JP6264053B2 - Liquid crystal aligning agent for PSA mode liquid crystal display element, liquid crystal aligning film for PSA mode liquid crystal display element, PSA mode liquid crystal display element and manufacturing method thereof - Google Patents

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Description

本発明は、PSAモード液晶表示素子用の液晶配向剤及び液晶配向膜、並びにPSAモード液晶表示素子及びその製造方法に関し、詳しくは、PSA処理時の光照射量を少なくするための技術に関する。   The present invention relates to a liquid crystal aligning agent and a liquid crystal alignment film for a PSA mode liquid crystal display element, a PSA mode liquid crystal display element and a method for producing the same, and more particularly to a technique for reducing the amount of light irradiation during PSA processing.

従来、液晶表示素子としては、電極構造や使用する液晶分子の物性等が異なる種々の駆動方式が開発されている。例えば、垂直配向モードとして従来知られているMVA(Multi−Domain Vertical Alignment)型パネルは、液晶パネル中に形成した突起物によって液晶分子の倒れ込み方向を規制することにより視野角の拡大を図っている。しかしながら、この方式によると、突起物に由来する透過率及びコントラストの不足が不可避であり、また液晶分子の応答速度が遅い傾向にある。   Conventionally, as a liquid crystal display element, various drive systems having different electrode structures and physical properties of liquid crystal molecules to be used have been developed. For example, an MVA (Multi-Domain Vertical Alignment) type panel conventionally known as a vertical alignment mode is intended to expand the viewing angle by regulating the tilting direction of liquid crystal molecules by projections formed in the liquid crystal panel. . However, according to this method, lack of transmittance and contrast derived from the protrusions is unavoidable, and the response speed of liquid crystal molecules tends to be slow.

近年、MVA型パネルの問題点を解決すべく、液晶分子の配向を制御するための新たな駆動モードとしてPSA(Polymer Sustained Alignment)モードが提案されている。PSAモードは、光重合性モノマーを液晶材料中に混入しておき、液晶セルを組み立てた後、液晶層を挟む一対の電極間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射することにより、光重合性モノマーを重合して液晶分子の分子配向を制御する技術である。この技術によれば、視野角の拡大や高速応答化を図ることができるといった利点がある。また近年では、PSA型液晶パネルの更なる高速応答化が検討されており、かかる技術として、アルケニル基及びフルオロアルケニル基のうちいずれかを1つ有する単官能性の液晶性化合物(以下、「アルケニル系液晶」ともいう。)を液晶層に導入する試みがなされている(例えば、特許文献1〜3参照)。   In recent years, in order to solve the problems of the MVA panel, a PSA (Polymer Sustained Alignment) mode has been proposed as a new driving mode for controlling the alignment of liquid crystal molecules. In the PSA mode, a photopolymerizable monomer is mixed in a liquid crystal material, a liquid crystal cell is assembled, and then light is applied to the liquid crystal cell with a voltage applied between a pair of electrodes sandwiching the liquid crystal layer. This is a technique for controlling the molecular orientation of liquid crystal molecules by polymerizing polymerizable monomers. According to this technique, there is an advantage that the viewing angle can be increased and the response speed can be increased. In recent years, further rapid response of PSA type liquid crystal panels has been studied. As such a technique, a monofunctional liquid crystal compound having one of an alkenyl group and a fluoroalkenyl group (hereinafter referred to as “alkenyl”). Attempts have been made to introduce a liquid crystal layer into a liquid crystal layer (see, for example, Patent Documents 1 to 3).

特開2010−285499号公報JP 2010-285499 A 特開平9−104644号公報JP-A-9-104644 特開平6−108053号公報JP-A-6-108053

PSAモードによれば、視野角の拡大や高速応答化を図ることができる反面、光重合性モノマーの重合反応に多量の紫外線照射が必要であり、紫外線照射に起因してパネルの表示品位が低下するといった問題がある。また、光照射量が不足した場合には、未反応の光重合性モノマーが液晶層中に残存することとなり、未反応モノマーに起因して画像の焼き付き(残像)が生じやすくなる。こうしたことから、PSAモードでは、できるだけ少ない光照射量で光重合性モノマーを重合でき、しかも未反応モノマーをできるだけ少なくする必要がある。   According to the PSA mode, the viewing angle can be increased and the response speed can be increased. However, a large amount of ultraviolet irradiation is required for the polymerization reaction of the photopolymerizable monomer, and the display quality of the panel is lowered due to the ultraviolet irradiation. There is a problem such as. Further, when the light irradiation amount is insufficient, unreacted photopolymerizable monomer remains in the liquid crystal layer, and image burn-in (afterimage) is likely to occur due to the unreacted monomer. For these reasons, in the PSA mode, it is necessary to polymerize the photopolymerizable monomer with as little light irradiation as possible and to reduce the unreacted monomer as much as possible.

また、アルケニル系液晶を用いた液晶表示素子では、応答速度の高速化を図ることができる反面、光重合性モノマーの重合のための光照射によって、アルケニル系液晶を液晶層に含まない液晶セルに比べて電圧保持率の低下が大きくなることが明らかになっている。液晶表示素子の表示品位を更に改善する観点からすると、光重合性モノマーの重合のための光照射後において高い電圧保持率を保持する必要がある。   In addition, in a liquid crystal display element using an alkenyl-based liquid crystal, the response speed can be increased. It has become clear that the decrease in the voltage holding ratio is greater than that. From the viewpoint of further improving the display quality of the liquid crystal display element, it is necessary to maintain a high voltage holding ratio after light irradiation for polymerization of the photopolymerizable monomer.

本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、少ない光照射量で適正なプレチルト角を示すとともに、光照射後において高い電圧保持率を維持でき、応答速度が速いPSAモード液晶表示素子を得ることができるPSAモード液晶表示素子用液晶配向剤を提供することを主たる目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and provides a PSA mode liquid crystal display element that exhibits an appropriate pretilt angle with a small amount of light irradiation, can maintain a high voltage holding ratio after light irradiation, and has a fast response speed. It is a main object to provide a liquid crystal aligning agent for a PSA mode liquid crystal display element capable of achieving the above.

本発明者らは、上記のような従来技術の課題を達成するべく鋭意検討した結果、特定の化合物を含む液晶配向剤を用いて液晶配向膜を形成することにより、上記課題を解決可能であることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明により以下のPSAモード液晶表示素子用の液晶配向剤、液晶配向膜、並びに液晶表示素子及びその製造方法が提供される。   As a result of intensive studies to achieve the above-described problems of the prior art, the present inventors can solve the above problems by forming a liquid crystal alignment film using a liquid crystal aligning agent containing a specific compound. As a result, the present invention has been completed. Specifically, the present invention provides the following liquid crystal aligning agent for PSA mode liquid crystal display elements, liquid crystal alignment film, liquid crystal display elements, and methods for producing the same.

本発明は一つの側面において、光照射によりラジカルを発生するラジカル発生機能及び光照射により増感作用を示す光増感機能の少なくともいずれかの機能を発現可能な構造(a)を有する化合物(A)を含有するPSAモード液晶表示素子用液晶配向剤を提供する。   In one aspect, the present invention provides a compound (A) having a structure (a) capable of exhibiting at least one of a radical generating function for generating radicals upon light irradiation and a photosensitizing function exhibiting a sensitizing action upon light irradiation (A) ) -Containing liquid crystal aligning agent for PSA mode liquid crystal display elements.

本発明は別の一つの側面において、本発明の液晶配向剤を、導電膜を有する一対の基板の該導電膜上にそれぞれ塗布し、次いでこれを加熱して塗膜を形成する第1の工程と、該塗膜を形成した一対の基板を、液晶性化合物を含む液晶層を介して上記塗膜が相対するように対向配置して液晶セルを構築する第2の工程と、一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する第3の工程と、を含む液晶表示素子の製造方法を提供する。   In another aspect of the present invention, the liquid crystal aligning agent of the present invention is applied onto the conductive film of a pair of substrates having a conductive film, and then heated to form a coating film. A second step of constructing a liquid crystal cell by arranging a pair of substrates on which the coating film is formed so as to face each other with a liquid crystal layer containing a liquid crystal compound facing each other, and And a third step of irradiating light to the liquid crystal cell in a state where a voltage is applied between the conductive films having the liquid crystal display device.

本発明は、別の一つの側面において、本発明の液晶配向剤を用いて形成されたPSAモード液晶表示素子用液晶配向膜、及びその液晶配向膜を具備するPSAモード液晶表示素子を提供する。   In another aspect, the present invention provides a liquid crystal alignment film for a PSA mode liquid crystal display element formed using the liquid crystal alignment agent of the present invention, and a PSA mode liquid crystal display element comprising the liquid crystal alignment film.

本発明の液晶配向剤を用いて製造したPSAモード型の液晶表示素子は、液晶配向膜中に化合物(A)を含むことにより、少ない光照射量で適正なプレチルト角を示すことができる。また、高い電圧保持率及び速い応答速度を有する液晶表示素子を得ることができる。   The PSA mode type liquid crystal display element manufactured using the liquid crystal aligning agent of the present invention can exhibit an appropriate pretilt angle with a small amount of light irradiation by including the compound (A) in the liquid crystal alignment film. In addition, a liquid crystal display element having a high voltage holding ratio and a fast response speed can be obtained.

特に、アルケニル系液晶を含む液晶層を備える液晶表示素子の液晶配向膜を、本発明の液晶配向剤を用いて形成することにより、液晶表示素子において応答速度の高速化を図りつつ、アルケニル系液晶の添加に起因する、光照射に伴う電圧保持率の低下を好適に抑制することができる。   In particular, by forming a liquid crystal alignment film of a liquid crystal display element including a liquid crystal layer containing an alkenyl liquid crystal by using the liquid crystal aligning agent of the present invention, the alkenyl liquid crystal is improved in response speed in the liquid crystal display element. It is possible to suitably suppress the decrease in the voltage holding ratio accompanying light irradiation due to the addition of.

実施例及び比較例にて使用した透明電極膜の電極パターンを示す図。The figure which shows the electrode pattern of the transparent electrode film used in the Example and the comparative example. 実施例及び比較例にて使用した透明電極膜の電極パターンを示す図。The figure which shows the electrode pattern of the transparent electrode film used in the Example and the comparative example. 実施例及び比較例にて使用した透明電極膜の電極パターンを示す図。The figure which shows the electrode pattern of the transparent electrode film used in the Example and the comparative example.

以下に、本発明のPSAモード液晶表示素子用液晶配向剤(以下、単に液晶配向剤ともいう。)に含まれる各成分、及び必要に応じて任意に配合されるその他の成分について説明する。   Below, each component contained in the liquid crystal aligning agent for PSA mode liquid crystal display elements of this invention (henceforth only a liquid crystal aligning agent), and the other component arbitrarily mix | blended as needed are demonstrated.

<化合物(A)>
本発明の液晶配向剤は、化合物(A)として、光照射によりラジカルを発生するラジカル発生機能及び光照射により増感作用を示す光増感機能の少なくともいずれかの機能を発現可能な構造(a)(以下、「特定構造」とも言う。)を有する化合物を含有する。ここで、「光増感機能」とは、光の照射によって一重項励起状態となった後、速やかに項間交差を起こして三重項励起状態へ遷移する機能をいう。この三重項励起状態において他の分子と衝突すると、相手を励起状態に変え、自らは基底状態に戻ることとなる。この光増感機能は、光照射によりラジカルを発生するラジカル発生機能と併存していてもよい。
化合物(A)が有する上記特定構造としては、少なくとも光増感機能を発現可能な構造、すなわち、光増感機能のみを発現可能な構造であるか、又は光増感機能とラジカル発生機能とを発現可能な構造であることが好ましい。また、ラジカル発生機能のみを発現可能な構造であってもよい。
<Compound (A)>
The liquid crystal aligning agent of the present invention has, as the compound (A), a structure capable of developing at least one of a radical generating function for generating radicals by light irradiation and a photosensitizing function for sensitizing action by light irradiation (a ) (Hereinafter also referred to as “specific structure”). Here, the “photosensitizing function” refers to a function in which a singlet excited state is brought about by light irradiation and then an intersystem crossing is quickly caused to transition to a triplet excited state. When colliding with other molecules in this triplet excited state, the partner is changed to the excited state and returns to the ground state. This photosensitization function may coexist with a radical generation function that generates radicals by light irradiation.
The specific structure possessed by the compound (A) is at least a structure capable of developing a photosensitizing function, that is, a structure capable of expressing only a photosensitizing function, or a photosensitizing function and a radical generating function. A structure that can be expressed is preferred. Moreover, the structure which can express only a radical generating function may be sufficient.

上記化合物(A)は、繰り返し単位を有さない比較的低分子の化合物であってもよく、重合体であってもよい。なお、化合物(A)は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   The compound (A) may be a relatively low molecular weight compound having no repeating unit, or may be a polymer. In addition, a compound (A) can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

低分子化合物としての化合物(A)は、分子量1,000以下であることが好ましく、800以下であることがより好ましい。なお、ここでいう「低分子化合物」とは重合体でない化合物をいい、繰り返し単位を2個以上有していれば分子量1,000以下であっても「重合体」に含むものとする。化合物(A)が低分子化合物である場合の具体例としては、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、3−メチルアセトフェノン等のアセトフェノン構造を有する化合物;
ベンゾフェノン、4−ジエチルアミノ−2−ヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシベンゾフェノン、4−メチルベンゾフェノン、3,4−ジメチルベンゾフェノン、3−(4−ベンゾイル−フェノキシ)プロピル、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(ミヒラーケトン)等のベンゾフェノン構造を有する化合物;
3,5−ジニトロベンゼン、4−メチル−3,5−ジニトロベンゼン、3−(3,5−ジニトロフェノキシ)プロピル、2−メチル−3,5−ジニトロベンゼン等のニトロアリール構造を有する化合物;の他、
9,10−ジオキソジヒドロアントラセン、3−(9,10−ジオキソ−9,10−ジヒドロアントラセン−2−イル)プロピル、3−(4,5−ジメトキシ−3,6−ジオキソシクロヘキサ−1,4−ジエニル)プロピル、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド等が挙げられる。
The compound (A) as a low molecular compound preferably has a molecular weight of 1,000 or less, and more preferably 800 or less. The “low molecular compound” herein refers to a compound that is not a polymer, and if it has two or more repeating units, it is included in the “polymer” even if it has a molecular weight of 1,000 or less. Specific examples when the compound (A) is a low molecular weight compound include compounds having an acetophenone structure such as acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, and 3-methylacetophenone;
Benzophenone, 4-diethylamino-2-hydroxybenzophenone, 2-hydroxybenzophenone, 4-methylbenzophenone, 3,4-dimethylbenzophenone, 3- (4-benzoyl-phenoxy) propyl, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethoxy Compounds having a benzophenone structure such as benzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone (Michler ketone);
A compound having a nitroaryl structure such as 3,5-dinitrobenzene, 4-methyl-3,5-dinitrobenzene, 3- (3,5-dinitrophenoxy) propyl, 2-methyl-3,5-dinitrobenzene; other,
9,10-dioxodihydroanthracene, 3- (9,10-dioxo-9,10-dihydroanthracen-2-yl) propyl, 3- (4,5-dimethoxy-3,6-dioxocyclohexa-1 , 4-dienyl) propyl, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine , Carbazole, benzoinpropyl ether, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane- 1-one, thioxant , Diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine Examples thereof include oxide and bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide.

重合体としての化合物(A)は、上記特定構造を重合体の主鎖及び側鎖のいずれに有していてもよい。
上記特定構造を有する重合体(以下、「重合体(A)」とも称する。)の主骨格としては、例えばポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、ポリオルガノシロキサン、ポリシラン、セルロース誘導体、ポリアセタール誘導体、ポリスチレン誘導体、ポリ(スチレン−フェニルマレイミド)誘導体、ポリ(メタ)アクリレート誘導体などからなる骨格を挙げることができる。上記重合体(A)としては、これらの中から選択される骨格を有する重合体の1種以上を、液晶表示素子の用途等に応じて適宜に選択して用いることができる。なお、(メタ)アクリレートは、アクリレート及びメタクリレートを含むことを意味する。
重合体(A)としては、上記の中でも、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、ポリオルガノシロキサン、ポリシラン及びポリ(メタ)アクリレートから選択される骨格を有することが好ましく、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、ポリオルガノシロキサン及びポリシランから選択される骨格を有することがより好ましい。
The compound (A) as a polymer may have the specific structure in either the main chain or the side chain of the polymer.
Examples of the main skeleton of the polymer having the specific structure (hereinafter also referred to as “polymer (A)”) include, for example, polyamic acid, polyimide, polyamic acid ester, polyester, polyamide, polyorganosiloxane, polysilane, cellulose derivative, Examples include skeletons composed of polyacetal derivatives, polystyrene derivatives, poly (styrene-phenylmaleimide) derivatives, poly (meth) acrylate derivatives, and the like. As said polymer (A), 1 or more types of the polymer which has the skeleton selected from these can be selected suitably according to the use etc. of a liquid crystal display element, and can be used. In addition, (meth) acrylate means containing an acrylate and a methacrylate.
Among the above, the polymer (A) preferably has a skeleton selected from polyamic acid, polyimide, polyamic acid ester, polyorganosiloxane, polysilane, and poly (meth) acrylate, and polyamic acid, polyimide, polyamic acid. More preferably, it has a skeleton selected from esters, polyorganosiloxanes and polysilanes.

上記重合体(A)における上記特定構造としては、当該特定構造を主鎖に有する場合、ベンゾフェノン構造、ポリシラン構造であることが好ましい。
また、上記特定構造を側鎖に有する場合において、当該特定構造の具体例としては、ラジカル発生機能を発現可能な構造として、例えばアセトフェノン構造、ベンゾフェノン構造、キサントン構造、フルオレノン構造、ベンズアルデヒド構造、フルオレン構造、アントラキノン構造、トリフェニルアミン構造、カルバゾール構造、アルキルフェノン構造、ベンゾイン構造、チオキサントン構造、アシルフォスフィンオキシド構造、ポリシラン構造等を;
光増感機能を発現可能な構造として、例えばアセトフェノン構造、ベンゾフェノン構造、アントラキノン構造、ビフェニル構造、カルバゾール構造、ニトロアリール構造(ニトロベンゼン構造、1,3−ジニトロベンゼン構造など)、ナフタレン構造、フルオレン構造、アントラセン構造、アクリジン構造、インドール構造、1,4−ジオキソシクロヘキサ−2,5−ジエン構造等が挙げられる。なお、これらの各構造は、アセトフェノン、ベンゾフェノン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、アルキルフェノン、ベンゾイン、チオキサントン、アシルフォスフィンオキシド、ビフェニル、ニトロベンゼン、1,3−ジニトロベンゼン、ナフタレン、アントラセン、アクリジン、インドール、1,4−ジオキソシクロヘキサ−2,5−ジエンから1〜4個の水素原子を除去して得られる基からなる構造である。
The specific structure in the polymer (A) is preferably a benzophenone structure or a polysilane structure when the specific structure is included in the main chain.
In the case where the specific structure is present in the side chain, specific examples of the specific structure include, for example, an acetophenone structure, a benzophenone structure, a xanthone structure, a fluorenone structure, a benzaldehyde structure, a fluorene structure as a structure capable of expressing a radical generating function Anthraquinone structure, triphenylamine structure, carbazole structure, alkylphenone structure, benzoin structure, thioxanthone structure, acylphosphine oxide structure, polysilane structure, etc .;
Examples of structures capable of expressing the photosensitizing function include acetophenone structure, benzophenone structure, anthraquinone structure, biphenyl structure, carbazole structure, nitroaryl structure (nitrobenzene structure, 1,3-dinitrobenzene structure, etc.), naphthalene structure, fluorene structure, Anthracene structure, acridine structure, indole structure, 1,4-dioxocyclohexa-2,5-diene structure and the like can be mentioned. These structures are acetophenone, benzophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, alkylphenone, benzoin, thioxanthone, acylphosphine oxide, biphenyl, nitrobenzene, 1,3-dinitrobenzene. , Naphthalene, anthracene, acridine, indole, and 1,4-dioxocyclohexa-2,5-diene, a group consisting of groups obtained by removing 1 to 4 hydrogen atoms.

上記特定構造を側鎖に有する場合において、当該特定構造としては、中でも、アセトフェノン構造、ベンゾフェノン構造、アントラキノン構造、ビフェニル構造、カルバゾール構造、ニトロアリール構造及びナフタレン構造よりなる群から選択される少なくとも一種であることが好ましく、アセトフェノン構造、ベンゾフェノン構造及びニトロアリール構造よりなる群から選択される少なくとも一種であることがより好ましい。   In the case of having the specific structure in the side chain, the specific structure is, among others, at least one selected from the group consisting of an acetophenone structure, a benzophenone structure, an anthraquinone structure, a biphenyl structure, a carbazole structure, a nitroaryl structure, and a naphthalene structure. Preferably, it is at least one selected from the group consisting of an acetophenone structure, a benzophenone structure, and a nitroaryl structure.

[重合体(A):ポリアミック酸]
本発明において、重合体(A)としてのポリアミック酸(以下、「ポリアミック酸(A)」とも称する。)は、例えばテトラカルボン酸二無水物と、上記特定構造を有するジアミンとを反応させることにより得ることができる。
[Polymer (A): Polyamic acid]
In the present invention, the polyamic acid (hereinafter also referred to as “polyamic acid (A)”) as the polymer (A) is obtained by reacting, for example, a tetracarboxylic dianhydride with a diamine having the specific structure. Can be obtained.

[テトラカルボン酸二無水物]
本発明におけるポリアミック酸(A)を合成するのに用いるテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、脂肪族テトラカルボン酸二無水物、脂環式テトラカルボン酸二無水物、芳香族テトラカルボン酸二無水物などを挙げることができる。これらの具体例としては、脂肪族テトラカルボン酸二無水物として、例えば1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物などを;
脂環式テトラカルボン酸二無水物として、例えば1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、1,3,3a,4,5,9b−ヘキサヒドロ−8−メチル−5−(テトラヒドロ−2,5−ジオキソ−3−フラニル)−ナフト[1,2−c]フラン−1,3−ジオン、3−オキサビシクロ[3.2.1]オクタン−2,4−ジオン−6−スピロ−3’−(テトラヒドロフラン−2’,5’−ジオン)、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、3,5,6−トリカルボキシ−2−カルボキシメチルノルボルナン−2:3,5:6−二無水物、2,4,6,8−テトラカルボキシビシクロ[3.3.0]オクタン−2:4,6:8−二無水物、4,9−ジオキサトリシクロ[5.3.1.02,6]ウンデカン−3,5,8,10−テトラオン、シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物などを;
芳香族テトラカルボン酸二無水物として、例えばピロメリット酸二無水物などを;
それぞれ挙げることができるほか、特開2010−97188号公報に記載のテトラカルボン酸二無水物等を用いることができる。なお、上記テトラカルボン酸二無水物は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
[Tetracarboxylic dianhydride]
Examples of the tetracarboxylic dianhydride used for synthesizing the polyamic acid (A) in the present invention include an aliphatic tetracarboxylic dianhydride, an alicyclic tetracarboxylic dianhydride, and an aromatic tetracarboxylic dianhydride. An anhydride etc. can be mentioned. Specific examples thereof include aliphatic tetracarboxylic dianhydrides such as 1,2,3,4-butanetetracarboxylic dianhydride;
Examples of the alicyclic tetracarboxylic dianhydride include 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride, 1,3,3a, 4, 5,9b-Hexahydro-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 1,3,3a, 4,5,9b- Hexahydro-8-methyl-5- (tetrahydro-2,5-dioxo-3-furanyl) -naphtho [1,2-c] furan-1,3-dione, 3-oxabicyclo [3.2.1] octane -2,4-dione-6-spiro-3 '-(tetrahydrofuran-2', 5'-dione), 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexene- No 1,2-dicarboxylic acid 3,5,6-tricarboxy-2-carboxymethylnorbornane-2: 3,5: 6-dianhydride, 2,4,6,8-tetracarboxybicyclo [3.3.0] octane-2 : 4,6: 8-dianhydride, 4,9-dioxatricyclo [5.3.1.0 2,6 ] undecane-3,5,8,10-tetraone, cyclohexanetetracarboxylic dianhydride Etc .;
Examples of aromatic tetracarboxylic dianhydrides include pyromellitic dianhydride;
In addition to the above, tetracarboxylic dianhydrides described in JP 2010-97188 A can be used. In addition, the said tetracarboxylic dianhydride can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

ポリアミック酸(A)を合成するために用いるテトラカルボン酸二無水物としては、脂環式テトラカルボン酸二無水物を含むものであることが好ましく、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物及び1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物の少なくともいずれかを含むことがより好ましく、特に、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物を含むものであることが好ましい。また、ポリアミック酸(A)を合成するために用いるテトラカルボン酸二無水物としては、2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物及び1,2,3,4−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物の含有量(合計量)が、合成に使用するテトラカルボン酸二無水物の全体量に対して、60モル%以上であることが好ましく、80モル%以上であることがより好ましい。   The tetracarboxylic dianhydride used for synthesizing the polyamic acid (A) preferably includes an alicyclic tetracarboxylic dianhydride, and 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride and More preferably, it contains at least one of 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride, and particularly preferably contains 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride. Moreover, as tetracarboxylic dianhydride used for synthesizing polyamic acid (A), 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride and 1,2,3,4-cyclobutanetetracarboxylic dianhydride The content (total amount) of the product is preferably 60 mol% or more, more preferably 80 mol% or more, based on the total amount of tetracarboxylic dianhydride used in the synthesis.

[ジアミン]
本発明におけるポリアミック酸を合成するために用いるジアミンとしては、上記特定構造を有することにより、重合体に対してラジカル発生機能及び光増感機能の少なくともいずれかの機能を付与可能なジアミン(以下、「特定ジアミン」とも称する。)が挙げられる。このような特定ジアミンの具体例としては、例えば4,4’−ジアミノベンゾフェノン、3,3’−ジアミノベンゾフェノン、{4−[2−(3,5−ジアミノフェノキシ)−エトキシ]−フェニル}−エタノン、3,4−ジアミノベンゾフェノン、{4−[2−(3,5−ジアミノフェノキシ)−エトキシ]−フェニル}−フェニル−メタノン、{4−[2−(2,4−ジアミノフェノキシ)−エトキシ]−フェニル}−フェニル−メタノン、{4−[2−(2,4−ジアミノフェノキシ)−エトキシ]−フェニル}−p−トルイル−メタノン、{4−[2−(2,4−ジアミノフェノキシ)−エトキシ]−フェニル}−o−トルイル−メタノン、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレンなどを挙げることができる。上記特定ジアミンは、これらのうちから選択される1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
[Diamine]
As a diamine used for synthesizing the polyamic acid in the present invention, a diamine (hereinafter, referred to as the diamine capable of imparting at least one of a radical generating function and a photosensitizing function to the polymer by having the above specific structure). Also referred to as “specific diamine”). Specific examples of such a specific diamine include, for example, 4,4′-diaminobenzophenone, 3,3′-diaminobenzophenone, {4- [2- (3,5-diaminophenoxy) -ethoxy] -phenyl} -ethanone. 3,4-diaminobenzophenone, {4- [2- (3,5-diaminophenoxy) -ethoxy] -phenyl} -phenyl-methanone, {4- [2- (2,4-diaminophenoxy) -ethoxy] -Phenyl} -phenyl-methanone, {4- [2- (2,4-diaminophenoxy) -ethoxy] -phenyl} -p-toluyl-methanone, {4- [2- (2,4-diaminophenoxy)- Ethoxy] -phenyl} -o-toluyl-methanone, 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene and the like. The said specific diamine can be used individually by 1 type selected from these or in combination of 2 or more types.

本発明におけるポリアミック酸(A)を合成するためのジアミンとしては、上記特定ジアミンを単独で使用してもよいが、上記特定ジアミンと共に、上記特定ジアミン以外のジアミン(以下、「その他のジアミン」ともいう。)を使用してもよい。
ここで、上記その他のジアミンとしては、例えば脂肪族ジアミン、脂環式ジアミン、芳香族ジアミン、ジアミノオルガノシロキサンなどを挙げることができる。これらの具体例としては、脂肪族ジアミンとして、例えばメタキシリレンジアミン、1,3−プロパンジアミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンなどを;脂環式ジアミンとして、例えば1,4−ジアミノシクロヘキサン、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルアミン)、1,3−ビス(アミノメチル)シクロヘキサンなどを;
As the diamine for synthesizing the polyamic acid (A) in the present invention, the specific diamine may be used alone, but together with the specific diamine, a diamine other than the specific diamine (hereinafter referred to as “other diamine”). May be used).
Here, examples of the other diamine include aliphatic diamine, alicyclic diamine, aromatic diamine, and diaminoorganosiloxane. Specific examples thereof include aliphatic diamines such as metaxylylenediamine, 1,3-propanediamine, tetramethylene diamine, pentamethylene diamine, hexamethylene diamine, and the like; alicyclic diamines such as 1,4- Diaminocyclohexane, 4,4′-methylenebis (cyclohexylamine), 1,3-bis (aminomethyl) cyclohexane and the like;

芳香族ジアミンとして、例えばp−フェニレンジアミン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルスルフィド、1,5−ジアミノナフタレン、2,2’−ジメチル−4,4’−ジアミノビフェニル、4,4’−ジアミノ−2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ビフェニル、2,7−ジアミノフルオレン、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’−(p−フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、4,4’−(m−フェニレンジイソプロピリデン)ビスアニリン、1,4−ビス(4−アミノフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ビス(4−アミノフェノキシ)ビフェニル、2,6−ジアミノピリジン、3,4−ジアミノピリジン、2,4−ジアミノピリミジン、3,6−ジアミノアクリジン、3,6−ジアミノカルバゾール、N−メチル−3,6−ジアミノカルバゾール、   Examples of aromatic diamines include p-phenylenediamine, 4,4′-diaminodiphenylmethane, 4,4′-diaminodiphenyl sulfide, 1,5-diaminonaphthalene, 2,2′-dimethyl-4,4′-diaminobiphenyl, 4,4′-diamino-2,2′-bis (trifluoromethyl) biphenyl, 2,7-diaminofluorene, 4,4′-diaminodiphenyl ether, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl ] Propane, 2,2-bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] hexafluoropropane, 2,2-bis (4-aminophenyl) hexafluoropropane, 4,4 ′-(p-phenylenediisopropylidene ) Bisaniline, 4,4 ′-(m-phenylenediisopropylidene) bisaniline, 1,4-bi (4-aminophenoxy) benzene, 4,4′-bis (4-aminophenoxy) biphenyl, 2,6-diaminopyridine, 3,4-diaminopyridine, 2,4-diaminopyrimidine, 3,6-diaminoacridine, 3,6-diaminocarbazole, N-methyl-3,6-diaminocarbazole,

N−エチル−3,6−ジアミノカルバゾール、N−フェニル−3,6−ジアミノカルバゾール、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−ベンジジン、N,N’−ビス(4−アミノフェニル)−N,N’−ジメチルベンジジン、1,4−ビス−(4−アミノフェニル)−ピペラジン、3,5−ジアミノ安息香酸、ドデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、テトラデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,4−ジアミノベンゼン、ドデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、テトラデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、ペンタデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、ヘキサデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、オクタデカノキシ−2,5−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−3,5−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−3,5−ジアミノベンゼン、コレスタニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、コレステニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン、3,5−ジアミノ安息香酸コレスタニル、3,5−ジアミノ安息香酸コレステニル、3,5−ジアミノ安息香酸ラノスタニル、3,6−ビス(4−アミノベンゾイルオキシ)コレスタン、3,6−ビス(4−アミノフェノキシ)コレスタン、4−(4’−トリフルオロメトキシベンゾイロキシ)シクロヘキシル−3,5−ジアミノベンゾエート、4−(4’−トリフルオロメチルベンゾイロキシ)シクロヘキシル−3,5−ジアミノベンゾエート、1,1−ビス(4−((アミノフェニル)メチル)フェニル)−4−ブチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−((アミノフェニル)メチル)フェニル)−4−ヘプチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−((アミノフェノキシ)メチル)フェニル)−4−ヘプチルシクロヘキサン、1,1−ビス(4−((アミノフェニル)メチル)フェニル)−4−(4−ヘプチルシクロヘキシル)シクロヘキサン、1−(4−アミノフェニル)−2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−5−アミン、1−(4−アミノフェニル)−2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−6−アミン、3−(3,5−ジアミノベンゾイルオキシ)コレスタン、及び下記式(D−1)
(式(D−1)中、XI及びXIIは、それぞれ独立に、単結合、−O−、−COO−又は−OCO−であり、Rは、炭素数1〜3のアルカンジイル基であり、aは0又は1であり、bは0〜2の整数であり、cは1〜20の整数であり、nは0又は1である。但し、a及びbが同時に0になることはない。)
で表される化合物などを;
N-ethyl-3,6-diaminocarbazole, N-phenyl-3,6-diaminocarbazole, N, N′-bis (4-aminophenyl) -benzidine, N, N′-bis (4-aminophenyl)- N, N′-dimethylbenzidine, 1,4-bis- (4-aminophenyl) -piperazine, 3,5-diaminobenzoic acid, dodecanoxy-2,4-diaminobenzene, tetradecanoxy-2,4-diaminobenzene, pentadecanoxy -2,4-diaminobenzene, hexadecanoxy-2,4-diaminobenzene, octadecanoxy-2,4-diaminobenzene, dodecanoxy-2,5-diaminobenzene, tetradecanoxy-2,5-diaminobenzene, pentadecanoxy-2,5- Diaminobenzene, hexadecanoxy-2,5-diaminobenzene, o Tadecanoxy-2,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestenyloxy-3,5-diaminobenzene, cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene, cholestenyloxy-2,4- Diaminobenzene, 3,5-diaminobenzoate cholestanyl, 3,5-diaminobenzoate cholestenyl, 3,5-diaminobenzoate lanostannyl, 3,6-bis (4-aminobenzoyloxy) cholestane, 3,6-bis ( 4-Aminophenoxy) cholestane, 4- (4′-trifluoromethoxybenzoyloxy) cyclohexyl-3,5-diaminobenzoate, 4- (4′-trifluoromethylbenzoyloxy) cyclohexyl-3,5-diaminobenzoate 1,1-bis (4-((aminophenyl) methyl) L) phenyl) -4-butylcyclohexane, 1,1-bis (4-((aminophenyl) methyl) phenyl) -4-heptylcyclohexane, 1,1-bis (4-((aminophenoxy) methyl) phenyl) -4-heptylcyclohexane, 1,1-bis (4-((aminophenyl) methyl) phenyl) -4- (4-heptylcyclohexyl) cyclohexane, 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro-1 , 3,3-trimethyl-1H-indene-5-amine, 1- (4-aminophenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-indene-6-amine, 3- (3 , 5-Diaminobenzoyloxy) cholestane and the following formula (D-1)
(In formula (D-1), X I and X II are each independently a single bond, —O—, —COO— or —OCO—, and R I is an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms. A is 0 or 1, b is an integer of 0 to 2, c is an integer of 1 to 20, and n is 0 or 1. provided that a and b are 0 at the same time. No.)
A compound represented by:

ジアミノオルガノシロキサンとして、例えば、1,3−ビス(3−アミノプロピル)−テトラメチルジシロキサンなどを、それぞれ挙げることができるほか、特開2010−97188号公報に記載のジアミンを用いることができる。   Examples of the diaminoorganosiloxane include 1,3-bis (3-aminopropyl) -tetramethyldisiloxane, and the like, and diamines described in JP 2010-97188 A can be used.

上記式(D−1)における「−X−(R−XII−」で表される2価の基としては、炭素数1〜3のアルカンジイル基、*−O−、*−COO−又は*−O−C−O−(ただし、「*」を付した結合手がジアミノフェニル基と結合する。)であることが好ましい。
基「−C2c+1」の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、n−ノニル基、n−デシル基、n−ドデシル基、n−トリデシル基、n−テトラデシル基、n−ペンタデシル基、n−ヘキサデシル基、n−ヘプタデシル基、n−オクタデシル基、n−ノナデシル基、n−エイコシル基などを挙げることができる。ジアミノフェニル基における2つのアミノ基は、他の基に対して2,4−位又は3,5−位にあることが好ましい。
Examples of the divalent group represented by “—X I — (R I —X II ) n —” in the formula (D-1) include an alkanediyl group having 1 to 3 carbon atoms, * —O—, * —COO— or * —O—C 2 H 4 —O— (however, a bond marked with “*” is bonded to a diaminophenyl group) is preferred.
Specific examples of the group “—C c H 2c + 1 ” include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group. Group, n-nonyl group, n-decyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n-heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group Group, n-eicosyl group and the like. The two amino groups in the diaminophenyl group are preferably in the 2,4-position or 3,5-position with respect to other groups.

上記式(D−1)で表される化合物の具体例としては、例えば下記式(D−1−1)〜(D−1−4)のそれぞれで表される化合物などを挙げることができる。
なお、他のジアミンとしては、これら化合物の1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。
Specific examples of the compound represented by the formula (D-1) include compounds represented by the following formulas (D-1-1) to (D-1-4).
In addition, as another diamine, 1 type of these compounds can be used individually or in combination of 2 or more types.

上記ポリアミック酸(A)の合成に際し、上記特定ジアミンの使用量は、合成に使用するジアミンの全体量に対して、0.1〜80モル%とすることが好ましく、1〜60モル%とすることがより好ましく、5〜50モル%とすることが更に好ましい。   In the synthesis of the polyamic acid (A), the amount of the specific diamine used is preferably 0.1 to 80 mol%, and preferably 1 to 60 mol%, based on the total amount of diamine used for the synthesis. It is more preferable, and it is still more preferable to set it as 5-50 mol%.

<ポリアミック酸の合成>
本発明におけるポリアミック酸の合成反応に供されるテトラカルボン酸二無水物とジアミンとの使用割合は、ジアミンのアミノ基1当量に対して、テトラカルボン酸二無水物の酸無水物基が0.2〜2当量となる割合が好ましく、0.3〜1.2当量となる割合がより好ましい。また、ポリアミック酸の合成反応は、好ましくは有機溶媒中において行われる。このときの反応温度は、−20℃〜150℃が好ましく、0〜100℃がより好ましい。また、反応時間は、0.5〜24時間が好ましく、2〜10時間とすることがより好ましい。
<Synthesis of polyamic acid>
The ratio of the tetracarboxylic dianhydride and the diamine used in the polyamic acid synthesis reaction in the present invention is such that the acid anhydride group of the tetracarboxylic dianhydride is 0. A ratio of 2 to 2 equivalents is preferable, and a ratio of 0.3 to 1.2 equivalents is more preferable. The synthesis reaction of polyamic acid is preferably performed in an organic solvent. The reaction temperature at this time is preferably -20 ° C to 150 ° C, more preferably 0 to 100 ° C. The reaction time is preferably 0.5 to 24 hours, and more preferably 2 to 10 hours.

ここで、反応に使用する有機溶媒としては、合成されるポリアミック酸を溶解可能であればよく、具体的には、例えばN−メチル−2−ピロリドン、N−エチル−2−ピロリドン、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、γ−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ヘキサメチルホスホルトリアミドなどの非プロトン性極性溶媒;m−クレゾール、キシレノール、フェノール、ハロゲン化フェノールなどのフェノール系溶媒;等を挙げることができる。なお、これらの有機溶媒は、1種を単独で又は2種以上を混合して使用することができる。   Here, the organic solvent used for the reaction is not particularly limited as long as it can dissolve the synthesized polyamic acid. Specifically, for example, N-methyl-2-pyrrolidone, N-ethyl-2-pyrrolidone, N, N Aprotic polar solvents such as dimethylacetamide, N, N-dimethylformamide, dimethylsulfoxide, 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone, γ-butyrolactone, tetramethylurea, hexamethylphosphortriamide; m-cresol And phenol solvents such as xylenol, phenol and halogenated phenol; In addition, these organic solvents can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

また、反応に使用する有機溶媒としては、合成されるポリアミック酸が析出しない範囲内で、該ポリアミック酸の貧溶媒を併用してもよい。このような貧溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン;乳酸エチル、乳酸ブチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、シュウ酸ジエチル、イソアミルプロピオネートなどのエステル;ジエチルエーテル、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジイソペンチルエーテルなどのエーテル;ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン、1,4−ジクロロブタン、トリクロロエタン等のハロゲン化炭化水素;ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素などが挙げられる。なお、これらの貧溶媒は1種を単独で又は2種以上を混合して使用することができる。   Moreover, as the organic solvent used for the reaction, a poor solvent for the polyamic acid may be used in combination as long as the synthesized polyamic acid does not precipitate. Examples of such poor solvents include alcohols such as methanol, ethanol, isopropyl alcohol, cyclohexanol, ethylene glycol, propylene glycol, and ethylene glycol monomethyl ether; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, and cyclohexanone; ethyl lactate, Esters such as butyl lactate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, diethyl oxalate, isoamylpropionate; diethyl ether, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol propyl ether, ethylene glycol butyl ether, ethylene glycol Dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether Ethers such as tetrahydrofuran and diisopentyl ether; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, 1,2-dichloroethane, 1,4-dichlorobutane and trichloroethane; hydrocarbons such as hexane, heptane, octane, benzene, toluene and xylene Can be mentioned. In addition, these poor solvents can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.

反応に使用する有機溶媒として上記ポリアミック酸の貧溶媒を使用する場合、その使用割合は、合成に使用する有機溶媒の全体量に対して、好ましくは50重量%以下であり、より好ましくは40重量%以下であり、更に好ましくは30重量%以下である。
有機溶媒の使用量(x)は、テトラカルボン酸二無水物及びジアミンの合計量(y)が、反応溶液の全量(x+y)に対して0.1〜50重量%になるような量とすることが好ましく、5〜30重量%になるような量とすることがより好ましい。
When using the poor solvent of the said polyamic acid as an organic solvent used for reaction, the use ratio is preferably 50% by weight or less, more preferably 40% by weight with respect to the total amount of the organic solvent used for synthesis. % Or less, more preferably 30% by weight or less.
The amount (x) of the organic solvent used is such that the total amount (y) of tetracarboxylic dianhydride and diamine is 0.1 to 50% by weight based on the total amount (x + y) of the reaction solution. The amount is preferably 5 to 30% by weight, and more preferably.

以上のようにして、ポリアミック酸(A)を溶解してなる反応溶液が得られる。この反応溶液は、そのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸(A)を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリアミック酸(A)を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。また、ポリアミック酸(A)を脱水閉環してポリイミドとする場合には、上記反応溶液をそのまま脱水閉環反応に供してもよく、反応溶液中に含まれるポリアミック酸(A)を単離したうえで脱水閉環反応に供してもよく、又は単離したポリアミック酸(A)を精製したうえで脱水閉環反応に供してもよい。ポリアミック酸(A)の単離及び精製は公知の方法に従って行うことができる。   As described above, a reaction solution obtained by dissolving the polyamic acid (A) is obtained. This reaction solution may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent as it is, may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent after isolating the polyamic acid (A) contained in the reaction solution, or the isolated polyamic You may use for preparation of a liquid crystal aligning agent, after refine | purifying an acid (A). Moreover, when polyamic acid (A) is dehydrated and cyclized into a polyimide, the above reaction solution may be subjected to a dehydration and cyclization reaction as it is, and after the polyamic acid (A) contained in the reaction solution is isolated. You may use for a dehydration ring closure reaction, or you may use for a dehydration ring closure reaction after refine | purifying the isolated polyamic acid (A). Isolation and purification of the polyamic acid (A) can be performed according to a known method.

<重合体(A):ポリイミド>
本発明において、重合体(A)としてのポリイミド(以下、「ポリイミド(A)」ともいう。)は、例えば上記の如くして合成されたポリアミック酸(A)を脱水閉環してイミド化することにより得ることができる。
<Polymer (A): Polyimide>
In the present invention, the polyimide as the polymer (A) (hereinafter also referred to as “polyimide (A)”) is imidized by, for example, dehydrating and ring-closing the polyamic acid (A) synthesized as described above. Can be obtained.

上記ポリイミド(A)は、その前駆体であるポリアミック酸(A)が有していたアミック酸構造のすべてを脱水閉環した完全イミド化物であってもよく、アミック酸構造の一部のみを脱水閉環し、アミック酸構造とイミド環構造が併存する部分イミド化物であってもよい。本発明におけるポリイミド(A)は、そのイミド化率が40%以上であることが好ましく、50〜99%であることがより好ましい。このイミド化率は、ポリイミドのアミック酸構造の数とイミド環構造の数との合計に対するイミド環構造の数の占める割合を百分率で表したものである。なお、イミド環の一部がイソイミド環であってもよい。   The polyimide (A) may be a completely imidized product obtained by dehydrating and ring-closing all of the amic acid structure of the polyamic acid (A) as a precursor, and only a part of the amic acid structure may be dehydrating and ring-closing. Alternatively, it may be a partially imidized product in which an amic acid structure and an imide ring structure coexist. The imidation ratio of the polyimide (A) in the present invention is preferably 40% or more, and more preferably 50 to 99%. This imidation ratio represents the ratio of the number of imide ring structures to the total of the number of polyimide amic acid structures and the number of imide ring structures in percentage. Note that a part of the imide ring may be an isoimide ring.

ポリアミック酸(A)の脱水閉環は、(i)ポリアミック酸(A)を加熱する方法により、又は(ii)ポリアミック酸(A)を有機溶媒に溶解し、この溶液中に脱水剤及び脱水閉環触媒を添加し必要に応じて加熱する方法により行うことができる。   The dehydration ring closure of the polyamic acid (A) is performed by (i) a method of heating the polyamic acid (A) or (ii) dissolving the polyamic acid (A) in an organic solvent, and the dehydrating agent and the dehydration ring closure catalyst in this solution. It can carry out by the method of adding and heating as needed.

上記(i)の方法において、反応温度は、好ましくは50〜200℃であり、より好ましくは60〜170℃である。反応温度が50℃未満であると脱水閉環反応が十分に進行せず、反応温度が200℃を超えると、得られるポリイミド(A)の分子量が低下する場合がある。反応時間は、好ましくは0.5〜48時間であり、より好ましくは2〜20時間である。
一方、上記(ii)の方法において、脱水剤としては、例えば無水酢酸、無水プロピオン酸、無水トリフルオロ酢酸等の酸無水物を用いることができる。脱水剤の使用量は、アミック酸構造単位の1モルに対して0.01〜20モルとすることが好ましい。また、脱水閉環触媒としては、例えばピリジン、コリジン、ルチジン、トリエチルアミン、N−メチルピペリジン等の3級アミンを用いることができる。脱水閉環触媒の使用量は、使用する脱水剤1モルに対して0.01〜10モルとすることが好ましい。脱水閉環反応に用いられる有機溶媒としては、ポリアミック酸(A)の合成に用いる有機溶媒として例示した溶媒を挙げることができる。脱水閉環反応の反応温度は、好ましくは0〜180℃であり、より好ましくは10〜150℃である。反応時間は、好ましくは0.5〜20時間であり、より好ましくは1〜8時間である。
In the method (i), the reaction temperature is preferably 50 to 200 ° C, more preferably 60 to 170 ° C. When the reaction temperature is less than 50 ° C., the dehydration ring-closing reaction does not proceed sufficiently, and when the reaction temperature exceeds 200 ° C., the molecular weight of the resulting polyimide (A) may decrease. The reaction time is preferably 0.5 to 48 hours, more preferably 2 to 20 hours.
On the other hand, in the method (ii), as the dehydrating agent, for example, an acid anhydride such as acetic anhydride, propionic anhydride, trifluoroacetic anhydride, or the like can be used. It is preferable that the usage-amount of a dehydrating agent shall be 0.01-20 mol with respect to 1 mol of an amic acid structural unit. Moreover, as a dehydration ring closure catalyst, tertiary amines, such as a pyridine, a collidine, a lutidine, a triethylamine, N-methyl piperidine, can be used, for example. It is preferable that the usage-amount of a dehydration ring-closing catalyst shall be 0.01-10 mol with respect to 1 mol of dehydrating agents to be used. Examples of the organic solvent used for the dehydration ring-closing reaction include the solvents exemplified as the organic solvent used for the synthesis of the polyamic acid (A). The reaction temperature of the dehydration ring closure reaction is preferably 0 to 180 ° C, more preferably 10 to 150 ° C. The reaction time is preferably 0.5 to 20 hours, more preferably 1 to 8 hours.

上記方法(i)により得られるポリイミド(A)は、これをそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、あるいは得られるポリイミド(A)を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。一方、上記方法(ii)においては、ポリイミド(A)を含有する反応溶液が得られる。この反応溶液は、これをそのまま液晶配向剤の調製に供してもよく、例えば溶媒置換等の方法により反応溶液から脱水剤及び脱水閉環触媒を除いたうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、ポリイミド(A)を単離したうえで液晶配向剤の調製に供してもよく、又は単離したポリイミド(A)を精製したうえで液晶配向剤の調製に供してもよい。ポリイミド(A)の単離及び精製操作は公知の方法に従って行うことができる。   The polyimide (A) obtained by the above method (i) may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent as it is, or may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent after purifying the obtained polyimide (A). . On the other hand, in the said method (ii), the reaction solution containing a polyimide (A) is obtained. This reaction solution may be used for the preparation of the liquid crystal aligning agent as it is, for example, after removing the dehydrating agent and the dehydrating ring-closing catalyst from the reaction solution by a method such as solvent substitution. The polyimide (A) may be isolated and used for the preparation of the liquid crystal aligning agent, or the isolated polyimide (A) may be purified and then used for the preparation of the liquid crystal aligning agent. The operation of isolating and purifying the polyimide (A) can be performed according to a known method.

<重合体(A):ポリアミック酸エステル>
本発明における重合体(A)としてのポリアミック酸エステル(以下、「ポリアミック酸エステル(A)」とも称する。)は、例えば、上記ポリアミック酸(A)の合成に使用する化合物として例示したテトラカルボン酸二無水物とその他のジアミンとを反応させてポリアミック酸を得た後、その得られたポリアミック酸と、上記特定構造及びエポキシ基を有する化合物と、を反応させることにより合成することができる。なお、ポリアミック酸エステル(A)は、アミック酸エステル構造のみを有していてもよく、アミック酸構造とアミック酸エステル構造とが併存する部分エステル化物であってもよい。
<Polymer (A): Polyamic acid ester>
The polyamic acid ester (hereinafter also referred to as “polyamic acid ester (A)”) as the polymer (A) in the present invention is, for example, a tetracarboxylic acid exemplified as a compound used for the synthesis of the polyamic acid (A). After reacting a dianhydride and another diamine to obtain a polyamic acid, it can be synthesized by reacting the obtained polyamic acid with a compound having the above specific structure and epoxy group. The polyamic acid ester (A) may have only an amic acid ester structure, or may be a partially esterified product in which an amic acid structure and an amic acid ester structure coexist.

以上のようにして得られるポリアミック酸(A)、ポリアミック酸エステル(A)及びポリイミド(A)は、これを濃度10重量%の溶液としたときに、10〜800mPa・sの溶液粘度を持つものであることが好ましく、15〜500mPa・sの溶液粘度を持つものであることがより好ましい。なお、上記重合体の溶液粘度(mPa・s)は、それら重合体の良溶媒(例えばγ−ブチロラクトン、N−メチル−2−ピロリドンなど)を用いて調製した濃度10重量%の重合体溶液につき、E型回転粘度計を用いて25℃において測定した値である。また、上記ポリアミック酸(A)、ポリアミック酸エステル(A)及びポリイミド(A)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が、500〜300,000であることが好ましく、1,000〜200,000であることがより好ましい。   The polyamic acid (A), polyamic acid ester (A), and polyimide (A) obtained as described above have a solution viscosity of 10 to 800 mPa · s when this is a 10% by weight solution. Preferably, it has a solution viscosity of 15 to 500 mPa · s. In addition, the solution viscosity (mPa · s) of the above polymer is based on a polymer solution having a concentration of 10% by weight prepared using a good solvent for the polymer (for example, γ-butyrolactone, N-methyl-2-pyrrolidone, etc.). The value measured at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer. The polyamic acid (A), polyamic acid ester (A), and polyimide (A) may have a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 500 to 300,000 as measured by gel permeation chromatography (GPC). Preferably, it is 1,000-200,000.

[重合体(A):ポリオルガノシロキサン]
上記重合体(A)としてのポリオルガノシロキサン(以下、「ポリオルガノシロキサン(A)」とも称する。)は、有機化学の定法を適宜組み合わせることにより合成することができる。その一例としては、例えば、エポキシ基を有する加水分解性のシラン化合物(s1)、又は当該シラン化合物(s1)とその他のシラン化合物との混合物を加水分解縮合することにより重合体(以下、「エポキシ基含有ポリオルガノシロキサン」ともいう。)を合成した後、その得られたエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンと、上記特定構造を有するカルボン酸(c1)と、を反応させる方法などを挙げることができる。
[Polymer (A): Polyorganosiloxane]
The polyorganosiloxane (hereinafter also referred to as “polyorganosiloxane (A)”) as the polymer (A) can be synthesized by appropriately combining organic chemistry methods. As an example, for example, a hydrolyzable silane compound (s1) having an epoxy group or a mixture of the silane compound (s1) and another silane compound is hydrolyzed and condensed to form a polymer (hereinafter referred to as “epoxy”). And a method of reacting the resulting epoxy group-containing polyorganosiloxane with the carboxylic acid (c1) having the above specific structure.

上記シラン化合物(s1)は、エポキシ基を有する加水分解性のシラン化合物であれば特に限定しない。その具体例としては、例えば3−グリシジロキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルトリエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルジメチルメトキシシラン、3−グリシジロキシプロピルジメチルエトキシシラン、2−グリシジロキシエチルトリメトキシシラン、2−グリシジロキシエチルトリエトキシシラン、2−グリシジロキシエチルメチルジメトキシシラン、2−グリシジロキシエチルメチルジエトキシシラン、2−グリシジロキシエチルジメチルメトキシシラン、2−グリシジロキシエチルジメチルエトキシシラン、4−グリシジロキシブチルトリメトキシシラン、4−グリシジロキシブチルトリエトキシシラン、4−グリシジロキシブチルメチルジメトキシシラン、4−グリシジロキシブチルメチルジエトキシシラン、4−グリシジロキシブチルジメチルメトキシシラン、4−グリシジロキシブチルジメチルエトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリエトキシシラン、3−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリメトキシシラン、3−(3,4−エポキシシクロヘキシル)プロピルトリエトキシシランなどを挙げることができる。シラン化合物(s1)としては、これらのうちの1種を単独で又は2種以上を混合して使用することができる。   The silane compound (s1) is not particularly limited as long as it is a hydrolyzable silane compound having an epoxy group. Specific examples thereof include, for example, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidyloxypropylmethyldiethoxysilane, 3- Glycidyloxypropyldimethylmethoxysilane, 3-glycidyloxypropyldimethylethoxysilane, 2-glycidyloxyethyltrimethoxysilane, 2-glycidyloxyethyltriethoxysilane, 2-glycidyloxyethylmethyldimethoxysilane, 2- Glycidyloxyethylmethyldiethoxysilane, 2-glycidyloxyethyldimethylmethoxysilane, 2-glycidyloxyethyldimethylethoxysilane, 4-glycidyloxybutyltrimethoxysilane, 4-glycidyloxybutyl Riethoxysilane, 4-glycidyloxybutylmethyldimethoxysilane, 4-glycidyloxybutylmethyldiethoxysilane, 4-glycidyloxybutyldimethylmethoxysilane, 4-glycidyloxybutyldimethylethoxysilane, 2- (3 4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltriethoxysilane, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) propyltrimethoxysilane, 3- (3,4-epoxycyclohexyl) And propyltriethoxysilane. As the silane compound (s1), one of these can be used alone, or two or more can be mixed and used.

エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンの合成に際し、必要に応じて使用することができるその他のシラン化合物としては、例えばメチルトリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルジクロロシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、クロロジメチルシラン、メトキシジメチルシラン、エトキシジメチルシラン、クロロトリメチルシラン、ブロモトリメチルシラン、ヨードトリメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、オクタデシルトリクロロシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリクロロシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロキシプロピルトリエトキシシラン等を挙げることができる。その他のシラン化合物としては、これらのうちの1種を単独で又は2種以上を混合して使用することができる。なお、本明細書において、「(メタ)アクリロキシ」は、アクリロキシ及びメタクリロキシを含む意である。   In the synthesis of the epoxy group-containing polyorganosiloxane, other silane compounds that can be used as necessary include, for example, methyltrichlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltrimethoxysilane, Phenyltriethoxysilane, methyldichlorosilane, methyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane, dimethyldichlorosilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldichlorosilane, diphenyldimethoxysilane, diphenyldiethoxysilane, chlorodimethylsilane, methoxydimethyl Silane, ethoxydimethylsilane, chlorotrimethylsilane, bromotrimethylsilane, iodotrimethylsilane, methoxytrimethylsilane , Ethoxytrimethylsilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, octadecyltrichlorosilane, octadecyltrimethoxysilane, octadecyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloxypropyltrichlorosilane, 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane , 3- (meth) acryloxypropyltriethoxysilane and the like. As other silane compounds, one of these may be used alone or in admixture of two or more. In the present specification, “(meth) acryloxy” includes acryloxy and methacryloxy.

ポリオルガノシロキサン(A)の合成に際し使用するシラン化合物は、上記シラン化合物(s1)を、シラン化合物の全量に対して10〜100モル%含むものであることが好ましく、20〜100モル%含むものであることがより好ましい。上記その他のシラン化合物を使用する場合、その含有割合は、合成に使用するシラン化合物の全量に対して、30モル%以下であることが好ましく、10モル%以下であることがより好ましい。   The silane compound used in the synthesis of the polyorganosiloxane (A) preferably contains 10 to 100 mol% of the silane compound (s1) with respect to the total amount of the silane compound, and 20 to 100 mol%. More preferred. When using the said other silane compound, it is preferable that the content rate is 30 mol% or less with respect to the whole quantity of the silane compound used for a synthesis | combination, and it is more preferable that it is 10 mol% or less.

上記におけるシラン化合物の加水分解・縮合反応は、上記の如きシラン化合物の1種又は2種以上と水とを、好ましくは適当な触媒及び有機溶媒の存在下で反応させることにより行うことができる。加水分解・縮合反応に際し、水の使用割合は、シラン化合物(合計量)1モルに対して、好ましくは0.5〜100モルであり、より好ましくは1〜30モルである。   The hydrolysis / condensation reaction of the silane compound in the above can be performed by reacting one or more of the above silane compounds with water, preferably in the presence of an appropriate catalyst and an organic solvent. In the hydrolysis / condensation reaction, the proportion of water used is preferably 0.5 to 100 mol, more preferably 1 to 30 mol, per 1 mol of the silane compound (total amount).

加水分解・縮合反応の際に使用することができる触媒としては、例えば酸、アルカリ金属化合物、有機塩基、チタン化合物、ジルコニウム化合物などを挙げることができる。これら触媒の具体例としては、酸として、例えば塩酸、硫酸、硝酸、蟻酸、蓚酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸、リン酸などを;アルカリ金属化合物として、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムエトキシドなどを;有機塩基として、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン、ピロリジン、ピロールの如き1〜2級有機アミン:トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセンの如き3級の有機アミン:テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級の有機アミンなどを;それぞれ挙げることができる。   Examples of the catalyst that can be used in the hydrolysis / condensation reaction include acids, alkali metal compounds, organic bases, titanium compounds, zirconium compounds, and the like. Specific examples of these catalysts include acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, formic acid, succinic acid, acetic acid, trifluoroacetic acid, trifluoromethanesulfonic acid, phosphoric acid and the like; alkali metal compounds such as sodium hydroxide and hydroxide Potassium, sodium methoxide, potassium methoxide, sodium ethoxide, potassium ethoxide and the like; as an organic base, for example, primary or secondary organic amines such as ethylamine, diethylamine, piperazine, piperidine, pyrrolidine, pyrrole: triethylamine, tri-n -Tertiary organic amines such as propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, diazabicycloundecene; quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide; it can

上記触媒としては、エポキシ基の開環などの副反応を抑制できる点や、加水分解縮合速度を速くできる点、保存安定性に優れている点などにおいて、これらの中でもアルカリ金属化合物又は有機塩基が好ましく、特に有機塩基が好ましい。また、有機塩基としては、3級の有機アミン又は4級の有機アミンが好ましい。
有機塩基の使用量は、有機塩基の種類、温度などの反応条件などにより異なり、適宜に設定されるべきであるが、例えば全シラン化合物に対して、好ましくは0.01〜3倍モルであり、より好ましくは0.05〜1倍モルである。
Examples of the catalyst include alkali metal compounds or organic bases, in that side reactions such as ring opening of epoxy groups can be suppressed, hydrolysis condensation rate can be increased, and storage stability is excellent. An organic base is particularly preferable. The organic base is preferably a tertiary organic amine or a quaternary organic amine.
The amount of the organic base used varies depending on the reaction conditions such as the type of organic base and temperature, and should be set appropriately. For example, the amount is preferably 0.01 to 3 moles relative to all silane compounds. More preferably, it is 0.05-1 times mole.

上記の加水分解・縮合反応の際に使用することができる有機溶媒としては、例えば炭化水素、ケトン、エステル、エーテル、アルコールなどを挙げることができる。それらの具体例としては、炭化水素として、例えばトルエン、キシレンなどを;ケトンとして、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルn−アミルケトン、ジエチルケトン、シクロヘキサノンなどを;エステルとして、例えば酢酸エチル、酢酸n−ブチル、酢酸i−アミル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、3−メトキシブチルアセテート、乳酸エチルなどを;エーテルとして、例えばエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどを;アルコールとして、例えば1−ヘキサノール、4−メチル−2−ペンタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテルなどを;それぞれ挙げることができる。これらのうち非水溶性の有機溶媒を用いることが好ましい。なお、これらの有機溶媒は、1種を単独で又は2種以上を混合して使用することができる。
加水分解縮合反応における有機溶媒の使用割合は、反応に使用する全シラン化合物100重量部に対して、好ましくは10〜10,000重量部であり、より好ましくは50〜1,000重量部である。
Examples of the organic solvent that can be used in the above hydrolysis / condensation reaction include hydrocarbons, ketones, esters, ethers, and alcohols. Specific examples thereof include hydrocarbons such as toluene and xylene; ketones such as methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl n-amyl ketone, diethyl ketone and cyclohexanone; esters such as ethyl acetate and n-acetate. Butyl, i-amyl acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, 3-methoxybutyl acetate, ethyl lactate and the like; ethers such as ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane; alcohols such as 1-hexanol 4-methyl-2-pentanol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono n- propyl ether, ethylene glycol monobutyl -n- butyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono -n- propyl ether and the like; may be mentioned, respectively. Of these, it is preferable to use a water-insoluble organic solvent. In addition, these organic solvents can be used individually by 1 type or in mixture of 2 or more types.
The use ratio of the organic solvent in the hydrolytic condensation reaction is preferably 10 to 10,000 parts by weight, more preferably 50 to 1,000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total silane compounds used in the reaction. .

上記の加水分解・縮合反応は、上記の如きシラン化合物を有機溶媒に溶解し、この溶液を有機塩基及び水と混合して、例えば油浴などにより加熱して実施することが好ましい。加水分解・縮合反応時には、加熱温度を130℃以下とすることが好ましく、40〜100℃とすることがより好ましい。加熱時間は、0.5〜12時間とすることが好ましく、1〜8時間とすることがより好ましい。加熱中は、混合液を撹拌してもよいし、還流下に置いてもよい。また、反応終了後において、反応液から分取した有機溶媒層を水で洗浄することが好ましい。この洗浄に際しては、少量の塩を含む水(例えば、0.2重量%程度の硝酸アンモニウム水溶液など)を用いて洗浄することにより、洗浄操作が容易になる点で好ましい。洗浄は、洗浄後の水層が中性になるまで行い、その後、有機溶媒層を、必要に応じて無水硫酸カルシウム、モレキュラーシーブなどの乾燥剤で乾燥した後、溶媒を除去することにより、目的とするポリオルガノシロキサン(エポキシ基含有ポリオルガノシロキサン)を得ることができる。   The hydrolysis / condensation reaction is preferably carried out by dissolving the silane compound as described above in an organic solvent, mixing the solution with an organic base and water, and heating the solution in an oil bath, for example. In the hydrolysis / condensation reaction, the heating temperature is preferably 130 ° C. or lower, more preferably 40 to 100 ° C. The heating time is preferably 0.5 to 12 hours, and more preferably 1 to 8 hours. During heating, the mixture may be stirred or placed under reflux. Moreover, after completion | finish of reaction, it is preferable to wash | clean the organic-solvent layer fractionated from the reaction liquid with water. In this washing, washing with water containing a small amount of salt (for example, an aqueous ammonium nitrate solution of about 0.2% by weight) is preferable in that the washing operation is facilitated. Washing is performed until the aqueous layer after washing becomes neutral, and then the organic solvent layer is dried with a desiccant such as anhydrous calcium sulfate or molecular sieve as necessary, and then the solvent is removed to remove the solvent. The polyorganosiloxane (epoxy group-containing polyorganosiloxane) can be obtained.

次いで、上記加水分解・縮合反応により得られたエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンを、上記特定構造を有するカルボン酸(c1)と反応させる。これにより、上記特定構造を側鎖に有するポリオルガノシロキサン(A)を得ることができる。この反応に際し使用するカルボン酸は、カルボン酸(c1)単独であってもよいし、カルボン酸(c1)と共に、液晶分子を配向させる機能を有する基(以下、「液晶配向性基」ともいう。)を有するカルボン酸(c2)及びその他のカルボン酸(c3)の少なくともいずれかを使用してもよい。   Next, the epoxy group-containing polyorganosiloxane obtained by the hydrolysis / condensation reaction is reacted with the carboxylic acid (c1) having the specific structure. Thereby, the polyorganosiloxane (A) which has the said specific structure in a side chain can be obtained. The carboxylic acid used in this reaction may be carboxylic acid (c1) alone, or a group having a function of aligning liquid crystal molecules together with carboxylic acid (c1) (hereinafter also referred to as “liquid crystal alignment group”). ) And / or other carboxylic acid (c3) may be used.

ここで、カルボン酸(c1)は、上記特定構造とカルボキシル基とを有する限り、その余の構造は特に限定しない。具体的には、3−ベンゾイル安息香酸、4−ベンゾイル安息香酸、3−(4−ジエチルアミノ−2−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸、4−(2−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸、3−(2−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸、2−(2−ヒドロキシベンゾイル)安息香酸、4−(4−メチルベンゾイル)安息香酸、4−(3,4−ジメチルベンゾイル)安息香酸、3−(4−ベンゾイル−フェノキシ)プロピオン酸、9,10−ジオキソジヒドロアントラセン−2−カルボン酸(アントラキノン−2−カルボン酸)、3−(9,10−ジオキソ−9,10−ジヒドロアントラセン−2−イル)プロピオン酸、[3−(4,5−ジメトキシ−3,6−ジオキソシクロヘキサ−1,4−ジエニル)プロポキシ]アセチル酸、3,5−ジニトロ安息香酸、4−メチル−3,5−ジニトロ安息香酸、3−(3,5−ジニトロフェノキシ)プロピオン酸、2−メチル−3,5−ジニトロ安息香酸、4−フェニル安息香酸、11−((4’−ニトロ−[1,1’−ビフェニル]−4−イル)オキシ)ウンデカン酸などを挙げることができる。   Here, as long as carboxylic acid (c1) has the said specific structure and a carboxyl group, the remaining structure is not specifically limited. Specifically, 3-benzoylbenzoic acid, 4-benzoylbenzoic acid, 3- (4-diethylamino-2-hydroxybenzoyl) benzoic acid, 4- (2-hydroxybenzoyl) benzoic acid, 3- (2-hydroxybenzoyl) ) Benzoic acid, 2- (2-hydroxybenzoyl) benzoic acid, 4- (4-methylbenzoyl) benzoic acid, 4- (3,4-dimethylbenzoyl) benzoic acid, 3- (4-benzoyl-phenoxy) propionic acid 9,10-dioxodihydroanthracene-2-carboxylic acid (anthraquinone-2-carboxylic acid), 3- (9,10-dioxo-9,10-dihydroanthracen-2-yl) propionic acid, [3- ( 4,5-dimethoxy-3,6-dioxocyclohexa-1,4-dienyl) propoxy] acetyl acid, 3,5-dinitro Benzoic acid, 4-methyl-3,5-dinitrobenzoic acid, 3- (3,5-dinitrophenoxy) propionic acid, 2-methyl-3,5-dinitrobenzoic acid, 4-phenylbenzoic acid, 11- ( And (4′-nitro- [1,1′-biphenyl] -4-yl) oxy) undecanoic acid.

上記カルボン酸(c2)は、液晶配向性基とカルボキシル基とを有する限り、その余の構造は特に限定しない。液晶配向性基としては、例えば炭素数4〜20のアルキル基、アルコキシ基若しくはフルオロアルキル基、炭素数17〜51のステロイド骨格を有する基、多環構造を有する基などを挙げることができる。
かかるカルボン酸(c2)の具体例としては、例えば4−ブチロキシ安息香酸、4−ペンタロキシ安息香酸、4−ヘキサロキシ安息香酸、4−ヘプタロキシ安息香酸、4−オクチロキシ安息香酸、4−ノナロキシ安息香酸、4−デカロキシ安息香酸、4−ウンデカロキシ安息香酸、4−ドデカロキシ安息香酸、4−トリデカロキシ安息香酸、4−テトラデカロキシ安息香酸、4−ペンタデカロキシ安息香酸、4−ヘキサデカロキシ安息香酸、4−ヘプタデカロキシ安息香酸、4−オクタデカロキシ安息香酸、4−ノナデカロキシ安息香酸、4−イコサロキシ安息香酸、4−(4−プロピルシクロヘキシル)安息香酸、4−(4−ブチルシクロヘキシル)安息香酸、4−(4−ペンチルシクロヘキシル)安息香酸、4−(4−ヘキシルシクロヘキシル)安息香酸、4−(4−ヘプチルシクロヘキシル)安息香酸、4−(4−オクチルシクロヘキシル)安息香酸、4−(4’−プロピルビシクロヘキシル−4−イル)安息香酸、4−(4’−ブチルビシクロヘキシル−4−イル)安息香酸、4−(4’−ペンチルビシクロヘキシル−4−イル)安息香酸、4−(4’−ヘキシルビシクロヘキシル−4−イル)安息香酸、4−(4’−ヘプチルビシクロヘキシル−4−イル)安息香酸、4−(4’−オクチルビシクロヘキシル−4−イル)安息香酸、コハク酸=5ξ−コレスタン−3−イル、11−(4−(4−ペンチルシクロヘキシル)フェノキシ)ウンデカン酸などを挙げることができる。
上記カルボン酸(c3)は、上記カルボン酸(c1)及び(c2)以外のカルボン酸である。その具体例としては、例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、安息香酸、メチル安息香酸等が挙げられる。
As long as the said carboxylic acid (c2) has a liquid crystal aligning group and a carboxyl group, the remaining structure is not specifically limited. Examples of the liquid crystal aligning group include an alkyl group having 4 to 20 carbon atoms, an alkoxy group or a fluoroalkyl group, a group having a steroid skeleton having 17 to 51 carbon atoms, and a group having a polycyclic structure.
Specific examples of such carboxylic acid (c2) include 4-butoxyoxybenzoic acid, 4-pentaloxybenzoic acid, 4-hexaloxybenzoic acid, 4-heptaloxybenzoic acid, 4-octyloxybenzoic acid, 4-nonaloxybenzoic acid, 4 Decaloxybenzoic acid, 4-undecaloxybenzoic acid, 4-dodecaloxybenzoic acid, 4-tridecaloxybenzoic acid, 4-tetradecaloxybenzoic acid, 4-pentadecaloxybenzoic acid, 4-hexadecaloxybenzoic acid, 4-heptadecaloxy Benzoic acid, 4-octadecaloxybenzoic acid, 4-nonadecoxyoxybenzoic acid, 4-icosaloxybenzoic acid, 4- (4-propylcyclohexyl) benzoic acid, 4- (4-butylcyclohexyl) benzoic acid, 4- (4- Pentylcyclohexyl) benzoic acid, 4- (4-hexylcyclohexyl) Syl) benzoic acid, 4- (4-heptylcyclohexyl) benzoic acid, 4- (4-octylcyclohexyl) benzoic acid, 4- (4′-propylbicyclohexyl-4-yl) benzoic acid, 4- (4′- Butylbicyclohexyl-4-yl) benzoic acid, 4- (4′-pentylbicyclohexyl-4-yl) benzoic acid, 4- (4′-hexylbicyclohexyl-4-yl) benzoic acid, 4- (4 ′) -Heptylbicyclohexyl-4-yl) benzoic acid, 4- (4′-octylbicyclohexyl-4-yl) benzoic acid, succinic acid = 5ξ-cholestan-3-yl, 11- (4- (4-pentylcyclohexyl) ) Phenoxy) Undecanoic acid and the like.
The carboxylic acid (c3) is a carboxylic acid other than the carboxylic acids (c1) and (c2). Specific examples thereof include formic acid, acetic acid, propionic acid, benzoic acid, and methylbenzoic acid.

カルボン酸(c1)の使用割合は、反応に使用するエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンのエポキシ基1モルに対して、0.02〜0.5モルとすることが好ましく、0.05〜0.4モルとすることがより好ましく、0.05〜0.3モルとすることが更に好ましい。また、カルボン酸(c2)の使用割合は、反応に使用するエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンのエポキシ基1モルに対して、0.7モル以下とすることが好ましく、0.2〜0.6モルとすることがより好ましい。カルボン酸(c3)の使用割合は、反応に使用するエポキシ基含有ポリオルガノシロキサンのエポキシ基1モルに対して、0.3モル以下とすることが好ましく、0.2モル以下とすることがより好ましい。
本発明におけるポリオルガノシロキサン(A)は、そのエポキシ当量が5,000g/モル以下であることが好ましく、500〜3,000g/モルであることがより好ましい。したがって、上記カルボン酸(c1)、(c2)及び(c3)の合計の使用割合については、ポリオルガノシロキサン(A)のエポキシ当量が上記範囲になるように適宜調整することが好ましい。
The use ratio of the carboxylic acid (c1) is preferably 0.02 to 0.5 mol, based on 1 mol of the epoxy group of the epoxy group-containing polyorganosiloxane used for the reaction, and 0.05 to 0.4 More preferably, the molar amount is 0.05 to 0.3 mol. Moreover, it is preferable that the usage-amount of carboxylic acid (c2) shall be 0.7 mol or less with respect to 1 mol of epoxy groups of the epoxy-group containing polyorganosiloxane used for reaction, 0.2-0.6 mol More preferably. The proportion of the carboxylic acid (c3) used is preferably 0.3 mol or less, more preferably 0.2 mol or less, based on 1 mol of the epoxy group of the epoxy group-containing polyorganosiloxane used in the reaction. preferable.
The polyorganosiloxane (A) in the present invention preferably has an epoxy equivalent of 5,000 g / mol or less, more preferably 500 to 3,000 g / mol. Therefore, it is preferable that the total use ratio of the carboxylic acids (c1), (c2), and (c3) is appropriately adjusted so that the epoxy equivalent of the polyorganosiloxane (A) is within the above range.

エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンが有するエポキシ基とカルボン酸との反応は、好ましくは触媒及び有機溶媒の存在下で行うことができる。ここで、反応に使用する触媒としては、例えば有機塩基、エポキシ化合物の反応を促進するいわゆる硬化促進剤として公知の化合物などを用いることができる。
上記有機塩基としては、例えばエチルアミン、ジエチルアミン、ピペラジン、ピペリジン、ピロリジン、ピロールの如き1〜2級有機アミン;トリエチルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、ピリジン、4−ジメチルアミノピリジン、ジアザビシクロウンデセンの如き3級有機アミン;テトラメチルアンモニウムヒドロキシドの如き4級有機アミン;などを挙げることができる。有機塩基としては、これらのうち、3級有機アミン又は4級有機アミンが好ましい。
また、上記硬化促進剤としては、例えば3級アミン、イミダゾール化合物、有機リン化合物、4級フォスフォニウム塩、ジアザビシクロアルケン、有機金属化合物、4級アンモニウム塩、ホウ素化合物、金属ハロゲン化合物などを挙げることができるほか、潜在性硬化促進剤として公知のものを使用することができる。
上記触媒は、カルボン酸と反応させるポリオルガノシロキサン100重量部に対して、好ましくは100重量部以下、より好ましくは0.01〜100重量部、更に好ましくは0.1〜20重量部の割合で使用することができる。
The reaction between the epoxy group of the epoxy group-containing polyorganosiloxane and the carboxylic acid can be preferably carried out in the presence of a catalyst and an organic solvent. Here, as the catalyst used for the reaction, for example, a compound known as a so-called curing accelerator that accelerates the reaction of an organic base or an epoxy compound can be used.
Examples of the organic base include primary and secondary organic amines such as ethylamine, diethylamine, piperazine, piperidine, pyrrolidine and pyrrole; triethylamine, tri-n-propylamine, tri-n-butylamine, pyridine, 4-dimethylaminopyridine, And tertiary organic amines such as diazabicycloundecene; quaternary organic amines such as tetramethylammonium hydroxide; and the like. Of these, tertiary organic amines or quaternary organic amines are preferred as the organic base.
Examples of the curing accelerator include tertiary amines, imidazole compounds, organic phosphorus compounds, quaternary phosphonium salts, diazabicycloalkenes, organometallic compounds, quaternary ammonium salts, boron compounds, metal halogen compounds, and the like. In addition to the above, those known as latent curing accelerators can be used.
The catalyst is preferably 100 parts by weight or less, more preferably 0.01 to 100 parts by weight, still more preferably 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyorganosiloxane to be reacted with the carboxylic acid. Can be used.

ポリオルガノシロキサンとカルボン酸との反応において使用することのできる有機溶媒としては、例えば炭化水素、エーテル、エステル、ケトン、アミド、アルコール等を挙げることができる。これらのうち、原料及び生成物の溶解性並びに生成物の精製のしやすさの観点から、エーテル、エステル、ケトンが好ましい。当該有機溶媒は、固形分濃度(反応溶液中の溶媒以外の成分の合計重量が、溶液の全重量に対して占める割合)が、好ましくは0.1重量%以上、より好ましくは5〜50重量%となる割合で使用される。
反応温度は、好ましくは0〜200℃であり、より好ましくは50〜150℃である。反応時間は、好ましくは0.1〜50時間であり、より好ましくは0.5〜20時間である。また、反応終了後においては、反応液から分取した有機溶媒層を水で洗浄することが好ましい。水洗後、有機溶媒層を、必要に応じて適当な乾燥剤で乾燥した後、溶媒を除去することにより、目的とするポリオルガノシロキサンを得ることができる。なお、ポリオルガノシロキサン(A)の単離操作を行わずに、反応溶液に溶解した状態のポリオルガノシロキサン(A)を、そのまま次の液晶配向剤の調製に供してもよい。
Examples of the organic solvent that can be used in the reaction between the polyorganosiloxane and the carboxylic acid include hydrocarbons, ethers, esters, ketones, amides, alcohols, and the like. Of these, ethers, esters, and ketones are preferable from the viewpoints of solubility of raw materials and products and ease of purification of the products. The organic solvent preferably has a solid content concentration (the ratio of the total weight of components other than the solvent in the reaction solution to the total weight of the solution) of 0.1% by weight or more, more preferably 5 to 50% by weight. % Used.
The reaction temperature is preferably 0 to 200 ° C, more preferably 50 to 150 ° C. The reaction time is preferably 0.1 to 50 hours, more preferably 0.5 to 20 hours. Moreover, after completion | finish of reaction, it is preferable to wash | clean the organic-solvent layer fractionated from the reaction liquid with water. After washing with water, the organic solvent layer is dried with an appropriate desiccant as required, and then the solvent is removed to obtain the desired polyorganosiloxane. Note that the polyorganosiloxane (A) dissolved in the reaction solution may be used as it is for the preparation of the next liquid crystal aligning agent without performing the isolation operation of the polyorganosiloxane (A).

本発明の液晶配向剤に含有させるポリオルガノシロキサン(A)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が、500〜100,000であることが好ましく、1,000〜30,000であることがより好ましい。   The polyorganosiloxane (A) contained in the liquid crystal aligning agent of the present invention preferably has a polystyrene-equivalent weight average molecular weight of 500 to 100,000 as measured by gel permeation chromatography (GPC), and is 1,000. More preferably, it is ˜30,000.

また、本発明における重合体(A)がポリ(メタ)アクリレート誘導体を主骨格とする場合、例えば次のようにして合成することができる。先ず、エポキシ基を有するモノマーを含むモノマー原料を重合して、エポキシ基を有するポリ(メタ)アクリレート誘導体を合成し、次いで該誘導体と、上記特定構造及びカルボキシル基を有する化合物(例えば上記カルボン酸(c1))と、を反応させる。これにより、上記特定構造を側鎖に有するポリ(メタ)アクリレート誘導体を得ることができる。   Moreover, when the polymer (A) in this invention uses a poly (meth) acrylate derivative as a main skeleton, it is compoundable as follows, for example. First, a monomer raw material including a monomer having an epoxy group is polymerized to synthesize a poly (meth) acrylate derivative having an epoxy group, and then the derivative and a compound having the above specific structure and carboxyl group (for example, the above carboxylic acid ( c1)). Thereby, the poly (meth) acrylate derivative which has the said specific structure in a side chain can be obtained.

[重合体(A):ポリシラン]
本発明において、重合体(A)としてのポリシラン(以下、「ポリシラン(A)」とも称する。)は、直鎖状、分岐鎖状及び環状のうちの1種のポリシラン構造を有していてもよいし、それらの2種以上を組み合わせてなるポリシラン構造を有していてもよい。また、同一の繰り返し単位からなる重合体であってもよく、2種類以上の繰り返し単位からなる共重合体であってもよい。上記ポリシラン(A)の具体例としては、例えば下記式(X)で表されるポリシラン構造を有する化合物などが挙げられる。
(式(X)中、R及びRは、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子又は1価の有機基である。nは2以上の整数である。「*」は結合手を示す。)
[Polymer (A): Polysilane]
In the present invention, the polysilane (hereinafter also referred to as “polysilane (A)”) as the polymer (A) may have a polysilane structure of one of linear, branched, and cyclic. It may have a polysilane structure formed by combining two or more of them. Moreover, the polymer which consists of the same repeating unit may be sufficient, and the copolymer which consists of two or more types of repeating units may be sufficient. Specific examples of the polysilane (A) include compounds having a polysilane structure represented by the following formula (X).
(In formula (X), R 1 and R 2 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group. N is an integer of 2 or more. “*” Represents a bond.)

及びRのハロゲン原子は、好ましくはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子である。R及びRの1価の有機基としては、例えば炭素数1〜10のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基などの直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基;炭素数3〜20のシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ビシクロアルキル基などの脂環式基;炭素数6〜20のアリール基又はアラルキル基、あるいは芳香族複素環基などの芳香族基;等を挙げることができる。 The halogen atom for R 1 and R 2 is preferably a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. Examples of the monovalent organic group represented by R 1 and R 2 include a linear or branched aliphatic hydrocarbon group such as an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, an alkenyl group, and an alkynyl group; An alicyclic group such as a cycloalkyl group, a cycloalkenyl group, or a bicycloalkyl group; an aromatic group such as an aryl group or an aralkyl group having 6 to 20 carbon atoms, or an aromatic heterocyclic group;

ここで、アルキル基の具体例としては、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基などを;アルケニル基としては、例えばプロペニル基、3−ブテニル基、3−ペンテニル基、3−ヘキセニル基などを;アルキニル基としては、例えばプロパルギル基、3−メチルプロパルギル基、3−エチルプロパルギル基などを;それぞれ挙げることができる。また、シクロアルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などを;ビシクロアルキル基としては、例えば2−ノルボルニル基などを;それぞれ挙げることができる。また、アリール基としては、例えばフェニル基、トリル基、キシリル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基などを;アラルキル基としては、例えばベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基などを;芳香族複素環基としては、例えばα−チオフェン基、β−チオフェン基などを;それぞれ挙げることができる。なお、1つの繰り返し単位中におけるRとRは互いに同じでも異なっていてもよい。また、ポリシラン(A)中の複数のRは同一でも異なっていてもよく、複数のRは同一でも異なっていてもよい。 Here, specific examples of the alkyl group include, for example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, t-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, Examples of alkenyl groups include propenyl, 3-butenyl, 3-pentenyl, and 3-hexenyl groups; examples of alkynyl groups include propargyl, 3-methylpropargyl, and 3-ethylpropargyl. Groups and the like; respectively. Examples of the cycloalkyl group include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group. Examples of the bicycloalkyl group include a 2-norbornyl group. Examples of aryl groups include phenyl, tolyl, xylyl, α-naphthyl, and β-naphthyl groups; examples of aralkyl groups include benzyl, phenethyl, phenylpropyl, and phenylbutyl. Examples of the aromatic heterocyclic group include an α-thiophene group and a β-thiophene group; Note that R 1 and R 2 in one repeating unit may be the same or different from each other. Further, a plurality of R 1 in the polysilane (A) may be the same or different, a plurality of R 2 may be the same or different.

nは2以上の整数であり、2〜1,000の整数であることが好ましく、10〜1,000の整数であることがより好ましく、10〜500の整数であることが更に好ましい。   n is an integer of 2 or more, preferably an integer of 2 to 1,000, more preferably an integer of 10 to 1,000, and still more preferably an integer of 10 to 500.

上記ポリシラン(A)は、有機化学の定法を適宜組み合わせることにより合成することができる。その合成方法は特に限定しないが、例えば、(i)テトラハロゲン化ケイ素及び1価の有機基を有するシラン化合物と、金属リチウム若しくは金属マグネシウム又はその双方とを反応させ、得られた反応生成物をMgHで還元することにより合成する方法、(ii)ビス(ペンタメチルシクロペンタジエニル)(ビス(トリメチルシリル)メチル)ネオジムなどのランタノイド錯体を触媒としてヒドロシラン類を重合させて合成する方法、などが挙げられる。また、上記ポリシラン(A)としては市販品を用いてもよい。 The polysilane (A) can be synthesized by appropriately combining organic chemistry methods. The synthesis method is not particularly limited. For example, (i) a silicon halide and a silane compound having a monovalent organic group are reacted with metal lithium or metal magnesium, or both, and the reaction product obtained is reacted. A method of synthesis by reduction with MgH 2 , (ii) a method of synthesizing hydrosilanes using a lanthanoid complex such as bis (pentamethylcyclopentadienyl) (bis (trimethylsilyl) methyl) neodymium as a catalyst, and the like Can be mentioned. Moreover, you may use a commercial item as said polysilane (A).

本発明の液晶配向剤に含有させるポリシラン(A)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が、500〜50,000であることが好ましく、1,000〜30,000であることがより好ましい。なお、液晶配向剤中にポリシラン(A)を含有させた場合、ラジカル発生機能において高い活性を示す点で有効である。その理由は定かではないが、例えば、紫外光の照射によってポリシラン(A)の主鎖のケイ素−ケイ素結合が切断されることに伴うものと推察される。   The polysilane (A) contained in the liquid crystal aligning agent of the present invention preferably has a weight average molecular weight in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) of 500 to 50,000, preferably 1,000 to 30. Is more preferable. In addition, when polysilane (A) is contained in a liquid crystal aligning agent, it is effective at the point which shows high activity in a radical generating function. The reason is not clear, but it is presumed that, for example, it accompanies the cleavage of the silicon-silicon bond in the main chain of polysilane (A) by irradiation with ultraviolet light.

本発明の液晶配向剤に含有される上記化合物(A)は、上記低分子化合物及び重合体(A)からなる群より選択される1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。液晶配向膜の膜表面上の液晶配向を好適に制御して、PSA処理時の光照射による電圧保持率の低下をより少なくできる点において、本発明の液晶配向剤は、上記化合物(A)として少なくとも重合体(A)を含むことが好ましく、上記化合物(A)が重合体(A)であることがより好ましい。   The said compound (A) contained in the liquid crystal aligning agent of this invention may use 1 type selected from the group which consists of the said low molecular weight compound and a polymer (A) individually or in combination of 2 or more types. it can. The liquid crystal aligning agent of the present invention is used as the compound (A) in that the liquid crystal alignment on the film surface of the liquid crystal aligning film is suitably controlled to reduce the decrease in voltage holding ratio due to light irradiation during the PSA treatment. It is preferable that at least the polymer (A) is contained, and the compound (A) is more preferably the polymer (A).

<重合体(B)>
本発明の液晶配向剤が上記化合物(A)として低分子化合物のみを含有する場合、当該液晶配向剤は、上記化合物(A)と共に、重合体成分として、上記特定構造を有さない重合体(B)を含有する。当該重合体(B)としては、主骨格として例えばポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル、ポリエステル、ポリアミド、ポリオルガノシロキサン、セルロース誘導体、ポリアセタール誘導体、ポリスチレン誘導体、ポリ(スチレン−フェニルマレイミド)誘導体、ポリ(メタ)アクリレート誘導体などからなる骨格を有する重合体を挙げることができる。重合体(B)は、これらのうちから選択される骨格を有する重合体の1種以上を適宜選択して用いることができる。
重合体(B)としては、これらの中でも、ポリアミック酸、ポリアミック酸エステル、ポリイミド及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選択される少なくとも一種であることが好ましく、ポリアミック酸、ポリイミド及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選択される少なくとも一種であることがより好ましい。
<Polymer (B)>
When the liquid crystal aligning agent of this invention contains only a low molecular compound as the said compound (A), the said liquid crystal aligning agent is a polymer which does not have the said specific structure as a polymer component with the said compound (A) ( B). Examples of the polymer (B) include polyamic acid, polyimide, polyamic acid ester, polyester, polyamide, polyorganosiloxane, cellulose derivative, polyacetal derivative, polystyrene derivative, poly (styrene-phenylmaleimide) derivative, poly ( A polymer having a skeleton composed of a (meth) acrylate derivative or the like can be given. As the polymer (B), one or more polymers having a skeleton selected from these can be appropriately selected and used.
Among these, the polymer (B) is preferably at least one selected from the group consisting of polyamic acid, polyamic acid ester, polyimide and polyorganosiloxane, and is composed of polyamic acid, polyimide and polyorganosiloxane. More preferably, it is at least one selected from.

上記重合体(B)は、有機化学の定法を適宜組み合わせることにより合成することができる。例えば、重合体(B)としてのポリアミック酸は、上記ポリアミック酸(A)の合成に使用する化合物として例示したテトラカルボン酸二無水物と、その他のジアミンとを反応させることにより得ることができる。重合体(B)としてのポリイミドは、上記重合体(B)としてのポリアミック酸を脱水閉環することにより得ることができ、ポリアミック酸エステルは、当該ポリアミック酸をエステル化することにより得ることができる。また、ポリオルガノシロキサンは、上記シラン化合物(s1)及び上記その他のシラン化合物よりなる群から選ばれる少なくとも一種を加水分解縮合することにより得ることができる。なお、各重合体の反応条件については、上記重合体(A)の説明を適用することができる。   The polymer (B) can be synthesized by appropriately combining organic chemistry methods. For example, the polyamic acid as the polymer (B) can be obtained by reacting the tetracarboxylic dianhydride exemplified as the compound used for the synthesis of the polyamic acid (A) with another diamine. The polyimide as the polymer (B) can be obtained by dehydrating and ring-closing the polyamic acid as the polymer (B), and the polyamic acid ester can be obtained by esterifying the polyamic acid. The polyorganosiloxane can be obtained by hydrolytic condensation of at least one selected from the group consisting of the silane compound (s1) and the other silane compounds. In addition, about the reaction conditions of each polymer, the description of the said polymer (A) is applicable.

本発明の液晶配向剤に含有される上記化合物(A)が低分子化合物である場合、上記化合物(A)の含有割合は、本発明の効果を十分に得る観点から、液晶配向剤中に含まれる重合体100重量部に対して、0.1〜20重量部であることが好ましく、0.5〜15重量部であることがより好ましい。   When the compound (A) contained in the liquid crystal aligning agent of the present invention is a low molecular compound, the content ratio of the compound (A) is included in the liquid crystal aligning agent from the viewpoint of sufficiently obtaining the effects of the present invention. The amount is preferably 0.1 to 20 parts by weight, more preferably 0.5 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymer.

また、本発明の液晶配向剤が上記化合物(A)として重合体(A)を含む場合において、溶液特性や電気特性の改善のために、液晶配向剤の重合体成分として、重合体(A)と共に上記重合体(B)を用いてもよい。例えば、重合体(A)が、ポリアミック酸、ポリイミド、ポリアミック酸エステル及びポリオルガノシロキサンよりなる群から選ばれる少なくとも一種の重合体である場合、重合体(A)の含有割合は、液晶配向剤中に含まれる重合体の全体量に対して、1重量%以上とすることが好ましく、5〜50重量%とすることがより好ましい。
また、上記化合物(A)としてポリシラン(A)を液晶配向剤に添加する場合、その配合比率は、液晶配向剤に含有させる重合体の合計100重量部に対して、50重量部以下が好ましく、0.01〜30重量部がより好ましく、1〜10重量部が更に好ましい。
In the case where the liquid crystal aligning agent of the present invention contains the polymer (A) as the compound (A), the polymer (A) is used as a polymer component of the liquid crystal aligning agent in order to improve the solution characteristics and electrical characteristics. In addition, the polymer (B) may be used. For example, when the polymer (A) is at least one polymer selected from the group consisting of polyamic acid, polyimide, polyamic acid ester, and polyorganosiloxane, the content ratio of the polymer (A) is in the liquid crystal aligning agent. It is preferable to set it as 1 weight% or more with respect to the whole quantity of the polymer contained in 5-5 weight%.
In addition, when polysilane (A) is added to the liquid crystal aligning agent as the compound (A), the blending ratio is preferably 50 parts by weight or less with respect to a total of 100 parts by weight of the polymer contained in the liquid crystal aligning agent. 0.01-30 weight part is more preferable, and 1-10 weight part is still more preferable.

本発明の液晶配向剤における好ましい態様としては、重合体成分として、(I)ポリオルガノシロキサン(A)のみからなる態様;(II)ポリアミック酸(A)及びポリイミド(A)よりなる群から選択される少なくとも一種のみからなる態様;(III)ポリオルガノシロキサン(A)と、ポリアミック酸(A)及びポリイミド(A)よりなる群から選択される少なくとも一種と、からなる態様;(IV)ポリオルガノシロキサン(A)とその他の重合体(B)とからなり、かつその他の重合体(B)が、上記特定構造を有さないポリアミック酸及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種である態様;(V)ポリアミック酸(A)及びポリイミド(A)よりなる群から選択される少なくとも一種と、その他の重合体とからなり、かつその他の重合体が、上記特定構造を有さないポリオルガノシロキサン、ポリアミック酸及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種である態様;(VI)ポリシラン(A)と、ポリアミック酸(A)及びポリイミド(A)よりなる群から選択される少なくとも一種とからなる態様;(VII)ポリシラン(A)とその他の重合体(B)とからなり、かつその他の重合体(B)が、上記特定構造を有さないポリアミック酸及びポリイミドよりなる群から選択される少なくとも一種である態様;などを挙げることができる。なお、各態様におけるポリオルガノシロキサン、ポリシラン、ポリアミック酸及びポリイミドの配合割合は、適用する液晶表示素子の用途等に応じて任意に設定することができる。   As a preferable aspect in the liquid crystal aligning agent of this invention, it is selected from the group which consists of (I) polyorganosiloxane (A) only; (II) polyamic acid (A) and a polyimide (A) as a polymer component. (III) an embodiment consisting of polyorganosiloxane (A) and at least one selected from the group consisting of polyamic acid (A) and polyimide (A); (IV) polyorganosiloxane An embodiment comprising (A) and another polymer (B), and the other polymer (B) is at least one selected from the group consisting of a polyamic acid and a polyimide not having the specific structure; V) at least one selected from the group consisting of polyamic acid (A) and polyimide (A), and another polymer, and A mode in which the other polymer is at least one selected from the group consisting of polyorganosiloxane, polyamic acid and polyimide not having the specific structure; (VI) polysilane (A), polyamic acid (A) and polyimide An embodiment comprising at least one selected from the group consisting of (A); (VII) a polysilane (A) and another polymer (B), and the other polymer (B) having the above specific structure And an embodiment which is at least one selected from the group consisting of polyamic acid and polyimide which are not present. In addition, the compounding ratio of the polyorganosiloxane, polysilane, polyamic acid, and polyimide in each aspect can be arbitrarily set according to the use etc. of the liquid crystal display element to apply.

これらの中でも、機械的強度や電気的特性、液晶との親和性等の点において、ポリアミック酸及びポリイミドの少なくともいずれかを含む態様が好ましく、上記(II)、(IV)、(VI)及び(VII)の態様がより好ましく、上記(IV)及び(VII)の態様が特に好ましい。
上記(IV)の態様におけるポリオルガノシロキサン(A)と、ポリアミック酸及びポリイミド(合計)との使用割合は、ポリオルガノシロキサン(A)、ポリアミック酸及びポリイミドの合計量100重量部に対して、ポリオルガノシロキサン(A)を1〜50重量部含むものであることが好ましく、2〜40重量部含むものであることがより好ましく、3〜30重量部含むものであることが更に好ましい。
上記(VII)の態様におけるポリシラン(A)と、ポリアミック酸及びポリイミド(合計)との使用割合は、ポリシラン(A)、ポリアミック酸及びポリイミドの合計量100重量部に対して、ポリシラン(A)の含有割合が50重量部以下であることが好ましく、0.01〜30重量部であることがより好ましく、1〜10重量部であることが更に好ましい。
Among these, the aspect containing at least one of polyamic acid and polyimide is preferable in terms of mechanical strength, electrical characteristics, affinity with liquid crystal, and the like (II), (IV), (VI) and ( The embodiment of VII) is more preferable, and the above embodiments (IV) and (VII) are particularly preferable.
The proportion of the polyorganosiloxane (A), polyamic acid and polyimide (total) used in the embodiment (IV) is a polyorganosiloxane (A), polyamic acid and polyimide in a total amount of 100 parts by weight. It is preferable to contain 1 to 50 parts by weight of organosiloxane (A), more preferably 2 to 40 parts by weight, and even more preferably 3 to 30 parts by weight.
The use ratio of the polysilane (A), the polyamic acid, and the polyimide (total) in the embodiment (VII) is based on 100 parts by weight of the total amount of the polysilane (A), polyamic acid, and polyimide. The content is preferably 50 parts by weight or less, more preferably 0.01 to 30 parts by weight, and still more preferably 1 to 10 parts by weight.

重合体(A)は、液晶配向剤中の重合体成分の全体に対して、上記特定構造を0.5〜5ミリモル/g含むものであることが好ましく、1〜4ミリモル/g含むものであることがより好ましい。
なお、本発明では、化合物(A)を含む液晶配向剤を用いて液晶配向膜を形成することによって、PSA処理時の光照射の際に、液晶層中に含有される光重合性化合物(光重合性モノマー)の反応を液晶配向膜側からアシストすることができるものと推察される。これにより、少ない光照射量でも十分なプレチルト角を付与できるとともに、光照射による電圧保持率の低下及び応答速度の低下を抑制できるものと推察される。
The polymer (A) preferably contains 0.5 to 5 mmol / g and more preferably contains 1 to 4 mmol / g of the specific structure with respect to the entire polymer component in the liquid crystal aligning agent. preferable.
In the present invention, by forming a liquid crystal alignment film using a liquid crystal aligning agent containing the compound (A), a photopolymerizable compound (light) contained in the liquid crystal layer upon light irradiation during the PSA treatment. It is presumed that the reaction of the polymerizable monomer) can be assisted from the liquid crystal alignment film side. Thereby, it is presumed that a sufficient pretilt angle can be imparted with a small amount of light irradiation, and a decrease in voltage holding ratio and a decrease in response speed due to light irradiation can be suppressed.

<その他の成分>
本発明の液晶配向剤は、必要に応じてその他の成分を含有していてもよい。かかるその他の成分としては、例えば分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物(以下、「エポキシ基含有化合物」という)、官能性シラン化合物等を挙げることができる。
<Other ingredients>
The liquid crystal aligning agent of this invention may contain the other component as needed. Examples of such other components include compounds having at least one epoxy group in the molecule (hereinafter referred to as “epoxy group-containing compound”), functional silane compounds, and the like.

[エポキシ化合物]
エポキシ化合物は、液晶配向膜における基板表面との接着性や電気特性を向上させるために使用することができる。ここで、エポキシ化合物としては、例えばエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、2,2−ジブロモネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−m−キシレンジアミン、1,3−ビス(N,N−ジグリシジルアミノメチル)シクロヘキサン、N,N,N’,N’−テトラグリシジル−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、N,N−ジグリシジル−ベンジルアミン、N,N−ジグリシジル−アミノメチルシクロヘキサン、N,N−ジグリシジル−シクロヘキシルアミン等を好ましいものとして挙げることができる。これらエポキシ化合物を液晶配向剤に添加する場合、その配合割合は、液晶配向剤中に含まれる重合体の合計100重量部に対して、40重量部以下が好ましく、0.1〜30重量部がより好ましい。
[Epoxy compound]
Epoxy compounds can be used to improve the adhesion and electrical properties of the liquid crystal alignment film with the substrate surface. Here, as the epoxy compound, for example, ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, tripropylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, 1,6 -Hexanediol diglycidyl ether, glycerin diglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, 2,2-dibromoneopentyl glycol diglycidyl ether, N, N, N ', N'-tetraglycidyl-m-xylenediamine, 1 , 3-Bis (N, N-diglycidylaminomethyl) cyclohexane, N, N, N ′, N′-tetraglycidyl-4,4′-diaminodipheny Methane, N, N-diglycidyl - benzylamine, N, N-diglycidyl - aminomethyl cyclohexane, N, N-diglycidyl - may be mentioned as being preferred and cyclohexylamine. When these epoxy compounds are added to the liquid crystal aligning agent, the blending ratio is preferably 40 parts by weight or less, and 0.1 to 30 parts by weight with respect to a total of 100 parts by weight of the polymer contained in the liquid crystal aligning agent. More preferred.

[官能性シラン化合物]
官能性シラン化合物は、液晶配向剤の印刷性の向上を目的として使用することができる。このような官能性シラン化合物としては、例えば3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、2−アミノプロピルトリメトキシシラン、2−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリメトキシシラン、3−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、N−エトキシカルボニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−トリエトキシシリルプロピルトリエチレントリアミン、10−トリメトキシシリル−1,4,7−トリアザデカン、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノニルアセテート、9−トリメトキシシリル−3,6−ジアザノナン酸メチル、N−ベンジル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、グリシドキシメチルトリメトキシシラン、2−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等を挙げることができる。
これら官能性シラン化合物を液晶配向剤に添加する場合、その配合比率は、重合体の合計100重量部に対して、2重量部以下が好ましく、0.02〜0.2重量部がより好ましい。
なお、上記その他の成分としては、上記で例示した化合物のほか、分子内に少なくとも一つのオキセタニル基を有する化合物、酸化防止剤などを使用することができる。
[Functional silane compounds]
The functional silane compound can be used for the purpose of improving the printability of the liquid crystal aligning agent. Examples of such functional silane compounds include 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 2-aminopropyltrimethoxysilane, 2-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl). ) -3-Aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, 3-ureidopropyltrimethoxysilane, 3-ureidopropyltriethoxysilane, N-ethoxycarbonyl-3- Aminopropyltrimethoxysilane, N-triethoxysilylpropyltriethylenetriamine, 10-trimethoxysilyl-1,4,7-triazadecane, 9-trimethoxysilyl-3,6-diazanonyl acetate, 9-trimethoxysilyl -3,6- Methyl azananoate, N-benzyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, glycidoxymethyltrimethoxysilane, 2-glycidoxyethyltrimethoxysilane, 3-glycid And xylpropyltrimethoxysilane.
When these functional silane compounds are added to the liquid crystal aligning agent, the blending ratio is preferably 2 parts by weight or less, more preferably 0.02 to 0.2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of the polymer.
As the other components, in addition to the compounds exemplified above, compounds having at least one oxetanyl group in the molecule, antioxidants, and the like can be used.

<溶剤>
本発明の液晶配向剤は、重合体成分や、必要に応じて任意に配合されるその他の成分が、好ましくは有機溶媒中に溶解されて構成される。
ここで、本発明の液晶配向剤の調製に使用される溶剤としては、例えばN−メチル−2−ピロリドン、γ−ブチロラクトン、γ−ブチロラクタム、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン、エチレングリコールモノメチルエーテル、乳酸ブチル、酢酸ブチル、メチルメトキシプロピオネ−ト、エチルエトキシプロピオネ−ト、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコール−n−プロピルエーテル、エチレングリコール−i−プロピルエーテル、エチレングリコール−n−ブチルエーテル(ブチルセロソルブ)、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル(DPM)、ジイソブチルケトン、イソアミルプロピオネート、イソアミルイソブチレート、ジイソペンチルエーテル、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等を挙げることができる。これらは、単独で又は2種以上を混合して使用することができる。
<Solvent>
The liquid crystal aligning agent of the present invention is preferably constituted by dissolving a polymer component and other components optionally blended as necessary, in an organic solvent.
Here, examples of the solvent used for preparing the liquid crystal aligning agent of the present invention include N-methyl-2-pyrrolidone, γ-butyrolactone, γ-butyrolactam, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, 4-hydroxy-4-methyl-2-pentanone, ethylene glycol monomethyl ether, butyl lactate, butyl acetate, methyl methoxypropionate, ethyl ethoxypropionate, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol ethyl ether, ethylene glycol n-propyl ether, ethylene glycol-i-propyl ether, ethylene glycol-n-butyl ether (butyl cellosolve), ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol ethyl ether acetate, diethylene glycol Dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether (DPM), diisobutyl ketone, isoamyl propionate, isoamyl isobutyrate, di Examples include isopentyl ether, ethylene carbonate, and propylene carbonate. These can be used alone or in admixture of two or more.

本発明の液晶配向剤における固形分濃度(液晶配向剤の溶媒以外の成分の合計重量が液晶配向剤の全重量に占める割合)は、粘性、揮発性などを考慮して適宜に選択されるが、好ましくは1〜10重量%の範囲である。すなわち、本発明の液晶配向剤は、後述するように基板表面に塗布され、好ましくは加熱されることにより、液晶配向膜である塗膜又は液晶配向膜となる塗膜が形成される。このとき、固形分濃度が1重量%未満である場合には、この塗膜の膜厚が過小となって良好な液晶配向膜を得にくい。一方、固形分濃度が10重量%を超える場合には、塗膜の膜厚が過大となって良好な液晶配向膜を得にくく、また、液晶配向剤の粘性が増大して塗布特性が劣るものとなる。   The solid content concentration in the liquid crystal aligning agent of the present invention (the ratio of the total weight of components other than the solvent of the liquid crystal aligning agent to the total weight of the liquid crystal aligning agent) is appropriately selected in consideration of viscosity, volatility, and the like. The range is preferably 1 to 10% by weight. That is, the liquid crystal aligning agent of this invention is apply | coated to a substrate surface so that it may mention later, Preferably the coating film which becomes a liquid crystal aligning film or a coating film used as a liquid crystal aligning film is formed by heating. At this time, when the solid content concentration is less than 1% by weight, the film thickness of the coating film is too small to obtain a good liquid crystal alignment film. On the other hand, when the solid content concentration exceeds 10% by weight, it is difficult to obtain a good liquid crystal alignment film due to excessive film thickness, and the viscosity of the liquid crystal aligning agent increases, resulting in poor coating characteristics. It becomes.

特に好ましい固形分濃度の範囲は、基板に液晶配向剤を塗布する方法によって異なる。例えばスピンナー法による場合には、固形分濃度を1.5〜4.5重量%の範囲とすることが特に好ましい。印刷法による場合には、固形分濃度を3〜9重量%の範囲とし、それにより溶液粘度を12〜50mPa・sの範囲とすることが特に好ましい。インクジェット法による場合には、固形分濃度を1〜5重量%の範囲とし、それにより、溶液粘度を3〜15mPa・sの範囲とすることが特に好ましい。本発明の液晶配向剤を調製する際の温度は、好ましくは10〜50℃であり、より好ましくは20〜30℃である。   The particularly preferable solid content concentration range varies depending on the method of applying the liquid crystal aligning agent to the substrate. For example, when the spinner method is used, the solid content concentration is particularly preferably in the range of 1.5 to 4.5% by weight. In the case of the printing method, it is particularly preferable that the solid content concentration is in the range of 3 to 9% by weight, and thereby the solution viscosity is in the range of 12 to 50 mPa · s. In the case of the inkjet method, it is particularly preferable that the solid content concentration is in the range of 1 to 5% by weight, and thereby the solution viscosity is in the range of 3 to 15 mPa · s. The temperature at the time of preparing the liquid crystal aligning agent of this invention becomes like this. Preferably it is 10-50 degreeC, More preferably, it is 20-30 degreeC.

<液晶配向膜及び液晶表示素子>
本発明の液晶配向膜は、上記のように調製された液晶配向剤により形成されたものであり、PSAモード液晶表示素子の液晶配向膜として用いられる。また、本発明のPSAモード液晶表示素子は、当該液晶配向膜を具備するものである。当該液晶表示素子の製造方法は、以下の(i)〜(iii);
(i)本発明の液晶配向剤を、導電膜を有する一対の基板の該導電膜上にそれぞれ塗布し、次いでこれを加熱して塗膜を形成する第1の工程、
(ii)該塗膜を形成した一対の基板を、液晶性化合物を含む液晶層を介して塗膜が相対するように対向配置して液晶セルを構築する第2の工程、
(iii)一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する第3の工程、を含む。以下、これら各工程について詳しく説明する。
<Liquid crystal alignment film and liquid crystal display element>
The liquid crystal alignment film of the present invention is formed of the liquid crystal aligning agent prepared as described above, and is used as a liquid crystal alignment film of a PSA mode liquid crystal display element. The PSA mode liquid crystal display element of the present invention comprises the liquid crystal alignment film. The manufacturing method of the liquid crystal display element includes the following (i) to (iii);
(I) a first step of applying the liquid crystal aligning agent of the present invention to each of the conductive films of a pair of substrates having a conductive film, and then heating this to form a coating film;
(Ii) a second step of constructing a liquid crystal cell by arranging a pair of substrates on which the coating film is formed so that the coating film faces each other with a liquid crystal layer containing a liquid crystal compound therebetween,
(Iii) including a third step of irradiating the liquid crystal cell with light while applying a voltage between the conductive films of the pair of substrates. Hereinafter, each of these steps will be described in detail.

[第1の工程:塗膜の形成]
上記基板としては、例えばフロートガラス、ソーダガラスなどのガラス;ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリ(脂環式オレフィン)などのプラスチックからなる透明基板を用いることができる。上記導電膜としては、透明導電膜を用いることが好ましく、例えば酸化スズ(SnO)からなるNESA膜(米国PPG社登録商標)、酸化インジウム−酸化スズ(In−SnO)からなるITO膜などを用いることができる。この導電膜は、複数の領域に区画されたパターン状導電膜であることが好ましい。このような導電膜とすれば、導電膜間に電圧を印加する際に、各領域で異なる電圧を印加することによって領域ごとに液晶分子のプレチルト角の方向を変えることができ、これにより視野角特性をより広くすることが可能となる。
一対の基板における透明導電膜の形成面上に本発明の液晶配向剤を塗布する方法としては、好ましくはオフセット印刷法、スピンコート法、ロールコーター法又はインクジェット印刷法により行うことができる。液晶配向剤の塗布に際しては、基板表面及び透明導電膜と塗膜との接着性をさらに良好にするために、基板表面のうち塗膜を形成するべき面に、官能性シラン化合物、官能性チタン化合物などを予め塗布する前処理を施しておいてもよい。
[First step: Formation of coating film]
Examples of the substrate include glass such as float glass and soda glass; and a transparent substrate made of plastic such as polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethersulfone, polycarbonate, and poly (alicyclic olefin). As the conductive film, it is preferable to use a transparent conductive film, for example, a NESA film (registered trademark of PPG, USA) made of tin oxide (SnO 2 ) or indium oxide-tin oxide (In 2 O 3 —SnO 2 ). An ITO film or the like can be used. This conductive film is preferably a patterned conductive film partitioned into a plurality of regions. With such a conductive film, when a voltage is applied between the conductive films, the direction of the pretilt angle of the liquid crystal molecules can be changed for each region by applying a different voltage in each region. The characteristics can be made wider.
As a method of applying the liquid crystal aligning agent of the present invention on the formation surface of the transparent conductive film on the pair of substrates, it can be preferably performed by an offset printing method, a spin coating method, a roll coater method or an ink jet printing method. When applying the liquid crystal aligning agent, in order to further improve the adhesion between the substrate surface and the transparent conductive film and the coating film, a functional silane compound or functional titanium is formed on the surface of the substrate surface on which the coating film is to be formed. You may give the pretreatment which apply | coats a compound etc. previously.

液晶配向剤を基板に塗布した後、塗布した液晶配向剤の液垂れ防止などの目的で、好ましくは予備加熱(プレベーク)が実施される。プレベーク温度は、好ましくは30〜200℃であり、より好ましくは40〜150℃であり、特に好ましくは40〜100℃である。プレベーク時間は、好ましくは0.25〜10分であり、より好ましくは0.5〜5分である。その後、溶剤を完全に除去し、必要に応じて重合体に存在するアミック酸構造を熱イミド化することを目的として焼成(ポストベーク)工程が実施される。ポストベーク温度は、好ましくは80〜300℃であり、より好ましくは120〜250℃である。ポストベーク時間は、好ましくは5〜200分であり、より好ましくは10〜100分である。このようにして、形成される膜の膜厚は、好ましくは0.001〜1μmであり、より好ましくは0.005〜0.5μmである。   After applying the liquid crystal aligning agent to the substrate, preheating (pre-baking) is preferably performed for the purpose of preventing dripping of the applied liquid crystal aligning agent. The pre-baking temperature is preferably 30 to 200 ° C, more preferably 40 to 150 ° C, and particularly preferably 40 to 100 ° C. The pre-bake time is preferably 0.25 to 10 minutes, and more preferably 0.5 to 5 minutes. Then, a baking (post-baking) process is implemented for the purpose of removing a solvent completely and heat imidating the amic acid structure which exists in a polymer as needed. The post-bake temperature is preferably 80 to 300 ° C, more preferably 120 to 250 ° C. The post-bake time is preferably 5 to 200 minutes, more preferably 10 to 100 minutes. Thus, the film thickness of the formed film is preferably 0.001 to 1 μm, more preferably 0.005 to 0.5 μm.

液晶配向剤を塗布した後の加熱によって有機溶媒を除去することにより、配向膜となる塗膜が形成される。このとき、本発明の液晶配向剤に含有される重合体が、ポリアミック酸であるか、ポリアミック酸エステルであるか、又はイミド環構造とアミック酸構造とを有するイミド化重合体である場合には、塗膜形成後に更に加熱することによって脱水閉環反応を進行させ、よりイミド化された塗膜としてもよい。
このようにして形成された塗膜は、これをそのまま以下の第2の工程に供してもよく、必要に応じて塗膜面に対するラビング処理を行った後に第2の工程に供してもよい。このラビング処理は、塗膜面に対して、例えばナイロン、レーヨン、コットンなどの繊維からなる布を巻き付けたロールで一定方向に擦ることにより行うことができる。
By removing the organic solvent by heating after applying the liquid crystal aligning agent, a coating film to be an alignment film is formed. At this time, when the polymer contained in the liquid crystal aligning agent of the present invention is a polyamic acid, a polyamic acid ester, or an imidized polymer having an imide ring structure and an amic acid structure Further, after the coating film is formed, the film may be further heated to cause the dehydration ring-closing reaction to proceed so that the coating film is more imidized.
The coating film formed in this manner may be used as it is for the following second step, or may be used for the second step after rubbing the coating surface as necessary. The rubbing treatment can be performed by rubbing the coating film surface in a certain direction with a roll wound with a cloth made of fibers such as nylon, rayon, and cotton.

[第2の工程:液晶セルの構築]
上記のようにして液晶配向膜が形成された基板を2枚準備し、対向配置した2枚の基板間に、液晶性化合物及び光重合性化合物を含む液晶層を配置することにより液晶セルを製造する。液晶セルを製造するには、例えば以下の2つの方法が挙げられる。第一の方法は、従来から知られている方法(真空注入方式)である。先ず、それぞれの液晶配向膜が対向するように間隙(セルギャップ)を介して2枚の基板を対向配置し、2枚の基板の周辺部をシール剤を用いて貼り合わせ、基板表面及びシール剤により区画されたセルギャップ内に液晶性化合物及び光重合性化合物を注入して充填した後、注入孔を封止することにより、液晶セルを製造する。第二の方法は、ODF(One Drop Fill)方式と呼ばれる手法である。液晶配向膜を形成した2枚の基板のうちの一方の基板上の所定の場所に、例えば紫外光硬化性のシール剤を塗布し、さらに液晶配向膜面上の所定の数箇所に、液晶性化合物と光重合性化合物との混合物を滴下した後、液晶配向膜が対向するように他方の基板を貼り合わせるとともに、液晶性化合物を基板の全面に押し広げ、次いで基板の全面に紫外光を照射してシール剤を硬化することにより、液晶セルを製造する。
いずれの方法による場合でも、上記のようにして製造した液晶セルにつき、さらに、用いた液晶性化合物が等方相をとる温度まで加熱した後、室温まで徐冷することにより、液晶充填時の流動配向を除去してもよい。
[Second step: Construction of liquid crystal cell]
A liquid crystal cell is manufactured by preparing two substrates on which a liquid crystal alignment film is formed as described above, and disposing a liquid crystal layer containing a liquid crystal compound and a photopolymerizable compound between the two substrates arranged opposite to each other. To do. In order to manufacture a liquid crystal cell, the following two methods are mentioned, for example. The first method is a conventionally known method (vacuum injection method). First, two substrates are arranged opposite to each other through a gap (cell gap) so that the respective liquid crystal alignment films are opposed to each other, and the peripheral portions of the two substrates are bonded together using a sealant, and the substrate surface and the sealant are bonded. After injecting and filling the liquid crystalline compound and the photopolymerizable compound into the cell gap partitioned by the above, a liquid crystal cell is manufactured by sealing the injection hole. The second method is a method called an ODF (One Drop Fill) method. For example, an ultraviolet light curable sealant is applied to a predetermined location on one of the two substrates on which the liquid crystal alignment film is formed, and liquid crystal properties are applied to predetermined locations on the liquid crystal alignment film surface. After dropping the mixture of the compound and photopolymerizable compound, the other substrate is bonded so that the liquid crystal alignment film faces, and the liquid crystal compound is spread over the entire surface of the substrate, and then the entire surface of the substrate is irradiated with ultraviolet light. Then, the liquid crystal cell is manufactured by curing the sealant.
Regardless of which method is used, the liquid crystal cell produced as described above is further heated to a temperature at which the used liquid crystalline compound takes an isotropic phase, and then gradually cooled to room temperature, whereby the flow during liquid crystal filling is The orientation may be removed.

シール剤としては、例えば硬化剤及びスペーサーとしての酸化アルミニウム球を含有するエポキシ樹脂などを用いることができる。
液晶性化合物としては、負の誘電異方性を有するネマチック液晶を好ましく用いることができ、例えばジシアノベンゼン系液晶、ピリダジン系液晶、シッフベース系液晶、アゾキシ系液晶、ビフェニル系液晶、フェニルシクロヘキサン系液晶、ターフェニル系液晶などを用いることができる。また、液晶性化合物としては、PSAモード液晶表示素子の応答速度をより速くできる点において、アルケニル基及びフルオロアルケニル基のうちいずれかを1つ有する単官能性の液晶性化合物であるアルケニル系液晶を併用することが好ましい。このようなアルケニル系液晶としては、従来公知のものを使用することができ、例えば下記式(L1−1)〜式(L1−9)のそれぞれで表される化合物などを挙げることができる。
As the sealing agent, for example, an epoxy resin containing a curing agent and aluminum oxide spheres as a spacer can be used.
As the liquid crystalline compound, nematic liquid crystal having negative dielectric anisotropy can be preferably used. For example, dicyanobenzene liquid crystal, pyridazine liquid crystal, Schiff base liquid crystal, azoxy liquid crystal, biphenyl liquid crystal, phenyl cyclohexane liquid crystal, A terphenyl liquid crystal or the like can be used. In addition, as the liquid crystal compound, an alkenyl liquid crystal that is a monofunctional liquid crystal compound having one of an alkenyl group and a fluoroalkenyl group is used in that the response speed of the PSA mode liquid crystal display element can be further increased. It is preferable to use together. As such alkenyl type liquid crystal, conventionally known ones can be used, and examples thereof include compounds represented by the following formulas (L1-1) to (L1-9).

光重合性化合物としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基などといったラジカル重合が可能な官能基を有する化合物を用いることができる。反応性の観点からすると、中でもアクリロイル基及びメタクリロイル基の少なくともいずれかを2つ以上有する多官能性の化合物を用いることが好ましい。また、液晶分子の配向性を安定に維持する観点から、光重合性化合物としては、液晶骨格として、シクロヘキサン環及びベンゼン環のうちの少なくともいずれか一種の環を合計2つ以上有する化合物を用いることが好ましい。なお、このような光重合性化合物としては、従来公知のものを使用することができる。光重合性化合物の配合割合は、使用する液晶性化合物の全体量に対して0.1〜0.5重量%とすることが好ましい。液晶層の厚さは、1〜5μmとすることが好ましい。   As the photopolymerizable compound, a compound having a functional group capable of radical polymerization such as an acryloyl group, a methacryloyl group, and a vinyl group can be used. From the viewpoint of reactivity, it is preferable to use a polyfunctional compound having at least two of acryloyl group and methacryloyl group. Further, from the viewpoint of stably maintaining the orientation of the liquid crystal molecules, the photopolymerizable compound is a compound having a total of two or more of at least one of a cyclohexane ring and a benzene ring as the liquid crystal skeleton. Is preferred. In addition, a conventionally well-known thing can be used as such a photopolymerizable compound. The blending ratio of the photopolymerizable compound is preferably 0.1 to 0.5% by weight with respect to the total amount of the liquid crystal compound to be used. The thickness of the liquid crystal layer is preferably 1 to 5 μm.

[第3の工程:光照射工程]
液晶セルの構築後、一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で液晶セルに光照射する。ここで印加する電圧は、例えば5〜50Vの直流又は交流とすることができる。また、照射する光としては、例えば150〜800nmの波長の光を含む紫外線及び可視光線を用いることができるが、300〜400nmの波長の光を含む紫外線が好ましい。照射光の光源としては、例えば低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、重水素ランプ、メタルハライドランプ、アルゴン共鳴ランプ、キセノンランプ、エキシマレーザーなどを使用することができる。なお、上記の好ましい波長領域の紫外線は、光源を、例えばフィルター回折格子などと併用する手段などにより得ることができる。光の照射量としては、好ましくは1,000J/m以上200,000J/m未満であり、より好ましくは1,000〜100,000J/mである。
なお、従来知られているPSAモード液晶表示素子の製造に際しては、100,000J/m程度の光を照射することが必要であったが、本発明の方法によれば、光照射量を50,000J/m以下、さらに10,000J/m以下とした場合であっても所望の液晶表示素子を得ることができる。したがって、液晶表示素子の製造コストの削減に資するほか、強い光の照射に起因する電圧保持率の低下、液晶の応答速度の低下を回避することができる。
[Third step: light irradiation step]
After the construction of the liquid crystal cell, the liquid crystal cell is irradiated with light while a voltage is applied between the conductive films of the pair of substrates. The voltage applied here can be, for example, 5 to 50 V direct current or alternating current. Moreover, as light to irradiate, the ultraviolet-ray and visible light which contain light with a wavelength of 150-800 nm can be used, for example, However, The ultraviolet-ray containing light with a wavelength of 300-400 nm is preferable. As a light source of irradiation light, for example, a low pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a deuterium lamp, a metal halide lamp, an argon resonance lamp, a xenon lamp, an excimer laser, or the like can be used. In addition, the ultraviolet rays in the above preferable wavelength region can be obtained by means of using a light source in combination with, for example, a filter diffraction grating. The irradiation dose of light, preferably less than 1,000 J / m 2 or more 200,000 J / m 2, more preferably from 1,000~100,000J / m 2.
In the production of a conventionally known PSA mode liquid crystal display element, it was necessary to irradiate light of about 100,000 J / m 2. However, according to the method of the present invention, the amount of light irradiation is 50. , 000J / m 2 or less, it is possible even when further was 10,000 J / m 2 or less to obtain a desired liquid crystal display device. Therefore, in addition to reducing the manufacturing cost of the liquid crystal display element, it is possible to avoid a decrease in voltage holding ratio and a decrease in liquid crystal response speed due to intense light irradiation.

そして、光照射後の液晶セルの外側表面に偏光板を貼り合わせることにより、PSAモード液晶表示素子を得ることができる。ここで使用する偏光板としては、ポリビニルアルコールを延伸配向させながらヨウ素を吸収させた「H膜」と称される偏光膜を酢酸セルロース保護膜で挟んだ偏光板又はH膜そのものからなる偏光板を挙げることができる。   And a PSA mode liquid crystal display element can be obtained by bonding a polarizing plate to the outer surface of the liquid crystal cell after light irradiation. As a polarizing plate used here, a polarizing plate composed of a polarizing film called an “H film” in which polyvinyl alcohol is stretched and oriented while absorbing iodine and sandwiched between cellulose acetate protective films or a polarizing film made of the H film itself. Can be mentioned.

本発明のPSAモード液晶表示素子は、種々の装置に有効に適用することができ、例えば、時計、携帯型ゲーム、ワープロ、ノート型パソコン、カーナビゲーションシステム、カムコーダー、PDA、デジタルカメラ、携帯電話、スマートフォン、各種モニター、液晶テレビ、インフォメーションディスプレイなどの各種表示装置に用いることができる。   The PSA mode liquid crystal display element of the present invention can be effectively applied to various devices, such as watches, portable games, word processors, notebook computers, car navigation systems, camcorders, PDAs, digital cameras, mobile phones, It can be used for various display devices such as smartphones, various monitors, liquid crystal televisions, and information displays.

以下、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に制限されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

各合成例における各重合体の重量平均分子量、エポキシ当量、各重合体溶液の溶液粘度、及びポリイミドのイミド化率は、以下の方法により測定した。
[重合体の重量平均分子量]
重合体の重量平均分子量Mwは、以下の条件におけるゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定したポリスチレン換算値である。
カラム:東ソー(株)製、TSKgelGRCXLII
溶剤:テトラヒドロフラン
温度:40℃
圧力:68kgf/cm
[エポキシ当量]
エポキシ当量は、JIS C2105の「塩酸−メチルエチルケトン法」に準じて測定した値である。
[重合体溶液の溶液粘度]
重合体溶液の溶液粘度[mPa・s]は、所定の溶媒を用い、重合体濃度10重量%に調製した溶液について、E型回転粘度計を用いて25℃で測定した。
[ポリイミドのイミド化率]
ポリイミドの溶液を純水に投入し、得られた沈殿を室温で十分に減圧乾燥した後、重水素化ジメチルスルホキシドに溶解し、テトラメチルシランを基準物質として室温でH−NMRを測定した。得られたH−NMRスペクトルから、下記数式(1)で示される式によりイミド化率[%]を求めた。
イミド化率[%]=(1−A/A×α)×100 …(1)
(数式(1)中、Aは化学シフト10ppm付近に現れるNH基のプロトン由来のピーク面積であり、Aはその他のプロトン由来のピーク面積であり、αは重合体の前駆体(ポリアミック酸)におけるNH基のプロトン1個に対するその他のプロトンの個数割合である。)
The weight average molecular weight of each polymer, the epoxy equivalent, the solution viscosity of each polymer solution, and the imidization ratio of polyimide in each synthesis example were measured by the following methods.
[Weight average molecular weight of polymer]
The weight average molecular weight Mw of the polymer is a polystyrene equivalent value measured by gel permeation chromatography under the following conditions.
Column: Tosoh Co., Ltd., TSKgelGRCXLII
Solvent: Tetrahydrofuran Temperature: 40 ° C
Pressure: 68 kgf / cm 2
[Epoxy equivalent]
The epoxy equivalent is a value measured according to the “hydrochloric acid-methyl ethyl ketone method” of JIS C2105.
[Solution viscosity of polymer solution]
The solution viscosity [mPa · s] of the polymer solution was measured at 25 ° C. using an E-type rotational viscometer for a solution prepared to a polymer concentration of 10% by weight using a predetermined solvent.
[Imidation rate of polyimide]
The polyimide solution was poured into pure water, and the resulting precipitate was sufficiently dried under reduced pressure at room temperature, then dissolved in deuterated dimethyl sulfoxide, and 1 H-NMR was measured at room temperature using tetramethylsilane as a reference substance. From the obtained 1 H-NMR spectrum, the imidation ratio [%] was determined by the formula represented by the following formula (1).
Imidation ratio [%] = (1-A 1 / A 2 × α) × 100 (1)
(In Formula (1), A 1 is a peak area derived from protons of NH groups appearing near a chemical shift of 10 ppm, A 2 is a peak area derived from other protons, and α is a precursor of a polymer (polyamic acid). The number ratio of other protons to one proton of NH group in)

<重合体の合成>
[合成例P1:ポリイミド(A)の合成(側鎖導入型)]
テトラカルボン酸二無水物として2,3,5−トリカルボキシシクロペンチル酢酸二無水物(TCA)112g(0.50モル)、並びにジアミンとしてコレスタニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン49g(0.10モル)、9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン52g(0.15モル)、1−(4−アミノフェニル)2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−6−アミン67g(0.25モル)をN−メチル−2−ピロリドン(NMP)750gに溶解し、60℃で6時間反応を行い、ポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、NMPを加えてポリアミック酸濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は900mPa・sであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にNMP63gを追加し、N−メチルピペリジン3.8g及び無水酢酸10.6gを添加して80℃で8時間脱水閉環反応を行った。次いで、反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。回収した沈殿物をメタノールで洗浄した後、減圧下40℃において15時間乾燥することにより、重合体(A)として、イミド化率約50%のポリイミド(P−1)を得た。得られたポリイミド(P−1)をNMPにて10重量%となるように調整した。この溶液の粘度を測定したところ330mPa・sであった。
<Synthesis of polymer>
[Synthesis Example P1: Synthesis of polyimide (A) (side chain introduction type)]
112 g (0.50 mol) of 2,3,5-tricarboxycyclopentylacetic acid dianhydride (TCA) as tetracarboxylic dianhydride and 49 g (0.10 mol) of cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene as diamine ), 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene 52 g (0.15 mol), 1- (4-aminophenyl) 2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-indene-6 67 g (0.25 mol) of amine was dissolved in 750 g of N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) and reacted at 60 ° C. for 6 hours to obtain a solution containing polyamic acid. A small amount of the obtained polyamic acid solution was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by weight was 900 mPa · s.
Next, 63 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 3.8 g of N-methylpiperidine and 10.6 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure reaction was performed at 80 ° C. for 8 hours. The reaction mixture was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The recovered precipitate was washed with methanol and then dried at 40 ° C. under reduced pressure for 15 hours to obtain a polyimide (P-1) having an imidization ratio of about 50% as a polymer (A). The obtained polyimide (P-1) was adjusted to 10 wt% with NMP. The viscosity of this solution was measured and found to be 330 mPa · s.

[合成例P2:ポリイミド(A)の合成(主鎖導入型)]
9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレンに代えて4,4’−ジアミノベンゾフェノン32g(0.15モル)を使用した以外は合成例P1と同様の操作を行い、ポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、NMPを加えてポリアミック酸濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は1,050mPa・sであった。また、得られたポリアミック酸溶液を用いて合成例P1と同様の操作を行うことにより、重合体(A)として、イミド化率約50%のポリイミド(P−2)を得た。得られたポリイミド(P−2)をNMPにて10重量%となるように調製した。この溶液の粘度を測定したところ420mPa・sであった。
[Synthesis Example P2: Synthesis of Polyimide (A) (Main Chain Introduction Type)]
A solution containing polyamic acid in the same manner as in Synthesis Example P1 except that 32 g (0.15 mol) of 4,4′-diaminobenzophenone was used instead of 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene Got. A small amount of the obtained polyamic acid solution was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by weight was 1,050 mPa · s. Moreover, the polyimide (P-2) with an imidation ratio of about 50% was obtained as a polymer (A) by performing operation similar to the synthesis example P1 using the obtained polyamic acid solution. The obtained polyimide (P-2) was prepared so as to be 10% by weight with NMP. It was 420 mPa * s when the viscosity of this solution was measured.

[合成例P3:重合体(B)の合成(ポリイミドの合成)]
9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレンに代えて3,5−ジアミノ安息香酸23g(0.15モル)を使用した以外は合成例P1と同様の操作を行い、ポリアミック酸を含有する溶液を得た。得られたポリアミック酸溶液を少量分取し、NMPを加えてポリアミック酸濃度10重量%の溶液として測定した溶液粘度は2,400mPa・sであった。
次いで、得られたポリアミック酸溶液にNMP330gを追加し、N−メチルピペリジン25g及び無水酢酸25.5gを添加して80℃で8時間脱水閉環反応を行った。次いで、反応混合物を大過剰のメタノール中に注ぎ、反応生成物を沈澱させた。回収した沈殿物をメタノールで洗浄した後、減圧下40℃において15時間乾燥することにより、重合体(B)として、イミド化率約50%のポリイミド(P−3)を得た。得られたポリイミド(P−3)をNMPにて10重量%となるように調製した。この溶液の粘度を測定したところ340mPa・sであった。
[Synthesis Example P3: Synthesis of Polymer (B) (Synthesis of Polyimide)]
A solution containing polyamic acid in the same manner as in Synthesis Example P1, except that 23 g (0.15 mol) of 3,5-diaminobenzoic acid was used instead of 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene Got. A small amount of the obtained polyamic acid solution was collected, NMP was added, and the solution viscosity measured as a solution having a polyamic acid concentration of 10% by weight was 2,400 mPa · s.
Next, 330 g of NMP was added to the obtained polyamic acid solution, 25 g of N-methylpiperidine and 25.5 g of acetic anhydride were added, and dehydration ring closure reaction was performed at 80 ° C. for 8 hours. The reaction mixture was then poured into a large excess of methanol to precipitate the reaction product. The recovered precipitate was washed with methanol and then dried at 40 ° C. under reduced pressure for 15 hours to obtain a polyimide (P-3) having an imidization ratio of about 50% as a polymer (B). The obtained polyimide (P-3) was prepared so as to be 10% by weight with NMP. The viscosity of this solution was measured and found to be 340 mPa · s.

[合成例S1:ポリオルガノシロキサン(A)の合成]
撹拌機、温度計、滴下漏斗及び還流冷却管を備えた反応容器に、加水分解性シラン化合物として2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン(ECETS)246g、溶媒としてメチルイソブチルケトン500g、及び触媒としてトリエチルアミン10.0gを仕込み、室温で混合した。次いで、脱イオン水100gを滴下漏斗より30分かけて滴下した後、撹拌しつつ、還流下、80℃にて6時間反応を行った。反応終了後、有機層を取り出し、0.2重量%硝酸アンモニウム水溶液により洗浄後の水が中性になるまで洗浄した後、減圧下で溶媒及び水を留去することにより、エポキシ基を有する加水分解縮合物(PECETS)を粘調な透明液体として得た。この加水分解縮合物について、H−NMR分析を行ったところ、化学シフト(δ)=3.2ppm付近にエポキシ基に帰属するピークが理論強度どおりに得られ、反応中にエポキシ基の副反応が起こっていないことが確認された。
[Synthesis Example S1: Synthesis of polyorganosiloxane (A)]
In a reaction vessel equipped with a stirrer, thermometer, dropping funnel and reflux condenser, 246 g of 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane (ECETS) as a hydrolyzable silane compound and 500 g of methyl isobutyl ketone as a solvent. , And 10.0 g of triethylamine as a catalyst were mixed at room temperature. Next, 100 g of deionized water was dropped from the dropping funnel over 30 minutes, and then the reaction was performed at 80 ° C. for 6 hours under reflux with stirring. After completion of the reaction, the organic layer is taken out, washed with 0.2 wt% ammonium nitrate aqueous solution until the water after washing becomes neutral, and then the solvent and water are distilled off under reduced pressure to hydrolyze having an epoxy group. A condensate (PECETS) was obtained as a viscous transparent liquid. This hydrolyzed condensate was subjected to 1 H-NMR analysis. As a result, a peak attributed to the epoxy group was obtained in the vicinity of the chemical shift (δ) = 3.2 ppm according to the theoretical intensity. Was confirmed not to happen.

次いで、200mLの三口フラスコに、上記で得たエポキシ基を有する加水分解縮合物(PECETS)、溶媒としてメチルイソブチルケトン30.0g、カルボン酸として4−オクチロキシ安息香酸25.0g(原料として用いた加水分解性シラン化合物に対して20モル%に相当する。)及び11−((4’−ニトロ−[1,1’−ビフェニル]−4−イル)オキシ)ウンデカン酸19.9g(原料として用いた加水分解性シラン化合物に対して10モル%に相当する。)、並びに触媒としてテトラブチルアンモニウムブロミド(TBAB、エポキシ化合物の硬化促進剤である。)0.10gを仕込み、100℃で2時間撹拌下に反応を行った。反応終了後、反応混合物に酢酸エチルを加えて得た有機層を5回水洗し、硫酸マグネシウムを用いて乾燥した後、溶剤を留去することにより、重合体(A)であるポリオルガノシロキサン(S−1)を251.2g得た。このポリオルガノシロキサン(S−1)につき、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により測定したポリスチレン換算の重量平均分子量Mwは7,200であった。   Next, in a 200 mL three-necked flask, the hydrolysis condensate (PECETS) having the epoxy group obtained above, 30.0 g of methyl isobutyl ketone as a solvent, and 25.0 g of 4-octyloxybenzoic acid as a carboxylic acid (the water used as a raw material) 19.9 g (used as a raw material) corresponding to 20 mol% with respect to the decomposable silane compound.) And 11-((4′-nitro- [1,1′-biphenyl] -4-yl) oxy) undecanoic acid 0.10 g of tetrabutylammonium bromide (TBAB, an epoxy compound curing accelerator) was added as a catalyst, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 2 hours. The reaction was performed. After completion of the reaction, the organic layer obtained by adding ethyl acetate to the reaction mixture was washed with water 5 times, dried using magnesium sulfate, and then the solvent was distilled off to obtain a polyorganosiloxane (A) polymer (A). 251.2 g of S-1) was obtained. About this polyorganosiloxane (S-1), the weight average molecular weight Mw in terms of polystyrene measured by gel permeation chromatography (GPC) was 7,200.

[合成例S2:ポリオルガノシロキサン(A)の合成]
使用するカルボン酸を、11−(4−(4−ペンチルシクロヘキシル)フェノキシ)ウンデカン酸(原料として用いた加水分解性シラン化合物に対して20モル%に相当する。)及び4−フェニル安息香酸(原料として用いた加水分解性シラン化合物に対して10モル%に相当する。)に変更した以外は合成例S1と同様の操作を行うことにより、重合体(A)であるポリオルガノシロキサン(S−2)を得た。このポリオルガノシロキサン(S−2)につきGPCにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量Mwは7,500であった。
[Synthesis Example S2: Synthesis of Polyorganosiloxane (A)]
The carboxylic acids used were 11- (4- (4-pentylcyclohexyl) phenoxy) undecanoic acid (corresponding to 20 mol% with respect to the hydrolyzable silane compound used as the raw material) and 4-phenylbenzoic acid (raw material). The polyorganosiloxane (S-2) which is the polymer (A) is obtained by performing the same operation as in Synthesis Example S1 except that the amount is changed to 10 mol% with respect to the hydrolyzable silane compound used as ) The weight average molecular weight Mw in terms of polystyrene measured by GPC for this polyorganosiloxane (S-2) was 7,500.

重合体の合成に用いた化合物の配合量(モル比)を下記表1に示す。なお、ポリイミドについては、合成に使用したテトラカルボン酸二無水物及びジアミンの合計のモル数に対する各化合物の比率を示す。ポリオルガノシロキサンについては、エポキシ基含有ポリオルガノシロキサンの合成に使用した加水分解性シラン化合物の合計に対する各化合物の使用割合(モル比)を示す。   The compounding amounts (molar ratio) of the compounds used for polymer synthesis are shown in Table 1 below. In addition, about a polyimide, the ratio of each compound with respect to the total mole number of the tetracarboxylic dianhydride and diamine which were used for the synthesis | combination is shown. About polyorganosiloxane, the usage-ratio (molar ratio) of each compound with respect to the sum total of the hydrolysable silane compound used for the synthesis | combination of an epoxy-group-containing polyorganosiloxane is shown.

上記表1における各化合物の略称はそれぞれ以下の意味である。
(ジアミン)
d−1;9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン
d−2;4,4’−ジアミノベンゾフェノン
d−3;コレスタニルオキシ−2,4−ジアミノベンゼン
d−4;1−(4−アミノフェニル)−2,3−ジヒドロ−1,3,3−トリメチル−1H−インデン−6−アミン
d−5;3,5−ジアミノ安息香酸
(カルボン酸)
CA−1;4−オクチロキシ安息香酸
CA−2;11−((4’−ニトロ−[1,1’−ビフェニル]−4−イル)オキシ)ウンデカン酸
CA−3;11−(4−(4−ペンチルシクロヘキシル)フェノキシ)ウンデカン酸
CA−4;4−フェニル安息香酸
Abbreviations of each compound in Table 1 have the following meanings.
(Diamine)
d-1; 9,9-bis (4-aminophenyl) fluorene d-2; 4,4′-diaminobenzophenone d-3; cholestanyloxy-2,4-diaminobenzene d-4; 1- (4- Aminophenyl) -2,3-dihydro-1,3,3-trimethyl-1H-indene-6-amine d-5; 3,5-diaminobenzoic acid (carboxylic acid)
CA-1; 4-octyloxybenzoic acid CA-2; 11-((4′-nitro- [1,1′-biphenyl] -4-yl) oxy) undecanoic acid CA-3; 11- (4- (4 -Pentylcyclohexyl) phenoxy) undecanoic acid CA-4; 4-phenylbenzoic acid

<液晶組成物の調製>
[液晶組成物LC1の調製]
ネマチック液晶(メルク社製、MLC−6608)10gに対し、上記式(L1−1)で表される液晶性化合物を5重量%、及び下記式(L2−1)で表される光重合性化合物を0.3重量%、を添加して混合することにより液晶組成物LC1を得た。
<Preparation of liquid crystal composition>
[Preparation of Liquid Crystal Composition LC1]
5% by weight of a liquid crystalline compound represented by the above formula (L1-1) and a photopolymerizable compound represented by the following formula (L2-1) with respect to 10 g of nematic liquid crystal (MLC-6608, manufactured by Merck & Co., Inc.) Was added and mixed to obtain a liquid crystal composition LC1.

[実施例1]
<液晶配向剤の調製>
化合物(A)として上記合成例P1で得たポリイミド(P−1)を含有する溶液に、有機溶媒としてNMP及びブチルセロソルブ(BC)を加え、溶媒組成がNMP:BC=50:50(重量比)、固形分濃度6.0重量%の溶液とした。この溶液を孔径1μmのフィルターを用いてろ過することにより液晶配向剤を調製した。
[Example 1]
<Preparation of liquid crystal aligning agent>
NMP and butyl cellosolve (BC) are added as organic solvents to a solution containing the polyimide (P-1) obtained in Synthesis Example P1 as the compound (A), and the solvent composition is NMP: BC = 50: 50 (weight ratio). A solution having a solid content concentration of 6.0% by weight was obtained. A liquid crystal aligning agent was prepared by filtering this solution using a filter having a pore size of 1 μm.

<印刷性の評価>
上記で調製した液晶配向剤の印刷性を評価した。まず、上記の液晶配向剤につき、オフセット型の液晶配向膜印刷機(日本写真印刷(株)製)を用いて、ITO膜からなる透明電極付きガラス基板の透明電極面に塗布し、80℃のホットプレート上で1分間加熱(プレベーク)して溶媒を除去した後、200℃のホットプレート上で10分間加熱(ポストベーク)して、蝕針式膜厚計(KLAテンコール社製)で測定した平均膜厚が600Åである塗膜を形成した。この塗膜を倍率20倍の顕微鏡で観察して印刷ムラ及びピンホールの有無を調べた。評価は、印刷ムラ及びピンホールが観察されなかった場合を印刷性「良好」、印刷ムラ及びピンホールの少なくともいずれかが観察された場合を印刷性「不良」として行った。その結果、上記で調整した液晶配向剤を用いて形成した塗膜には印刷ムラ及びピンホールとも観察されず、印刷性が「良好」であった。
<膜厚均一性の評価>
上記で形成した塗膜につき、蝕針式膜厚計(KLAテンコール社製)を用いて、基板の中央部における膜厚と、基板の外側端から15mm中央に寄った位置における膜厚とをそれぞれ測定した。両者の膜厚差が20Å以下であった場合を膜厚均一性「良好」、膜厚差20Åを超えた場合を膜厚均一性「不良」として評価した。その結果、上記液晶配向剤を用いて形成した塗膜では、中央部と端部との膜厚差が小さく、膜厚均一性が「良好」であった。
<Evaluation of printability>
The printability of the liquid crystal aligning agent prepared above was evaluated. First, about said liquid crystal aligning agent, it apply | coated to the transparent electrode surface of the glass substrate with a transparent electrode which consists of an ITO film | membrane using an offset type liquid crystal aligning film printer (Nissha Printing Co., Ltd.), and 80 degreeC After removing the solvent by heating (pre-baking) for 1 minute on a hot plate, heating (post-baking) for 10 minutes on a 200 ° C. hot plate and measuring with a stylus-type film thickness meter (manufactured by KLA Tencor). A coating film having an average film thickness of 600 mm was formed. This coating film was observed with a microscope having a magnification of 20 times to check for the presence of printing unevenness and pinholes. In the evaluation, when the printing unevenness and the pinhole were not observed, the printing property was “good”, and when at least one of the printing unevenness and the pinhole was observed, the printing property was “bad”. As a result, neither the printing unevenness nor the pinhole was observed in the coating film formed using the liquid crystal aligning agent adjusted as described above, and the printability was “good”.
<Evaluation of film thickness uniformity>
About the coating film formed above, using a stylus type film thickness meter (manufactured by KLA Tencor), the film thickness at the center of the substrate and the film thickness at the position 15 mm closer to the center from the outer edge of the substrate, respectively. It was measured. The case where the film thickness difference between the two was 20 mm or less was evaluated as film thickness uniformity “good”, and the case where the film thickness difference exceeded 20 mm was evaluated as film thickness uniformity “bad”. As a result, in the coating film formed using the liquid crystal aligning agent, the difference in film thickness between the central part and the end part was small, and the film thickness uniformity was “good”.

<液晶セルの製造及び評価>
上記で調製した液晶配向剤を用いて、透明電極のパターン(2種類)及び紫外線照射量(3水準)を変更して、計6個の液晶表示素子を製造した。また、それら製造した液晶セルについて各種評価を行った。
[パターンなし透明電極を有する液晶セルの製造]
上記液晶配向剤を、液晶配向膜印刷機(日本写真印刷(株)製)を用いてITO膜からなる透明電極を有するガラス基板の透明電極面上に塗布し、80℃のホットプレート上で1分間加熱(プレベーク)して溶媒を除去した後、150℃のホットプレート上で10分間加熱(ポストベーク)して、平均膜厚600Åの塗膜を形成した。この塗膜に対し、レーヨン布を巻き付けたロールを有するラビングマシーンにより、ロール回転数400rpm、ステージ移動速度3cm/秒、毛足押しこみ長さ0.1mmでラビング処理を行った。その後、超純水中で1分間超音波洗浄を行い、次いで100℃クリーンオーブン中で10分間乾燥することにより、液晶配向膜を有する基板を得た。この操作を繰り返し、液晶配向膜を有する基板を一対(2枚)得た。なお上記ラビング処理は、液晶の倒れ込みを制御し、配向分割を簡易な方法で行う目的で行った弱いラビング処理である。
<Manufacture and evaluation of liquid crystal cells>
Using the liquid crystal aligning agent prepared above, the pattern of the transparent electrode (2 types) and the amount of ultraviolet irradiation (3 levels) were changed to produce a total of 6 liquid crystal display elements. Moreover, various evaluation was performed about those manufactured liquid crystal cells.
[Production of liquid crystal cell having transparent electrode without pattern]
The liquid crystal aligning agent is applied onto a transparent electrode surface of a glass substrate having a transparent electrode made of an ITO film using a liquid crystal alignment film printer (Nissha Printing Co., Ltd.), and 1 on an 80 ° C. hot plate. After removing the solvent by heating (pre-baking) for 10 minutes, heating (post-baking) on a hot plate at 150 ° C. for 10 minutes to form a coating film having an average film thickness of 600 mm. The coating film was rubbed with a rubbing machine having a roll wrapped with a rayon cloth at a roll rotation speed of 400 rpm, a stage moving speed of 3 cm / sec, and a hair foot indentation length of 0.1 mm. Then, ultrasonic cleaning was performed in ultrapure water for 1 minute, and then drying was performed in a 100 ° C. clean oven for 10 minutes to obtain a substrate having a liquid crystal alignment film. This operation was repeated to obtain a pair (two) of substrates having a liquid crystal alignment film. The rubbing process is a weak rubbing process performed for the purpose of controlling the tilting of the liquid crystal and performing alignment division by a simple method.

次に、上記一対の基板のうちの1枚につき、液晶配向膜を有する面の外縁に直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤を塗布した後、一対の基板を液晶配向膜面が相対するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化させた。次いで、液晶注入口より一対の基板間に、上記で調製した液晶組成物LC1を充填した後、アクリル系光硬化接着剤で液晶注入口を封止することにより、液晶セルを製造した。
上記の操作を繰り返し行い、パターンなし透明電極を有する液晶セルを3個製造した。そのうちの1個はそのまま後述のプレチルト角の評価に供した。残りの2個の液晶セルについては、それぞれ電極間に周波数60Hzの交流10Vを印加し、液晶が駆動している状態で、光源にメタルハライドランプを使用した紫外線照射装置を用いて、10,000J/m又は100,000J/mの照射量にて紫外線を照射し、その後、プレチルト角及び電圧保持率の評価に供した。なお、この照射量は、波長365nm基準で計測される光量計を用いて計測した値である。
Next, after applying an epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 5.5 μm to the outer edge of the surface having the liquid crystal alignment film for one of the pair of substrates, the liquid crystal alignment film surface is placed on the pair of substrates. The adhesives were cured by overlapping and pressing so as to face each other. Next, the liquid crystal composition LC1 prepared above was filled between the pair of substrates from the liquid crystal inlet, and then the liquid crystal inlet was sealed with an acrylic photo-curing adhesive to produce a liquid crystal cell.
The above operation was repeated to produce three liquid crystal cells having unpatterned transparent electrodes. One of them was used for the evaluation of the pretilt angle described later. For the remaining two liquid crystal cells, an alternating current of 10 Hz was applied between the electrodes, and the liquid crystal was driven, and an ultraviolet irradiation device using a metal halide lamp as the light source was used, and 10,000 J / Ultraviolet rays were irradiated at an irradiation amount of m 2 or 100,000 J / m 2 , and then subjected to evaluation of a pretilt angle and a voltage holding ratio. In addition, this irradiation amount is the value measured using the light meter measured on the basis of wavelength 365nm.

[プレチルト角の評価]
上記で製造した液晶セルを用いて、文献「T. J. Scheffer et. al. J. Appl. Phys. vo. 19, p. 2013(1980)」に記載の方法に準拠してHe−Neレーザー光を用いる結晶回転法により測定した液晶分子の基板面からの傾き角の値をプレチルト角とした。光未照射の液晶セル、照射量10,000J/mの液晶セル、及び照射量100,000J/mの液晶セルのそれぞれのプレチルト角を下記表2に示す。
[電圧保持率の評価]
上記で製造した各液晶セルに対し、23℃において5Vの電圧を60マイクロ秒の印加時間、167ミリ秒のスパンで印加した後、印加解除から167ミリ秒後の電圧保持率を測定した。測定装置としては(株)東陽テクニカ製、VHR−1を使用した。
照射量10,000J/mの液晶セル及び照射量100,000J/mの液晶セルのそれぞれの電圧保持率を下記表2に示す。
[Evaluation of pretilt angle]
Using the liquid crystal cell produced above, He—Ne laser light is used in accordance with the method described in the document “TJ Scheffer et. Al. J. Appl. Phys. Vo. 19, p. 2013 (1980)”. The value of the tilt angle of the liquid crystal molecules from the substrate surface measured by the crystal rotation method was defined as the pretilt angle. The liquid crystal cell of not irradiated with light, showing the liquid crystal cells of the dose 10,000 J / m 2, and each of the pretilt angle of the liquid crystal cells of the dose 100,000J / m 2 in Table 2 below.
[Evaluation of voltage holding ratio]
For each of the liquid crystal cells produced above, a voltage of 5 V was applied at 23 ° C. with an application time of 60 microseconds and a span of 167 milliseconds, and then the voltage holding ratio after 167 milliseconds from the application release was measured. As a measuring device, VHR-1 manufactured by Toyo Corporation was used.
The respective voltage holding ratio of the liquid crystal cell and the liquid crystal cells of the dose 100,000J / m 2 of dose 10,000 J / m 2 are shown in Table 2 below.

[パターニングされた透明電極を有する液晶セルの製造]
上記で調製した液晶配向剤を、図1に示したようなスリット状にパターニングされ、複数の領域に区画されたITO電極をそれぞれ有するガラス基板2枚の各電極面上に液晶配向膜印刷機(日本写真印刷(株)製)を用いて塗布し、80℃のホットプレート上で1分間加熱(プレベーク)して溶媒を除去した。次いで、150℃のホットプレート上で10分間加熱(ポストベーク)して、平均膜厚600Åの塗膜を形成した。この塗膜につき、超純水中で1分間超音波洗浄を行った後、100℃クリーンオーブン中で10分間乾燥することにより、液晶配向膜を有する基板を得た。この操作を繰り返し、液晶配向膜を有する基板を一対(2枚)得た。
次いで、上記一対の基板のうちの1枚の基板につき、液晶配向膜を有する面の外縁に直径5.5μmの酸化アルミニウム球入りエポキシ樹脂接着剤を塗布した後、一対の基板を液晶配向膜面が相対するように重ね合わせて圧着し、接着剤を硬化した。次いで、液晶注入口より一対の基板間に、上記で調製した液晶組成物LC1を充填した後、アクリル系光硬化接着剤で液晶注入口を封止することにより、液晶セルを製造した。
上記の操作を繰り返し行い、パターニングされた透明電極を有する液晶セルを3個製造した。そのうちの1個はそのまま後述の応答速度の評価に供した。残りの2個の液晶セルについては、上記パターンなし透明電極を有する液晶セルの製造におけるのと同様の方法により、導電膜間に電圧を印加した状態で10,000J/m又は100,000J/mの照射量にて光照射した後に応答速度の評価に供した。なお、ここで用いた電極のパターンは、PSAモードにおける電極パターンと同種のパターンである。
[Manufacture of Liquid Crystal Cell Having Patterned Transparent Electrode]
The liquid crystal aligning agent prepared above is patterned into a slit shape as shown in FIG. 1, and a liquid crystal alignment film printing machine (on each electrode surface of two glass substrates each having ITO electrodes partitioned into a plurality of regions ( The solvent was removed by heating (pre-baking) for 1 minute on a hot plate at 80 ° C. Subsequently, it was heated (post-baked) on a hot plate at 150 ° C. for 10 minutes to form a coating film having an average film thickness of 600 mm. The coating film was subjected to ultrasonic cleaning for 1 minute in ultrapure water and then dried in a clean oven at 100 ° C. for 10 minutes to obtain a substrate having a liquid crystal alignment film. This operation was repeated to obtain a pair (two) of substrates having a liquid crystal alignment film.
Next, an epoxy resin adhesive containing aluminum oxide spheres having a diameter of 5.5 μm is applied to the outer edge of the surface having the liquid crystal alignment film for one of the pair of substrates. The adhesives were cured by overlapping and pressing them so that they face each other. Next, the liquid crystal composition LC1 prepared above was filled between the pair of substrates from the liquid crystal inlet, and then the liquid crystal inlet was sealed with an acrylic photo-curing adhesive to produce a liquid crystal cell.
The above operation was repeated to produce three liquid crystal cells having patterned transparent electrodes. One of them was used for evaluation of response speed as described later. For the remaining two liquid crystal cells, 10,000 J / m 2 or 100,000 J / m in a state where a voltage is applied between the conductive films by the same method as in the production of the liquid crystal cell having the transparent electrode without pattern. After irradiating with light at an irradiation amount of m 2 , the response speed was evaluated. The electrode pattern used here is the same type as the electrode pattern in the PSA mode.

[応答速度の評価]
上記で製造した各液晶セルをクロスニコル状態に配置した2枚の偏光板で挟持したうえで、先ず電圧を印加せずに可視光ランプを照射して液晶セルを透過した光の輝度をフォトマルチメーターにて測定し、この値を相対透過率0%とした。次に、液晶セルの電極間に交流10Vを5秒間印加したときの透過率を上記と同様にして測定し、この値を相対透過率100%とした。各液晶セルに対して交流10Vを印加したときに、相対透過率が10%から90%に移行するまでの時間を測定し、この時間を応答速度と定義して評価した。光未照射の液晶セル、照射量10,000J/mの液晶セル及び照射量100,000J/mの液晶セルのそれぞれの応答速度を上記表2に示す。
[Evaluation of response speed]
Each liquid crystal cell manufactured above is sandwiched between two polarizing plates arranged in a crossed Nicol state, and then the luminance of the light transmitted through the liquid crystal cell by irradiating a visible light lamp without applying a voltage is photomultiplied. Measured with a meter, this value was taken as 0% relative transmittance. Next, the transmittance when AC 10 V was applied between the electrodes of the liquid crystal cell for 5 seconds was measured in the same manner as described above, and this value was defined as a relative transmittance of 100%. When 10 V AC was applied to each liquid crystal cell, the time until the relative transmittance shifted from 10% to 90% was measured, and this time was defined as the response speed and evaluated. The liquid crystal cell of not irradiated with light, each of the response speed of the liquid crystal cell and the liquid crystal cells of the dose 100,000J / m 2 of dose 10,000 J / m 2 shown in Table 2.

[実施例2]
化合物(A)として上記合成例P2で得たポリイミド(P−2)を用いた点以外は実施例1と同様の操作を行うことにより液晶配向剤を調製した。また、この液晶配向剤を用いて実施例1と同様にして各種評価を行った。評価結果を上記表2に示す。
[Example 2]
The liquid crystal aligning agent was prepared by performing operation similar to Example 1 except the point which used the polyimide (P-2) obtained by the said synthesis example P2 as a compound (A). Various evaluations were performed in the same manner as in Example 1 using this liquid crystal aligning agent. The evaluation results are shown in Table 2 above.

[実施例3]
上記合成例P3で得たポリイミド(P−3)を含有する溶液に、有機溶媒としてNMP及びBCを加え、更に化合物(A)としてベンゾフェノンを、ポリイミド(P−3)80重量部に対して5重量部(ポリイミド(P−3)100重量部に対して6.25重量部)加えて、溶媒組成がNMP:BC=50:50(重量比)、固形分濃度6.0重量%の溶液とした。この溶液を孔径1μmのフィルターを用いてろ過することにより、液晶配向剤を調製した。また、この液晶配向剤を用いて、実施例1と同様にして各種評価を行った。評価結果を上記表2に示す。
[実施例4]
上記合成例P3で得たポリイミド(P−3)を含有する溶液に、有機溶媒としてNMP及びBCを加え、更に化合物(A)として上記合成例S1で得たポリオルガノシロキサン(S−1)を、ポリイミド(P−3)95重量部に対して5重量部加えて、溶媒組成がNMP:BC=50:50(重量比)、固形分濃度6.0重量%の溶液とした。この溶液を孔径1μmのフィルターを用いてろ過することにより液晶配向剤を調製した。また、この液晶配向剤を用いて、実施例1と同様にして各種評価を行った。評価結果を上記表2に示す。
[実施例5]
上記実施例4において、ポリオルガノシロキサン(S−1)に代えてポリオルガノシロキサン(S−2)を使用した以外は実施例4と同様の操作を行うことにより液晶配向剤を調製した。また、この液晶配向剤を用いて、実施例1と同様にして各種評価を行った。評価結果を上記表2に示す。
[Example 3]
NMP and BC are added as an organic solvent to the solution containing the polyimide (P-3) obtained in Synthesis Example P3, and benzophenone is further added as a compound (A) to 80 parts by weight of polyimide (P-3). In addition to parts by weight (6.25 parts by weight with respect to 100 parts by weight of polyimide (P-3)), a solution having a solvent composition of NMP: BC = 50: 50 (weight ratio) and a solid content concentration of 6.0% by weight did. A liquid crystal aligning agent was prepared by filtering this solution using a filter having a pore size of 1 μm. Moreover, various evaluations were performed in the same manner as in Example 1 using this liquid crystal aligning agent. The evaluation results are shown in Table 2 above.
[Example 4]
NMP and BC are added as organic solvents to the solution containing the polyimide (P-3) obtained in Synthesis Example P3, and the polyorganosiloxane (S-1) obtained in Synthesis Example S1 is further added as a compound (A). In addition, 5 parts by weight with respect to 95 parts by weight of polyimide (P-3) was added to form a solution having a solvent composition of NMP: BC = 50: 50 (weight ratio) and a solid content concentration of 6.0% by weight. A liquid crystal aligning agent was prepared by filtering this solution using a filter having a pore size of 1 μm. Moreover, various evaluations were performed in the same manner as in Example 1 using this liquid crystal aligning agent. The evaluation results are shown in Table 2 above.
[Example 5]
In the said Example 4, it replaced with polyorganosiloxane (S-1) and the liquid crystal aligning agent was prepared by performing operation similar to Example 4 except having used polyorganosiloxane (S-2). Moreover, various evaluations were performed in the same manner as in Example 1 using this liquid crystal aligning agent. The evaluation results are shown in Table 2 above.

[実施例6]
上記実施例4において、ポリオルガノシロキサン(S−1)に代えてポリメチルフェニルシラン(PMPS)(大阪ガスケミカル(株)製、オグソールSI−10−20)を使用した以外は実施例4と同様の操作を行うことにより液晶配向剤を調製した。また、この液晶配向剤を用いて、実施例1と同様にして各種評価を行った。評価結果を下記表3に示す。
[Example 6]
In Example 4 above, polymethylphenylsilane (PMPS) (Ogsol SI-10-20, manufactured by Osaka Gas Chemical Co., Ltd.) was used instead of polyorganosiloxane (S-1), and was the same as Example 4. The liquid crystal aligning agent was prepared by performing operation of these. Moreover, various evaluations were performed in the same manner as in Example 1 using this liquid crystal aligning agent. The evaluation results are shown in Table 3 below.

[比較例1]
上記実施例1において、ポリイミド(P−1)を含有する溶液の代わりに上記合成例P3で得たポリイミド(P−3)を含有する溶液を用いたほかは実施例1と同様の操作を行うことにより液晶配向剤を調製した。また、この液晶配向剤を用いて、実施例1と同様にして各種評価を行った。評価結果を上記表2に示す。
[Comparative Example 1]
In Example 1, the same operation as in Example 1 was performed except that the solution containing polyimide (P-3) obtained in Synthesis Example P3 was used instead of the solution containing polyimide (P-1). Thus, a liquid crystal aligning agent was prepared. Moreover, various evaluations were performed in the same manner as in Example 1 using this liquid crystal aligning agent. The evaluation results are shown in Table 2 above.

上記表に示すように、実施例1〜6では、液晶セルに対する紫外線照射後において高い電圧保持率を維持しており、応答速度も良好であった。また、実施例1〜6では、10,000J/mの光照射量で適正なプレチルト角を示した。さらに、少ない光照射量でも十分に速い応答速度が得られており、電圧保持率も良好であった。特に、液晶としてアルケニル系液晶を用いた場合、紫外線照射による電圧保持率の低下が大きくなる傾向にあるが、実施例1〜6では、紫外線照射後においても高い電圧保持率を示した。また、液晶配向剤の印刷性及び膜均一性も良好であった。これらの結果から、本発明の液晶配向剤によれば、PSAモードのメリットを少ない光照射量で発現できると言える。これに対し、比較例1では、10,000J/mの光照射量では適正なプレチルト角を示さなかった。また、紫外線照射による電圧保持率の低下が顕著に現れた。 As shown in the said table, in Examples 1-6, the high voltage holding rate was maintained after the ultraviolet irradiation with respect to a liquid crystal cell, and the response speed was also favorable. In Examples 1 to 6, an appropriate pretilt angle was exhibited at a light irradiation amount of 10,000 J / m 2 . Furthermore, a sufficiently fast response speed was obtained even with a small amount of light irradiation, and the voltage holding ratio was also good. In particular, when an alkenyl-based liquid crystal is used as the liquid crystal, the decrease in voltage holding ratio due to ultraviolet irradiation tends to be large, but Examples 1 to 6 showed a high voltage holding ratio even after ultraviolet irradiation. Moreover, the printability and film uniformity of the liquid crystal aligning agent were also good. From these results, it can be said that according to the liquid crystal aligning agent of the present invention, the merit of the PSA mode can be expressed with a small amount of light irradiation. In contrast, Comparative Example 1 did not show an appropriate pretilt angle at a light irradiation amount of 10,000 J / m 2 . In addition, the decrease in voltage holding ratio due to ultraviolet irradiation appeared remarkably.

実施例1〜6で使用した液晶配向剤の各々について、ガラス基板上のITO電極のパターンを図2及び図3の電極パターンにそれぞれ変更したほかは上記実施例1と同様にして液晶セルを製造するとともに各種評価を行った。この場合にも、実施例1〜6とそれぞれ同様の効果を示した。   For each of the liquid crystal aligning agents used in Examples 1 to 6, a liquid crystal cell was produced in the same manner as in Example 1 except that the ITO electrode pattern on the glass substrate was changed to the electrode pattern shown in FIGS. In addition, various evaluations were performed. Also in this case, the same effects as in Examples 1 to 6 were obtained.

1…ITO電極、2…スリット部、3…遮光膜   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... ITO electrode, 2 ... Slit part, 3 ... Light-shielding film

Claims (11)

光照射によりラジカルを発生するラジカル発生機能及び光照射により増感作用を示す光増感機能の少なくともいずれかの機能を発現可能な構造(a)を有する化合物(A)を含有し、
前記化合物(A)として、前記構造(a)を主鎖に有する重合体、ポリオルガノシロキサン、及び分子量1,000以下の低分子化合物よりなる群から選ばれる少なくとも一種を含む、PSAモード液晶表示素子用液晶配向剤。
Containing a compound (A) having a structure (a) capable of expressing at least one of a radical generating function for generating radicals upon light irradiation and a photosensitizing function showing a sensitizing action by light irradiation ;
A PSA mode liquid crystal display device comprising , as the compound (A), at least one selected from the group consisting of a polymer having the structure (a) in the main chain, a polyorganosiloxane, and a low molecular weight compound having a molecular weight of 1,000 or less. Liquid crystal aligning agent.
前記化合物(A)が、前記構造(a)を主鎖に有する重合体である、請求項に記載のPSAモード液晶表示素子用液晶配向剤。 The compound (A), the structure (a) is a polymer having a main chain, PSA mode liquid crystal aligning agent for liquid crystal display device according to claim 1. 前記構造(a)を主鎖に有する重合体が、ポリシラン骨格を有する重合体である、請求項1又は2に記載のPSAモード液晶表示素子用液晶配向剤。 The liquid crystal aligning agent for PSA mode liquid crystal display elements of Claim 1 or 2 whose polymer which has the said structure (a) in a principal chain is a polymer which has a polysilane skeleton . 前記化合物(A)が、前記構造(a)として、少なくとも前記光増感機能を発現可能な構造を有する、請求項1〜3のいずれか一項に記載のPSAモード液晶表示素子用液晶配向剤。 The liquid crystal aligning agent for PSA mode liquid crystal display elements as described in any one of Claims 1-3 with which the said compound (A) has a structure which can express the said photosensitization function at least as said structure (a). . アルケニル基及びフルオロアルケニル基のいずれかを1つ有する単官能性の液晶性化合物を液晶層に含む液晶表示素子の製造用である、請求項1〜のいずれか一項に記載のPSAモード液晶表示素子用液晶配向剤。 The PSA mode liquid crystal according to any one of claims 1 to 4 , wherein the PSA mode liquid crystal is used for producing a liquid crystal display element containing a monofunctional liquid crystalline compound having one of an alkenyl group and a fluoroalkenyl group in a liquid crystal layer. Liquid crystal aligning agent for display elements. アルケニル基及びフルオロアルケニル基のいずれかを1つ有する単官能性の液晶性化合物を液晶層に含む液晶表示素子の製造用であって、光照射によりラジカルを発生するラジカル発生機能及び光照射により増感作用を示す光増感機能の少なくともいずれかの機能を発現可能な構造(a)を有する化合物(A)を含有する、PSAモード液晶表示素子用液晶配向剤。 A liquid crystal display device comprising a monofunctional liquid crystalline compound having one of an alkenyl group and a fluoroalkenyl group in a liquid crystal layer, wherein the radical generating function for generating radicals by light irradiation and the increase by light irradiation. The liquid crystal aligning agent for PSA mode liquid crystal display elements containing the compound (A) which has the structure (a) which can express the function of at least any one of the photosensitization function which shows a sensitivity effect. 請求項1〜のいずれか一項に記載の液晶配向剤を、導電膜を有する一対の基板の該導電膜上にそれぞれ塗布し、次いでこれを加熱して塗膜を形成する第1の工程と、
前記塗膜を形成した一対の基板を、液晶性化合物を含む液晶層を介して前記塗膜が相対するように対向配置して液晶セルを構築する第2の工程と、
前記一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する第3の工程と、
を含む液晶表示素子の製造方法。
The 1st process of apply | coating the liquid crystal aligning agent as described in any one of Claims 1-5 on this electrically conductive film of a pair of board | substrate which has an electrically conductive film, respectively, and then heating this, and forming a coating film. When,
A second step of constructing a liquid crystal cell by arranging the pair of substrates on which the coating film is formed so as to face each other with the coating film facing each other through a liquid crystal layer containing a liquid crystalline compound;
A third step of irradiating the liquid crystal cell with light while applying a voltage between the conductive films of the pair of substrates;
A method for producing a liquid crystal display element comprising:
前記液晶層に、前記液晶性化合物として、アルケニル基及びフルオロアルケニル基のいずれかを1つ有する単官能性の液晶性化合物を含有させる、請求項に記載の液晶表示素子の製造方法。 The method for producing a liquid crystal display element according to claim 7 , wherein the liquid crystal layer contains a monofunctional liquid crystal compound having one of an alkenyl group and a fluoroalkenyl group as the liquid crystal compound. 請求項に記載の液晶配向剤を、導電膜を有する一対の基板の該導電膜上にそれぞれ塗布し、次いでこれを加熱して塗膜を形成する第1の工程と、
前記塗膜を形成した一対の基板を、アルケニル基及びフルオロアルケニル基のいずれかを1つ有する単官能性の液晶性化合物を少なくとも含む液晶層を介して前記塗膜が相対するように対向配置して液晶セルを構築する第2の工程と、
前記一対の基板の有する導電膜間に電圧を印加した状態で前記液晶セルに光照射する第3の工程と、
を含む、液晶表示素子の製造方法。
A first step of applying the liquid crystal aligning agent according to claim 6 on each of the conductive films of a pair of substrates having a conductive film, and then heating the same to form a coating film;
A pair of substrates on which the coating film is formed are disposed so as to face each other with a liquid crystal layer containing at least a monofunctional liquid crystalline compound having one of an alkenyl group and a fluoroalkenyl group interposed therebetween. A second step of constructing a liquid crystal cell;
A third step of irradiating the liquid crystal cell with light while applying a voltage between the conductive films of the pair of substrates;
The manufacturing method of a liquid crystal display element containing this.
請求項1〜のいずれか一項に記載の液晶配向剤を用いて形成されたPSAモード液晶表示素子用液晶配向膜。 The liquid crystal aligning film for PSA mode liquid crystal display elements formed using the liquid crystal aligning agent as described in any one of Claims 1-5 . 請求項10に記載の液晶配向膜を有するPSAモード液晶表示素子。 The PSA mode liquid crystal display element which has a liquid crystal aligning film of Claim 10 .
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