JP5626517B2 - Manufacturing method of liquid crystal display element - Google Patents

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Description

本発明は、液晶表示素子の製造方法に関する。さらに詳しくは、視野角が広く、応答速度の速い液晶表示素子を製造するための新規な方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display element. More specifically, the present invention relates to a novel method for manufacturing a liquid crystal display device having a wide viewing angle and a fast response speed.

液晶表示素子のうち、垂直配向モードとして従来知られているMVA(Multi−Domain Vertical Alignment)型パネルは、液晶パネル中に突起物を形成し、これにより液晶分子の倒れ込み方向を規制することにより、視野角の拡大を図っている。しかし、この方式によると、突起物に由来する透過率およびコントラストの不足が不可避であり、さらに液晶分子の応答速度が遅いという問題がある。
近年、上記の如きMVA型パネルの問題点を解決すべく、PSA(Polymer Sustained Alignment)モードが提案された。PSAモードは、パターン状導電膜付き基板およびパターンを有さない導電膜付き基板からなる一対の基板の間隙、あるいは2枚のパターン状導電膜付き基板からなる一対の基板の間隙に重合性の化合物を含有する液晶組成物を狭持し、導電膜間に電圧を印加した状態で紫外線を照射して重合性化合物を重合し、これによりプレチルト角特性を発現して液晶の配向方向を制御しようとする技術である。この技術によると、導電膜を特定の構成とすることにより視野角の拡大および液晶分子応答の高速化を図ることができ、MVA型パネルにおいて不可避であった透過率およびコントラストの不足の問題も解消される。しかしながら、前記重合性化合物の重合のために、例えば100,000J/mといった多量の紫外線の照射が必要であり、そのため液晶分子が分解する不具合が生ずるほか、紫外線照射によっても重合しなかった未反応化合物が液晶層中に残存することとなり、これらが相俟って表示ムラが発生し、電圧保持特性に悪影響を及ぼし、あるいはパネルの長期信頼性に問題が生じることが明らかとなっている。
Among liquid crystal display elements, an MVA (Multi-Domain Vertical Alignment) type panel conventionally known as a vertical alignment mode forms protrusions in the liquid crystal panel, thereby restricting the tilting direction of the liquid crystal molecules. The viewing angle is expanded. However, according to this method, the lack of transmittance and contrast due to the protrusions is unavoidable, and there is a problem that the response speed of the liquid crystal molecules is slow.
In recent years, a PSA (Polymer Sustained Alignment) mode has been proposed in order to solve the problems of the MVA type panel as described above. The PSA mode is a polymerizable compound in a gap between a pair of substrates composed of a substrate with a patterned conductive film and a substrate with a conductive film having no pattern, or between a pair of substrates composed of two substrates with a patterned conductive film. An attempt is made to control the alignment direction of the liquid crystal by expressing a pretilt angle characteristic by irradiating ultraviolet rays in a state where a voltage is applied between the conductive films while sandwiching the liquid crystal composition containing the liquid crystal and polymerizing the polymerizable compound. Technology. According to this technology, it is possible to increase the viewing angle and speed up the liquid crystal molecule response by making the conductive film into a specific configuration, and also solve the problem of lack of transmittance and contrast that was inevitable in the MVA type panel. Is done. However, in order to polymerize the polymerizable compound, it is necessary to irradiate a large amount of ultraviolet light, for example, 100,000 J / m 2. It becomes clear that the reactive compounds remain in the liquid crystal layer, which together cause display unevenness, adversely affect the voltage holding characteristics, or cause problems in the long-term reliability of the panel.

これらに対し非特許文献1は、反応性メソゲンを含有するポリイミド系液晶配向剤から形成された液晶配向膜を用いる方法を提案している。非特許文献1によると、かかる方法により形成された液晶配向膜を具備する液晶表示素子は、液晶分子の応答が高速であるという。しかしながら非特許文献1には、いかなる反応性メソゲンをいかなる量で使用すべきかについての指針は全く記載されておらず、また必要な紫外線照射量も依然として多く、表示特性、特に電圧保持特性に関する懸念は払拭されていない。   On the other hand, Non-Patent Document 1 proposes a method using a liquid crystal alignment film formed from a polyimide liquid crystal aligning agent containing a reactive mesogen. According to Non-Patent Document 1, a liquid crystal display element including a liquid crystal alignment film formed by such a method is said to respond quickly to liquid crystal molecules. However, Non-Patent Document 1 does not provide any guidance on what kind of reactive mesogen should be used, and the amount of necessary ultraviolet irradiation is still large, and there are concerns about display characteristics, particularly voltage holding characteristics. Not wiped out.

特開平5−107544号公報JP-A-5-107544 特開2010−97188号公報JP 2010-97188 A

Y.−J. Lee et. al. SID 09 DIGEST, p. 666(2009)Y. -J. Lee et. al. SID 09 DIGEST, p. 666 (2009) Chemical Reviews、95巻、p1409(1995年)Chemical Reviews, Volume 95, p1409 (1995) T. J. Scheffer et. al., J. Appl. Phys. vo. 48, p. 1783(1977)T. T. et al. J. et al. Scheffer et. al. , J. et al. Appl. Phys. vo. 48, p. 1783 (1977) F. Nakano et. al., JPN. J. Appl. Phys. vo. 19, p. 2013(1980)F. Nakano et. al. , JPN. J. et al. Appl. Phys. vo. 19, p. 2013 (1980)

本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、視野角が広く、液晶分子の応答速度が速く、表示特性および長期信頼性に優れる液晶表示素子の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal display element having a wide viewing angle, a high response speed of liquid crystal molecules, and excellent display characteristics and long-term reliability. To do.

本発明によれば、本発明の上記目的および利点は、
導電膜を有する一対の基板の該導電膜上に、それぞれ、
(A)(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンである第一の重合体、ならびに
(B)ポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種である第二の重合体
を含有する重合体組成物を塗布して塗膜を形成し、
前記塗膜を形成した一対の基板の前記塗膜が、液晶層を介して相対して対向配置した構成の液晶セルを形成し、
前記一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する工程を経る、液晶表示素子の製造方法によって達成される。
According to the present invention, the above objects and advantages of the present invention are:
On the conductive film of the pair of substrates having the conductive film,
(A) A polymer containing a first polymer which is a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group, and (B) a second polymer which is at least one selected from the group consisting of polyamic acid and polyimide. Apply the composition to form a coating film,
The coating film of the pair of substrates on which the coating film is formed forms a liquid crystal cell having a configuration in which the coating film is opposed to the liquid crystal layer,
This is achieved by a method for manufacturing a liquid crystal display element, which includes a step of irradiating light to the liquid crystal cell in a state where a voltage is applied between conductive films of the pair of substrates.

本発明の方法によって製造された液晶表示素子は、視野角が広く、液晶分子の応答速度が速く、十分な透過率およびコントラストを示し、表示特に優れるうえ、長時間連続駆動しても表示特性が損なわれることがない。
また、本発明の方法によると、照射に必要な光の量が少なくてすむため、液晶表示素子の製造コストの削減に資する。
従って、本発明の方法により製造された液晶表示素子は、性能面およびコスト面の双方において従来知られている液晶表示素子に勝り、2次元表示および3次元表示の液晶テレビジョンを含む種々の用途に好適に適用することができる。
The liquid crystal display element manufactured by the method of the present invention has a wide viewing angle, response speed of the liquid crystal molecules is fast, sufficient transmittance and shows the contrast, after having excellent display characteristics, displayed continuously for a long time driven The characteristics are not impaired.
In addition, according to the method of the present invention, the amount of light required for irradiation can be reduced, which contributes to a reduction in manufacturing cost of the liquid crystal display element.
Therefore, the liquid crystal display device manufactured by the method of the present invention is superior to the conventionally known liquid crystal display device in both performance and cost, and various uses including liquid crystal televisions for two-dimensional display and three-dimensional display. It can be suitably applied to.

実施例および比較例にて製造した、パターニングされた透明導電膜を有する液晶セルにおける透明導電膜のパターンを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the pattern of the transparent conductive film in the liquid crystal cell which has the transparent transparent conductive film manufactured in the Example and the comparative example. 実施例および比較例にて製造した、パターニングされた透明導電膜を有する液晶セルにおける透明導電膜のパターンを示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the pattern of the transparent conductive film in the liquid crystal cell which has the transparent transparent conductive film manufactured in the Example and the comparative example.

<<重合体組成物>>
本発明の方法において用いられる重合体組成物は、
(A)(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンである第一の重合体、ならびに
(B)ポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種である第二の重合体
を含有する。
<(A)第一の重合体>
本発明で用いられる(A)第一の重合体は、(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンである。第一の重合体が(メタ)アクリロイル基を有することにより、これを含有する重合体組成物から形成された膜は、本発明の方法によって少ない光照射量で所望のプレチルト角発現性が付与されるという利点を有することとなる。
第一の重合体は、(メタ)アクリロイル基のほかに、下記式(D
<< Polymer composition >>
The polymer composition used in the method of the present invention is:
(A) a first polymer that is a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group, and (B) a second polymer that is at least one selected from the group consisting of polyamic acid and polyimide.
<(A) First polymer>
The (A) first polymer used in the present invention is a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group. Since the first polymer has a (meth) acryloyl group, the film formed from the polymer composition containing the first polymer is given the desired pretilt angle developability with a small amount of light irradiation by the method of the present invention. The advantage is that
In addition to the (meth) acryloyl group, the first polymer has the following formula (D 0 )

(式(D)中、Rは炭素数1〜40のアルキル基、炭素数1〜40のフルオロアルキル基、シアノ基もしくはフッ素原子であるか、またはステロイド骨格を有する炭素数17〜51の炭化水素基であり;
は単結合、−O−、−COO−または−OCO−(ただし、「*」を付した結合手がR側である。)であり、
IIはシクロへキシレン基またはフェニレン基であり、ただしこのシクロへキシレン基またはフェニレン基はシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基または炭素数1〜3のアルキル基によって置換されていてもよく、
n1は1または2であり、
ただしn1が2であるとき、2個のRIIは互いに同一であっても異なっていてもよく、
n2は0または1であり;
II−O−、−COO−または−OCO−(ただし、「*」を付した結合手がR側である。)であり、
n3は0〜2の整数であり、
n4は0または1である。)
で表される基およびエポキシ基よりなる群から選択される少なくとも一種の基を、さらに有していてもよい。
(In the formula (D 0 ), R I is an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 40 carbon atoms, a cyano group, a fluorine atom, or a 17 to 51 carbon atoms having a steroid skeleton. A hydrocarbon group;
Z I represents a single bond, * -O-, a * -COO- or * -OCO- (where bond marked with "*" is R I side.)
R II represents a cyclohexylene group or a phenylene group, provided that the cyclohexylene group or phenylene group may be substituted with a cyano group, a fluorine atom, a trifluoromethyl group, or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms;
n1 is 1 or 2,
However, when n1 is 2, two R II may be the same or different from each other,
n2 is 0 or 1;
Z II is * -O-, a * -COO- or * -OCO- (where bond marked with "*" is R I side.)
n3 is an integer of 0 to 2,
n4 is 0 or 1. )
And may further have at least one group selected from the group consisting of an epoxy group and an epoxy group.

上記式(D)におけるRの炭素数1〜40のアルキル基として具体的には、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、ステアリル基などを;
炭素数1〜40のフルオロアルキル基として具体的には、例えばトリフルオロメチルプロピル基、トリフルオロメチルブチル基、トリフルオロメチルヘキシル基、トリフルオロメチルデシル基、ペンタフルオロエチルプロピル基、ペンタフルオロエチルブチル基、ペンタフルオロエチルオクチル基などを;
ステロイド骨格を有する17〜51の炭化水素基としては、例えばコレスタニル基、コレステニル基、ラノスタニル基などを、それぞれ挙げることができる。
上記式(D)におけるRIIのシクロへキシレン基およびフェニレン基は、それぞれ、1,4−シクロへキシレン基および1,4−フェニレン基であることが好ましい。上記式(D)において−(RIIn1−で表される2価の基としては、n1が1である場合として、例えば1,4−フェニレン基、1,2−シクロへキシレン基などを;
n1が2である場合として、例えば4,4’−ビフェニレン基、4,4’−ビシクロへキシレン基、下記式
Specifically as alkyl group having 1 to 40 carbon atoms of R I in the above formula (D 0), for example a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group, dodecyl Groups, hexadecyl groups, stearyl groups, etc .;
Specific examples of the fluoroalkyl group having 1 to 40 carbon atoms include trifluoromethylpropyl group, trifluoromethylbutyl group, trifluoromethylhexyl group, trifluoromethyldecyl group, pentafluoroethylpropyl group, and pentafluoroethylbutyl group. A pentafluoroethyloctyl group, etc .;
Examples of the 17-51 hydrocarbon group having a steroid skeleton may include a cholestanyl group, a cholestenyl group, and a lanostannyl group.
The cyclohexylene group and phenylene group of R II in the above formula (D 0 ) are preferably 1,4-cyclohexylene group and 1,4-phenylene group, respectively. Examples of the divalent group represented by — (R II ) n1 — in the above formula (D 0 ) include those in which n1 is 1, such as a 1,4-phenylene group and a 1,2-cyclohexylene group. ;
As a case where n1 is 2, for example, 4,4′-biphenylene group, 4,4′-bicyclohexylene group,

(上記式中、「*」を付した結合手がR側である。)
のそれぞれで表される基などを、それぞれ好ましいものとして挙げることができる。
上記式(D)におけるn3は、2であることが好ましい。
第一の重合体がこのような上記式(D)で表される基を有することにより、これを含有する重合体組成物から形成された膜は良好な液晶配向能を発揮することとなり、好ましい。
また、第一の重合体がエポキシ基を有することにより、これを含有する重合体組成物から形成された膜は強靭な機械的特性を有し、耐熱性、耐光性などの諸性能に優れることとなり、好ましい。
本発明における(A)第一の重合体は、
(メタ)アクリロイル基を0.0003モル/g以上有していることが好ましく、0.0004〜0.008モル/g有していることがより好ましく;
上記式(D)で表される基を、0.005モル/g以下の範囲で有していることが好ましく、0.0002〜0.003モル/g有していることがより好ましく;
エポキシ基を、0.004モル/g以下の範囲で有していることが好ましく、0.0009〜0.003モル/g有していることがより好ましい。
第一の重合体につき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量は、500〜100,000であることが好ましく、1,000〜50,000であることがより好ましく、さらに1,000〜10,000であることが好ましい。
(In the formula, a bond marked with "*" is R I side.)
The groups represented by each of the above can be mentioned as preferred examples.
N3 in the above formula (D 0 ) is preferably 2.
When the first polymer has such a group represented by the above formula (D 0 ), the film formed from the polymer composition containing the first polymer exhibits a good liquid crystal alignment ability, preferable.
In addition, since the first polymer has an epoxy group, the film formed from the polymer composition containing the epoxy group has tough mechanical properties and excellent performance such as heat resistance and light resistance. It is preferable.
In the present invention, (A) the first polymer is
It preferably has a (meth) acryloyl group of 0.0003 mol / g or more, more preferably 0.0004 to 0.008 mol / g;
It preferably has a group represented by the above formula (D 0 ) in a range of 0.005 mol / g or less, more preferably 0.0002 to 0.003 mol / g;
It is preferable to have an epoxy group in the range of 0.004 mol / g or less, and more preferably 0.0009 to 0.003 mol / g.
For the first polymer, the weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) is preferably 500 to 100,000, more preferably 1,000 to 50,000. Furthermore, it is preferable that it is 1,000-10,000.

このような(A)第一の重合体は、上記のような基を有し、好ましくは上記の範囲の重量平均分子量を持つものである限り、その製造方法が限定されるものではないが、例えば以下のような方法によって製造することができる。
(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンである第一の重合体の製造は、例えば
(1)加水分解性シラン化合物、ただしこの加水分解性シラン化合物は(メタ)アクリロイル基を有する加水分解性シラン化合物(以下、「化合物(a1)」ともいう。)を含む、を加水分解縮合する方法、または
(2)加水分解性シラン化合物、ただしこの加水分解性シラン化合物はエポキシ基を有する加水分解性シラン化合物(以下、「化合物(a2)」ともいう。)を含む、の加水分解縮合物と
カルボン酸、ただしこのカルボン酸は(メタ)アクリロイル基を有するカルボン酸(以下、「化合物(b1)」ともいう。)を含む、と
を反応させる方法によることができる。(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンとしては、例えばAC−SQ TA−100(東亞合成(株)製)などの市販品を用いてもよい。
As long as the (A) first polymer has a group as described above, and preferably has a weight average molecular weight within the above range, its production method is not limited. For example, it can be produced by the following method.
The production of the first polymer which is a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group is, for example, (1) a hydrolyzable silane compound, wherein the hydrolyzable silane compound is a hydrolyzable silane having a (meth) acryloyl group. A method comprising hydrolyzing and condensing a compound (hereinafter also referred to as “compound (a1)”), or (2) a hydrolyzable silane compound, wherein the hydrolyzable silane compound has an epoxy group. Hydrolysis condensate containing a compound (hereinafter also referred to as “compound (a2)”) and a carboxylic acid, provided that the carboxylic acid is a carboxylic acid having a (meth) acryloyl group (hereinafter also referred to as “compound (b1)”). And the like.) Can be reacted. As a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group, for example, a commercial product such as AC-SQ TA-100 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) may be used.

(メタ)アクリロイル基および上記式(D)で表される基の双方を有するポリオルガノシロキサンである第一の重合体の製造は、例えば
(3)加水分解性シラン化合物、ただしこの加水分解性シラン化合物は(メタ)アクリロイル基を有する加水分解性シラン化合物(化合物(a1))およびエポキシ基を有する加水分解性シラン化合物(化合物(a2))を含む、の加水分解縮合物と
カルボン酸、ただしこのカルボン酸は上記式(D)で表される基を有するカルボン酸(以下、「化合物(b2)」ともいう。)を含む、と
を反応させる方法、
(4)加水分解性シラン化合物、ただしこの加水分解性シラン化合物はエポキシ基を有する加水分解性シラン化合物(化合物(a2))を含む、の加水分解縮合物と
カルボン酸、ただしこのカルボン酸は(メタ)アクリロイル基を有するカルボン酸(化合物(b1))および上記式(D)で表される基を有するカルボン酸(化合物(b2))を含む、と
を反応させる方法、または
(5)(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンと
アミンおよびチオールよりなる群から選択される少なくとも1種の求核性化合物、ただしこの求核性化合物は上記式(D)で表される基を有する求核性化合物を含む、と
を反応させる方法
によることができる。上記方法(5)で使用する原料の(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンは、上記方法(1)または(2)によって得ることができるほか、例えばAC−SQ TA−100(東亞合成(株)製)などの市販品を用いてもよい。
The production of the first polymer, which is a polyorganosiloxane having both a (meth) acryloyl group and a group represented by the above formula (D 0 ), is, for example, (3) a hydrolyzable silane compound, but this hydrolyzable The silane compound includes a hydrolyzable condensate and a carboxylic acid, including a hydrolyzable silane compound having a (meth) acryloyl group (compound (a1)) and a hydrolyzable silane compound having an epoxy group (compound (a2)). A method of reacting the carboxylic acid with a carboxylic acid having a group represented by the above formula (D 0 ) (hereinafter also referred to as “compound (b2)”),
(4) Hydrolyzable silane compound, provided that the hydrolyzable silane compound comprises a hydrolyzable condensate containing a hydrolyzable silane compound having an epoxy group (compound (a2)) and a carboxylic acid, wherein the carboxylic acid is ( A method of reacting a carboxylic acid having a methacryloyl group (compound (b1)) and a carboxylic acid having a group represented by the above formula (D 0 ) (compound (b2)), or (5) ( At least one nucleophilic compound selected from the group consisting of a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group and an amine and a thiol, provided that the nucleophilic compound has a group represented by the above formula (D 0 ). Including a nuclear compound. The polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group as a raw material used in the above method (5) can be obtained by the above method (1) or (2). For example, AC-SQ TA-100 (Toagosei Co., Ltd.) ))) Or other commercial products may be used.

本明細書において、「加水分解縮合物」とは、一種類の加水分解性シラン化合物を加水分解および縮合して得られる加水分解縮合物と、二種類以上の加水分解性シラン化合物の混合物を共加水分解および共縮合して得られる共加水分解縮合物との双方を含む概念である。
上記方法(2)〜(4)においては、加水分解縮合物が加水分解性シラン化合物に由来するエポキシ基を有するものであり、該加水分解縮合物のエポキシ基をさらに所定のカルボン酸と反応させることにより、所望の基を有するポリオルガノシロキサンである第一の重合体を得ることとなる。
ここで、上記方法(2)においては、カルボン酸の使用割合を加水分解縮合物の有するエポキシ基よりも少ない割合とすることにより、第一の重合体を、(メタ)アクリロイル基のほかにエポキシ基をさらに有するポリオルガノシロキサンとすることができる。上記方法(5)のうち、上記方法(2)で得られた加水分解縮合物を原料として使用する場合も同様である。また、上記方法(3)および方法(4)においては、カルボン酸の使用割合(上記方法(4)にあっては化合物(b1)と化合物(b2)との合計の使用割合)を加水分解縮合物の有するエポキシ基よりも少ない割合とすることにより、第一の重合体を、(メタ)アクリロイル基および上記式(D)で表される基のほかにエポキシ基をさらに有するポリオルガノシロキサンとすることができる。
In this specification, “hydrolysis condensate” means a mixture of a hydrolysis condensate obtained by hydrolysis and condensation of one kind of hydrolyzable silane compound and two or more kinds of hydrolyzable silane compounds. It is a concept including both a co-hydrolysis condensate obtained by hydrolysis and co-condensation.
In the above methods (2) to (4), the hydrolysis condensate has an epoxy group derived from a hydrolyzable silane compound, and the epoxy group of the hydrolysis condensate is further reacted with a predetermined carboxylic acid. As a result, a first polymer which is a polyorganosiloxane having a desired group is obtained.
Here, in the said method (2), the 1st polymer is made into epoxy other than a (meth) acryloyl group by making the usage-amount of carboxylic acid into a ratio smaller than the epoxy group which a hydrolysis-condensation product has. It can be a polyorganosiloxane further having a group. The same applies to the case where the hydrolysis condensate obtained by the method (2) is used as a raw material in the method (5). In the above methods (3) and (4), the carboxylic acid usage rate (the total usage rate of compound (b1) and compound (b2) in the above method (4)) is hydrolytically condensed. By making the ratio less than the epoxy group possessed by the product, the first polymer is converted into a polyorganosiloxane further having an epoxy group in addition to the (meth) acryloyl group and the group represented by the above formula (D 0 ) can do.

上記方法(1)〜(4)における加水分解縮合は、加水分解性シラン化合物またはその混合物と水とを、好ましくは適当な触媒および有機溶媒の存在下に反応させることによって行うことができる。上記方法(2)〜(4)におけるエポキシ基を有する加水分解縮合物とカルボン酸との反応は、好ましくは触媒および有機溶媒の存在下に行うことができる。上記方法(5)における(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンと求核性化合物との反応は、使用する求核性化合物の種類に応じて適当な触媒の存在下または不存在下に、公知のマイケル付加反応に準じて行うことができる。
以下、第一の重合体を製造するために好ましく用いられる加水分解性シラン化合物、その加水分解縮合反応、エポキシ基を有する加水分解縮合物との反応に好ましく用いられるカルボン酸およびエポキシ基を有する加水分解縮合物とカルボン酸との反応について順に説明する。
その後に、上記方法(5)において好ましく用いられる求核性化合物および(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンと求核性化合物との反応について説明する。
The hydrolytic condensation in the above methods (1) to (4) can be performed by reacting a hydrolyzable silane compound or a mixture thereof with water, preferably in the presence of an appropriate catalyst and an organic solvent. The reaction of the hydrolysis condensate having an epoxy group and the carboxylic acid in the above methods (2) to (4) can be preferably carried out in the presence of a catalyst and an organic solvent. The reaction of the polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group and the nucleophilic compound in the above method (5) is known in the presence or absence of an appropriate catalyst depending on the type of the nucleophilic compound used. It can be carried out according to the Michael addition reaction.
Hereinafter, a hydrolyzable silane compound preferably used for producing the first polymer, its hydrolysis condensation reaction, and a hydrolysis having a carboxylic acid and an epoxy group preferably used for a reaction with a hydrolysis condensate having an epoxy group. The reaction between the decomposition condensate and the carboxylic acid will be described in order.
Thereafter, the reaction between the nucleophilic compound and the nucleophilic compound preferably used in the method (5) and the polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group will be described.

[加水分解性シラン化合物]
{化合物(a1)}
化合物(a1)は、(メタ)アクリロイル基を有する加水分解性シラン化合物である。
本発明における化合物(a1)としては、例えば下記式(a1−1)
[Hydrolyzable silane compound]
{Compound (a1)}
The compound (a1) is a hydrolyzable silane compound having a (meth) acryloyl group.
As the compound (a1) in the present invention, for example, the following formula (a1-1)

(式(a1−1)中、Rは水素原子またはメチル基であり、nは1〜6の整数であり、Xはハロゲン原子、炭素数1〜4のアルコキシル基または炭素数1〜4のアルキル基であり、ただし分子内に3個存在するXはそれぞれ同一であっても相異なっていてもよく、Xのうちの2つ以上はハロゲン原子または炭素数1〜4のアルコキシル基である。)
で表される化合物などを挙げることができる。
上記式(a1−1)において、nとしては1〜5の整数であることが好ましい。2価の基−C2n−は、直鎖状であっても分岐状であってもよいが、直鎖状であることが好ましい。Xとしては、3つともがハロゲン原子または炭素数1〜4のアルコキシル基であることが好ましく、炭素数1〜2のアルコキシル基であることがより好ましい。この場合においても、分子内に3個存在するXはそれぞれ同一であっても相異なっていてもよい。
(In the formula (a1-1), R is a hydrogen atom or a methyl group, n is an integer of 1 to 6, X is a halogen atom, an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkyl having 1 to 4 carbon atoms. And the three Xs present in the molecule may be the same or different, and two or more of X are a halogen atom or an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms.)
The compound etc. which are represented by these can be mentioned.
In the above formula (a1-1), n is preferably an integer of 1 to 5. The divalent group —C n H 2n — may be linear or branched, but is preferably linear. X is preferably a halogen atom or an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms, and more preferably an alkoxyl group having 1 to 2 carbon atoms. Also in this case, three Xs present in the molecule may be the same or different.

本発明における好ましい化合物(a1)の具体例としては、例えばγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、α−メタクリロキシメチルトリメトキシシラン、α−アクリロキシメチルトリメトキシシラン、β−メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、β−アクリロキシエチルトリメトキシシラン、δ−メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、δ−アクリロキシブチルトリメトキシシラン、ε−メタクリロキシペンチルトリメトキシシラン、ε−アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、α−メタクリロキシメチルトリエトキシシラン、α−アクリロキシメチルトリエトキシシラン、β−メタクリロキシエチルトリエトキシシラン、β−アクリロキシエチルトリエトキシシラン、δ−メタクリロキシブチルトリエトキシシラン、δ−アクリロキシブチルトリエトキシシラン、ε−メタクリロキシペンチルトリエトキシシラン、ε−アクリロキシペンチルトリエトキシシラン、アクリル酸−2−ヒドロキシ−5−(トリメトキシシラニル)−ペンチルエステル、メタクリル酸−2−ヒドロキシ−5−(トリメトキシシラニル)−ペンチルエステル、アクリル酸−1−ヒドロキシメチル−4−(トリメトキシシラニル)−ブチルエステル、メタクリル酸−1−ヒドロキシメチル−4−(トリメトキシシラニル)−ブチルエステルなどを挙げることができ、これらよりなる群から選択される少なくとも一種を好ましく使用することができる。これらのうち、特に好ましくは、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシランおよびγ−アクリロキシプロピルトリメトキシシランよりなる群から選択される少なくとも一種である。   Specific examples of the preferred compound (a1) in the present invention include, for example, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, α-methacryloxymethyltrimethoxysilane, α-acryloxymethyltrimethoxysilane. , Β-methacryloxyethyltrimethoxysilane, β-acryloxyethyltrimethoxysilane, δ-methacryloxybutyltrimethoxysilane, δ-acryloxybutyltrimethoxysilane, ε-methacryloxypentyltrimethoxysilane, ε-acryloxy Pentiltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltriethoxysilane, α-methacryloxymethyltriethoxysilane, α-acryloxymethyltriethoxysilane, β Methacryloxyethyltriethoxysilane, β-acryloxyethyltriethoxysilane, δ-methacryloxybutyltriethoxysilane, δ-acryloxybutyltriethoxysilane, ε-methacryloxypentyltriethoxysilane, ε-acryloxypentyltriethoxy Silane, acrylic acid-2-hydroxy-5- (trimethoxysilanyl) -pentyl ester, methacrylic acid-2-hydroxy-5- (trimethoxysilanyl) -pentyl ester, acrylic acid-1-hydroxymethyl-4- (Trimethoxysilanyl) -butyl ester, methacrylic acid-1-hydroxymethyl-4- (trimethoxysilanyl) -butyl ester and the like can be mentioned, and at least one selected from the group consisting of these is preferably used. It is possible . Of these, at least one selected from the group consisting of γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane and γ-acryloxypropyltrimethoxysilane is particularly preferable.

{化合物(a2)}
化合物(a2)は、エポキシ基を有する加水分解性シラン化合物である。
化合物(a2)におけるエポキシ基は、下記式(X−1)または(X−2)
{Compound (a2)}
The compound (a2) is a hydrolyzable silane compound having an epoxy group.
The epoxy group in the compound (a2) has the following formula (X 1 -1) or (X 1 -2)

で表される基に含まれるものとして存在することが好ましい。
本発明における化合物(a2)としては、例えば3−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルジメチルエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシランなどを挙げることができ、これらよりなる群から選択される少なくとも一種を好ましく使用することができる。これらのうち、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランおよび3−グリシジロキシプロピルトリメトキシシランよりなる群から選択される少なくとも一種を使用することが特に好ましい。
It is preferable that it exists as what is contained in group represented by these.
Examples of the compound (a2) in the present invention include 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldiethoxy. Silane, 3-glycidyloxypropyldimethylmethoxysilane, 3-glycidyloxypropyldimethylethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxy Silane etc. can be mentioned, At least 1 type selected from the group which consists of these can be used preferably. Among these, it is particularly preferable to use at least one selected from the group consisting of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane.

{その他の加水分解性シラン化合物}
(A)第一の重合体を製造するために行われる加水分解性シラン化合物の加水分解縮合反応においては、加水分解性シラン化合物として、上記化合物(a1)もしくは(a2)またはこれらの混合物とともに、化合物(a1)、(a2)以外の加水分解性シラン化合物(以下、「化合物(a3)」ともいう。)を併用してもよい。この化合物(a3)は、(メタ)アクリロイル基およびエポキシ基を有さない加水分解性シラン化合物である。
このような化合物(a3)の具体例としては、例えばテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、メルカプトメチルトリメトキシシラン、メルカプトメチルトリエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシランなどを挙げることができ、これらよりなる群から選択される少なくとも一種を使用することができる。
{Other hydrolyzable silane compounds}
(A) In the hydrolytic condensation reaction of the hydrolyzable silane compound performed to produce the first polymer, as the hydrolyzable silane compound, together with the compound (a1) or (a2) or a mixture thereof, Hydrolyzable silane compounds other than the compounds (a1) and (a2) (hereinafter also referred to as “compound (a3)”) may be used in combination. This compound (a3) is a hydrolyzable silane compound having no (meth) acryloyl group and no epoxy group.
Specific examples of such a compound (a3) include, for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane, 3- (meth) acrylic. Roxypropyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, mercaptomethyltrimethoxysilane, mercaptomethyltriethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldi An ethoxysilane etc. can be mentioned, At least 1 type selected from the group which consists of these can be used.

[加水分解性シラン化合物の加水分解縮合反応]
本発明における加水分解性シラン化合物の加水分解縮合反応は、上記の如き各加水分解性シラン化合物またはその混合物と水とを、好ましくは適当な触媒および有機溶媒の存在下に反応させることによって行うことができる。加水分解性シラン化合物の好ましい使用割合は、採用する製造方法に対応して以下のように異なる。
第一の重合体の製造を、上記方法(1)による場合、加水分解性シラン化合物の全体に占める化合物(a1)の割合は、5モル%以上とすることが好ましく、10〜70モル%とすることがより好ましく、さらに20〜50モル%とすることが好ましい。方法(1)において、化合物(a1)のほかに他の加水分解性シラン化合物を使用する場合、他の加水分解性シラン化合物としては、上記化合物(a2)および化合物(a3)よりなる群から選択される少なくとも一種を使用することができる。
第一の重合体の製造を、上記方法(2)による場合、加水分解性シラン化合物の全体に占める化合物(a2)の割合は、70モル%以上とすることが好ましく、80モル%以上とすることがより好ましく、さらに90モル%以上とすることが好ましい。方法(2)において、化合物(a2)のほかに他の加水分解性シラン化合物を使用する場合、他の加水分解性シラン化合物としては、上記化合物(a1)および化合物(a3)よりなる群から選択される少なくとも一種を使用することができ、上記化合物(a3)よりなる群から選択される少なくとも一種を使用することが好ましい。方法(2)を採用する場合、加水分解性シラン化合物としては、化合物(a2)のみを使用することが最も好ましい。
[Hydrolytic condensation reaction of hydrolyzable silane compound]
The hydrolytic condensation reaction of the hydrolyzable silane compound in the present invention is carried out by reacting each hydrolyzable silane compound or mixture thereof as described above with water, preferably in the presence of a suitable catalyst and an organic solvent. Can do. The preferred use ratio of the hydrolyzable silane compound varies as follows according to the production method employed.
When the production of the first polymer is performed by the above method (1), the proportion of the compound (a1) in the entire hydrolyzable silane compound is preferably 5 mol% or more, and 10 to 70 mol%. More preferably, it is more preferably 20 to 50 mol %. In the method (1), when using another hydrolyzable silane compound in addition to the compound (a1), the other hydrolyzable silane compound is selected from the group consisting of the compound (a2) and the compound (a3). Can be used at least one kind.
When the production of the first polymer is performed by the above method (2), the proportion of the compound (a2) in the entire hydrolyzable silane compound is preferably 70 mol% or more, and more preferably 80 mol% or more. More preferably, it is more preferably 90 mol % or more. In the method (2), when another hydrolyzable silane compound is used in addition to the compound (a2), the other hydrolyzable silane compound is selected from the group consisting of the compound (a1) and the compound (a3). It is preferable to use at least one selected from the group consisting of the above-mentioned compound (a3). When the method (2) is employed, it is most preferable to use only the compound (a2) as the hydrolyzable silane compound.

第一の重合体の製造を、上記方法(3)による場合、加水分解性シラン化合物の全体に占める化合物(a1)の割合は、5〜90モル%とすることが好ましく、10〜70モル%以上とすることがより好ましく、さらに20〜60モル%とすることが好ましく;
加水分解性シラン化合物の全体に占める化合物(a2)の割合は、10〜95モル%とすることが好ましく、20〜90モル%以上とすることがより好ましく、さらに40〜80モル%とすることが好ましい。方法(3)において、化合物(a1)および化合物(a2)のほかに他の加水分解性シラン化合物を使用する場合、他の加水分解性シラン化合物としては、上記化合物(a3)よりなる群から選択される少なくとも一種を使用することができる。
第一の重合体の製造を、上記方法(4)による場合、加水分解性シラン化合物の全体に占める化合物(a2)の割合は、10モル%以上とすることが好ましく、20モル%以上とすることがより好ましく、さらに40モル%以上とすることが好ましい。方法(4)において、化合物(a2)のほかに他の加水分解性シラン化合物を使用する場合、他の加水分解性シラン化合物としては、上記化合物(a1)および化合物(a3)よりなる群から選択される少なくとも一種を使用することができ、上記化合物(a3)よりなる群から選択される少なくとも一種を使用することが好ましい。方法(4)を採用する場合、加水分解性シラン化合物としては、化合物(a2)のみを使用することが最も好ましい。
第一の重合体の製造を、上記方法(5)による場合、その原料として使用される(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンは、上記方法(1)または(2)によって得ることができる。
When the production of the first polymer is performed by the above method (3), the proportion of the compound (a1) in the entire hydrolyzable silane compound is preferably 5 to 90 mol%, and preferably 10 to 70 mol%. More preferably, it is more preferably 20 to 60 mol %;
The proportion of the compound (a2) in the entire hydrolyzable silane compound is preferably 10 to 95 mol%, more preferably 20 to 90 mol% or more, and further 40 to 80 mol %. Is preferred. In the method (3), when other hydrolyzable silane compound is used in addition to the compound (a1) and the compound (a2), the other hydrolyzable silane compound is selected from the group consisting of the compound (a3). Can be used at least one kind.
When the production of the first polymer is carried out by the above method (4), the proportion of the compound (a2) in the entire hydrolyzable silane compound is preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more. Is more preferable, and it is more preferable that it is 40 mol % or more. In the method (4), when other hydrolyzable silane compound is used in addition to the compound (a2), the other hydrolyzable silane compound is selected from the group consisting of the compound (a1) and the compound (a3). It is preferable to use at least one selected from the group consisting of the above-mentioned compound (a3). When the method (4) is employed, it is most preferable to use only the compound (a2) as the hydrolyzable silane compound.
When the production of the first polymer is performed by the above method (5), the polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group used as a raw material thereof can be obtained by the above method (1) or (2).

上記方法(5)に使用する原料としての(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンを上記方法(1)によって製造する場合、該原料ポリオルガノシロキサンを製造するための加水分解縮合反応に使用する加水分解性シラン化合物の全体に占める化合物(a1)の割合は、30モル%以上とすることが好ましく、50モル%以上とすることがより好ましい。この場合において、化合物(a1)のほかに他の加水分解性シラン化合物を使用する場合、他の加水分解性シラン化合物としては、上記化合物(a2)および化合物(a3)よりなる群から選択される少なくとも一種を使用することができる。
上記方法(5)に使用する原料としての(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンを上記方法(2)によって製造する場合、該原料ポリオルガノシロキサンを製造するための加水分解縮合反応に使用する加水分解性シラン化合物の全体に占める化合物(a2)の割合は、70モル%以上とすることが好ましく、80モル%以上とすることがより好ましく、さらに90モル%以上とすることが好ましい。この場合において、化合物(a2)のほかに他の加水分解性シラン化合物を使用する場合、他の加水分解性シラン化合物としては、上記化合物(a1)および化合物(a3)よりなる群から選択される少なくとも一種を使用することができ、上記化合物(a3)よりなる群から選択される少なくとも一種を使用することが好ましい。上記方法(5)に使用する原料としての(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンを上記方法(2)によって製造する場合、加水分解性シラン化合物としては、化合物(a2)のみを使用することが最も好ましい。
加水分解縮合反応に際して使用される水の使用割合は、加水分解性シラン化合物の合計1モルに対して、好ましくは0.5〜100モルであり、より好ましくは1〜30モルである。
When a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group as a raw material used in the above method (5) is produced by the above method (1), the hydrolysis used for the hydrolysis condensation reaction for producing the raw material polyorganosiloxane. The proportion of the compound (a1) in the entire decomposable silane compound is preferably 30 mol% or more, and more preferably 50 mol% or more. In this case, when another hydrolyzable silane compound is used in addition to the compound (a1), the other hydrolyzable silane compound is selected from the group consisting of the compound (a2) and the compound (a3). At least one kind can be used.
When a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group as a raw material used in the above method (5) is produced by the above method (2), the hydrolysis used for the hydrolysis condensation reaction for producing the raw material polyorganosiloxane. The proportion of the compound (a2) in the entire decomposable silane compound is preferably 70 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, and further preferably 90 mol% or more. In this case, when using another hydrolyzable silane compound in addition to the compound (a2), the other hydrolyzable silane compound is selected from the group consisting of the compound (a1) and the compound (a3). At least one kind can be used, and it is preferable to use at least one selected from the group consisting of the compound (a3). When a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group as a raw material used in the method (5) is produced by the method (2), it is possible to use only the compound (a2) as the hydrolyzable silane compound. Most preferred.
The ratio of water used in the hydrolysis condensation reaction is preferably 0.5 to 100 mol, more preferably 1 to 30 mol, with respect to 1 mol in total of the hydrolyzable silane compound.

上記触媒としては例えば酸、アルカリ金属化合物、有機塩基、チタン化合物、ジルコニウム化合物などを用いることができる。
上記アルカリ金属化合物としては、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシドなどを挙げることができる。
上記有機塩基としては、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン、ピロリジン、ピロールの如き1〜2級有機アミン;
トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセンの如き3級の有機アミン;
テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級の有機アミンなどを、それぞれ挙げることができる。これらの有機塩基のうち、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンの如き3級の有機アミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級の有機アミンが好ましい。
As said catalyst, an acid, an alkali metal compound, an organic base, a titanium compound, a zirconium compound etc. can be used, for example.
Examples of the alkali metal compound include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methoxide, potassium methoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide and the like.
Examples of the organic base include primary and secondary organic amines such as ethylamine, diethylamine, piperazine, piperidine, pyrrolidine, and pyrrole;
Tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, diazabicycloundecene;
Examples thereof include quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide. Among these organic bases, tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine and 4-dimethylaminopyridine; quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide preferable.

加水分解縮合反応を行う際の触媒としては、アルカリ金属化合物または有機塩基が好ましい。アルカリ金属化合物または有機塩基を触媒として用いることにより、エポキシ基の開環などの副反応を生じることなく、高い加水分解縮合速度で目的とするポリオルガノシロキサンを得ることができるため、生産安定性に優れることとなり好ましい。また、触媒としてアルカリ金属化合物または有機塩基を用いて合成されたエポキシ基を有するポリオルガノシロキサンとカルボン酸との反応生成物である第一の重合体を含有する重合体組成物は、保存安定性が極めて優れるため好都合である。その理由は、加水分解縮合反応において触媒としてアルカリ金属化合物または有機塩基を用いると、非特許文献2(Chemical Reviews、95巻、p1409(1995年))に指摘されている如く、高度に架橋した3次元構造が形成されることにより、シラノール基の含有割合が少ないポリオルガノシロキサンが得られるためではないかと推察される。すなわちかかるポリオルガノシロキサンは、シラノール基の含有割合が少ないため、シラノール基同士の縮合反応が抑えられ、さらに本発明における重合体組成物に含有される第二の重合体との縮合反応が抑えられるため、保存安定性に優れる結果になるものと推察される。
触媒としては、特に有機塩基が好ましい。有機塩基の使用量は、有機塩基の種類、温度などの反応条件などにより異なり、適宜に設定されるべきであるが、例えば加水分解性シラン化合物の合計1モルに対して、好ましくは0.01〜3モルであり、より好ましくは0.05〜1モルである。
As a catalyst for performing the hydrolysis condensation reaction, an alkali metal compound or an organic base is preferable. By using an alkali metal compound or organic base as a catalyst, the desired polyorganosiloxane can be obtained at a high hydrolysis-condensation rate without causing side reactions such as ring opening of the epoxy group. It will be excellent and preferable. In addition, the polymer composition containing the first polymer which is a reaction product of a polyorganosiloxane having an epoxy group synthesized using an alkali metal compound or an organic base as a catalyst and a carboxylic acid has a storage stability. Is advantageous because it is extremely excellent. The reason for this is that when an alkali metal compound or an organic base is used as a catalyst in the hydrolysis-condensation reaction, as shown in Non-Patent Document 2 (Chemical Reviews, Vol. 95, p1409 (1995)), highly crosslinked 3 It is inferred that the formation of a dimensional structure may result in a polyorganosiloxane having a low silanol group content. That is, since such polyorganosiloxane has a low content of silanol groups, the condensation reaction between silanol groups is suppressed, and further, the condensation reaction with the second polymer contained in the polymer composition in the present invention is suppressed. Therefore, it is presumed that the storage stability is excellent.
As the catalyst, an organic base is particularly preferable. The amount of the organic base used varies depending on the reaction conditions such as the type of organic base and temperature, and should be set as appropriate. It is -3 mol, More preferably, it is 0.05-1 mol.

加水分解縮合反応を行うにあたって使用することのできる有機溶媒としては、例えば炭化水素、ケトン、エステル、エーテル、アルコールなどを挙げることができる。
上記炭化水素としては、例えばトルエン、キシレンなどを;
上記ケトンとしては、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルn−アミルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノンなどを;
上記エステルとしては、例えば酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸i−アミル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、乳酸エチルなどを;
上記エーテルとしては、例えばエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどを;
上記アルコールとしては、例えば1−ヘキサノール、4−メチル−2−ペンタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテルなどを、それぞれ挙げることができる。これらのうち非水溶性のものが好ましく、かかる有機溶媒よりなる群から選択される一種以上を好ましく使用することができる。
Examples of the organic solvent that can be used in carrying out the hydrolysis condensation reaction include hydrocarbons, ketones, esters, ethers, alcohols, and the like.
Examples of the hydrocarbon include toluene and xylene;
Examples of the ketone include methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl n-amyl ketone, diethyl ketone, and cyclohexanone;
Examples of the ester include ethyl acetate, n-butyl acetate, i-amyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, and ethyl lactate;
Examples of the ether include ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane and the like;
Examples of the alcohol include 1-hexanol, 4-methyl-2-pentanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol monomethyl. Examples include ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, and the like. Of these, water-insoluble ones are preferred, and one or more selected from the group consisting of such organic solvents can be preferably used.

加水分解縮合反応を行う際の有機溶媒の使用割合は、加水分解性シラン化合物の合計100重量部に対して、好ましくは10〜10,000重量部であり、より好ましくは50〜1,000重量部である。
加水分解縮合反応は、上記の如き加水分解性シラン化合物またはその混合物を有機溶媒に溶解し、この溶液を有機塩基および水と混合して、例えば油浴などにより加熱することにより実施することが好ましい。
加水分解縮合反応時には、加熱温度を好ましくは130℃以下、より好ましくは40〜100℃として、好ましくは0.5〜12時間、より好ましくは1〜8時間加熱するのが望ましい。加熱中は、混合液を撹拌してもよいし、還流下に置いてもよい。
反応終了後、反応液から分取した有機溶媒層を水で洗浄することが好ましい。この洗浄に際しては、少量の塩を含む水、例えば0.2重量%程度の硝酸アンモニウム水溶液などで洗浄することにより、洗浄操作が容易になる点で好ましい。洗浄は洗浄後の水層が中性になるまで行い、その後有機溶媒層を、必要に応じて無水硫酸カルシウム、モレキュラーシーブスなどの適当な乾燥剤で乾燥した後、溶媒を除去することにより、目的とする加水分解縮合物を得ることができる。
ここで、本発明における(A)第一の重合体の製造方法として上記方法(2)または方法(4)を採用する場合には、エポキシ基を有する加水分解縮合物として、市販されているものを用いてもよい。このような市販品としては、例えばDMS−E01、DMS−E12、DMS−E21,EMS−32(以上、チッソ(株)製)などを挙げることができる。
The proportion of the organic solvent used in carrying out the hydrolytic condensation reaction is preferably 10 to 10,000 parts by weight, more preferably 50 to 1,000 parts by weight based on 100 parts by weight of the total hydrolyzable silane compound. Part.
The hydrolysis-condensation reaction is preferably carried out by dissolving the hydrolyzable silane compound or a mixture thereof as described above in an organic solvent, mixing the solution with an organic base and water, and heating the solution using, for example, an oil bath. .
During the hydrolysis condensation reaction, the heating temperature is preferably 130 ° C. or lower, more preferably 40 to 100 ° C., and preferably 0.5 to 12 hours, more preferably 1 to 8 hours. During heating, the mixture may be stirred or placed under reflux.
After completion of the reaction, the organic solvent layer separated from the reaction solution is preferably washed with water. In this washing, washing with water containing a small amount of salt, for example, an aqueous ammonium nitrate solution of about 0.2% by weight is preferred because the washing operation is facilitated. Washing is carried out until the aqueous layer after washing becomes neutral, and then the organic solvent layer is dried with an appropriate desiccant such as anhydrous calcium sulfate or molecular sieves as necessary, and then the solvent is removed to remove the solvent. The hydrolysis-condensation product can be obtained.
Here, when the above method (2) or method (4) is adopted as the method for producing the first polymer (A) in the present invention, the product is commercially available as a hydrolysis condensate having an epoxy group. May be used. Examples of such commercially available products include DMS-E01, DMS-E12, DMS-E21, and EMS-32 (manufactured by Chisso Corporation).

[カルボン酸]
{化合物(b1)}
化合物(b1)は、(メタ)アクリロイル基を有するカルボン酸である。かかる化合物(b1)は、(メタ)アクリロイル基とカルボキシル基とを有する限り、その余の構造は任意であるが、例えば下記式(b1−1)
[carboxylic acid]
{Compound (b1)}
The compound (b1) is a carboxylic acid having a (meth) acryloyl group. The compound (b1) may have any other structure as long as it has a (meth) acryloyl group and a carboxyl group. For example, the following formula (b1-1)

(式(b1−1)中、Rは水素原子またはメチル基であり、Rはメチレン基、炭素数2〜10のアルキレン基、フェニレン基またはシクロへキシレン基であり、aは1〜10の整数であり、bおよびcは、それぞれ、0または1であり、ただしcが0のときbは1である。)
で表される化合物を挙げることができる。Rのフェニレン基およびシクロへキシレン基は、それぞれ、1,2−フェニレン基および1,2−シクロへキシレン基であることが好ましい。
このような化合物(b1)の好ましい具体例としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、2−アクリロキシエチル−2−ヒドロキシエチル−フタル酸、4−(2−メチル−アクリロイロキシ)安息香酸、2−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、2−アクリロイロキシエチル−コハク酸、メタクリロイロキシエチルコハク酸、2−メタクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、フタル酸モノヒドロキシエチルアクリレートなどを挙げることができ、これらのうちから選択される一種以上を使用することができる。これらの市販品としては、例えばアクリル酸、メタクリル酸(以上、東京化成工業(株)製)、ライトエステルHO−MS、ライトエステルHO−HH、HOA−MPL、HOA−MS、HOA−HH(以上、共栄社化学(株)製)、M−5400(東亞合成(株)製)を挙げることができる。
(In formula (b1-1), R is a hydrogen atom or a methyl group, R 1 is a methylene group, an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, a phenylene group or a cyclohexylene group, and a is 1 to 10) An integer, b and c are each 0 or 1, provided that b is 1 when c is 0.)
The compound represented by these can be mentioned. The phenylene group and cyclohexylene group of R 1 are preferably 1,2-phenylene group and 1,2-cyclohexylene group, respectively.
Preferable specific examples of such compound (b1) include, for example, acrylic acid, methacrylic acid, 2-acryloxyethyl-2-hydroxyethyl-phthalic acid, 4- (2-methyl-acryloyloxy) benzoic acid, 2-acrylic acid. acryloyloxyethyl ethyl hexahydrophthalic acid, 2-acryloyloxyethyl - succinic acid, methacryloyloxyethyl succinate, 2-methacryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, and the like can be illustrated full barrel acid mono hydroxyethyl acrylate, One or more selected from these can be used. As these commercial products, for example, acrylic acid, methacrylic acid (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.), light ester HO-MS, light ester HO-HH, HOA-MPL, HOA-MS, HOA-HH (and above) And Kyoeisha Chemical Co., Ltd.) and M-5400 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.).

{化合物(b2)}
化合物(b2)は、上記式(D)で表される基を有するカルボン酸であり、上記式(D)で表される基とカルボキシル基とを有する限り、その余の構造は任意である。
このカルボン酸の有する上記式(D)で表される基は、上記式(D)におけるRが、炭素数4〜40のアルキル基、炭素数4〜40のフルオロアルキル基、シアノ基もしくはフッ素原子であるか、またはステロイド骨格を有する炭素数17〜51の炭化水素基であることが好ましい。上記炭素数4〜40のアルキル基としては、炭素数6〜40のアルキル基であることが好ましく;炭素数4〜40のフルオロアルキル基としては、炭素数4〜20のフルオロアルキル基であることが好ましい。このようなRの好ましい具体例は、上記式(D)で表される基におけるRの説明において例示したもののうち、上記した好ましい範囲に該当するものである。
化合物(b2)としては、例えば下記式(b2−1)
−COOH (b2−1)
(式(b2−1)中、Dは上記式(D)で表される基である。)
で表される化合物などを、好ましいものとして挙げることができる。
{Compound (b2)}
Compound (b2) is a carboxylic acid having a group represented by the formula (D 0), as long as they have a group and a carboxyl group represented by the formula (D 0), the remaining structure is optionally is there.
The group represented by the above formula (D 0 ) of the carboxylic acid is such that R I in the above formula (D 0 ) is an alkyl group having 4 to 40 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 4 to 40 carbon atoms, or a cyano group. Alternatively, it is preferably a fluorine atom or a hydrocarbon group having 17 to 51 carbon atoms having a steroid skeleton. The alkyl group having 4 to 40 carbon atoms is preferably an alkyl group having 6 to 40 carbon atoms; the fluoroalkyl group having 4 to 40 carbon atoms is a fluoroalkyl group having 4 to 20 carbon atoms. Is preferred. Preferred examples of such R I, among those exemplified in the description of R I in the group represented by the formula (D 0), it corresponds to the preferred ranges described above.
As the compound (b2), for example, the following formula (b2-1)
D 0 -COOH (b2-1)
(In the formula (b2-1), D 0 is a group represented by the above formula (D 0 ).)
A compound represented by the formula can be mentioned as a preferable one.

このような化合物(b2)の好ましい例としては、例えば長鎖脂肪酸、長鎖アルキル基を有する安息香酸誘導体、長鎖アルコキシル基を有する安息香酸誘導体、ステロイド骨格を有する安息香酸誘導体、多環構造を有する安息香酸誘導体、フルオロアルキル基を有するカルボン酸などを挙げることができる。これらの具体例としては、
長鎖脂肪酸として、例えばカプロン酸、n−オクタン酸、n−デカン酸、n−ドデカン酸、n−ヘキサデカン酸、ステアリン酸などを;
長鎖アルキル基を有する安息香酸誘導体として、例えば4−n−ヘキシル安息香酸、4−n−オクチル安息香酸、4−n−デシル安息香酸、4−n−ドデシル安息香酸、4−n−ヘキサデシル安息香酸、4−ステアリル安息香酸などを;
長鎖アルコキシル基を有する安息香酸誘導体として、例えば4−n−ヘキシロキシ安息香酸、4−n−オクチロキシ安息香酸、4−n−デシロキシ安息香酸、4−n−ドデシロキシ安息香酸、4−n−ヘキサデシロキシ安息香酸、4−ステアリロキシ安息香酸などを;
ステロイド骨格を有する安息香酸誘導体として、例えばコレスタニルオキシ安息香酸、コレステニルオキシ安息香酸、ラノスタニルオキシ安息香酸、コレスタニルオキシカルボニル安息香酸、コレステニルオキシカルボニル安息香酸、ラノスタニルオキシカルボニル安息香酸、コハク酸−5ξ−コレスタン−3−イル、コハク酸−5ξ−コレステン−3−イル、コハク酸−5ξ−ラノスタン−3−イルなどを;
Preferred examples of such a compound (b2) include, for example, a long-chain fatty acid, a benzoic acid derivative having a long-chain alkyl group, a benzoic acid derivative having a long-chain alkoxyl group, a benzoic acid derivative having a steroid skeleton, and a polycyclic structure. Examples thereof include benzoic acid derivatives having a carboxylic acid having a fluoroalkyl group. Specific examples of these are:
Examples of long chain fatty acids include caproic acid, n-octanoic acid, n-decanoic acid, n-dodecanoic acid, n-hexadecanoic acid, stearic acid, and the like;
Examples of benzoic acid derivatives having a long-chain alkyl group include 4-n-hexylbenzoic acid, 4-n-octylbenzoic acid, 4-n-decylbenzoic acid, 4-n-dodecylbenzoic acid, and 4-n-hexadecylbenzoic acid. Acid, 4-stearylbenzoic acid, etc .;
Examples of benzoic acid derivatives having a long-chain alkoxyl group include 4-n-hexyloxybenzoic acid, 4-n-octyloxybenzoic acid, 4-n-decyloxybenzoic acid, 4-n-dodecyloxybenzoic acid, 4-n-hexade. Siloxybenzoic acid, 4-stearyloxybenzoic acid and the like;
Examples of the benzoic acid derivative having a steroid skeleton include cholestanyloxybenzoic acid, cholestenyloxybenzoic acid, lanostannyloxybenzoic acid, cholestanyloxycarbonylbenzoic acid, cholestenyloxycarbonylbenzoic acid, lanostannyloxycarbonylbenzoic acid, succinic acid. Acid-5ξ-cholestan-3-yl, succinic acid-5ξ-cholesten-3-yl, succinic acid-5ξ-lanostane-3-yl and the like;

多環構造を有する安息香酸誘導体として、例えば4−(4−ペンチル−シクロヘキシル)安息香酸、4−(4−ヘキシル−シクロヘキシル)安息香酸、4−(4−ヘプチル−シクロヘキシル)安息香酸、4’−ペンチル−ビシクロヘキシル−4−カルボン酸、4’−ヘキシル−ビシクロヘキシル−4−カルボン酸、4‘−ヘプチル−ビシクロヘキシル−4−カルボン酸、4’−ペンチル−ビフェニル−4−カルボン酸、4’−ヘキシル−ビフェニル−4−カルボン酸、4’−ヘプチル−ビフェニル−4−カルボン酸、4−(4−ペンチル−ビシクロヘキシル−4−イル)安息香酸、4−(4−ヘキシル−ビシクロヘキシル−4−イル)安息香酸、4−(4−ヘプチル−ビシクロヘキシル−4−イル)安息香酸、6−(4’−シアノビフェニル−4−イロキシ)ヘキサノイック酸などを;
フルオロアルキル基を有するカルボン酸として、例えば下記式(b2−1−1)および(b2−1−2)
Examples of benzoic acid derivatives having a polycyclic structure include 4- (4-pentyl-cyclohexyl) benzoic acid, 4- (4-hexyl-cyclohexyl) benzoic acid, 4- (4-heptyl-cyclohexyl) benzoic acid, 4′- Pentyl-bicyclohexyl-4-carboxylic acid, 4′-hexyl-bicyclohexyl-4-carboxylic acid, 4′-heptyl-bicyclohexyl-4-carboxylic acid, 4′-pentyl-biphenyl-4-carboxylic acid, 4 ′ -Hexyl-biphenyl-4-carboxylic acid, 4'-heptyl-biphenyl-4-carboxylic acid, 4- (4-pentyl-bicyclohexyl-4-yl) benzoic acid, 4- (4-hexyl-bicyclohexyl-4) -Yl) benzoic acid, 4- (4-heptyl-bicyclohexyl-4-yl) benzoic acid, 6- (4'-cyanobiphenyl-4-iro) Xyl) hexanoic acid, etc .;
Examples of the carboxylic acid having a fluoroalkyl group include the following formulas (b2-1-1) and (b2-1-2)

(式(b2−1−1)および(b2−1−2)中、dは、それぞれ、0〜2の整数であり、eは、それぞれ、3〜18の整数である。)
のそれぞれで表される化合物などを、それぞれ挙げることができる。
(In formulas (b2-1-1) and (b2-1-2), d is an integer of 0 to 2, and e is an integer of 3 to 18, respectively.)
The compounds represented by each of the above can be mentioned.

{その他のカルボン酸}
(A)第一の重合体を製造するために行われる、エポキシ基を有する加水分解縮合物とカルボン酸との反応においては、カルボン酸として、上記化合物(b1)もしくは(b2)またはこれらの混合物とともに、化合物(b1)、(b2)以外のカルボン酸(以下、「化合物(b3)」ともいう。)を併用してもよい。この化合物(b3)は、(メタ)アクリロイル基およびエポキシ基を有さないカルボン酸である。
このようなカルボン酸としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、メチル安息香酸などを挙げることができる。
{Other carboxylic acids}
(A) In the reaction of a hydrolysis condensate having an epoxy group and a carboxylic acid, which is carried out to produce the first polymer, the above compound (b1) or (b2) or a mixture thereof as a carboxylic acid In addition, a carboxylic acid other than the compounds (b1) and (b2) (hereinafter also referred to as “compound (b3)”) may be used in combination. This compound (b3) is a carboxylic acid having no (meth) acryloyl group and no epoxy group.
Examples of such carboxylic acid include formic acid, acetic acid, propionic acid, benzoic acid, and methylbenzoic acid.

[エポキシ基を有する加水分解縮合物とカルボン酸との反応]
エポキシ基を有する加水分解縮合物とカルボン酸との反応は、上記方法(2)〜(4)の加水分解縮合反応で得られたエポキシ基を有する加水分解縮合物と上記カルボン酸とを、好ましくは触媒および有機溶媒の存在下に反応させることにより、行うことができる。
第一の重合体の製造を、上記方法(2)による場合、カルボン酸としては、化合物(b1)のみを用いるか、あるいは化合物(b1)および化合物(b3)の混合物を使用することが好ましい。ここで、化合物(b1)の使用割合は、カルボン酸の全部に対して、75モル%以上とすることが好ましく、90モル%以上とすることがより好ましい。
第一の重合体の製造を、上記方法(3)による場合、カルボン酸としては、化合物(b2)のみを用いるか、あるいは化合物(b2)および化合物(b3)の混合物を使用することが好ましい。ここで、化合物(b2)の使用割合は、カルボン酸の全部に対して、75モル%以上とすることが好ましく、90モル%以上とすることがより好ましい。
第一の重合体の製造を、上記方法(4)による場合、カルボン酸としては、化合物(b1)と(b2)との混合物または化合物(b1)〜(b3)の混合物を使用することが好ましい。ここで、化合物(b1)の使用割合は、カルボン酸の全部に対して、30〜60モル%とすることが好ましく、35〜50モル%とすることがより好ましく;
化合物(b2)の使用割合は、カルボン酸の全部に対して、40〜70モル%とすることが好ましく、50〜65モル%とすることがより好ましい。
[Reaction of hydrolysis condensate having epoxy group with carboxylic acid]
The reaction between the hydrolysis condensate having an epoxy group and the carboxylic acid preferably comprises the hydrolysis condensate having an epoxy group obtained by the hydrolysis condensation reaction of the above methods (2) to (4) and the carboxylic acid. Can be carried out by reacting in the presence of a catalyst and an organic solvent.
When the production of the first polymer is carried out by the above method (2), it is preferable to use only the compound (b1) or a mixture of the compound (b1) and the compound (b3) as the carboxylic acid. Here, the ratio of the compound (b1) used is preferably 75 mol% or more, and more preferably 90 mol% or more, based on the entire carboxylic acid.
When the production of the first polymer is carried out by the above method (3), it is preferable to use only the compound (b2) or a mixture of the compound (b2) and the compound (b3) as the carboxylic acid. Here, the use ratio of the compound (b2) is preferably 75 mol% or more, and more preferably 90 mol% or more, based on the entire carboxylic acid.
When the production of the first polymer is performed according to the above method (4), it is preferable to use a mixture of the compounds (b1) and (b2) or a mixture of the compounds (b1) to (b3) as the carboxylic acid. . Here, the use ratio of the compound (b1) is preferably 30 to 60 mol%, more preferably 35 to 50 mol%, based on the total amount of the carboxylic acid;
The proportion of compound (b2) used is preferably 40 to 70 mol%, more preferably 50 to 65 mol%, based on the entire carboxylic acid.

エポキシ基を有する加水分解縮合物とカルボン酸との反応におけるカルボン酸の使用割合としては、加水分解縮合物が有するエポキシ基に対する、カルボン酸の合計のモル数の割合として、
上記方法(2)にあっては、好ましくは5モル%以上であり、より好ましくは10〜80モル%であり、さらに好ましくは15〜60モル%であり、特に好ましくは20〜40モル%であり;
上記方法(3)にあっては、好ましくは2モル%以上であり、より好ましくは2〜50モル%であり、さらに好ましくは5〜40モル%であり、特に好ましくは10〜30モル%であり;
上記方法(4)にあっては、好ましくは7モル%以上であり、より好ましくは10モル%以上であり、さらに好ましくは20〜80モル%であり、特に好ましくは30〜60モル%である。
As a use ratio of the carboxylic acid in the reaction of the hydrolysis condensate having an epoxy group and the carboxylic acid, as a ratio of the total number of moles of the carboxylic acid to the epoxy group of the hydrolysis condensate,
In the above method (2), it is preferably 5 mol% or more, more preferably 10 to 80 mol%, still more preferably 15 to 60 mol%, particularly preferably 20 to 40 mol%. Yes;
In the above method (3), it is preferably 2 mol% or more, more preferably 2 to 50 mol%, further preferably 5 to 40 mol%, particularly preferably 10 to 30 mol%. Yes;
In the above method (4), it is preferably 7 mol% or more, more preferably 10 mol% or more, further preferably 20 to 80 mol%, particularly preferably 30 to 60 mol%. .

エポキシ基を有する加水分解縮合物とカルボン酸との反応において使用することのできる触媒としては、有機塩基を使用することができるほか、エポキシ化合物の反応を促進するいわゆる硬化促進剤として公知の化合物を用いることができる。
上記有機塩基としては、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン、ピロリジン、ピロールの如き1〜2級有機アミン;
トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセンの如き3級の有機アミン;
テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級の有機アミンなどを挙げることができる。これらの有機塩基のうち、トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジンの如き3級の有機アミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級の有機アミンが好ましい。
As a catalyst that can be used in the reaction between the hydrolysis condensate having an epoxy group and a carboxylic acid, an organic base can be used, and a compound known as a so-called curing accelerator that accelerates the reaction of the epoxy compound can be used. Can be used.
Examples of the organic base include primary and secondary organic amines such as ethylamine, diethylamine, piperazine, piperidine, pyrrolidine, and pyrrole;
Tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, diazabicycloundecene;
A quaternary organic amine such as tetramethylammonium hydroxide can be used. Among these organic bases, tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine and 4-dimethylaminopyridine; quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide preferable.

上記硬化促進剤としては、例えばベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、シクロヘキシルジメチルアミン、トリエタノールアミンの如き3級アミン;
2−メチルイミダゾール、2−n−ヘプチルイミダゾール、2−n−ウンデシルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−メチルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−n−ウンデシルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−フェニルイミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4,5−ジ(ヒドロキシメチル)イミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−フェニル−4,5−ジ〔(2’−シアノエトキシ)メチル〕イミダゾール、1−(2−シアノエチル)−2−n−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、1−(2−シアノエチル)−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテート、1−(2−シアノエチル)−2−エチル−4−メチルイミダゾリウムトリメリテート、2,4−ジアミノ−6−〔2’−メチルイミダゾリル−(1’)〕エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−(2’−n−ウンデシルイミダゾリル)エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−〔2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)〕エチル−s−トリアジン、2−メチルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールのイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−〔2’−メチルイミダゾリル−(1’)〕エチル−s−トリアジンのイソシアヌル酸付加物の如きイミダゾール化合物;
ジフェニルフォスフィン、トリフェニルフォスフィン、亜リン酸トリフェニルの如き有機リン化合物;
Examples of the curing accelerator include tertiary amines such as benzyldimethylamine, 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol, cyclohexyldimethylamine, and triethanolamine;
2-methylimidazole, 2-n-heptylimidazole, 2-n-undecylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenyl Imidazole, 1,2-dimethylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-n-undecylimidazole, 1- ( 2-cyanoethyl) -2-phenylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4,5-di (Hydroxymethyl) imidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-fur Nyl-4,5-di [(2′-cyanoethoxy) methyl] imidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-n-undecylimidazolium trimellitate, 1- (2-cyanoethyl) -2-phenyl Imidazolium trimellitate, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')] ethyl-s -Triazine, 2,4-diamino-6- (2'-n-undecylimidazolyl) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methylimidazolyl- (1 ' )] Ethyl-s-triazine, isocyanuric acid adduct of 2-methylimidazole, isocyanuric acid adduct of 2-phenylimidazole, 2,4-diamino-6- [2'-methyl] An imidazole compound such as an isocyanuric acid adduct of loumidazolyl- (1 ′)] ethyl-s-triazine;
Organophosphorus compounds such as diphenylphosphine, triphenylphosphine, triphenyl phosphite;

ベンジルトリフェニルフォスフォニウムクロライド、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムブロマイド、メチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、n−ブチルトリフェニルフォスフォニウムブロマイド、テトラフェニルフォスフォニウムブロマイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムヨーダイド、エチルトリフェニルフォスフォニウムアセテート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウム−o,o−ジエチルフォスフォロジチオネート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムベンゾトリアゾレート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムテトラフルオロボレート、テトラ−n−ブチルフォスフォニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルフォスフォニウムテトラフェニルボレートの如き4級フォスフォニウム塩;
1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデセン−7やその有機酸塩の如きジアザビシクロアルケン;
オクチル酸亜鉛、オクチル酸錫、アルミニウムアセチルアセトン錯体の如き有機金属化合物;
テトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ−n−ブチルアンモニウムクロライドの如き4級アンモニウム塩;
三フッ化ホウ素、ホウ酸トリフェニルの如きホウ素化合物;
塩化亜鉛、塩化第二錫の如き金属ハロゲン化合物;
ジシアンジアミドやアミンとエポキシ樹脂との付加物などのアミン付加型促進剤などの高融点分散型潜在性硬化促進剤;
前記イミダゾール化合物、有機リン化合物や4級フォスフォニウム塩などの硬化促進剤の表面をポリマーで被覆したマイクロカプセル型潜在性硬化促進剤;
アミン塩型潜在性硬化促進剤;
ルイス酸塩、ブレンステッド酸塩などの高温解離型の熱カチオン重合型潜在性硬化促進剤などの潜在性硬化促進剤などを挙げることができる。
これらのうち、好ましくはテトラエチルアンモニウムブロマイド、テトラ−n−ブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラ−n−ブチルアンモニウムクロライドの如き4級アンモニウム塩である。
Benzyltriphenylphosphonium chloride, tetra-n-butylphosphonium bromide, methyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium bromide, n-butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide Ethyltriphenylphosphonium iodide, ethyltriphenylphosphonium acetate, tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethylphosphorodithionate, tetra-n-butylphosphonium benzotriazolate, Tetra-n-butylphosphonium tetrafluoroborate, tetra-n-butylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate Such as over preparative quaternary phosphonium salts;
Diazabicycloalkenes such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 and organic acid salts thereof;
Organometallic compounds such as zinc octylate, tin octylate, aluminum acetylacetone complex;
Quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium bromide, tetra-n-butylammonium bromide, tetraethylammonium chloride, tetra-n-butylammonium chloride;
Boron compounds such as boron trifluoride and triphenyl borate;
Metal halides such as zinc chloride and stannic chloride;
High melting point dispersion type latent curing accelerators such as amine addition accelerators such as dicyandiamide and adducts of amine and epoxy resin;
A microcapsule type latent curing accelerator in which the surface of a curing accelerator such as the imidazole compound, organophosphorus compound or quaternary phosphonium salt is coated with a polymer;
Amine salt type latent hardness Ka促 Susumuzai;
Examples include latent curing accelerators such as high temperature dissociation type thermal cationic polymerization type latent curing accelerators such as Lewis acid salts and Bronsted acid salts.
Of these, quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium bromide, tetra-n-butylammonium bromide, tetraethylammonium chloride, and tetra-n-butylammonium chloride are preferable.

触媒は、使用するカルボン酸の合計100重量部に対して好ましくは100重量部以下の割合、より好ましくは0.01〜100重量部の割合、さらに好ましくは0.1〜20重量部の割合で使用される。
エポキシ基を有する加水分解縮合物とカルボン酸との反応において使用することのできる有機溶媒としては、例えば炭化水素化合物、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物、アミド化合物、アルコール化合物などを挙げることができる。これらのうち、エーテル化合物、エステル化合物、ケトン化合物が原料および生成物の溶解性ならびに生成物の精製のし易さの観点から好ましく、特に好ましい溶媒の具体例として2−ブタノン、2−ヘキサノン、メチルイソブチルケトンおよび酢酸ブチルを挙げることができる。溶媒は、固形分濃度(反応溶液中の溶媒以外の成分の合計重量が溶液の全重量に占める割合)が、0.1重量%以上となる割合で使用することが好ましく、より好ましくは5〜50重量%となる割合である。
反応温度は、好ましくは0〜200℃であり、より好ましくは50〜150℃である。反応時間は、好ましくは0.1〜50時間であり、より好ましくは0.5〜20時間である。
The catalyst is preferably in a proportion of 100 parts by weight or less, more preferably in a proportion of 0.01 to 100 parts by weight, still more preferably in a proportion of 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total carboxylic acid used. used.
Examples of the organic solvent that can be used in the reaction between the hydrolysis condensate having an epoxy group and a carboxylic acid include hydrocarbon compounds, ether compounds, ester compounds, ketone compounds, amide compounds, alcohol compounds, and the like. . Of these, ether compounds, ester compounds, and ketone compounds are preferable from the viewpoints of solubility of raw materials and products and ease of purification of the products, and specific examples of particularly preferred solvents include 2-butanone, 2-hexanone, and methyl. Mention may be made of isobutyl ketone and butyl acetate. The solvent is preferably used in such a ratio that the solid content concentration (the ratio of the total weight of components other than the solvent in the reaction solution to the total weight of the solution) is 0.1% by weight or more, and more preferably 5 to 5%. The ratio is 50% by weight.
The reaction temperature is preferably 0 to 200 ° C, more preferably 50 to 150 ° C. The reaction time is preferably 0.1 to 50 hours, more preferably 0.5 to 20 hours.

[求核性化合物]
次に、方法(5)において好ましく用いられる求核性化合物について説明する。
本発明の方法(5)において好ましく用いられる求核性化合物としては、アミンおよびチオールよりなる群から選択される少なくとも1種の求核性化合物、ただしこの求核性化合物は上記式(D)で表される基を有する、を挙げることができる。
この求核性化合物の有する上記式(D)で表される基は、上記式(D)におけるRが、炭素数2〜12のアルキル基または炭素数2〜12のフルオロアルキル基であることが好ましい。このようなRの好ましい具体例は、上記式(D)で表される基におけるRの説明において例示したもののうち、上記した好ましい範囲に該当するものである。
[Nucleophilic compound]
Next, the nucleophilic compound preferably used in the method (5) will be described.
The nucleophilic compound preferably used in the method (5) of the present invention is at least one nucleophilic compound selected from the group consisting of an amine and a thiol, provided that the nucleophilic compound has the above formula (D 0 ). It has the group represented by these.
The group represented by the formula (D 0) having the the nucleophilic compound, R I in the above formula (D 0) is an alkyl group or a fluoroalkyl group having 2 to 12 carbon atoms having 2 to 12 carbon atoms Preferably there is. Preferred examples of such R I, among those exemplified in the description of R I in the group represented by the formula (D 0), it corresponds to the preferred ranges described above.

上記式(D)で表される基を有するアミン(以下、「化合物(c1)」という。)としては、1級アミンまたは2級アミンを使用することが好ましい。1級アミンである化合物(c1)としては、例えばオクチルアミン、ペンチルアミン、ヘキシルアミン、ヘプチルアミン、オクチルアミン、ノニルアミン、デシルアミン、ウンデシルアミン、ドデシルアミン、トリデシルアミン、テトラデシルアミン、ペンタデシルアミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オクタデシルアミン、ノナデシルアミン、4−(4−ペンチルシクロヘキシル)−フェニルアミン、4−オクチロキシフェニルアミンなどを;
2級アミンである化合物(c1)としては、例えばジエチルアミン、ジプロピルアミン、ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジヘキシルアミン、ジヘプチルアミン、ジオクチルアミン、ジノニルアミン、ジデシルアミン、ジウンデシルアミン、ジドデシルアミン、ジトリデシルアミン、ジテトラデシルアミン、ジペンタデシルアミン、ジヘキサデシルアミン、ジヘプタデシルアミン、ジオクタデシルアミン、ジノナデシルアミンなどを、それぞれ挙げることができる。これらのうち、(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンと反応する際にゲル化しにくいこと、および合成が容易であるとの観点から2級アミンである化合物(c1)を使用することが好ましい。
As an amine having a group represented by the above formula (D 0 ) (hereinafter referred to as “compound (c1)”), a primary amine or a secondary amine is preferably used. Examples of the primary amine compound (c1) include octylamine, pentylamine, hexylamine, heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, undecylamine, dodecylamine, tridecylamine, tetradecylamine, pentadecylamine Hexadecylamine, heptadecylamine, octadecylamine, nonadecylamine, 4- (4-pentylcyclohexyl) -phenylamine, 4-octyloxyphenylamine and the like;
Examples of the secondary amine compound (c1) include diethylamine, dipropylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, diheptylamine, dioctylamine, dinonylamine, didecylamine, diundecylamine, didodecylamine, ditridecylamine. , Ditetradecylamine, dipentadecylamine, dihexadecylamine, diheptadecylamine, dioctadecylamine, dinonadecylamine, and the like. Among these, it is preferable to use the compound (c1) which is a secondary amine from the viewpoint that gelation is difficult when reacting with a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group and that the synthesis is easy.

上記式(D)で表される基を有するチオール(以下、「化合物(c2)」という。)としては、例えばメチルチオール、エチルチオール、プロピルチオール、ブチルチオール、ペンチルチオール、ヘキシルチオール、ヘプチルチオール、オクチルチオール、ノニルチオール、デシルチオール、ウンデシルチオール、ドデシルチオール、トリデシルチオール、テトラデシルチオール、ペンタデシルチオール、ヘキサデシルチオール、ヘプタデシルチオール、オクタデシルチオール、ノナデシルチオール、4−ブチルフェニルチオール、4−ペンチルフェニルチオール、4−ヘキシルフェニルチオール、4−ヘプチルフェニルチオール、4−オクチルフェニルチオール、4−ノニルフェニルチオール、4−デシルフェニルチオール、4−ウンデシルフェニルチオール、4−ドデシルフェニルチオール、4−トリデシルフェニルチオール、4−テトラデシルフェニルチオール、4−ペンタデシルフェニルチオール、4−ヘキサデシルフェニルチオール、4−ヘプタデシルフェニルチオール、4−オクタデシルフェニルチオール、4−ノナデシルフェニルチオール、4−ブトキシフェニルチオール、4−ペンチロキシフェニルチオール、4−ヘキシロキシフェニルチオール、4−ヘプチロキシフェニルチオール、4−オクチロキシフェニルチオール、4−ノニロキシフェニルチオール、4−デシロキシフェニルチオール、4−ウンデシロキシフェニルチオール、4−ドデシロキシフェニルチオール、4−(4’−ブチルシクロヘキシル)フェニルチオール、4−(4’−ペンチルシクロヘキシル)フェニルチオール、4−(4’−ヘキシルシクロヘキシル)フェニルチオール、4−(4’−ヘプチルシクロヘキシル)フェニルチオール、4−(4’−オクチルシクロヘキシル)フェニルチオールなどを挙げることができる。
Examples of the thiol having a group represented by the above formula (D 0 ) (hereinafter referred to as “compound (c2)”) include methylthiol, ethylthiol, propylthiol, butylthiol, pentylthiol, hexylthiol, heptylthiol. , Octylthiol, nonylthiol, decylthiol, undecylthiol, dodecylthiol, tridecylthiol, tetradecylthiol, pentadecylthiol, hexadecylthiol, heptadecylthiol, octadecylthiol, nonadecylthiol, 4-butylphenylthiol, 4-pentylphenylthiol, 4-hexylphenylthiol, 4-heptylphenylthiol, 4-octylphenylthiol, 4-nonylphenylthiol, 4-decylphenylthiol, 4-un Silphenylthiol, 4-dodecylphenylthiol, 4-tridecylphenylthiol, 4-tetradecylphenylthiol, 4-pentadecylphenylthiol, 4-hexadecylphenylthiol, 4-heptadecylphenylthiol, 4-octadecylphenylthiol 4-nonadecylphenylthiol, 4-butoxyphenylthiol, 4-pentyloxyphenylthiol, 4-hexyloxyphenylthiol, 4-heptyloxyphenylthiol, 4-octyloxyphenylthiol, 4-nonyloxyphenylthiol, 4-decyloxyphenylthiol , 4 -undecyloxyphenylthiol , 4 -dodecyloxyphenylthiol, 4- (4′-butylcyclohexyl) phenylthiol, 4- (4′-pentylcyclohexyl) Syl) phenylthiol, 4- (4′-hexylcyclohexyl) phenylthiol, 4- (4′-heptylcyclohexyl) phenylthiol, 4- (4′-octylcyclohexyl) phenylthiol and the like.

[(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンと求核性化合物との反応]
次に、(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンと求核性化合物との反応について、求核性化合物が化合物(c1)である場合と化合物(c2)である場合とに分けて、順次に説明する。
[Reaction of polyorganosiloxane having (meth) acryloyl group and nucleophilic compound]
Next, the reaction between the polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group and the nucleophilic compound is divided into a case where the nucleophilic compound is the compound (c1) and a case where the compound is the compound (c2). explain.

{求核性化合物が化合物(c1)である場合}
求核性化合物が上記式(D)で表される基を有するアミン(化合物(c1))である場合における(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンとの反応は、両者を、好ましくは有機溶媒の存在下、任意的に触媒の存在下に反応させることにより、行うことができる。
(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンと化合物(c1)との反応における化合物(c1)の使用割合としては、ポリオルガノシロキサンが有する(メタ)アクリロイル基に対する、化合物(c1)のモル数の割合として、好ましくは1モル%以上100モル%未満であり、より好ましくは3〜50モル%であり、さらに好ましくは5〜30モル%である。
(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンと化合物(c1)との反応において使用することのできる有機溶媒としては極性化合物を好ましく使用することができ、例えばニトリル、スルホキシド、エーテル、エステル、アルコールなどを挙げることができる。これらの具体例としては、上記ニトリルとして、例えばアセトニトリルなどを;
上記スルホキシドとして、例えばジメチルスルホキシドなどを;
上記エーテルとして、例えばジエチルエーテル、ジプロピルエーテルなどを;
上記エステルとして、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチルなどを;
上記アルコールとして、例えばトリフルオロエタノール、ヘキサフルオロエタノールなどを、それぞれ挙げることができる。これらのうち、ニトリルまたはスルホキシドを使用することが、反応の安定性の観点から好ましい。溶媒は、反応速度の観点から、固形分濃度(反応溶液中の溶媒以外の成分の合計重量が溶液の全重量に占める割合)が、40重量%以上となる割合で使用することが好ましく、より好ましくは50〜90重量%となる割合である。
(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンと化合物(c1)との反応において任意的に使用することのできる触媒としては、例えば塩化アルミニウム、ギ酸などを挙げることができる。
反応温度は、好ましくは10〜100℃であり、より好ましくは60〜100℃である。反応時間は、好ましくは0.5〜8時間であり、より好ましくは1〜6時間である。
{When the nucleophilic compound is the compound (c1)}
When the nucleophilic compound is an amine having the group represented by the above formula (D 0 ) (compound (c1)), the reaction with the polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group is preferably both organic The reaction can be carried out in the presence of a solvent, optionally in the presence of a catalyst.
The proportion of the compound (c1) used in the reaction between the polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group and the compound (c1) is the ratio of the number of moles of the compound (c1) to the (meth) acryloyl group of the polyorganosiloxane. Is preferably 1 mol% or more and less than 100 mol%, more preferably 3 to 50 mol%, still more preferably 5 to 30 mol%.
As the organic solvent that can be used in the reaction between the polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group and the compound (c1), a polar compound can be preferably used. For example, nitrile, sulfoxide, ether, ester, alcohol, etc. Can be mentioned. Specific examples thereof include nitriles such as acetonitrile and the like;
Examples of the sulfoxide include dimethyl sulfoxide and the like;
Examples of the ether include diethyl ether and dipropyl ether;
Examples of the ester include ethyl acetate and butyl acetate;
Examples of the alcohol include trifluoroethanol and hexafluoroethanol. Of these, nitrile or sulfoxide is preferably used from the viewpoint of reaction stability. From the viewpoint of reaction rate, the solvent is preferably used in such a ratio that the solid content concentration (the ratio of the total weight of components other than the solvent in the reaction solution to the total weight of the solution) is 40% by weight or more. The ratio is preferably 50 to 90% by weight.
Examples of the catalyst that can be optionally used in the reaction of the polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group and the compound (c1) include aluminum chloride and formic acid.
The reaction temperature is preferably 10 to 100 ° C, more preferably 60 to 100 ° C. The reaction time is preferably 0.5 to 8 hours, more preferably 1 to 6 hours.

一方、求核性化合物が上記式(D)で表される基を有するチオール(化合物(c2))である場合における(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンとの反応は、両者を、好ましくは有機溶媒および触媒の存在下に反応させることにより、行うことができる。
(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンと化合物(c2)との反応における化合物(c2)の使用割合としては、ポリオルガノシロキサンが有する(メタ)アクリロイル基に対する、化合物(c2)のモル数の割合として、好ましくは1モル%以上であり、より好ましくは3〜50モル%であり、さらに好ましくは5〜30モル%である。
(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンと化合物(c2)との反応において使用することのできる有機溶媒としては、例えば極性化合物を好ましく使用することができ、例えばニトリル、スルホキシド、エーテル、エステルなどを挙げることができる。これらの具体例としては、上記ニトリルとして、例えばアセトニトリルなどを;
上記スルホキシドとして、例えばジメチルスルホキシドなどを;
上記エーテルとして、例えばジエチルエーテル、ジプロピルエーテルなどを;
上記エステルとして、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチルなどを、それぞれ挙げることができる。溶媒は、固形分濃度(反応溶液中の溶媒以外の成分の合計重量が溶液の全重量に占める割合)が、40重量%以上となる割合で使用することが好ましく、より好ましくは50〜90重量%となる割合である。
(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンと化合物(c2)との反応において好ましく使用される触媒としては、例えば有機塩塩基などを挙げることができ、より詳しくは3級アミン、具体的にはトリメチルアミン、ジエチルメチルアミン、エチルジメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミンなどを挙げることができる。触媒の使用割合は、化合物(c2)の100重量部に対して、好ましくは50重量部以下であり、より好ましくは10〜30重量部である。
反応温度は、好ましくは10〜100℃であり、より好ましくは40〜80℃である。反応時間は、好ましくは0.5〜8時間であり、より好ましくは1〜6時間である。
On the other hand, when the nucleophilic compound is a thiol (compound (c2)) having a group represented by the above formula (D 0 ), the reaction with the polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group preferably Can be carried out by reacting in the presence of an organic solvent and a catalyst.
The proportion of the compound (c2) used in the reaction between the polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group and the compound (c2) is the ratio of the number of moles of the compound (c2) to the (meth) acryloyl group of the polyorganosiloxane. Is preferably 1 mol% or more, more preferably 3 to 50 mol%, still more preferably 5 to 30 mol%.
As the organic solvent that can be used in the reaction between the polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group and the compound (c2), for example, a polar compound can be preferably used, for example, nitrile, sulfoxide, ether, ester, etc. Can be mentioned. Specific examples thereof include nitriles such as acetonitrile and the like;
Examples of the sulfoxide include dimethyl sulfoxide and the like;
Examples of the ether include diethyl ether and dipropyl ether;
Examples of the ester include ethyl acetate and butyl acetate. The solvent is preferably used in such a ratio that the solid content concentration (the ratio of the total weight of components other than the solvent in the reaction solution to the total weight of the solution) is 40% by weight or more, more preferably 50 to 90% by weight. %.
Examples of the catalyst preferably used in the reaction of the polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group and the compound (c2) include organic salt bases, and more specifically, tertiary amines, specifically trimethylamine. , Diethylmethylamine, ethyldimethylamine, triethylamine, tripropylamine and the like. The ratio of the catalyst to be used is preferably 50 parts by weight or less, more preferably 10 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the compound (c2).
The reaction temperature is preferably 10 to 100 ° C, more preferably 40 to 80 ° C. The reaction time is preferably 0.5 to 8 hours, more preferably 1 to 6 hours.

[(A)第一の重合体の推奨される製造方法]
本発明においては、(A)第一の重合体製造は上記方法(3)、方法(4)または方法(5)によることが好ましい。方法(3)または方法(4)においては、カルボン酸の使用割合を加水分解縮合物の有するエポキシ基よりも少ない割合とすることにより、第一の重合体を、(メタ)アクリロイル基、上記式(D)で表される基およびエポキシ基のすべてを有するものとすることが好ましい。
[(A) Recommended Method for Producing the First Polymer]
In the present invention, it is preferable according to (A) producing the above method of the first polymer (3), the method (4) or method (5). In the method (3) or the method (4), the first polymer is converted to a (meth) acryloyl group, the above formula by setting the proportion of carboxylic acid used to be smaller than the epoxy group of the hydrolysis condensate. It is preferable to have all of the group represented by (D 0 ) and the epoxy group.

<(B)第二の重合体>
本発明で用いられる重合体組成物に含有される(B)第二の重合体は、ポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種である。
前記ポリアミック酸は例えばテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを反応することにより合成することができ、前記ポリイミドは前記ポリアミック酸を脱水閉環してイミド化することにより合成することができる。
<(B) Second polymer>
The (B) second polymer contained in the polymer composition used in the present invention is at least one selected from the group consisting of polyamic acid and polyimide.
The polyamic acid can be synthesized by, for example, reacting tetracarboxylic dianhydride and diamine, and the polyimide can be synthesized by dehydrating and ring-closing the polyamic acid to imidize.

[テトラカルボン酸二無水物]
前記ポリアミック酸を合成するために用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物などを挙げることができる。これらの具体例としては、脂肪族テトラカルボン酸二無水物として、例えばブタンテトラカルボン酸二無水物などを;
脂環式テトラカルボン酸二無水物として、例えば1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、3−オキサビシクロ[3.2.1]オクタン−2,4−ジオン−6−スピロ−3’−(テトラヒドロフラン−2’,5’−ジオン)、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、3,5,6−トリカルボキシ−2−カルボキシメチルノルボルナン−2:3,5:6−二無水物、4,9−ジオキサトリシクロ[5.3.1.02,6]ウンデカン−3,5,8,10−テトラオンなどを;
芳香族テトラカルボン酸二無水物として、例えばピロメリット酸二無水物などを、それぞれ挙げることができるほか、特許文献2(特開2010−97188号公報)に記載されたテトラカルボン酸二無水物を使用してもよい。
前記ポリアミック酸を合成するために用いられるテトラカルボン酸二無水物としては、これらのうち、脂環式テトラカルボン酸二無水物のみを用いるか、脂環式テトラカルボン酸二無水物と芳香族テトラカルボン酸二無水物との混合物を用いることが好ましい。後者の場合、全テトラカルボン酸二無水物中に占める脂環式テトラカルボン酸二無水物の割合は、20モル%以上とすることが好ましく、40モル%以上とすることがより好ましい。
[Tetracarboxylic dianhydride]
Examples of tetracarboxylic dianhydrides used to synthesize the polyamic acid include aliphatic tetracarboxylic dianhydrides, alicyclic tetracarboxylic dianhydrides, aromatic tetracarboxylic dianhydrides, and the like. be able to. Specific examples of these include aliphatic tetracarboxylic dianhydrides such as butane tetracarboxylic dianhydride;
Examples of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 1,3,3a, 4, 5,9b-Hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b- Hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 3-oxabicyclo [3.2.1] octane -2,4-dione-6-spiro-3 '-(tetrahydrofuran-2', 5'-dione), 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene- No 1,2-dicarboxylic acid Things, 3,5,6-tricarboxy-2-carboxymethyl norbornane -2: 3,5: 6-dianhydride, 4,9-dioxatricyclo [5.3.1.0 2, 6] undecane -3,5,8,10-tetraone and the like;
Examples of the aromatic tetracarboxylic dianhydride include pyromellitic dianhydride and the like, respectively, and tetracarboxylic dianhydride described in Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2010-97188). May be used.
Among these, as the tetracarboxylic dianhydride used for synthesizing the polyamic acid, only alicyclic tetracarboxylic dianhydride is used, or alicyclic tetracarboxylic dianhydride and aromatic tetra Preference is given to using mixtures with carboxylic dianhydrides. In the latter case, the ratio of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride in the total tetracarboxylic dianhydride is preferably 20 mol% or more, and more preferably 40 mol% or more.

[ジアミン]
前記ポリアミック酸を合成するために用いられるジアミンとしては、上記式(D)で表される基を有するジアミン(以下、「特定ジアミン」という。)および上記式(D)で表される基を有さないジアミン(以下、「その他のジアミン」という。)を挙げることができる。
このような上記式(D)で表される基を有する特定ジアミンを用いて合成された第二の重合体を含有する重合体組成物から形成された膜は、良好な液晶配向能を発揮することとなる。
本発明における特定ジアミンとしては、上記式(D表される基を有する芳香族ジアミンであることが好ましく、その具体例として例えばドデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ドデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−3,5−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−3,5−ジアミノベンゼン、3,5−ジアミノ安息香酸コレスタニル、3,5−ジアミノ安息香酸コレステニル、3,5−ジアミノ安息香酸ラノスタニルなどを挙げることができ、これらのうちの1種または2種以上を用いることが好ましい。本発明における特定ジアミンとしては、特にヘキサデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−3,5−ジアミノベンゼンおよびコレステニルオキシ−3,5−ジアミノベンゼンよりなる群から選択される少なくとも1種であることが好ましい。
[Diamine]
Examples of the diamine used for synthesizing the polyamic acid include a diamine having a group represented by the above formula (D 0 ) (hereinafter referred to as “specific diamine”) and a group represented by the above formula (D 0 ). Diamines that do not have (hereinafter referred to as “other diamines”).
The film formed from the polymer composition containing the second polymer synthesized using the specific diamine having the group represented by the above formula (D 0 ) exhibits good liquid crystal alignment ability. Will be.
Specific diamines in the present invention, the above formula (D 0) is preferably an aromatic diamine having a group represented by, for example, dodecanoxy-2,4-diaminobenzene as a specific example, Pentadekanokishi 2,4 Diaminobenzene, hexadecanoxy-2,4-diaminobenzene, octadecanoxy-2,4-diaminobenzene, dodecanoxy-2,5-diaminobenzene, pentadecanoxy-2,5-diaminobenzene, hexadecanoxy-2,5-diaminobenzene, octadecanoxy- 2,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestenyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestanyl 3,5-diaminobenzoate, cholestenyl 3,5-diaminobenzoate, 3,5 -Diaminobenzoic acid Etc. can be mentioned Nosutaniru, it is preferable to use one or more of them. The specific diamine in the present invention is composed of hexadecanoxy-2,5-diaminobenzene, octadecanoxy-2,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene and cholestenyloxy-3,5-diaminobenzene. It is preferably at least one selected from the group.

上記その他のジアミンとしては、例えば脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン、ジアミノオルガノシロキサンなどであって上記特定ジアミンに該当しないものを挙げることができる。
これらの具体例としては、脂肪族ジアミンとして、例えば1,1−メタキシリレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなどを;
脂環式ジアミンとして、例えば1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンなどを;
芳香族ジアミンとして、例えばp−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、1,5−ジアミノナフタレン、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、2,7−ジアミノフルオレン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−(p−フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、4,4’−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,6−ジアミノピリジン、3,4−ジアミノピリジン、2,4−ジアミノピリミジン、3,6−ジアミノアクリジン、3,6−ジアミノカルバゾール、N−メチル−3,6−ジアミノカルバゾール、N−エチル−3,6−ジアミノカルバゾール、N−フェニル−3,6−ジアミノカルバゾール、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−ベンジジン、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−N,N’−ジメチルベンジジンなどを;
ジアミノオルガノシロキサンとして、例えば1,3−ビス(3−アミノプロピル)−テトラメチルジシロキサンなどを、それぞれ挙げることができるほか、特許文献2(特開2010−97188号公報)に記載されたジアミンであってもよい。
Examples of the other diamines include aliphatic diamines, alicyclic diamines, aromatic diamines, diaminoorganosiloxanes, and the like that do not correspond to the specific diamines.
Specific examples thereof include aliphatic diamines such as 1,1-metaxylylenediamine, 1,3-propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine and the like;
Examples of alicyclic diamines include 1,4-diaminocyclohexane, 4,4′-methylenebis (cyclohexylamine), 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane and the like;
Examples of aromatic diamines include p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 1,5-diaminonaphthalene, 2,2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 4,4′-diamino-2,2′-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 2,7-diaminofluorene, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl ] Propane, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane 4,4 ′-(p-phenylenediisopropylidene) bisaniline, 4,4 ′-(m-phenylenediisopropylene Riden) bisaniline, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 2,6-diaminopyridine, 3,4-diaminopyridine, 2,4-diamino Pyrimidine, 3,6-diaminoacridine, 3,6-diaminocarbazole, N-methyl-3,6-diaminocarbazole, N-ethyl-3,6-diaminocarbazole, N-phenyl-3,6-diaminocarbazole, N , N′-bis (4-aminophenyl) -benzidine, N, N′-bis (4-aminophenyl) -N, N′-dimethylbenzidine and the like;
Examples of the diaminoorganosiloxane include 1,3-bis (3-aminopropyl) -tetramethyldisiloxane, and the diamine described in Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2010-97188). There may be.

本発明における(B)第二の重合体を合成するために使用されるジアミンとしては、上記の如き特定ジアミンおよびその他のジアミンから選択される少なくとも一種であることが好ましい。より好ましく使用されるジアミンおよびその使用割合は、上記(A)第一の重合体の構造により若干異なる。
上記(A)第一の重合体が上記式(D)で表される基を有さないものである場合には、(B)第二の重合体に液晶配向機能を付与するために、ジアミンとして上記特定ジアミンを含むジアミンを使用することが好ましく、かかる特定ジアミンを、全ジアミンに対して、2モル%以上含むものであることがより好ましく、2〜60モル%含むものであることがさらに好ましく、特に5〜40モル%含むものであることが好ましく、就中10〜30モル%含むものであることが好ましい。
一方、(A)第一の重合体が上記式(D)で表される基を有さないものである場合には、ジアミンとして特定ジアミンを使用する必要はないが、特定ジアミンの使用を禁止するものではない。この場合、特定ジアミンを、全ジアミンに対して、90モル%以下の範囲で使用することができ、70モル%以下の範囲で使用することが好ましく、40モル%以下の範囲で使用することがより好ましい。
The diamine used for synthesizing the second polymer (B) in the present invention is preferably at least one selected from the above specific diamines and other diamines. More preferably used diamines and their proportions are slightly different depending on the structure of the first polymer (A).
In the case where the (A) first polymer does not have the group represented by the formula (D 0 ), in order to impart a liquid crystal alignment function to the (B) second polymer, It is preferable to use a diamine containing the above specific diamine as the diamine, more preferably 2 mol% or more, more preferably 2 to 60 mol% of the specific diamine, more preferably 2 to 60 mol%. It is preferable to contain 5-40 mol%, and it is especially preferable to contain 10-30 mol%.
On the other hand, when the (A) first polymer does not have the group represented by the above formula (D 0 ), it is not necessary to use the specific diamine as the diamine, but the use of the specific diamine is not recommended. It is not prohibited. In this case, the specific diamine can be used in a range of 90 mol% or less, preferably in a range of 70 mol% or less, and in a range of 40 mol% or less, based on the total diamine. More preferred.

[分子量調節剤]
前記ポリアミック酸を合成するに際して、上記の如きテトラカルボン酸二無水物およびジミアンとともに、適当な分子量調節剤を用いて末端修飾型の重合体を合成することとしてもよい。かかる末端修飾型の重合体とすることにより、本発明の効果を損なうことなく重合体組成物の塗布性(印刷性)を改善することができる。
前記分子量調節剤としては、例えば酸一無水物、モノアミン化合物、モノイソシアネート化合物などを挙げることができる。これらの具体例としては、酸一無水物としては、例えば無水マレイン酸、無水フタル酸、無水イタコン酸、n−デシルサクシニック酸無水物、n−ドデシルサクシニック酸無水物、n−テトラデシルサクシニック酸無水物、n−ヘキサデシルサクシニック酸無水物などを;
モノアミン化合物として、例えばアニリン、シクロヘキシルアミン、n−ブチルアミン、n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、n−ヘプチルアミン、n−オクチルアミンなどを;
モノイソシアネート化合物として、例えばフェニルイソシアネート、ナフチルイソシアネートなどを、それぞれ挙げることができる。
分子量調節剤の使用割合は、使用するテトラカルボン酸二無水物およびジアミンの合計100重量部に対して、10重量部以下とすることが好ましい。
[Molecular weight regulator]
When synthesizing the polyamic acid, a terminal-modified polymer may be synthesized using an appropriate molecular weight regulator together with the tetracarboxylic dianhydride and dimian as described above. By using such a terminal-modified polymer, the applicability (printability) of the polymer composition can be improved without impairing the effects of the present invention.
Examples of the molecular weight regulator include acid monoanhydrides, monoamine compounds, monoisocyanate compounds, and the like. Specific examples of these acid monoanhydrides include maleic anhydride, phthalic anhydride, itaconic anhydride, n-decylsuccinic anhydride, n-dodecylsuccinic anhydride, n-tetradecylsuccinic acid. Nic acid anhydride, n-hexadecyl succinic acid anhydride, etc .;
Examples of monoamine compounds include aniline, cyclohexylamine, n-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, and n-octylamine;
Examples of the monoisocyanate compound include phenyl isocyanate and naphthyl isocyanate.
It is preferable that the usage-amount of a molecular weight modifier shall be 10 weight part or less with respect to a total of 100 weight part of tetracarboxylic dianhydride and diamine to be used.

[ポリアミック酸の合成]
ポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミンとの使用割合は、ジアミンのアミノ基1当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が0.2〜2当量となる割合が好ましく、さらに好ましくは0.3〜1.2当量となる割合である。
ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において、好ましくは−20℃〜150℃、より好ましくは0〜100℃において、好ましくは0.1〜24時間、より好ましくは0.5〜12時間行われる。
ここで、有機溶媒としては、例えばN−メチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミドなどの非プロトン性極性溶媒;m−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノール性溶媒を挙げることができる。有機溶媒の使用量(a)は、テトラカルボン酸二無水物およびジアミンの合計量(b)が、反応溶液の全量(a+b)に対して0.1〜30重量%になるような量であることが好ましい。
以上のようにして、ポリアミック酸を溶解してなる反応溶液が得られる。
この反応溶液はそのまま重合体組成物の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離したうえで重合体組成物の調製に供してもよく、または単離したポリアミック酸を精製したうえで重合体組成物の調製に供してもよい。ポリアミック酸を脱水閉環してポリイミドとする場合には、上記反応溶液をそのまま脱水閉環反応に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸を単離したうえで脱水閉環反応に供してもよく、または単離したポリアミック酸を精製したうえで脱水閉環反応に供してもよい。ポリアミック酸の単離および精製は公知の方法に従って行うことができる。
[Synthesis of polyamic acid]
The ratio of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine used in the polyamic acid synthesis reaction is 0.2 to 2 for the tetracarboxylic dianhydride acid anhydride group to 1 equivalent of the amino group of the diamine. The ratio which becomes an equivalent is preferable, More preferably, it is the ratio which becomes 0.3-1.2 equivalent.
The polyamic acid synthesis reaction is preferably carried out in an organic solvent, preferably at -20 ° C to 150 ° C, more preferably at 0-100 ° C, preferably 0.1-24 hours, more preferably 0.5-12 hours. Done.
Here, examples of the organic solvent include N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, γ-butyrolactone, tetramethylurea, hexamethylphosphortriamide and the like. Protic polar solvents; mention may be made of phenolic solvents such as m-cresol, xylenol, phenol, halogenated phenol. The amount of organic solvent used (a) is such that the total amount (b) of tetracarboxylic dianhydride and diamine is 0.1 to 30% by weight with respect to the total amount (a + b) of the reaction solution. It is preferable.
As described above, a reaction solution obtained by dissolving polyamic acid is obtained.
This reaction solution may be used for the preparation of the polymer composition as it is, may be used for the preparation of the polymer composition after isolating the polyamic acid contained in the reaction solution, or the isolated polyamic acid may be used. You may use for preparation of a polymer composition, after refine | purifying. When polyamic acid is dehydrated and cyclized into a polyimide, the above reaction solution may be directly subjected to dehydration and cyclization reaction, or may be subjected to dehydration and cyclization reaction after isolating the polyamic acid contained in the reaction solution. Alternatively, the isolated polyamic acid may be purified and then subjected to a dehydration ring closure reaction. Isolation and purification of the polyamic acid can be performed according to a known method.

[ポリイミドの合成]
前記ポリイミドは、上記の如くして合成されたポリアミック酸を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。
本発明におけるポリイミドは、その前駆体であるポリアミック酸が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造が併存する部分イミド化物であってもよい。本発明におけるポリイミドは、そのイミド化率が40%以上であることが好ましい。このイミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。
ポリアミック酸の脱水閉環は、好ましくはポリアミック酸を加熱する方法により、またはポリアミック酸を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により行われる。このうち、後者の方法によることが好ましい。
[Synthesis of polyimide]
The polyimide can be obtained by dehydrating and ring-closing the polyamic acid synthesized as described above to imidize.
The polyimide in the present invention may be a completely imidized product obtained by dehydrating and cyclizing all of the amic acid structure that the polyamic acid that is a precursor thereof has, or by dehydrating and cyclizing only a part of the amic acid structure, A partially imidized product in which a structure and an imide ring structure coexist may be used. The polyimide in the present invention preferably has an imidization rate of 40% or more. This imidation ratio represents the ratio of the number of imide ring structures to the total of the number of polyimide amic acid structures and the number of imide ring structures in percentage.
The polyamic acid is preferably dehydrated and closed by heating the polyamic acid, or by dissolving the polyamic acid in an organic solvent, adding a dehydrating agent and a dehydrating ring-closing catalyst to the solution, and heating if necessary. . Of these, the latter method is preferred.

上記ポリアミック酸の溶液中に脱水剤および脱水閉環触媒を添加する方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸などの酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、ポリアミック酸のアミック酸構造の1モルに対して0.01〜20モルとすることが好ましい。脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミンなどの3級アミンを用いることができる。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤1モルに対して0.01〜10モルとすることが好ましい。脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸の合成に用いられるものとして例示した有機溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は好ましくは0〜180℃であり、より好ましくは10〜150℃である。反応時間は好ましくは1.0〜120時間であり、より好ましくは2.0〜30時間である。
このようにしてポリイミドを含有する反応溶液が得られる。この反応溶液は、これをそのまま重合体組成物の調製に供してもよく、反応溶液から脱水剤および脱水閉環触媒を除いたうえで重合体組成物の調製に供してもよく、ポリイミドを単離したうえで重合体組成物の調製に供してもよく、または単離したポリイミドを精製したうえで重合体組成物の調製に供してもよい。これらの精製操作は公知の方法に従って行うことができる。
In the method of adding a dehydrating agent and a dehydrating ring-closing catalyst to the polyamic acid solution, for example, an acid anhydride such as acetic anhydride, propionic anhydride, or trifluoroacetic anhydride can be used as the dehydrating agent. It is preferable that the usage-amount of a dehydrating agent shall be 0.01-20 mol with respect to 1 mol of the amic acid structure of a polyamic acid. As the dehydration ring closure catalyst, for example, tertiary amines such as pyridine, collidine, lutidine, and triethylamine can be used. It is preferable that the usage-amount of a dehydration ring-closing catalyst shall be 0.01-10 mol with respect to 1 mol of dehydrating agents to be used. Examples of the organic solvent used in the dehydration ring-closing reaction include the organic solvents exemplified as those used for the synthesis of polyamic acid. The reaction temperature of the dehydration ring closure reaction is preferably 0 to 180 ° C, more preferably 10 to 150 ° C. The reaction time is preferably 1.0 to 120 hours, more preferably 2.0 to 30 hours.
In this way, a reaction solution containing polyimide is obtained. This reaction solution may be used for the preparation of the polymer composition as it is, or may be used for the preparation of the polymer composition after removing the dehydrating agent and the dehydration ring-closing catalyst from the reaction solution. In addition, the polymer composition may be used for preparation, or the isolated polyimide may be purified and then used for preparation of the polymer composition. These purification operations can be performed according to known methods.

<(A)第一の重合体と(B)第二の重合体との使用割合>
本発明の方法において用いられる重合体組成物中の(A)第一の重合体と(B)第二の重合体との使用割合としては、(B)第二の重合体100重量部に対する(A)第一の重合体の使用割合として、1〜90重量部とすることが好ましく、2〜60重量部とすることがより好ましく、特に5〜40重量部とすることが好ましい。
<Use ratio of (A) first polymer and (B) second polymer>
In the polymer composition used in the method of the present invention, the use ratio of (A) the first polymer and (B) the second polymer is (B) relative to 100 parts by weight of the second polymer ( A) The proportion of the first polymer used is preferably 1 to 90 parts by weight, more preferably 2 to 60 parts by weight, and particularly preferably 5 to 40 parts by weight.

<その他の成分>
本発明の方法において用いられる重合体組成物は、上記の如き(A)第一の重合体および(B)第二の重合体を必須の成分として含有するが、その他の成分を含有していてもよい。
ここで使用することのできるその他の成分としては、例えばその他の重合体、ラジカル重合性化合物、分子内に少なくとも1つのエポキシ基を有する化合物(ただし、上記(A)第一の重合体に該当するものを除く。以下、「エポキシ化合物」という。)、官能性シラン化合物などを挙げることができる。
<Other ingredients>
The polymer composition used in the method of the present invention contains (A) the first polymer and (B) the second polymer as essential components as described above, but contains other components. Also good.
Examples of other components that can be used here include other polymers, radically polymerizable compounds, and compounds having at least one epoxy group in the molecule (however, the above (A) corresponds to the first polymer). (Hereinafter referred to as “epoxy compound”), functional silane compounds, and the like.

[その他の重合体]
上記その他の重合体は、重合体組成物の溶液特性および重合体組成物から形成される膜の電気特性の改善のために使用することができる。かかるその他の重合体は、上記(A)第一の重合体および(B)第二の重合体以外の重合体であり、例えばポリアミック酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、ポリシロキサン、セルロース誘導体、ポリアセタール、ポリスチレン誘導体、ポリ(スチレン−フェニルマレイミド)誘導体、ポリ(メタ)アクリレートなどを挙げることができる。
その他の重合体の使用割合としては、(B)第二の重合体100重量部に対して、好ましくは40重量部以下であり、より好ましくは20重量部以下である。本発明においては、その他の重合体を使用しないことが好ましい。
[Other polymers]
These other polymers can be used to improve the solution properties of the polymer composition and the electrical properties of the film formed from the polymer composition. Such other polymers are polymers other than the above (A) first polymer and (B) second polymer, such as polyamic acid ester, polyester, polyamide, polysiloxane, cellulose derivative, polyacetal, polystyrene. Derivatives, poly (styrene-phenylmaleimide) derivatives, poly (meth) acrylates and the like can be mentioned.
The use ratio of the other polymer is preferably 40 parts by weight or less, more preferably 20 parts by weight or less, with respect to 100 parts by weight of the second polymer (B). In the present invention, it is preferable not to use other polymers.

[ラジカル重合性化合物]
上記ラジカル重合性化合物は、放射線に対する感度を向上する目的で本発明の重合体組成物中に含有されることができる。
このラジカル重合性化合物としては、アクリロイル基およびメタクリロイル基から選択される少なくとも1種の基(以下、「ラジカル重合性基」ともいう。)を1個以上、好ましくは1〜3個、有する化合物であることが好ましく、より好ましくは1〜3個のラジカル重合性基と液晶類似構造とを共に有する化合物である。このような化合物としてさらに好ましくは、ラジカル重合性基を1個有する化合物として下記式(d1)
[Radically polymerizable compound]
The radically polymerizable compound can be contained in the polymer composition of the present invention for the purpose of improving sensitivity to radiation.
The radical polymerizable compound is a compound having at least one, preferably 1 to 3, at least one group selected from an acryloyl group and a methacryloyl group (hereinafter also referred to as “radical polymerizable group”). Preferably, it is a compound having both 1 to 3 radical polymerizable groups and a liquid crystal similar structure. More preferably, the compound having one radical polymerizable group is represented by the following formula (d1).

(式(d1)中、Rは水素原子またはメチル基であり、
IIIは炭素数4〜40のアルキル基、炭素数4〜40のフルオロアルキル基、シアノ基もしくはフッ素原子であるか、またはステロイド骨格を有する炭素数17〜51の炭化水素基であり;
IIIは単結合、−O−、−COO−または−OCO−(ただし、「*」を付した結合手がRIII側である。)であり、
IVはシクロへキシレン基またはフェニレン基であり、ただしこのシクロへキシレン基またはフェニレン基はシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基または炭素数1〜3のアルキル基によって置換されていてもよく、
n5は1〜3の整数であり、
ただしn5が2または3であるとき、複数存在するRIVは互いに同一であっても異なっていてもよく、
n6は0または1である。)
で表される化合物(以下、「化合物(d1)」という。)を、ラジカル重合性基を2個有する化合物としてビフェニル構造を有するジ(メタ)アクリレート、フェニル−シクロヘキシル構造を有するジ(メタ)アクリレート、2,2−ジフェニルプロパン構造を有するジ(メタ)アクリレートおよびジフェニルメタン構造を有するジ(メタ)アクリレートよりなる群から選択される少なくとも1種(以下、「化合物(d2)」という。)を、ラジカル重合性基を3個有する化合物として3価以上の多価アルコールのトリ(メタ)アクリル酸エステル(以下、「化合物(d3)」という。)を、それぞれ挙げることができる。
(In the formula (d1), R is a hydrogen atom or a methyl group,
R III is an alkyl group having 4 to 40 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 4 to 40 carbon atoms, a cyano group or a fluorine atom, or a hydrocarbon group having 17 to 51 carbon atoms having a steroid skeleton;
Z III is a single bond, * —O—, * —COO— or * —OCO— (where the bond marked with “*” is on the R III side);
R IV is a cyclohexylene group or a phenylene group, provided that the cyclohexylene group or phenylene group may be substituted by a cyano group, a fluorine atom, a trifluoromethyl group, or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms,
n5 is an integer of 1 to 3,
However, when n5 is 2 or 3, a plurality of R IV may be the same or different from each other,
n6 is 0 or 1. )
Di (meth) acrylate having a biphenyl structure and di (meth) acrylate having a phenyl-cyclohexyl structure as a compound having two radical polymerizable groups (hereinafter referred to as “compound (d1)”) , At least one selected from the group consisting of di (meth) acrylate having a 2,2-diphenylpropane structure and di (meth) acrylate having a diphenylmethane structure (hereinafter referred to as “compound (d2)”). Examples of the compound having three polymerizable groups include tri (meth) acrylic acid esters of trihydric or higher polyhydric alcohols (hereinafter referred to as “compound (d3)”).

上記化合物(d1)の具体例としては、例えば4−(4−オクタデシルシクロヘキシル)フェニルアクリレート、4−(4−ブチルシクロヘキシル)フェニルメタクリレート、4−(4−ペンチルシクロヘキシル)フェニルメタクリレート、4−(4−ヘキシルシクロヘキシル)フェニルメタクリレート、4−(4−オクチルシクロヘキシル)フェニルメタクリレート、4−(4−デシルシクロヘキシル)フェニルメタクリレート、4−(4−ドデシルシクロヘキシル)フェニルメタクリレート、4−(4−ヘキサデシルシクロヘキシル)フェニルメタクリレート、4−(4−オクタデシルシクロヘキシル)フェニルメタクリレート、4−(4−ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシルアクリレート、4−(4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルアクリレート、4−(4−ヘキシルシクロヘキシル)シクロヘキシルアクリレート、4−(4−オクチルシクロヘキシル)シクロヘキシルアクリレート、4−(4−デシルシクロヘキシル)シクロヘキシルアクリレート、4−(4−ドデシルシクロヘキシル)シクロヘキシルアクリレート、4−(4−ヘキサデシルシクロヘキシル)シクロヘキシルアクリレート、4−(4−オクタデシルシクロヘキシル)シクロヘキシルアクリレート、4−(4−ブチルシクロヘキシル)シクロヘキシルメタクリレート、4−(4−ペンチルシクロヘキシル)シクロヘキシルメタクリレート、4−(4−ヘキシルシクロヘキシル)シクロヘキシルメタクリレート、4−(4−オクチルシクロヘキシル)シクロヘキシルメタクリレート、4−(4−デシルシクロヘキシル)シクロヘキシルメタクリレート、4−(4−ドデシルシクロヘキシル)シクロヘキシルメタクリレート、4−(4−ヘキサデシルシクロヘキシル)シクロヘキシルメタクリレート、4−(4−オクタデシルシクロヘキシル)シクロヘキシルメタクリレート、(メタ)アクリル酸−5ξ−コレスタン−3−イル、(メタ)アクリル酸−5ξ−コレステン−3−イル、(メタ)アクリル酸 4−(4’−ペンチルビシクロへキシル−4−イル)フェニルエステルなどを挙げることができる。   Specific examples of the compound (d1) include 4- (4-octadecylcyclohexyl) phenyl acrylate, 4- (4-butylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4-pentylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4- Hexylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4-octylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4-decylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4-dodecylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4-hexadecylcyclohexyl) phenyl methacrylate 4- (4-octadecylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4-butylcyclohexyl) cyclohexyl acrylate, 4- (4-pentylcyclohexyl) silane Rohexyl acrylate, 4- (4-hexylcyclohexyl) cyclohexyl acrylate, 4- (4-octylcyclohexyl) cyclohexyl acrylate, 4- (4-decylcyclohexyl) cyclohexyl acrylate, 4- (4-dodecylcyclohexyl) cyclohexyl acrylate, 4- (4-hexadecylcyclohexyl) cyclohexyl acrylate, 4- (4-octadecylcyclohexyl) cyclohexyl acrylate, 4- (4-butylcyclohexyl) cyclohexyl methacrylate, 4- (4-pentylcyclohexyl) cyclohexyl methacrylate, 4- (4-hexylcyclohexyl) ) Cyclohexyl methacrylate, 4- (4-octylcyclohexyl) cyclohexyl methacrylate, 4- (4 Decylcyclohexyl) cyclohexyl methacrylate, 4- (4-dodecylcyclohexyl) cyclohexyl methacrylate, 4- (4-hexadecylcyclohexyl) cyclohexyl methacrylate, 4- (4-octadecylcyclohexyl) cyclohexyl methacrylate, (meth) acrylic acid-5ξ-cholestane- Examples include 3-yl, (meth) acrylic acid-5ξ-cholesten-3-yl, (meth) acrylic acid 4- (4′-pentylbicyclohexyl-4-yl) phenyl ester, and the like.

上記化合物(d2)の具体例としては、ビフェニル構造を有するジ(メタ)アクリレートとして、例えば4’−(メタ)アクリロイロキシ−ビフェニル−4−イル−アクリレート、2−[4’−(2−(メタ)アクリロイロキシ−エトキシ)−ビフェニル−4−イロキシ]−エチル(メタ)アクリレート、2−(2−{4’−[2−(2−(メタ)アクリロイロキシ−エトキシ)−エトキシ]−ビフェニル−4−イロキシ}−エトキシ)−エチルアクリレート、ビスヒドロキシエトキシビフェニルジ(メタ)アクリレートなどを;
フェニル−シクロヘキシル構造を有するジ(メタ)アクリレートとして、例えば4−(4−(メタ)アクリロイロキシ−フェニル)−シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−{4−[4−(2−(メタ)アクリロイロキシ−エトキシ)−フェニル]−シクロヘキシロキシ}−エチル(メタ)アクリレートなどを;
2,2−ジフェニルプロパン構造を有するジ(メタ)アクリレートとして、例えば4−[1−(4−(メタ)アクリロイロキシ−フェニル)−1−メチル−エチル]−フェニル(メタ)アクリレート、2−(4−{1−[4−(2−(メタ)アクリロイロキシ−エトキシ)−フェニル]−1−メチル−エチル}−フェノキシ)−エチル(メタ)アクリレート、エトキシ−ビスフェノールAジ(メタ)アクリレートなどを;
ジフェニルメタン構造を有するジ(メタ)アクリレートとして、例えば4−(4−(メタ)アクリロイロキシ−ベンジル)−フェニル(メタ)アクリレート、2−{4−[4−(2−(メタ)アクリロイロキシ−エトキシ)−ベンジル]−フェニル}−エチル(メタ)アクリレート、ビスフェノールFのエチレンオキシド付加物のジ(メタ)アクリレートなどを、それぞれ挙げることができる。
Specific examples of the compound (d2) include di (meth) acrylate having a biphenyl structure, such as 4 ′-(meth) acryloyloxy-biphenyl-4-yl-acrylate, 2- [4 ′-(2- (meta ) Acryloyloxy-ethoxy) -biphenyl-4-yloxy] -ethyl (meth) acrylate, 2- (2- {4 '-[2- (2- (meth) acryloyloxy-ethoxy) -ethoxy] -biphenyl-4-iroxy } -Ethoxy) -ethyl acrylate, bishydroxyethoxybiphenyl di (meth) acrylate and the like;
Examples of the di (meth) acrylate having a phenyl-cyclohexyl structure include 4- (4- (meth) acryloyloxy-phenyl) -cyclohexyl (meth) acrylate, 2- {4- [4- (2- (meth) acryloyloxy-ethoxy). ) -Phenyl] -cyclohexyloxy} -ethyl (meth) acrylate and the like;
Examples of the di (meth) acrylate having a 2,2-diphenylpropane structure include 4- [1- (4- (meth) acryloyloxy-phenyl) -1-methyl-ethyl] -phenyl (meth) acrylate, 2- (4 -{1- [4- (2- (meth) acryloyloxy-ethoxy) -phenyl] -1-methyl-ethyl} -phenoxy) -ethyl (meth) acrylate, ethoxy-bisphenol A di (meth) acrylate and the like;
Examples of the di (meth) acrylate having a diphenylmethane structure include 4- (4- (meth) acryloyloxy-benzyl) -phenyl (meth) acrylate, 2- {4- [4- (2- (meth) acryloyloxy-ethoxy)- Benzyl] -phenyl} -ethyl (meth) acrylate, di (meth) acrylate of an ethylene oxide adduct of bisphenol F, and the like.

上記化合物(d3)の具体例としては、例えばトリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、トリ(2−アクリロイルオキシエチル)フォスフェート、トリ(2−メタクリロイルオキシエチル)フォスフェートなどを挙げることができる。   Specific examples of the compound (d3) include, for example, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, Examples thereof include dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, tri (2-acryloyloxyethyl) phosphate, and tri (2-methacryloyloxyethyl) phosphate.

本発明で使用されるラジカル重合性化合物としては、化合物(d1)または化合物(d2)が好ましく、特に上記式(d1)におけるn5が2または3であって且つn6が1である化合物(d1)、上記式(d1)におけるRIIIがステロイド骨格を有する炭素数17〜51の炭化水素基である化合物(d1)またはビフェニル構造を有するジ(メタ)アクリレートである化合物(d2)が好ましい。
ラジカル重合性化合物の使用割合は、(B)第二の重合体100重量部に対して、好ましくは50重量部以下であり、より好ましくは1〜50重量部であり、さらに好ましくは3〜30重量部であり、特に5〜15重量部であることが好ましい。このような使用割合とすることにより、製造される液晶表示素子の電圧保持率の低下という不都合を生じることなく、該化合物に所期する効果を有効に発現することができる。
As the radically polymerizable compound used in the present invention, the compound (d1) or the compound (d2) is preferable, and in particular, the compound (d1) in which n5 is 2 or 3 and n6 is 1 in the above formula (d1). The compound (d1) in which R III in the above formula (d1) is a hydrocarbon group having 17 to 51 carbon atoms having a steroid skeleton or the di (meth) acrylate having a biphenyl structure is preferable.
The use ratio of the radical polymerizable compound is preferably 50 parts by weight or less, more preferably 1 to 50 parts by weight, and further preferably 3 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (B) second polymer. Parts by weight, particularly 5 to 15 parts by weight. By setting it as such a use ratio, the effect expected of this compound can be effectively expressed, without producing the problem of the fall of the voltage holding rate of the liquid crystal display element manufactured.

[エポキシ化合物]
上記エポキシ基化合物としては、分子内に少なくとも2つのエポキシ基を有する化合物であることが好ましく、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、2,2−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N−ジグリシジル−ベンジルアミン、N,N−ジグリシジル−アミノメチルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−シクロヘキシルアミンなどを好ましいものとして挙げることができる。
これらエポキシ化合物の配合割合は、(B)第二の重合体100重量部に対して、好ましくは10重量部以下であり、より好ましくは5重量部以下である。
[Epoxy compound]
The epoxy group compound is preferably a compound having at least two epoxy groups in the molecule, such as ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, Polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, N, N , N ′, N′-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane Sun, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodiphenylmethane, N, N-diglycidyl-benzylamine, N, N-diglycidyl-aminomethylcyclohexane, N, N-diglycidyl-cyclohexylamine Etc. can be mentioned as preferred.
The blending ratio of these epoxy compounds is preferably 10 parts by weight or less, more preferably 5 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the (B) second polymer.

[官能性シラン化合物]
上記官能性シラン化合物としては、例えば3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、2−アミノプロピルトリメトキシシラン、2−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、N−トリメトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、10−トリメトキシシリル−1,4,7−トリアザデカン、10−トリエトキシシリル−1,4,7−トリアザデカン、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、9−トリエトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノナン酸メチル、9−トリエトキシシリル−3,6−ジアザノナン酸メチル、N−ベンジル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−ベンジル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリエトキシシラン、2―グリシドキシエチルトリメトキシシラン、2―グリシドキシエチルトリエトキシシラン、3―グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3―グリシドキシプロピルトリエトキシシランなどを挙げることができる。
これら官能性シラン含有化合物の配合割合は、(B)第二の重合体100重量部に対して、好ましくは2重量部以下であり、より好ましくは0.2重量部以下である。
[Functional silane compounds]
Examples of the functional silane compound include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl)- 3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyl Trimethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-triethoxysilylpropyltriethylenetriamine, N-trimethoxysilylpropyltriethylenetriamine, 10-trimethoxysilyl-1,4 7 Toriazadekan, 10-triethoxysilyl-1,4,7 Toriazadekan, 9-trimethoxysilyl-3,6-diaza-nonyl acetate, 9 - triethoxysilyl-3,6-diaza-nonyl acetate, 9- Methyl trimethoxysilyl-3,6-diazananoate, methyl 9-triethoxysilyl-3,6-diazananoate, N-benzyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-benzyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltriethoxysilane, glycidoxymethyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltriethoxysilane, 2-glycidoxyethyltrimethoxysilane, 2-glycidoxyethyltriethoxysilane, 3 Glycidoxypropyltrimethoxysilane, and 3-glycidoxypropyl triethoxy silane and the like.
The blending ratio of these functional silane-containing compounds is preferably 2 parts by weight or less, more preferably 0.2 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the (B) second polymer.

<重合体組成物>
本発明において用いられる重合体組成物は、上記の如き(A)第一の重合体および(B)第二の重合体ならびに任意的に用いられるその他の成分を、適当な有機溶媒に溶解した溶液として調製されることが好ましい。
ここで使用することができる有機溶媒としては、例えばN−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタム、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコール−i−プロピルエーテル、エチレングリコール−n−ブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジイソブチルケトン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテルなどを挙げることができる。
有機溶媒の使用割合としては、重合体組成物の固形分濃度(重合体組成物中の有機溶媒以外の成分の合計重量が重合体組成物の全重量に占める割合)が1〜15重量%となる割合とすることが好ましく、1.5〜8重量%となる割合とすることがより好ましい。
<Polymer composition>
The polymer composition used in the present invention is a solution in which the above-mentioned (A) first polymer and (B) second polymer and other optional components are dissolved in a suitable organic solvent. It is preferable to be prepared as
Examples of the organic solvent that can be used here include N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, γ-butyrolactam, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, and 4-hydroxy-4-methyl. -2-pentanone, ethylene glycol monomethyl ether, butyl lactate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol -I-propyl ether, ethylene glycol-n-butyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether Ter, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diisobutyl ketone, isoamyl propionate, isoamyl isobutyrate, diisopentyl ether and the like.
As the use ratio of the organic solvent, the solid content concentration of the polymer composition (the ratio of the total weight of components other than the organic solvent in the polymer composition to the total weight of the polymer composition) is 1 to 15% by weight. It is preferable to set it as the ratio which becomes 1.5 to 8 weight%.

<<液晶表示素子の製造方法>>
本発明の液晶表示素子の製造方法は、
導電膜を有する一対の基板の該導電膜上に、それぞれ、上記の如き重合体組成物を塗布して塗膜を形成し、
前記塗膜を形成した一対の基板の前記塗膜が、液晶分子の層を介して相対して対向配置した構成の液晶セルを形成し、
前記一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する工程を経ることを特徴とする。
ここで、基板としては例えばフロートガラス、ソーダガラスの如きガラス;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネートの如きプラスチックなどからなる透明基板などを用いることができる。
上記導電膜としては、透明導電膜を用いることが好ましく、例えばSnOからなるNESA膜、In−SnOからなるITO膜などを用いることができる。この導電膜は、それぞれ、複数の領域に区画されたパターン状導電膜であることが好ましい。このような導電膜構成とすれば、導電膜間に電圧を印加する際(後述)にこの各領域ごとに異なる電圧を印加することによって各領域ごとに液晶分子のプレチルト角の方向を変えることができ、これにより視野角特性をより広くすることが可能となる。
<< Method for Manufacturing Liquid Crystal Display Element >>
The method for producing the liquid crystal display element of the present invention comprises:
On each of the conductive films of a pair of substrates having a conductive film, a coating film is formed by applying the polymer composition as described above,
The coating film of the pair of substrates on which the coating film is formed forms a liquid crystal cell having a configuration in which the coating film is opposed to each other through a layer of liquid crystal molecules,
A step of irradiating the liquid crystal cell with light while applying a voltage between the conductive films of the pair of substrates is characterized.
Here, as the substrate, for example, a glass such as float glass or soda glass; a transparent substrate made of a plastic such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethersulfone, or polycarbonate can be used.
As the conductive film, a transparent conductive film is preferably used. For example, a NESA film made of SnO 2 or an ITO film made of In 2 O 3 —SnO 2 can be used. Each of the conductive films is preferably a patterned conductive film partitioned into a plurality of regions. With such a conductive film configuration, when a voltage is applied between the conductive films (described later), the direction of the pretilt angle of the liquid crystal molecules can be changed for each region by applying a different voltage for each region. This makes it possible to further widen the viewing angle characteristics.

かかる基板の該導電膜上に、重合体組成物を塗布するには、例えばロールコーター法、スピンナー法、印刷法、インクジェット法などの適宜の塗布方法によることができる。塗布後、該塗布面を、予備加熱(プレベーク)し、次いで焼成(ポストベーク)することにより塗膜を形成する。プレベーク条件は、例えば40〜120℃において0.1〜5分であり、ポストベーク条件は、好ましくは120〜300℃、より好ましくは150〜250℃において、好ましくは5〜200分、より好ましくは10〜100分である。ポストベーク後の塗膜の膜厚は、好ましくは0.001〜1μmであり、より好ましくは0.005〜0.5μmである。
このようにして形成された塗膜はこれをそのまま次工程の液晶セルの製造に供してもよく、あるいは液晶セルの製造に先んじて必要に応じて塗膜面に対するラビング処理を行ってもよい。このラビング処理は、塗膜面に対して、例えばナイロン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦ることにより行うことができる。ここで、特許文献1(特開平5−107544号公報)に記載されているように、一旦ラビング処理を行った後に塗膜面の一部にレジスト膜を形成し、さらに先のラビング処理と異なる方向にラビング処理を行った後にレジスト膜を除去する処理を行い、領域ごとに異なるラビング方向とすることによって、得られる液晶表示素子の視界特性をさらに改善することが可能である。
In order to apply the polymer composition onto the conductive film of the substrate, for example, an appropriate application method such as a roll coater method, a spinner method, a printing method, or an ink jet method can be used. After coating, the coated surface is preheated (prebaked) and then baked (postbaked) to form a coating film. The pre-bake conditions are, for example, 0.1 to 5 minutes at 40 to 120 ° C., and the post-bake conditions are preferably 120 to 300 ° C., more preferably 150 to 250 ° C., preferably 5 to 200 minutes, more preferably 10 to 100 minutes. The film thickness of the coating film after post-baking is preferably 0.001-1 μm, more preferably 0.005-0.5 μm.
The coating film thus formed may be used as it is for the production of a liquid crystal cell in the next step, or may be subjected to a rubbing treatment on the coating surface as necessary prior to the production of the liquid crystal cell. The rubbing treatment can be performed by rubbing the coating film surface in a certain direction with a roll wound with a cloth made of fibers such as nylon, rayon, and cotton. Here, as described in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. 5-107544), a resist film is formed on a part of the coating surface after once rubbing, and is different from the previous rubbing. By performing a process of removing the resist film after performing the rubbing process in the direction and setting the rubbing direction to be different for each region, it is possible to further improve the visual field characteristics of the obtained liquid crystal display element.

次いで、前記塗膜を形成した一対の基板の前記塗膜が、液晶分子の層を介して相対して対向配置した構成の液晶セルを形成する。
ここで使用される液晶分子としては、負の誘電異方性を有するネマティック型液晶が好ましく、例えばジシアノベンゼン系液晶、ピリダジン系液晶、シッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶などを用いることができる。液晶分子の層の厚さは、1〜5μmとすることが好ましい。
かかる液晶を用いて液晶セルを形成するには、例えば以下の2つの方法を挙げることができる。
第一の方法としては、それぞれの液晶配向膜が対向するように間隙(セルギャップ)を介して2枚の基板を対向配置し、2枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面およびシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶を注入充填した後、注入孔を封止することにより、液晶セルを製造することができる。あるいは第二の方法として、液晶配向膜を形成した2枚の基板のうちの一方の基板上の所定の場所に例えば紫外光硬化性のシール剤を塗布し、さらに液晶配向膜面上に液晶を滴下した後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせ、次いで基板の全面に紫外光を照射してシール剤を硬化することにより、液晶セルを製造することができる。
Next, a liquid crystal cell having a configuration in which the coating film of the pair of substrates on which the coating film is formed is disposed to face each other through a layer of liquid crystal molecules is formed.
The liquid crystal molecules used here are preferably nematic liquid crystals having negative dielectric anisotropy, such as dicyanobenzene liquid crystals, pyridazine liquid crystals, Schiff base liquid crystals, azoxy liquid crystals, biphenyl liquid crystals, phenyl cyclohexane liquid crystals. Etc. can be used. The thickness of the liquid crystal molecule layer is preferably 1 to 5 μm.
In order to form a liquid crystal cell using such a liquid crystal, for example, the following two methods can be mentioned.
As a first method, two substrates are arranged to face each other through a gap (cell gap) so that the respective liquid crystal alignment films face each other, and the peripheral portions of the two substrates are bonded together using a sealant, A liquid crystal cell can be manufactured by injecting and filling liquid crystal into the cell gap defined by the substrate surface and the sealing agent and then sealing the injection hole. Alternatively, as a second method, for example, an ultraviolet light curable sealant is applied to a predetermined location on one of the two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed, and the liquid crystal is applied onto the liquid crystal alignment film surface. After the dropping, the other substrate is bonded so that the liquid crystal alignment films face each other, and then the entire surface of the substrate is irradiated with ultraviolet light to cure the sealant, whereby a liquid crystal cell can be produced.

その後、前記一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する。
ここで印加する電圧は、例えば5〜50Vの直流または交流とすることができる。
照射する光としては、例えば150〜800nmの波長の光を含む紫外線および可視光線を用いることができるが、300〜400nmの波長の光を含む紫外線が好ましい。照射光の光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマーレーザーなどを使用することができる。前記の好ましい波長領域の紫外線は、前記光源を、例えばフィルター、回折格子などと併用する手段などにより得ることができる。
光の照射量としては、好ましくは1,000J/m以上100,000J/m未満であり、より好ましくは1,000〜50,000J/mである。従来知られているPSAモードの液晶表示素子の製造においては、100,000J/m程度の光を照射することが必要であったが、本発明の方法においては、光照射量を50,000J/m以下、さらに10,000J/m以下とした場合であっても所望の液晶表示素子を得ることができ、液晶表示素子の製造コストの削減に資するほか、強い光の照射に起因する電気特性の低下、長期信頼性の低下を回避することができる。
そして、上記のような処理を施した後の液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせることにより、液晶表示素子を得ることができる。ここで使用される偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「H膜」と呼ばれる偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板、またはH膜そのものからなる偏光板などを挙げることができる。
Thereafter, the liquid crystal cell is irradiated with light while a voltage is applied between the conductive films of the pair of substrates.
The voltage applied here can be, for example, 5 to 50 V direct current or alternating current.
As light to irradiate, for example, ultraviolet light and visible light including light having a wavelength of 150 to 800 nm can be used, but ultraviolet light including light having a wavelength of 300 to 400 nm is preferable. As a light source of irradiation light, for example, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a deuterium lamp, a metal halide lamp, an argon resonance lamp, a xenon lamp, an excimer laser, or the like can be used. The ultraviolet rays in the preferable wavelength region can be obtained by means of using the light source in combination with, for example, a filter or a diffraction grating.
The amount of light irradiation is preferably 1,000 J / m 2 or more and less than 100,000 J / m 2 , more preferably 1,000 to 50,000 J / m 2 . In the manufacture of a conventionally known PSA mode liquid crystal display element, it was necessary to irradiate light of about 100,000 J / m 2. In the method of the present invention, the amount of light irradiation was set to 50,000 J / M 2 or less, and even if it is 10,000 J / m 2 or less, a desired liquid crystal display element can be obtained, which contributes to a reduction in manufacturing cost of the liquid crystal display element and is caused by irradiation with strong light. It is possible to avoid deterioration of electrical characteristics and long-term reliability.
And a liquid crystal display element can be obtained by bonding a polarizing plate to the outer surface of the liquid crystal cell after performing the above-mentioned treatment. As a polarizing plate used here, a polarizing plate formed by sandwiching a polarizing film called an “H film” in which iodine is absorbed while stretching and aligning polyvinyl alcohol with a cellulose acetate protective film, or a polarizing plate made of the H film itself, etc. Can be mentioned.

<<液晶表示素子>>
本発明の方法により上記の如くして製造される液晶表示素子は、視野角が広く、液晶分子の応答速度が極めて速く、表示特性および長期信頼性の双方に優れるものであり、しかも製造コストが削減された安価なものであるため、2次元表示および3次元表示の液晶テレビジョンを含む種々の用途に好適に適用することができる。
<< Liquid crystal display element >>
The liquid crystal display device manufactured as described above by the method of the present invention has a wide viewing angle, extremely high response speed of liquid crystal molecules, excellent both display characteristics and long-term reliability, and has a low manufacturing cost. Since it is reduced and inexpensive, it can be suitably applied to various uses including liquid crystal televisions for two-dimensional display and three-dimensional display.

<(A)第一の重合体の合成>
合成例S−1
[加水分解縮合反応]
撹拌機、温度計、滴下漏斗および還流冷却管を備えた反応容器に、加水分解性シラン化合物として2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(ECETS)73.9およびγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン(GMPTS)24.8g(ECETS:GMPTS=75:25(モル比))ならびに溶媒としてメチルイソブチルケトン500gおよび触媒としてトリエチルアミン10.0gを仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水100gを滴下漏斗より30分かけて滴下した後、還流下で撹拌しつつ、80℃で6時間反応を行った。反応終了後、有機層を取り出し、0.2重量%硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒および水を留去することにより、エポキシ基を有する加水分解縮合物を粘調な透明液体として得た。
この加水分解縮合物について、H−NMR分析を行なったところ、化学シフト(δ)=3.2ppm付近にエポキシ基に基づくピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。
<(A) Synthesis of first polymer>
Synthesis Example S-1
[Hydrolysis condensation reaction]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel and reflux condenser, 73.9 g of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (ECETS) as a hydrolyzable silane compound and γ-methacrylate. 14.8 g of roxypropyltrimethoxysilane (GMPTS) (ECETS: GMPTS = 75: 25 (molar ratio)), 500 g of methyl isobutyl ketone as a solvent and 10.0 g of triethylamine as a catalyst were charged and mixed at room temperature. Next, 100 g of deionized water was dropped from the dropping funnel over 30 minutes, and the reaction was performed at 80 ° C. for 6 hours while stirring under reflux. After completion of the reaction, the organic layer is taken out, washed with 0.2 wt% ammonium nitrate aqueous solution until the water after washing becomes neutral, and then the solvent and water are distilled off under reduced pressure to hydrolyze having an epoxy group. The condensate was obtained as a viscous transparent liquid.
When this hydrolyzed condensate was subjected to 1 H-NMR analysis, a peak based on an epoxy group was obtained in the vicinity of chemical shift (δ) = 3.2 ppm according to the theoretical intensity, and a side reaction of the epoxy group occurred during the reaction. It was confirmed that this was not happening.

[エポキシ基を有する加水分解縮合物とカルボン酸との反応]
200mLの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基を有する加水分解縮合物に、溶媒としてメチルイソブチルケトン30.0g、カルボン酸として4−オクチロキシ安息香酸(OCTBA)30.0g(上記加水分解縮合物の有するエポキシ基に対して30モル%に相当する。)および触媒としてUCAT 18X(商品名、サンアプロ(株)製の、エポキシ化合物の硬化促進剤である。)0.10gを仕込み、100℃で48時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルを加えて得た有機層を3回水洗し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥した後、溶剤を留去することにより、(A)第一の重合体であるポリオルガノシロキサン(PS−1)を100.2g得た。このポリオルガノシロキサン(PS−1)につき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量Mwは7,100であった。
[Reaction of hydrolysis condensate having epoxy group with carboxylic acid]
In a 200 mL three-necked flask, 30.0 g of methyl isobutyl ketone as a solvent and 30.0 g of 4-octyloxybenzoic acid (OCTBA) as a carboxylic acid were added to the hydrolysis condensate having the epoxy group obtained above. 0.10 g of UCAT 18X (trade name, manufactured by San Apro Co., Ltd., an epoxy compound curing accelerator) as a catalyst, and 48 at 100 ° C. The reaction was performed with stirring for a period of time. After completion of the reaction, the organic layer obtained by adding ethyl acetate to the reaction mixture was washed with water three times, dried using magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off to obtain (A) the first polymer, which is a polymer. 100.2g of organosiloxane (PS-1) was obtained. About this polyorganosiloxane (PS-1), the weight average molecular weight Mw in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) was 7,100.

合成例S−2〜S−6、S−10,S−11およびS−16
[加水分解縮合反応]および[エポキシ基を有する加水分解縮合物とカルボン酸との反応]
上記合成例S−1において、第1表に記載した種類および量の加水分解性シラン化合物およびカルボン酸をそれぞれ用いたほかは合成例S−1と同様にして加水分解縮合反応および加水分解縮合物とカルボン酸との反応を行うことにより、(A)第一の重合体であるポリオルガノシロキサン(PS−2)〜(PS−6)、(S−10)、(S−11)および(S−16)をそれぞれ得た。これらポリオルガノシロキサンの収量およびMwを第1表に合わせて示した。なお、合成例S−3〜S−5およびS−16においてはカルボン酸をそれぞれ2種類ずつ使用した。合成例S−6は比較合成例である。
Synthesis Examples S-2 to S-6, S-10, S-11 and S-16
[Hydrolysis condensation reaction] and [Reaction of hydrolysis condensation product having epoxy group with carboxylic acid]
In the synthesis example S-1, the hydrolytic condensation reaction and hydrolysis condensate were the same as in the synthesis example S-1, except that the types and amounts of hydrolyzable silane compounds and carboxylic acids described in Table 1 were used. and by carrying out the reaction of a carboxylic acid, (a) a polyorganosiloxane which is a first polymer (PS-2) ~ (PS -6), (P S-10), and (P S-11) the (P S- 16) were obtained, respectively. The yield and Mw of these polyorganosiloxanes are shown in Table 1. In Synthesis Examples S-3 to S-5 and S-16, two carboxylic acids were used. Synthesis Example S-6 is a comparative synthesis example.

合成例S−7〜S−9
[加水分解縮合反応]
上記合成例S−1において、第1表に記載した種類および量の加水分解性シラン化合物用いたほかは合成例S−1と同様にして加水分解縮合反応を行うことにより、(A)第一の重合体であるポリオルガノシロキサン(PS−7)〜(PS−9)をそれぞれ得た。これらポリオルガノシロキサンの収量およびMwを第1表に合わせて示した。
Synthesis Examples S-7 to S-9
[Hydrolysis condensation reaction]
In the synthesis example S-1, a hydrolytic condensation reaction was performed in the same manner as in the synthesis example S-1 except that the kind and amount of the hydrolyzable silane compound described in Table 1 were used. Polyorganosiloxanes (PS-7) to (PS-9) as one polymer were obtained. The yield and Mw of these polyorganosiloxanes are shown in Table 1.

合成例S−12
[加水分解縮合反応]
上記合成例S−1において、第1表に記載した種類および量の加水分解性シラン化合物用いたほかは合成例S−1と同様にして加水分解縮合反応を行うことにより、アクリロイル基を有する加水分解縮合物を粘調な透明液体として得た。
[アクリロイル基を有する加水分解縮合物と求核性化合物(チオール)との反応]
撹拌機および温度計を備えた500mLの三口フラスコに、上記加水分解縮合物165.3g、求核性化合物としてn−ドデシル−1−チオール(DT)60.7g、溶媒としてアセトニトリル160mLおよび触媒としてトリエチルアミン22.3gを仕込み、50℃に昇温して90分攪拌し、反応を実施した。反応終了後、有機層を取り出し、0.2重量%硝酸アンモニウム水溶液によって洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒および触媒を留去することにより、(A)第一の重合体であるポリオルガノシロキサン(S−12)を粘調な透明液体として225.3g得た。このポリオルガノシロキサン(PS−12)につき、GPCにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量Mwは7,400であった。
Synthesis Example S-12
[Hydrolysis condensation reaction]
In the above Synthesis Example S-1, the hydrolysis and condensation reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example S-1 except that the kind and amount of the hydrolyzable silane compound described in Table 1 were used. The decomposition condensate was obtained as a viscous transparent liquid.
[Reaction of hydrolysis condensate having acryloyl group with nucleophilic compound (thiol)]
In a 500 mL three-necked flask equipped with a stirrer and a thermometer, 165.3 g of the above hydrolysis condensate, 60.7 g of n-dodecyl-1-thiol (DT) as a nucleophilic compound, 160 mL of acetonitrile as a solvent, and triethylamine as a catalyst 22.3g was prepared, it heated up at 50 degreeC and stirred for 90 minutes, and reaction was implemented. After completion of the reaction, the organic layer was taken out and washed with a 0.2 wt% aqueous ammonium nitrate solution until the water after washing became neutral, and then the solvent and catalyst were distilled off under reduced pressure, whereby (A) the first a polymer polyorganosiloxane (P S-12) was obtained 225.3g as a viscous clear liquid. About this polyorganosiloxane (PS-12), the weight average molecular weight Mw in terms of polystyrene measured by GPC was 7,400.

合成例S−13
[加水分解縮合反応]
上記合成例S−1において、第1表に記載した種類および量の加水分解性シラン化合物用いたほかは合成例S−1と同様にして加水分解縮合反応を行うことにより、アクリロイル基を有する加水分解縮合物を粘調な透明液体として得た。
[アクリロイル基を有する加水分解縮合物と求核性化合物(アミン)との反応]
撹拌機および温度計を備えた500mLの三口フラスコに、上記で得た加水分解縮合物165.3g、求核性化合物(アミン)としてジ−n−オクチルアミン(DOA)48.3gおよび溶媒としてアセトニトリル160mLを仕込み、50℃に昇温して6時間攪拌し、反応を実施した。反応終了後、有機層を取り出し、0.2重量%硝酸アンモニウム水溶液によって洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒を留去することにより、ジオクチルアミノ基を有する(A)第一の重合体であるポリオルガノシロキサン(S−13)を粘調な透明液体として212.2g得た。このポリオルガノシロキサン(S−13)につき、GPCにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量Mwは7,200であった。
Synthesis Example S-13
[Hydrolysis condensation reaction]
In the above Synthesis Example S-1, the hydrolysis and condensation reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example S-1 except that the kind and amount of the hydrolyzable silane compound described in Table 1 were used. The decomposition condensate was obtained as a viscous transparent liquid.
[Reaction of hydrolysis condensate having acryloyl group with nucleophilic compound (amine)]
In a 500 mL three-necked flask equipped with a stirrer and a thermometer, 165.3 g of the hydrolysis condensate obtained above, 48.3 g of di-n-octylamine (DOA) as a nucleophilic compound (amine) and acetonitrile as a solvent 160 mL was charged, heated to 50 ° C. and stirred for 6 hours to carry out the reaction. After completion of the reaction, the organic layer is taken out and washed with 0.2 wt% ammonium nitrate aqueous solution until the water after washing becomes neutral, and then the solvent is distilled off under reduced pressure to have a dioctylamino group (A) the polyorganosiloxane (P S- 13) a first polymer was obtained 212.2g as a viscous clear liquid. The polyorganosiloxane per siloxane (P S- 13), the weight average molecular weight Mw in terms of polystyrene measured by GPC was 7,200.

合成例S−14およびS−15
[加水分解縮合反応]および[アクリロイル基を有する加水分解縮合物と求核性化合物(チオール)との反応]
上記合成例S−12において、第1表に記載した種類および量の加水分解性シラン化合物および求核性化合物(チオール)をそれぞれ用いたほかは合成例S−12と同様にして加水分解縮合反応および加水分解縮合物と求核性化合物との反応を行うことにより、(A)第一の重合体であるポリオルガノシロキサン(PS−14)および(S−15)をそれぞれ得た。これらポリオルガノシロキサンの収量およびMwを第1表に合わせて示した。
Synthesis Examples S-14 and S-15
[Hydrolysis condensation reaction] and [Reaction between hydrolysis condensation product having acryloyl group and nucleophilic compound (thiol)]
In the above Synthesis Example S-12, the hydrolysis and condensation reaction was carried out in the same manner as in Synthesis Example S-12 except that the types and amounts of the hydrolyzable silane compound and nucleophilic compound (thiol) described in Table 1 were used. and by performing the reaction with the hydrolysis-condensation product with a nucleophilic compound, was obtained, respectively (a) a polyorganosiloxane which is a first polymer (PS-14) and (P S-15). The yield and Mw of these polyorganosiloxanes are shown in Table 1.

合成例S−17
[アクリロイル基を有するシルセスキオキサンと求核性化合物(チオール)との反応]
上記合成例S−12において、合成した加水分解縮合物の代わりにアクリロイル基を有するシルセスキオキサンであるAC−SQ TA−100(東亞合成(株)製)165.0gをい、求核性化合物であるn−ドデシル−1−チオール(DT)の使用量を40.5gとしたほかは合成例S−12における加水分解縮合物と求核性化合物との反応と同様にして実施し、(A)第一の重合体であるポリオルガノシロキサン(PS−17)を得た。このポリオルガノシロキサンの収量およびMwを第1表に合わせて示した。
Synthesis Example S-17
[Reaction of silsesquioxane having acryloyl group with nucleophilic compound (thiol)]
In Synthesis Example S-12, have use synthesized AC-SQ TA-100 (manufactured by Toagosei Co., Ltd.) is a silsesquioxane having an acryloyl group in place of the hydrolysis condensate of 165.0G, nucleophilic Except that the amount used of n-dodecyl-1-thiol (DT), which is a functional compound, was 40.5 g, was carried out in the same manner as in the reaction of the hydrolytic condensate with the nucleophilic compound in Synthesis Example S-12, (A) A polyorganosiloxane (PS-17) as the first polymer was obtained. The yield and Mw of this polyorganosiloxane are shown in Table 1.

第1表における各化合物の略称は、それぞれ以下の意味である。
{加水分解性シラン化合物}
ECETS:2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン
GMPTS:γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン
GAPTS:γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン
{アクリロイル基を有するシルセスキオキサン}
ACSQ:品名「AC−SQ TA−100」、東亞合成(株)製
{カルボン酸}
OCTBA:4−オクチロキシ安息香酸
ACRYA:アクリル酸
AEHEP:2−アクリロキシエチル−2−ヒドロキシエチル−フタル酸
MACBA:4−(2−メチル−アクリロイロキシ)安息香酸
また、カルボン酸の使用量は、加水分解縮合物の有するエポキシ基に対するモル%である。合成例S−3〜S−5およびS−16においては、それぞれ2種類ずつのカルボン酸を使用した。
{求核性化合物}
チオール
DT:n−ドデシル−1−チオール
PCBT:4−(4’−ペンチルシクロヘキシル)フェニルチオール
BT:n−ブチル−1−チオール
アミン
DOA:ジ−n−オクチルアミン
第1表における「−−」の表記は、当該欄に相当する化合物を使用しなかったことを示す。
Abbreviations of each compound in Table 1 have the following meanings.
{Hydrolyzable silane compound}
ECETS: 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane GMPTS: γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane GAPTS: γ-acryloxypropyltrimethoxysilane {silsesquioxane having an acryloyl group}
ACSQ: Product name “AC-SQ TA-100”, manufactured by Toagosei Co., Ltd. {carboxylic acid}
OCTBA: 4-octyloxybenzoic acid ACYA: acrylic acid AEHEP: 2-acryloxyethyl-2-hydroxyethyl-phthalic acid MACBA: 4- (2-methyl-acryloyloxy) benzoic acid The amount of carboxylic acid used is hydrolysis It is mol% with respect to the epoxy group which a condensate has. In Synthesis Examples S-3 to S-5 and S-16, two types of carboxylic acids were used.
{Nucleophilic compound}
Thiol DT: n-dodecyl-1-thiol PCBT: 4- (4′-pentylcyclohexyl) phenylthiol BT: n-butyl-1-thiol amine DOA: di-n-octylamine “-” in Table 1 The notation indicates that the compound corresponding to the column was not used.

<(B)第二の重合体の合成>
合成例P−1
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物110g(0.50モル)、ジアミンとしてp−フェニレンジアミン43g(0.40モル)および3(3,5−ジアミノベンゾイルオキシ)コレスタン52g(0.10モル)をN−メチル−2−ピロリドン830gに溶解し、60℃で6時間反応を行った。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、N−メチル−2−ピロリドンを加えてポリアミック酸濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は60mPa・sであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にN−メチル−2−ピロリドン1,900gを追加し、ピリジン40gおよび無水酢酸51gを添加して110℃で4時間脱水閉環反応を行った。脱水閉環反応後、系内の溶剤を新たなN−メチル−2−ピロリドンで溶媒置換(本操作にて脱水閉環反応に使用したピリジンおよび無水酢酸を系外に除去した。)することにより、(B)第二の重合体である、イミド化率約50%のポリイミド(PI−1)を約15重量%含有する溶液を得た。得られたポリイミド溶液を少量分取し、N−メチル−2−ピロリドンを加えてポリイミド濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は47mPa・sであった。
<(B) Synthesis of second polymer>
Synthesis Example P-1
110 g (0.50 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride as tetracarboxylic dianhydride, 43 g (0.40 mol) of p-phenylenediamine as diamine and 3 (3,5-diaminobenzoyl) 52 g (0.10 mol) of oxy) cholestane was dissolved in 830 g of N-methyl-2-pyrrolidone and reacted at 60 ° C. for 6 hours. A small amount of the obtained polyamic acid solution was collected, and N-methyl-2-pyrrolidone was added to measure the solution viscosity as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by weight of 60 mPa · s.
Next, 1,900 g of N-methyl-2-pyrrolidone was added to the obtained polyamic acid solution, 40 g of pyridine and 51 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure reaction was performed at 110 ° C. for 4 hours. After the dehydration ring closure reaction, the solvent in the system was replaced with new N-methyl-2-pyrrolidone (pyridine and acetic anhydride used in the dehydration ring closure reaction were removed from the system by this operation) ( B) A solution containing about 15% by weight of polyimide (PI-1) having an imidization ratio of about 50%, which is the second polymer, was obtained. A small amount of the obtained polyimide solution was taken, N-methyl-2-pyrrolidone was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by weight was 47 mPa · s.

合成例P−2
テトラカルボン酸二無水物として1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物200g(1.0モル)およびジアミンとして2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル210g(1.0モル)をN−メチル−2−ピロリドン3,670gに溶解し、40℃で3時間反応を行うことにより、(B)第二の重合体であるポリアミック酸(PA−1)を10重量%含有する溶液を得た。このポリアミック酸溶液の溶液粘度は160mPa・sであった。
Synthesis Example P-2
200 g (1.0 mol) of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride as tetracarboxylic dianhydride and 210 g of 2,2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl as diamine (1. 0 mol) is dissolved in 3,670 g of N-methyl-2-pyrrolidone and reacted at 40 ° C. for 3 hours, whereby (B) 10% by weight of polyamic acid (PA-1) as the second polymer is obtained. A solution containing was obtained. The solution viscosity of this polyamic acid solution was 160 mPa · s.

合成例P−3
テトラカルボン酸二無水物として1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物98g(0.50モル)およびピロメリット酸二無水物110g(0.50モル)ならびにジアミンとして4,4’−ジアミノジフェニルメタン200g(1.0モル)をN−メチル−2−ピロリドン2,330gに溶解し、40℃で3時間反応を行った後、得られた反応混合物にN−メチル−2−ピロリドン1,350gを追加することにより、(B)第二の重合体であるポリアミック酸(PA−2)を10重量%含有する溶液を得た。このポリアミック酸溶液の溶液粘度は125mPa・sであった。
Synthesis Example P-3
1,2,3,4-Cyclobutanetetracarboxylic dianhydride 98 g (0.50 mol) and pyromellitic dianhydride 110 g (0.50 mol) as tetracarboxylic dianhydride and 4,4 ′ as diamine -After 200 g (1.0 mol) of diaminodiphenylmethane was dissolved in 2,330 g of N-methyl-2-pyrrolidone and reacted at 40 ° C. for 3 hours, N-methyl-2-pyrrolidone 1 was added to the resulting reaction mixture. , 350 g was added to obtain a solution containing 10% by weight of (B) the second polymer polyamic acid (PA-2). The solution viscosity of this polyamic acid solution was 125 mPa · s.

実施例1
<重合体組成物の調製>
(B)第二の重合体として上記合成例P−1で得たポリイミド(PI−1)100重量部を含有する溶液に、有機溶媒としてN−メチル−2−ピロリドン(NMP)およびブチルセロソルブ(BC)を加え、さらに(A)第一の重合体として上記合成例S−1で得たポリオルガノシロキサン(PS−1)を5重量部加えて、溶媒組成がNMP:BC=50:50(重量比)、固形分濃度6.0重量%の溶液とした。この溶液を孔径1μmのフィルターを用いてろ過することにより、重合体組成物を調製した。
<液晶セルの製造と評価>
上記で調製した重合体組成物を用いて、下記のように透明電極のパターン(2種類)および紫外線照射量(3水準)を変更して、計6個の液晶表示素子を製造し、評価した。
Example 1
<Preparation of polymer composition>
(B) In a solution containing 100 parts by weight of the polyimide (PI-1) obtained in Synthesis Example P-1 as the second polymer, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and butyl cellosolve (BC And 5 parts by weight of the polyorganosiloxane (PS-1) obtained in Synthesis Example S-1 as the first polymer, and the solvent composition is NMP: BC = 50: 50 (weight) Ratio), and a solution having a solid content concentration of 6.0% by weight. A polymer composition was prepared by filtering this solution using a filter having a pore size of 1 μm.
<Manufacture and evaluation of liquid crystal cells>
Using the polymer composition prepared above, a total of six liquid crystal display elements were manufactured and evaluated by changing the transparent electrode pattern (two types) and the ultraviolet irradiation amount (three levels) as follows. .

[パターンなし透明電極を有する液晶セルの製造]
上記で調製した重合体組成物を、液晶配向膜印刷機(日本写真印刷(株)製)を用いてITO膜からなる透明電極を有するガラス基板の透明電極面上に塗布し、80℃のホットプレート上で1分間加熱(プレベーク)して溶媒を除去した後、150℃のホットプレート上で10分間加熱(ポストベーク)して、平均膜厚600Åの塗膜を形成した。
この塗膜に対し、レーヨン布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロール回転数400rpm、ステージ移動速度3cm/秒、毛足押しこみ長さ0.1mmでラビング処理を行った。その後、超純水中で1分間超音波洗浄を行ない、次いで100℃クリーンオーブン中で10分間乾燥することにより、液晶配向膜を有する基板を得た。この操作を繰り返し、液晶配向膜を有する基板を一対(2枚)得た。
次に、上記一対の基板の液晶配向膜を有するそれぞれの外縁に、直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤を塗布した後、液晶配向膜面が相対するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化させた。次いで、液晶注入口より一対の基板間に、ネマチック型液晶(メルク社製、MLC−6608)を充填した後、アクリル系光硬化接着剤で液晶注入口を封止することにより、液晶セルを製造した。
上記の操作を繰り返し行い、パターンなし透明電極を有する液晶セルを3個製造した。そのうちの1個はそのまま後述のプレチルト角の評価に供した。残りの2個の液晶セルについては、それぞれ下記の方法により導電膜間に電圧を印加した状態で光照射した後にプレチルト角および電圧保持率の評価に供した。
上記で得た液晶セルのうちの2個について、それぞれ電極間に周波数60Hzの交流10Vを印加し、液晶が駆動している状態で、光源にメタルハライドランプを使用した紫外腺照射装置を用いて、紫外線を10,000J/mまたは100,000J/mの照射量にて照射した。なおこの照射量は、波長365nm基準で計測される光量計を用いて計測した値である。
[Production of liquid crystal cell having transparent electrode without pattern]
The polymer composition prepared above was applied onto a transparent electrode surface of a glass substrate having a transparent electrode made of an ITO film using a liquid crystal alignment film printer (Nissha Printing Co., Ltd.), and hot at 80 ° C. After removing the solvent by heating (pre-baking) on the plate for 1 minute, heating (post-baking) on a hot plate at 150 ° C. for 10 minutes to form a coating film having an average film thickness of 600 mm.
The coating film was rubbed with a rubbing machine having a roll wrapped with a rayon cloth at a roll rotation speed of 400 rpm, a stage moving speed of 3 cm / sec, and a hair foot indentation length of 0.1 mm. Thereafter, ultrasonic cleaning was performed in ultrapure water for 1 minute, followed by drying in a 100 ° C. clean oven for 10 minutes to obtain a substrate having a liquid crystal alignment film. This operation was repeated to obtain a pair (two) of substrates having a liquid crystal alignment film.
Next, after applying an epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 5.5 μm to the outer edges of the pair of substrates having the liquid crystal alignment film, the liquid crystal alignment film surfaces are overlapped and pressure bonded. The adhesive was cured. Next, after filling nematic liquid crystal (MLC-6608, manufactured by Merck & Co., Inc.) between a pair of substrates from the liquid crystal injection port, the liquid crystal injection port is sealed with an acrylic photo-curing adhesive to produce a liquid crystal cell. did.
The above operation was repeated to produce three liquid crystal cells having unpatterned transparent electrodes. One of them was used for the evaluation of the pretilt angle described later. The remaining two liquid crystal cells were irradiated with light in a state where a voltage was applied between the conductive films by the following method, and then subjected to evaluation of a pretilt angle and a voltage holding ratio.
For two of the liquid crystal cells obtained above, an alternating current of 10 Hz is applied between the electrodes, and the liquid crystal is driven, using an ultraviolet gland irradiation device using a metal halide lamp as the light source, UV was irradiated at dose of 10,000 J / m 2 or 100,000J / m 2. This irradiation amount is a value measured using a light meter that is measured on the basis of a wavelength of 365 nm.

[プレチルト角の評価]
上記で製造した各液晶セルについて、それぞれ非特許文献3(T. J. Scheffer et. al., J. Appl. Phys. vo. 48, p. 1783(1977))および非特許文献4(F. Nakano et. al., JPN. J. Appl. Phys. vo. 19, p. 2013(1980))に記載の方法に準拠してHe−Neレーザー光を用いる結晶回転法により測定した液晶分子の基板面からの傾き角の値をプレチルト角とした。
光未照射の液晶セル、照射量10,000J/mの液晶セルおよび照射量100,000J/mの液晶セルのそれぞれのプレチルト角を第3表に示した。
[電圧保持率の評価]
上記で製造した各液晶セルに対し、23℃において5Vの電圧を60マイクロ秒の印加時間、167ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から167ミリ秒後の電圧保持率を測定した。測定装置としては(株)東陽テクニカ製、VHR−1を使用した。
照射量10,000J/mの液晶セルおよび照射量100,000J/mの液晶セルのそれぞれの電圧保持率を第3表に示した。
[Evaluation of pretilt angle]
Regarding each of the liquid crystal cells manufactured as described above, Non-Patent Document 3 (T. J. Scheffer et. Al., J. Appl. Phys. Vo. 48, p. 1783 (1977)) and Non-Patent Document 4 (F. Substrate of liquid crystal molecules measured by a crystal rotation method using a He-Ne laser beam in accordance with the method described in Nakano et.al., JPN, J. Appl., Phys., Vo.19, p.2013 (1980)). The value of the tilt angle from the surface was defined as the pretilt angle.
The liquid crystal cell of not irradiated with light, the respective pre-tilt angle of the liquid crystal cell and the liquid crystal cells of the dose 100,000J / m 2 of dose 10,000 J / m 2 are shown in Table 3.
[Evaluation of voltage holding ratio]
For each of the liquid crystal cells produced above, a voltage of 5 V was applied at 23 ° C. with an application time of 60 microseconds and a span of 167 milliseconds, and then the voltage holding ratio after 167 milliseconds from the application release was measured. As a measuring device, VHR-1 manufactured by Toyo Corporation was used.
Table 3 shows voltage holding ratios of the liquid crystal cell with the irradiation amount of 10,000 J / m 2 and the liquid crystal cell with the irradiation amount of 100,000 J / m 2 .

[パターニングされた透明電極を有する液晶セルの製造(1)]
上記で調製した重合体組成物を、図1に示したようなスリット状にパターニングされ、複数の領域に区画されたITO電極をそれぞれ有するガラス基板AおよびBの各電極面上に液晶配向膜印刷機(日本写真印刷(株)製)を用いて塗布し、80℃のホットプレート上で1分間加熱(プレベーク)して溶媒を除去した後、150℃のホットプレート上で10分間加熱(ポストベーク)して、平均膜厚600Åの塗膜を形成した。この塗膜につき、超純水中で1分間超音波洗浄を行なった後、100℃クリーンオーブン中で10分間乾燥することにより、液晶配向膜を有する基板を得た。この操作を繰り返し、液晶配向膜を有する基板を一対(2枚)得た。
次いで、上記一対の基板の液晶配向膜を有するそれぞれの外縁に、直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤を塗布した後、液晶配向膜面が相対するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化した。次いで、液晶注入口より一対の基板間に、ネマチック型液晶(メルク社製、MLC−6608)を充填した後、アクリル系光硬化接着剤で液晶注入口を封止することにより、液晶セルを製造した。
上記の操作を繰り返し行い、パターニングされた透明電極を有する液晶セルを3個製造した。そのうちの1個はそのまま後述の応答速度の評価に供した。残りの2個の液晶セルについては、上記パターンなし透明電極を有する液晶セルの製造におけるのと同様の方法により、導電膜間に電圧を印加した状態で10,000J/mまたは100,000J/mの照射量にて光照射した後に応答速度の評価に供した。
なお、ここで用いた電極のパターンは、PSAモードにおける電極パターンと同種のパターンである。
[Production of Liquid Crystal Cell Having Patterned Transparent Electrode (1)]
The polymer composition prepared above is patterned into a slit shape as shown in FIG. 1, and a liquid crystal alignment film is printed on each electrode surface of glass substrates A and B each having an ITO electrode partitioned into a plurality of regions. Apply using a machine (Nissha Printing Co., Ltd.), heat on a hot plate at 80 ° C for 1 minute (pre-bake) to remove the solvent, then heat on a hot plate at 150 ° C for 10 minutes (post-bake) ) To form a coating film having an average film thickness of 600 mm. The coating film was subjected to ultrasonic cleaning for 1 minute in ultrapure water and then dried in a clean oven at 100 ° C. for 10 minutes to obtain a substrate having a liquid crystal alignment film. This operation was repeated to obtain a pair (two) of substrates having a liquid crystal alignment film.
Next, after applying an epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 5.5 μm to the outer edges of the pair of substrates having the liquid crystal alignment film, the liquid crystal alignment film surfaces are overlapped and pressure-bonded so as to face each other. The adhesive was cured. Next, after filling nematic liquid crystal (MLC-6608, manufactured by Merck & Co., Inc.) between a pair of substrates from the liquid crystal injection port, the liquid crystal injection port is sealed with an acrylic photo-curing adhesive to produce a liquid crystal cell. did.
The above operation was repeated to produce three liquid crystal cells having patterned transparent electrodes. One of them was used for evaluation of response speed as described later. For the remaining two liquid crystal cells, 10,000 J / m 2 or 100,000 J / m in a state where a voltage is applied between the conductive films by the same method as in the production of the liquid crystal cell having the transparent electrode without pattern. After irradiating with light at an irradiation amount of m 2 , the response speed was evaluated.
The electrode pattern used here is the same type as the electrode pattern in the PSA mode.

[応答速度の評価]
上記で製造した各液晶セルにつき、先ず電圧を印加せずに可視光ランプを照射して液晶セルを透過した光の輝度をフォトマルチメーターにて測定し、この値を相対透過率0%とした。次に液晶セルの電極間に交流60Vを5秒間印加したときの透過率を上記と同様にして測定し、この値を相対透過率100%とした。
このとき各液晶セルに対して交流60Vを印加したときに、相対透過率が10%から90%に移行するまでの時間を測定し、この時間を応答速度と定義して評価した。
光未照射の液晶セル、照射量10,000J/mの液晶セルおよび照射量100,000J/mの液晶セルのそれぞれの応答速度を第3表に示した。
[Evaluation of response speed]
For each of the liquid crystal cells produced above, first, the luminance of light transmitted through the liquid crystal cell by irradiating a visible light lamp without applying a voltage was measured with a photomultimeter, and this value was defined as a relative transmittance of 0%. . Next, the transmittance when AC 60 V was applied between the electrodes of the liquid crystal cell for 5 seconds was measured in the same manner as described above, and this value was defined as a relative transmittance of 100%.
At this time, when 60 V AC was applied to each liquid crystal cell, the time until the relative transmittance shifted from 10% to 90% was measured, and this time was defined as the response speed and evaluated.
The liquid crystal cell of not irradiated with light, each of the response speed of the liquid crystal cell and the liquid crystal cells of the dose 100,000J / m 2 of dose 10,000 J / m 2 are shown in Table 3.

[パターニングされた透明電極を有する液晶セルの製造(2)]
上記で調製した重合体組成物を用い、図2に示したようなフィッシュボーン状にパターニングされたITO電極をそれぞれ有するガラス基板AおよびBを使用したほかは、上記パターニングされた透明電極を有する液晶セルの製造(1)と同様にして、光未照射の液晶セル、照射量10,000J/mの液晶セルおよび照射量100,000J/mの液晶セルを製造し、それぞれ上記と同様にして応答速度の評価に供した。評価結果は第3表に示した。
[Production of Liquid Crystal Cell Having Patterned Transparent Electrode (2)]
A liquid crystal having the patterned transparent electrode except that glass substrates A and B each having ITO electrodes patterned in a fishbone shape as shown in FIG. 2 were used using the polymer composition prepared above. in the same manner as in preparation of the cell (1), a liquid crystal cell of not irradiated with light, a liquid crystal cell and a liquid crystal cell of the dose 100,000J / m 2 of dose 10,000 J / m 2 was produced, respectively in the same manner as described above The response speed was evaluated. The evaluation results are shown in Table 3.

実施例2〜23および27〜29
上記実施例1において、(A)第一の重合体および(B)第二の重合体の種類および使用量をそれぞれ第2表に記載のとおりとしたほかは、実施例1と同様にして重合体組成物を調製し、これを用いて各種液晶セルを製造して評価した。なお、実施例11、12、15〜17、22、28および29においては、(B)第二の重合体をそれぞれ2種類ずつ使用した。
評価結果は第3表に示した。
Examples 2-23 and 27-29
In Example 1 above, the weight and amount of (A) the first polymer and (B) the second polymer were set as shown in Table 2, respectively. A combined composition was prepared, and various liquid crystal cells were produced and evaluated using the combined composition. In Examples 11, 12, 15 to 17, 22, 28, and 29, two types of (B) second polymers were used.
The evaluation results are shown in Table 3.

実施例24
<重合体組成物の調製>
(B)第二の重合体として上記合成例P−1で得たポリイミド(PI−1)100重量部を含有する溶液に、有機溶媒としてN−メチル−2−ピロリドン(NMP)およびブチルセロソルブ(BC)を加え、ここに(A)第一の重合体として上記合成例S−1で得たポリオルガノシロキサン(PS−1)重量部およびラジカル重合性化合物としてメタクリル酸−5ξ−コレスタン−3−イル(MACY)5重量部を加えて、溶媒組成がNMP:BC=50:50(重量比)、固形分濃度6.0重量%の溶液とした。この溶液を孔径1μmのフィルターを用いてろ過することにより、重合体組成物を調製した。
<液晶セルの製造と評価>
上記で調製した重合性化合物を使用したほかは、実施例1と同様にして各種液晶セルを製造して評価した。
評価結果は第3表に示した。
Example 24
<Preparation of polymer composition>
(B) In a solution containing 100 parts by weight of the polyimide (PI-1) obtained in Synthesis Example P-1 as the second polymer, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and butyl cellosolve (BC ), And (A) 6 parts by weight of the polyorganosiloxane (PS-1) obtained in Synthesis Example S-1 as the first polymer and methacrylic acid-5ξ-cholestane-3- 5 parts by weight of yl (MACY) was added to obtain a solution having a solvent composition of NMP: BC = 50: 50 (weight ratio) and a solid content concentration of 6.0% by weight. A polymer composition was prepared by filtering this solution using a filter having a pore size of 1 μm.
<Manufacture and evaluation of liquid crystal cells>
Various liquid crystal cells were produced and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the polymerizable compound prepared above was used.
The evaluation results are shown in Table 3.

実施例25および26
上記実施例24において、ラジカル重合性化合物の種類および使用量をそれぞれ第2表に記載のとおりとしたほかは、実施例24と同様にして重合体組成物を調製し、これを用いて各種液晶セルを製造して評価した。なお、実施例25においてはラジカル重合性化合物を2種類使用した。
評価結果は第3表に示した。
Examples 25 and 26
In Example 24, a polymer composition was prepared in the same manner as in Example 24 except that the type and amount of the radical polymerizable compound were as shown in Table 2, and various liquid crystals were prepared using this. The cell was manufactured and evaluated. In Example 25, two types of radical polymerizable compounds were used.
The evaluation results are shown in Table 3.

比較例1
上記実施例1において、(A)第一の重合体を使用しなかったほかは、実施例1と同様にして重合体組成物を調製し、これを用いて各種液晶セルを製造して評価した。
評価結果は第3表に示した。
Comparative Example 1
In Example 1, except that (A) the first polymer was not used, a polymer composition was prepared in the same manner as in Example 1, and various liquid crystal cells were produced and evaluated using this. .
The evaluation results are shown in Table 3.

比較例2〜4
上記実施例1において、(A)第一の重合体の代わりに第2表に示したその他の重合体または化合物をそれぞれ第2表に示した量だけ用いたほかは、実施例1と同様にしてそれぞれ重合体組成物を調製し、これを用いて各種液晶セルを製造して評価した。
評価結果は第3表に示した。
Comparative Examples 2-4
Example 1 In the same manner as in Example 1 except that (A) the other polymer or compound shown in Table 2 was used in the amount shown in Table 2 instead of the first polymer. A polymer composition was prepared, and various liquid crystal cells were produced and evaluated using the polymer composition.
The evaluation results are shown in Table 3.

第2表における略称はそれぞれ以下の意味である。
[その他の化合物]
ra−1:下記式(ra−1)で表される化合物
ra−2:下記式(ra−2)で表される化合物
Abbreviations in Table 2 have the following meanings.
[Other compounds]
ra-1: Compound represented by the following formula (ra-1) ra-2: Compound represented by the following formula (ra-2)

[ラジカル重合性化合物]
MACY:メタクリル酸−5ξ−コレスタン−3−イル
PBCHPM:メタクリル酸 4−(4’−ペンチルビシクロへキシル−4−イル)フェニルエステル
HEIXA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
A−BP−2EO:2−[4’−(2−アクリロイロキシ−エトキシ)−ビフェニル−4−イロキシ]−エチルアクリレート
第1表における「−−」の表記は、当該欄に相当する化合物を使用しなかったことを示す。
[Radically polymerizable compound]
MACY: methacrylic acid-5ξ-cholestan-3-yl PBCHPM: methacrylic acid 4- (4′-pentylbicyclohexyl-4-yl) phenyl ester HEIXA: dipentaerythritol hexaacrylate A-BP-2EO: 2- [4 '-(2-acryloyloxy-ethoxy) -biphenyl-4-yloxy] -ethyl acrylate The notation "-" in Table 1 indicates that the compound corresponding to the column was not used.

第3表の結果から、本発明の方法においては、紫外線照射量を100,000J/m(PSAモードにおいて従来採用されている値である。)とすると得られるプレチルト角の程度が過剰となり、10,000J/mまたはそれ以下の照射量において適正なプレチルト角となることが分かる。また、照射量が少ない場合であっても十分に速い応答速度が得られており、さらに電圧保持率にも優れている。
従って、本発明の方法によれば、PSAモードのメリットを少ない光照射量で実現することができるから、高い光照射量に起因する表示ムラの発生、電圧保持特性の低下および長期信頼性の不足の懸念なしに、視野角が広く、液晶分子の応答速度が速く、透過率が高く、そしてコントラストが高い液晶表示素子を製造することができる。
From the results of Table 3, in the method of the present invention, when the ultraviolet irradiation amount is 100,000 J / m 2 (which is a value conventionally employed in the PSA mode), the degree of the pretilt angle obtained becomes excessive, It can be seen that an appropriate pretilt angle is obtained at an irradiation dose of 10,000 J / m 2 or less. Moreover, even when the irradiation amount is small, a sufficiently fast response speed is obtained, and the voltage holding ratio is also excellent.
Therefore, according to the method of the present invention, the merits of the PSA mode can be realized with a small amount of light irradiation. Therefore, display unevenness due to a high amount of light irradiation, deterioration of voltage holding characteristics, and long-term reliability are insufficient. Thus, a liquid crystal display device having a wide viewing angle, a high response speed of liquid crystal molecules, a high transmittance, and a high contrast can be manufactured.

1:ITO電極
2:スリット部
3:遮光膜
1: ITO electrode 2: Slit part 3: Light shielding film

Claims (14)

導電膜を有する一対の基板の該導電膜上に、それぞれ、
(A)(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンである第一の重合体、ならびに
(B)ポリアミック酸およびポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種である第二の重合体
を含有する重合体組成物を塗布して塗膜を形成し、
前記塗膜を形成した一対の基板の前記塗膜が、液晶層を介して相対して対向配置した構成の液晶セルを形成し、
前記一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する工程を経ることを特徴とする、液晶表示素子の製造方法。
On the conductive film of the pair of substrates having the conductive film,
(A) A polymer containing a first polymer which is a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group, and (B) a second polymer which is at least one selected from the group consisting of polyamic acid and polyimide. Apply the composition to form a coating film,
The coating film of the pair of substrates on which the coating film is formed forms a liquid crystal cell having a configuration in which the coating film is opposed to the liquid crystal layer,
A method for producing a liquid crystal display element, comprising a step of irradiating the liquid crystal cell with light while applying a voltage between conductive films of the pair of substrates.
上記(A)第一の重合体が、さらに下記式(D
(式(D)中、Rヘキシル基、オクチル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、ステアリル基トリフルオロメチルプロピル基、トリフルオロメチルブチル基、トリフルオロメチルヘキシル基、トリフルオロメチルデシル基、ペンタフルオロエチルプロピル基、ペンタフルオロエチルブチル基もしくはペンタフルオロエチルオクチル基であるか、またはステロイド骨格を有する炭素数17〜51の炭化水素基であり;
は単結合、−O−、−COO−または−OCO−(ただし、「*」を付した結合手がR側である。)であり、
IIはシクロへキシレン基またはフェニレン基であり、ただしこのシクロへキシレン基またはフェニレン基はシアノ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基または炭素数1〜3のアルキル基によって置換されていてもよく、
n1は1または2であり、
ただしn1が2であるとき、2個のRIIは互いに同一であっても異なっていてもよく、
n2は0または1であり;
II−O−、−COO−または−OCO−(ただし、「*」を付した結合手がR側である。)であり、
n3は0〜2の整数であり、
n4は0または1である。)
で表される基を有するものである、請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
The above (A) first polymer is further represented by the following formula (D 0 )
(In the formula (D 0 ), R I represents hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, stearyl group , trifluoromethylpropyl group, trifluoromethylbutyl group, trifluoromethylhexyl group, trifluoromethyldecyl group. A group, a pentafluoroethylpropyl group, a pentafluoroethylbutyl group or a pentafluoroethyloctyl group, or a hydrocarbon group having 17 to 51 carbon atoms having a steroid skeleton;
Z I represents a single bond, * -O-, a * -COO- or * -OCO- (where bond marked with "*" is R I side.)
R II represents a cyclohexylene group or a phenylene group, provided that the cyclohexylene group or phenylene group may be substituted with a cyano group, a fluorine atom, a trifluoromethyl group, or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms;
n1 is 1 or 2,
However, when n1 is 2, two R II may be the same or different from each other,
n2 is 0 or 1;
Z II is * -O-, a * -COO- or * -OCO- (where bond marked with "*" is R I side.)
n3 is an integer of 0 to 2,
n4 is 0 or 1. )
The manufacturing method of the liquid crystal display element of Claim 1 which has group represented by these.
上記(A)第一の重合体が、加水分解性シラン化合物、ただしこの加水分解性シラン化合物は(メタ)アクリロイル基を有する加水分解性シラン化合物を含む、の加水分解縮合物である、請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。   The (A) first polymer is a hydrolyzable condensate, wherein the hydrolyzable silane compound includes a hydrolyzable silane compound having a (meth) acryloyl group. 2. A method for producing a liquid crystal display element according to 1. 上記(A)第一の重合体が、加水分解性シラン化合物、ただしこの加水分解性シラン化合物はエポキシ基を有する加水分解性シラン化合物を含む、の加水分解縮合物と
カルボン酸、ただしこのカルボン酸は(メタ)アクリロイル基を有するカルボン酸を含む、と
の反応生成物である、請求項1に記載の液晶表示素子の製造方法。
The first polymer (A) is a hydrolyzable silane compound, provided that the hydrolyzable silane compound contains a hydrolyzable silane compound having an epoxy group, and a carboxylic acid, provided that the carboxylic acid is used. The manufacturing method of the liquid crystal display element of Claim 1 which is a reaction product with carboxylic acid which has a (meth) acryloyl group.
上記(A)第一の重合体が、
(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンと
アミンおよびチオールよりなる群から選択される少なくとも1種の求核性化合物、ただしこの求核性化合物は上記式(D)で表される基を有する求核性化合物を含む、と
の反応生成物である、請求項2に記載の液晶表示素子の製造方法。
The (A) first polymer is
At least one nucleophilic compound selected from the group consisting of a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group and an amine and thiol, provided that the nucleophilic compound has a group represented by the above formula (D 0 ). The manufacturing method of the liquid crystal display element of Claim 2 which is a reaction product with a nucleophilic compound.
上記(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンが、
加水分解性シラン化合物、ただしこの加水分解性シラン化合物は(メタ)アクリロイル基を有する加水分解性シラン化合物を含む、の加水分解縮合物である、請求項5に記載の液晶表示素子の製造方法。
The polyorganosiloxane having the (meth) acryloyl group is
The method for producing a liquid crystal display element according to claim 5, wherein the hydrolyzable silane compound is a hydrolyzed condensate containing a hydrolyzable silane compound having a (meth) acryloyl group.
上記(メタ)アクリロイル基を有するポリオルガノシロキサンが、
加水分解性シラン化合物、ただしこの加水分解性シラン化合物はエポキシ基を有する加水分解性シラン化合物を含む、の加水分解縮合物と
カルボン酸、ただしこのカルボン酸は(メタ)アクリロイル基を有するカルボン酸を含む、と
の反応生成物である、請求項5に記載の液晶表示素子の製造方法。
The polyorganosiloxane having the (meth) acryloyl group is
Hydrolyzable silane compound, provided that this hydrolyzable silane compound comprises a hydrolyzable condensate containing a hydrolyzable silane compound having an epoxy group and a carboxylic acid, provided that the carboxylic acid is a carboxylic acid having a (meth) acryloyl group. The manufacturing method of the liquid crystal display element of Claim 5 which is a reaction product with these.
上記求核性化合物がアミンであり、上記式(D)中のRが炭素数2〜12のアルキル基もしくは炭素数2〜12のフルオロアルキル基であり、n2およびn4がそれぞれ0である、請求項5〜7のいずれか一項に記載の液晶表示素子の製造方法。 The nucleophilic compound is an amine, R I in the formula (D 0 ) is an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms or a fluoroalkyl group having 2 to 12 carbon atoms, and n2 and n4 are each 0. The manufacturing method of the liquid crystal display element as described in any one of Claims 5-7. 上記求核性化合物がチオールであり、上記式(D)中のRが炭素数2〜12のアルキル基もしくは炭素数2〜12のフルオロアルキル基である、請求項5〜7のいずれか一項に記載の液晶表示素子の製造方法。 The nucleophilic compound is a thiol, and R I in the formula (D 0 ) is an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms or a fluoroalkyl group having 2 to 12 carbon atoms. The manufacturing method of the liquid crystal display element of one term. 上記(A)第一の重合体が、
加水分解性シラン化合物、ただしこの加水分解性シラン化合物は(メタ)アクリロイル基を有する加水分解性シラン化合物およびエポキシ基を有する加水分解性シラン化合物を含む、の加水分解縮合物と
カルボン酸、ただしこのカルボン酸は上記式(D)で表される基を有するカルボン酸を含む、と
の反応生成物である、請求項2に記載の液晶表示素子の製造方法。
The (A) first polymer is
Hydrolyzable silane compound, provided that the hydrolyzable silane compound comprises a hydrolyzable condensate and a carboxylic acid, including a hydrolyzable silane compound having a (meth) acryloyl group and a hydrolyzable silane compound having an epoxy group. The method for producing a liquid crystal display element according to claim 2, wherein the carboxylic acid is a reaction product of containing a carboxylic acid having a group represented by the formula (D 0 ).
上記(A)第一の重合体が、
加水分解性シラン化合物、ただしこの加水分解性シラン化合物はエポキシ基を有する加水分解性シラン化合物を含む、の加水分解縮合物と
カルボン酸、ただしこのカルボン酸は(メタ)アクリロイル基を有するカルボン酸および上記式(D)で表される基を有するカルボン酸を含む、と
の反応生成物である、請求項2に記載の液晶表示素子の製造方法。
The (A) first polymer is
Hydrolyzable silane compound, wherein the hydrolyzable silane compound comprises a hydrolyzable condensate containing a hydrolyzable silane compound having an epoxy group, and a carboxylic acid, wherein the carboxylic acid is a carboxylic acid having a (meth) acryloyl group and containing a carboxylic acid having a group represented by the formula (D 0), the reaction products of, a method of manufacturing a liquid crystal display device according to claim 2.
上記式(D)中のRが炭素数4〜40のアルキル基もしくは炭素数4〜40のフルオロアルキル基であるか、またはステロイド骨格を有する炭素数17〜51の炭化水素基である、請求項10または11に記載の液晶表示素子の製造方法。 R I in the above formula (D 0 ) is an alkyl group having 4 to 40 carbon atoms or a fluoroalkyl group having 4 to 40 carbon atoms, or a hydrocarbon group having 17 to 51 carbon atoms having a steroid skeleton, The manufacturing method of the liquid crystal display element of Claim 10 or 11. 前記導電膜のそれぞれが、複数の領域に区画されたパターン状導電膜である、請求項1〜12のいずれか一項に記載の液晶表示素子の製造方法。   The method of manufacturing a liquid crystal display element according to claim 1, wherein each of the conductive films is a patterned conductive film partitioned into a plurality of regions. 請求項1〜13のいずれか一項に記載の液晶表示素子の製造方法によって製造されたことを特徴とする、液晶表示素子。
A liquid crystal display element manufactured by the method for manufacturing a liquid crystal display element according to claim 1.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP6424609B2 (en) * 2014-12-18 2018-11-21 Jsr株式会社 Liquid crystal alignment agent, method of manufacturing liquid crystal display element, liquid crystal alignment film and liquid crystal display element
JP6701661B2 (en) 2014-12-25 2020-05-27 Jsr株式会社 Liquid crystal aligning agent, method for producing liquid crystal element, liquid crystal aligning film and liquid crystal element
TWI564354B (en) * 2015-06-02 2017-01-01 奇美實業股份有限公司 Photo-curable coating composition, photo-curing coating film and touch panel
US20230124713A1 (en) * 2021-10-18 2023-04-20 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Uv-curing resin compositions for hard coat applications

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006276501A (en) * 2005-03-29 2006-10-12 Seiko Epson Corp Alignment layer, forming method of alignment layer, substrate for electron device, liquid crystal panel, and electronic equipment
TWI432852B (en) * 2005-07-12 2014-04-01 Jsr Corp Liquid crystal orientation agent and liquid crystal display device
CN101395527B (en) * 2006-03-07 2012-05-30 日产化学工业株式会社 Silicon-containing liquid crystal aligning agent, liquid crystal alignment film and their production methods
US8216649B2 (en) * 2007-08-21 2012-07-10 Jsr Corporation Liquid crystal aligning agent, method of producing a liquid crystal alignment film and liquid crystal display device
JP5354161B2 (en) * 2008-10-17 2013-11-27 Jsr株式会社 Liquid crystal aligning agent and liquid crystal display element
JP5311054B2 (en) * 2009-02-19 2013-10-09 Jsr株式会社 Liquid crystal aligning agent, liquid crystal display element and manufacturing method thereof

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