5 to 50 nm, hydrophobic silica-based hollow particles having an average particle size of 5 to 200 nm, and a matrix Including resin components,
The hydrophobic particle includes a silica coating layer provided on a surface and a trialkylsilyl group provided on the surface of the silica coating layer .
前記トリアルキルシリル基は、酸化ジルコニウム粒子およびシリカ系中空粒子に対して固形分(R3−SiO1/2)として、10〜100重量%の範囲で前記疎水性粒子に含まれることを特徴とする請求項に記載の発光ダイオード。 The trialkylsilyl group is contained in the hydrophobic particles in a range of 10 to 100% by weight as a solid content (R 3 —SiO 1/2 ) with respect to the zirconium oxide particles and the silica-based hollow particles. The light emitting diode according to claim 5 . 前記マトリックス樹脂がエポキシ樹脂またはシリコーン樹脂であることを特徴とする請求項5または6に記載の発光ダイオード。 7. The light emitting diode according to claim 5, wherein the matrix resin is an epoxy resin or a silicone resin. 前記疎水性粒子の前記各封止層中の含有量が、10〜90重量%の範囲にあることを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載の発光ダイオード。 8. The light-emitting diode according to claim 5 , wherein the content of the hydrophobic particles in each sealing layer is in the range of 10 to 90 wt%. 前記積層封止層の厚みが、0.1〜5mmの範囲にあることを特徴とする請求項5〜8のいずれかに記載の発光ダイオード。 The light emitting diode according to any one of claims 5 to 8 , wherein a thickness of the laminated sealing layer is in a range of 0.1 to 5 mm. 前記積層封止層の光透過率が80%以上であることを特徴とする請求項5〜9のいずれかに記載の発光ダイオード。 The light-emitting diode according to claim 5 , wherein the laminated sealing layer has a light transmittance of 80% or more.
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