KR20110049677A - Process for producing liquid crystal display device, liquid crystal display device produced thereby and related compositions - Google Patents

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KR20110049677A
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이사무 요네쿠라
토시유키 아키이케
켄이치 스미야
츠바사 아베
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제이에스알 가부시끼가이샤
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Abstract

PURPOSE: A manufacturing method of a liquid crystal display device, a liquid crystal display element and related composition which are manufactured by the same are provided to have a wide viewing angle, to have fast responding speed of a liquid crystal molecule, and to have excellent display characteristic and reliability. CONSTITUTION: A manufacturing method of a liquid crystal display device forms a conductive layer by spraying a polymer composition. The polymer composition includes a first polymer and a second polymer. The first polymer is a polyorganosiloxane having (meta)acryloyl on conductive film of a pair of substrate which has a conductive film. The second polymer is at least one type selected from a group comprised of a polyamic acid and polyimide.

Description

액정 표시 소자의 제조 방법, 그에 의해 제조된 액정 표시 소자 및 관련 조성물{PROCESS FOR PRODUCING LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE PRODUCED THEREBY AND RELATED COMPOSITIONS}The manufacturing method of a liquid crystal display element, the liquid crystal display element manufactured by this, and its related composition TECHNICAL FIELD AND LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE PRODUCED THEREBY AND RELATED COMPOSITIONS

본 발명은, 액정 표시 소자의 제조 방법, 그에 의해 제조된 액정 표시 소자 및 관련 조성물에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 시야각이 넓고, 응답 속도가 빠른 액정 표시 소자를 제조하기 위한 신규 방법에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to the manufacturing method of a liquid crystal display element, the liquid crystal display element manufactured by this, and the related composition. More specifically, the present invention relates to a novel method for producing a liquid crystal display device having a wide viewing angle and a fast response speed.

액정 표시 소자 중, 수직 배향 모드로서 종래 알려져 있는 MVA(Multi-Domain Vertical Alignment)형 패널은, 액정 패널 중에 돌기물을 형성하고, 이에 의해 액정 분자의 쓰러지는 방향을 규제함으로써, 시야각의 확대를 도모하고 있다. 그러나, 이 방식에 의하면 돌기물로부터 유래하는 투과율 및 콘트라스트의 부족이 불가피하며, 또한 액정 분자의 응답 속도가 느리다는 문제가 있다.Among the liquid crystal display elements, a multi-domain vertical alignment (MVA) panel, which is conventionally known as a vertical alignment mode, forms projections in the liquid crystal panel, thereby restricting the falling direction of the liquid crystal molecules, thereby enlarging the viewing angle. have. However, according to this method, the lack of transmittance and contrast derived from the projections is inevitable, and there is a problem that the response speed of the liquid crystal molecules is slow.

최근, 상기와 같은 MVA형 패널의 문제점을 해결하기 위해, PSA(Polymer Sustained Alignment) 모드가 제안되었다. PSA 모드는, 패턴 형상 도전막 부착 기판 및 패턴을 갖지 않는 도전막 부착 기판으로 이루어지는 한 쌍의 기판의 간극, 혹은 2매의 패턴 형상 도전막 부착 기판으로 이루어지는 한 쌍의 기판의 간극에 중합성(重合性)의 화합물을 함유하는 액정 조성물을 협지(狹持)하고, 도전막 사이에 전압을 인가한 상태에서 자외선을 조사(照射)하여 중합성 화합물을 중합하고, 이에 따라 프리틸트각 특성을 발현시켜 액정의 배향 방향을 제어하고자 하는 기술이다. 이 기술에 의하면, 도전막을 특정한 구성으로 함으로써 시야각의 확대 및 액정 분자 응답의 고속화를 도모할 수 있고, MVA형 패널에 있어서 불가피했던 투과율 및 콘트라스트(contrast)의 부족 문제도 해소된다. 그러나, 상기 중합성 화합물의 중합을 위해, 예를 들면 100,000J/㎡라는 다량의 자외선 조사가 필요하며, 그 때문에 액정 분자가 분해되는 문제가 발생하는 것 외에 자외선 조사에 의해서도 중합되지 않았던 미(未)반응 화합물이 액정층 중에 잔존하게 되어, 이들이 서로 작용하여 표시 불균일이 발생해서, 전압 보전 특성에 악영향을 미치거나, 혹은 패널의 장기 신뢰성에 문제가 일어나는 것이 분명해지고 있다.Recently, in order to solve the problems of the MVA panel, a PSA (Polymer® Sustained Alignment) mode has been proposed. The PSA mode is polymerizable in a gap between a pair of substrates formed of a substrate with a patterned conductive film and a substrate with a conductive film having no pattern, or a gap of a pair of substrates formed of two substrates with a patterned conductive film. The liquid crystal composition containing the compound is sandwiched, and ultraviolet rays are irradiated in a state where a voltage is applied between the conductive films to polymerize the polymerizable compound, thereby expressing the pretilt angle characteristics. To control the alignment direction of the liquid crystal. According to this technique, by setting the conductive film in a specific configuration, the viewing angle can be increased and the liquid crystal molecular response can be increased, and the problem of lack of transmittance and contrast, which is inevitable in the MVA panel, is also eliminated. However, for the polymerization of the polymerizable compound, a large amount of ultraviolet irradiation, for example, 100,000 J / m 2, is required, and thus, a problem of decomposing the liquid crystal molecules occurs, and the unpolymerized polymer is not polymerized even by ultraviolet irradiation. It is clear that reaction compounds remain in the liquid crystal layer, and these interact with each other to cause display unevenness, which adversely affects voltage integrity characteristics or causes problems in long-term reliability of the panel.

이들에 대하여 비특허문헌 1은, 반응성 메소겐을 함유하는 폴리이미드계 액정 배향제로 형성된 액정 배향막을 이용하는 방법을 제안하고 있다. 비특허문헌 1에 의하면, 이러한 방법에 의해 형성된 액정 배향막을 구비하는 액정 표시 소자는 액정 분자의 응답이 고속이라고 한다. 그러나 비특허문헌 1에는, 어떠한 반응성 메소겐을 어떠한 양으로 사용해야 하는지에 대한 지침은 전혀 기재되어 있지 않고, 또한 필요한 자외선 조사량도 여전히 많아, 표시 특성, 특히 전압 보전 특성에 관한 염려는 불식되고 있지 않다.About these, Nonpatent literature 1 has proposed the method of using the liquid crystal aligning film formed from the polyimide-type liquid crystal aligning agent containing a reactive mesogen. According to the nonpatent literature 1, the liquid crystal display element provided with the liquid crystal aligning film formed by such a method says that the response of a liquid crystal molecule is high speed. However, Non-Patent Document 1 does not describe any reactive mesogen in what amount, and there is still a large amount of ultraviolet irradiation required, and there is no concern about display characteristics, especially voltage preservation characteristics. .

일본공개특허공보 평5-107544호Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-107544 일본공개특허공보 2010-97188호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2010-97188

Y.-J. Lee et. al. SID 09 DIGEST, p.666(2009) Y.-J. Lee et. al. SID 09 DIGEST, p.666 (2009) Chemical Reviews, 95권, p.1409(1995년) Chemical Reviews, Vol. 95, p. 1409 (1995). T. J. Scheffer et. al., J. Appl. Phys. vo. 48, p.1783(1977) T. J. Scheffer et. al., J. Appl. Phys. vo. 48, p. 1783 (1977) F. Nakano et. al., JPN. J. Appl. Phys. vo. 19, p.2013(1980) F. Nakano et. al., JPN. J. Appl. Phys. vo. 19, p. 2013 (1980)

본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 시야각이 넓고, 액정 분자의 응답 속도가 빠르며, 표시 특성 및 장기 신뢰성이 우수한 액정 표시 소자의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of the said situation, Comprising: It aims at providing the manufacturing method of the liquid crystal display element which has a wide viewing angle, quick response speed of liquid crystal molecules, and excellent display property and long-term reliability.

본 발명에 의하면, 본 발명의 상기 목적 및 이점은,According to the present invention, the above objects and advantages of the present invention,

도전막을 갖는 한 쌍의 기판의 당해 도전막 상에, 각각On the said conductive film of a pair of board | substrates which have a conductive film, respectively

(A) (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산인 제1 중합체, 또한(A) the first polymer which is a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group, and also

(B) 폴리암산 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 제2 중합체(B) at least one second polymer selected from the group consisting of polyamic acid and polyimide

를 함유하는 중합체 조성물을 도포하여 도막을 형성하고, A coating film is formed by applying a polymer composition containing

상기 도막을 형성한 한 쌍의 기판의 상기 도막이, 액정층을 통해 상대(相對)하여 대향 배치된 구성의 액정 셀을 형성하고, The said coating film of the pair of board | substrates which provided the said coating film forms the liquid crystal cell of the structure arrange | positioned opposingly through the liquid crystal layer,

상기 한 쌍의 기판이 갖는 도전막 사이에 전압을 인가한 상태에서 상기 액정 셀에 광조사하는 공정을 거치는, 액정 표시 소자의 제조 방법에 의해 달성된다.It is achieved by the manufacturing method of a liquid crystal display element which goes through the process of irradiating light to the said liquid crystal cell in the state which applied the voltage between the conductive films which a pair of board | substrates have.

본 발명의 방법에 의해 제조된 액정 표시 소자는, 시야각이 넓고, 액정 분자의 응답 속도가 빠르며, 충분한 투과율 및 콘트라스트를 나타내고, 표시 특성이 우수한 데다, 장시간 연속 구동해도 표시 특성이 손상되는 일이 없다.The liquid crystal display device manufactured by the method of the present invention has a wide viewing angle, a fast response speed of liquid crystal molecules, exhibits sufficient transmittance and contrast, excellent display characteristics, and no display characteristics are impaired even when continuously driven for a long time. .

또한, 본 발명의 방법에 의하면, 조사에 필요한 빛의 양이 적어도 되기 때문에, 액정 표시 소자의 제조 비용 삭감에 도움이 된다.Moreover, according to the method of this invention, since the quantity of light required for irradiation becomes at least, it is useful for reducing the manufacturing cost of a liquid crystal display element.

따라서, 본 발명의 방법에 의해 제조된 액정 표시 소자는, 성능면 및 비용면의 쌍방에 있어서 종래 알려져 있는 액정 표시 소자보다 우수하고, 2차원 표시 및 3차원 표시의 액정 텔레비전을 포함하는 여러 가지 용도에 매우 적합하게 적용할 수 있다.Therefore, the liquid crystal display element manufactured by the method of this invention is superior to the liquid crystal display element conventionally known in both a performance aspect and a cost aspect, and is various uses including the liquid crystal television of a two-dimensional display and a three-dimensional display. It can be applied very suitably.

도 1은 실시예 및 비교예에서 제조한, 패터닝된 투명 도전막을 갖는 액정 셀에 있어서의 투명 도전막의 패턴을 나타내는 설명도이다.
도 2는 실시예 및 비교예에서 제조한, 패터닝된 투명 도전막을 갖는 액정 셀에 있어서의 투명 도전막의 패턴을 나타내는 설명도이다.
BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS It is explanatory drawing which shows the pattern of the transparent conductive film in the liquid crystal cell which has the patterned transparent conductive film manufactured by the Example and the comparative example.
It is explanatory drawing which shows the pattern of the transparent conductive film in the liquid crystal cell which has the patterned transparent conductive film manufactured by the Example and the comparative example.

(발명을 실시하기 위한 형태)(Form to carry out invention)

<<중합체 조성물>><< polymer composition >>

본 발명의 방법에 있어서 이용되는 중합체 조성물은,The polymer composition used in the method of the present invention,

(A) (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산인 제1 중합체, 또한(A) the first polymer which is a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group, and also

(B) 폴리암산 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 제2 중합체를 함유한다.(B) It contains the 2nd polymer which is at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of polyamic acid and polyimide.

<(A) 제1 중합체><(A) First Polymer>

본 발명에서 이용되는 (A) 제1 중합체는, (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산이다. 제1 중합체가 (메타)아크릴로일기를 가짐으로써, 이것을 함유하는 중합체 조성물로 형성된 막은, 본 발명의 방법에 의해 적은 광조사량으로 원하는 프리틸트각 발현성이 부여된다는 이점을 갖게 된다.The (A) 1st polymer used by this invention is polyorganosiloxane which has a (meth) acryloyl group. When the first polymer has a (meth) acryloyl group, the film formed of the polymer composition containing the same has the advantage that the desired pretilt angle expression is imparted with a small amount of light irradiation by the method of the present invention.

제1 중합체는, (메타)아크릴로일기 외에, 하기식 (D0):In addition to the (meth) acryloyl group, the first polymer has the following formula (D 0 ):

Figure pat00001
Figure pat00001

(식 (D0) 중, RI은 탄소수 1∼40의 알킬기, 탄소수 1∼40의 플루오로알킬기, 시아노기 또는 불소 원자이거나, 또는 스테로이드 골격을 갖는 탄소수 17∼51의 탄화 수소기이며;(In Formula (D 0 ), R I is an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 40 carbon atoms, a cyano group, or a fluorine atom, or a hydrocarbon group having 17 to 51 carbon atoms having a steroid skeleton;

ZI은 단결합, *-O-, *-COO- 또는 *-OCO-(단, 「*」을 붙인 결합손이 RI측임)이며,Z I is a single bond, * -O-, * -COO- or * -OCO- (wherein the bond to which "*" is attached is the R I side),

RII는 사이클로헥실렌기 또는 페닐렌기이며, 단, 이 사이클로헥실렌기 또는 페닐렌기는 시아노기, 불소 원자, 트리플루오로메틸기 또는 탄소수 1∼3의 알킬기에 의해 치환되어 있을 수도 있고,R II is a cyclohexylene group or a phenylene group, provided that the cyclohexylene group or phenylene group may be substituted with a cyano group, a fluorine atom, a trifluoromethyl group or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms,

n1은 1 또는 2이며,n1 is 1 or 2,

단, n1이 2일 때, 2개의 RII는 서로 같거나 다를 수 있고,Provided that when n1 is 2, the two R II may be the same as or different from each other,

n2는 0 또는 1이며;n2 is 0 or 1;

ZII*-O-, *-COO- 또는 * -OCO-(단, 「*」을 붙인 결합손이 RI측임)이며,Z II is * -O-, * -COO- or * -OCO- (wherein the bond to which "*" is attached is the R I side),

n3은 0∼2의 정수이며,n3 is an integer of 0 to 2,

n4는 0 또는 1이다.)n4 is 0 or 1)

으로 나타나는 기 및 에폭시기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 기를 추가로 갖고 있어도 좋다.You may further have at least 1 sort (s) of group chosen from the group which consists of group and epoxy group represented by these.

상기식 (D0)에 있어서의 RI의 탄소수 1∼40의 알킬기로서 구체적으로는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 옥틸기, 데실기, 도데실기, 헥사데실기, 스테아릴기 등을;The expression Specifically, for example, methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group as an alkyl group having a carbon number of 1 to 40 of the R I in the (D 0) , Hexadecyl group, stearyl group and the like;

탄소수 1∼40의 플루오로알킬기로서 구체적으로는, 예를 들면 트리플루오로 메틸프로필기, 트리플루오로메틸부틸기, 트리플루오로메틸헥실기, 트리플루오로메틸데실기, 펜타플루오로에틸프로필기, 펜타플루오로에틸부틸기, 펜타플루오로에틸옥틸기 등을;Specific examples of the fluoroalkyl group having 1 to 40 carbon atoms include trifluoromethylpropyl group, trifluoromethylbutyl group, trifluoromethylhexyl group, trifluoromethyldecyl group, and pentafluoroethylpropyl group. A pentafluoroethyl butyl group, a pentafluoroethyl octyl group;

스테로이드 골격을 갖는 17∼51의 탄화 수소기로서는, 예를 들면 콜레스타닐기, 콜레스테닐기, 라노스타닐기 등을 각각 들 수 있다.As a 17-51 hydrocarbon group which has a steroid skeleton, a cholestanyl group, a cholesteryl group, a lanostanyl group, etc. are mentioned, for example.

상기식 (D0)에 있어서의 RII의 사이클로헥실렌기 및 페닐렌기는, 각각 1,4-사이클로헥실렌기 및 1,4-페닐렌기인 것이 바람직하다. 상기식 (D0)에 있어서 -(RII) n1-로 나타나는 2가의 기로서는, n1이 1인 경우로서, 예를 들면 1,4-페닐렌기, 1,2-사이클로헥실렌기 등을;The expression (D 0) group-cyclohexylene group and a phenylene group of the R in II, it is preferred that each 1,4-cyclohexylene group and a 1,4-phenylene group. Examples of the divalent group represented by- (R II ) n1 -in the formula (D 0 ) include a 1,4-phenylene group, a 1,2-cyclohexylene group, and the like, when n1 is 1;

n1이 2인 경우로서, 예를 들면 4,4'-비페닐렌기, 4,4'-바이사이클로헥실렌기, 하기식:As n1 is 2, for example, a 4,4'-biphenylene group, a 4,4'-bicyclohexylene group, and a following formula:

Figure pat00002
Figure pat00002

(상기식 중, 「*」을 붙인 결합손이 RI측임)(In the above formula, the bonding hand with "*" is the R I side.)

의 각각으로 나타나는 기 등을 각각 바람직한 것으로서 들 수 있다.The group etc. which are represented by each of are mentioned as a preferable thing, respectively.

상기식 (D0)에 있어서의 n3은 2인 것이 바람직하다.N3 in the formula (D 0) is preferably 2.

제1 중합체가 이러한 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 가짐으로써, 이것을 함유하는 중합체 조성물로 형성된 막은 양호한 액정 배향능을 발휘하게 되어 바람직하다.As the first polymer having a group represented by the above formula such (D 0), it is preferable that the film exhibits excellent liquid crystal aligning capability formed from a polymer composition containing the same.

또한, 제1 중합체가 에폭시기를 가짐으로써, 이것을 함유하는 중합체 조성물로 형성된 막은 강인한 기계적 특성을 갖고, 내열성, 내광성 등의 제(諸)성능이 우수해져, 바람직하다.Moreover, when a 1st polymer has an epoxy group, the film | membrane formed from the polymer composition containing this has a strong mechanical characteristic, excellent the performance of heat resistance, light resistance, etc., and is preferable.

본 발명에 있어서의 (A) 제1 중합체는,(A) 1st polymer in this invention,

(메타)아크릴로일기를 0.0003몰/g 이상 갖고 있는 것이 바람직하고, 0.0004∼0.008몰/g 갖고 있는 것이 보다 바람직하며;It is preferable to have a (meth) acryloyl group 0.0003 mol / g or more, and it is more preferable to have 0.0004-0.008 mol / g;

상기식 (D0)으로 나타나는 기를 0.005몰/g 이하의 범위에서 갖고 있는 것이 바람직하고, 0.0002∼0.003몰/g 갖고 있는 것이 보다 바람직하며;Preferably having a group represented by the above formula (D 0) in the range of more than 0.005 mol / g, and from 0.0002 to 0.003 and more preferably having mole / g;

에폭시기를, 0.004몰/g 이하의 범위에서 갖고 있는 것이 바람직하고, 0.0009∼0.003몰/g 갖고 있는 것이 보다 바람직하다.It is preferable to have an epoxy group in the range of 0.004 mol / g or less, and it is more preferable to have 0.0009-0.003 mol / g.

제1 중합체에 대해서, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 500∼100,000인 것이 바람직하고, 1,000∼50,000인 것이 보다 바람직하며, 또한 1,000∼10,000인 것이 더욱 바람직하다.It is preferable that the weight average molecular weight of polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography (GPC) with respect to a 1st polymer is 500-100,000, It is more preferable that it is 1,000-50,000, It is further more preferable that it is 1,000-10,000. .

이러한 (A) 제1 중합체는 상기와 같은 기를 갖고, 바람직하게는 상기 범위의 중량 평균 분자량을 갖는 것인 한, 그의 제조 방법이 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면 이하와 같은 방법에 의해 제조할 수 있다.As long as such (A) 1st polymer has such a group, Preferably it has the weight average molecular weight of the said range, its manufacturing method is not limited, For example, it can manufacture by the following method. have.

(메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산인 제1 중합체의 제조는, 예를 들면Production of the 1st polymer which is a polyorganosiloxane which has a (meth) acryloyl group, for example

(1) 가수 분해성 실란 화합물(단, 이 가수 분해성 실란 화합물은 (메타)아크릴로일기를 갖는 가수 분해성 실란 화합물(이하, 「화합물(a1)」이라고도 함)을 포함함)을 가수 분해 축합하는 방법, 또는(1) A method of hydrolytically condensing a hydrolyzable silane compound (wherein the hydrolyzable silane compound contains a hydrolyzable silane compound having a (meth) acryloyl group (hereinafter also referred to as "compound (a1)")) , or

(2) 가수 분해성 실란 화합물(단, 이 가수 분해성 실란 화합물은 에폭시기를 갖는 가수 분해성 실란 화합물(이하, 「화합물(a2)」이라고도 함)을 포함함)의 가수 분해 축합물과(2) a hydrolytic condensate of a hydrolyzable silane compound (wherein the hydrolyzable silane compound contains a hydrolyzable silane compound having an epoxy group (hereinafter also referred to as "compound (a2)"));

카본산(단, 이 카본산은 (메타)아크릴로일기를 갖는 카본산(이하, 「화합물(b1)」이라고도 함)을 포함함)과를 반응시키는 방법에 의할 수 있다. (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산으로서는, 예를 들면 AC-SQ TA-100(토아고세이 가부시키가이샤 제조) 등의 시판품을 이용할 수도 있다.It can be based on the method of reacting carbonic acid (However, this carbonic acid contains the carbonic acid which has a (meth) acryloyl group (henceforth a "compound (b1)".).). As a polyorganosiloxane which has a (meth) acryloyl group, commercial items, such as AC-SQ TA-100 (made by Toagosei Co., Ltd.), can also be used, for example.

(메타)아크릴로일기 및 상기식 (D0)으로 나타나는 기의 쌍방을 갖는 폴리오가노실록산인 제1 중합체의 제조는, 예를 들면(Meth) Preparation of the first polymer of polyorganosiloxane having both a group represented by acryloyl group and the above formula (D 0) is, for example,

(3) 가수 분해성 실란 화합물(단, 이 가수 분해성 실란 화합물은 (메타)아크릴로일기를 갖는 가수 분해성 실란 화합물(화합물(a1)) 및 에폭시기를 갖는 가수 분해성 실란 화합물(화합물(a2))을 포함함)의 가수 분해 축합물과(3) Hydrolyzable silane compound (However, this hydrolyzable silane compound includes a hydrolyzable silane compound (compound (a1)) having a (meth) acryloyl group and a hydrolyzable silane compound (compound (a2)) having an epoxy group.) Hydrolysis condensate)

카본산(단, 이 카본산은 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖는 카본산(이하, 「화합물(b2)」이라고도 함)을 포함함)과를 반응시키는 방법,A method of reacting a carbonic acid (wherein the carbonic acid contains a carbonic acid having a group represented by the formula (D 0 ) (hereinafter also referred to as "compound (b2)")),

(4) 가수 분해성 실란 화합물(단, 이 가수 분해성 실란 화합물은 에폭시기를 갖는 가수 분해성 실란 화합물(화합물(a2))을 포함함)의 가수 분해 축합물과(4) a hydrolytic condensate of a hydrolyzable silane compound (wherein the hydrolyzable silane compound contains a hydrolyzable silane compound (compound (a2)) having an epoxy group);

카본산(단, 이 카본산은 (메타)아크릴로일기를 갖는 카본산(화합물(b1)) 및 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖는 카본산(화합물(b2))을 포함함)과를 반응시키는 방법, 또는A carbonic acid, provided that the carbonic acid reacts with a carbonic acid having a (meth) acryloyl group (compound (b1)) and a carbonic acid having a group represented by the formula (D 0 ) (compound (b2)). How to make or

(5) (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산과(5) with polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group

아민 및 티올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 구핵성(nucleophile) 화합물, 단, 이 구핵성 화합물은 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖는 구핵성 화합물을 포함하는 것을 반응시키는 방법에 의할 수 있다. 상기 방법(5)에서 사용하는 원료의 (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산은 상기 방법(1) 또는 (2)에 의해 얻을 수 있는 것 외에, 예를 들면 AC-SQ TA-100(토아고세이 가부시키가이샤 제조) 등의 시판품을 이용할 수도 있다.At least one nucleophile compound selected from the group consisting of amines and thiols, provided that the nucleophile compound is reacted with a nucleophilic compound having a group represented by the above formula (D 0 ). Can be. The polyorganosiloxane which has the (meth) acryloyl group of the raw material used by the said method (5) is obtained by the said method (1) or (2), For example, AC-SQ TA-100 (Toa Kosei Co., Ltd. product) etc. can also be used.

본 명세서에 있어서, 「가수 분해 축합물」이란, 1종류의 가수 분해성 실란 화합물을 가수 분해 및 축합하여 얻어지는 가수 분해 축합물과 2종류 이상의 가수 분해성 실란 화합물의 혼합물을 공(共)가수 분해 및 공축합하여 얻어지는 공가수 분해 축합물과의 쌍방을 포함하는 개념이다.As used herein, the term "hydrolysis-condensation product" refers to the hydrolysis-condensation of a hydrolysis-condensation product obtained by hydrolyzing and condensing one type of hydrolyzable silane compound and a mixture of two or more types of hydrolyzable silane compounds. It is a concept including both with the co-hydrolysis condensate obtained by combining.

상기 방법(2)∼(4)에 있어서는, 가수 분해 축합물이 가수 분해성 실란 화합물에서 유래하는 에폭시기를 갖는 것이며, 당해 가수 분해 축합물의 에폭시기를 추가로 소정의 카본산과 반응시킴으로써, 원하는 기를 갖는 폴리오가노실록산인 제1 중합체를 얻게 된다.In the above methods (2) to (4), the hydrolyzed condensate has an epoxy group derived from a hydrolyzable silane compound, and the polyorgano having a desired group by further reacting the epoxy group of the hydrolyzed condensate with a predetermined carbonic acid. A first polymer is obtained which is a siloxane.

여기에서, 상기 방법(2)에 있어서는, 카본산의 사용 비율을 가수 분해 축합물이 갖는 에폭시기보다도 적은 비율로 함으로써, 제1 중합체를 (메타)아크릴로일기 외에 에폭시기를 추가로 갖는 폴리오가노실록산으로 할 수 있다. 상기 방법(5) 중, 상기 방법(2)에서 얻어진 가수 분해 축합물을 원료로서 사용하는 경우도 동일하다. 또한, 상기 방법(3) 및 방법(4)에 있어서는, 카본산의 사용 비율(상기 방법(4)에 있어서는 화합물(b1)과 화합물(b2)과의 합계의 사용 비율)을 가수 분해 축합물이 갖는 에폭시기보다도 적은 비율로 함으로써, 제1 중합체를 (메타)아크릴로일기 및 상기식 (D0)으로 나타나는 기 외에 에폭시기를 추가로 갖는 폴리오가노실록산으로 할 수 있다.Here, in the said method (2), by making the use rate of a carbonic acid into a ratio less than the epoxy group which a hydrolysis-condensation product has, the 1st polymer is made into the polyorganosiloxane which further has an epoxy group other than a (meth) acryloyl group. can do. The same applies when using the hydrolysis-condensation product obtained by the said method (2) as a raw material in the said method (5). In addition, in the said method (3) and the method (4), the hydrolysis-condensation product uses the carbonic acid use ratio (the ratio of the sum total of a compound (b1) and a compound (b2) in the said method (4)). by having a small percentage of all the epoxy group it can be a first polymer with (meth) acryloyl group and the above formula (D 0) polyorganosiloxane has additionally an epoxy group in addition to groups represented by.

상기 방법(1)∼(4)에 있어서의 가수 분해 축합은, 가수 분해성 실란 화합물 또는 그의 혼합물과 물을, 바람직하게는 적당한 촉매 및 유기 용매의 존재하에 반응시킴으로써 행할 수 있다. 상기 방법(2)∼(4)에 있어서의 에폭시기를 갖는 가수 분해 축합물과 카본산과의 반응은, 바람직하게는 촉매 및 유기 용매의 존재하에 행할 수 있다. 상기 방법(5)에 있어서의 (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산과 구핵성 화합물과의 반응은, 사용하는 구핵성 화합물의 종류에 따라서 적당한 촉매의 존재하 또는 부(不)존재하에 공지의 마이클 부가 반응(Michael addition reaction)에 준하여 행할 수 있다.The hydrolytic condensation in the above methods (1) to (4) can be carried out by reacting the hydrolyzable silane compound or a mixture thereof with water, preferably in the presence of a suitable catalyst and an organic solvent. Reaction of the hydrolysis-condensation product which has an epoxy group in said method (2)-(4), and a carboxylic acid, Preferably it can carry out in presence of a catalyst and an organic solvent. The reaction between the polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group and the nucleophilic compound in the method (5) is known in the presence or absence of a suitable catalyst depending on the type of nucleophilic compound to be used. Can be carried out according to the Michael addition reaction.

이하, 제1 중합체를 제조하기 위해 바람직하게 이용되는 가수 분해성 실란 화합물, 그의 가수 분해 축합 반응, 에폭시기를 갖는 가수 분해 축합물과의 반응에 바람직하게 이용되는 카본산 및 에폭시기를 갖는 가수 분해 축합물과 카본산과의 반응에 대해서 차례로 설명한다.Hereinafter, a hydrolyzable silane compound preferably used for producing the first polymer, a hydrolytic condensate having a carbonic acid and an epoxy group, which is preferably used for the hydrolysis condensation reaction thereof, a reaction with a hydrolysis condensate having an epoxy group, and The reaction with the carboxylic acid will be described in turn.

그 후에, 상기 방법(5)에 있어서 바람직하게 이용되는 구핵성 화합물 및 (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산과 구핵성 화합물과의 반응에 대해서 설명한다.Then, reaction of the polyorganosiloxane which has the nucleophilic compound and (meth) acryloyl group which are used preferably in the said method (5), and a nucleophilic compound is demonstrated.

[가수 분해성 실란 화합물]Hydrolyzable Silane Compound

{화합물(a1)}{Compound (a1)}

화합물(a1)은, (메타)아크릴로일기를 갖는 가수 분해성 실란 화합물이다.Compound (a1) is a hydrolyzable silane compound having a (meth) acryloyl group.

본 발명에 있어서의 화합물(a1)로서는, 예를 들면 하기식 (a1-1):As a compound (a1) in this invention, it is following formula (a1-1), for example:

Figure pat00003
Figure pat00003

(식 (a1-1) 중, R은 수소 원자 또는 메틸기이며, n는 1∼6의 정수이며, X는 할로겐 원자, 탄소수 1∼4의 알콕실기 또는 탄소수 1∼4의 알킬기이며, 단, 분자 내에 3개 존재하는 X는 각각 같거나 다를 수 있고, X 중 2개 이상은 할로겐 원자 또는 탄소수 1∼4의 알콕실기이다.)(In formula (a1-1), R is a hydrogen atom or a methyl group, n is an integer of 1-6, X is a halogen atom, a C1-C4 alkoxyl group, or a C1-C4 alkyl group, However, a molecule | numerator X present in three may be the same or different, and two or more of X is a halogen atom or an alkoxyl group having 1 to 4 carbon atoms.)

로 나타나는 화합물 등을 들 수 있다.The compound etc. which are represented by are mentioned.

상기식 (a1-1)에 있어서, n으로서는 1∼5의 정수인 것이 바람직하다. 2가의In said Formula (a1-1), it is preferable that it is an integer of 1-5 as n. Bivalent

기 -CnH2n-는, 직쇄 형상이나 분기 형상일 수도 있지만, 직쇄 형상인 것이 바람직하다. X로서는, 3개 모두 할로겐 원자 또는 탄소수 1∼4의 알콕실기인 것이 바람직하고, 탄소수 1∼2의 알콕실기인 것이 보다 바람직하다. 이 경우에 있어서도, 분자 내에 3개 존재하는 X는 각각 같거나 다를 수 있다.The group -C n H 2n -may be linear or branched, but is preferably linear. As X, it is preferable that all three are a halogen atom or a C1-C4 alkoxyl group, and it is more preferable that it is a C1-C2 alkoxyl group. Also in this case, three X's in the molecule may be the same or different.

본 발명에 있어서의 바람직한 화합물(a1)의 구체예로서는, 예를 들면 γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, α-메타크릴옥시메틸트리메톡시실란, α-아크릴옥시메틸트리메톡시실란, β-메타크릴옥시에틸트리메톡시실란, β-아크릴옥시에틸트리메톡시실란, б-메타크릴옥시부틸트리메톡시실란, б-아크릴옥시부틸트리메톡시실란, ε-메타크릴옥시펜틸트리메톡시실란, ε-아크릴옥시펜틸트리메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란, γ-아크릴옥시프로필트리에톡시실란, α-메타크릴옥시메틸트리에톡시실란, α-아크릴옥시메틸트리에톡시실란, β-메타크릴옥시에틸트리에톡시실란, β-아크릴옥시에틸트리에톡시실란, б-메타크릴옥시부틸트리에톡시실란, б-아크릴옥시부틸트리에톡시실란, ε-메타크릴옥시펜틸트리에톡시실란, ε-아크릴옥시펜틸트리에톡시실란, 아크릴산-2-하이드록시-5-(트리메톡시실라닐)-펜틸에스테르, 메타크릴산-2-하이드록시-5-(트리메톡시실라닐)-펜틸에스테르, 아크릴산-1-하이드록시메틸-4-(트리메톡시실라닐)-부틸에스테르, 메타크릴산-1-하이드록시메틸-4-(트리메톡시실라닐)-부틸에스테르 등을 들 수 있고, 이들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 바람직하게 사용할 수 있다. 이들 중 특히 바람직하게는, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 및 γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이다.As a specific example of a preferable compound (a1) in this invention, (gamma)-methacryloxypropyl trimethoxysilane, (gamma) -acryloxypropyl trimethoxysilane, (alpha)-methacryloxymethyl trimethoxysilane, (alpha), for example -Acryloxymethyltrimethoxysilane, β-methacryloxyethyltrimethoxysilane, β-acryloxyethyltrimethoxysilane, б-methacryloxybutyltrimethoxysilane, б-acryloxybutyltrimethoxysilane , (epsilon) -methacryloxy pentyl trimethoxysilane, (epsilon) -acryloxy pentyl trimethoxysilane, (gamma)-methacryloxypropyl triethoxysilane, (gamma) -acryloxypropyl triethoxysilane, (alpha)-methacryloxymethyl tri Ethoxysilane, (alpha) -acryloxymethyl triethoxysilane, (beta) -methacryloxyethyl triethoxysilane, (beta) -acryloxyethyl triethoxysilane, б-methacryloxy butyl triethoxysilane, б-acryloxy Butyltriethoxysilane, ε-methacryloxyphene Tyltriethoxysilane, (epsilon) -acryloxypentyl triethoxysilane, 2-hydroxy-5- (trimethoxy silanyl) -pentyl ester, methacrylic acid 2-hydroxy-5- (trimethoxy Silanyl) -pentyl ester, acrylic acid-1-hydroxymethyl-4- (trimethoxysilanyl) -butyl ester, methacrylic acid-1-hydroxymethyl-4- (trimethoxysilanyl) -butyl ester These etc. are mentioned, At least 1 sort (s) chosen from the group which consists of these can be used preferably. Especially preferably, it is at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of (gamma) -methacryloxypropyl trimethoxysilane and (gamma) -acryloxypropyl trimethoxysilane.

{화합물(a2)}{Compound (a2)}

화합물(a2)은, 에폭시기를 갖는 가수 분해성 실란 화합물이다.Compound (a2) is a hydrolyzable silane compound having an epoxy group.

화합물(a2)에 있어서의 에폭시기는, 하기식 (X1-1) 또는 (X1-2):Compound to the epoxy group, of the (a2) formula (X 1 -1) or (X 1 -2):

 

Figure pat00004
 
Figure pat00004

로 나타나는 기에 포함되는 것으로서 존재하는 것이 바람직하다.It is preferable to exist as what is contained in the group represented by these.

본 발명에 있어서의 화합물(a2)로서는, 예를 들면 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필트리에톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필디메틸메톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필디메틸에톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리에톡시실란 등을 들 수 있고, 이들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 바람직하게 사용할 수 있다. 이들 중, 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란 및 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 특히 바람직하다.Examples of the compound (a2) in the present invention include 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidyloxypropyldimethylmethoxysilane, 3-glycidyloxypropyldimethylethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimeth Oxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, etc. are mentioned, At least 1 sort (s) chosen from the group which consists of these can be used preferably. Among these, it is particularly preferable to use at least one selected from the group consisting of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane and 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane.

{기타 가수 분해성 실란 화합물}{Other Hydrolyzable Silane Compounds}

(A) 제1 중합체를 제조하기 위해 행해지는 가수 분해성 실란 화합물의 가수 분해 축합 반응에 있어서는, 가수 분해성 실란 화합물로서 상기 화합물(a1) 또는 (a2) 또는 이들의 혼합물과 함께, 화합물(a1), (a2) 이외의 가수 분해성 실란 화합물(이하, 「화합물(a3)」이라고도 함)을 병용할 수도 있다. 이 화합물(a3)은, (메타)아크릴로일기 및 에폭시기를 갖지 않는 가수 분해성 실란 화합물이다.(A) In the hydrolytic condensation reaction of the hydrolyzable silane compound carried out to produce the first polymer, the compound (a1), together with the compound (a1) or (a2) or a mixture thereof as the hydrolyzable silane compound, A hydrolyzable silane compound (hereinafter also referred to as "compound (a3)") other than (a2) can also be used together. This compound (a3) is a hydrolysable silane compound which does not have a (meth) acryloyl group and an epoxy group.

이러한 화합물(a3)의 구체예로서는, 예를 들면 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 3-(메타)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메타)아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리에톡시실란, 머캅토메틸트리메톡시실란, 머캅토메틸트리에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란 등을 들 수 있고, 이들로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있다.As a specific example of such a compound (a3), for example, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyl trimethoxysilane, 3- ( Meta) acryloxypropyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, mercaptomethyltrimethoxysilane, Mercaptomethyl triethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyl diethoxysilane, etc. are mentioned, At least 1 sort (s) chosen from the group which consists of these can be used.

[가수 분해성 실란 화합물의 가수 분해 축합 반응][Hydrolytic Condensation Reaction of Hydrolyzable Silane Compound]

본 발명에 있어서의 가수 분해성 실란 화합물의 가수 분해 축합 반응은, 상기와 같은 각 가수 분해성 실란 화합물 또는 그의 혼합물과 물을, 바람직하게는 적당한 촉매 및 유기 용매의 존재하에 반응시킴으로써 행할 수 있다. 가수 분해성 실란 화합물의 바람직한 사용 비율은, 채용하는 제조 방법에 대응하여 이하와 같이 상이하다.The hydrolytic condensation reaction of the hydrolyzable silane compound in the present invention can be carried out by reacting each of the hydrolyzable silane compounds or mixtures thereof and water in the presence of a suitable catalyst and an organic solvent. The preferable use ratio of a hydrolyzable silane compound differs as follows according to the manufacturing method employ | adopted.

제1 중합체의 제조를 상기 방법(1)에 의한 경우, 가수 분해성 실란 화합물의 전체에 차지하는 화합물(a1)의 비율은 5몰% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 10∼70몰%로 하는 것이 보다 바람직하며, 20∼50몰%로 하는 것이 더욱 바람직하다. 방법(1)에 있어서, 화합물(a1) 외에 다른 가수 분해성 실란 화합물을 사용하는 경우, 다른 가수 분해성 실란 화합물로서는 상기 화합물(a2) 및 화합물(a3)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있다.In the case of producing the first polymer by the above method (1), the proportion of the compound (a1) in the whole hydrolyzable silane compound is preferably 5 mol% or more, more preferably 10 to 70 mol%. More preferably, it is 20-50 mol%. In the method (1), when using a hydrolyzable silane compound other than the compound (a1), at least one selected from the group consisting of the compound (a2) and the compound (a3) can be used as another hydrolyzable silane compound. have.

제1 중합체의 제조를 상기 방법(2)에 의한 경우, 가수 분해성 실란 화합물의 전체에 차지하는 화합물(a2)의 비율은 70몰% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 80몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하며, 90몰% 이상으로 하는 것이 더욱 바람직하다. 방법(2)에 있어서, 화합물(a2) 외에 다른 가수 분해성 실란 화합물을 사용하는 경우, 다른 가수 분해성 실란 화합물로서는 상기 화합물(a1) 및 화합물(a3)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있고, 상기 화합물(a3)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하다. 방법(2)를 채용하는 경우, 가수 분해성 실란 화합물로서는 화합물(a2)만을 사용하는 것이 가장 바람직하다.When the production of the first polymer is carried out by the above method (2), the proportion of the compound (a2) in the whole hydrolyzable silane compound is preferably 70 mol% or more, more preferably 80 mol% or more. It is more preferable to set it as 90 mol% or more. In the method (2), in the case of using other hydrolyzable silane compounds in addition to the compound (a2), at least one selected from the group consisting of the compound (a1) and the compound (a3) can be used as another hydrolyzable silane compound. It is preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of said compound (a3). When employing the method (2), it is most preferable to use only the compound (a2) as the hydrolyzable silane compound.

제1 중합체의 제조를 상기 방법(3)에 의한 경우, 가수 분해성 실란 화합물의 전체에 차지하는 화합물(a1)의 비율은 5∼90몰%로 하는 것이 바람직하고, 10∼70몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하며, 20∼60몰%로 하는 것이 더욱 바람직하고;When manufacturing a 1st polymer by the said method (3), it is preferable that the ratio of the compound (a1) which occupies for the whole hydrolysable silane compound shall be 5-90 mol%, and it shall be 10-70 mol% or more. It is more preferable, It is further more preferable to set it as 20-60 mol%;

가수 분해성 실란 화합물의 전체에 차지하는 화합물(a2)의 비율은 10∼95몰%로 하는 것이 바람직하고, 20∼90몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하며, 40∼80몰%로 하는 것이 더욱 바람직하다. 방법(3)에 있어서, 화합물(a1) 및 화합물(a2) 외에 다른 가수 분해성 실란 화합물을 사용하는 경우, 다른 가수 분해성 실란 화합물로서는 상기 화합물(a3)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있다.The proportion of the compound (a2) in the total of the hydrolyzable silane compound is preferably 10 to 95 mol%, more preferably 20 to 90 mol% or more, and even more preferably 40 to 80 mol%. . In the method (3), in the case of using other hydrolyzable silane compounds in addition to the compound (a1) and the compound (a2), at least one selected from the group consisting of the compound (a3) can be used as the other hydrolyzable silane compounds. have.

제1 중합체의 제조를 상기 방법(4)에 의한 경우, 가수 분해성 실란 화합물의 전체에 차지하는 화합물(a2)의 비율은 10몰% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 20몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하며, 40몰% 이상으로 하는 것이 더욱 바람직하다. 방법(4)에 있어서, 화합물(a2) 외에 다른 가수 분해성 실란 화합물을 사용하는 경우, 다른 가수 분해성 실란 화합물로서는 상기 화합물(a1) 및 화합물(a3)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있고, 상기 화합물(a3)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하다. 방법(4)를 채용하는 경우, 가수 분해성 실란 화합물로서는 화합물(a2)만을 사용하는 것이 가장 바람직하다.When the production of the first polymer is carried out by the above method (4), the proportion of the compound (a2) in the whole hydrolyzable silane compound is preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more. It is more preferable to set it as 40 mol% or more. In the method (4), in the case of using other hydrolyzable silane compounds in addition to the compound (a2), at least one selected from the group consisting of the compound (a1) and the compound (a3) can be used as another hydrolyzable silane compound. It is preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of said compound (a3). When employing the method (4), it is most preferable to use only the compound (a2) as the hydrolyzable silane compound.

제1 중합체의 제조를 상기 방법(5)에 의한 경우, 그의 원료로서 사용되는 (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산은 상기 방법(1) 또는 (2)에 의해 얻을 수 있다.When manufacturing a 1st polymer by the said method (5), the polyorganosiloxane which has a (meth) acryloyl group used as its raw material can be obtained by the said method (1) or (2).

상기 방법(5)에 사용하는 원료로서의 (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노Polyorgano which has a (meth) acryloyl group as a raw material used for the said method (5)

실록산을 상기 방법(1)에 의해 제조하는 경우, 당해 원료 폴리오가노실록산을 제조하기 위한 가수 분해 축합 반응에 사용하는 가수 분해성 실란 화합물의 전체에 차지하는 화합물(a1)의 비율은 30몰% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 50몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하다. 이 경우에 있어서, 화합물(a1) 외에 다른 가수 분해성 실란 화합물을 사용하는 경우, 다른 가수 분해성 실란 화합물로서는 상기 화합물(a2) 및 화합물(a3)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있다.When manufacturing siloxane by the said method (1), the ratio of the compound (a1) which occupies for the whole hydrolyzable silane compound used for the hydrolysis condensation reaction for manufacturing the said raw material polyorganosiloxane shall be 30 mol% or more. It is preferable, and it is more preferable to set it as 50 mol% or more. In this case, when using other hydrolyzable silane compounds other than compound (a1), at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of said compound (a2) and a compound (a3) can be used as another hydrolyzable silane compound.

상기 방법(5)에 사용하는 원료로서의 (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산을 상기 방법(2)에 의해 제조하는 경우, 당해 원료 폴리오가노실록산을 제When manufacturing the polyorganosiloxane which has a (meth) acryloyl group as a raw material used for the said method (5) by the said method (2), the said raw material polyorganosiloxane is removed.

조하기 위한 가수 분해 축합 반응에 사용하는 가수 분해성 실란 화합물의 전체에 차지하는 화합물(a2)의 비율은 70몰% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 80몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하며, 90몰% 이상으로 하는 것이 더욱 바람직하다. 이 경우에 있어서, 화합물(a2) 외에 다른 가수 분해성 실란 화합물을 사용하는 경우, 다른 가수 분해성 실란 화합물로서는 상기 화합물(a1) 및 화합물(a3)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용할 수 있고, 상기 화합물(a3)로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 방법(5)에 사용하는 원료로서의 (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산을 상기 방법(2)에 의해 제조하는 경우, 가수 분해성 실란 화합물로서는 화합물(a2)만을 사용하는 것이 가장 바람직하다.It is preferable to make the ratio of the compound (a2) in the whole hydrolyzable silane compound used for the hydrolysis condensation reaction for preparation into 70 mol% or more, It is more preferable to set it as 80 mol% or more, 90 mol% or more It is more preferable to set it as. In this case, when using other hydrolyzable silane compounds in addition to the compound (a2), at least 1 type selected from the group which consists of said compound (a1) and a compound (a3) can be used as another hydrolyzable silane compound, It is preferable to use at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of said compound (a3). When manufacturing the polyorganosiloxane which has a (meth) acryloyl group as a raw material used for the said method (5) by the said method (2), it is most preferable to use only compound (a2) as a hydrolyzable silane compound.

가수 분해 축합 반응시에 사용되는 물의 사용 비율은 가수 분해성 실란 화합물의 합계 1몰에 대하여, 바람직하게는 0.5∼100몰이며, 보다 바람직하게는 1∼30몰이다.The use ratio of water used at the time of hydrolytic condensation reaction becomes like this. Preferably it is 0.5-100 mol with respect to 1 mol of total of a hydrolyzable silane compound, More preferably, it is 1-30 mol.

상기 촉매로서는 예를 들면 산, 알칼리 금속 화합물, 유기 염기, 티탄 화합물, 지르코늄 화합물 등을 이용할 수 있다.As said catalyst, an acid, an alkali metal compound, an organic base, a titanium compound, a zirconium compound, etc. can be used, for example.

상기 알칼리 금속 화합물로서는, 예를 들면 수산화 나트륨, 수산화 칼륨, 나트륨메톡사이드, 칼륨메톡사이드, 나트륨에톡사이드, 칼륨에톡사이드 등을 들 수 있다.As said alkali metal compound, sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium methoxide, potassium methoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide, etc. are mentioned, for example.

상기 유기 염기로서는, 예를 들면 에틸아민, 디에틸아민, 피페라진, 피페리딘, 피롤리딘, 피롤과 같은 1∼2급의 유기 아민;Examples of the organic base include primary and secondary organic amines such as ethylamine, diethylamine, piperazine, piperidine, pyrrolidine and pyrrole;

트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 디아자바이사이클로운데센과 같은 3급의 유기 아민;Tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, diazabicycloundecene;

테트라메틸암모늄하이드록사이드와 같은 4급의 유기 아민 등을 각각 들 수 있다. 이들 유기 염기 중, 트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘과 같은 3급의 유기 아민; And quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide, and the like. Among these organic bases, tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine and 4-dimethylaminopyridine;

테트라메틸암모늄하이드록사이드와 같은 4급의 유기 아민이 바람직하다.Preference is given to quaternary organic amines, such as tetramethylammonium hydroxide.

가수 분해 축합 반응을 행할 때의 촉매로서는 알칼리 금속 화합물 또는 유기 염기가 바람직하다. 알칼리 금속 화합물 또는 유기 염기를 촉매로서 이용함으로써, 에폭시기의 개환 등의 부(副)반응을 일으키는 일 없이 높은 가수 분해 축합 속도로 목적으로 하는 폴리오가노실록산을 얻을 수 있기 때문에, 생산 안정성이 우수해져 바람직하다. 또한, 촉매로서 알칼리 금속 화합물 또는 유기 염기를 이용하여 합성된 에폭시기를 갖는 폴리오가노실록산과 카본산과의 반응 생성물인 제1 중합체를 함유하는 중합체 조성물은, 보존 안정성이 매우 우수하기 때문에 매우 적합하다. 그 이유는, 가수 분해 축합 반응에 있어서 촉매로서 알칼리 금속 화합물 또는 유기 염기를 이용하면, 비특허문헌 2(Chemical Reviews, 95권, p.1409(1995년))에 지적되어 있는 것과 같이, 고도로 가교한 3차원 구조가 형성됨으로써, 실라놀기의 함유 비율이 적은 폴리오가노실록산이 얻어지기 때문이라고 짐작된다. 즉 이러한 폴리오가노실록산은, 실라놀기의 함유 비율이 적기 때문에, 실라놀기끼리의 축합 반응이 억제되고, 또한 본 발명에 있어서의 중합체 조성물에 함유되는 제2 중합체와의 축합 반응이 억제되기 때문에, 보존 안정성이 우수한 결과가 되는 것으로 짐작된다.As a catalyst at the time of performing a hydrolysis condensation reaction, an alkali metal compound or an organic base is preferable. By using an alkali metal compound or an organic base as a catalyst, the desired polyorganosiloxane can be obtained at a high hydrolysis condensation rate without causing side reactions such as ring opening of an epoxy group, so that production stability is excellent and preferable. Do. Moreover, the polymer composition containing the 1st polymer which is a reaction product of the polyorganosiloxane which has the epoxy group synthesize | combined using the alkali metal compound or the organic base as a catalyst and carbonic acid is very suitable, since it is very excellent in storage stability. The reason is that when an alkali metal compound or an organic base is used as a catalyst in the hydrolytic condensation reaction, as indicated in Non-Patent Document 2 (Chemical Reviews, 95, p. 1409 (1995)), highly crosslinking It is guessed that the polyorganosiloxane with a small content rate of a silanol group is obtained by forming one three-dimensional structure. That is, since such polyorganosiloxane has a small content rate of silanol groups, condensation reaction of silanol groups is suppressed and condensation reaction with the 2nd polymer contained in the polymer composition in this invention is suppressed, and it is preserve | saved. It is estimated that stability will be an excellent result.

촉매로서는, 특히 유기 염기가 바람직하다. 유기 염기의 사용량은, 유기 염기의 종류, 온도 등의 반응 조건 등에 따라 상이하며, 적절히 설정되어야 하지만, 예를 들면 가수 분해성 실란 화합물의 합계 1몰에 대하여, 바람직하게는 0.01∼3몰이며, 보다 바람직하게는 0.05∼1몰이다.As the catalyst, an organic base is particularly preferable. Although the usage-amount of an organic base differs with reaction conditions, such as the kind of organic base, temperature, etc., and should be set suitably, For example, it is 0.01-3 mol with respect to 1 mol of total of a hydrolyzable silane compound, More Preferably it is 0.05-1 mol.

가수 분해 축합 반응을 행할 때 사용할 수 있는 유기 용매로서는, 예를 들면 탄화 수소, 케톤, 에스테르, 에테르, 알코올 등을 들 수 있다.As an organic solvent which can be used when performing a hydrolysis condensation reaction, hydrocarbon, a ketone, ester, an ether, alcohol, etc. are mentioned, for example.

상기 탄화 수소로서는, 예를 들면 톨루엔, 자일렌 등을;As said hydrocarbon, For example, toluene, xylene, etc .;

상기 케톤으로서는, 예를 들면 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸n-아밀 케톤, 디에틸케톤, 사이클로헥사논 등을;As said ketone, For example, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl n-amyl ketone, diethyl ketone, cyclohexanone, etc .;

상기 에스테르로서는, 예를 들면 아세트산 에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산i-아밀, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 락트산에틸 등을;Examples of the ester include ethyl acetate, n-butyl acetate, i-amyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, ethyl lactate, and the like;

상기 에테르로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디 에틸에테르, 테트라하이드로푸란, 디옥산 등을;As said ether, For example, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran, dioxane, etc .;

상기 알코올로서는, 예를 들면 1-헥산올, 4-메틸-2-펜탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르 등을 각각 들 수 있다. 이들 중 비(非)수용성인 것이 바람직하고, 이러한 유기 용매로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 바람직하게 사용할 수 있다.Examples of the alcohol include 1-hexanol, 4-methyl-2-pentanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, and ethylene glycol mono-n-butyl ether. , Propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether and the like. It is preferable that they are non-water-soluble among these, and 1 or more types chosen from the group which consists of such organic solvent can be used preferably.

가수 분해 축합 반응을 행할 때의 유기 용매의 사용 비율은, 가수 분해성 실란 화합물의 합계 100중량부에 대하여, 바람직하게는 10∼10,000중량부이며, 보다 바람직하게는 50∼1,000중량부이다.The use ratio of the organic solvent at the time of performing a hydrolysis condensation reaction becomes like this. Preferably it is 10-10,000 weight part with respect to a total of 100 weight part of a hydrolyzable silane compound, More preferably, it is 50-1,000 weight part.

가수 분해 축합 반응은, 상기와 같은 가수 분해성 실란 화합물 또는 그의 혼합물을 유기 용매에 용해시키고, 이 용액을 유기 염기 및 물과 혼합하여, 예를 들면 유욕(油浴) 등에 의해 가열함으로써 실시하는 것이 바람직하다.The hydrolytic condensation reaction is preferably carried out by dissolving the above hydrolyzable silane compound or a mixture thereof in an organic solvent, mixing the solution with an organic base and water, and heating it with, for example, an oil bath or the like. Do.

가수 분해 축합 반응시에는, 가열 온도를 바람직하게는 130℃ 이하, 보다 바람직하게는 40∼100℃로 하고, 바람직하게는 0.5∼12시간, 보다 바람직하게는 1∼8시간 가열하는 것이 바람직하다. 가열 중에는, 혼합액을 교반시키거나 환류하에 두어도 좋다.At the time of a hydrolysis condensation reaction, heating temperature becomes like this. Preferably it is 130 degrees C or less, More preferably, it is 40-100 degreeC, It is preferable to heat 0.5 to 12 hours, More preferably, it is 1 to 8 hours. During heating, the mixed liquid may be stirred or placed under reflux.

반응 종료 후, 반응액으로부터 분취한 유기 용매층을 물로 세정하는 것이 바람직하다. 이 세정시에는, 소량의 염을 포함하는 물, 예를 들면 0.2중량% 정도의 질산 암모늄 수용액 등으로 세정함으로써, 세정 조작이 용이해지는 점에서 바람직하다. 세정은 세정 후의 수층이 중성이 될 때까지 행하고, 그 후 유기 용매층을, 필요에 따라서 무수 황산 칼슘, 분자체(Molecular Sieves) 등의 적당한 건조제로 건조시킨 후 용매를 제거함으로써, 목적으로 하는 가수 분해 축합물을 얻을 수 있다.It is preferable to wash | clean the organic solvent layer fractionated from the reaction liquid after completion | finish of reaction with water. At the time of this washing | cleaning, it wash | cleans with water containing a small amount of salts, for example, about 0.2 weight% of ammonium nitrate aqueous solution, etc., and is preferable at the point which a washing operation becomes easy. The washing is carried out until the water layer after washing is neutral, and then the organic solvent layer is dried with a suitable drying agent such as anhydrous calcium sulfate and molecular sieves, if necessary, and then the solvent is removed. Decomposition condensates can be obtained.

여기에서, 본 발명에 있어서의 (A) 제1 중합체의 제조 방법으로서 상기 방법(2) 또는 방법(4)를 채용하는 경우에는, 에폭시기를 갖는 가수 분해 축합물로서 시판되고 있는 것을 이용할 수도 있다. 이러한 시판품으로서는, 예를 들면 DMS-E01, DMS-E12, DMS-E21, EMS-32(이상, 칫소 가부시키가이샤 제조) 등을 들 수 있다.Here, when employ | adopting the said method (2) or the method (4) as a manufacturing method of (A) 1st polymer in this invention, what is marketed as a hydrolysis-condensation product which has an epoxy group can also be used. As such a commercial item, DMS-E01, DMS-E12, DMS-E21, EMS-32 (above, Chisso Corp. make) etc. are mentioned, for example.

[카본산][Carbon Mountain]

{화합물(b1)}{Compound (b1)}

화합물(b1)은, (메타)아크릴로일기를 갖는 카본산이다. 이러한 화합물(b1)은, (메타)아크릴로일기와 카복실기를 갖는 한, 그 외의 구조는 임의지만, 예를 들면 하기식 (b1-1):Compound (b1) is a carboxylic acid having a (meth) acryloyl group. As long as this compound (b1) has a (meth) acryloyl group and a carboxyl group, other structures are arbitrary, For example, following formula (b1-1):

Figure pat00005
Figure pat00005

(식 (b1-1) 중, R은 수소 원자 또는 메틸기이며, R1은 메틸렌기, 탄소수 2∼10의 알킬렌기, 페닐렌기 또는 사이클로헥실렌기이며, a는 1∼10의 정수이며, b 및 c는 각각 0 또는 1이며, 단, c가 0일 때 b는 1이다.)(In formula (b1-1), R is a hydrogen atom or a methyl group, R <1> is a methylene group, a C2-C10 alkylene group, a phenylene group, or a cyclohexylene group, a is an integer of 1-10, b And c are each 0 or 1, provided that b is 1 when c is 0.)

로 나타나는 화합물을 들 수 있다. R1의 페닐렌기 및 사이클로헥실렌기는 각각 1,2-페닐렌기 및 1,2-사이클로헥실렌기인 것이 바람직하다.The compound represented by is mentioned. It is preferable that the phenylene group and cyclohexylene group of R <1> are 1,2-phenylene group and 1,2-cyclohexylene group, respectively.

이러한 화합물(b1)의 바람직한 구체예로서는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산, 2-아크릴옥시에틸-2-하이드록시에틸-프탈산, 4-(2-메틸-아크릴로일옥시)벤조산, 2-아크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 2-아크릴로일옥시에틸-숙신산, 메타크릴로일옥시에틸 숙신산, 2-메타크릴로일옥시에틸헥사하이드로프탈산, 프탈산 모노하이드록시에틸아크릴레이트 등을 들 수 있고, 이들 중으로부터 선택되는 1종 이상을 사용할 수 있다. 이들 시판품으로서는, 예를 들면 아크릴산, 메타크릴산(이상, 도쿄카세이코교 가부시키가이샤 제조), 라이트에스테르 HO-MS, 라이트에스테르 HO-HH, HOA-MPL, HOA-MS, HOA-HH(이상, 쿄에이샤카가쿠 가부시키가이샤 제조), M-5400(토아고세이 가부시키가이샤 제조)을 들 수 있다.As a preferable specific example of such a compound (b1), acrylic acid, methacrylic acid, 2-acryloxyethyl-2-hydroxyethyl-phthalic acid, 4- (2-methyl- acryloyloxy) benzoic acid, 2-acryl Royloxyethyl hexahydrophthalic acid, 2-acryloyloxyethyl-succinic acid, methacryloyloxyethyl succinic acid, 2-methacryloyloxyethyl hexahydrophthalic acid, phthalic acid monohydroxyethyl acrylate, and the like. And 1 or more types selected from these can be used. As these commercial items, acrylic acid, methacrylic acid (above, Tokyo Kasei Kogyo Co., Ltd.), light ester HO-MS, light ester HO-HH, HOA-MPL, HOA-MS, HOA-HH (above) , Kyoeisha Chemical Co., Ltd. make), and M-5400 (made by Toagosei Co., Ltd.).

{화합물(b2)}{Compound (b2)}

화합물(b2)은, 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖는 카본산이며, 상기식 (D0)으로 나타나는 기와 카복실기를 갖는 한, 그 외의 구조는 임의이다.Compound (b2) has the formula A, and other structures with (D 0) is a carboxylic acid having a group represented by, a carboxyl group and a group represented by the above formula (D 0) is arbitrary.

이 카본산이 갖는 상기식 (D0)으로 나타나는 기는, 상기식 (D0)에 있어서의 RI이 탄소수 4∼40의 알킬기, 탄소수 4∼40의 플루오로알킬기, 시아노기 또는 불소 원자이거나, 또는 스테로이드 골격을 갖는 탄소수 17∼51의 탄화 수소기인 것이 바람직하다. 상기 탄소수 4∼40의 알킬기로서는 탄소수 6∼40의 알킬기인 것이 바람직하고; In the group represented by the formula (D 0 ) that the carboxylic acid has, R I in the formula (D 0 ) is an alkyl group having 4 to 40 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 4 to 40 carbon atoms, a cyano group, or a fluorine atom, or It is preferable that it is a C1-C51 hydrocarbon group which has a steroid skeleton. As said C4-C40 alkyl group, it is preferable that it is a C6-C40 alkyl group;

탄소수 4∼40의 플루오로알킬기로서는, 탄소수 4∼20의 플루오로알킬기인 것이 바람직하다. 이러한 RI의 바람직한 구체예는, 상기식 (D0)으로 나타나는 기에 있어서의 RI의 설명에 있어서 예시한 것 중, 상기한 바람직한 범위에 해당하는 것이다.As a C4-C40 fluoroalkyl group, it is preferable that it is a C4-C20 fluoroalkyl group. Preferred specific examples of such R I correspond to the above-mentioned preferred ranges in the description of R I in the group represented by the formula (D 0 ).

화합물(b2)로서는, 예를 들면 하기식 (b2-1):As a compound (b2), it is following formula (b2-1), for example:

D0-COOH   (b2-1)D 0 -COOH (b2-1)

(식 (b2-1) 중, D0은 상기식 (D0)으로 나타나는 기이다.)(, D 0 in the formula (b2-1) is a group represented by the above formula (D 0).)

로 나타나는 화합물 등을 바람직한 것으로서 들 수 있다.The compound etc. which are represented by are mentioned as a preferable thing.

이러한 화합물(b2)의 바람직한 예로서는, 예를 들면 장쇄(長鎖) 지방산, 장쇄 알킬기를 갖는 벤조산 유도체, 장쇄 알콕실기를 갖는 벤조산 유도체, 스테로이드 골격을 갖는 벤조산 유도체, 다환구조를 갖는 벤조산 유도체, 플루오로알킬기를 갖는 카본산 등을 들 수 있다. 이들의 구체예로서는,As a preferable example of such a compound (b2), a long-chain fatty acid, the benzoic acid derivative which has a long chain alkyl group, the benzoic acid derivative which has a long chain alkoxyl group, the benzoic acid derivative which has a steroid skeleton, the benzoic acid derivative which has a polycyclic structure, fluoro, for example Carbonic acid which has an alkyl group, etc. are mentioned. As these specific examples,

장쇄 지방산으로서, 예를 들면 카프로산, n-옥탄산, n-데칸산, n-도데칸산, n-헥사데칸산, 스테아린산 등을;Examples of the long chain fatty acid include caproic acid, n-octanoic acid, n-decanoic acid, n-dodecanoic acid, n-hexadecanoic acid, stearic acid, and the like;

장쇄 알킬기를 갖는 벤조산 유도체로서, 예를 들면 4-n-헥실벤조산, 4-n-옥틸벤조산, 4-n-데실벤조산, 4-n-도데실벤조산, 4-n-헥사데실벤조산, 4-스테아릴벤조산 등을;As the benzoic acid derivative having a long chain alkyl group, for example, 4-n-hexylbenzoic acid, 4-n-octylbenzoic acid, 4-n-decylbenzoic acid, 4-n-dodecylbenzoic acid, 4-n-hexadecylbenzoic acid, 4- Stearyl benzoic acid and the like;

장쇄 알콕실기를 갖는 벤조산 유도체로서, 예를 들면 4-n-헥실옥시벤조산, 4-n-옥틸옥시벤조산, 4-n-데실옥시벤조산, 4-n-도데실옥시벤조산, 4-n-헥사데실옥시벤조산, 4-스테아릴옥시벤조산 등을;As the benzoic acid derivative having a long chain alkoxyl group, for example, 4-n-hexyloxybenzoic acid, 4-n-octyloxybenzoic acid, 4-n-decyloxybenzoic acid, 4-n-dodecyloxybenzoic acid, 4-n-hexa Decyloxybenzoic acid, 4-stearyloxybenzoic acid and the like;

스테로이드 골격을 갖는 벤조산 유도체로서, 예를 들면 콜레스타닐옥시벤조산, 콜레스테닐옥시벤조산, 라노스타닐옥시벤조산, 콜레스타닐옥시카보닐벤조산, 콜레스테닐옥시카보닐벤조산, 라노스타닐옥시카보닐벤조산, 숙신산-5ξ-콜레스탄-3-일, 숙신산-5ξ-콜레스텐-3-일, 숙신산-5ξ-라노스탄-3-일 등을;As the benzoic acid derivative having a steroid skeleton, for example, cholestanyloxybenzoic acid, cholestenyloxybenzoic acid, ranostanyloxybenzoic acid, cholestanyloxycarbonylbenzoic acid, cholestenyloxycarbonylbenzoic acid, ranostanyloxycarbon Nielbenzoic acid, succinic acid-5ξ-cholestan-3-yl, succinic acid-5ξ-cholester-3-yl, succinic acid-5ξ-lanostane-3-yl and the like;

다환구조를 갖는 벤조산 유도체로서, 예를 들면 4-(4-펜틸-사이클로헥실)벤조산, 4-(4-헥실-사이클로헥실)벤조산, 4-(4-헵틸-사이클로헥실)벤조산, 4'-펜틸-바이사이클로헥실-4-카본산, 4'-헥실-바이사이클로헥실-4-카본산, 4'-헵틸-바이사이클로헥실-4-카본산, 4'-펜틸-비페닐-4-카본산, 4'-헥실-비페닐-4-카본산, 4'-헵틸-비페닐-4-카본산, 4-(4-펜틸-바이사이클로헥실-4-일)벤조산, 4-(4-헥실-바이사이클로헥실-4-일)벤조산, 4-(4-헵틸-바이사이클로헥실-4-일)벤조산, 6-(4'-시아노비페닐-4-일옥시)헥사노산 등을;As the benzoic acid derivative having a polycyclic structure, for example, 4- (4-pentyl-cyclohexyl) benzoic acid, 4- (4-hexyl-cyclohexyl) benzoic acid, 4- (4-heptyl-cyclohexyl) benzoic acid, 4'- Pentyl-bicyclohexyl-4-carboxylic acid, 4'-hexyl-bicyclohexyl-4-carboxylic acid, 4'-heptyl-bicyclohexyl-4-carboxylic acid, 4'-pentyl-biphenyl-4-carbon Acid, 4'-hexyl-biphenyl-4-carboxylic acid, 4'-heptyl-biphenyl-4-carboxylic acid, 4- (4-pentyl-bicyclohexyl-4-yl) benzoic acid, 4- (4- Hexyl-bicyclohexyl-4-yl) benzoic acid, 4- (4-heptyl-bicyclohexyl-4-yl) benzoic acid, 6- (4'-cyanobiphenyl-4-yloxy) hexanoic acid and the like;

플루오로알킬기를 갖는 카본산으로서, 예를 들면 하기식 (b2-1-1) 및 (b2-1-2):As the carboxylic acid having a fluoroalkyl group, for example, the following formulas (b2-1-1) and (b2-1-2):

Figure pat00006
Figure pat00006

(식 (b2-1-1) 및 (b2-1-2) 중, d는 각각 0∼2의 정수이며, e는 각각 3∼18의 정수이다.)(In formula (b2-1-1) and (b2-1-2), d is an integer of 0-2, respectively, and e is an integer of 3-18, respectively.)

의 각각으로 나타나는 화합물 등을 각각 들 수 있다.The compound etc. which are represented by each of these are mentioned, respectively.

{기타 카본산}{Other Carbonic Acid}

(A) 제1 중합체를 제조하기 위해 행해지는, 에폭시기를 갖는 가수 분해 축합물과 카본산과의 반응에 있어서는, 카본산으로서 상기 화합물(b1) 또는 (b2) 또는 이들의 혼합물과 함께, 화합물(b1), (b2) 이외의 카본산(이하, 「화합물(b3)」이라고도 함)을 병용할 수도 있다. 이 화합물(b3)은, (메타)아크릴로일기 및 에폭시기를 갖지 않는 카본산이다.(A) In reaction of the hydrolysis-condensation product which has an epoxy group, and carbonic acid performed in order to manufacture a 1st polymer, it is a compound (b1) with the said compound (b1) or (b2) or a mixture thereof as carbonic acid. ) and (b2) other than carbonic acid (hereinafter also referred to as "compound (b3)") can also be used together. This compound (b3) is a carboxylic acid which does not have a (meth) acryloyl group and an epoxy group.

이러한 카본산으로서는, 예를 들면 포름산, 아세트산, 프로피온산, 벤조산, 메틸벤조산 등을 들 수 있다.As such carbonic acid, formic acid, acetic acid, propionic acid, benzoic acid, methyl benzoic acid, etc. are mentioned, for example.

[에폭시기를 갖는 가수 분해 축합물과 카본산과의 반응][Reaction of Hydrolyzed Condensate Having Epoxy Group with Carbonic Acid]

에폭시기를 갖는 가수 분해 축합물과 카본산과의 반응은, 상기 방법(2)∼(4)Reaction of the hydrolysis-condensate which has an epoxy group, and a carbonic acid is said method (2)-(4)

의 가수 분해 축합 반응에서 얻어진 에폭시기를 갖는 가수 분해 축합물과 상기 카본산을, 바람직하게는 촉매 및 유기 용매의 존재하에 반응시킴으로써, 행할 수 있다.The hydrolysis-condensation product having the epoxy group obtained in the hydrolysis-condensation reaction of the carboxylic acid can be carried out by reacting preferably in the presence of a catalyst and an organic solvent.

제1 중합체의 제조를, 상기 방법(2)에 의한 경우, 카본산으로서는 화합물(bWhen manufacturing a 1st polymer by the said method (2), it is a compound (b) as carboxylic acid

1)만을 이용하거나, 혹은 화합물(b1) 및 화합물(b3)의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다. 여기에서, 화합물(b1)의 사용 비율은, 카본산의 전부에 대하여, 75몰% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 90몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하다.It is preferable to use only 1) or to use a mixture of compound (b1) and compound (b3). Here, it is preferable to set it as 75 mol% or more with respect to all the carboxylic acids, and, as for the usage ratio of a compound (b1), it is more preferable to set it as 90 mol% or more.

제1 중합체의 제조를, 상기 방법(3)에 의한 경우, 카본산으로서는 화합물(bWhen the production of the first polymer is carried out by the method (3), the carboxylic acid is a compound (b)

2)만을 이용하거나, 혹은 화합물(b2) 및 화합물(b3)의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다. 여기에서, 화합물(b2)의 사용 비율은, 카본산의 전부에 대하여, 75몰% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 90몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하다.It is preferable to use only 2) or to use a mixture of compound (b2) and compound (b3). Here, it is preferable to set it as 75 mol% or more with respect to all the carboxylic acids, and, as for the usage ratio of a compound (b2), it is more preferable to set it as 90 mol% or more.

제1 중합체의 제조를, 상기 방법(4)에 의한 경우, 카본산으로서는 화합물(bWhen the production of the first polymer is carried out by the above method (4), as the carbonic acid, the compound (b

1)과 (b2)와의 혼합물 또는 화합물(b1)∼(b3)의 혼합물을 사용하는 것이 바람직하다. 여기에서, 화합물(b1)의 사용 비율은, 카본산의 전부에 대하여, 30∼60몰%로 하는 것이 바람직하고, 35∼50몰%로 하는 것이 보다 바람직하며;It is preferable to use a mixture of 1) and (b2) or a mixture of compounds (b1) to (b3). Here, it is preferable to set it as 30-60 mol% with respect to the whole carbonic acid, and, as for the usage ratio of a compound (b1), it is more preferable to set it as 35-50 mol%;

화합물(b2)의 사용 비율은, 카본산의 전부에 대하여, 40∼70몰%로 하는 것이 바람직하고, 50∼65몰%로 하는 것이 보다 바람직하다.It is preferable to set it as 40-70 mol% with respect to all the carboxylic acids, and, as for the usage ratio of a compound (b2), it is more preferable to set it as 50-65 mol%.

에폭시기를 갖는 가수 분해 축합물과 카본산과의 반응에 있어서 카본산의 사용 비율로서는, 가수 분해 축합물이 갖는 에폭시기에 대한, 카본산 합계의 몰수 비율로서,As a use ratio of carbonic acid in reaction of the hydrolysis-condensation product which has an epoxy group, and carbonic acid as a mole ratio of the total carbonic acid with respect to the epoxy group which a hydrolysis-condensation product has,

상기 방법(2)에 있어서는, 바람직하게는 5몰% 이상이며, 보다 바람직하게는 10∼80몰%이고, 더욱 바람직하게는 15∼60몰%이며, 특히 바람직하게는 20∼40몰%이고;In the said method (2), Preferably it is 5 mol% or more, More preferably, it is 10-80 mol%, More preferably, it is 15-60 mol%, Especially preferably, it is 20-40 mol%;

상기 방법(3)에 있어서는, 바람직하게는 2몰% 이상이며, 보다 바람직하게는 2∼50몰%이고, 더욱 바람직하게는 5∼40몰%이며, 특히 바람직하게는 10∼30몰%이고;In the said method (3), Preferably it is 2 mol% or more, More preferably, it is 2-50 mol%, More preferably, it is 5-40 mol%, Especially preferably, it is 10-30 mol%;

상기 방법(4)에 있어서는, 바람직하게는 7몰% 이상이며, 보다 바람직하게는 10몰% 이상이고, 더욱 바람직하게는 20∼80몰%이며, 특히 바람직하게는 30∼60몰%이다.In the said method (4), Preferably it is 7 mol% or more, More preferably, it is 10 mol% or more, More preferably, it is 20-80 mol%, Especially preferably, it is 30-60 mol%.

에폭시기를 갖는 가수 분해 축합물과 카본산과의 반응에 있어서 사용할 수 있는 촉매로서는, 유기 염기를 사용할 수 있는 것 외에, 에폭시 화합물의 반응을 촉진시키는 소위 경화 촉진제로서 공지의 화합물을 이용할 수 있다.As a catalyst which can be used in the reaction of the hydrolysis-condensation product which has an epoxy group, and a carbonic acid, an organic base can be used and a well-known compound can be used as what is called a hardening accelerator which accelerates reaction of an epoxy compound.

상기 유기 염기로서는, 예를 들면 에틸아민, 디에틸아민, 피페라진, 피페리딘, 피롤리딘, 피롤과 같은 1∼2급 유기 아민;Examples of the organic base include primary and secondary organic amines such as ethylamine, diethylamine, piperazine, piperidine, pyrrolidine, and pyrrole;

트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 디아자바이사이클로운데센과 같은 3급의 유기 아민;Tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, diazabicycloundecene;

테트라메틸암모늄하이드록사이드와 같은 4급의 유기 아민 등을 들 수 있다. 이들 유기 염기 중, 트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘과 같은 3급의 유기 아민; And quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide. Among these organic bases, tertiary organic amines such as triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine and 4-dimethylaminopyridine;

테트라메틸암모늄하이드록사이드와 같은 4급의 유기 아민이 바람직하다.Preference is given to quaternary organic amines, such as tetramethylammonium hydroxide.

상기 경화 촉진제로서는, 예를 들면 벤질디메틸아민, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀, 사이클로헥실디메틸아민, 트리에탄올아민과 같은 3급 아민;As said hardening accelerator, For example, tertiary amines, such as benzyl dimethylamine, 2,4,6- tris (dimethylaminomethyl) phenol, cyclohexyl dimethylamine, and triethanolamine;

2-메틸이미다졸, 2-n-헵틸이미다졸, 2-n-운데실이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 1-벤질-2-메틸이미다졸, 1-벤질-2-페닐이미다졸, 1,2-디메2-methylimidazole, 2-n-heptylimidazole, 2-n-undecylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2- Methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1,2-dimeth

틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-메틸이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-n-운데실이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-페닐이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-하이드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4, 5-디(하이드록시메틸)이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-페닐-4,5-디〔(2'-시아노에톡시)메틸]이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-n-운데실이미다졸륨트리멜리테이트, 1-(2-시아노에틸)-2-페닐이미다졸륨트리멜리테이트, 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸륨트리멜리테이트, 2,4-디아미노-6-〔2'-메틸이미다졸릴-(1')〕에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6-(2'-n-운데실이미다졸릴)에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6-〔2'-에틸-4'-메틸이미다졸릴-(1')〕에틸-s-트리아진, 2-메틸이미다졸의 이소시아눌산부가물, 2-페닐이미다졸의 이소시아눌산 부가물, 2,4-디아미노-6-〔2'-메틸이미다졸릴-(1')〕에틸-s-트리아진의 이소시아눌산 부가물과 같은 이미다졸 화합물;Thilimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-methylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-n-undecyl Midazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-phenylimidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5 -Hydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4, 5-di (hydroxymethyl) imidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-phenyl-4,5-di [(2'-sia Noethoxy) methyl] imidazole, 1- (2-cyanoethyl) -2-n-undecylimidazolium trimellitate, 1- (2-cyanoethyl) -2-phenylimidazolium trimelli Tate, 1- (2-cyanoethyl) -2-ethyl-4-methylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')] ethyl -s-triazine, 2,4-diamino-6- (2'-n-undecylimidazolyl) ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4 '-Methylimidazolyl- (1')] ethyl-s-triazine, isocyanuric acid adduct of 2-methylimidazole, isocyanuric acid adduct of 2-phenylimidazole, 2,4- Amino-6 [2'-methylimidazole imidazolyl (1 ')] ethyl -s- isocyanuric acid addition imidazole compounds such as water-triazine;

디페닐포스핀, 트리페닐포스핀, 아인산 트리페닐과 같은 유기 인 화합물;Organic phosphorus compounds such as diphenylphosphine, triphenylphosphine and triphenyl phosphite;

벤질트리페닐포스포늄클로라이드, 테트라-n-부틸포스포늄브로마이드, 메틸트리페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄브로마이드, n-부틸트리페닐포스포늄브로마이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄요오드, 에틸트리페닐포스포늄아세테이트, 테트라-n-부틸포스포늄-o,o-디에틸포스포로디티오네이트, 테트라-n-부틸포스포늄벤조트리아졸레이트, 테트라-n-부틸포스포늄테트라플루오로보레이트, 테트라-n-부틸포스포늄테트라페닐보레이트, 테트라페닐포스포늄테트라페닐보레이트와 같은 4급 포스포늄염;Benzyltriphenylphosphonium chloride, tetra-n-butylphosphonium bromide, methyltriphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium bromide, n-butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, ethyltriphenylphosphonium Iodine, ethyltriphenylphosphonium acetate, tetra-n-butylphosphonium-o, o-diethylphosphorodithionate, tetra-n-butylphosphonium benzotriazoleate, tetra-n-butylphosphonium tetrafluoro Quaternary phosphonium salts such as loborate, tetra-n-butylphosphonium tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium tetraphenylborate;

1,8-디아자바이사이클로[5.4.0]운데센-7이나 그의 유기산 염과 같은 디아자바이사이클로알켄;Diazabicycloalkenes such as 1,8-diazabicyclo [5.4.0] undecene-7 or organic acid salts thereof;

옥틸산 아연, 옥틸산 주석, 알루미늄아세틸아세톤 착체와 같은 유기 금속 화합물;Organometallic compounds such as zinc octylate, octylate tin and aluminum acetylacetone complex;

테트라에틸암모늄브로마이드, 테트라-n-부틸암모늄브로마이드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 테트라-n-부틸암모늄클로라이드와 같은 4급 암모늄염;Quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium bromide, tetra-n-butylammonium bromide, tetraethylammonium chloride, tetra-n-butylammonium chloride;

3불화 붕소, 붕산 트리페닐과 같은 붕소 화합물;Boron compounds such as boron trifluoride and triphenyl borate;

염화 아연, 염화 제2 주석과 같은 금속 할로겐 화합물;Metal halide compounds such as zinc chloride and tin tin;

디시안디아미드나 아민과 에폭시 수지와의 부가물 등의 아민 부가형 촉진제등의 고융점 분산형 잠재성 경화 촉진제;High-melting-point dispersion | distribution type latent hardening accelerators, such as an amine addition type accelerator, such as a dicyandiamide, an amine, and an addition product of an epoxy resin;

상기 이미다졸 화합물, 유기 인 화합물이나 4급 포스포늄염 등의 경화 촉진제의 표면을 폴리머로 피복한 마이크로 캡슐형 잠재성 경화 촉진제;Microcapsule-type latent curing accelerators in which a surface of a curing accelerator such as an imidazole compound, an organic phosphorus compound or a quaternary phosphonium salt is coated with a polymer;

아민염형 잠재성 경화 촉진제;Amine salt type latent curing accelerators;

루이스산 염, 브뢴스테드산염 등의 고온 해리형의 열 양이온 중합형 잠재성 경화 촉진제 등의 잠재성 경화 촉진제 등을 들 수 있다.Latent curing accelerators, such as high temperature dissociation type | mold thermal cationic polymerization type latent hardening accelerators, such as a Lewis acid salt and Bronsted acid salt, etc. are mentioned.

이들 중, 테트라에틸암모늄브로마이드, 테트라-n-부틸암모늄 브로마이드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 테트라-n-부틸암모늄클로라이드와 같은 4급 암모늄염이 바람직하다.Among these, quaternary ammonium salts such as tetraethylammonium bromide, tetra-n-butylammonium bromide, tetraethylammonium chloride and tetra-n-butylammonium chloride are preferable.

촉매는, 사용하는 카본산의 합계 100중량부에 대하여 바람직하게는 100중량부 이하의 비율, 보다 바람직하게는 0.01∼100중량부의 비율, 더욱 바람직하게는 0.1∼20중량부의 비율로 사용된다.The catalyst is preferably used in a proportion of 100 parts by weight or less, more preferably 0.01 to 100 parts by weight, still more preferably 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total carbonic acid to be used.

에폭시기를 갖는 가수 분해 축합물과 카본산과의 반응에 있어서 사용할 수 있는 유기 용매로서는, 예를 들면 탄화 수소 화합물, 에테르 화합물, 에스테르 화합물, 케톤 화합물, 아미드 화합물, 알코올 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중, 에테르 화합물, 에스테르 화합물, 케톤 화합물이 원료 및 생성물의 용해성, 또한 생성물 정제의 용이성 관점에서 바람직하고, 특히 바람직한 용매의 구체예로서 2-부탄온, 2-헥산온, 메틸이소부틸케톤 및 아세트산 부틸을 들 수 있다. 용매는, 고형분 농도(반응 용액 중의 용매 이외의 성분의 합계 중량이 용액의 전체 중량에 차지하는 비율)가 0.1중량% 이상이 되는 비율로 사용하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5∼50중량%가 되는 비율이다.As an organic solvent which can be used in reaction of the hydrolysis-condensation product which has an epoxy group, and a carbonic acid, a hydrocarbon compound, an ether compound, an ester compound, a ketone compound, an amide compound, an alcohol compound etc. are mentioned, for example. Of these, ether compounds, ester compounds, ketone compounds are preferable in view of solubility of raw materials and products, and ease of product purification, and specific examples of particularly preferred solvents include 2-butanone, 2-hexanone, methyl isobutyl ketone and Butyl acetate is mentioned. It is preferable to use a solvent in the ratio which becomes solid content concentration (the ratio which the total weight of components other than the solvent in a reaction solution occupies for the total weight of a solution) becomes 0.1 weight% or more, More preferably, 5-50 weight% It is a ratio.

반응 온도는, 바람직하게는 0∼200℃이며, 보다 바람직하게는 50∼150℃이다.Reaction temperature becomes like this. Preferably it is 0-200 degreeC, More preferably, it is 50-150 degreeC.

반응 시간은, 바람직하게는 0.1∼50시간이며, 보다 바람직하게는 0.5∼20시간이다.The reaction time is preferably 0.1 to 50 hours, more preferably 0.5 to 20 hours.

[구핵성 화합물][Nucleophilic compound]

다음으로, 방법(5)에 있어서 바람직하게 이용되는 구핵성 화합물에 대해서 설명한다.Next, the nucleophilic compound preferably used in the method (5) will be described.

본 발명의 방법(5)에 있어서 바람직하게 이용되는 구핵성 화합물로서는, 아민 및 티올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 구핵성 화합물, 단, 이 구핵성 화합물은 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖는 것을 들 수 있다.As the nucleophilic compound preferably used in the method (5) of the present invention, at least one nucleophilic compound selected from the group consisting of amines and thiols, provided that the nucleophilic compound is represented by the formula (D 0 ) The thing which has group is mentioned.

이 구핵성 화합물이 갖는 상기식 (D0)으로 나타나는 기는, 상기식 (D0)에 있어서의 RI이 탄소수 2∼12의 알킬기 또는 탄소수 2∼12의 플루오로알킬기인 것이 바람직하다. 이러한 RI의 바람직한 구체예는, 상기식 (D0)으로 나타나는 기에 있어서의 RI의 설명에 있어서 예시한 것 중, 상기한 바람직한 범위에 해당하는 것이다.Groups represented by the above formula (D 0) which is a nucleophilic compound, it is preferred that the R I in the formula (D 0) is a fluoroalkyl group of 2 to 12 carbon atoms or an alkyl group having a carbon number of 2 to 12. Preferred specific examples of such R I correspond to the above-mentioned preferred ranges in the description of R I in the group represented by the formula (D 0 ).

상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖는 아민(이하, 「화합물(c1)」이라고 함)으로서는, 1급 아민 또는 2급 아민을 사용하는 것이 바람직하다. 1급 아민인 화합물(c1)로서는, 예를 들면 옥틸아민, 펜틸아민, 헥실아민, 헵틸아민, 옥틸아민, 노닐아민, 데실아민, 운데실아민, 도데실아민, 트리데실아민, 테트라데실아민, 펜타데실아민, 헥사데실아민, 헵타데실아민, 옥타데실아민, 노나데실아민, 4-(4-펜틸사이클로헥실)-페닐아민, 4-옥틸옥시페닐아민 등을;Examples of the formula (D 0) (hereinafter referred to as "compound (c1)") having a group represented by the amine, it is preferred to use a primary amine or a secondary amine. Examples of the compound (c1) which is a primary amine include octylamine, pentylamine, hexylamine, heptylamine, octylamine, nonylamine, decylamine, undecylamine, dodecylamine, tridecylamine, tetradecylamine, Pentadecylamine, hexadecylamine, heptadecylamine, octadecylamine, nonadecylamine, 4- (4-pentylcyclohexyl) -phenylamine, 4-octyloxyphenylamine and the like;

2급 아민인 화합물(c1)로서는, 예를 들면 디에틸아민, 디프로필아민, 디부틸아민, 디펜틸아민, 디헥실아민, 디헵틸아민, 디옥틸아민, 디노닐아민, 디데실아민, 디운데실아민, 디도데실아민, 디트리데실아민, 디테트라데실아민, 디펜타데실아민, 디헥사데실아민, 디헵타데실아민, 디옥타데실아민, 디노나데실아민 등을 각각 들 수 있다. 이들 중, (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산과 반응할 때에 겔화되기 어려운 점 및 합성이 용이하다는 관점에서 2급 아민인 화합물(c1)을 사용하는 것이 바람직하다.As a compound (c1) which is a secondary amine, it is diethylamine, dipropylamine, dibutylamine, dipentylamine, dihexylamine, diheptylamine, dioctylamine, dinonylamine, didecylamine, di Undecylamine, didodecylamine, ditridecylamine, ditetradecylamine, dipentadecylamine, dihexadecylamine, diheptadecylamine, dioctadecylamine, dinonadecylamine, etc. are mentioned, respectively. Among these, it is preferable to use the compound (c1) which is a secondary amine from the point which is difficult to gelate when reacting with the polyorganosiloxane which has a (meth) acryloyl group, and the synthesis | combination is easy.

상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖는 티올(이하, 「화합물(c2)」이라고 함)로서는, 예를 들면 메틸티올, 에틸티올, 프로필티올, 부틸티올, 펜틸티올, 헥실티올, 헵틸티올, 옥틸티올, 노닐티올, 데실티올, 운데실티올, 도데실티올, 트리데실티올, 테트라데실티올, 펜타데실티올, 헥사데실티올, 헵타데실티올, 옥타데실티올, 노나데실티올, 4-부틸페닐티올, 4-펜틸페닐티올, 4-헥실페닐티올, 4-헵틸페닐티올, 4-옥틸페닐티올, 4-노닐페닐티올, 4-데실페닐티올, 4-운데실페닐티올, 4-도데실페닐티올, 4-트리데실페닐티올, 4-테트라데실페닐티올, 4-펜타데실페닐티올, 4-헥사데실페닐티올, 4-헵타데실페닐티올, 4-옥타데실페닐티올, 4-노나데실페닐티올, 4-부톡시페닐티올, 4-펜틸옥시페닐티올, 4-헥실옥시페닐티올, 4-헵틸옥시페닐티올, 4-옥틸옥시페닐티올, 4-노닐옥시페닐티올, 4-데실옥시페닐티올, 4-운데실옥시페닐티올, 4-도데실옥시페닐티올, 4-(4'-부틸사이클로헥실)페닐티올, 4-(4'-펜틸사이클로헥실)페닐티올, 4-(4'-헥실사이클로헥실)페닐티올, 4-(4'-헵틸사이클로헥실)페닐티올, 4-(4'-옥틸사이클로헥실)페닐티올 등을 들 수 있다.Examples of the thiol having a group represented by the formula (D 0 ) (hereinafter referred to as "compound (c2)") include methylthiol, ethylthiol, propylthiol, butylthiol, pentylthiol, hexylthiol, heptylthiol, and octyl. Thiol, nonylthiol, decylthiol, undecylthiol, dodecylthiol, tridecylthiol, tetradecylthiol, pentadecylthiol, hexadecylthiol, heptadecylthiol, octadecylthiol, nonadecylthiol, 4-butylphenylthiol, 4-pentylphenylthiol, 4-hexylphenylthiol, 4-heptylphenylthiol, 4-octylphenylthiol, 4-nonylphenylthiol, 4-decylphenylthiol, 4-undecylphenylthiol, 4-dodecylphenylthiol, 4-tridecylphenylthiol, 4-tetradecylphenylthiol, 4-pentadecylphenylthiol, 4-hexadecylphenylthiol, 4-heptadecylphenylthiol, 4-octadecylphenylthiol, 4-nonadecylphenylthiol, 4 -Butoxyphenylthiol, 4-pentyloxyphenylthiol, 4-hexyloxyphenylthiol, 4-heptyloxyphenylthiol, 4-octyloxyphenylthiol, 4-nonyloxype Nylthiol, 4-decyloxyphenylthiol, 4-undecyloxyphenylthiol, 4-dodecyloxyphenylthiol, 4- (4'-butylcyclohexyl) phenylthiol, 4- (4'-pentylcyclohexyl) phenyl Thiol, 4- (4'-hexylcyclohexyl) phenylthiol, 4- (4'-heptylcyclohexyl) phenylthiol, 4- (4'-octylcyclohexyl) phenylthiol, and the like.

[(메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산과 구핵성 화합물과의 반응][Reaction of Polyorganosiloxane with (meth) acryloyl Group and Nucleophilic Compound]

다음으로, (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산과 구핵성 화합물과의 반응에 대해서, 구핵성 화합물이 화합물(c1)인 경우와 화합물(c2)인 경우로 나누어, 순차로 설명한다.Next, reaction of the polyorganosiloxane which has a (meth) acryloyl group and a nucleophilic compound is divided into the case where a nucleophilic compound is a compound (c1) and the case of a compound (c2), and it demonstrates sequentially.

{구핵성 화합물이 화합물(c1)인 경우}{When nucleophilic compound is compound (c1)}

구핵성 화합물이 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖는 아민(화합물(c1))인 경우에 있어서의 (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산과의 반응은, 양자를, 바람직하게는 유기 용매의 존재하, 임의적으로 촉매의 존재하에 반응시킴으로써, 행할 수 있다.Reaction of the nucleophilic compound is polyorganosiloxane having the formula (D 0) in the case of an amine (compound (c1)) having a group shown in the (meth) acryloyl groups are, both, preferably, organic solvent, It can be performed by reacting in the presence of and optionally in the presence of a catalyst.

(메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산과 화합물(c1)과의 반응에 있어서의 화합물(c1)의 사용 비율로서는, 폴리오가노실록산이 갖는 (메타)아크릴로일기에 대한 화합물(c1)의 몰수 비율로서, 바람직하게는 1몰% 이상 100몰%미만이며, 보다 바람직하게는 3∼50몰%이고, 더욱 바람직하게는 5∼30몰%이다.As a use ratio of the compound (c1) in reaction of the polyorganosiloxane which has a (meth) acryloyl group, and a compound (c1), the number-of-moles of the compound (c1) with respect to the (meth) acryloyl group which a polyorganosiloxane has As a ratio, Preferably it is 1 mol% or more and less than 100 mol%, More preferably, it is 3-50 mol%, More preferably, it is 5-30 mol%.

(메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산과 화합물(c1)과의 반응에 있어서 사용할 수 있는 유기 용매로서는 극성 화합물을 바람직하게 사용할 수 있고, 예를 들면 니트릴, 술폭사이드, 에테르, 에스테르, 알코올 등을 들 수 있다. 이들의 구체예로서는, 상기 니트릴로서, 예를 들면 아세토니트릴 등을;As an organic solvent which can be used in the reaction of the polyorganosiloxane which has a (meth) acryloyl group, and a compound (c1), a polar compound can be used preferably, For example, nitrile, sulfoxide, ether, ester, alcohol, etc. Can be mentioned. As these specific examples, As said nitrile, For example, acetonitrile etc .;

상기 술폭사이드로서, 예를 들면 디메틸술폭사이드 등을;As said sulfoxide, For example, dimethyl sulfoxide etc .;

상기 에테르로서, 예를 들면 디에틸에테르, 디프로필에테르 등을;As said ether, For example, diethyl ether, dipropyl ether, etc .;

상기 에스테르로서, 예를 들면 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등을;As said ester, For example, ethyl acetate, butyl acetate, etc .;

상기 알코올로서, 예를 들면 트리플루오로에탄올, 헥사플루오로에탄올 등을 각각 들 수 있다. 이들 중, 니트릴 또는 술폭사이드를 사용하는 것이 반응의 안정성 관점에서 바람직하다. 용매는, 반응 속도의 관점에서, 고형분 농도(반응 용액 중의 용매 이외 성분의 합계 중량이 용액의 전체 중량에 차지하는 비율)가 40중량% 이상이 되는 비율로 사용하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 50∼90중량%가 되는 비율이다.Examples of the alcohols include trifluoroethanol and hexafluoroethanol. Among them, it is preferable to use nitrile or sulfoxide from the viewpoint of the stability of the reaction. It is preferable to use a solvent in the ratio which solid content concentration (the ratio which the total weight of components other than the solvent in a reaction solution occupies for the total weight of a solution) becomes 40 weight% or more from a viewpoint of reaction rate, More preferably, it is 50 It is the ratio used as -90 weight%.

(메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산과 화합물(c1)과의 반응에 있어서 임의적으로 사용할 수 있는 촉매로서는, 예를 들면 염화 알루미늄, 포름산 등을 들 수 있다.As a catalyst which can be used arbitrarily in reaction of the polyorganosiloxane which has a (meth) acryloyl group, and a compound (c1), aluminum chloride, formic acid, etc. are mentioned, for example.

반응 온도는, 바람직하게는 10∼100℃이며, 보다 바람직하게는 60∼100℃이다. 반응 시간은, 바람직하게는 0.5∼8시간이며, 보다 바람직하게는 1∼6시간이다.Reaction temperature becomes like this. Preferably it is 10-100 degreeC, More preferably, it is 60-100 degreeC. The reaction time is preferably 0.5 to 8 hours, more preferably 1 to 6 hours.

한편, 구핵성 화합물이 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖는 티올(화합물(c2))인 경우에 있어서의 (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산과의 반응은, 양자를, 바람직하게는 유기 용매 및 촉매의 존재하에 반응시킴으로써, 행할 수 있다.On the other hand, nucleophilic compound is reacted with the polyorganosiloxane having the formula (D 0) in case of thiol (compound (c2)) having a group shown in the (meth) acryloyl groups are, both, preferably This can be done by reacting in the presence of an organic solvent and a catalyst.

(메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산과 화합물(c2)과의 반응에 있어서 화합물(c2)의 사용 비율로서는, 폴리오가노실록산이 갖는 (메타)아크릴로일 기에 대한 화합물(c2)의 몰수 비율로서, 바람직하게는 1몰% 이상이며, 보다 바람직하게는 3∼50몰%이고, 더욱 바람직하게는 5∼30몰%이다.The use ratio of the compound (c2) in the reaction between the polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group and the compound (c2) is a mole ratio of the compound (c2) to the (meth) acryloyl group of the polyorganosiloxane. As for 1 mol% or more, More preferably, it is 3-50 mol%, More preferably, it is 5-30 mol%.

(메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산과 화합물(c2)과의 반응에 있어서 사용할 수 있는 유기 용매로서는, 예를 들면 극성 화합물을 바람직하게 사용할 수 있고, 예를 들면 니트릴, 술폭사이드, 에테르, 에스테르 등을 들 수 있다. 이들의 구체예로서는, 상기 니트릴로서, 예를 들면 아세토니트릴 등을;As an organic solvent which can be used in reaction of the polyorganosiloxane which has a (meth) acryloyl group, and a compound (c2), a polar compound can be used preferably, for example, a nitrile, a sulfoxide, an ether, Ester etc. are mentioned. As these specific examples, As said nitrile, For example, acetonitrile etc .;

상기 술폭사이드로서, 예를 들면 디메틸술폭사이드 등을;As said sulfoxide, For example, dimethyl sulfoxide etc .;

상기 에테르로서, 예를 들면 디에틸에테르, 디프로필에테르 등을;As said ether, For example, diethyl ether, dipropyl ether, etc .;

상기 에스테르로서, 예를 들면 아세트산 에틸, 아세트산 부틸 등을 각각 들 수 있다. 용매는, 고형분 농도(반응 용액 중의 용매 이외의 성분의 합계 중량이 용액의 전체 중량에 차지하는 비율)가 40중량% 이상이 되는 비율로 사용하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 50∼90중량%가 되는 비율이다.As said ester, ethyl acetate, butyl acetate, etc. are mentioned, respectively. It is preferable to use the solvent in the ratio which becomes 40 weight% or more of solid content concentration (the ratio which the total weight of components other than the solvent in a reaction solution accounts for the total weight of a solution), More preferably, 50-90 weight% It is a ratio.

(메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산과 화합물(c2)과의 반응에 있어서 바람직하게 사용되는 촉매로서는, 예를 들면 유기염 염기 등을 들 수 있고, 보다 상세하게는 3급 아민, 구체적으로는 트리메틸아민, 디에틸메틸아민, 에틸디메틸아민, 트리에틸아민, 트리프로필아민 등을 들 수 있다. 촉매의 사용 비율은, 화합물(c2)의 100중량부에 대하여, 바람직하게는 50중량부 이하이며, 보다 바람직하게는 10∼30중량부이다.As a catalyst used preferably in reaction of the polyorganosiloxane which has a (meth) acryloyl group, and a compound (c2), an organic salt base etc. are mentioned, for example, Tertiary amine, Specifically, Trimethylamine, diethylmethylamine, ethyldimethylamine, triethylamine, tripropylamine and the like. The use ratio of a catalyst becomes like this. Preferably it is 50 weight part or less with respect to 100 weight part of compound (c2), More preferably, it is 10-30 weight part.

반응 온도는, 바람직하게는 10∼100℃이며, 보다 바람직하게는 40∼80℃이다. 반응 시간은, 바람직하게는 0.5∼8시간이며, 보다 바람직하게는 1∼6시간이다.Reaction temperature becomes like this. Preferably it is 10-100 degreeC, More preferably, it is 40-80 degreeC. The reaction time is preferably 0.5 to 8 hours, more preferably 1 to 6 hours.

[(A) 제1 중합체의 권장되는 제조 방법][(A) Recommended Method for Making the First Polymer]

본 발명에 있어서는, (A) 제1 중합체의 제조는 상기 방법(3), 방법(4) 또는 방법(5)에 의한 것이 바람직하다. 방법(3) 또는 방법(4)에 있어서는, 카본산의 사용 비율을 가수 분해 축합물이 갖는 에폭시기보다도 적은 비율로 함으로써, 제1 중합체를 (메타)아크릴로일기, 상기식 (D0)으로 나타나는 기 및 에폭시기의 전부를 갖는 것으로 하는 것이 바람직하다.In this invention, it is preferable that (A) manufacture of a 1st polymer is by the said method (3), the method (4), or the method (5). In the method (3) or the method (4), the first polymer is represented by a (meth) acryloyl group or the above formula (D 0 ) by using a carbonic acid in a ratio less than the epoxy group of the hydrolysis-condensation product. It is preferable to have all of a group and an epoxy group.

<(B) 제2 중합체><(B) Second Polymer>

본 발명에서 이용되는 중합체 조성물에 함유되는 (B) 제2 중합체는 폴리암산 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종이다.(B) 2nd polymer contained in the polymer composition used by this invention is at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of a polyamic acid and a polyimide.

상기 폴리암산은 예를 들면 테트라카본산 2무수물과 디아민을 반응시킴으로써 합성할 수 있고, 상기 폴리이미드는 상기 폴리암산을 탈수 폐환시켜 이미드화함으로써 합성할 수 있다.The said polyamic acid can be synthesize | combined, for example by making tetracarboxylic dianhydride and diamine react, and the said polyimide can be synthesize | combined by dehydrating and ring-closing the said polyamic acid.

[테트라카본산 2무수물][Tetracarboxylic dianhydride]

상기 폴리암산을 합성하기 위해 이용되는 테트라카본산 2무수물로서는, 예를 들면 지방족 테트라카본산 2무수물, 지환식 테트라카본산 2무수물, 방향족 테트라카본산 2무수물 등을 들 수 있다. 이들의 구체예로서는, 지방족 테트라카본산 2무수물로서, 예를 들면 부탄테트라카본산 2무수물 등을;As tetracarboxylic dianhydride used for synthesize | combining the said polyamic acid, aliphatic tetracarboxylic dianhydride, alicyclic tetracarboxylic dianhydride, aromatic tetracarboxylic dianhydride, etc. are mentioned, for example. As these specific examples, As an aliphatic tetracarboxylic dianhydride, For example, butanetetracarboxylic dianhydride etc .;

지환식 테트라카본산 2무수물로서, 예를 들면 1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물, 2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산 2무수물, 1,3,3a,4,5,9b-헥사하이드로-5-(테트라하이드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온,1,3,3a,4,5,9b-헥사하이드로-8-메틸-5-(테트라하이드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온, 3-옥사바이사이클로[3.2.1]옥탄-2,4-디온-6-스피로-3'-(테트라하이드로푸란-2',5'-디온), 5-(2,5-디옥소테트라하이드로-3-푸라닐)-3-메틸-3-사이클로헥센-1,2-디카본산 무수물, 3,5,6-트리카복시-2-카복시메틸노르보르난 2:3,5:6-2무수물, 4,9-디옥사트리사이클로[5.3.1.02,6]운데칸-3,5,8,10-테트라온 등을;As alicyclic tetracarboxylic dianhydride, For example, 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5- tricarboxy cyclopentyl acetic dianhydride, 1,3,3a, 4, 5,9b-hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4 , 5,9b-hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 3- Oxabicyclo [3.2.1] octane-2,4-dione-6-spiro-3 '-(tetrahydrofuran-2', 5'-dione), 5- (2,5-dioxotetrahydro-3 Furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride, 3,5,6-tricarboxy-2-carboxymethylnorbornane 2: 3,5: 6-2 anhydride, 4 , 9-dioxatricyclo [5.3.1.0 2,6 ] undecane-3,5,8,10-tetraone and the like;

방향족 테트라카본산 2무수물로서, 예를 들면 피로멜리트산 2무수물 등을 각각 들 수 있는 것 외에, 특허문헌 2(일본공개특허공보 2010-97188호)에 기재된 테트라카본산 2무수물을 사용할 수도 있다.As aromatic tetracarboxylic dianhydride, a pyromellitic dianhydride etc. can be mentioned, respectively, For example, tetracarboxylic dianhydride of patent document 2 (Unexamined-Japanese-Patent No. 2010-97188) can also be used.

상기 폴리암산을 합성하기 위해 이용되는 테트라카본산 2무수물로서는, 이들 중 지환식 테트라카본산 2무수물만을 이용하거나, 지환식 테트라카본산 2무수물과 방향족 테트라카본산 2무수물과의 혼합물을 이용하는 것이 바람직하다. 후자의 경우, 전체 테트라카본산 2무수물 중에 차지하는 지환식 테트라카본산 2무수물의 비율은 20몰% 이상으로 하는 것이 바람직하고, 40몰% 이상으로 하는 것이 보다 바람직하다.As tetracarboxylic dianhydride used for synthesize | combining the said polyamic acid, it is preferable to use only alicyclic tetracarboxylic dianhydride among these, or to use the mixture of alicyclic tetracarboxylic dianhydride and aromatic tetracarboxylic dianhydride. Do. In the latter case, the ratio of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride to the total tetracarboxylic dianhydride is preferably 20 mol% or more, more preferably 40 mol% or more.

[디아민][Diamine]

상기 폴리암산을 합성하기 위해 이용되는 디아민으로서는, 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖는 디아민(이하, 「특정 디아민」이라고 함) 및 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖지 않는 디아민(이하, 「기타 디아민」이라고 함)을 들 수 있다.As a diamine used for synthesizing the polyamic acid, a diamine having a group represented by the formula (D 0 ) (hereinafter referred to as "specific diamine") and a diamine having no group represented by the formula (D 0 ) (hereinafter, ""Otherdiamine").

이러한 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖는 특정 디아민을 이용하여 합성된 제2 중합체를 함유하는 중합체 조성물로 형성된 막은, 양호한 액정 배향능을 발휘하게 된다.The above formula (D 0) the membrane formed from a polymer composition containing a second polymer prepared by using a specific diamine having a group shown, will exhibit a satisfactory liquid crystal alignment capability.

본 발명에 있어서의 특정 디아민으로서는, 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖는 방향족 디아민인 것이 바람직하고, 그의 구체예로서 예를 들면 도데칸옥시-2,4-디아미노벤젠, 펜타데칸옥시-2,4-디아미노벤젠, 헥사데칸옥시-2,4-디아미노벤젠, 옥타데칸옥시-2,4-디아미노벤젠, 도데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 펜타데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 헥사데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 옥타데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 콜레스타닐옥시-3,5-디아미노벤젠, 콜레스테닐옥시-3,5-디아미노벤젠, 3,5-디아미노벤조산 콜레스타닐, 3,5-디아미노벤조산 콜레스테닐, 3,5-디아미노벤조산 라노스타닐 등을 들 수 있고, 이들 중 1종 또는 2종 이상을 이용하는 것이 바람직하다. 본 발명에 있어서의 특정 디아민으로서는, 특히 헥사데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 옥타데칸옥시-2,5-디아미노벤젠, 콜레스타닐옥시-3,5-디아미노벤젠 및 콜레스테닐옥시-3,5-디아미노벤젠으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다.As the specific diamines of the present invention, the above formula (D 0) is an aromatic diamine having a group represented by is preferable, for example, as its specific example dodecane oxy-2,4-diaminobenzene, pentadecane oxy -2 , 4-diaminobenzene, hexadecaneoxy-2,4-diaminobenzene, octadecaneoxy-2,4-diaminobenzene, dodecaneoxy-2,5-diaminobenzene, pentadecaneoxy-2,5 -Diaminobenzene, hexadecaneoxy-2,5-diaminobenzene, octadecaneoxy-2,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestenyloxy-3,5 -Diaminobenzene, 3,5-diaminobenzoic acid cholestanyl, 3,5-diaminobenzoic acid cholestenyl, 3,5-diaminobenzoic acid ranostanyl, and the like, and one or two of them It is preferable to use the above. Specific diamines in the present invention are, in particular, hexadecaneoxy-2,5-diaminobenzene, octadecaneoxy-2,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene and cholesteryl It is preferable that it is at least 1 sort (s) chosen from the group which consists of oxy-3, 5- diamino benzene.

상기 기타 디아민으로서는, 예를 들면 지방족 디아민, 지환식 디아민, 방향족 디아민, 디아미노오가노실록산 등으로서 상기 특정 디아민에 해당하지 않는 것을 들 수 있다.As said other diamine, what does not correspond to the said specific diamine as aliphatic diamine, alicyclic diamine, aromatic diamine, diamino organosiloxane, etc. are mentioned, for example.

이들의 구체예로서는, 지방족 디아민으로서, 예를 들면 1,1-메타자일릴렌디아민, 1,3-프로판디아민, 테트라메틸렌디아민, 펜타메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민 등을;As these specific examples, As an aliphatic diamine, For example, 1, 1- metha xylylenediamine, 1, 3- propanediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, etc .;

지환식 디아민으로서, 예를 들면 1,4-디아미노사이클로헥산, 4,4'-메틸렌비스(사이클로헥실아민), 1,3-비스(아미노메틸)사이클로헥산 등을;As alicyclic diamine, For example, 1, 4- diamino cyclohexane, 4, 4'- methylenebis (cyclohexylamine), 1, 3-bis (aminomethyl) cyclohexane, etc .;

방향족 디아민으로서, 예를 들면 p-페닐렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐술피드, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 4,4'-디아미노-2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐, 2,7-디아미노플루오렌, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 4,4'-(p-페닐렌디이소프로필리덴)비스아닐린, 4,4'-(m-페닐렌디이소프로필리덴)비스아닐린, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 4,4'-비스(4-아미노페녹시)비페닐, 2,6-디아미노피리딘, 3,4-디아미노피리딘, 2,4-디아미노피리미딘, 3,6-디아미노아크리딘, 3,6-디아미노카바졸, N-메틸-3,6-디아미노카바졸, N-에틸-3,6-디아미노카바졸, N-페닐-3,6-디아미노카바졸, N,N'-비스(4-아미노페닐)-벤지딘, N,N'-비스(4-아미노페닐)-N,N'-디메틸벤지딘 등을;As aromatic diamine, for example, p-phenylenediamine, 4,4'- diaminodiphenylmethane, 4,4'- diaminodiphenyl sulfide, 1,5- diaminonaphthalene, 2,2'-dimethyl -4,4'-diaminobiphenyl, 4,4'-diamino-2,2'-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 2,7-diaminofluorene, 4,4'-diamino Diphenyl ether, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] propane, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy Phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 4,4 '-(p-phenylenediisopropylidene) bisaniline, 4,4'-(m- Phenylenediisopropylidene) bisaniline, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, 4,4'-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 2,6-diaminopyridine, 3,4 -Diaminopyridine, 2,4-diaminopyrimidine, 3,6-diaminoacridine, 3,6-diaminocarbazole, N-methyl-3,6-diaminocarbazole, N-ethyl-3 , 6-diaminocarbazole, N-phenyl-3,6-di Benzidine and the like, N, N'- bis (4-aminophenyl) -N, N'- dimethyl benzidine-diamino carbazole, N, N'- bis (4-aminophenyl);

디아미노오가노실록산으로서, 예를 들면 1,3-비스(3-아미노프로필)-테트라메틸디실록산 등을 각각 들 수 있는 것 외에, 특허문헌 2(일본공개특허공보 2010-97188호)에 기재된 디아민이라도 좋다.Examples of the diaminoorganosiloxanes include 1,3-bis (3-aminopropyl) -tetramethyldisiloxane and the like, and are described in Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2010-97188). Diamine may be sufficient.

본 발명에 있어서의 (B) 제2 중합체를 합성하기 위해 사용되는 디아민으로서는, 상기와 같은 특정 디아민 및 기타 디아민으로부터 선택되는 적어도 1종인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게 사용되는 디아민 및 그의 사용 비율은, 상기 (A) 제1 중합체의 구조에 따라 약간 상이하다.As a diamine used in order to synthesize | combine the (B) 2nd polymer in this invention, it is preferable that it is at least 1 sort (s) chosen from the above-mentioned specific diamine and other diamine. Diamine used more preferably and its use ratio differ slightly depending on the structure of said (A) 1st polymer.

상기 (A) 제1 중합체가 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖지 않는 것인 경우에는, (B) 제2 중합체에 액정 배향 기능을 부여하기 위해, 디아민으로서 상기 특정 디아민을 포함하는 디아민을 사용하는 것이 바람직하고, 이러한 특정 디아민을, 전체 디아민에 대하여 2몰% 이상 포함하는 것이 보다 바람직하며, 2∼60몰% 포함하는 것이 더욱 바람직하고, 특히 5∼40몰% 포함하는 것이 바람직하며, 그 중에서도 특히 10∼30몰% 포함하는 것이 바람직하다.In the case where the (A) first polymer does not have a group represented by the formula (D 0 ), in order to impart a liquid crystal alignment function to the (B) second polymer, a diamine containing the specific diamine is used as the diamine. It is preferable to contain, and it is more preferable to contain 2 mol% or more of such specific diamine with respect to all diamine, It is further more preferable to contain 2 to 60 mol%, It is preferable to contain 5-40 mol% especially, The Especially, it is preferable to contain 10-30 mol% especially.

한편, (A) 제1 중합체가 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖지 않는 것인 경우에는 디아민으로서 특정 디아민을 사용할 필요는 없지만, 특정 디아민의 사용을 금지하는 것은 아니다. 이 경우, 특정 디아민을, 전체 디아민에 대하여 90몰% 이하의 범위에서 사용할 수 있고, 70몰% 이하의 범위에서 사용하는 것이 바람직하며, 40몰% 이하의 범위에서 사용하는 것이 보다 바람직하다.On the other hand, when the (A) first polymer does not have a group represented by the formula (D 0 ), it is not necessary to use a specific diamine as the diamine, but the use of the specific diamine is not prohibited. In this case, specific diamine can be used in 90 mol% or less with respect to all diamine, It is preferable to use in 70 mol% or less, It is more preferable to use in 40 mol% or less.

[분자량 조절제][Molecular Weight Control Agent]

상기 폴리암산을 합성시에, 상기와 같은 테트라카본산 2무수물 및 디아민과 함께 적당한 분자량 조절제를 이용하여 말단 수식형의 중합체를 합성하는 것으로 할 수도 있다. 이러한 말단 수식형의 중합체로 함으로써, 본 발명의 효과를 손상시키는 일 없이 중합체 조성물의 도포성(인쇄성)을 개선할 수 있다.When synthesize | combining the said polyamic acid, you may make it synthesize | combine a terminal modified polymer using the appropriate molecular weight modifier with tetracarboxylic dianhydride and diamine as mentioned above. By setting it as such a terminal modified polymer, the coating property (printability) of a polymer composition can be improved, without impairing the effect of this invention.

상기 분자량 조절제로서는, 예를 들면 산 1무수물, 모노아민 화합물, 모노이소시아네이트 화합물 등을 들 수 있다. 이들의 구체예로서는, 산 1무수물로서, 예를 들면 무수 말레산, 무수 프탈산, 무수 이타콘산, n-데실숙신산 무수물, n-도데실숙신산 무수물, n-테트라데실숙신산 무수물, n-헥사데실숙신산 무수물 등을;As said molecular weight modifier, an acid monoanhydride, a monoamine compound, a monoisocyanate compound, etc. are mentioned, for example. As these specific examples, as an acid anhydride, for example, maleic anhydride, phthalic anhydride, itaconic anhydride, n-decylsuccinic anhydride, n-dodecylsuccinic anhydride, n-tetradecylsuccinic anhydride, n-hexadecylsuccinic anhydride My back;

모노아민 화합물로서, 예를 들면 아닐린, 사이클로헥실아민, n-부틸아민, n-펜틸아민, n-헥실아민, n-헵틸아민, n-옥틸아민 등을;As a monoamine compound, For example, aniline, cyclohexylamine, n-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine, n-heptylamine, n-octylamine, etc .;

모노이소시아네이트 화합물로서, 예를 들면 페닐이소시아네이트, 나프틸이소시아네이트 등을 각각 들 수 있다.As a monoisocyanate compound, phenyl isocyanate, naphthyl isocyanate, etc. are mentioned, respectively.

분자량 조절제의 사용 비율은, 사용하는 테트라카본산 2무수물 및 디아민의 합계 100중량부에 대하여, 10중량부 이하로 하는 것이 바람직하다.It is preferable to make the use ratio of a molecular weight modifier into 10 weight part or less with respect to a total of 100 weight part of tetracarboxylic dianhydride and diamine to be used.

[폴리암산의 합성][Synthesis of Polyamic Acid]

폴리암산의 합성 반응에 제공되는 테트라카본산 2무수물과 디아민의 사용비율은, 디아민의 아미노기 1당량에 대하여 테트라카본산 2무수물의 산 무수물기가 0.2∼2당량이 되는 비율이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.3∼1.2당량이 되는 비율이다.The use ratio of tetracarboxylic dianhydride and diamine to be used for the polyamic acid synthesis reaction is preferably a ratio in which the acid anhydride group of tetracarboxylic dianhydride is 0.2 to 2 equivalents to 1 equivalent of the amino group of the diamine, and more preferably. Is a ratio of 0.3 to 1.2 equivalents.

폴리암산의 합성 반응은, 바람직하게는 유기 용매 중에 있어서, 바람직하게는 -20℃∼150℃, 보다 바람직하게는 0∼100℃에 있어서, 바람직하게는 0.1∼24시간, 보다 바람직하게는 0.5∼12시간 행해진다.Synthesis reaction of polyamic acid, Preferably in an organic solvent, Preferably it is -20 degreeC-150 degreeC, More preferably, it is 0 to 100 degreeC, Preferably it is 0.1 to 24 hours, More preferably, it is 0.5 to It is done for 12 hours.

여기에서, 유기 용매로서는, 예를 들면 N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드, 디메틸술폭사이드, γ-부티로락톤, 테트라메틸우레아, 헥사메틸포스포트리아미드 등의 비프로톤성 극성 용매;Here, as an organic solvent, for example, N-methyl-2-pyrrolidone, N, N-dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, tetramethylurea, Aprotic polar solvents such as hexamethylphosphotriamide;

m-크레졸, 자일레놀, 페놀, 할로겐화 페놀 등의 페놀성 용매를 들 수 있다. 유기 용매의 사용량(a)은, 테트라카본산 2무수물 및 디아민의 합계량(b)이, 반응 용액의 전량(a+b)에 대하여 0.1∼30중량%가 되도록 하는 양인 것이 바람직하다.Phenolic solvents, such as m-cresol, a xylenol, a phenol, and a halogenated phenol, are mentioned. It is preferable that the usage-amount (a) of an organic solvent is an amount so that the total amount (b) of tetracarboxylic dianhydride and diamine may be 0.1-30 weight% with respect to whole quantity (a + b) of a reaction solution.

이상과 같이 하여, 폴리암산을 용해시켜 이루어지는 반응 용액이 얻어진다.As described above, a reaction solution obtained by dissolving polyamic acid is obtained.

이 반응 용액은 그대로 중합체 조성물의 조제에 제공하거나, 반응 용액 중에 포함되는 폴리암산을 단리한 후에 중합체 조성물의 조제에 제공할 수도 있고, 또는 단리한 폴리암산을 정제한 후에 중합체 조성물의 조제에 제공할 수도 있다. 폴리암산을 탈수 폐환시켜 폴리이미드로 하는 경우에는, 상기 반응 용액을 그대로 탈수 폐환 반응에 제공하거나, 반응 용액 중에 포함되는 폴리암산을 단리한 후에 탈수 폐환 반응에 제공할 수도 있고, 또는 단리한 폴리암산을 정제한 후에 탈수 폐환 반응에 제공할 수도 있다. 폴리암산의 단리 및 정제는 공지의 방법에 따라서 행할 수 있다.This reaction solution may be used as it is in preparation of the polymer composition, or after isolation of the polyamic acid contained in the reaction solution, or in preparation of the polymer composition, or after purification of the isolated polyamic acid. It may be. When the polyamic acid is subjected to dehydration ring closure to form a polyimide, the reaction solution may be used as it is for dehydration ring closure reaction, or the polyamic acid contained in the reaction solution may be isolated before being used for dehydration ring closure reaction or the isolated polyamic acid. After purification, it may be used for a dehydration ring closure reaction. Isolation and purification of polyamic acid can be performed according to a well-known method.

[폴리이미드의 합성]Synthesis of Polyimide

상기 폴리이미드는, 상기와 같이 하여 합성된 폴리암산을 탈수 폐환시켜 이미드화함으로써 얻을 수 있다.The said polyimide can be obtained by dehydrating and ring-closing the polyamic acid synthesize | combined as mentioned above and imidating.

본 발명에 있어서의 폴리이미드는, 그의 전구체(precursor)인 폴리암산이 갖고 있던 암산 구조의 전부를 탈수 폐환시킨 완전 이미드화물이거나, 암산 구조의 일부만을 탈수 폐환시키고 암산 구조와 이미드환 구조가 병존하는 부분 이미드화물일 수도 있다. 본 발명에 있어서의 폴리이미드는, 그의 이미드화율이 40% 이상인 것이 바람직하다.The polyimide in the present invention is a complete imide compound in which all of the acid structures of polyamic acid, which is a precursor thereof, are dehydrated and ring-closed, or only a part of the acid structures are dehydrated and ring-closed, and the amic acid structure and the imide ring structure coexist. The partial imide may be sufficient. It is preferable that the imidation ratio of the polyimide in this invention is 40% or more.

이 이미드화율은, 폴리이미드의 암산 구조의 수와 이미드환 구조의 수와의 합계에 대한 이미드환 구조의 수가 차지하는 비율을 백분율로 나타낸 것이다.This imidation ratio shows the ratio which the number of the imide ring structure to the sum of the number of the dark acid structures of a polyimide, and the number of imide ring structures occupies as a percentage.

폴리암산의 탈수 폐환은, 바람직하게는 폴리암산을 가열하는 방법에 의해, 또는 폴리암산을 유기 용매에 용해시키고, 이 용액 중에 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 첨가하여 필요에 따라서 가열하는 방법에 의해 행해진다. 이 중, 후자의 방법에 의한 것이 바람직하다.Dehydration ring closure of polyamic acid, Preferably it is performed by the method of heating a polyamic acid, or the method of dissolving a polyamic acid in an organic solvent, adding a dehydrating agent and a dehydration ring closure catalyst in this solution, and heating as needed. . Among these, it is preferable by the latter method.

상기 폴리암산의 용액 중에 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 첨가하는 방법에 있어서, 탈수제로서는, 예를 들면 무수 아세트산, 무수 프로피온산, 무수 트리플루오로아세트산 등의 산 무수물을 이용할 수 있다. 탈수제의 사용량은, 폴리암산의 암산 구조의 1몰에 대하여 0.01∼20몰로 하는 것이 바람직하다. 탈수 폐환 촉매로서는, 예를 들면 피리딘, 콜리딘, 루티딘, 트리에틸아민 등의 3급 아민을 이용할 수 있다. 탈수 폐환 촉매의 사용량은, 사용하는 탈수제 1몰에 대하여 0.01∼10몰로 하는 것이 바람직하다. 탈수 폐환 반응에 이용되는 유기 용매로서는, 폴리암산의 합성에 이용되는 것으로서 예시한 유기 용매를 들 수 있다. 탈수 폐환 반응의 반응 온도는 바람직하게는 0∼180℃이며, 보다 바람직하게는 10∼150℃이다. 반응 시간은 바람직하게는 1.0∼120시간이며, 보다 바람직하게는 2.0∼30시간이다.In the method of adding a dehydrating agent and a dehydrating ring-closure catalyst in the solution of the polyamic acid, for example, acid anhydrides such as acetic anhydride, propionic anhydride and trifluoroacetic anhydride can be used as the dehydrating agent. It is preferable that the usage-amount of a dehydrating agent shall be 0.01-20 mol with respect to 1 mol of the dark acid structure of polyamic acid. As the dehydration ring closure catalyst, tertiary amines such as pyridine, collidine, lutidine and triethylamine can be used, for example. It is preferable that the usage-amount of a dehydration ring-closure catalyst shall be 0.01-10 mol with respect to 1 mol of dehydrating agents used. As an organic solvent used for a dehydration ring-closure reaction, the organic solvent illustrated as what is used for the synthesis | combination of a polyamic acid is mentioned. The reaction temperature of the dehydration ring-closure reaction is preferably 0 to 180 ° C, more preferably 10 to 150 ° C. The reaction time is preferably 1.0 to 120 hours, more preferably 2.0 to 30 hours.

이와 같이 하여 폴리이미드를 함유하는 반응 용액이 얻어진다. 이 반응 용액은, 이것을 그대로 중합체 조성물의 조제에 제공하거나, 반응 용액으로부터 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 제거한 후에 중합체 조성물의 조제에 제공할 수도 있고, 폴리이미드를 단리한 후에 중합체 조성물의 조제에 제공하거나, 또는 단리한 폴리이미드를 정제한 후에 중합체 조성물의 조제에 제공할 수도 있다. 이들 정제 조작은 공지의 방법에 따라서 행할 수 있다.In this way, a reaction solution containing a polyimide is obtained. The reaction solution may be provided as it is to the preparation of the polymer composition as it is, or after removal of the dehydrating agent and the dehydration ring closure catalyst from the reaction solution, to the preparation of the polymer composition, after isolation of the polyimide, or to the preparation of the polymer composition, Alternatively, the isolated polyimide may be purified and then used to prepare a polymer composition. These purification operations can be performed according to a well-known method.

<(A) 제1 중합체와 (B) 제2 중합체와의 사용 비율><Use ratio of (A) 1st polymer and (B) 2nd polymer>

본 발명의 방법에 있어서 이용되는 중합체 조성물 중의 (A) 제1 중합체와 (B) 제2 중합체의 사용 비율로서는, (B) 제2 중합체 100중량부에 대한 (A) 제1 중합체의 사용 비율로서, 1∼90중량부로 하는 것이 바람직하고, 2∼60중량부로 하는 것이 보다 바람직하며, 특히 5∼40중량부로 하는 것이 바람직하다.As a use ratio of the (A) 1st polymer and (B) 2nd polymer in the polymer composition used by the method of this invention, it is a use ratio of (A) 1st polymer with respect to 100 weight part of (B) 2nd polymers. It is preferable to set it as 1-90 weight part, It is more preferable to set it as 2-60 weight part, It is especially preferable to set it as 5-40 weight part.

<기타 성분><Other Ingredients>

본 발명의 방법에 있어서 이용되는 중합체 조성물은, 상기와 같은 (A) 제1 중합체 및 (B) 제2 중합체를 필수의 성분으로서 함유하지만, 기타 성분을 함유할 수도 있다.Although the polymer composition used in the method of this invention contains the above-mentioned (A) 1st polymer and (B) 2nd polymer as an essential component, it may contain other components.

여기에서 사용할 수 있는 기타 성분으로서는, 예를 들면 기타 중합체, 라디칼 중합성 화합물, 분자 내에 적어도 1개의 에폭시기를 갖는 화합물(단, 상기 (A) 제1 중합체에 해당하는 것을 제외한다. 이하, 「에폭시 화합물」이라고 함), 관능성 실란 화합물 등을 들 수 있다.Other components that can be used herein include, for example, other polymers, radically polymerizable compounds, and compounds having at least one epoxy group in the molecule (except those corresponding to the first polymer (A). Compound ", and a functional silane compound.

[기타 중합체][Other polymers]

상기 기타 중합체는, 중합체 조성물의 용액 특성 및 중합체 조성물로 형성되는 막의 전기 특성 개선을 위해 사용할 수 있다. 이러한 기타 중합체는, 상기 (A) 제1 중합체 및 (B) 제2 중합체 이외의 중합체이며, 예를 들면 폴리암산 에스테르, 폴리에스테르, 폴리아미드, 폴리실록산, 셀룰로오스 유도체, 폴리아세탈, 폴리스티렌 유도체, 폴리(스티렌-페닐말레이미드) 유도체, 폴리(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.Such other polymers can be used to improve the solution properties of the polymer composition and the electrical properties of the films formed from the polymer composition. Such other polymers are polymers other than the above-mentioned (A) 1st polymer and (B) 2nd polymer, For example, polyamic acid ester, polyester, polyamide, polysiloxane, a cellulose derivative, polyacetal, a polystyrene derivative, poly ( Styrene-phenylmaleimide) derivatives, poly (meth) acrylates, and the like.

기타 중합체의 사용 비율로서는, (B) 제2 중합체 100중량부에 대하여, 바람직하게는 40중량부 이하이며, 보다 바람직하게는 20중량부 이하이다. 본 발명에 있어서는, 기타 중합체를 사용하지 않는 것이 바람직하다.As a usage ratio of another polymer, it is 40 weight part or less with respect to 100 weight part of (B) 2nd polymers, More preferably, it is 20 weight part or less. In this invention, it is preferable not to use another polymer.

[라디칼 중합성 화합물][Radical polymerizable compound]

상기 라디칼 중합성 화합물은, 방사선에 대한 감도를 향상시키는 목적으로 본 발명의 중합체 조성물 중에 함유될 수 있다.The radically polymerizable compound may be contained in the polymer composition of the present invention for the purpose of improving sensitivity to radiation.

이 라디칼 중합성 화합물로서는, 아크릴로일기 및 메타크릴로일기로부터 선택되는 적어도 1종의 기(이하, 「라디칼 중합성기」라고도 함)를 1개 이상, 바람직하게는 1∼3개 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1∼3개의 라디칼 중합성기와 액정 유사 구조를 함께 갖는 화합물이다. 이러한 화합물로서 더욱 바람직하게는, 라디칼 중합성기를 1개 갖는 화합물로서 하기식 (d1):As this radically polymerizable compound, it is a compound which has 1 or more, preferably 1-3, at least 1 group (henceforth a "radically polymerizable group") chosen from acryloyl group and methacryloyl group. It is preferable, and it is a compound which has 1 to 3 radically polymerizable group and a liquid crystal like structure together more preferably. More preferably as such a compound, the compound having one radically polymerizable group is represented by the following formula (d1):

Figure pat00007
Figure pat00007

(식 (d1) 중, R은 수소 원자 또는 메틸기이며, (In formula (d1), R is a hydrogen atom or a methyl group,

RIII는 탄소수 4∼40의 알킬기, 탄소수 4∼40의 플루오로알킬기, 시아노기 또는 불소 원자이거나, 또는 스테로이드 골격을 갖는 탄소수 17∼51의 탄화 수소기이며;R III is an alkyl group having 4 to 40 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 4 to 40 carbon atoms, a cyano group or a fluorine atom, or a hydrocarbon group having 17 to 51 carbon atoms having a steroid skeleton;

ZIII는 단결합, *-O-, *-COO- 또는 *-OCO-(단, 「*」을 붙인 결합손이 RIII측임)이며, Z III is a single bond, * -O-, * -COO- or * -OCO- (wherein the bond to which "*" is attached is the R III side),

RIV는 사이클로헥실렌기 또는 페닐렌기이며, 단, 이 사이클로헥실렌기 또는 페닐렌기는 시아노기, 불소 원자, 트리플루오로메틸기 또는 탄소수 1∼3의 알킬기에 의해 치환되어 있어도 좋고, R IV is a cyclohexylene group or a phenylene group, provided that the cyclohexylene group or phenylene group may be substituted with a cyano group, a fluorine atom, a trifluoromethyl group, or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms,

n5는 1∼3의 정수이며,n5 is an integer of 1 to 3,

단, n5가 2 또는 3일 때, 복수 존재하는 RIV는 서로 같거나 다를 수 있고,However, when n5 is 2 or 3, a plurality of R IV may be the same or different from each other,

n6은 0 또는 1이다.)n6 is 0 or 1)

로 나타나는 화합물(이하, 「화합물(d1)」이라고 함)을, 라디칼 중합성기를 2개 갖는 화합물로서 비페닐 구조를 갖는 디(메타)아크릴레이트, 페닐-사이클로헥실 구조를 갖는 디(메타)아크릴레이트, 2,2-디페닐프로판 구조를 갖는 디(메타)아크릴레이트 및 디페닐메탄 구조를 갖는 디(메타)아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종(이하, 「화합물(d2)」이라고 함)을, 라디칼 중합성기를 3개 갖는 화합물로서 3가 이상의 다가 알코올의 트리(메타)아크릴산 에스테르(이하, 「화합물(d3)」이라고 함)를 각각 들 수 있다.The compound (henceforth "compound (d1)") represented by this is a compound which has two radically polymerizable groups, di (meth) acrylate which has a biphenyl structure, and di (meth) acryl which has a phenyl-cyclohexyl structure At least one selected from the group consisting of a di (meth) acrylate having a 2,2-diphenylpropane structure and a di (meth) acrylate having a diphenylmethane structure (hereinafter referred to as "compound (d2)"). As a compound which has three radically polymerizable groups, the tri (meth) acrylic acid ester of a trivalent or more polyhydric alcohol (henceforth "compound (d3)") is mentioned, respectively.

상기 화합물(d1)의 구체예로서는, 예를 들면 4-(4-옥타데실사이클로헥실)페닐아크릴레이트, 4-(4-부틸사이클로헥실)페닐메타크릴레이트, 4-(4-펜틸사이클로헥실)페닐메타크릴레이트, 4-(4-헥실사이클로헥실)페닐메타크릴레이트, 4-(4-옥틸사이클로헥실)페닐메타크릴레이트, 4-(4-데실사이클로헥실)페닐메타크릴레이트, 4-(4-도데실사이클로헥실)페닐메타크릴레이트, 4-(4-헥사데실사이클로헥실)페닐메타크릴레이트, 4-(4-옥타데실사이클로헥실)페닐메타크릴레이트, 4-(4-부틸사이클로헥실)사이클로헥실아크릴레이트, 4-(4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실아크릴레이트, 4-(4-헥실사이클로헥실)사이클로헥실아크릴레이트, 4-(4-옥틸사이클로헥실)사이클로헥실아크릴레이트, 4-(4-데실사이클로헥실)사이클로헥실아크릴레이트, 4-(4-도데실사이클로헥실)사이클로헥실아크릴레이트, 4-(4-헥사데실사이클로헥실)사이클로헥실아크릴레이트, 4-(4-옥타데실사이클로헥실)사이클로헥실아크릴레이트, 4-(4-부틸 사이클로헥실)사이클로헥실메타크릴레이트, 4-(4-펜틸사이클로헥실)사이클로헥실 메타크릴레이트, 4-(4-헥실사이클로헥실)사이클로헥실메타크릴레이트, 4-(4-옥틸사이클로헥실)사이클로헥실메타크릴레이트, 4-(4-데실사이클로헥실)사이클로헥실메타크릴레이트, 4-(4-도데실사이클로헥실)사이클로헥실메타크릴레이트, 4-(4-헥사데실 사이클로헥실)사이클로헥실메타크릴레이트, 4-(4-옥타데실사이클로헥실)사이클로헥실메타크릴레이트, (메타)아크릴산-5ξ-콜레스탄-3-일, (메타)아크릴산-5ξ-콜레스텐-3-일, (메타)아크릴산4-(4'-펜틸바이사이클로헥실-4-일)페닐에스테르 등을 들 수 있다.As a specific example of the said compound (d1), 4- (4-octadecylcyclohexyl) phenyl acrylate, 4- (4-butylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4-pentylcyclohexyl) phenyl, for example Methacrylate, 4- (4-hexylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4-octylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4-decylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4 -Dodecylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4-hexadecylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4-octadecylcyclohexyl) phenyl methacrylate, 4- (4-butylcyclohexyl) Cyclohexyl acrylate, 4- (4-pentylcyclohexyl) cyclohexyl acrylate, 4- (4-hexylcyclohexyl) cyclohexyl acrylate, 4- (4-octylcyclohexyl) cyclohexyl acrylate, 4- ( 4-decylcyclohexyl) cyclohexyl acrylate, 4- (4-dodecylcyclohexyl) cyclohexyl Acrylate, 4- (4-hexadecylcyclohexyl) cyclohexyl acrylate, 4- (4-octadecylcyclohexyl) cyclohexyl acrylate, 4- (4-butyl cyclohexyl) cyclohexyl methacrylate, 4- (4-pentylcyclohexyl) cyclohexyl methacrylate, 4- (4-hexylcyclohexyl) cyclohexyl methacrylate, 4- (4-octylcyclohexyl) cyclohexyl methacrylate, 4- (4-decylcyclo Hexyl) cyclohexyl methacrylate, 4- (4-dodecylcyclohexyl) cyclohexyl methacrylate, 4- (4-hexadecyl cyclohexyl) cyclohexyl methacrylate, 4- (4-octadecylcyclohexyl) Cyclohexyl methacrylate, (meth) acrylic acid-5ξ-cholestan-3-yl, (meth) acrylic acid-5ξ-cholester-3-yl, (meth) acrylic acid 4- (4'-pentylbicyclohexyl-4 -Yl) phenyl ester etc. are mentioned.

상기 화합물(d2)의 구체예로서는, 비페닐 구조를 갖는 디(메타)아크릴레이트로서, 예를 들면 4'-(메타)아크릴로일옥시-비페닐-4-일-아크릴레이트, 2-[4'-(2-(메타)아크릴로일옥시-에톡시)-비페닐-4-일옥시]-에틸(메타)아크릴레이트, 2-(2-{4'-[2-(2-(메타)아크릴로일옥시에톡시)-에톡시]-비페닐-4-일옥시}-에톡시)-에틸아크릴레이트, 비스하이드록시에톡시비페닐디(메타)아크릴레이트 등을;As a specific example of the said compound (d2), it is di (meth) acrylate which has a biphenyl structure, for example, 4 '-(meth) acryloyloxy-biphenyl-4-yl-acrylate and 2- [4. '-(2- (meth) acryloyloxy-ethoxy) -biphenyl-4-yloxy] -ethyl (meth) acrylate, 2- (2- {4'-[2- (2- (meta ) Acryloyloxyethoxy) -ethoxy] -biphenyl-4-yloxy} -ethoxy) -ethyl acrylate, bishydroxyethoxy biphenyl di (meth) acrylate, etc .;

페닐-사이클로헥실 구조를 갖는 디(메타)아크릴레이트로서, 예를 들면 4-(4-(메타)아크릴로일옥시-페닐)-사이클로헥실(메타)아크릴레이트, 2-{4-[4-(2-(메타)아크릴로일옥시-에톡시)-페닐]-사이클로헥실옥시}-에틸(메타)아크릴레이트 등을;As di (meth) acrylate having a phenyl-cyclohexyl structure, for example, 4- (4- (meth) acryloyloxy-phenyl) -cyclohexyl (meth) acrylate, 2- {4- [4- (2- (meth) acryloyloxy-ethoxy) -phenyl] -cyclohexyloxy} -ethyl (meth) acrylate, etc .;

2,2-디페닐프로판 구조를 갖는 디(메타)아크릴레이트로서, 예를 들면 4-[1-(4-(메타)아크릴로일옥시-페닐)-1-메틸-에틸]-페닐(메타)아크릴레이트, 2-(4-{1-[4-(2-(메타)아크릴로일옥시-에톡시)-페닐]-1-메틸-에틸}-페녹시)-에틸(메타)아크릴레이트, 에톡시-비스페놀A디(메타)아크릴레이트 등을;As di (meth) acrylate which has a 2, 2- diphenyl propane structure, for example, 4- [1- (4- (meth) acryloyloxy-phenyl) -1-methyl-ethyl] -phenyl (meth ) Acrylate, 2- (4- {1- [4- (2- (meth) acryloyloxy-ethoxy) -phenyl] -1-methyl-ethyl} -phenoxy) -ethyl (meth) acrylate , Ethoxy bisphenol A di (meth) acrylate, and the like;

디페닐메탄 구조를 갖는 디(메타)아크릴레이트로서, 예를 들면 4-(4-(메타)아크릴로일옥시-벤질)-페닐(메타)아크릴레이트, 2-{4-[4-(2-(메타)아크릴로일옥시-에톡시)-벤질]-페닐}-에틸(메타)아크릴레이트, 비스페놀F의 에틸렌옥사이드 부가물의 디(메타)아크릴레이트 등을 각각 들 수 있다.As di (meth) acrylate having a diphenylmethane structure, for example, 4- (4- (meth) acryloyloxy-benzyl) -phenyl (meth) acrylate, 2- {4- [4- (2 -(Meth) acryloyloxy-ethoxy) -benzyl] -phenyl} -ethyl (meth) acrylate, the di (meth) acrylate of the ethylene oxide adduct of bisphenol F, etc. are mentioned, respectively.

상기 화합물(d3)의 구체예로서는, 예를 들면 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사메타크릴레이트, 트리(2-아크릴로일옥시에틸)포스페이트, 트리(2-메타크릴로일옥시에틸)포스페이트 등을 들 수 있다.As a specific example of the said compound (d3), for example, trimethylol propane triacrylate, trimethylol propane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, penta Erythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, tri (2-acryloyloxyethyl Phosphate, tri (2-methacryloyloxyethyl) phosphate, and the like.

본 발명에서 사용되는 라디칼 중합성 화합물로서는, 화합물(d1) 또는 화합물(d2)이 바람직하고, 특히 상기식 (d1)에 있어서의 n5가 2 또는 3이고, 또한 n6이 1인 화합물(d1), 상기식 (d1)에 있어서의 RIII가 스테로이드 골격을 갖는 탄소수17∼51의 탄화 수소기인 화합물(d1) 또는 비페닐 구조를 갖는 디(메타)아크릴레이트인 화합물(d2)이 바람직하다.As a radically polymerizable compound used by this invention, a compound (d1) or a compound (d2) is preferable, Especially the compound (d1) whose n5 in the said Formula (d1) is 2 or 3, and n6 is 1, it is a compound (d2) di (meth) acrylate having the formula (d1) the R III hydrocarbons resulting compound (d1) or biphenyl structure having a carbon number of 17-51 with a steroid skeleton in the preferred.

라디칼 중합성 화합물의 사용 비율은, (B) 제2 중합체 100중량부에 대하여, 바람직하게는 50중량부 이하이며, 보다 바람직하게는 1∼50중량부이고, 더욱 바람직하게는 3∼30중량부이며, 특히 5∼15중량부인 것이 바람직하다. 이러한 사용 비율로 함으로써, 제조되는 액정 표시 소자의 전압 보전율 저하라는 문제를 일으키는 일 없이 당해 화합물에 소기하는 효과를 유효하게 발현시킬 수 있다.The use ratio of a radically polymerizable compound is 50 weight part or less with respect to 100 weight part of (B) 2nd polymers, More preferably, it is 1-50 weight part, More preferably, it is 3-30 weight part It is preferable that it is 5-15 weight part especially. By setting it as such a use ratio, the effect scavenged to the said compound can be effectively expressed, without causing the problem of the voltage retention reduced of the liquid crystal display element manufactured.

[에폭시 화합물][Epoxy Compound]

상기 에폭시기 화합물로서는, 분자 내에 적어도 2개의 에폭시기를 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 예를 들면 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 트리메틸올프로판트리글리시딜에테르, 2,2-디브로모네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-자일렌디아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)사이클로헥산, N,N,N',N'-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N-디글리시딜-벤질아민, N,N-디글리시딜-아미노메틸사이클로헥산, N,N-디글리시딜-사이클로헥실아민 등을 바람직한 것으로서 들 수 있다.It is preferable that it is a compound which has at least 2 epoxy group in a molecule | numerator as said epoxy group compound, For example, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethyleneglycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol di Glycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, trimethylol propane triglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentylglycol diglycidyl ether, N, N, N ', N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1,3-bis (N, N-diglycid) Dilaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ', N'-tetraglycidyl-4,4'-diaminodiphenylmethane, N, N-diglycidyl-benzylamine, N, N-di Glycidyl-aminomethylcyclohexane, N, N- diglycidyl-cyclohexylamine, etc. are mentioned as a preferable thing. All.

이들 에폭시 화합물의 배합 비율은, (B) 제2 중합체 100중량부에 대하여, 바람직하게는 10중량부 이하이며, 보다 바람직하게는 5중량부 이하이다.The compounding ratio of these epoxy compounds becomes like this. Preferably it is 10 weight part or less with respect to 100 weight part of (B) 2nd polymers, More preferably, it is 5 weight part or less.

[관능성 실란 화합물][Functional silane compound]

상기 관능성 실란 화합물로서는, 예를 들면 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 2-아미노프로필트리메톡시실란, 2-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-우레이도프로필트리메톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, N-에톡시카보닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-에톡시카보닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-트리에톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, N-트리메톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, 10-트리메톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸, 10-트리에톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸, 9-트리메톡시실릴-3,6-디아자노닐아세테이트, 9-트리에톡시실릴-3,6-디아자노닐아세테이트, 9-트리메톡시실릴-3,6-디아자노난산 메틸, 9-트리에톡시실릴-3,6-디아자노난산 메틸, N-벤질-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-벤질-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, 글리시독시메틸트리메톡시실란, 글리시독시메틸트리에톡시실란, 2-글리시독시에틸트리메톡시실란, 2-글리시독시에틸트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란 등을 들 수 있다.As said functional silane compound, 3-aminopropyl trimethoxysilane, 3-aminopropyl triethoxysilane, 2-aminopropyl trimethoxysilane, 2-aminopropyl triethoxysilane, N- (2 -Aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxy Silane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-triethoxysilylpropyltriethylenetriamine, N-trimeth Methoxysilylpropyltriethylenetriamine, 10-trimethoxysilyl-1,4,7-triazadecan, 10-triethoxysilyl-1,4,7-triazadecan, 9-trimethoxysilyl-3 , 6-Diazonayl acetate, 9-triethoxysilyl-3,6-diazanyl acetate, 9-trimethoxysilyl-3,6-methyl diazanoanoate, 9-triethoxy Methyl 3,6-diazananoic acid, N-benzyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-benzyl-3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltriethoxysilane, glycidoxymethyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltriethoxysilane, 2-glycidoxyethyltrimethoxysilane, 2-glycidoxyethyltrie A methoxysilane, 3-glycidoxy propyl trimethoxysilane, 3-glycidoxy propyl triethoxysilane, etc. are mentioned.

이들 관능성 실란 함유 화합물의 배합 비율은, (B) 제2 중합체 100중량부에 대하여, 바람직하게는 2중량부 이하이며, 보다 바람직하게는 0.2중량부 이하이다.The compounding ratio of these functional silane containing compounds becomes like this. Preferably it is 2 weight part or less with respect to 100 weight part of (B) 2nd polymers, More preferably, it is 0.2 weight part or less.

<중합체 조성물><Polymer composition>

본 발명에 있어서 이용되는 중합체 조성물은, 상기와 같은 (A) 제1 중합체 및 (B) 제2 중합체, 또한 임의적으로 이용되는 기타 성분을, 적당한 유기 용매에 용해한 용액으로서 조제되는 것이 바람직하다.It is preferable that the polymer composition used in this invention is prepared as a solution which melt | dissolved the above-mentioned (A) 1st polymer and (B) 2nd polymer, and other components used arbitrarily in a suitable organic solvent.

여기에서 사용할 수 있는 유기 용매로서는, 예를 들면 N-메틸-2-피롤리돈, γ-부티로락톤, γ-부티로락탐, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 4-하이드록시-4-메틸-2-펜타논, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 락트산 부틸, 아세트산 부틸, 메틸메톡시프로피오네이트, 에틸에톡시프로피오네이트, 에틸렌글리콜메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르, 에틸렌글리콜-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜-i-프로필에테르, 에틸렌글리콜-n-부틸에테르(부틸셀로솔브), 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디이소부틸케톤, 이소아밀프로피오네이트, 이소아밀이소부틸레이트, 디이소펜틸에테르 등을 들 수 있다.As an organic solvent which can be used here, for example, N-methyl- 2-pyrrolidone, (gamma) -butyrolactone, (gamma) -butyrolactam, N, N- dimethylformamide, N, N- dimethylacetamide, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, ethylene glycol monomethyl ether, butyl lactate, butyl acetate, methyl methoxy propionate, ethyl ethoxy propionate, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, Ethylene glycol-n-propyl ether, ethylene glycol-i-propyl ether, ethylene glycol-n-butyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol Diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diisobutylke Tones, isoamyl propionate, isoamyl isobutylate, diisopentyl ether and the like.

유기 용매의 사용 비율로서는, 중합체 조성물의 고형분 농도(중합체 조성물중의 유기 용매 이외의 성분의 합계 중량이 중합체 조성물의 전체 중량에 차지하는 비율)가 1∼15중량%가 되는 비율로 하는 것이 바람직하고, 1.5∼8중량%가 되는 비율로 하는 것이 보다 바람직하다.As a usage ratio of an organic solvent, it is preferable to set it as the ratio which solid content concentration (the ratio which the total weight of components other than the organic solvent in a polymer composition occupies for the total weight of a polymer composition) of a polymer composition becomes 1 to 15 weight%, It is more preferable to set it as the ratio used as 1.5 to 8 weight%.

<<액정 표시 소자의 제조 방법>><< manufacturing method of liquid crystal display element >>

본 발명의 액정 표시 소자의 제조 방법은,The manufacturing method of the liquid crystal display element of this invention,

도전막을 갖는 한 쌍의 기판의 당해 도전막 상에, 각각 상기와 같은 중합체조성물을 도포하여 도막을 형성하고,On the said conductive film of a pair of board | substrates which have a conductive film, the above-mentioned polymer composition is apply | coated each, and a coating film is formed,

상기 도막을 형성한 한 쌍의 기판의 상기 도막이, 액정 분자의 층을 통해 상대하여 대향 배치한 구성의 액정 셀을 형성하고,The coating film of a pair of board | substrates which formed the said coating film forms the liquid crystal cell of the structure which opposingly arranged through the layer of liquid crystal molecules,

상기 한 쌍의 기판이 갖는 도전막 사이에 전압을 인가한 상태에서 상기 액정 셀에 광조사하는 공정을 거치는 것을 특징으로 한다.And a step of irradiating light to the liquid crystal cell in a state where a voltage is applied between the conductive films of the pair of substrates.

여기에서, 기판으로서는 예를 들면 플로트(float) 유리, 소다 유리와 같은 유리; Here, as a board | substrate, For example, glass, such as a float glass and a soda glass;

폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리카보네이트와 같은 플라스틱 등으로 이루어지는 투명 기판 등을 이용할 수 있다.A transparent substrate made of polyethylene such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyether sulfone, polycarbonate, or the like can be used.

상기 도전막으로서는 투명 도전막을 이용하는 것이 바람직하고, 예를 들면 SnO2로 이루어지는 NESA막, In2O3-SnO2로 이루어지는 ITO막 등을 이용할 수 있다. 이 도전막은, 각각 복수의 영역에 구획된 패턴 형상 도전막인 것이 바람직하다. 이러한 도전막 구성으로 하면, 도전막 사이에 전압을 인가할 때(후술)에 이 각 영역마다 상이한 전압을 인가함으로써 각 영역마다 액정 분자의 프리틸트각의 방향을 바꿀 수 있고, 이에 따라 시야각 특성을 보다 넓게 하는 것이 가능해진다.Preferable to use a transparent conductive film as the conductive film, and for example may be used NESA film, ITO film or the like made of In 2 O 3 -SnO 2 made of SnO 2. It is preferable that this conductive film is a pattern-shaped conductive film partitioned in several area | regions, respectively. With such a conductive film configuration, the direction of the pretilt angle of the liquid crystal molecules can be changed for each region by applying a different voltage for each region when a voltage is applied between the conductive films (to be described later), thereby changing the viewing angle characteristics. It becomes possible to make it wider.

이러한 기판의 당해 도전막 상에 중합체 조성물을 도포하는 데는 , 예를 들면 롤코터법, 스피너법, 인쇄법, 잉크젯법 등의 적당한 도포 방법에 의할 수 있다. 도포 후, 당해 도포면을 예비 가열(프리베이킹)하고, 이어서 소성(포스트베이킹)함으로써 도막을 형성한다. 프리베이킹 조건은, 예를 들면 40∼120℃에 있어서 0.1∼5분이며, 포스트베이킹 조건은, 바람직하게는 120∼300℃, 보다 바람직하게는 150∼250℃에 있어서, 바람직하게는 5∼200분 , 보다 바람직하게는 10∼100분이다. 포스트베이킹 후의 도막의 막두께는, 바람직하게는 0.001∼1㎛이며, 보다 바람직하게는 0.005∼0.5㎛이다.In order to apply | coat a polymer composition on the said electrically conductive film of such a board | substrate, it can be based on suitable coating methods, such as a roll coater method, a spinner method, the printing method, the inkjet method, for example. After application | coating, the said coating surface is preheated (prebaked) and then baked (postbaking), and a coating film is formed. The prebaking conditions are, for example, 0.1 to 5 minutes at 40 to 120 ° C, and the postbaking conditions are preferably 120 to 300 ° C, more preferably 150 to 250 ° C, and preferably 5 to 200. Minutes, More preferably, it is 10 to 100 minutes. The film thickness of the coating film after postbaking becomes like this. Preferably it is 0.001-1 micrometer, More preferably, it is 0.005-0.5 micrometer.

이와 같이 하여 형성된 도막은 이것을 그대로 다음 공정의 액정 셀 제조에 제공하거나, 혹은 액정 셀 제조에 앞서 필요에 따라서 도막면에 대한 러빙 처리를 행할 수도 있다. 이 러빙 처리는, 도막면에 대하여, 예를 들면 나일론, 레이온, 코튼 등의 섬유로 이루어지는 천을 감은 롤로 일정 방향으로 문지름으로써 행할 수 있다. 여기에서, 특허문헌 1(일본공개특허공보 평5-107544호)에 기재되어 있는 바와 같이, 일단 러빙 처리를 행한 후에 도막면의 일부에 레지스트막을 형성하고, 추가로 앞의 러빙 처리와 상이한 방향으로 러빙 처리를 행한 후에 레지스트막을 제거하는 처리를 행하여 영역마다 상이한 러빙 방향으로 함으로써, 얻어지는 액정 표시 소자의 시계(視界) 특성을 더욱 개선시키는 것이 가능하다.The coating film formed in this way may be used as it is for the liquid crystal cell manufacture of a next process as it is, or a rubbing process may be performed with respect to a coating film surface as needed before liquid crystal cell manufacture. This rubbing process can be performed by rubbing in a fixed direction with the roll which wound the cloth which consists of fibers, such as nylon, a rayon, and cotton, with respect to a coating film surface, for example. Here, as described in Patent Document 1 (Japanese Patent Laid-Open No. Hei 5-107544), after a rubbing treatment is performed, a resist film is formed on a part of the coating film surface, and further in a direction different from the previous rubbing treatment. By performing the process of removing a resist film after performing a rubbing process, and making it into a different rubbing direction for every area | region, it is possible to further improve the field-of-view characteristic of the liquid crystal display element obtained.

이어서, 상기 도막을 형성한 한 쌍의 기판의 상기 도막이, 액정 분자의 층을 통해 상대하여 대향 배치한 구성의 액정 셀을 형성한다.Next, the said coating film of the pair of board | substrates in which the said coating film was formed forms the liquid crystal cell of the structure which opposingly arranged through the layer of liquid crystal molecules.

여기에서 사용되는 액정 분자로서는, 부의 유전 이방성을 갖는 네마틱형 액정이 바람직하고, 예를 들면 디시아노벤젠계 액정, 피리다진계 액정, 시프베이스계 액정, 아족시계 액정, 비페닐계 액정, 페닐사이클로헥산계 액정 등을 이용할 수 있다. 액정 분자의 층 두께는 1∼5㎛로 하는 것이 바람직하다.As a liquid crystal molecule used here, the nematic liquid crystal which has negative dielectric anisotropy is preferable, for example, dicyano benzene liquid crystal, a pyridazine liquid crystal, a siphon base liquid crystal, a cyanide liquid crystal, a biphenyl liquid crystal, a phenylcyclo Hexane type liquid crystal etc. can be used. It is preferable that the layer thickness of liquid crystal molecule shall be 1-5 micrometers.

이러한 액정을 이용하여 액정 셀을 형성하는 데는, 예를 들면 이하의 2가지 방법을 들 수 있다.For forming a liquid crystal cell using such a liquid crystal, the following two methods are mentioned, for example.

제1 방법으로서는, 각각의 액정 배향막이 대향하도록 간극(셀 갭)을 통하여 2매의 기판을 대향 배치하고, 2매의 기판의 주변부를 시일제를 이용하여 접합하고, 기판 표면 및 시일제에 의해 구획된 셀 갭 내에 액정을 주입 충전한 후, 주입공을 봉지(封止)함으로써, 액정 셀을 제조할 수 있다. 혹은 제2 방법으로서, 액정 배향막을 형성한 2매의 기판 중 한쪽의 기판 상의 소정의 장소에 예를 들면 자외광 경화성의 시일제를 도포하고, 추가로 액정 배향막면 상에 액정을 적하한 후, 액정 배향막이 대향하도록 다른 한쪽의 기판을 접합하고, 이어서 기판의 전면(全面)에 자외광을 조사하여 시일제를 경화함으로써, 액정 셀을 제조할 수 있다.As a 1st method, two board | substrates are opposingly arranged through gap | interval (cell gap) so that each liquid crystal aligning film may oppose, the peripheral part of two board | substrates are joined using a sealing agent, and a board | substrate surface and a sealing agent After injecting and filling a liquid crystal into the divided cell gap, a liquid crystal cell can be manufactured by sealing an injection hole. Or as a 2nd method, after apply | coating an ultraviolet-ray curable sealing compound, for example to the predetermined place on one of the two board | substrates with which the liquid crystal aligning film was formed, and further dropping a liquid crystal on the liquid crystal aligning film surface, A liquid crystal cell can be manufactured by bonding another board | substrate so that a liquid crystal aligning film may oppose, and then irradiating an ultraviolet-ray to the whole surface of a board | substrate, and hardening a sealing compound.

그 후, 상기 한 쌍의 기판이 갖는 도전막 사이에 전압을 인가한 상태에서 상기 액정 셀에 광조사한다.Thereafter, the liquid crystal cell is irradiated with light while a voltage is applied between the conductive films of the pair of substrates.

여기에서 인가하는 전압은, 예를 들면 5∼50V의 직류 또는 교류로 할 수 있다.The voltage applied here can be, for example, 5 to 50 V DC or alternating current.

조사하는 빛으로서는, 예를 들면 150∼800nm 파장의 빛을 포함하는 자외선 및 가시광선을 이용할 수 있지만, 300∼400nm 파장의 빛을 포함하는 자외선이 바람직하다. 조사광의 광원으로서는, 예를 들면 저압 수은 램프, 고압 수은 램프, 중수소 램프, 메탈할라이드 램프, 아르곤 공명 램프, 크세논 램프, 엑시머 레이저 등을 사용할 수 있다. 상기의 바람직한 파장 영역의 자외선은, 상기 광원을, 예를 들면 필터, 회절 격자 등과 병용하는 수단 등에 의해 얻을 수 있다.As the light to be irradiated, for example, ultraviolet rays and visible rays containing light having a wavelength of 150 to 800 nm can be used, but ultraviolet rays containing light having a wavelength of 300 to 400 nm are preferable. As a light source of irradiation light, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a deuterium lamp, a metal halide lamp, an argon resonance lamp, a xenon lamp, an excimer laser, etc. can be used, for example. Ultraviolet rays in the above preferred wavelength region can be obtained by means of using the light source together with a filter, a diffraction grating, or the like, for example.

빛의 조사량으로서는, 바람직하게는 1,000J/㎡ 이상 100,000J/㎡ 미만이며, 보다 바람직하게는 1,000∼50,000J/㎡이다. 종래 알려져 있는 PSA 모드의 액정 표시 소자의 제조에 있어서는, 100,000J/㎡ 정도의 빛을 조사하는 것이 필요했지만, 본 발명의 방법에 있어서는, 광조사량을 50,000J/㎡ 이하, 추가로 10,000J/㎡ 이하로 한 경우라도 원하는 액정 표시 소자를 얻을 수 있어, 액정 표시 소자의 제조 비용 삭감에 도움이 되는 것 외에, 강한 빛의 조사에 기인하는 전기 특성의 저하, 장기 신뢰성의 저하를 회피할 수 있다.As an irradiation amount of light, Preferably it is 1,000 J / m <2> or more and less than 100,000 J / m <2>, More preferably, it is 1,000-50,000 J / m <2>. In the manufacture of the liquid crystal display element of the conventionally known PSA mode, it was necessary to irradiate about 100,000 J / m <2> light, but in the method of this invention, the light irradiation amount is 50,000 J / m <2> or less and further 10,000 J / m <2>. Even if it is set as the following, a desired liquid crystal display element can be obtained, and it is helpful in reducing the manufacturing cost of a liquid crystal display element, and the fall of the electrical characteristic resulting from strong light irradiation, and the fall of long-term reliability can be avoided.

그리고, 상기와 같은 처리를 행한 후 액정 셀의 외측 표면에 편광판을 접합함으로써, 액정 표시 소자를 얻을 수 있다. 여기에서 사용되는 편광판으로서는, 폴리비닐알코올을 연신 배향시키면서 요오드를 흡수시킨 「H막」이라고 불리는 편광막을 아세트산 셀룰로오스 보호막으로 사이에 끼운 편광판, 또는 H막 그 자체로 이루어지는 편광판 등을 들 수 있다.And a liquid crystal display element can be obtained by bonding a polarizing plate to the outer surface of a liquid crystal cell after performing the above processes. As a polarizing plate used here, the polarizing plate etc. which sandwiched the polarizing film called "H film | membrane" which absorbed iodine while extending | stretching polyvinyl alcohol by the cellulose acetate protective film, or the polarizing plate which consists of H film itself are mentioned.

<<액정 표시 소자>><< liquid crystal display element >>

본 발명의 방법에 따라 상기와 같이 하여 제조되는 액정 표시 소자는, 시야각이 넓고, 액정 분자의 응답 속도가 매우 빠르며, 표시 특성 및 장기 신뢰성의 쌍방이 우수한 것이며, 게다가 제조 비용이 삭감된 염가인 것이기 때문에, 2차원 표시 및 3차원 표시의 액정 텔레비전을 포함하는 여러 가지 용도에 매우 적합하게 적용할 수 있다.The liquid crystal display device manufactured as described above according to the method of the present invention has a wide viewing angle, a very fast response speed of liquid crystal molecules, excellent display properties and long-term reliability, and a low production cost. Therefore, the present invention can be suitably applied to various applications including liquid crystal televisions of two-dimensional display and three-dimensional display.

(실시예)(Example)

<(A) 제1 중합체의 합성><(A) Synthesis of First Polymer>

합성예 S-1Synthesis Example S-1

[가수 분해 축합 반응]Hydrolytic Condensation Reaction

교반기, 온도계, 적하 깔때기 및 환류 냉각관을 구비한 반응 용기에, 가수 분해성 실란 화합물로서 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란(ECETS) 73.9g 및 γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란(GMPTS) 24.8g(ECETS:GMPTS=75:25(몰비)), 또한 용매로서 메틸이소부틸케톤 500g 및 촉매로서 트리에틸아민 10.0g을 넣고, 실온에서 혼합했다. 이어서, 탈이온수 100g을 적하 깔때기로부터 30분 걸쳐서 적하한 후, 환류하에서 교반하면서 80℃에서 6시간 반응을 행했다. 반응 종료후, 유기층을 취출하여 0.2중량% 질산 암모늄 수용액에 의해 세정 후의 물이 중성이 될 때까지 세정한 후, 감압하에서 용매 및 물을 증류 제거함으로써, 에폭시기를 갖는 가수 분해 축합물을 점조(粘稠)한 투명 액체로서 얻었다.In a reaction vessel equipped with a stirrer, a thermometer, a dropping funnel and a reflux condenser, 73.9 g of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (ECETS) and γ-methacryloxypropyl as hydrolyzable silane compounds 24.8 g of trimethoxysilane (GMPTS) (ECETS: GMPTS = 75: 25 (molar ratio)), 500 g of methyl isobutyl ketone as a solvent, and 10.0 g of triethylamine as a catalyst were added and mixed at room temperature. Subsequently, 100 g of deionized water was dripped over 30 minutes from the dropping funnel, and reaction was performed at 80 degreeC for 6 hours, stirring under reflux. After completion of the reaction, the organic layer was taken out and washed with a 0.2% by weight aqueous ammonium nitrate solution until the water after washing became neutral, and then the solvent and water were distilled off under reduced pressure to obtain a hydrolyzed condensate having an epoxy group. (Iii) obtained as a transparent liquid.

이 가수 분해 축합물에 대해서, 1H-NMR 분석을 행한 결과, 화학 시프트(б)=3.2ppm 부근에 에폭시기에 기초하는 피크가 이론 강도대로 얻어지고, 반응 중에 에폭시기의 부(副)반응이 일어나지 않은 것이 확인되었다.As a result of performing 1 H-NMR analysis on this hydrolysis-condensation product, a peak based on the epoxy group is obtained according to the theoretical strength near the chemical shift (б) = 3.2 ppm, and side reactions of the epoxy group occur during the reaction. Was confirmed.

[에폭시기를 갖는 가수 분해 축합물과 카본산과의 반응][Reaction of Hydrolyzed Condensate Having Epoxy Group with Carbonic Acid]

200mL의 3구 플라스크에, 상기에서 얻은 에폭시기를 갖는 가수 분해 축합물에 용매로서 메틸이소부틸케톤 30.0g, 카본산으로서 4-옥틸옥시벤조산(OCTBA) 30.0g(상기 가수 분해 축합물이 갖는 에폭시기에 대하여 30몰%에 상당함) 및 촉매로서 UCAT 18X(상품명, 산아프로 가부시키가이샤 제조의 에폭시 화합물 경화 촉진제임) 0.10g을 넣고 100℃에서 48시간 교반하에 반응을 행했다. 반응 종료 후, 반응 혼합물에 아세트산 에틸을 가하여 얻은 유기층을 3회 물 세정하고, 황산 마그네슘을 이용하여 건조한 후, 용제를 증류 제거함으로써, (A) 제1 중합체인 폴리오가노실록산(PS-1)을 100.2g 얻었다. 이 폴리오가노실록산(PS-1)에 대해서, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)은 7,100이었다.In a 200 mL three-necked flask, 30.0 g of methyl isobutyl ketone as a solvent and 30.0 g of 4-octyloxybenzoic acid (OCTBA) as a carbonic acid in the hydrolysis-condensation product having the epoxy group obtained above (the epoxy group of the hydrolysis-condensation product 0.10 g of UCAT 18X (trade name, which is an epoxy compound curing accelerator manufactured by San Afro Co., Ltd.) was added as a catalyst and a catalyst, and the reaction was carried out at 100 ° C. for 48 hours with stirring. After the completion of the reaction, the organic layer obtained by adding ethyl acetate to the reaction mixture was washed three times with water, dried using magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off to remove (A) polyorganosiloxane (PS-1) as the first polymer. 100.2 g was obtained. About this polyorganosiloxane (PS-1), the weight average molecular weight (Mw) of polystyrene conversion measured by the gel permeation chromatography (GPC) was 7,100.

합성예 S-2∼S-6, S-10, S-11 및 S-16Synthesis Examples S-2 to S-6, S-10, S-11 and S-16

[가수 분해 축합 반응] 및 [에폭시기를 갖는 가수 분해 축합물과 카본산과의 반응][Hydrolytic Condensation Reaction] and [Reaction of Hydrolyzed Condensate Having Epoxy Group with Carbonic Acid]

상기 합성예 S-1에 있어서, 제1 표에 기재한 종류 및 양의 가수 분해성 실란 화합물 및 카본산을 각각 이용한 것 외에는 합성예 S-1과 동일하게 하여 가수 분해 축합 반응 및 가수 분해 축합물과 카본산과의 반응을 행함으로써, (A) 제1 중합체인 폴리오가노실록산(PS-2)∼(PS-6), (PS-10), (PS-11) 및 (PS-16)을 각각 얻었다. 이들 폴리오가노실록산의 수량(收量) 및 Mw를 제1 표에 아울러 나타냈다. 또한, 합성예 S-3∼S-5 및 S-16에 있어서는 카본산을 각각 2종류씩 사용했다. 합성예 S-6은 비교 합성예이다.In the above Synthesis Example S-1, the hydrolytic condensation reaction and the hydrolysis condensate were carried out in the same manner as in Synthesis Example S-1 except that the hydrolyzable silane compound and the carbonic acid of the kind and amount shown in the first table were used, respectively. By reacting with carbonic acid, (A) polyorganosiloxanes (PS-2) to (PS-6), (PS-10), (PS-11) and (PS-16), which are the first polymers, were obtained, respectively. . The yield and Mw of these polyorganosiloxanes were also shown in the 1st table | surface. In the synthesis examples S-3 to S-5 and S-16, two types of carboxylic acids were used, respectively. Synthesis Example S-6 is a comparative synthesis example.

합성예 S-7∼S-9Synthesis Example S-7-S-9

[가수 분해 축합 반응]Hydrolytic Condensation Reaction

상기 합성예 S-1에 있어서, 제1 표에 기재한 종류 및 양의 가수 분해성 실란 화합물을 이용한 것 외에는 합성예 S-1과 동일하게 하여 가수 분해 축합 반응을 행함으로써, (A) 제1 중합체인 폴리오가노실록산(PS-7)∼(PS-9)을 각각 얻었다. 이들 폴리오가노실록산의 수량 및 Mw를 제1 표에 아울러 나타냈다.In the said synthesis example S-1, except having used the hydrolyzable silane compound of the kind and quantity shown in the 1st table | surface, it carries out a hydrolytic condensation reaction similarly to the synthesis example S-1, and (A) 1st polymer Phosphorus polyorganosiloxane (PS-7)-(PS-9) were obtained, respectively. The quantity and Mw of these polyorganosiloxane were combined with the 1st table | surface.

합성예 S-12Synthesis Example S-12

[가수 분해 축합 반응]Hydrolytic Condensation Reaction

상기 합성예 S-1에 있어서, 제1 표에 기재한 종류 및 양의 가수 분해성 실란 화합물을 이용한 것 외에는 합성예 S-1과 동일하게 하여 가수 분해 축합 반응을 행함으로써, 아크릴로일기를 갖는 가수 분해 축합물을 점조한 투명 액체로서 얻었다.In the said Synthesis Example S-1, except for using the hydrolyzable silane compound of the kind and quantity shown in the 1st table | surface, the hydrolysis-condensation reaction was performed similarly to the Synthesis Example S-1, and the valence which has an acryloyl group The decomposition condensate was obtained as a viscous transparent liquid.

[아크릴로일기를 갖는 가수 분해 축합물과 구핵성 화합물(티올)과의 반응][Reaction of Hydrolysis Condensate Having Acryloyl Group with Nucleophilic Compound (Thiol)]

교반기 및 온도계를 구비한 500mL의 3구 플라스크에, 상기 가수 분해 축합물 165.3g, 구핵성 화합물로서 n-도데실-1-티올(DT) 60.7g, 용매로서 아세토니트릴 160mL 및 촉매로서 트리에틸아민 22.3g을 넣고, 50℃로 승온하여 90분 교반하여, 반응을 실시했다. 반응 종료 후, 유기층을 취출하여, 0.2중량% 질산 암모늄 수용액에 의해 세정 후의 물이 중성이 될 때까지 세정한 후, 감압하에서 용매 및 촉매를 증류 제거함으로써, (A) 제1 중합체인 폴리오가노실록산(PS-12)을 점조한 투명 액체로서 225.3g 얻었다. 이 폴리오가노실록산(PS-12)에 대해서, GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)은 7,400이었다.In a 500 mL three-necked flask equipped with a stirrer and a thermometer, 165.3 g of the above hydrolysis condensate, 60.7 g of n-dodecyl-1-thiol (DT) as a nucleophilic compound, 160 mL of acetonitrile as a solvent and triethylamine as a catalyst 22.3g was put, it heated up at 50 degreeC, stirred for 90 minutes, and reacted. After completion of the reaction, the organic layer was taken out and washed with a 0.2% by weight ammonium nitrate aqueous solution until the water after washing became neutral, and then the solvent and catalyst were distilled off under reduced pressure, thereby (A) polyorganosiloxane as the first polymer. 225.3 g of (PS-12) was obtained as a viscous transparent liquid. About this polyorganosiloxane (PS-12), the weight average molecular weight (Mw) of polystyrene conversion measured by GPC was 7,400.

합성예 S-13Synthesis Example S-13

[가수 분해 축합 반응]Hydrolytic Condensation Reaction

상기 합성예 S-1에 있어서, 제1 표에 기재한 종류 및 양의 가수 분해성 실란 화합물을 이용한 것 외에는 합성예 S-1과 동일하게 하여 가수 분해 축합 반응을 행함으로써, 아크릴로일기를 갖는 가수 분해 축합물을 점조한 투명 액체로서 얻었다.In the said Synthesis Example S-1, except for using the hydrolyzable silane compound of the kind and quantity shown in the 1st table | surface, the hydrolysis-condensation reaction was performed similarly to the Synthesis Example S-1, and the valence which has an acryloyl group The decomposition condensate was obtained as a viscous transparent liquid.

[아크릴로일기를 갖는 가수 분해 축합물과 구핵성 화합물(아민)과의 반응][Reaction of Hydrolyzed Condensate Having Acryloyl Group with Nucleophilic Compound (Amine)]

교반기 및 온도계를 구비한 500mL의 3구 플라스크에, 상기에서 얻은 가수 분해 축합물 165.3g, 구핵성 화합물(아민)로서 디-n-옥틸아민(DOA) 48.3g 및 용매로서 아세토니트릴 160mL를 넣고, 50℃로 승온하여 6시간 교반하여, 반응을 실시했다. 반응 종료후, 유기층을 취출하여, 0.2중량% 질산 암모늄 수용액에 의해 세정 후의 물이 중성이 될 때까지 세정한 후, 감압하에서 용매를 증류 제거함으로써, 디옥틸아미노기를 갖는 (A) 제1 중합체인 폴리오가노실록산(PS-13)을 점조한 투명 액체로서 212.2g 얻었다. 이 폴리오가노실록산(PS-13)에 대해서, GPC에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량(Mw)은 7,200이었다.Into a 500 mL three-necked flask equipped with a stirrer and a thermometer, 165.3 g of the hydrolysis condensate obtained above, 48.3 g of di-n-octylamine (DOA) as a nucleophilic compound (amine) and 160 mL of acetonitrile as a solvent were added thereto. It heated up at 50 degreeC, stirred for 6 hours, and reacted. After the completion of the reaction, the organic layer was taken out and washed with a 0.2% by weight ammonium nitrate aqueous solution until the water after washing became neutral, and then the solvent was distilled off under reduced pressure to obtain the (A) first polymer having a dioctylamino group. 212.2 g of polyorganosiloxane (PS-13) was obtained as a viscous transparent liquid. About this polyorganosiloxane (PS-13), the weight average molecular weight (Mw) of polystyrene conversion measured by GPC was 7,200.

합성예 S-14 및 S-15Synthesis Example S-14 and S-15

[가수 분해 축합 반응] 및 [아크릴로일기를 갖는 가수 분해 축합물과 구핵성 화합물(티올)과의 반응][Hydrolytic Condensation Reaction] and [Reaction of Hydrolyzed Condensate Having Acryloyl Group with Nucleophilic Compound (Thiol)]

상기 합성예 S-12에 있어서, 제1 표에 기재한 종류 및 양의 가수 분해성 실란 화합물 및 구핵성 화합물(티올)을 각각 이용한 것 외에는 합성예 S-12와 동일하게 하여 가수 분해 축합 반응 및 가수 분해 축합물과 구핵성 화합물과의 반응을 행함으로써, (A) 제1 중합체인 폴리오가노실록산(PS-14) 및 (PS-15)를 각각 얻었다. 이들 폴리오가노실록산의 수량 및 Mw를 제1 표에 아울러 나타냈다.In the Synthesis Example S-12, the hydrolytic condensation reaction and the hydrolysis were carried out in the same manner as in Synthesis Example S-12 except that the hydrolyzable silane compound and the nucleophilic compound (thiol) of the kind and amount shown in the first table were used, respectively. By reacting the decomposition condensate with the nucleophilic compound, (A) polyorganosiloxane (PS-14) and (PS-15) as the first polymers were obtained, respectively. The quantity and Mw of these polyorganosiloxane were combined with the 1st table | surface.

합성예 S-17Synthesis Example S-17

[아크릴로일기를 갖는 실세스퀴옥산과 구핵성 화합물(티올)과의 반응][Reaction of silsesquioxane having acryloyl group with nucleophilic compound (thiol)]

상기 합성예 S-12에 있어서, 합성한 가수 분해 축합물 대신에 아크릴로일기를 갖는 실세스퀴옥산인 AC-SQ TA-100(토아고세이 가부시키가이샤 제조) 165.0g을 이용하고, 구핵성 화합물인 n-도데실-1-티올(DT)의 사용량을 40.5g으로 한 것 외에는 합성예 S-12에 있어서의 가수 분해 축합물과 구핵성 화합물과의 반응과 동일하게 하여 실시하여, (A) 제1 중합체인 폴리오가노실록산(PS-17)을 얻었다. 이 폴리오가노실록산의 수량 및 Mw를 제1 표에 아울러 나타냈다.In the said synthesis example S-12, 165.0 g of AC-SQ TA-100 (made by Toagosei Co., Ltd.) which is a silsesquioxane which has acryloyl group instead of the synthesized hydrolysis-condensate was used, and a nucleophilic compound Except having made phosphorus n-dodecyl-1-thiol (DT) into 40.5 g, it carried out similarly to reaction of the hydrolysis-condensation product and nucleophilic compound in Synthesis Example S-12, and (A) Polyorganosiloxane (PS-17) which is a 1st polymer was obtained. The quantity and Mw of this polyorganosiloxane were combined with the 1st table | surface.

Figure pat00008
Figure pat00008

Figure pat00009
Figure pat00009

제1 표에 있어서의 각 화합물의 약칭은, 각각 이하의 의미이다.The abbreviation of each compound in a 1st table | surface has the following meanings, respectively.

{가수 분해성 실란 화합물}{Hydrolyzable silane compound}

ECETS : 2-(3,4-에폭시사이클로헥실)에틸트리메톡시실란ECETS: 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane

GMPTS : γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란GMPTS: γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane

GAPTS : γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란GAPTS: γ-acryloxypropyltrimethoxysilane

{아크릴로일기를 갖는 실세스퀴옥산}{Silsesquioxane having acryloyl group}

ACSQ : 품명 「AC-SQ TA-100」, 토아고세이 가부시키가이샤 제조ACSQ: product name `` AC-SQ TA-100 '', manufactured by Toagosei Co., Ltd.

{카본산}{Carbonic acid}

OCTBA : 4-옥틸옥시벤조산OCTBA: 4-octyloxybenzoic acid

ACRYA : 아크릴산ACRYA: Acrylic Acid

AEHEP : 2-아크릴옥시에틸-2-하이드록시에틸-프탈산AEHEP: 2-acryloxyethyl-2-hydroxyethyl-phthalic acid

MACBA : 4-(2-메틸-아크릴로일옥시)벤조산MACBA: 4- (2-methyl-acryloyloxy) benzoic acid

또한, 카본산의 사용량은, 가수 분해 축합물이 갖는 에폭시기에 대한 몰%이다. 합성예 S-3∼S-5 및 S-16에 있어서는, 각각 2종류씩의 카본산을 사용했다.In addition, the usage-amount of carbonic acid is mol% with respect to the epoxy group which a hydrolysis-condensation product has. In synthesis examples S-3 to S-5 and S-16, two types of carboxylic acids were used, respectively.

{구핵성 화합물}{Nucleophilic compound}

티올Thiol

DT : n-도데실-1-티올DT: n-dodecyl-1-thiol

PCBT : 4-(4'-펜틸사이클로헥실)페닐티올PCBT: 4- (4'-pentylcyclohexyl) phenylthiol

BT : n-부틸-1-티올BT: n-butyl-1-thiol

아민Amine

DOA : 디-n-옥틸아민DOA: Di-n-octylamine

제1 표에 있어서의 「--」의 표기는, 해당란에 상당하는 화합물을 사용하지않았던 것을 나타낸다.The notation of "-" in the first table indicates that the compound corresponding to the corresponding column was not used.

<(B) 제2 중합체의 합성><B Synthesis of Second Polymer>

합성예 P-1Synthesis Example P-1

테트라카본산 2무수물로서 2,3,5-트리카복시사이클로펜틸아세트산 2무수물 110g(0.50몰), 디아민으로서 p-페닐렌디아민 43g(0.40몰) 및 3(3,5-디아미노벤조일옥시)콜레스탄 52g(0.10몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 830g에 용해하고, 60℃에서 6시간 반응을 행했다. 얻어진 폴리암산 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 가하여 폴리암산 농도 10중량%의 용액으로서 측정한 용액 점도는 60mPa·s였다.110 g (0.50 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentyl acetic acid dianhydride as tetracarboxylic dianhydride, 43 g (0.40 mol) of p-phenylenediamine as diamine and 3 (3,5-diaminobenzoyloxy) chole Styrene 52 g (0.10 mol) was dissolved in 830 g of N-methyl-2-pyrrolidone and reacted at 60 ° C for 6 hours. The solution viscosity measured as a small amount of the obtained polyamic acid solution, the addition of N-methyl- 2-pyrrolidone, and measured as a solution of 10 weight% of polyamic acid concentration was 60 mPa * s.

이어서, 얻어진 폴리암산 용액에 N-메틸-2-피롤리돈 1,900g을 추가하고, 피리딘 40g 및 무수 아세트산 51g을 첨가하여 110℃에서 4시간 탈수 폐환 반응을 행했다. 탈수 폐환 반응 후, 계 내의 용제를 새로운 N-메틸-2-피롤리돈으로 용매 치환(본 조작에서 탈수 폐환 반응에 사용한 피리딘 및 무수 아세트산을 계 밖으로 제거함)함으로써, (B) 제2 중합체인, 이미드화율 약 50%의 폴리이미드(PI-1)를 약 15중량% 함유하는 용액을 얻었다. 얻어진 폴리이미드 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 가하여 폴리이미드 농도 10중량%의 용액으로서 측정한 용액 점도는 47mPa·s였다.Subsequently, 1,900 g of N-methyl-2-pyrrolidone was added to the obtained polyamic acid solution, 40 g of pyridine and 51 g of acetic anhydride were added, and the dehydration ring-closure reaction was performed at 110 degreeC for 4 hours. After the dehydration ring closure reaction, the solvent in the system was solvent-substituted with fresh N-methyl-2-pyrrolidone (pyridine and acetic anhydride used in the dehydration ring closure reaction in this operation were removed from the system), thereby (B) a second polymer, A solution containing about 15% by weight of polyimide (PI-1) having an imidation ratio of about 50% was obtained. A small amount of the obtained polyimide solution was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyimide concentration of 10% by weight by adding N-methyl-2-pyrrolidone was 47 mPa · s.

합성예 P-2Synthesis Example P-2

테트라카본산 2무수물로서 1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물 200g(1.0몰) 및 디아민으로서 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐 210g(1.0몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 3,670g에 용해하고, 40℃에서 3시간 반응을 행함으로써, (B) 제2 중합체인 폴리암산(PA-1)을 10중량% 함유하는 용액을 얻었다. 이 폴리암산 용액의 용액 점도는 160mPa·s였다.200 g (1.0 mole) of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride as tetracarboxylic dianhydride and 210 g (1.0 mole) of 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl as diamine Was dissolved in 3670 g of N-methyl-2-pyrrolidone and reacted at 40 ° C. for 3 hours to obtain a solution containing 10% by weight of polyamic acid (PA-1) as the second polymer (B). The solution viscosity of this polyamic acid solution was 160 mPa * s.

합성예 P-3Synthesis Example P-3

테트라카본산 2무수물로서 1,2,3,4-사이클로부탄테트라카본산 2무수물 98g(0.50몰) 및 피로멜리트산 2무수물 110g(0.50몰), 또한 디아민으로서 4,4'-디아미노디페닐메탄 200g(1.0몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 2,330g에 용해하고, 40℃에서 3시간 반응을 행한 후, 얻어진 반응 혼합물에 N-메틸-2-피롤리돈 1,350g을 추가함으로써, (B) 제2 중합체인 폴리암산(PA-2)을 10중량% 함유하는 용액을 얻었다. 이 폴리암산 용액의 용액 점도는 125mPa·s였다.1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride 98 g (0.50 mol) as tetracarboxylic acid dianhydride and 110 g (0.50 mol) pyromellitic dianhydride, and 4,4'-diaminodiphenyl as diamine After dissolving 200 g (1.0 mol) of methane in 2,330 g of N-methyl-2-pyrrolidone and reacting for 3 hours at 40 ° C., 1,350 g of N-methyl-2-pyrrolidone was added to the obtained reaction mixture. And (B) The solution containing 10 weight% of polyamic acid (PA-2) which is a 2nd polymer was obtained. The solution viscosity of this polyamic acid solution was 125 mPa * s.

실시예 1Example 1

<중합체 조성물의 조제><Preparation of a polymer composition>

(B) 제2 중합체로서 상기 합성예 P-1에서 얻은 폴리이미드(PI-1) 100중량부를 함유하는 용액에, 유기 용매로서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 및 부틸셀로솔브(BC)를 가하고, 추가로 (A) 제1 중합체로서 상기 합성예 S-1에서 얻은 폴리오가노실록산(PS-1)을 5중량부 가하여, 용매 조성이 NMP:BC=50:50(중량비), 고형분 농도 6.0중량%의 용액으로 했다. 이 용액을 공경 1㎛의 필터를 이용하여 여과함으로써, 중합체 조성물을 조제했다.(B) N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and butyl cellosolve as a organic solvent in a solution containing 100 parts by weight of the polyimide (PI-1) obtained in Synthesis Example P-1 as the second polymer. (BC) was added, and (A) 5 parts by weight of the polyorganosiloxane (PS-1) obtained in Synthesis Example S-1 was added as a first polymer, and the solvent composition was NMP: BC = 50: 50 (weight ratio). It was set as the solution of 6.0 weight% of solid content concentration. The polymer composition was prepared by filtering this solution using the filter of 1 micrometer of pore diameters.

<액정 셀의 제조와 평가>Preparation and Evaluation of Liquid Crystal Cells

상기에서 조제한 중합체 조성물을 이용하여, 하기와 같이 투명 전극의 패턴(2종류) 및 자외선 조사량(3수준)을 변경하고, 합계 6개의 액정 표시 소자를 제조하여, 평가했다.Using the polymer composition prepared above, the pattern (two types) and ultraviolet irradiation amount (three levels) of the transparent electrode were changed as follows, and six liquid crystal display elements in total were manufactured and evaluated.

[패턴 없는 투명 전극을 갖는 액정 셀의 제조][Production of Liquid Crystal Cell Having Patternless Transparent Electrode]

상기에서 조제한 중합체 조성물을, 액정 배향막 인쇄기(니혼샤신인사츠 가부시키가이샤 제작)를 이용하여 ITO막으로 이루어지는 투명 전극을 갖는 유리 기판의 투명 전극면 상에 도포하고, 80℃의 핫 플레이트 상에서 1분간 가열(프리베이킹)하여 용매를 제거한 후, 150℃의 핫 플레이트 상에서 10분간 가열(포스트베이킹)하여, 평균 막두께 600Å의 도막을 형성했다.The polymer composition prepared above was apply | coated on the transparent electrode surface of the glass substrate which has a transparent electrode which consists of an ITO film | membrane using a liquid crystal aligning film printing machine (made by Nippon Shashin Inc.), and for 1 minute on an 80 degreeC hotplate After heating (prebaking) to remove the solvent, it was heated (postbaking) for 10 minutes on a 150 ° C hot plate to form a coating film having an average film thickness of 600 kPa.

이 도막에 대하여, 레이온 천을 감은 롤을 갖는 러빙 머신에 의해, 롤 회전수 400rpm, 스테이지 이동 속도 3cm/초, 모족(毛足) 압입 길이 0.1mm로 러빙 처리를 행했다. 그 후, 초순수(純水) 중에서 1분간 초음파 세정을 행하고, 이어서 100℃의 클린 오븐 안에서 10분간 건조시킴으로써, 액정 배향막을 갖는 기판을 얻었다. 이 조작을 반복하여, 액정 배향막을 갖는 기판을 한 쌍(2매) 얻었다.About this coating film, the rubbing process was performed by the rubbing machine which has the roll which rolled up the rayon cloth at roll rotation speed 400rpm, stage movement speed 3cm / sec, and hairpin indentation length 0.1mm. Then, the board | substrate which has a liquid crystal aligning film was obtained by performing ultrasonic cleaning for 1 minute in ultrapure water, and then drying for 10 minutes in a clean oven at 100 degreeC. This operation was repeated and the pair (2 sheets) of the board | substrate which has a liquid crystal aligning film was obtained.

다음으로, 상기 한 쌍의 기판의 액정 배향막을 갖는 각각의 외연에, 직경 5.5㎛의 산화 알루미늄구(球) 함유 에폭시 수지 접착제를 도포한 후, 액정 배향막면이 상대하도록 서로 겹쳐 압착하여 접착제를 경화시켰다. 이어서, 액정 주입구로부터 한 쌍의 기판 사이에, 네마틱형 액정(메르크사 제조, MLC-6608)을 충전한 후, 아크릴계 광경화 접착제로 액정 주입구를 봉지함으로써 액정 셀을 제조했다.Next, after applying the 5.5-micrometer-diameter aluminum oxide sphere containing epoxy resin adhesive agent to each outer edge which has the liquid crystal aligning film of the said pair of board | substrates, it overlaps with each other so that a liquid crystal aligning film surface may face and hardens an adhesive agent. I was. Next, after filling a nematic liquid crystal (MLC-6608 by Merck Co., Ltd.) between a pair of board | substrates from a liquid crystal injection port, the liquid crystal cell was produced by sealing a liquid crystal injection port with an acryl-type photocuring adhesive.

상기의 조작을 반복하여 행하고, 패턴 없는 투명 전극을 갖는 액정 셀을 3개 제조했다. 그 중 1개는 그대로 후술하는 프리틸트각의 평가에 제공했다. 나머지 2개의 액정 셀에 대해서는, 각각 하기의 방법에 의해 도전막 사이에 전압을 인가한 상태에서 광조사한 후에 프리틸트각 및 전압 보전율의 평가에 제공했다.The above operation was repeated to produce three liquid crystal cells having a transparent electrode without a pattern. One of them was used for evaluation of the pretilt angle mentioned later as it is. The remaining two liquid crystal cells were subjected to light irradiation in the state where a voltage was applied between the conductive films by the following method, respectively, and then used for evaluation of the pretilt angle and the voltage holding ratio.

상기에서 얻은 액정 셀 중 2개에 대해서, 각각 전극 간에 주파수 60Hz의 교류 10V를 인가하고, 액정이 구동하고 있는 상태에서 광원에 메탈할라이드 램프를 사용한 자외선 조사 장치를 이용하여, 자외선을 10,000J/㎡ 또는 100,000J/㎡의 조사량으로 조사했다. 또한 이 조사량은, 파장 365nm 기준에서 계측되는 광량계를 이용하여 계측한 값이다.To two of the liquid crystal cells obtained above, an alternating current of 10 Hz at a frequency of 60 Hz was applied between the electrodes, respectively, and ultraviolet light was 10,000 J / m 2 using an ultraviolet irradiation device using a metal halide lamp as the light source while the liquid crystal was being driven. Or it investigated with the irradiation amount of 100,000 J / m <2>. In addition, this irradiation amount is the value measured using the photometer measured by the wavelength 365nm reference.

[프리틸트각의 평가][Evaluation of Pretilt Angle]

상기에서 제조한 각 액정 셀에 대해서, 각각 비특허문헌 3(T. J. Scheffer et. et al., J. Appl. Phys. vo. 48, p.1783(1977)) 및 비특허문헌 4(F. Nakano 등, JPN. J. Appl. Phys. vo. 19, p.2013(1980))에 기재된 방법에 준거하여 He-Ne 레이저광을 이용하는 결정 회전법에 의해 측정한 액정 분자의 기판면으로부터의 경사각의 값을 프리틸트각으로 했다.For each liquid crystal cell prepared above, Non-Patent Document 3 (TJ Scheffer et. Et al., J. Appl. Phys. Vo. 48, p. 1783 (1977)) and Non-Patent Document 4 (F. Nakano) Inclination angle from the substrate surface of the liquid crystal molecules measured by the crystal rotation method using He-Ne laser light according to the method described in JPN. J. Appl. Phys. Vo. 19, p. 2013 (1980)). The value was made into the pretilt angle.

광미조사의 액정 셀, 조사량 10,000J/㎡의 액정 셀 및 조사량 100,000J/㎡의 액정 셀의 각각의 프리틸트각을 제3 표에 나타냈다.Each pretilt angle of the liquid crystal cell of tailings irradiation, the liquid crystal cell of irradiation amount 10,000J / m <2>, and the liquid crystal cell of irradiation amount 100,000J / m <2> was shown to the 3rd table | surface.

[전압 보전율의 평가][Evaluation of Voltage Integrity]

상기에서 제조한 각 액정 셀에 대하여, 23℃에 있어서 5V의 전압을 60마이크로초의 인가 시간, 167밀리초의 스팬으로 인가한 후, 인가 해제로부터 167밀리초 후의 전압 보전율을 측정했다. 측정 장치로서는 가부시키가이샤 토요테크니카 제작, VHR-1을 사용했다.About each liquid crystal cell produced above, after applying the voltage of 5V in 60 microsecond application time and 167 millisecond span in 23 degreeC, the voltage retention rate after 167 milliseconds after application | release cancellation was measured. As a measuring apparatus, VHR-1 by Toyo Technica Co., Ltd. was used.

조사량 10,000J/㎡의 액정 셀 및 조사량 100,000J/㎡의 액정 셀 각각의 전압 보전율을 제3 표에 나타냈다.Voltage retention rates of the liquid crystal cell having an irradiation amount of 10,000 J / m 2 and the liquid crystal cell having an irradiation amount of 100,000 J / m 2 are shown in the third table.

[패터닝된 투명 전극을 갖는 액정 셀의 제조(1)][Production of Liquid Crystal Cell with Patterned Transparent Electrode (1)]

상기에서 조제한 중합체 조성물을, 도 1에 나타낸 것과 같은 슬릿 형상으로 패터닝되어 복수의 영역에 구획된 ITO 전극을 각각 갖는 유리 기판(A 및 B)의 각 전극면 상에 액정 배향막 인쇄기(니혼샤신인사츠 가부시키가이샤 제작)를 이용하여 도포하고, 80℃의 핫 플레이트 상에서 1분간 가열(프리베이킹)하여 용매를 제거한 후, 150℃의 핫 플레이트 상에서 10분간 가열(포스트베이킹)하여, 평균 막두께 600Å의 도막을 형성했다. 이 도막에 대해서, 초순수 중에서 1분간 초음파 세정을 행한 후, 100℃ 클린 오븐 안에서 10분간 건조시킴으로써, 액정 배향막을 갖는 기판을 얻었다. 이 조작을 반복하여, 액정 배향막을 갖는 기판을 한 쌍(2매) 얻었다.The polymer composition prepared above is patterned in a slit shape as shown in FIG. 1 and has a liquid crystal aligning film printer (Nihonshashin Inc.) on each electrode surface of glass substrates A and B each having ITO electrodes partitioned into a plurality of regions. After application | coating using, the heating is carried out for 1 minute on a 80 degreeC hotplate (prebaking), and a solvent is removed, it heats on a 150 degreeC hotplate for 10 minutes (postbaking), and the average film thickness of 600 kPa is carried out. A coating film was formed. About this coating film, after performing ultrasonic cleaning in ultrapure water for 1 minute, it dried in a 100 degreeC clean oven for 10 minutes, and the board | substrate which has a liquid crystal aligning film was obtained. This operation was repeated and the pair (2 sheets) of the board | substrate which has a liquid crystal aligning film was obtained.

이어서, 상기 한 쌍의 기판의 액정 배향막을 갖는 각각의 외연에, 직경 5.5㎛의 산화 알루미늄구 함유 에폭시 수지 접착제를 도포한 후, 액정 배향막면이 상대하도록 서로 겹쳐 압착하여 접착제를 경화시켰다. 이어서, 액정 주입구로부터 한 쌍의 기판 사이에 네마틱형 액정(메르크사 제조, MLC-6608)을 충전한 후, 아크릴계 광경화 접착제로 액정 주입구를 봉지함으로써, 액정 셀을 제조했다.Subsequently, after apply | coating the aluminum oxide sphere containing epoxy resin adhesive of diameter 5.5micrometer to each outer edge which has the liquid crystal aligning film of the said pair of board | substrates, it pressed together so that the liquid crystal aligning film surface could face and hardened the adhesive agent. Subsequently, after filling a nematic liquid crystal (MLC-6608 by Merck Co., Ltd.) between a pair of board | substrates from a liquid crystal injection port, the liquid crystal cell was manufactured by sealing a liquid crystal injection port with an acryl-type photocuring adhesive.

상기의 조작을 반복하여 행하여, 패터닝된 투명 전극을 갖는 액정 셀을 3개 제조했다. 그 중 1개는 그대로, 후술하는 응답 속도의 평가에 제공했다. 나머지 2개의 액정 셀에 대해서는, 상기 패턴 없는 투명 전극을 갖는 액정 셀의 제조에 있어서의 것과 동일한 방법에 의해, 도전막 사이에 전압을 인가한 상태에서 10,000J/㎡ 또는 100,000J/㎡의 조사량으로 광조사한 후에 응답 속도의 평가에 제공했다.The above operation was repeated to produce three liquid crystal cells having a patterned transparent electrode. One of them was used for evaluation of the response speed mentioned later as it is. About the remaining two liquid crystal cells, the irradiation amount of 10,000 J / m <2> or 100,000 J / m <2> in the state which applied the voltage between electrically conductive films in the same way as the manufacture of the liquid crystal cell which has the said transparent electrode without a pattern is applied. After light irradiation, the response speed was used for evaluation.

또한, 여기에서 이용한 전극의 패턴은, PSA 모드에 있어서의 전극 패턴과 동종의 패턴이다.In addition, the pattern of the electrode used here is a pattern similar to the electrode pattern in PSA mode.

[응답 속도의 평가][Evaluation of response speed]

상기에서 제조한 각 액정 셀에 대해서, 우선 전압을 인가하지 않고 가시광 램프를 조사하여 액정 셀을 투과한 빛의 휘도를 포토 멀티 미터로 측정하고, 이 값을 상대 투과율 0%로 했다. 다음으로 액정 셀의 전극 간에 교류 60V를 5초간 인가했을 때의 투과율을 상기와 동일하게 하여 측정하고, 이 값을 상대 투과율 100%로 했다.About each liquid crystal cell manufactured above, the brightness of the light which permeate | transmitted the liquid crystal cell was irradiated by irradiating a visible light lamp first without applying a voltage, and this value was made into 0% of the relative transmittance. Next, the transmittance | permeability when AC 60V was applied for 5 second between the electrodes of a liquid crystal cell was measured similarly to the above, and this value was made into 100% of the relative transmittance | permeability.

이때 각 액정 셀에 대하여 교류 60V를 인가했을 때에, 상대 투과율이 10%로부터 90%로 이행할 때까지의 시간을 측정하고, 이 시간을 응답 속도라고 정의하여 평가했다.At this time, when AC 60V was applied to each liquid crystal cell, the time until the relative transmittance shifted from 10% to 90% was measured, and this time was defined as the response speed and evaluated.

광미조사의 액정 셀, 조사량 10,000J/㎡의 액정 셀 및 조사량 100,000J/㎡의 액정 셀 각각의 응답 속도를 제3 표에 나타냈다.The response speed of the liquid crystal cell of tailings irradiation, the liquid crystal cell of irradiation amount 10,000J / m <2>, and the liquid crystal cell of irradiation amount 100,000J / m <2> was shown to the 3rd table | surface.

[패터닝된 투명 전극을 갖는 액정 셀의 제조(2)][Production of Liquid Crystal Cell with Patterned Transparent Electrode (2)]

상기에서 조제한 중합체 조성물을 이용하여, 도 2에 나타낸 것과 같은 피쉬본(fishbone) 형상으로 패터닝된 ITO 전극을 각각 갖는 유리 기판(A 및 B)을 사용한 것 외에는, 상기 패터닝된 투명 전극을 갖는 액정 셀의 제조(1)과 동일하게 하여, 광미조사의 액정 셀, 조사량 10,000J/㎡의 액정 셀 및 조사량 100,000J/㎡의 액정 셀을 제조하고, 각각 상기와 동일하게 하여 응답 속도의 평가에 제공했다. 평가 결과는 제3 표에 나타냈다.Using the polymer composition prepared above, a liquid crystal cell having the patterned transparent electrode, except that glass substrates A and B each having an ITO electrode patterned in a fishbone shape as shown in FIG. 2 were used. In the same manner as in Preparation (1), a liquid crystal cell of tailings irradiation, a liquid crystal cell having an irradiation amount of 10,000 J / m 2, and a liquid crystal cell having an irradiation amount of 100,000 J / m 2 were prepared, respectively, and were subjected to evaluation of the response speed in the same manner as described above. . The evaluation result was shown to the 3rd table | surface.

실시예 2∼23 및 27∼29Examples 2-23 and 27-29

상기 실시예 1에 있어서, (A) 제1 중합체 및 (B) 제2 중합체의 종류 및 사용량을 각각 제2 표에 기재한 대로 한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 중합체 조성물을 조제하고, 이것을 이용하여 각종 액정 셀을 제조하여 평가했다. 또한, 실시예 11, 12, 15∼17, 22, 28 및 29에 있어서는, (B) 제2 중합체를 각각 2종류씩 사용했다.In Example 1, a polymer composition is prepared in the same manner as in Example 1, except that the types and amounts of the (A) first polymer and (B) the second polymer are each as described in the second table. Various liquid crystal cells were produced and evaluated using this. In addition, in Example 11, 12, 15-17, 22, 28, and 29, (B) 2nd polymer was used 2 types, respectively.

평가 결과는 제3 표에 나타냈다.The evaluation result was shown to the 3rd table | surface.

실시예 24Example 24

<중합체 조성물의 조제><Preparation of a polymer composition>

(B) 제2 중합체로서 상기 합성예 P-1에서 얻은 폴리이미드(PI-1) 100중량부를 함유하는 용액에, 유기 용매로서 N-메틸-2-피롤리돈(NMP) 및 부틸셀로솔브(BC)를 가하고, 여기에 (A) 제1 중합체로서 상기 합성예 S-1에서 얻은 폴리오가노실록산(PS-1) 6중량부 및 라디칼 중합성 화합물로서 메타크릴산-5ξ-콜레스탄-3-일(MACY) 5중량부를 가하여, 용매 조성이 NMP:BC=50:50(중량비), 고형분 농도 6.0중량%의 용액으로 했다. 이 용액을 공경 1㎛의 필터를 이용하여 여과함으로써, 중합체 조성물을 조제했다.(B) N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and butyl cellosolve as a organic solvent in a solution containing 100 parts by weight of the polyimide (PI-1) obtained in Synthesis Example P-1 as the second polymer. (BC) was added thereto, and (A) 6 parts by weight of the polyorganosiloxane (PS-1) obtained in Synthesis Example S-1 as the first polymer and methacrylic acid-5ξ-cholestane-3 as a radical polymerizable compound. -5 weight part of days (MACY) were added, and the solvent composition was made into the solution of NMP: BC = 50: 50 (weight ratio), and solid content concentration 6.0weight%. The polymer composition was prepared by filtering this solution using the filter of 1 micrometer of pore diameters.

<액정 셀의 제조와 평가>Preparation and Evaluation of Liquid Crystal Cells

상기에서 조제한 중합성 화합물을 사용한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 각종 액정 셀을 제조하여 평가했다.Except having used the polymeric compound prepared above, it carried out similarly to Example 1, and produced and evaluated various liquid crystal cells.

평가 결과는 제3 표에 나타냈다.The evaluation result was shown to the 3rd table | surface.

실시예 25 및 26Examples 25 and 26

상기 실시예 24에 있어서, 라디칼 중합성 화합물의 종류 및 사용량을 각각 제2 표에 기재한 대로 한 것 외에는, 실시예 24와 동일하게 하여 중합체 조성물을 조제하고, 이것을 이용하여 각종 액정 셀을 제조하여 평가했다. 또한, 실시예 25에 있어서는 라디칼 중합성 화합물을 2종류 사용했다.In Example 24, the polymer composition was prepared in the same manner as in Example 24, except that the type and amount of radically polymerizable compound were used as shown in the second table, respectively, to prepare various liquid crystal cells using the same. Evaluated. In addition, in Example 25, two types of radically polymerizable compounds were used.

평가 결과는 제3 표에 나타냈다.The evaluation result was shown to the 3rd table | surface.

비교예 1Comparative Example 1

상기 실시예 1에 있어서, (A) 제1 중합체를 사용하지 않았던 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 중합체 조성물을 조제하고, 이것을 이용하여 각종 액정 셀을 제조하여 평가했다.In the said Example 1, except having not used (A) 1st polymer, it carried out similarly to Example 1, prepared the polymer composition, and produced and evaluated various liquid crystal cells using this.

평가 결과는 제3 표에 나타냈다.The evaluation result was shown to the 3rd table | surface.

비교예 2∼4Comparative Examples 2-4

상기 실시예 1에 있어서, (A) 제1 중합체 대신에 제2 표에 나타낸 기타 중합체 또는 화합물을 각각 제2 표에 나타낸 양만 이용한 것 외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 각각 중합체 조성물을 조제하고, 이것을 이용하여 각종 액정 셀을 제조하여 평가했다.In Example 1, the polymer composition was prepared in the same manner as in Example 1, except that (A) other polymers or compounds shown in the second table were used instead of the first polymer, respectively, in the amounts shown in the second table. Various liquid crystal cells were produced and evaluated using this.

평가 결과는 제3 표에 나타냈다.The evaluation result was shown to the 3rd table | surface.

Figure pat00010
Figure pat00010

Figure pat00011
Figure pat00011

제2 표에 있어서의 약칭은 각각 이하의 의미이다.The abbreviated-name in a 2nd table | surface has the following meanings, respectively.

[기타 화합물][Other Compounds]

ra-1 : 하기식 (ra-1)로 나타나는 화합물ra-1: a compound represented by the following formula (ra-1)

ra-2 : 하기식 (ra-2)로 나타나는 화합물ra-2: compound represented by the following formula (ra-2)

Figure pat00012
Figure pat00012

[라디칼 중합성 화합물][Radical polymerizable compound]

MACY : 메타크릴산-5ξ-콜레스탄-3-일MACY: Methacrylic acid-5ξ-cholestan-3-yl

PBCHPM : 메타크릴산4-(4'-펜틸바이사이클로헥실-4-일)페닐에스테르PBCHPM: Methacrylic acid 4- (4'-pentylbicyclohexyl-4-yl) phenyl ester

HEIXA : 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트HEIXA: dipentaerythritol hexaacrylate

A-BP-2EO : 2-[4'-(2-아크릴로일옥시-에톡시)-비페닐-4-일옥시]-에틸아크릴레이트A-BP-2EO: 2- [4 '-(2-acryloyloxy-ethoxy) -biphenyl-4-yloxy] -ethyl acrylate

제1 표에 있어서의 「--」의 표기는, 해당란에 상당하는 화합물을 사용하지 않았던 것을 나타낸다.The notation of "-" in the first table indicates that the compound corresponding to the corresponding column was not used.

Figure pat00013
Figure pat00013

Figure pat00014
Figure pat00014

제3 표의 결과로부터, 본 발명의 방법에 있어서는, 자외선 조사량을 100,000J/㎡(PSA 모드에 있어서 종래 채용되고 있는 값임)로 하면 얻어지는 프리틸트각의 정도가 과도해져, 10,000J/㎡ 또는 그 이하의 조사량에 있어서 적정한 프리틸트각이 되는 것을 알 수 있다. 또한, 조사량이 적은 경우라도 충분히 빠른 응답 속도가 얻어지고 있고, 또한 전압 보전율도 우수하다.From the results of the third table, in the method of the present invention, when the ultraviolet irradiation amount is set to 100,000 J / m 2 (the value conventionally employed in the PSA mode), the degree of pretilt angle obtained is excessive, and 10,000 J / m 2 or less. It turns out that it becomes an appropriate pretilt angle in the irradiation amount of. Moreover, even if the irradiation amount is small, a sufficiently fast response speed is obtained, and the voltage holding ratio is also excellent.

따라서, 본 발명의 방법에 의하면, PSA 모드의 장점을 적은 광조사량으로 실현할 수 있기 때문에, 높은 광조사량에 기인하는 표시 불균일의 발생, 전압 보전 특성의 저하 및 장기 신뢰성 부족의 염려 없이, 시야각이 넓고, 액정 분자의 응답 속도가 빠르며, 투과율이 높고, 또한 콘트라스트가 높은 액정 표시 소자를 제조할 수 있다.Therefore, according to the method of the present invention, the advantages of the PSA mode can be realized with a small amount of light irradiation, so that the viewing angle is wide without fear of occurrence of display unevenness due to the high light irradiation amount, deterioration of voltage integrity characteristics and lack of long-term reliability. A liquid crystal display device having a high response speed, high transmittance, and high contrast can be produced.

1 : ITO 전극
2 : 슬릿부
3 : 차광막
1: ITO electrode
2: slit part
3: shading film

Claims (15)

도전막을 갖는 한 쌍의 기판의 당해 도전막 상에, 각각
(A) (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산인 제1 중합체, 또한
(B) 폴리암산 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 제2 중합체
를 함유하는 중합체 조성물을 도포하여 도막을 형성하고,
상기 도막을 형성한 한 쌍의 기판의 상기 도막이, 액정층을 통해 상대(相對)하여 대향 배치한 구성의 액정 셀을 형성하고,
상기 한 쌍의 기판이 갖는 도전막 사이에 전압을 인가한 상태에서 상기 액정 셀에 광조사(光照射)하는 공정을 거치는 것을 특징으로 하는 액정 표시 소자의 제조 방법.
On the said conductive film of a pair of board | substrates which have a conductive film, respectively
(A) the first polymer which is a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group, and also
(B) at least one second polymer selected from the group consisting of polyamic acid and polyimide
A coating film is formed by applying a polymer composition containing
The said coating film of the pair of board | substrates which provided the said coating film forms the liquid crystal cell of the structure which opposingly arranged through the liquid crystal layer,
And a step of irradiating the liquid crystal cell with light while a voltage is applied between the conductive films of the pair of substrates.
제1항에 있어서,
상기 (A) 제1 중합체가, 추가로 하기식 (D0):
Figure pat00015

(식 (D0) 중, RI은 탄소수 1∼40의 알킬기, 탄소수 1∼40의 플루오로알킬기, 시아노기 또는 불소 원자이거나, 또는 스테로이드 골격을 갖는 탄소수 17∼51의 탄화 수소기이며;
ZI은 단결합, *-O-, *-COO- 또는 *-OCO-(단, 「*」을 붙인 결합손이 RI측임)이며,
RII는 사이클로헥실렌기 또는 페닐렌기이며, 단, 이 사이클로헥실렌기 또는 페닐렌기는 시아노기, 불소 원자, 트리플루오로메틸기 또는 탄소수 1∼3의 알킬기에 의해 치환되어 있을 수도 있고,
n1은 1 또는 2이며,
단, n1이 2일 때, 2개의 RII는 서로 같거나 다를 수 있고,
n2는 0 또는 1이며;
ZII*-O-, *-COO- 또는 * -OCO-(단, 「*」을 붙인 결합손이 RI측임)이며,
n3은 0∼2의 정수이며,
n4는 0 또는 1임)
으로 나타나는 기를 갖는 것인 액정 표시 소자의 제조 방법.
The method of claim 1,
The (A) of claim 1 to a polymer, adding formula (D 0):
Figure pat00015

(In Formula (D 0 ), R I is an alkyl group having 1 to 40 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 40 carbon atoms, a cyano group, or a fluorine atom, or a hydrocarbon group having 17 to 51 carbon atoms having a steroid skeleton;
Z I is a single bond, * -O-, * -COO- or * -OCO- (wherein the bond to which "*" is attached is the R I side),
R II is a cyclohexylene group or a phenylene group, provided that the cyclohexylene group or phenylene group may be substituted with a cyano group, a fluorine atom, a trifluoromethyl group or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms,
n1 is 1 or 2,
Provided that when n1 is 2, the two R II may be the same as or different from each other,
n2 is 0 or 1;
Z II is * -O-, * -COO- or * -OCO- (wherein the bond to which "*" is attached is the R I side),
n3 is an integer of 0 to 2,
n4 is 0 or 1)
The manufacturing method of the liquid crystal display element which has group represented by the.
제1항에 있어서,
상기 (A) 제1 중합체가, 가수 분해성 실란 화합물(단, 이 가수 분해성 실란 화합물은 (메타)아크릴로일기를 갖는 가수 분해성 실란 화합물을 포함함)의 가수 분해 축합물인 액정 표시 소자의 제조 방법.
The method of claim 1,
The manufacturing method of the liquid crystal display element whose said (A) 1st polymer is a hydrolyzable condensate of a hydrolyzable silane compound (However, this hydrolyzable silane compound contains the hydrolyzable silane compound which has a (meth) acryloyl group.).
제1항에 있어서,
상기 (A) 제1 중합체가, 가수 분해성 실란 화합물(단, 이 가수 분해성 실란 화합물은 에폭시기를 갖는 가수 분해성 실란 화합물을 포함함)의 가수 분해 축합물과 카본산(단, 이 카본산은 (메타)아크릴로일기를 갖는 카본산을 포함함)과의 반응 생성물인 액정 표시 소자의 제조 방법.
The method of claim 1,
The first polymer (A) is a hydrolyzable condensate of a hydrolyzable silane compound (wherein the hydrolyzable silane compound contains a hydrolyzable silane compound having an epoxy group) and a carboxylic acid (wherein the carboxylic acid is (meth) And a carbonic acid having an acryloyl group).
제2항에 있어서,
상기 (A) 제1 중합체가, (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산과
아민 및 티올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 구핵성(nucleophile) 화합물(단, 이 구핵성 화합물은 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖는 구핵성 화합물을 포함함)과의 반응 생성물인 액정 표시 소자의 제조 방법.
The method of claim 2,
The said (A) 1st polymer is a polyorganosiloxane which has a (meth) acryloyl group, and
Liquid crystal which is a reaction product with at least one nucleophile compound selected from the group consisting of amines and thiols, wherein the nucleophile compound contains a nucleophilic compound having a group represented by the above formula (D 0 ) The manufacturing method of a display element.
제5항에 있어서,
상기 (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산이, 가수 분해성 실란 화합물(단, 이 가수 분해성 실란 화합물은 (메타)아크릴로일기를 갖는 가수 분해성 실란 화합물을 포함함)의 가수 분해 축합물인 액정 표시 소자의 제조 방법.
The method of claim 5,
The liquid crystal display in which the polyorganosiloxane which has the said (meth) acryloyl group is a hydrolysis-condensation product of a hydrolyzable silane compound (However, this hydrolyzable silane compound contains the hydrolyzable silane compound which has a (meth) acryloyl group.) Method of manufacturing the device.
제5항에 있어서,
상기 (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산이, 가수 분해성 실란 화합물(단, 이 가수 분해성 실란 화합물은 에폭시기를 갖는 가수 분해성 실란 화합물을 포함함)의 가수 분해 축합물과
카본산(단, 이 카본산은 (메타)아크릴로일기를 갖는 카본산을 포함함)과의 반응 생성물인 액정 표시 소자의 제조 방법.
The method of claim 5,
The polyorganosiloxane which has the said (meth) acryloyl group is a hydrolyzable condensate of a hydrolyzable silane compound (However, this hydrolyzable silane compound contains the hydrolyzable silane compound which has an epoxy group.)
The manufacturing method of the liquid crystal display element which is a reaction product with carbonic acid (However, this carbonic acid contains the carbonic acid which has a (meth) acryloyl group.).
제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 구핵성 화합물이 아민이며, 상기식 (D0) 중의 RI이 탄소수 2∼12의 알킬기 또는 탄소수 2∼12의 플루오로알킬기이며, n2 및 n4가 각각 0인 액정 표시 소자의 제조 방법.
8. The method according to any one of claims 5 to 7,
And the nucleophilic amine compound of Formula (D 0) in the carbon number of R I is an alkyl group or a fluoroalkyl group having a carbon number of 2 to 12 of 2 to 12, n2 and n4 is zero The method of liquid crystal display elements, respectively.
제5항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 구핵성 화합물이 티올이며, 상기식 (D0) 중의 RI이 탄소수 2∼12의 알킬기 또는 탄소수 2∼12의 플루오로알킬기인 액정 표시 소자의 제조 방법.
8. The method according to any one of claims 5 to 7,
The nucleophilic property and the thiol compound of Formula (D 0) of R I the method for manufacturing a liquid crystal display element is a fluoroalkyl group of 2 to 12 carbon atoms or an alkyl group having a carbon number of 2 to 12.
제2항에 있어서,
상기 (A) 제1 중합체가, 가수 분해성 실란 화합물(단, 이 가수 분해성 실란 화합물은 (메타)아크릴로일기를 갖는 가수 분해성 실란 화합물 및 에폭시기를 갖는 가수 분해성 실란 화합물을 포함함)의 가수 분해 축합물과
카본산(단, 이 카본산은 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖는 카본산을 포함함)과의 반응 생성물인 액정 표시 소자의 제조 방법.
The method of claim 2,
Hydrolysis-condensation of the said (A) 1st polymer with a hydrolyzable silane compound (However, this hydrolyzable silane compound contains the hydrolyzable silane compound which has a (meth) acryloyl group, and the hydrolyzable silane compound which has an epoxy group.) Water and
Carboxylic acid process for producing a liquid crystal display device of (provided the carbon acid is the formula (D 0) as comprising a carboxylic acid having a group represented) reaction of the product.
제2항에 있어서,
상기 (A) 제1 중합체가, 가수 분해성 실란 화합물(단, 이 가수 분해성 실란 화합물은 에폭시기를 갖는 가수 분해성 실란 화합물을 포함함)의 가수 분해 축합물과
카본산(단, 이 카본산은 (메타)아크릴로일기를 갖는 카본산 및 상기식 (D0)으로 나타나는 기를 갖는 카본산을 포함함)과의 반응 생성물인 액정 표시 소자의 제조 방법.
The method of claim 2,
The first polymer (A) is a hydrolyzable condensate of a hydrolyzable silane compound, provided that the hydrolyzable silane compound contains a hydrolyzable silane compound having an epoxy group.
Carboxylic acid process for producing a liquid crystal display device of (provided the carbon acid is (meth) acryloyl group having a carboxylic acid and the above formula (D 0) as comprising a carboxylic acid having a group represented) reaction of the product.
제10항 또는 제11항에 있어서,
상기식 (D0) 중의 RI이 탄소수 4∼40의 알킬기 또는 탄소수 4∼40의 플루오로알킬기이거나, 또는 스테로이드 골격을 갖는 탄소수 17∼51의 탄화 수소기인 액정 표시 소자의 제조 방법.
The method according to claim 10 or 11, wherein
The expression (D 0) of carbon atoms, or R I is an alkyl group or a fluoroalkyl group with a carbon number of 4-40 4-40, or process for producing a hydrocarbon group of a carbon number of liquid crystal display elements 17-51 having a steroid skeleton.
제1항 내지 제7항, 제10항, 제11항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 도전막의 각각이, 복수의 영역으로 구획된 패턴 형상 도전막인 액정 표시 소자의 제조 방법.
The method according to any one of claims 1 to 7, 10, 11,
A method for producing a liquid crystal display element, wherein each of the conductive films is a patterned conductive film partitioned into a plurality of regions.
제1항에 기재된 액정 표시 소자를 제조하기 위해 이용되는 중합체 조성물로서,
(A) (메타)아크릴로일기를 갖는 폴리오가노실록산인 제1 중합체, 또한
(B) 폴리암산 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종인 제2 중합체
를 함유하는 것을 특징으로 하는 중합체 조성물.
As a polymer composition used for manufacturing the liquid crystal display element of Claim 1,
(A) the first polymer which is a polyorganosiloxane having a (meth) acryloyl group, and also
(B) at least one second polymer selected from the group consisting of polyamic acid and polyimide
A polymer composition, comprising:
제1항 내지 제7항, 제10항, 제11항 중 어느 한 항에 기재된 액정 표시 소자의 제조 방법에 의해 제조된 것을 특징으로 하는 액정 표시 소자.The liquid crystal display element manufactured by the manufacturing method of the liquid crystal display element in any one of Claims 1-7, 10, and 11.
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