JP5620192B2 - Ozone gas sterilizer - Google Patents

Ozone gas sterilizer Download PDF

Info

Publication number
JP5620192B2
JP5620192B2 JP2010183303A JP2010183303A JP5620192B2 JP 5620192 B2 JP5620192 B2 JP 5620192B2 JP 2010183303 A JP2010183303 A JP 2010183303A JP 2010183303 A JP2010183303 A JP 2010183303A JP 5620192 B2 JP5620192 B2 JP 5620192B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sterilization chamber
sterilization
ozone
negative pressure
ozone gas
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010183303A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2012040143A (en
Inventor
八寿雄 中村
八寿雄 中村
幸広 釜瀬
幸広 釜瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
IHI Shibaura Machinery Corp
Original Assignee
IHI Shibaura Machinery Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by IHI Shibaura Machinery Corp filed Critical IHI Shibaura Machinery Corp
Priority to JP2010183303A priority Critical patent/JP5620192B2/en
Publication of JP2012040143A publication Critical patent/JP2012040143A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5620192B2 publication Critical patent/JP5620192B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • AHUMAN NECESSITIES
    • A61MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61LMETHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
    • A61L2/00Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor
    • A61L2/16Methods or apparatus for disinfecting or sterilising materials or objects other than foodstuffs or contact lenses; Accessories therefor using chemical substances
    • A61L2/20Gaseous substances, e.g. vapours

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)

Description

本発明は、オゾンガスを滅菌対象物に浸透させて滅菌するようにしたオゾンガス滅菌装置に関する。   The present invention relates to an ozone gas sterilization apparatus in which ozone gas is sterilized by penetrating an object to be sterilized.

医療、介護、製薬等の機関では、手術用具、白衣、マスク、寝具類、実験器具、精密機械等、様々な対象物について滅菌処理が必要である。滅菌処理としては、高温加熱滅菌処理が従来から広く普及している。ところが、耐熱性に乏しい滅菌対象物には高温加熱滅菌処理をすることができない。そこで、高温加熱滅菌処理をすることができない滅菌対象物を滅菌する方法として、従来、エチレンオキサイドを用いた低温滅菌の方法が知られている。   In medical, nursing, pharmaceutical and other institutions, various objects such as surgical tools, lab coats, masks, bedding, laboratory instruments, precision machines, etc. need to be sterilized. As a sterilization process, a high-temperature heat sterilization process has been widely used. However, high temperature heat sterilization cannot be performed on an object to be sterilized with poor heat resistance. Therefore, a low temperature sterilization method using ethylene oxide is conventionally known as a method for sterilizing an object to be sterilized that cannot be subjected to high temperature heat sterilization.

これに対して、上記エチレンオキサイドには急性毒性、慢性毒性のほか、発がん性もあるので、安全性の面で問題がある。しかも、残留ガスの脱気に長時間を要するために処理に10時間以上もの時間がかかるという弱点も有し、効率性の面でも問題を抱えている。そこで、この出願の発明者は、かねてより、安全性が高く、しかも効率良く滅菌処理をすることができる低温滅菌の手法として、オゾンガスを用いた滅菌の実現に向けて研究開発を重ねている(非特許文献1参照)。オゾンガスを用いた滅菌の方法は、安全性が高く、しかも効率よく滅菌を行なうことができるという利点を有している。   On the other hand, the ethylene oxide has a problem in terms of safety because it has carcinogenicity in addition to acute toxicity and chronic toxicity. In addition, since it takes a long time to degas the residual gas, it has a weak point that it takes 10 hours or more for the treatment, and there is a problem in terms of efficiency. Therefore, the inventor of this application has been researching and developing for the realization of sterilization using ozone gas as a low-temperature sterilization technique that can be sterilized with high safety and efficiency. Non-patent document 1). The method of sterilization using ozone gas has the advantage of high safety and efficient sterilization.

このようなオゾンガスを用いた滅菌については、従来から広く研究開発が進められている。とりわけ、特許文献1および2に記載されている陰圧下でのオゾンガス滅菌は、上記例示の白衣、マスク、寝具類等のようなガスが浸透しにくい滅菌対象物に対しても、高い滅菌効果を示す。   For such sterilization using ozone gas, research and development have been extensively conducted. In particular, the ozone gas sterilization under negative pressure described in Patent Documents 1 and 2 has a high sterilization effect even on sterilized objects that are difficult for gas to penetrate, such as the white coats, masks, and beddings illustrated above. Show.

特開平05−115540号公報JP 05-115540 A 特開2007−506484公報JP 2007-506484 A

オゾン殺菌装置の開発,石川島播磨技報 Vol.43 No.4(2003-7), 釜瀬 幸広 他4名Development of ozone sterilizer, Ishikawajima Harima Technical Report Vol.43 No.4 (2003-7), Yukihiro Kamase and 4 others

発明が解決しようとする課題の一つは、滅菌対象物に適合したオゾン滅菌方法の選択性の問題である。つまり、上記例示の滅菌対象物でいうと、白衣、マスク、寝具などの繊維類、並びに、手術用具、実験器具等の真空にしても損傷するおそれが無い物品は、繊維内部や器具の隙間の奥まで効率的にオゾンガスを浸透させるために、陰圧下でのオゾンガス滅菌が適している。その反面、内部に密閉した空洞を持つ精密機械、例えはパソコン等のような滅菌対象物は、陰圧にすると損傷するおそれがあるので、常圧下でのオゾンガス滅菌が適する。   One of the problems to be solved by the invention is a problem of selectivity of an ozone sterilization method suitable for an object to be sterilized. In other words, in the sterilization target exemplified above, fibers such as lab coats, masks, bedding, etc., and articles that are not likely to be damaged by vacuum such as surgical instruments, laboratory instruments, etc. Ozone gas sterilization under negative pressure is suitable for efficiently infiltrating ozone gas to the back. On the other hand, sterilized objects such as precision machines with sealed cavities inside, such as personal computers, may be damaged when subjected to negative pressure, so ozone gas sterilization under normal pressure is suitable.

このようなことから、この出願の発明者は、陰圧滅菌処理と常圧滅菌処理とを適宜択一的に選択できるオゾンガス滅菌装置の研究開発に着手した。ところが、この際に問題となるのが、陰圧滅菌処理の実行時と常圧滅菌処理の実行時とで、滅菌処理中に求められる環境条件に変動をきたしてしまうということである。つまり、オゾンガスを用いた滅菌処理に際しては、オゾンが効率よく反応する環境条件を整えてやらなければならない。例えば、特許文献1および2には、相対湿度90%以上という条件が例示されている。このような相対湿度の高さが滅菌効果を高めることについては、この出願の発明者も、非特許文献1で報告済みである。また、特許文献2は、良好な結果が得られるオゾン濃度について、1〜5mg/l(相対湿度90%)という値を開示している。さらに、特許文献3は、理想的な温度条件および真空圧力条件についても言及している。このように、オゾンガスを用いた滅菌処理に際しては、オゾンが効率よく反応する環境条件を整えてやることが極めて重要である。   For these reasons, the inventors of this application have started research and development of an ozone gas sterilization apparatus that can selectively select negative pressure sterilization treatment and normal pressure sterilization treatment. However, the problem at this time is that the environmental conditions required during the sterilization process vary depending on whether the negative pressure sterilization process or the atmospheric sterilization process is performed. In other words, in the sterilization process using ozone gas, it is necessary to prepare environmental conditions for ozone to react efficiently. For example, Patent Documents 1 and 2 exemplify a condition that the relative humidity is 90% or more. The inventor of this application has also reported in Non-Patent Document 1 that such a high relative humidity enhances the sterilization effect. Moreover, patent document 2 is disclosing the value of 1-5 mg / l (relative humidity 90%) about the ozone concentration from which a favorable result is obtained. Furthermore, patent document 3 mentions ideal temperature conditions and vacuum pressure conditions. As described above, in sterilization using ozone gas, it is extremely important to prepare environmental conditions in which ozone reacts efficiently.

これに対して、オゾンが効率よく反応する環境条件は、常圧滅菌処理に際しては比較的容易に維持されるのに対して、陰圧滅菌処理に際しては容易に変動してしまう。このため、オゾンガス滅菌装置の製品化に際しては、オゾンが効率よく反応できるように環境条件を制御するための仕組み作りが重要となる。   On the other hand, the environmental conditions at which ozone reacts efficiently are relatively easily maintained during the normal pressure sterilization process, but easily change during the negative pressure sterilization process. For this reason, when commercializing an ozone gas sterilizer, it is important to create a mechanism for controlling environmental conditions so that ozone can react efficiently.

本発明は、このような点に鑑みなされたもので、オゾンが効率よく反応できる環境条件を整えることができるようにすることを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and an object thereof to be able to create an environment condition that ozone can efficiently react.

本発明は、滅菌対象物を気密に収納する滅菌室を内部に形成する滅菌庫と、前記滅菌室内にオゾンガスを導入するオゾンガス導入部と、を備えるオゾンガス滅菌装置である。 The present invention is an ozone sterilization apparatus comprising a sterilizer that forms a sterilization chamber for containing the sterilized object hermetically therein, the ozone gas introducing portion for introducing the ozone gas into the sterilization chamber, the.

本発明は、上記オゾンガス滅菌装置において、前記滅菌室内に配置した加湿槽と、前記オゾンガス導入部が有するオゾンガスの導入位置を、前記加湿槽に溜めた水の外部に定める乾燥ガス供給と内部に定める湿潤ガス供給とに択一的に切り替える切替機構と、前記切替機構によって前記湿潤ガス供給に切り替えると共に、前記加湿槽に溜めた水を加熱制御して室温よりも水温を所定温度だけ高くすることで、前記滅菌室内の相対湿度を上昇させる昇湿機構と、前記滅菌室内の相対湿度を計測する湿度計と、前記湿度計によって計測される前記滅菌室内の相対湿度が所定湿度範囲となるように前記乾燥ガス供給と前記湿潤ガス供給とを切り替え制御する湿度調節手段と、を備えることによって、上記オゾンが効率よく反応できる環境条件に整えられるようにするという課題を解決するようにした。 The present invention, in the above SL ozone sterilization apparatus wherein a humidifying tank disposed in the sterilization chamber, the introduction position of the ozone gas the ozone gas introducing part has, inside the dry gas supply is provided for in the outside of the reservoir water to the humidifying vessel A switching mechanism that selectively switches to a predetermined wet gas supply, and the switching mechanism switches to the wet gas supply, and the water stored in the humidification tank is controlled by heating to make the water temperature higher than the room temperature by a predetermined temperature. A humidity increasing mechanism for increasing the relative humidity in the sterilization chamber, a hygrometer for measuring the relative humidity in the sterilization chamber, and the relative humidity in the sterilization chamber measured by the hygrometer within a predetermined humidity range. the drying gas supply and said wet gas supply and humidity control means for controlling switching of, by the providing the, trimmed to environmental conditions in which the ozone can efficiently react The problem of to be and to resolve.

本発明によれば、オゾンが効率よく反応できる環境条件が整えられて効果的な滅菌処理を行なうことができる。 According to the present invention, it is possible to ozone is furnished environmental conditions that can effectively react for effective sterilization.

実施の一形態であるオゾンガス滅菌装置の外観を示す正面図。The front view which shows the external appearance of the ozone gas sterilizer which is one Embodiment. 実施の一形態であるオゾンガス滅菌装置の各部を示す模式図。The schematic diagram which shows each part of the ozone gas sterilizer which is one Embodiment. 滅菌室内の温度と加湿槽内の水温との温度差と、滅菌室内の湿度との関係を示すグラフ。The graph which shows the relationship between the temperature difference of the temperature in a sterilization chamber, and the water temperature in a humidification tank, and the humidity in a sterilization chamber. 実施の一形態であるオゾンガス滅菌装置の電気的接続を示すブロック図。The block diagram which shows the electrical connection of the ozone gas sterilizer which is one Embodiment. 実施の一形態であるオゾンガス滅菌装置の制御回路が実行する処理の流れを示すフローチャート。The flowchart which shows the flow of the process which the control circuit of the ozone gas sterilizer which is one Embodiment performs. 陰圧滅菌処理に際しての滅菌室内の圧力とオゾン濃度との関係を経時的に示すタイミングチャート。The timing chart which shows the relationship between the pressure in a sterilization chamber at the time of a negative pressure sterilization process, and ozone concentration with time. 常圧滅菌処理に際しての滅菌室内の圧力とオゾン濃度との関係を経時的に示すタイミングチャート。The timing chart which shows the relationship between the pressure in a sterilization chamber, and ozone concentration in the time of normal-pressure sterilization processing with time.

実施の一形態を図面に基づいて説明する。   An embodiment will be described with reference to the drawings.

図1は、オゾンガス滅菌装置11の外観を示す正面図である。オゾンガス滅菌装置11は、ハウジング21の上部に滅菌対象物(図示せず)を収納して滅菌処理をするための滅菌庫31を内蔵し、上部左側にユーザインターフェース41を配置し、下部に機械室51を内蔵している。   FIG. 1 is a front view showing the appearance of the ozone gas sterilizer 11. The ozone gas sterilizer 11 contains a sterilization chamber 31 for storing a sterilization object (not shown) in the upper part of a housing 21 for sterilization, a user interface 41 on the upper left side, and a machine room in the lower part. 51 is built-in.

滅菌庫31は、扉32によって開閉自在であり、扉32を開けた内部に滅菌室33(図2参照)を形成している。滅菌室33には、扉32を開けることで、滅菌対象物の出し入れが可能である。実施に際しては、ハウジング21の裏面側にも扉(図示せず)を設け、表裏両側から使用できるようにしても良い。扉32は、ヒンジ34によって回転自在に支持され、ハンドル35を持って開閉することができる。扉32は、ハンドル35のロック片35aをロックするロック機構36によってロック可能である。ハンドル35を回転させてそのロック片35aをロックすると、扉32が完全に閉じられた状態でロックされ、滅菌室33が気密に保たれる。   The sterilization cabinet 31 can be opened and closed by a door 32, and a sterilization chamber 33 (see FIG. 2) is formed inside the door 32. An object to be sterilized can be taken in and out of the sterilization chamber 33 by opening the door 32. In implementation, a door (not shown) may be provided on the back side of the housing 21 so that it can be used from both the front and back sides. The door 32 is rotatably supported by a hinge 34 and can be opened and closed with a handle 35. The door 32 can be locked by a lock mechanism 36 that locks the lock piece 35 a of the handle 35. When the handle 35 is rotated to lock the lock piece 35a, the door 32 is locked in a completely closed state, and the sterilization chamber 33 is kept airtight.

ユーザインターフェース41は、表示器42を有している。表示器42にはタッチパネル43が積層され、タッチパネル43のタッチ指定によって各種の指示を後述する制御回路61(図4参照)に伝えることができる。ユーザインターフェース41には、その他に、記録計44、電源スイッチ45、および非常停止スイッチ46が設けられている。   The user interface 41 has a display 42. A touch panel 43 is stacked on the display 42, and various instructions can be transmitted to a control circuit 61 (see FIG. 4) to be described later by touch designation on the touch panel 43. In addition, the user interface 41 is provided with a recorder 44, a power switch 45, and an emergency stop switch 46.

図2は、オゾンガス滅菌装置11の各部を示す模式図である。オゾンガス滅菌装置11は、オゾンガス導入部101、陰圧生成部111、加熱部121、昇湿機構131、切替機構141、湿度計測部151、オゾン濃度計測部161、および循環ファン171を有している。以下、それぞれについて説明する。   FIG. 2 is a schematic diagram showing each part of the ozone gas sterilizer 11. The ozone gas sterilization apparatus 11 includes an ozone gas introduction unit 101, a negative pressure generation unit 111, a heating unit 121, a humidification mechanism 131, a switching mechanism 141, a humidity measurement unit 151, an ozone concentration measurement unit 161, and a circulation fan 171. . Each will be described below.

まず、オゾンガス導入部101は、滅菌室33内にオゾンガスを導入する。このようなオゾンガス導入部101は、PSA式酸素発生装置102およびオゾン発生装置103を備えている。PSA式酸素発生装置102で生成された酸素は、配管P1を介してオゾン発生装置103に至り、オゾン発生装置103からさらに滅菌室33に導かれる。配管P1は、オゾン発生装置103と滅菌室33との間の位置で二股に分かれ、配管P1a,P1bに分岐している。配管P1aは電磁弁V1aによって開閉され、配管P1bは電磁弁V1bによって開閉される。そして、一方の配管P1aは滅菌室33内の気中を導入位置とし、もう一方の配管P1bは滅菌室33内の水中を導入位置としている。これについては、後述する切替機構141の説明箇所で詳しく述べる。   First, the ozone gas introduction unit 101 introduces ozone gas into the sterilization chamber 33. Such an ozone gas introduction unit 101 includes a PSA oxygen generator 102 and an ozone generator 103. Oxygen generated by the PSA oxygen generator 102 reaches the ozone generator 103 via the pipe P1, and is further guided from the ozone generator 103 to the sterilization chamber 33. The pipe P1 is bifurcated at a position between the ozone generator 103 and the sterilization chamber 33 and is branched into pipes P1a and P1b. The pipe P1a is opened and closed by the electromagnetic valve V1a, and the pipe P1b is opened and closed by the electromagnetic valve V1b. One pipe P1a has the air in the sterilization chamber 33 as the introduction position, and the other pipe P1b has the water in the sterilization chamber 33 as the introduction position. This will be described in detail in the description of the switching mechanism 141 described later.

オゾンガス導入部101が有しているもう一つの重要な構成要素は、HEPAフィルタ104である。HEPAフィルタ104は、配管P2を介して滅菌室33の内部に連絡している。配管P2は、電磁弁V2によって開閉される。電磁弁V2が開くと、滅菌室33の内部は配管P2およびHEPAフィルタ104を介して外部に連絡する。   Another important component of the ozone gas introduction unit 101 is a HEPA filter 104. The HEPA filter 104 communicates with the inside of the sterilization chamber 33 via the pipe P2. The pipe P2 is opened and closed by the electromagnetic valve V2. When the electromagnetic valve V2 is opened, the inside of the sterilization chamber 33 communicates with the outside through the pipe P2 and the HEPA filter 104.

陰圧生成部111は、滅菌室33内の気体を排気して滅菌室33内を陰圧にする。陰圧生成部111の主要部は、排気ポンプ112である。排気ポンプ112は、配管P11を介して滅菌室33の内部に連絡しており、その動作によって滅菌室33内の気体を外部に排気する。そこで、滅菌室33内が気密である状態で排気ポンプ112を駆動すると、滅菌室33内が陰圧となる。   The negative pressure generation unit 111 exhausts the gas in the sterilization chamber 33 to create a negative pressure in the sterilization chamber 33. The main part of the negative pressure generator 111 is an exhaust pump 112. The exhaust pump 112 communicates with the inside of the sterilization chamber 33 via the pipe P11, and exhausts the gas in the sterilization chamber 33 to the outside by the operation. Therefore, when the exhaust pump 112 is driven in a state where the inside of the sterilization chamber 33 is airtight, the inside of the sterilization chamber 33 becomes negative pressure.

陰圧生成部111は、滅菌室33から排気ポンプ112に向けて、配管P11上に、電磁弁V11、ドレンタンク113、およびオゾン分解ユニット114を配置している。電磁弁V11は、配管P11それ自体を開閉する。ドレンタンク113は、滅菌室33に溜められる水(後述する)を引き込み、排水するために用いられる。オゾン分解ユニット114は、排気ポンプ112が滅菌室33内の気体を真空引きするに際して、オゾンガス導入部101によって滅菌室33内に導入されたオゾンガスを分解して外部に放出するためのものである。そして、オゾン分解ユニット114と排気ポンプ112との間で配管P11から分岐管P12が分岐し、この分岐管P12には電磁弁V12が配置されている。電磁弁V12は、分岐管P12を開閉する。   In the negative pressure generation unit 111, the solenoid valve V11, the drain tank 113, and the ozone decomposition unit 114 are arranged on the pipe P11 from the sterilization chamber 33 toward the exhaust pump 112. The electromagnetic valve V11 opens and closes the pipe P11 itself. The drain tank 113 is used for drawing and draining water (described later) stored in the sterilization chamber 33. The ozone decomposing unit 114 is for decomposing and releasing the ozone gas introduced into the sterilization chamber 33 by the ozone gas introduction unit 101 when the exhaust pump 112 evacuates the gas in the sterilization chamber 33. A branch pipe P12 branches from the pipe P11 between the ozone decomposition unit 114 and the exhaust pump 112, and an electromagnetic valve V12 is disposed in the branch pipe P12. The electromagnetic valve V12 opens and closes the branch pipe P12.

ここで、本実施の形態のオゾンガス滅菌装置11は、後述する給水用の給水タンク134を備えている。陰圧生成部111は、給水タンク134とドレンタンク113とを配管P13で連絡している。配管P13は、電磁弁V13によって開閉される。ドレンタンク113には、内部に溜めた水を排水するための排水管P14が取り付けられている。この排水管P14は、排水弁として機能する電磁弁V14によって開閉される。   Here, the ozone gas sterilization apparatus 11 of this Embodiment is provided with the water supply tank 134 for the water supply mentioned later. The negative pressure generating unit 111 connects the water supply tank 134 and the drain tank 113 by a pipe P13. The pipe P13 is opened and closed by an electromagnetic valve V13. The drain tank 113 is provided with a drain pipe P14 for draining the water accumulated inside. The drain pipe P14 is opened and closed by an electromagnetic valve V14 that functions as a drain valve.

加熱部121は、通電によって発熱する調温ヒータ122を備えており、滅菌室33の内部空間を暖めて室温を上昇させる。滅菌処理に際しては、滅菌室33内の室温を20℃〜50℃の範囲に調温する。このような温度制御は、調温ヒータ122を駆動制御する制御回路61によって実現される。制御回路61は、滅菌室33内の室温を計測する温度センサとしての乾球温度センサS1の出力に基づいて室温を認識し、その室温が20℃〜50℃の範囲で所望の値となるよう、調温ヒータ122を駆動制御する。   The heating unit 121 includes a temperature control heater 122 that generates heat when energized, and warms the internal space of the sterilization chamber 33 to raise the room temperature. In the sterilization process, the room temperature in the sterilization chamber 33 is adjusted to a range of 20 ° C to 50 ° C. Such temperature control is realized by a control circuit 61 that drives and controls the temperature control heater 122. The control circuit 61 recognizes the room temperature based on the output of the dry bulb temperature sensor S1 as a temperature sensor for measuring the room temperature in the sterilization chamber 33 so that the room temperature becomes a desired value in the range of 20 ° C to 50 ° C. The temperature control heater 122 is driven and controlled.

昇湿機構131は、滅菌室33内の相対湿度を上昇させるための機構である。相対湿度を上昇させるために、昇湿機構131は、室温と水温との温度差を利用している。室温と水温とに温度差を生じさせるために、昇湿機構131は、滅菌室33の内部に加湿槽132を配置し、この加湿槽132の内部に調湿ヒータ133を設置している。加湿槽132には、二つの電磁弁V31,V32によって開閉自在の配管P31を介して、前述した給水タンク134から給水が可能である。つまり、電磁弁V31,V32を開いた状態で滅菌室33内を陰圧にすると、給水タンク134に溜められた水が加湿槽132に吸引され、加湿槽132に対する給水が行われる。この状態で調湿ヒータ133を動作させると、加湿槽132内に給水された水を加熱することができる。滅菌処理に際しては、加湿槽132内の水温を20℃〜50℃の範囲に調温する。このような温度制御は、調湿ヒータ133を駆動制御する制御回路61によって実現される。制御回路61は、加湿槽132内に配置された水温センサS2の出力に基づいて水温を認識し、その水温が20℃〜50℃の範囲で所望の値となるよう、調湿ヒータ133を駆動制御する。   The humidification mechanism 131 is a mechanism for increasing the relative humidity in the sterilization chamber 33. In order to increase the relative humidity, the humidity increasing mechanism 131 uses a temperature difference between room temperature and water temperature. In order to generate a temperature difference between the room temperature and the water temperature, the humidification mechanism 131 has a humidification tank 132 disposed in the sterilization chamber 33, and a humidity control heater 133 is disposed in the humidification tank 132. The humidifying tank 132 can be supplied with water from the above-described water supply tank 134 through a pipe P31 that can be opened and closed by two electromagnetic valves V31 and V32. That is, when the inside of the sterilization chamber 33 is set to a negative pressure while the electromagnetic valves V31 and V32 are opened, the water stored in the water supply tank 134 is sucked into the humidification tank 132, and water supply to the humidification tank 132 is performed. When the humidity control heater 133 is operated in this state, the water supplied into the humidification tank 132 can be heated. In the sterilization process, the water temperature in the humidifying tank 132 is adjusted to a range of 20 ° C to 50 ° C. Such temperature control is realized by a control circuit 61 that drives and controls the humidity control heater 133. The control circuit 61 recognizes the water temperature based on the output of the water temperature sensor S2 disposed in the humidification tank 132, and drives the humidity control heater 133 so that the water temperature becomes a desired value in the range of 20 ° C to 50 ° C. Control.

図3は、滅菌室33内の温度と加湿槽132内の水温との温度差と、滅菌室33内の湿度との関係を示すグラフである。実験の結果、加湿槽132内の水温を滅菌室33内の室温よりも所定温度だけ高くすると、結露しない範囲でもっとも高い湿度に設定できることが分かった。このような水温と室温との温度差と、滅菌室33内の湿度との関係は、図3のグラフに示す通りであり、温度差が所定温度以上になると結露が発生する。   FIG. 3 is a graph showing the relationship between the temperature difference between the temperature in the sterilization chamber 33 and the water temperature in the humidification tank 132 and the humidity in the sterilization chamber 33. As a result of the experiment, it has been found that when the water temperature in the humidification tank 132 is set higher than the room temperature in the sterilization chamber 33 by a predetermined temperature, the highest humidity can be set within a range where condensation does not occur. The relationship between the temperature difference between the water temperature and the room temperature and the humidity in the sterilization chamber 33 is as shown in the graph of FIG. 3, and condensation occurs when the temperature difference exceeds a predetermined temperature.

そこで、本実施の形態では、制御回路61によって、加湿槽132内の水温を滅菌室33内の室温よりも少し高く設定する。この場合の温度差は、求める相対湿度の値に応じて決定する。例えば、相対湿度90%RHを得たい場合であれば、室温よりも図3のグラフに示す所定温度高くなるように水温を制御すれば良いし、相対湿度99%RHを得たい場合であれば、室温よりも図3のグラフに示す所定温度高くなるように水温を制御すれば良い。   Therefore, in the present embodiment, the control circuit 61 sets the water temperature in the humidifying tank 132 to be slightly higher than the room temperature in the sterilization chamber 33. The temperature difference in this case is determined according to the required relative humidity value. For example, if it is desired to obtain a relative humidity of 90% RH, the water temperature may be controlled to be higher than the room temperature by a predetermined temperature shown in the graph of FIG. 3, and if a relative humidity of 99% RH is desired. The water temperature may be controlled to be higher than the room temperature by a predetermined temperature shown in the graph of FIG.

図2に示すように、切替機構141は、オゾンガス導入部101による滅菌室33内へのオゾンガスの導入位置を、気中と水中とのいずれか一方または両方に切り替えるための機構である。つまり、前述したように、オゾンガス導入部101は、配管P1を二股に分岐させ、一方を配管P1a、もう一方を配管P1bとしている。そこで、切替機構141は、一方の配管P1aの終端部を滅菌室33内の気中に開口させ、もう一方の配管P1bの終端部を滅菌室33内に配置した加湿槽132内に開口させている。こうすることで、制御回路61により、一方の配管P1aを開閉する電磁弁V1aともう一方の配管P1bを開閉する電磁弁V1bとを開閉制御することで、滅菌室33内へのオゾンガスの導入位置を気中と水中とのいずれか一方または両方に切り替えることができる。つまり、電磁弁V1aおよび電磁弁V1bの両方を開ければ、配管P1aが開かれて気中にオゾンガスが導入されると共に、配管P1bも開かれて水中にもオゾンガスが導入される。また、電磁弁V1aを開けて電磁弁V1bを閉じれば、配管P1aのみが開かれて気中にオゾンガスが導入される。これにより、滅菌室33内には乾燥ガス供給がなされる。反対に、電磁弁V1aを閉じて電磁弁V1bを開ければ、配管P1bのみが開かれて水中にオゾンガスが導入される。これにより、滅菌室33内に湿潤ガス供給がなされる。   As shown in FIG. 2, the switching mechanism 141 is a mechanism for switching the introduction position of the ozone gas into the sterilization chamber 33 by the ozone gas introduction unit 101 to one or both of air and water. That is, as described above, the ozone gas introduction unit 101 branches the pipe P1 into two branches, one being the pipe P1a and the other being the pipe P1b. Therefore, the switching mechanism 141 opens the end portion of one pipe P1a into the air in the sterilization chamber 33, and opens the end portion of the other pipe P1b into the humidification tank 132 disposed in the sterilization chamber 33. Yes. In this way, the control circuit 61 controls the opening and closing of the electromagnetic valve V1a that opens and closes the one pipe P1a and the electromagnetic valve V1b that opens and closes the other pipe P1b, thereby introducing the ozone gas into the sterilization chamber 33. Can be switched to one or both of air and water. That is, if both the solenoid valve V1a and the solenoid valve V1b are opened, the piping P1a is opened to introduce ozone gas into the air, and the piping P1b is also opened to introduce ozone gas into the water. If the electromagnetic valve V1a is opened and the electromagnetic valve V1b is closed, only the pipe P1a is opened and ozone gas is introduced into the air. Thereby, dry gas is supplied into the sterilization chamber 33. Conversely, if the electromagnetic valve V1a is closed and the electromagnetic valve V1b is opened, only the pipe P1b is opened and ozone gas is introduced into the water. Thereby, wet gas is supplied into the sterilization chamber 33.

切替機構141は、配管P1bの終端部にバブラ135を取り付けている。これにより、配管P1bから加湿槽132内の水中にオゾンガスが吐出されるに際して、オゾンガスを含むバブルが発生する。オゾンガスを含むバブルは、加湿槽132に溜められた水に対して、オゾンガスの接触面積を増加させる。   The switching mechanism 141 has a bubbler 135 attached to the terminal end of the pipe P1b. Thereby, when ozone gas is discharged from the pipe P1b into the water in the humidification tank 132, bubbles containing ozone gas are generated. Bubbles containing ozone gas increase the contact area of ozone gas with respect to the water stored in the humidification tank 132.

ここで、本実施の形態においては、滅菌室33内の湿度を上昇させるために、昇湿機構131と切替機構141とを利用している。つまり、滅菌室33内の湿度は、加湿槽132内に溜めて加熱された水に、PSA式酸素発生装置102からの酸素またはオゾン発生装置103によって生成されたオゾンガスを導入して得た湿潤ガスを供給することによって上昇する。そこで、昇湿機構131によって加湿槽132内に水を給水してこれを加熱した上で、切替機構141によって酸素またはオゾンガスの導入位置を水中にのみ規定することで、滅菌室33内の湿度を上昇させることができる。   Here, in the present embodiment, in order to increase the humidity in the sterilization chamber 33, the humidification mechanism 131 and the switching mechanism 141 are used. That is, the humidity in the sterilization chamber 33 is a wet gas obtained by introducing oxygen from the PSA oxygen generator 102 or ozone gas generated by the ozone generator 103 into water heated in the humidification tank 132. Rise by feeding. Then, after supplying water into the humidification tank 132 by the humidification mechanism 131 and heating this, the introduction | transduction position of oxygen or ozone gas is prescribed | regulated only in water by the switching mechanism 141, The humidity in the sterilization chamber 33 is controlled. Can be raised.

湿度計測部151は、滅菌室33内の相対湿度を計測する湿度計152を備えている。この湿度計152は、滅菌室33内に配置した湿球温度と乾球温度と滅菌室33内の圧力とを計測し、これらの計測値に基づく制御回路61の演算処理によって相対湿度を算出する。このような湿度計152を実現するために、湿度計測部151は、滅菌室33の内部に湿球槽153を配置し、この湿球槽153の内部に溜めた水(純水)に浸した木綿製のウィックWKに覆わせて湿球温度センサS3を配置し、滅菌室33内に圧力計としての圧力センサS4を配置している。湿球槽153は、電磁弁V51によって開閉自在の配管P51を介して給水タンク134に連絡しており、給水タンク134から給水を受ける。湿球槽153に給水するには、電磁弁V51を開いた状態で滅菌室33内を陰圧にする。すると、給水タンク134に溜められた水が湿球槽153に吸引され、湿球槽153が水で満たされる。これにより、ウィックWKが湿球槽153内の水に浸けられた状態となり、ウィックWKに覆われた湿球温度センサS3に水分が回り込む。これにより、湿度計152は、湿球温度を湿球温度センサS3によって計測し、乾球温度を乾球温度センサS1によって計測し、滅菌室33内の圧力を圧力センサS4によって計測することが可能となる。そこで、湿度計測部151は、制御回路61の演算処理機能を利用し、それらの計測値に基づいて滅菌室33内の相対湿度を算出することができる。相対湿度の算出は、一例として、「JIS Z8806:2001 湿度−測定方法」内の通風乾湿計の項に記載された方法により実施することができる。   The humidity measuring unit 151 includes a hygrometer 152 that measures the relative humidity in the sterilization chamber 33. The hygrometer 152 measures the temperature of the wet bulb and the temperature of the dry bulb arranged in the sterilization chamber 33 and the pressure in the sterilization chamber 33, and calculates the relative humidity by the arithmetic processing of the control circuit 61 based on these measured values. . In order to realize such a hygrometer 152, the humidity measuring unit 151 arranges a wet bulb tank 153 inside the sterilization chamber 33 and is immersed in water (pure water) stored in the wet bulb tank 153. A wet bulb temperature sensor S3 is disposed in a wick WK made of cotton, and a pressure sensor S4 as a pressure gauge is disposed in the sterilization chamber 33. The wet bulb tank 153 communicates with the water supply tank 134 through a pipe P51 that can be opened and closed by the electromagnetic valve V51, and receives water from the water supply tank 134. In order to supply water to the wet bulb tank 153, the inside of the sterilization chamber 33 is set to a negative pressure while the electromagnetic valve V51 is opened. Then, the water stored in the water supply tank 134 is sucked into the wet bulb tank 153, and the wet bulb tank 153 is filled with water. As a result, the wick WK is immersed in the water in the wet bulb tank 153, and moisture flows into the wet bulb temperature sensor S3 covered with the wick WK. Accordingly, the hygrometer 152 can measure the wet bulb temperature with the wet bulb temperature sensor S3, measure the dry bulb temperature with the dry bulb temperature sensor S1, and measure the pressure in the sterilization chamber 33 with the pressure sensor S4. It becomes. Therefore, the humidity measuring unit 151 can calculate the relative humidity in the sterilization chamber 33 based on the measured values using the arithmetic processing function of the control circuit 61. As an example, the calculation of the relative humidity can be performed by the method described in the section of the ventilation / dryness meter in “JIS Z8806: 2001 Humidity-Measurement Method”.

湿度計測部151が測定する滅菌室33内の相対湿度は、滅菌室33内の上昇した湿度を所望の範囲に維持することに役立てられる。つまり、滅菌室33内の上昇した湿度を所望の湿度環境に維持するには、相対湿度の測定値を参照しながら、切替機構141を用いて、酸素またはオゾンガスの導入位置を水中と気中とに択一的に切り替えればよい。より詳細には、滅菌室33内の湿度が所望範囲よりも高くなった場合には、酸素またはオゾンガスの導入位置を気中に切り替えて乾燥ガスを導入する。これにより、滅菌室33内の湿度を下げることができる。反対に、滅菌室33内の湿度が所望範囲よりも低くなった場合には、酸素またはオゾンガスの導入位置を水中に切り替えて湿潤ガスを導入する。これにより、滅菌室33内の湿度を上昇させることができる。   The relative humidity in the sterilization chamber 33 measured by the humidity measuring unit 151 is useful for maintaining the increased humidity in the sterilization chamber 33 in a desired range. That is, in order to maintain the increased humidity in the sterilization chamber 33 in a desired humidity environment, the switching mechanism 141 is used to change the introduction position of oxygen or ozone gas between water and air while referring to the measured value of relative humidity. It is sufficient to switch alternatively. More specifically, when the humidity in the sterilization chamber 33 becomes higher than the desired range, the dry gas is introduced by switching the oxygen or ozone gas introduction position to the air. Thereby, the humidity in the sterilization chamber 33 can be lowered. On the other hand, when the humidity in the sterilization chamber 33 is lower than the desired range, the introduction position of oxygen or ozone gas is switched to water to introduce wet gas. Thereby, the humidity in the sterilization chamber 33 can be raised.

ここで、本実施の形態では、昇湿機構131の加湿槽132に対する給水動作と湿度計測部151の湿球槽153に対する給水動作とに関連性を持たせている。つまり、加湿槽132を湿球槽153よりも大容量に形成して両者を隣り合わせて配置し、湿球槽153から溢れ出した水を加湿槽132に給水できるようにしている。そこで、加湿槽132内の水位を例えばフロートスイッチ(図示せず)によって監視し、フロートスイッチがオンになったら給水タンク134からの給水動作を停止する。こうすることで、湿球槽153には満杯の水、加湿槽132には所望量の水を給水することができる。   Here, in this Embodiment, the water supply operation | movement with respect to the humidification tank 132 of the humidification mechanism 131 and the water supply operation | movement with respect to the wet bulb tank 153 of the humidity measurement part 151 are related. That is, the humidifying tank 132 is formed to have a larger capacity than the wet bulb tank 153 and both are arranged next to each other so that the water overflowing from the wet bulb tank 153 can be supplied to the humidifying tank 132. Therefore, the water level in the humidifying tank 132 is monitored by, for example, a float switch (not shown), and when the float switch is turned on, the water supply operation from the water supply tank 134 is stopped. By doing so, the wet bulb tank 153 can be filled with full water, and the humidification tank 132 can be supplied with a desired amount of water.

なお、圧力センサS4の計測出力は、滅菌室33内の湿度計測にのみ利用されるわけではなく、滅菌室33内の真空圧力調節のためにも用いられる。これについては、後述する。   Note that the measurement output of the pressure sensor S4 is not only used for measuring the humidity in the sterilization chamber 33 but also for adjusting the vacuum pressure in the sterilization chamber 33. This will be described later.

オゾン濃度計測部161は、オゾン濃度を計測可能なオゾン濃度計162を備え、滅菌室33内のオゾン濃度をオゾン濃度計162によって計測できるようにしている。オゾン濃度計162は、滅菌室33の外部に配置されている。そこで、オゾン濃度計測部161は、滅菌室33から出て滅菌室33に戻る循環配管P61中にオゾン濃度計162と循環ポンプ163とを配置している。滅菌室33内の気体は循環ポンプ163に引き込まれて循環配管P61内を循環し、オゾン濃度計162によるオゾン濃度計測に供せられる。   The ozone concentration measuring unit 161 includes an ozone concentration meter 162 that can measure the ozone concentration, and the ozone concentration meter 162 can measure the ozone concentration in the sterilization chamber 33. The ozone concentration meter 162 is disposed outside the sterilization chamber 33. Therefore, the ozone concentration measuring unit 161 includes an ozone concentration meter 162 and a circulation pump 163 in the circulation pipe P61 that exits from the sterilization chamber 33 and returns to the sterilization chamber 33. The gas in the sterilization chamber 33 is drawn into the circulation pump 163, circulates in the circulation pipe P61, and is used for ozone concentration measurement by the ozone concentration meter 162.

循環ファン171は、制御回路61によって駆動制御されるモータ(図示せず)の回転軸にファン172を取り付けた構造のもので、ファン172を回転させることによって滅菌室33内の気体を攪拌する。   The circulation fan 171 has a structure in which a fan 172 is attached to a rotation shaft of a motor (not shown) driven and controlled by the control circuit 61, and the gas in the sterilization chamber 33 is agitated by rotating the fan 172.

図4は、オゾンガス滅菌装置11の電気的接続を示すブロック図である。オゾンガス滅菌装置11が有する各部を制御するのは、制御回路61である。制御回路61は、一例として、各種演算処理を実行して各部を集中的に制御するCPUに、制御プログラム等が書き込まれたROM、それにRAMが接続されたマイクロコンピュータによって形成されている(全て図示せず)。RAMは、可変データを書き換え自在に記録し、ワークエリア等として用いられる。制御回路61としてこのようなマイクロコンピュータ構成のものが用いられる場合、上記各部は、I/O(図示せず)等を介して制御回路61に信号送受信可能に接続されている。あるいは、別の一例として、制御回路61は、シーケンスが固定記録された集積回路によって構成されていても良い。いずれにしても制御回路61は、乾球温度センサS1、水温センサS2、湿球温度センサS3、および圧力センサS4からの出力を取り込み、各部を予め決められた手順通りに制御処理できる構成を有している。   FIG. 4 is a block diagram showing electrical connection of the ozone gas sterilizer 11. The control circuit 61 controls each part of the ozone gas sterilizer 11. As an example, the control circuit 61 is formed by a CPU in which various arithmetic processes are performed to centrally control each unit, a ROM in which a control program and the like are written, and a microcomputer in which a RAM is connected (see FIG. Not shown). The RAM records variable data in a rewritable manner and is used as a work area or the like. When such a microcomputer configuration is used as the control circuit 61, each of the above sections is connected to the control circuit 61 through an I / O (not shown) or the like so as to be able to transmit and receive signals. Alternatively, as another example, the control circuit 61 may be configured by an integrated circuit in which a sequence is fixedly recorded. In any case, the control circuit 61 has a configuration capable of taking in outputs from the dry bulb temperature sensor S1, the water temperature sensor S2, the wet bulb temperature sensor S3, and the pressure sensor S4 and controlling each part in accordance with a predetermined procedure. doing.

制御回路61に接続されて制御される各部については、図4に明記されているので、重複記載を避けるために逐次の列挙を避ける。   Since each part connected to and controlled by the control circuit 61 is clearly shown in FIG. 4, sequential enumeration is avoided in order to avoid duplicate description.

図5は、オゾンガス滅菌装置11の制御回路61が実行する処理の流れを示すフローチャートである。滅菌対象物を滅菌するには、図5に示すフローチャートに示す処理を実行するに先立ち、事前準備として人間による手作業を必要とする。   FIG. 5 is a flowchart showing the flow of processing executed by the control circuit 61 of the ozone gas sterilizer 11. In order to sterilize an object to be sterilized, prior to executing the process shown in the flowchart shown in FIG.

人間による手作業として、まず、滅菌室33内に滅菌対象物を収納して扉32を閉める。これに前後し、給水タンク134に水(純水)を補給する。この際、表示器42の表示を参照し、滅菌対象物の種類に応じて、陰圧滅菌処理をするか常圧滅菌処理をするかを選択する。例えば、白衣、マスク、寝具のような繊維類、並びに、手術用具、実験器具等の真空にしても損傷するおそれが無い物品を滅菌しようとする場合には、繊維内部や器具の隙間の奥まで効率的にオゾンガスを浸透させるために、陰圧滅菌処理を選択する。これに対して、内部に密閉した空洞を持つ精密機械、例えはパソコン等を滅菌しようとする場合には、陰圧にすると損傷するおそれがあるので、常圧滅菌処理を選択する。陰圧滅菌処理をするか常圧滅菌処理をするかの選択は、タッチパネル43でのタッチ指定によって行なう(選択手段)。陰圧滅菌処理をする場合には、さらに、後述する真空引きエアレーション(ステップS41参照)の回数も入力する。その後、制御回路61は、図5に示すように、陰圧滅菌処理と常圧滅菌処理とのいずれが選択されたのかを判定する(ステップS11)。   As a manual operation by a human, first, the object to be sterilized is stored in the sterilization chamber 33 and the door 32 is closed. Before and after this, water (pure water) is supplied to the water supply tank 134. At this time, referring to the display on the display unit 42, whether to perform negative pressure sterilization or normal pressure sterilization is selected according to the type of sterilization target. For example, when trying to sterilize textiles such as lab coats, masks, and bedding, as well as surgical tools, laboratory instruments, and other items that are not likely to be damaged by vacuum, go to the inside of the fiber and the back of the gap between the instruments. In order to infiltrate ozone gas efficiently, a negative pressure sterilization process is selected. On the other hand, when trying to sterilize a precision machine having a sealed cavity, such as a personal computer, the sterilization at normal pressure is selected because there is a risk of damage if negative pressure is applied. The selection of the negative pressure sterilization process or the normal pressure sterilization process is performed by touch designation on the touch panel 43 (selection means). In the case of performing negative pressure sterilization, the number of vacuum aeration (see step S41) described later is also input. Thereafter, as shown in FIG. 5, the control circuit 61 determines which one of the negative pressure sterilization process and the normal pressure sterilization process has been selected (step S11).

制御回路61は、陰圧滅菌処理の選択を判定した場合(ステップS11のYES)、加湿槽132および湿球槽153に対する給水処理を実行する(ステップS31)。後述する図6中の「給水」を参照されたい。制御回路61は、昇湿機構131の電磁弁V31,V32、湿度計測部151の電磁弁V51、そして、陰圧生成部111の電磁弁V11を開き、排気ポンプ112を駆動する。これにより、滅菌室33内の気体が外部に排気され、給水タンク134に溜められた水(純水)が配管P31,P51内に吸引されて加湿槽132と湿球槽153とに供給される。前述したように、湿球槽153には満杯の水、加湿槽132には所望量の水を給水することができる。   When the selection of the negative pressure sterilization process is determined (YES in step S11), the control circuit 61 executes a water supply process for the humidifying tank 132 and the wet bulb tank 153 (step S31). Refer to “Water Supply” in FIG. 6 described later. The control circuit 61 opens the electromagnetic valves V31 and V32 of the humidity increasing mechanism 131, the electromagnetic valve V51 of the humidity measuring unit 151, and the electromagnetic valve V11 of the negative pressure generating unit 111, and drives the exhaust pump 112. Thereby, the gas in the sterilization chamber 33 is exhausted to the outside, and water (pure water) stored in the water supply tank 134 is sucked into the pipes P31 and P51 and supplied to the humidification tank 132 and the wet bulb tank 153. . As described above, the wet bulb tank 153 can be filled with full water, and the humidification tank 132 can be supplied with a desired amount of water.

ついで、制御回路61は、調温制御を実行する(ステップS32)。後述する図6中の「調温」を参照されたい。制御回路61は、加熱部121の調温ヒータ122を駆動制御して滅菌室33内の室温を調整し、昇湿機構131の調湿ヒータ133を駆動制御して加湿槽132に給水された水の水温を調整する。この際、室温および水温とも、20℃〜50℃の範囲で一定温度および一定湿度となるように調整する。但し、前述したように、滅菌室33内に求める相対湿度の値に応じて、室温よりも水温の方を少し高く調整する。   Next, the control circuit 61 performs temperature control (step S32). Refer to “temperature control” in FIG. 6 described later. The control circuit 61 drives and controls the temperature adjustment heater 122 of the heating unit 121 to adjust the room temperature in the sterilization chamber 33, and drives and controls the humidity adjustment heater 133 of the humidity increasing mechanism 131 to supply water to the humidifying tank 132. Adjust the water temperature. At this time, both the room temperature and the water temperature are adjusted to be a constant temperature and a constant humidity in the range of 20 ° C to 50 ° C. However, as described above, the water temperature is adjusted slightly higher than the room temperature according to the value of the relative humidity required in the sterilization chamber 33.

ついで、制御回路61は、調湿制御を実行する(ステップS33)。後述する図6中の「調湿」を参照されたい。制御回路61は、電磁弁V1b,V11,V12のみを開き、それ以外の電磁弁を閉じる。そして、PSA式酸素発生装置102を動作させ、加湿槽132内に溜められた水にバブラ135を介して酸素を吹き込む。これにより、滅菌室33内の相対湿度を、例えば80〜99%RH程度に上昇させることができる。   Next, the control circuit 61 performs humidity control (step S33). Refer to “humidity control” in FIG. 6 described later. The control circuit 61 opens only the solenoid valves V1b, V11, V12 and closes the other solenoid valves. Then, the PSA oxygen generator 102 is operated, and oxygen is blown into the water stored in the humidifying tank 132 through the bubbler 135. Thereby, the relative humidity in the sterilization chamber 33 can be raised to, for example, about 80 to 99% RH.

ついで、制御回路61は、滅菌室33内の圧力制御を実行する(ステップS34)。後述する図6中の「陰圧化」を参照されたい。制御回路61は、電磁弁V11を開き、その他の全ての電磁弁を閉じて、陰圧生成部111の排気ポンプ112を駆動する。これにより、滅菌室33内の気体が配管P11を通って外部に排気され、滅菌室33内は陰圧化される。この際、制御回路61は、滅菌室33内が−90kPa〜−20kPa程度の高真空となるまで排気ポンプ112を駆動し、目標値(以下、「制御目標値(kPa)」と呼ぶ)になったらその駆動を停止する。   Next, the control circuit 61 executes pressure control in the sterilization chamber 33 (step S34). Refer to “negative pressure” in FIG. 6 to be described later. The control circuit 61 opens the electromagnetic valve V11 and closes all other electromagnetic valves to drive the exhaust pump 112 of the negative pressure generating unit 111. Thereby, the gas in the sterilization chamber 33 is exhausted to the outside through the pipe P11, and the inside of the sterilization chamber 33 is negatively pressured. At this time, the control circuit 61 drives the exhaust pump 112 until the inside of the sterilization chamber 33 becomes a high vacuum of about −90 kPa to −20 kPa, and reaches a target value (hereinafter referred to as “control target value (kPa)”). Then stop the drive.

もっとも、滅菌室33は、その内部圧力が低下することによって湿度が少し下がる。そこで、後続するオゾンガス導入(ステップS35)に先立ち、滅菌室33内を加湿する。そのために、制御回路61は、電磁弁V1bを開き、それ以外の電磁弁を閉じた状態で、PSA式酸素発生装置102を動作させる。すると、ガス導入位置が水中に規定されるので、バブラ135を介して加湿槽132に酸素が吹き込まれ、水分を含んだ酸素が滅菌室33内に供給される。これにより、内部圧力の低下に伴い下がった滅菌室33内の湿度が再び上昇する。ところが、このような滅菌室33内への酸素供給によって、滅菌室33内の真空度が再び下がる。そこで、制御回路61は、排気ポンプ112を断続駆動すると共にこれにタイミングを合わせて電磁弁V11を断続的に開閉するか、あるいは、排気ポンプ112を連続駆動して電磁弁V11を断続的に開閉するかする。このような昇湿動作と降圧動作とを繰り返すことで、滅菌室33内の真空度と相対湿度とを所望範囲に収めることができる。以上の動作については、図6中の「真空下調湿」を参照されたい。   However, the humidity of the sterilization chamber 33 is slightly reduced due to a decrease in the internal pressure. Therefore, prior to the subsequent introduction of ozone gas (step S35), the inside of the sterilization chamber 33 is humidified. For this purpose, the control circuit 61 operates the PSA oxygen generator 102 with the electromagnetic valve V1b opened and the other electromagnetic valves closed. Then, since the gas introduction position is defined in water, oxygen is blown into the humidification tank 132 through the bubbler 135, and oxygen containing moisture is supplied into the sterilization chamber 33. As a result, the humidity in the sterilization chamber 33, which has decreased with the decrease in internal pressure, is increased again. However, such a supply of oxygen into the sterilization chamber 33 lowers the degree of vacuum in the sterilization chamber 33 again. Therefore, the control circuit 61 intermittently drives the exhaust pump 112 and opens and closes the electromagnetic valve V11 in synchronization with the exhaust pump 112, or intermittently opens and closes the electromagnetic valve V11 by driving the exhaust pump 112 continuously. Do it. By repeating such a humidity increasing operation and a pressure reducing operation, the degree of vacuum and the relative humidity in the sterilization chamber 33 can be kept within a desired range. Refer to “Humidity adjustment under vacuum” in FIG. 6 for the above operation.

ついで、制御回路61は、オゾンガスの導入処理を実行する(ステップS35)。後述する図6中の「オゾン連続発生」を参照されたい。この際、制御回路61は、電磁弁V1a,V1bを開き、PSA式酸素発生装置102によって発生させた酸素を配管P1(P1a,P1b)を介して滅菌室33に導く。この過程で、オゾン発生装置103を動作させることによって、滅菌室33に導くガスをオゾンガスとする。この際、制御回路61は、電磁弁V1(V1aまたはV1bのいずれか一方)を開く。つまり、滅菌室33内の湿度が目標湿度より高いときは電磁弁V1aを開き、低いときは電磁弁V1bを開く。これにより、滅菌室33内の湿度が目標湿度より高いときは、気中に開口する配管P1aから滅菌室33内に乾燥ガス供給がなされ、目標湿度より低いときは、水中に開口する配管P1bのバブラ135から滅菌室33内に湿潤ガス供給がなされる。   Next, the control circuit 61 executes an ozone gas introduction process (step S35). Refer to “Ozone continuous generation” in FIG. 6 described later. At this time, the control circuit 61 opens the solenoid valves V1a and V1b and guides the oxygen generated by the PSA oxygen generator 102 to the sterilization chamber 33 via the pipe P1 (P1a and P1b). In this process, by operating the ozone generator 103, the gas led to the sterilization chamber 33 is made ozone gas. At this time, the control circuit 61 opens the electromagnetic valve V1 (either V1a or V1b). That is, when the humidity in the sterilization chamber 33 is higher than the target humidity, the electromagnetic valve V1a is opened, and when the humidity is low, the electromagnetic valve V1b is opened. Thereby, when the humidity in the sterilization chamber 33 is higher than the target humidity, the dry gas is supplied into the sterilization chamber 33 from the pipe P1a that opens to the air. When the humidity is lower than the target humidity, the pipe P1b that opens to the water is supplied. Wet gas is supplied from the bubbler 135 into the sterilization chamber 33.

ここで、オゾンガスの導入処理に際して重要なことは、オゾン濃度、およびオゾン濃度(ppm)×時間(min)によって算出されるCT値である。制御回路61は、オゾン濃度計162の出力を取り込んでCT値(オゾン濃度(ppm)×時間(min))を算出し、このCT値が滅菌に必要な値となるように、オゾンガス導入部101を駆動制御する。この際、CT値の算出には、オゾン濃度一定となっている時間におけるオゾン濃度の値を用いるが、オゾン濃度の上昇中または下降中であっても、台形公式等の数値積分を使用してCTを算出することができる。   Here, what is important in the ozone gas introduction process is the ozone concentration and the CT value calculated by the ozone concentration (ppm) × time (min). The control circuit 61 takes in the output of the ozone concentration meter 162 and calculates a CT value (ozone concentration (ppm) × time (min)), and the ozone gas introduction unit 101 so that the CT value becomes a value necessary for sterilization. Is controlled. At this time, the CT value is calculated using the value of the ozone concentration at a time when the ozone concentration is constant. Even if the ozone concentration is rising or falling, numerical integration such as a trapezoidal formula is used. CT can be calculated.

その後、制御回路61は、滅菌室33内の環境制御を実行しながら、予め設定したCT値に達するまで、滅菌室33に対してオゾンガスを供給する(ステップS36、ステップS37のNO)。   After that, the control circuit 61 supplies ozone gas to the sterilization chamber 33 until it reaches a preset CT value while executing environmental control in the sterilization chamber 33 (NO in step S36 and step S37).

図6は、陰圧滅菌処理に際しての滅菌室33内の圧力とオゾン濃度との関係を経時的に示すタイミングチャートである。上記ステップS34の処理によって、滅菌室33内の圧力が0(kPa)から下がり始め、制御目標値(kPa)に達している。前述したように、制御回路61は、滅菌室33内の圧力が制御目標値(kPa)になったら、排気ポンプ112の駆動を停止する。もしも、この瞬間の状態が維持されているのならば、滅菌室33内の圧力は制御目標値(kPa)を維持するはずである。これに対して、制御回路61は、滅菌室33内の圧力が制御目標値(kPa)となったら、ステップS35のオゾンガス導入処理を実行する。この際、制御回路61は、オゾン濃度計162の出力を取り込んでCT値(オゾン濃度(ppm)×時間(min))を算出し、オゾン濃度とともにこのCT値を監視する。そして、CT値が目標値に達したならば、オゾンガス排出の工程(ステップS38)に進む。一方、CT値が目標値に達する前にオゾン濃度が目標値に達した場合には、オゾン発生装置103の駆動を断続駆動に切り替える。このタイミングが、図5のフローチャート中のステップS35からステップS36への遷移である。図6に示すように、オゾン発生装置103が断続駆動されると、オゾン濃度は一定値を保つ。というよりも、制御回路61は、オゾン濃度が目標値に達した後、そのオゾン濃度を維持するようにオゾン発生装置103を断続駆動するわけである。なお、オゾン発生装置103の駆動を断続駆動に切り替えている期間は、滅菌室33内の真空度が所定の値(以下、「制御下限値(kPa)」)に達するまでであり、その後はオゾン発生装置103の駆動を断続駆動から連続駆動に再度切り替える。滅菌室33内の真空度が制御下限値(kPa)に達した後は、再び排気ポンプ112を駆動して真空引きを行なうので、滅菌室33内のオゾン濃度が急激に低下するからである。これについて後述する。   FIG. 6 is a timing chart showing the relationship between the pressure in the sterilization chamber 33 and the ozone concentration over time during the negative pressure sterilization process. By the process of step S34, the pressure in the sterilization chamber 33 starts to decrease from 0 (kPa) and reaches the control target value (kPa). As described above, the control circuit 61 stops driving the exhaust pump 112 when the pressure in the sterilization chamber 33 reaches the control target value (kPa). If the state at this moment is maintained, the pressure in the sterilization chamber 33 should maintain the control target value (kPa). On the other hand, when the pressure in the sterilization chamber 33 reaches the control target value (kPa), the control circuit 61 executes the ozone gas introduction process in step S35. At this time, the control circuit 61 calculates the CT value (ozone concentration (ppm) × time (min)) by taking the output of the ozone concentration meter 162, and monitors this CT value together with the ozone concentration. If the CT value reaches the target value, the process proceeds to the ozone gas discharge process (step S38). On the other hand, when the ozone concentration reaches the target value before the CT value reaches the target value, the driving of the ozone generator 103 is switched to intermittent driving. This timing is a transition from step S35 to step S36 in the flowchart of FIG. As shown in FIG. 6, when the ozone generator 103 is intermittently driven, the ozone concentration maintains a constant value. Rather, after the ozone concentration reaches the target value, the control circuit 61 intermittently drives the ozone generator 103 so as to maintain the ozone concentration. The period during which the driving of the ozone generator 103 is switched to intermittent driving is until the degree of vacuum in the sterilization chamber 33 reaches a predetermined value (hereinafter referred to as “control lower limit value (kPa)”). The driving of the generator 103 is switched again from intermittent driving to continuous driving. This is because, after the degree of vacuum in the sterilization chamber 33 reaches the control lower limit (kPa), the exhaust pump 112 is driven again to perform evacuation, so that the ozone concentration in the sterilization chamber 33 rapidly decreases. This will be described later.

ここで、このようなオゾンガスの導入に際して、滅菌室33内の圧力について着目する。図6に示すように、制御目標値(kPa)になって排気ポンプ112の駆動を停止した直後から、滅菌室33内の圧力は0(kPa)に向けてリニアに変動する。これは、滅菌室33内の圧力が最初に制御目標値(kPa)に達した後は、オゾン発生装置103によるオゾンの発生の有無にかかわらず、PSA式酸素発生装置102によって発生する酸素が定常的に滅菌室33内に供給され続けるからである。   Here, when such ozone gas is introduced, attention is focused on the pressure in the sterilization chamber 33. As shown in FIG. 6, immediately after the control target value (kPa) is reached and the driving of the exhaust pump 112 is stopped, the pressure in the sterilization chamber 33 varies linearly toward 0 (kPa). This is because, after the pressure in the sterilization chamber 33 first reaches the control target value (kPa), oxygen generated by the PSA oxygen generator 102 is steady regardless of whether ozone is generated by the ozone generator 103. This is because it is continuously supplied into the sterilization chamber 33.

制御回路61は、圧力センサS4の出力を取り込んで滅菌室33内の圧力を監視している。制御回路61は、滅菌室33内の圧力が制御圧力の下限値である制御下限値(kPa)まで達したならば、図5のフローチャート中のステップS36の環境制御の一つとして、再び陰圧化処理を実行する。つまり、陰圧生成部111の排気ポンプ112を駆動する。これにより、滅菌室33内は再び、目標値である制御目標値(kPa)まで高真空化する。滅菌室33内の圧力が制御目標値(kPa)に達したらならば、再び、排気ポンプ112の駆動を停止する。   The control circuit 61 takes in the output of the pressure sensor S4 and monitors the pressure in the sterilization chamber 33. When the pressure in the sterilization chamber 33 reaches the control lower limit value (kPa) which is the lower limit value of the control pressure, the control circuit 61 again performs negative pressure as one of the environmental controls in step S36 in the flowchart of FIG. Execute the conversion process. That is, the exhaust pump 112 of the negative pressure generating unit 111 is driven. As a result, the inside of the sterilization chamber 33 is again evacuated to the control target value (kPa) which is the target value. When the pressure in the sterilization chamber 33 reaches the control target value (kPa), the driving of the exhaust pump 112 is stopped again.

この際、滅菌室33では、排気ポンプ112を駆動しての真空引きによって、オゾンガスも外部に放出される。このため、オゾンガスの濃度低下が発生する。そこで、制御回路61は、再びオゾン発生装置103を連続運転し、オゾン濃度を目標値に復活させる。その後は、オゾン発生装置103を断続運転に切り替え、オゾン濃度を目標値に維持する。なお、陰圧化をより短時間で行うために、別の実施の形態として、排気ポンプ112の駆動中はオゾン供給を停止するようにしてもよい。このようにするには、排気ポンプ112の駆動中、オゾン発生装置103を停止するとともに、電磁弁V1a及びV1bを閉じる。   At this time, in the sterilization chamber 33, ozone gas is also released to the outside by evacuation by driving the exhaust pump 112. For this reason, a decrease in the concentration of ozone gas occurs. Therefore, the control circuit 61 continuously operates the ozone generator 103 again to restore the ozone concentration to the target value. Thereafter, the ozone generator 103 is switched to intermittent operation, and the ozone concentration is maintained at the target value. In order to perform negative pressure in a shorter time, as another embodiment, ozone supply may be stopped while the exhaust pump 112 is being driven. To do this, while the exhaust pump 112 is being driven, the ozone generator 103 is stopped and the solenoid valves V1a and V1b are closed.

こうして、制御回路61は、滅菌室33にオゾンガスを導入してから目標のCT値に達するまで(図5のフローチャート中のステップS35〜ステップS37のYES)、滅菌室33内の圧力調整とオゾン濃度調整とを繰り返し実行する。ここに、圧力調節手段および濃度調節手段の機能が実行される。   Thus, the control circuit 61 adjusts the pressure in the sterilization chamber 33 and the ozone concentration until the target CT value is reached after introducing ozone gas into the sterilization chamber 33 (YES in steps S35 to S37 in the flowchart of FIG. 5). Repeat the adjustment. Here, the functions of the pressure adjusting means and the concentration adjusting means are executed.

ついで、図5のフローチャート中のステップS36の環境制御として、本実施の形態では、滅菌室33内の相対湿度調整も実行する。本実施の形態では、滅菌対象物に滅菌処理を施している間(図5のフローチャート中のステップS35〜ステップS37のNO)、相対湿度の値(%RH)も微妙に変動する。そこで、制御回路61は、切替機構141を駆動制御し、オゾンガス導入部101から滅菌室33内へのオゾンガスまたは酸素の供給を、乾燥ガス供給か湿潤ガス供給かに択一的に切り替える。つまり、制御回路61は、湿度計測部151によって滅菌室33内の相対湿度の値を知ることができる。そこで、滅菌室33内の相対湿度が目標湿度に達したならば、電磁弁V1aを開いて電磁弁V1bを閉じ、湿潤ガス供給から乾燥ガス供給に切り替える。これにより、相対湿度を低下させることができる。これに対して、滅菌室33内の相対湿度が目標湿度を下回った場合、電磁弁V1aを閉じて電磁弁V1bを開け、乾燥ガス供給から湿潤ガス供給に切り替える。これにより、相対湿度を上昇させることができる。ここに、湿度調節手段の機能が実行される。   Next, in the present embodiment, the relative humidity adjustment in the sterilization chamber 33 is also executed as the environmental control in step S36 in the flowchart of FIG. In the present embodiment, while the sterilization target is being sterilized (NO in steps S35 to S37 in the flowchart of FIG. 5), the relative humidity value (% RH) also slightly varies. Therefore, the control circuit 61 drives and controls the switching mechanism 141 to selectively switch the supply of ozone gas or oxygen from the ozone gas introduction unit 101 into the sterilization chamber 33 between dry gas supply and wet gas supply. That is, the control circuit 61 can know the value of the relative humidity in the sterilization chamber 33 by the humidity measuring unit 151. Therefore, when the relative humidity in the sterilization chamber 33 reaches the target humidity, the electromagnetic valve V1a is opened and the electromagnetic valve V1b is closed, and the wet gas supply is switched to the dry gas supply. Thereby, relative humidity can be reduced. On the other hand, when the relative humidity in the sterilization chamber 33 is lower than the target humidity, the electromagnetic valve V1a is closed and the electromagnetic valve V1b is opened to switch from dry gas supply to wet gas supply. Thereby, relative humidity can be raised. Here, the function of the humidity adjusting means is executed.

さらに、本実施の形態では、滅菌処理に際して、ファン172を駆動し続ける。これにより、滅菌室33内における温度、相対湿度、オゾン濃度の均一化を図ることができる。   Further, in the present embodiment, the fan 172 is continuously driven during the sterilization process. Thereby, the temperature, relative humidity, and ozone concentration in the sterilization chamber 33 can be made uniform.

図5のフローチャートの説明に戻る。制御回路61は、目標のCT値に達した後(ステップS37のYES)、滅菌室33内からオゾンガスを排出する(ステップS38)。つまり、電磁弁V11,V12,V2を開いて他の全ての電磁弁を閉じ、排気ポンプ112を駆動する。これにより、HEPAフィルタ104で清浄化された空気を滅菌室33に取り込みつつ、滅菌室33内のオゾンガスをオゾン分解ユニット114で酸素に分解して外部に放出することができる。   Returning to the flowchart of FIG. After reaching the target CT value (YES in step S37), the control circuit 61 discharges ozone gas from the sterilization chamber 33 (step S38). That is, the solenoid valves V11, V12, and V2 are opened, all other solenoid valves are closed, and the exhaust pump 112 is driven. Thereby, while the air cleaned by the HEPA filter 104 is taken into the sterilization chamber 33, the ozone gas in the sterilization chamber 33 can be decomposed into oxygen by the ozone decomposition unit 114 and released to the outside.

ついで、制御回路61は、排水処理を実行する(ステップS39)。これを実行するには、まず、電磁弁V2,V13,V32を開いて他のすべての電磁弁を閉じ、排気ポンプ112を駆動する。すると、ドレンタンク113内が陰圧になり、加湿槽132に溜めた水(純水)が配管P31,P13を通ってドレンタンク113に引き込まれる。次に、電磁弁V2,V13,V51を開いて他のすべての電磁弁を閉じ、排気ポンプ112を駆動する。すると、ドレンタンク113内が陰圧になり、湿球槽153に溜めた水(純水)が配管P51,P13を通ってドレンタンク113に引き込まれる。次に、電磁弁V2,V13,V31を開いて他のすべての電磁弁を閉じ、排気ポンプ112を駆動する。すると、ドレンタンク113内が陰圧になり、給水タンク134に溜めた水(純水)が配管P13を通ってドレンタンク113に引き込まれる。ドレンタンク113内に引き込んだ水(純水)は、電磁弁V2,V11,V14を開くことによって排水管P14から外部に排水することができる。   Next, the control circuit 61 executes drainage processing (step S39). In order to execute this, first, the solenoid valves V2, V13, V32 are opened, all other solenoid valves are closed, and the exhaust pump 112 is driven. Then, the inside of the drain tank 113 becomes negative pressure, and the water (pure water) stored in the humidification tank 132 is drawn into the drain tank 113 through the pipes P31 and P13. Next, the solenoid valves V2, V13, V51 are opened, all other solenoid valves are closed, and the exhaust pump 112 is driven. Then, the inside of the drain tank 113 becomes a negative pressure, and water (pure water) stored in the wet bulb tank 153 is drawn into the drain tank 113 through the pipes P51 and P13. Next, the solenoid valves V2, V13, V31 are opened, all other solenoid valves are closed, and the exhaust pump 112 is driven. Then, the inside of the drain tank 113 becomes negative pressure, and the water (pure water) accumulated in the water supply tank 134 is drawn into the drain tank 113 through the pipe P13. The water (pure water) drawn into the drain tank 113 can be drained to the outside from the drain pipe P14 by opening the solenoid valves V2, V11, V14.

ついで、制御回路61は、乾燥処理を実行する(ステップS40)。つまり、加熱部121の調温ヒータ122を駆動し、滅菌室33内を加温する。これにより、滅菌室33内の水分量(絶対湿度)は変わらなくても、相対湿度が下がるため、結露を防止することができる。   Next, the control circuit 61 executes a drying process (step S40). That is, the temperature control heater 122 of the heating unit 121 is driven to heat the inside of the sterilization chamber 33. Thereby, even if the amount of water (absolute humidity) in the sterilization chamber 33 does not change, the relative humidity decreases, so that condensation can be prevented.

ついで、制御回路61は、予め設定した回数がアップするまで(ステップS42のNO)、真空引きエアレーション(オゾン除去処理)を実行する(ステップS41)。つまり、電磁弁V11を開いて他の全ての電磁弁を閉じ、この状態で排気ポンプ112を駆動する。排気ポンプ112の駆動は、滅菌室33内が制御目標値(kPa)である高真空状態になるまで続行する。これにより、滅菌室33内の雰囲気ガスが外部に放出される。そして、制御回路61は、滅菌室33内が制御目標値(kPa)である高真空状態になったならば、電磁弁V2を開く。すると、HEPAフィルタ104を通過した清浄な空気が滅菌室33に流れ込む。これにより、滅菌室33内にまだある滅菌対象物に浸透していたオゾンガスを滅菌対象物から吸引し、これをオゾン分解ユニット114で分解して放出することができる。このような真空引きエアレーションは、予め設定した回数がアップするまで実行される(ステップS42のYES)。なお、ステップS41の真空引きエアレーションに際しては、滅菌室33内を制御目標値(kPa)よりもさらに高真空にするようにしてもよい。   Next, the control circuit 61 executes evacuation aeration (ozone removal process) (step S41) until the preset number is increased (NO in step S42). That is, the electromagnetic valve V11 is opened and all other electromagnetic valves are closed, and the exhaust pump 112 is driven in this state. The driving of the exhaust pump 112 continues until the inside of the sterilization chamber 33 is in a high vacuum state that is a control target value (kPa). Thereby, the atmospheric gas in the sterilization chamber 33 is released to the outside. The control circuit 61 opens the electromagnetic valve V2 when the inside of the sterilization chamber 33 is in a high vacuum state that is a control target value (kPa). Then, clean air that has passed through the HEPA filter 104 flows into the sterilization chamber 33. As a result, the ozone gas that has permeated the sterilization target that is still in the sterilization chamber 33 can be sucked from the sterilization target, and can be decomposed and released by the ozone decomposition unit 114. Such evacuation aeration is executed until the preset number of times is increased (YES in step S42). In the vacuum aeration in step S41, the inside of the sterilization chamber 33 may be evacuated further than the control target value (kPa).

ついで、制御回路61は、予め設定した時間だけ常圧エアレーション(オゾン除去処理)を実行する(ステップS43)。つまり、電磁弁V2およびV11を開いて他のすべての電磁弁を閉じ、この状態で排気ポンプ112を駆動する。これにより、滅菌室33内に残ったオゾンガスが排出され、HEPAフィルタ104を通過した清浄な空気が滅菌室33に流れ込む。制御回路61は、常圧エアレーションを予め設定した時間がタイムアップするまで実行したならば、陰圧滅菌処理を終了する。   Next, the control circuit 61 executes normal pressure aeration (ozone removal processing) for a preset time (step S43). That is, the solenoid valves V2 and V11 are opened and all other solenoid valves are closed, and the exhaust pump 112 is driven in this state. Thereby, the ozone gas remaining in the sterilization chamber 33 is discharged, and clean air that has passed through the HEPA filter 104 flows into the sterilization chamber 33. If the control circuit 61 executes the normal pressure aeration until the preset time has elapsed, the negative pressure sterilization process is terminated.

一方、制御回路61は、常圧滅菌処理の選択を判定した場合(ステップS11のNO)、加湿槽132および湿球槽153に対する給水処理を実行する(ステップS51)。後述する図7中の「給水」を参照されたい。制御回路61は、昇湿機構131の電磁弁V31,V32、湿度計測部151のV51、そして、陰圧生成部111の電磁弁V11を開き、排気ポンプ112を駆動する。これにより、滅菌室33内の気体が外部に排気され、給水タンク134に溜められた水(純水)が配管P31,P51内に吸引されて加湿槽132と湿球槽153とに供給される。前述したように、湿球槽153には満杯の水、加湿槽132には所望量の水を給水することができる。   On the other hand, when the control circuit 61 determines the selection of the normal pressure sterilization process (NO in step S11), the control circuit 61 performs a water supply process for the humidifying tank 132 and the wet bulb tank 153 (step S51). Refer to “Water Supply” in FIG. 7 described later. The control circuit 61 opens the electromagnetic valves V31 and V32 of the humidity increasing mechanism 131, V51 of the humidity measuring unit 151, and the electromagnetic valve V11 of the negative pressure generating unit 111, and drives the exhaust pump 112. Thereby, the gas in the sterilization chamber 33 is exhausted to the outside, and water (pure water) stored in the water supply tank 134 is sucked into the pipes P31 and P51 and supplied to the humidification tank 132 and the wet bulb tank 153. . As described above, the wet bulb tank 153 can be filled with full water, and the humidification tank 132 can be supplied with a desired amount of water.

ついで、制御回路61は、調温制御を実行する(ステップS52)。後述する図7中の「調温」を参照されたい。制御回路61は、加熱部121の調温ヒータ122を駆動制御して滅菌室33内の室温を調整し、昇湿機構131の調湿ヒータ133を駆動制御して加湿槽132に給水された水の水温を調整する。この際、室温および水温とも、20℃〜50℃の範囲で一定温度となるように調整する(温度調節手段)。但し、前述したように、滅菌室33内に求める相対湿度の値に応じて、室温よりも水温の方を少し高く調整する。これにより、次段階の調湿制御(ステップS53)を実行することで、滅菌室33内の相対湿度を、例えば80〜99%RH程度に上昇させることができる。   Next, the control circuit 61 executes temperature control (step S52). Refer to “temperature control” in FIG. 7 described later. The control circuit 61 drives and controls the temperature adjustment heater 122 of the heating unit 121 to adjust the room temperature in the sterilization chamber 33, and drives and controls the humidity adjustment heater 133 of the humidity increasing mechanism 131 to supply water to the humidifying tank 132. Adjust the water temperature. At this time, both the room temperature and the water temperature are adjusted to a constant temperature in the range of 20 ° C. to 50 ° C. (temperature adjusting means). However, as described above, the water temperature is adjusted slightly higher than the room temperature according to the value of the relative humidity required in the sterilization chamber 33. Thereby, the relative humidity in the sterilization chamber 33 can be raised to, for example, about 80 to 99% RH by executing the humidity control (step S53) in the next stage.

ついで、制御回路61は、加湿処理を実行する(ステップS53)。後述する図7中の「調湿」を参照されたい。制御回路61は、電磁弁V1b、V11,V12を開き、PSA式酸素発生装置102によって発生させた酸素を、配管P1bを介して滅菌室33内に導く。こうして、加湿槽132を通過する間に水分を取り込んだ湿潤酸素ガスが滅菌室33内に供給され、これによって、滅菌室33内の湿度が上昇する。制御回路61は、目標湿度に達したならば、次の処理に進む。   Next, the control circuit 61 performs a humidification process (step S53). Refer to “humidity control” in FIG. 7 described later. The control circuit 61 opens the solenoid valves V1b, V11, and V12, and guides oxygen generated by the PSA oxygen generator 102 into the sterilization chamber 33 through the pipe P1b. In this way, wet oxygen gas that has taken in moisture while passing through the humidification tank 132 is supplied into the sterilization chamber 33, thereby increasing the humidity in the sterilization chamber 33. When the target humidity is reached, the control circuit 61 proceeds to the next process.

ついで、制御回路61は、オゾンガスの導入処理を実行する(ステップS54)。後述する図7中の「オゾン連続発生」を参照されたい。制御回路61は、電磁弁V1(V1aまたはV1b),V11,V12を開き、PSA式酸素発生装置102によって発生させた酸素を、配管P1(P1aまたはP1b)を介して滅菌室33に導く。この過程で、オゾン発生装置103を動作させることによって、滅菌室33に導くガスをオゾンガスとする。この際、制御回路61は、滅菌室33内の相対湿度に応じて、電磁弁V1aと電磁弁V1bとのいずれか一方を開く。つまり、滅菌室33内の湿度が目標湿度より高いときは電磁弁V1aを開き、低いときは電磁弁V1bを開く。これにより、滅菌室33内の湿度が目標湿度より高いときは、気中に開口する配管P1aから滅菌室33内に乾燥ガス供給がなされ、目標湿度より低いときは、水中に開口する配管P1bのバブラ135から滅菌室33内に湿潤ガス供給がなされる。   Next, the control circuit 61 executes an ozone gas introduction process (step S54). Refer to “Ozone continuous generation” in FIG. 7 described later. The control circuit 61 opens the solenoid valves V1 (V1a or V1b), V11, and V12, and guides oxygen generated by the PSA oxygen generator 102 to the sterilization chamber 33 via the pipe P1 (P1a or P1b). In this process, by operating the ozone generator 103, the gas led to the sterilization chamber 33 is made ozone gas. At this time, the control circuit 61 opens one of the electromagnetic valve V1a and the electromagnetic valve V1b according to the relative humidity in the sterilization chamber 33. That is, when the humidity in the sterilization chamber 33 is higher than the target humidity, the electromagnetic valve V1a is opened, and when the humidity is low, the electromagnetic valve V1b is opened. Thereby, when the humidity in the sterilization chamber 33 is higher than the target humidity, the dry gas is supplied into the sterilization chamber 33 from the pipe P1a that opens to the air. When the humidity is lower than the target humidity, the pipe P1b that opens to the water is supplied. Wet gas is supplied from the bubbler 135 into the sterilization chamber 33.

ここで、オゾンガスの導入処理に際して重要なことは、オゾン濃度、およびオゾン濃度(ppm)×時間(min)によって算出されるCT値である。制御回路61は、オゾン濃度計162の出力を取り込んでCT値(オゾン濃度(ppm)×時間(min))を算出し、このCT値が滅菌に必要な値に達するまで、オゾンガス導入部101を駆動制御する。この際、CT値の算出には、オゾン濃度一定となっている時間におけるオゾン濃度の値を用いるが、オゾン濃度の上昇中または下降中であっても、台形公式等の数値積分を使用してCTを算出することができる。   Here, what is important in the ozone gas introduction process is the ozone concentration and the CT value calculated by the ozone concentration (ppm) × time (min). The control circuit 61 takes in the output of the ozone concentration meter 162 and calculates a CT value (ozone concentration (ppm) × time (min)). The ozone gas introduction unit 101 is operated until the CT value reaches a value necessary for sterilization. Drive control. At this time, the CT value is calculated using the value of the ozone concentration at a time when the ozone concentration is constant. Even if the ozone concentration is rising or falling, numerical integration such as a trapezoidal formula is used. CT can be calculated.

その後、制御回路61は、滅菌室33内の環境制御を実行しながら、予め設定されたCT値に達するまで、滅菌室33に対してオゾンガスを供給する(ステップS55、ステップS56のNO)。   After that, the control circuit 61 supplies ozone gas to the sterilization chamber 33 until it reaches a preset CT value while executing environmental control in the sterilization chamber 33 (NO in Step S55 and Step S56).

図7は、常圧滅菌処理に際しての滅菌室33内の圧力とオゾン濃度との関係を経時的に示すタイミングチャートである。常圧滅菌処理に際しては、滅菌室33内の圧力は0(kPa)に維持され続ける。制御回路61は、オゾンガス導入工程(ステップS54)に入ると、PSA式酸素発生装置102およびオゾン発生装置103を駆動する。これにより、滅菌室33内のオゾン濃度が上昇し始める。この際、制御回路61は、オゾン濃度計162の出力を取り込んでCT値(オゾン濃度(ppm)×時間(min))を算出し、オゾン濃度とCT値とを監視する。そして、オゾン濃度が目標値に達したならば、オゾン発生装置103の駆動を断続駆動に切り替える。このタイミングが、図5のフローチャート中のステップS54からステップS55への遷移である。図7に示すように、オゾン発生装置103が断続駆動されると、オゾン濃度は一定値を保つ。というよりも、制御回路61は、オゾン濃度が目標値に達した後、そのオゾン濃度を維持するようにオゾン発生装置103を断続駆動するわけである。なお、オゾン発生装置103は、CT値が目標に達するまで、断続駆動に切り替えられている。   FIG. 7 is a timing chart showing the relationship between the pressure in the sterilization chamber 33 and the ozone concentration over time during the normal pressure sterilization process. During the normal pressure sterilization process, the pressure in the sterilization chamber 33 is maintained at 0 (kPa). When entering the ozone gas introduction step (step S54), the control circuit 61 drives the PSA oxygen generator 102 and the ozone generator 103. Thereby, the ozone concentration in the sterilization chamber 33 starts to rise. At this time, the control circuit 61 takes in the output of the ozone concentration meter 162, calculates the CT value (ozone concentration (ppm) × time (min)), and monitors the ozone concentration and the CT value. When the ozone concentration reaches the target value, the driving of the ozone generator 103 is switched to intermittent driving. This timing is a transition from step S54 to step S55 in the flowchart of FIG. As shown in FIG. 7, when the ozone generator 103 is intermittently driven, the ozone concentration maintains a constant value. Rather, after the ozone concentration reaches the target value, the control circuit 61 intermittently drives the ozone generator 103 so as to maintain the ozone concentration. The ozone generator 103 is switched to intermittent driving until the CT value reaches the target.

ついで、図5のフローチャート中のステップS55の環境制御として、本実施の形態では、滅菌室33内の相対湿度調整も実行する。本実施の形態では、滅菌対象物に滅菌処理を施している間(図5のフローチャート中のステップS54〜ステップS56のNO)、相対湿度の値(%RH)も微妙に変動する。そこで、制御回路61は、切替機構141を駆動制御し、オゾンガス導入部101から滅菌室33内へのオゾンガスまたは酸素の供給を、乾燥ガス供給か湿潤ガス供給かに択一的に切り替える。つまり、制御回路61は、湿度計測部151によって滅菌室33内の相対湿度の値を知ることができる。そこで、滅菌室33内の相対湿度が目標湿度に達したならば、電磁弁V1aを開いて電磁弁V1bを閉じ、湿潤ガス供給から乾燥ガス供給に切り替える。これにより、相対湿度を低下させることができる。これに対して、滅菌室33内の相対湿度が目標湿度を下回った場合、電磁弁V1aを閉じて電磁弁V1bを開け、乾燥ガス供給から湿潤ガス供給に切り替える。これにより、相対湿度を上昇させることができる。ここに、湿度調節手段の機能が実行される。   Next, as the environmental control in step S55 in the flowchart of FIG. 5, in the present embodiment, the relative humidity in the sterilization chamber 33 is also adjusted. In the present embodiment, while the sterilization target is being sterilized (NO in steps S54 to S56 in the flowchart of FIG. 5), the value of relative humidity (% RH) also varies slightly. Therefore, the control circuit 61 drives and controls the switching mechanism 141 to selectively switch the supply of ozone gas or oxygen from the ozone gas introduction unit 101 into the sterilization chamber 33 between dry gas supply and wet gas supply. That is, the control circuit 61 can know the value of the relative humidity in the sterilization chamber 33 by the humidity measuring unit 151. Therefore, when the relative humidity in the sterilization chamber 33 reaches the target humidity, the electromagnetic valve V1a is opened and the electromagnetic valve V1b is closed, and the wet gas supply is switched to the dry gas supply. Thereby, relative humidity can be reduced. On the other hand, when the relative humidity in the sterilization chamber 33 is lower than the target humidity, the electromagnetic valve V1a is closed and the electromagnetic valve V1b is opened to switch from dry gas supply to wet gas supply. Thereby, relative humidity can be raised. Here, the function of the humidity adjusting means is executed.

さらに、本実施の形態では、滅菌処理に際して、循環ファン171を駆動し続ける。これにより、滅菌室33内における温度、相対湿度、オゾン濃度の均一化を図ることができる。   Further, in the present embodiment, the circulation fan 171 is continuously driven during the sterilization process. Thereby, the temperature, relative humidity, and ozone concentration in the sterilization chamber 33 can be made uniform.

図5のフローチャートの説明に戻る。制御回路61は、目標のCT値に達した後(ステップS56のYES)、滅菌室33内からオゾンガスを排出する(ステップS57)。つまり、電磁弁V11,V12,V2を開いて他の全ての電磁弁を閉じ、排気ポンプ112を駆動する。これにより、HEPAフィルタ104で清浄化された空気を滅菌室33に取り込みつつ、滅菌室33内のオゾンガスをオゾン分解ユニット114で酸素に分解して外部に放出することができる。   Returning to the flowchart of FIG. After reaching the target CT value (YES in step S56), the control circuit 61 discharges ozone gas from the sterilization chamber 33 (step S57). That is, the solenoid valves V11, V12, and V2 are opened, all other solenoid valves are closed, and the exhaust pump 112 is driven. Thereby, while the air cleaned by the HEPA filter 104 is taken into the sterilization chamber 33, the ozone gas in the sterilization chamber 33 can be decomposed into oxygen by the ozone decomposition unit 114 and released to the outside.

ついで、制御回路61は、排水処理を実行する(ステップS58)。これを実行するには、まず、電磁弁V2,V13,V32を開いて他のすべての電磁弁を閉じ、排気ポンプ112を駆動する。すると、ドレンタンク113内が陰圧になり、加湿槽132に溜めた水(純水)が配管P31,P13を通ってドレンタンク113に引き込まれる。次に、電磁弁V2,V13,V51を開いて他のすべての電磁弁を閉じ、排気ポンプ112を駆動する。すると、ドレンタンク113内が陰圧になり、湿球槽153に溜めた水(純水)が配管P51,P13を通ってドレンタンク113に引き込まれる。次に、電磁弁V2,V13,V31を開いて他のすべての電磁弁を閉じ、排気ポンプ112を駆動する。すると、ドレンタンク113内が陰圧になり、給水タンク134に溜めた水(純水)が配管P13を通ってドレンタンク113に引き込まれる。ドレンタンク113内に引き込んだ水(純水)は、電磁弁V2,V11,V14を開くことによって、排水管P14から外部に排水することができる。   Next, the control circuit 61 executes drainage processing (step S58). In order to execute this, first, the solenoid valves V2, V13, V32 are opened, all other solenoid valves are closed, and the exhaust pump 112 is driven. Then, the inside of the drain tank 113 becomes negative pressure, and the water (pure water) stored in the humidification tank 132 is drawn into the drain tank 113 through the pipes P31 and P13. Next, the solenoid valves V2, V13, V51 are opened, all other solenoid valves are closed, and the exhaust pump 112 is driven. Then, the inside of the drain tank 113 becomes a negative pressure, and water (pure water) stored in the wet bulb tank 153 is drawn into the drain tank 113 through the pipes P51 and P13. Next, the solenoid valves V2, V13, V31 are opened, all other solenoid valves are closed, and the exhaust pump 112 is driven. Then, the inside of the drain tank 113 becomes negative pressure, and the water (pure water) accumulated in the water supply tank 134 is drawn into the drain tank 113 through the pipe P13. The water (pure water) drawn into the drain tank 113 can be drained to the outside from the drain pipe P14 by opening the solenoid valves V2, V11, V14.

ついで、制御回路61は、乾燥処理を実行する(ステップS59)。つまり、加熱部121の調温ヒータ122を駆動し、滅菌室33内を加温する。これにより、滅菌室33内の水分量(絶対湿度)は変わらなくても、相対湿度が下がるため、結露を防止することができる。   Next, the control circuit 61 performs a drying process (step S59). That is, the temperature control heater 122 of the heating unit 121 is driven to heat the inside of the sterilization chamber 33. Thereby, even if the amount of water (absolute humidity) in the sterilization chamber 33 does not change, the relative humidity decreases, so that condensation can be prevented.

ついで、制御回路61は、常圧エアレーション(オゾン除去処理)を実行する(ステップS60)。つまり、電磁弁V2,V11を開いて他の全ての電磁弁を閉じ、この状態で排気ポンプ112を駆動する。これにより、HEPAフィルタ104を通過した清浄な空気を滅菌室33に取り込みつつ、滅菌室33内のオゾンガスをオゾン分解ユニット114で分解して外部に放出することができる。その後、常圧滅菌処理を終了する。   Next, the control circuit 61 performs normal pressure aeration (ozone removal process) (step S60). That is, the solenoid valves V2 and V11 are opened and all other solenoid valves are closed, and the exhaust pump 112 is driven in this state. Thereby, while the clean air that has passed through the HEPA filter 104 is taken into the sterilization chamber 33, the ozone gas in the sterilization chamber 33 can be decomposed by the ozone decomposition unit 114 and released to the outside. Thereafter, the normal pressure sterilization process is terminated.

以上説明したように、本実施の形態によれば、陰圧滅菌処理と常圧滅菌処理とのうちから滅菌対象物に適合する滅菌処理を容易に選択することができる(図5のフローチャート中のステップS11)。そして、常圧滅菌処理では十分な滅菌効果を期待できない滅菌対象物であっても、陰圧滅菌処理を選択した場合には、滅菌対象物の内部までオゾンガスを浸透させることができるので、高い滅菌効果を得ることができる。また、制御回路61が、湿度調節手段、圧力調節手段、濃度調節手段、温度調節手段の機能を実行するので、選択したいずれの滅菌処理に際しても、オゾンガスが効率よく反応できる環境条件を整えて効果的な滅菌処理を行なうことができる。   As described above, according to the present embodiment, it is possible to easily select a sterilization process suitable for an object to be sterilized from the negative pressure sterilization process and the normal pressure sterilization process (in the flowchart of FIG. 5). Step S11). Even if the sterilization target cannot be expected to have a sufficient sterilization effect under normal pressure sterilization, ozone gas can penetrate into the sterilization target when negative pressure sterilization is selected. An effect can be obtained. In addition, since the control circuit 61 performs the functions of the humidity adjusting means, the pressure adjusting means, the concentration adjusting means, and the temperature adjusting means, it is effective to arrange environmental conditions that allow ozone gas to react efficiently in any selected sterilization process. Sterilization can be performed.

また、本実施の形態によれば、水の移動を排気ポンプ112と電磁弁Vのみによって行なっている。これにより、次に示す利点がある。   Further, according to the present embodiment, water is moved only by the exhaust pump 112 and the electromagnetic valve V. This has the following advantages.

(1)水ポンプが不要である。
このため、装置の構造が簡単になる。
また、水ポンプを用いた場合には不可避である運転終了後における水ポンプ内の水の残留がなく、水ポンプの残水を排出するが如き機構が不要である。呼び水も不要である。
(1) No water pump is required.
For this reason, the structure of the apparatus is simplified.
In addition, when a water pump is used, there is no residual water in the water pump after the end of the operation, which is inevitable, and a mechanism for discharging the remaining water of the water pump is unnecessary. No priming is required.

(2)重力で水を移動する構造ではない。
これにより、各種水槽(ドレンタンク113、給水タンク134、加湿槽132、湿球槽153)の配置の自由度が高まる。
例えば、給水タンク134を装置の下部に配置し、ドレンタンク113を装置の上部に配置することができる。給水タンク134を下部に配置すると、装置に水を入れるに際して高い位置まで水を持ち上げる必要がないので、作業が楽にできる。また、ドレンタンク113を上部に配置すると、通常のシンク(流し台)にそのまま排水できるので、特別な排水工事なしで据付をすることができる。
もっとも、別の実施の形態として、給水タンク134を上部に、ドレンタンク113を下部に配置し、重力を併用して水を流すようにしてもよい。
(2) It is not a structure that moves water by gravity.
Thereby, the freedom degree of arrangement | positioning of various water tanks (the drain tank 113, the water supply tank 134, the humidification tank 132, the wet bulb tank 153) increases.
For example, the water supply tank 134 can be arranged at the lower part of the apparatus, and the drain tank 113 can be arranged at the upper part of the apparatus. When the water supply tank 134 is arranged at the lower part, it is not necessary to lift the water to a high position when water is put into the apparatus, so that work can be facilitated. Further, if the drain tank 113 is arranged at the upper part, it can be drained as it is into a normal sink (a sink), so that it can be installed without any special drainage work.
However, as another embodiment, the water supply tank 134 may be arranged on the upper side, the drain tank 113 may be arranged on the lower side, and the water may flow using gravity together.

また、本実施の形態によれば、滅菌庫31の温度制御を調温ヒータ122のみによって行なっている。これに対して、実施に際しては、冷凍機を設け、調温ヒータ122と冷凍機とを併用して、より精密に温度を制御するようにしてもよい。   Further, according to the present embodiment, the temperature control of the sterilization chamber 31 is performed only by the temperature control heater 122. On the other hand, at the time of implementation, a refrigerator may be provided, and the temperature control heater 122 and the refrigerator may be used together to control the temperature more precisely.

さらに、本実施の形態によれば、加湿槽132内の水温制御を調湿ヒータ133のみによって行なっている。これに対して、実施に際しては、加湿槽132内の水温が上がり過ぎた場合に、加湿槽132内の水を一部ドレンタンク113に排出し、給水タンク134から再び補充することにより水温を下げるように各部を制御するようにしてもよい。   Furthermore, according to the present embodiment, the water temperature in the humidifying tank 132 is controlled only by the humidity control heater 133. In contrast, when the water temperature in the humidification tank 132 is excessively increased, the water temperature is lowered by partially discharging the water in the humidification tank 132 to the drain tank 113 and replenishing it from the water supply tank 134. In this way, each unit may be controlled.

31 滅菌庫
33 滅菌室
101 オゾンガス導入部
102 PSA式酸素発生装置
103 オゾン発生装置
111 陰圧生成部
131 昇湿機構
132 加湿槽
141 切替機構
152 湿度計
153 湿球槽
162 オゾン濃度計
S1 乾球温度センサ(温度計)
S4 圧力センサ(圧力計)
31 Sterilization chamber 33 Sterilization chamber 101 Ozone gas introduction part 102 PSA type oxygen generator 103 Ozone generator 111 Negative pressure generation part 131 Humidification mechanism 132 Humidification tank 141 Switching mechanism 152 Hygrometer 153 Wet bulb tank 162 Ozone concentration meter S1 Dry bulb temperature Sensor (thermometer)
S4 Pressure sensor (pressure gauge)

Claims (10)

滅菌対象物を気密に収納する滅菌室を内部に形成する滅菌庫と、
前記滅菌室内にオゾンガスを導入するオゾンガス導入部と、
前記滅菌室内に配置した加湿槽と、
前記オゾンガス導入部が有するオゾンガスの導入位置を、前記加湿槽に溜めた水の外部に定める乾燥ガス供給と内部に定める湿潤ガス供給とに択一的に切り替える切替機構と、
前記切替機構によって前記湿潤ガス供給に切り替えると共に、前記加湿槽に溜めた水を加熱制御して室温よりも水温を所定温度だけ高くすることで、前記滅菌室内の相対湿度を上昇させる昇湿機構と、
前記滅菌室内の相対湿度を計測する湿度計と、
前記湿度計によって計測される前記滅菌室内の相対湿度が所定湿度範囲となるように前記乾燥ガス供給と前記湿潤ガス供給とを切り替え制御する湿度調節手段と、
を備える、ことを特徴とするオゾンガス滅菌装置。
A sterilization cabinet that forms a sterilization chamber for airtight storage of objects to be sterilized;
An ozone gas introduction part for introducing ozone gas into the sterilization chamber;
A humidifying tank disposed in the sterilization chamber;
A switching mechanism that selectively switches the introduction position of the ozone gas that the ozone gas introduction unit has between a dry gas supply defined outside the water stored in the humidification tank and a wet gas supply defined inside;
A humidity increasing mechanism that increases the relative humidity in the sterilization chamber by switching to the wet gas supply by the switching mechanism and heating the water stored in the humidification tank to make the water temperature higher than the room temperature by a predetermined temperature. ,
A hygrometer for measuring the relative humidity in the sterilization chamber;
Humidity control means for switching and controlling the dry gas supply and the wet gas supply so that the relative humidity in the sterilization chamber measured by the hygrometer falls within a predetermined humidity range;
An ozone gas sterilization apparatus comprising:
前記湿度計は、
前記滅菌室内の圧力を計測する機能と、
前記滅菌室内に配置した湿球槽に溜めた水に浸したウィックに覆われた湿球の温度と水に浸さない乾球の温度とを計測する機能と、
を有し、計測した前記湿球の温度と前記乾球の温度と前記滅菌室内の圧力とに基づいて前記滅菌室内の相対湿度を算出する、
ことを特徴とする請求項に記載のオゾンガス滅菌装置。
The hygrometer is
A function of measuring the pressure in the sterilization chamber;
A function of measuring the temperature of a wet bulb covered with a wick immersed in water stored in a wet bulb tank disposed in the sterilization chamber and the temperature of a dry bulb not immersed in water;
The a, calculates the relative humidity of the sterilizing chamber based on the pressure temperature and the previous SL sterilization chamber temperature and the dry-bulb of the measured the wet bulb,
The ozone gas sterilizer according to claim 1 .
前記滅菌室内の気体を排気して前記滅菌室内を陰圧にする陰圧生成部と、
前記オゾンガス導入部によって前記滅菌室内にオゾンガスを導入して滅菌対象物を滅菌するに際して、前記陰圧生成部によって前記滅菌室を陰圧にする陰圧滅菌処理と前記滅菌室を陰圧にしない常圧滅菌処理とを択一的に選択可能とする選択手段と、
を備える、ことを特徴とする請求項2に記載のオゾンガス滅菌装置。
A negative pressure generating unit that exhausts the gas in the sterilization chamber to create a negative pressure in the sterilization chamber;
When sterilizing an object to be sterilized by introducing ozone gas into the sterilization chamber by the ozone gas introduction unit, a negative pressure sterilization process in which the sterilization chamber is made negative pressure by the negative pressure generating unit, and the sterilization chamber is not made negative pressure. A selection means that can selectively select autoclaving,
The ozone gas sterilizer according to claim 2, comprising:
前記滅菌室内のオゾン濃度を計測するオゾン濃度計と、
前記陰圧滅菌処理に際して、前記計測される前記滅菌室内の圧力が所定陰圧範囲となるように前記陰圧生成部を断続制御する圧力調節手段と、
前記陰圧滅菌処理に際して、前記オゾン濃度計によって計測される前記滅菌室内のオゾン濃度が所定濃度範囲となるように前記オゾンガス導入部が備えるオゾン発生装置を断続制御する濃度調節手段と、
を備える、ことを特徴とする請求項3に記載のオゾンガス滅菌装置。
An ozone concentration meter for measuring the ozone concentration in the sterilization chamber;
Pressure adjusting means for intermittently controlling the negative pressure generating unit so that the measured pressure in the sterilization chamber falls within a predetermined negative pressure range during the negative pressure sterilization process;
In the negative autoclaved, and the concentration adjusting means ozone concentration of the sterilization chamber which is measured by the ozone concentration meter intermittently controls the ozone generator provided in the ozone gas inlet portion to a predetermined concentration range,
The ozone gas sterilizer according to claim 3, comprising:
前記滅菌室内の気体を排気して前記滅菌室内を陰圧にする陰圧生成部と、A negative pressure generating unit that exhausts the gas in the sterilization chamber to create a negative pressure in the sterilization chamber;
前記オゾンガス導入部によって前記滅菌室内にオゾンガスを導入して滅菌対象物を滅菌するに際して、前記陰圧生成部によって前記滅菌室を陰圧にする陰圧滅菌処理と前記滅菌室を陰圧にしない常圧滅菌処理とを択一的に選択可能とする選択手段と、When sterilizing an object to be sterilized by introducing ozone gas into the sterilization chamber by the ozone gas introduction unit, a negative pressure sterilization process in which the sterilization chamber is made negative pressure by the negative pressure generating unit, and the sterilization chamber is not made negative pressure. A selection means that can selectively select autoclaving,
を備える、ことを特徴とする請求項1に記載のオゾンガス滅菌装置。The ozone gas sterilizer according to claim 1, comprising:
前記滅菌室内の圧力を計測する圧力計と、
前記滅菌室内のオゾン濃度を計測するオゾン濃度計と、
前記陰圧滅菌処理に際して、前記圧力計によって計測される前記滅菌室内の圧力が所定陰圧範囲となるように前記陰圧生成部を断続制御する圧力調節手段と、
前記陰圧滅菌処理に際して、前記オゾン濃度計によって計測される前記滅菌室内のオゾン濃度が所定濃度範囲となるように前記オゾンガス導入部が備えるオゾン発生装置を断続制御する濃度調節手段と、
を備える、ことを特徴とする請求項に記載のオゾンガス滅菌装置。
A pressure gauge for measuring the pressure in the sterilization chamber;
An ozone concentration meter for measuring the ozone concentration in the sterilization chamber;
Pressure adjusting means for intermittently controlling the negative pressure generating unit so that the pressure in the sterilization chamber measured by the pressure gauge falls within a predetermined negative pressure range during the negative pressure sterilization process;
In the negative autoclaved, and the concentration adjusting means ozone concentration of the sterilization chamber which is measured by the ozone concentration meter intermittently controls the ozone generator provided in the ozone gas inlet portion to a predetermined concentration range,
The ozone gas sterilizer according to claim 5 , comprising:
前記陰圧滅菌処理の後処理として、前記滅菌室内の水を排水して前記滅菌室内を加熱する乾燥処理を実行する、
ことを特徴とする請求項ないしのいずれか一に記載のオゾンガス滅菌装置。
As a post-treatment of the negative pressure sterilization process, a drying process is performed in which water in the sterilization chamber is drained and the sterilization chamber is heated.
The ozone gas sterilization apparatus according to any one of claims 3 to 6 , wherein
前記陰圧滅菌処理の後処理として、前記乾燥処理の後、前記陰圧生成部によって前記滅菌室内を所定の真空度まで陰圧にした後に常圧に戻すオゾン除去処理を実行する、
ことを特徴とする請求項7に記載のオゾンガス滅菌装置。
As the post-treatment of the negative pressure sterilization process, after the drying process, the negative pressure generating unit performs an ozone removal process of making the sterilization chamber negative pressure to a predetermined vacuum level and then returning to normal pressure.
The ozone gas sterilizer according to claim 7.
滅菌処理の後処理として、前記滅菌室内の水を排水して前記滅菌室内を加熱する乾燥処理を実行する、As a post-treatment of the sterilization process, a drying process is performed in which the water in the sterilization chamber is drained and the sterilization chamber is heated.
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のオゾンガス滅菌装置。The ozone gas sterilizer according to claim 1 or 2.
前記滅菌室内の温度を計測する温度計と、
前記温度計によって計測される前記滅菌室内の室温が所定温度範囲となるように前記滅菌室内を加熱制御する温度調節手段と、
を備える、ことを特徴とする請求項ないしのいずれか一に記載のオゾンガス滅菌装置。
A thermometer for measuring the temperature in the sterilization chamber;
Temperature adjusting means for controlling the heating of the sterilization chamber so that the room temperature of the sterilization chamber measured by the thermometer is within a predetermined temperature range;
The provided, ozone sterilization apparatus according to any one of claims 1 to 9, characterized in that.
JP2010183303A 2010-08-18 2010-08-18 Ozone gas sterilizer Active JP5620192B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010183303A JP5620192B2 (en) 2010-08-18 2010-08-18 Ozone gas sterilizer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010183303A JP5620192B2 (en) 2010-08-18 2010-08-18 Ozone gas sterilizer

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2012040143A JP2012040143A (en) 2012-03-01
JP5620192B2 true JP5620192B2 (en) 2014-11-05

Family

ID=45897131

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010183303A Active JP5620192B2 (en) 2010-08-18 2010-08-18 Ozone gas sterilizer

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5620192B2 (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6113528B2 (en) * 2013-03-04 2017-04-12 株式会社Ihiシバウラ Sterilization / deodorization equipment
JP2017012400A (en) * 2015-06-30 2017-01-19 株式会社大林組 Decontamination method and decontamination system
JP6963588B2 (en) * 2019-06-12 2021-11-10 ダイキン工業株式会社 Humidifier
CN113425421A (en) * 2021-07-06 2021-09-24 河南科技大学第一附属医院 Sterile placer of nursing utensil of nephrology dept

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2534060B2 (en) * 1987-05-13 1996-09-11 増田 佳子 Disinfection and sterilization equipment for dental instruments
JPH1142277A (en) * 1997-07-25 1999-02-16 Zexel Corp Water-supplying structure for humidity sensor in ozone disinfection apparatus
JP4042230B2 (en) * 1998-11-16 2008-02-06 株式会社Ihi Microbial killing device
CA2270512C (en) * 1999-04-30 2008-10-07 Sylvie Dufresne Method and apparatus for ozone sterilization
JP4174977B2 (en) * 2001-06-06 2008-11-05 株式会社Ihi Ozone sterilizer
JP4052320B2 (en) * 2005-06-02 2008-02-27 株式会社Ihi Sterilizer
JP4773982B2 (en) * 2007-01-23 2011-09-14 株式会社Ihiシバウラ Sterilization gas infiltration device
JP4773986B2 (en) * 2007-01-31 2011-09-14 株式会社Ihiシバウラ Ozone gas sterilizer

Also Published As

Publication number Publication date
JP2012040143A (en) 2012-03-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5620192B2 (en) Ozone gas sterilizer
JP4916201B2 (en) Incubator
KR101364547B1 (en) Cloth drier and washing machine with cloth drying function
US20130236363A1 (en) Sterilization apparatus
EP2578242B1 (en) Sterilization apparatus and sterilization method
JP3222504U (en) Smart shoe rack
CN106062652B (en) System and method for controlling humidity
JP4773986B2 (en) Ozone gas sterilizer
KR20120065504A (en) Sterilizing apparatus in airtight space using ozone and humidity
JPH03111026A (en) Device for cleaning and disinfecting endoscope
JP2003339639A (en) Sterilizer for endoscope
JPH03176061A (en) Washer/disinfector for endoscope
JP6479459B2 (en) Ozone water disinfection machine
JPWO2014163049A1 (en) Sterilization apparatus and sterilization method
CN113693591A (en) 502 fuming cabinet with full-automatic evaporation and fuming isolation
US9173968B2 (en) Sterilization apparatus and sterilization method
JP2013213425A (en) Control method for water-sealed vacuum pump
JP2011245066A (en) Method and apparatus for gas sterilization
JP4250099B2 (en) Gas partial pressure adjusting device, culture device, and culture method
JP5899776B2 (en) Portable sterilizer.
JP2010057597A (en) Decontamination method of prefilled syringe
JP2014061228A (en) Steam sterilizer
CN215840573U (en) Disinfection cabinet and integrated stove with same
JP6422767B2 (en) Ozone water disinfector
JP6422766B2 (en) Ozone water disinfector

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130708

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20140410

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20140422

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140613

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140909

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140918

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5620192

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250