JP5611239B2 - 金属フッ化物結晶、真空紫外発光素子及び真空紫外発光シンチレーター - Google Patents
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Description
より短波長の発光波長200nm以下の真空紫外発光材料は、真空紫外発光素子として、フォトリソグラフィー、半導体や液晶の基板洗浄、殺菌等にも好適に使用できるため、開発が望まれている。しかし、かかる真空紫外発光素子を得ることは容易ではなく、わずかな例しか知られていないのが現状である。
微弱光検出器には光電子増倍管やSi受光素子を用いるのが主流であるが、近年、ダイヤモンドやAlGaNを受光面に用いた真空紫外光受光素子が開発されている。これらの受光素子は従来のSi半導体受光素子に比べ、真空紫外光よりもエネルギーの低い可視光には感応しないため、低バックグラウンドノイズが実現可能で、放射線検出器に組み込むのに有望な受光素子である。そのため、これらの受光素子に対して好適な新しい真空紫外発光シンチレーターの開発が求められている。
一例として、Ndを添加したフッ化ランタン結晶がある(非特許文献1参照)。この結晶は、既に医療診断機器用の単結晶シンチレーターとして実用化されているLSO(Ce添加Lu系酸化物;発光波長約400nm)と比べ、175nmの短波長発光を実現しているものの、Lu(原子番号Z=71)より原子番号が低いLa(Z=57)を母材として主に含有している。Laの原子番号は全元素中では比較的高く、Ndを添加したフッ化ランタン結晶のガンマ線阻止能は良好な特性を有するものの、LSOと比べると十分ではない。
さらに、真空紫外領域における発光特性は、材料中の不純物の影響を受けやすく、また、たとえ真空紫外領域に発光のエネルギー準位を有する材料であっても、より低いエネルギー準位に基づく長波長の発光が支配的であったり、非輻射遷移による損失が甚大であったりする等の理由により、所望の真空紫外発光を得られない場合が多い。
したがって、真空紫外領域における発光特性を予め予測することは極めて困難であり、このことが真空紫外発光素子の開発における大きな障壁となっている。
上記金属フッ化物結晶の発明において、Y=1で、0.9≦X≦1.0で、且つ、0.05≦Z≦0.4である、即ち、化学式 K3−XNaXTmZLu1−ZF6(式中、0.9≦X≦1.0、0.05≦Z≦0.4である)で表される金属フッ化物結晶が好適である。
他の発明は、上記金属フッ化物結晶からなること特徴とする真空紫外発光素子及び真空紫外発光シンチレーターである。
該結晶からなる真空紫外発光素は、フォトリソグラフィー、半導体や液晶の基板洗浄、殺菌、次世代大容量光ディスク、及び医療(眼科治療、DNA切断)等に好適に使用することができる。また、ダイヤモンド受光素子やAlGaN受光素子等の真空紫外用の微弱光検出器に対するシンチレーターとして好適に使用できる。
更に、本発明の金属フッ化物結晶は潮解性が少なく、大気中で取り扱うことが可能である。そのため、特別に湿度管理された乾燥設備内でなくとも作製・加工できる利点がある。
本発明の金属フッ化物結晶は、化学式K3LuF6で表される金属フッ化物結晶のKの一部をNaに置き換え、Luの一部をTmで置き換え、さらにKとNaの合計の原子数とTmとLuの合計の原子数の比率を変えた組成としたものである。式中のXは、KとNaの合計の原子数に対するNaの量を示し、Xの値が高いほど、KがNaにより置換される割合が増加する。YはKとNaの合計の原子数に対するTmとLuの合計の原子数の割合を示す。
そのような原子数の比率で原料粉末を秤量して育成した結晶において、本発明の結晶と類似の粉末X線回折パターンが確認できる場合は、X及びYが定められた範囲内の値の前記化学式で表される本発明の結晶が生成し、しかも異相として本発明の結晶とは異なる結晶構造を持つ結晶が混合している。例えば、X=1.3を目標として原料粉末を秤量した場合、本発明の結晶と同様の結晶構造を持つ結晶と異相との混合物となり、X=1.3の結晶は得られない。
さらに、Xが0.7以下もしくはYが0.85以下であると、過剰なKFが異相として含まれることがある。一般にKFは強い潮解性を有することが知られており、KFが異相として含まれた混合物には潮解性が生じる。Xが0.9≦X≦1.0である場合は、単相の結晶を得やすいため、特に好ましい。
特に、前記化学式において、Y=1で、0.9≦X≦1.0で、且つ、0.05≦Z≦0.4である、即ち、化学式 K3−XNaXTmZLu1−ZF6(式中、0.9≦X≦1.0、0.05≦Z≦0.4である)で表される金属フッ化物結晶が、高強度な真空紫外光が得られ、しかも単相の透明な結晶を得やすいことから、好ましい。
本発明の化学式 K3−XNaXTmYZLuY(1−Z)F3+3Y(式中、0.7<X<1.3、0.85<Y<1.1、0.001≦Z≦1.0である)で表される金属フッ化物結晶は、化学式K2NaYF6で表される金属フッ化物結晶に類似の結晶構造を持つ。
本発明の金属フッ化物結晶は、不純物として、その結晶構造とは異なる結晶相が生じない範囲であれば、微量(5%以下)の金属イオン{リチウム(Li)、ルビジウム(Rb)、セシウム(Cs)、スカンジウム(Sc)、イットリウム(Y)、ランタン(La)、セリウム(Ce)、プラセオジウム(Pr)、ネオジウム(Nd)、プロメチウム(Pm)、サマリウム(Sm)、ユウロピウム(Eu)、ガドリウム(Gd)、テルビウム(Tb)、ジスプロシウム(Dy)、ホルミウム(Ho)、エルビウム(Er)、イッテルビウム(Yb)などからなる少なくとも一種の金属のイオン}を結晶構造中に含有していてもよい。
本発明の結晶は単結晶、多結晶、あるいは結晶粉末のいずれの状態でもよく、いずれの状態であっても真空紫外発光を起こすことができる。しかしながら、単結晶の場合は一般的に光の透過性が高く、大きなサイズの固体サンプルであっても内部からの発光を減衰させずに取り出しやすいため、真空紫外発光素子、真空紫外発光シンチレーターのいずれの用途にも好適である。
マイクロ引き下げ法とは、図1に示すような装置を用いて、坩堝5の底部に設けた穴より原料融液を引き出して結晶を製造する方法である。以下、マイクロ引き下げ法によって本発明の金属フッ化物結晶を製造する際の、一般的な方法について説明する。
本発明において原料は特に限定されないが、純度がそれぞれ99.99%以上のフッ化カリウム(KF)、フッ化ナトリウム(NaF)、フッ化ツリウム(TmF3)、フッ化ルテチウム(LuF3)粉末を混合した混合原料を用いることが好ましい。かかる混合原料を用いることにより、結晶の純度を高めることができ、発光強度等の特性が向上する。混合原料は、混合後に焼結或いは溶融固化させてから用いても良い。
上記混合原料における原料粉末の混合比は、通常の結晶育成条件では、目的とする結晶の化学式K3−XNaXTmYZLuY(1−Z)F3+3Y(式中、0.7<X<1.3、0.85<Y<1.1、0.001≦Z≦1.0である)におけるK、Na、Tm、Luの原子数の比を参照して決定する。即ち、所望のフッ化金属結晶組成の原子数の比になるように原料粉末の混合比を調整する。ただし、結晶育成条件によっては(例えば融点に比べ著しく高温であるなどした場合)、それぞれの原料粉末の育成中の揮発量に差が生じることがある。その場合は揮発しやすい粉末を該化学式で定める組成比より多く秤量して使用する必要がある。
該ガス置換操作によって、原料或いはチャンバー内に付着した水分を除去することができ、かかる水分に由来する結晶の劣化を妨げることができる。上記ガス置換操作によっても除去できない水分による影響を避けるため、フッ化亜鉛等の固体スカベンジャー或いは四フッ化メタン等の気体スカベンジャーを用いることが好ましい。固体スカベンジャーを用いる場合には原料中に予め混合しておく方法が好適であり、気体スカベンジャーを用いる場合には上記不活性ガスに混合してチャンバー内に導入する方法が好適である。
ここで、金属ワイヤーを引き下げロッドの先端に設け、該金属ワイヤーを坩堝底部の孔から坩堝内部に挿入し、該金属ワイヤーに原料融液を付着せしめた後、原料融液を金属ワイヤーと共に引き下げることによって結晶の育成が可能となる。
即ち、高周波の出力を調整し、原料の温度を徐々に上げながら、該金属ワイヤーを坩堝底部の孔に挿入し、引き出しを行う。この操作を、原料融液が金属ワイヤーと共に引き出されるまで繰り返して、結晶の育成を開始する。該金属ワイヤーの材質は、原料融液と実質的に反応しない材質であれば制限無く使用できるが、W−Re合金等の高温における耐食性に優れた材質が好適である。
本発明の金属フッ化物結晶の製造において、熱歪に起因する結晶欠陥を除去する目的で、結晶の製造後にアニール操作を行っても良い。
本発明の結晶は良好な真空紫外発光特性を有しており、X線、ガンマ線、アルファ線、ベータ線などの放射線、及び発光波長190nmより短い波長の真空紫外光(例えば波長160nmの光)によって励起して発光させることが可能である。
本発明の金属フッ化物結晶からなる真空紫外発光素子は、励起源である放射線源と組み合わせることにより、真空紫外光発生装置とすることができる。かかる真空紫外光発生装置は、フォトリソグラフィー、殺菌、次世代大容量光ディスク、及び医療(眼科治療、DNA切断)等の分野において、好適に使用される。また、本発明のシンチレーターは、ダイヤモンド受光素子やAlGaN受光素子等の真空紫外用の微弱光検出器と組み合わせて、低バックグラウンドノイズの放射線検出器として好適に使用できる。
[金属フッ化物結晶の製造]
図1に示す結晶製造装置を用いて、実施例1〜22、比較例1〜5、参考例1の結晶を製造した。
以下、実施例1について作製した方法を詳述するが、実施例2〜22、比較例1〜5、参考例1についても表1に示す各原料の秤量値が異なることを除いて、同様の方法で作製した。
原料としては、純度が99.99%のKF、NaF、TmF3、LuF3を用いた。アフターヒーター1、ヒーター2、断熱材3、ステージ4、及び坩堝5は、高純度カーボン製のものを使用し、坩堝底部に設けた孔の形状は直径2mm、長さ0.5mmの円柱状とした。
ガス置換後のチャンバー6内の圧力は大気圧とした後、高周波コイル7で原料を約400度まで加熱したが、原料融液の坩堝5底部の孔からの滲出は認められなかった。そこで、高周波の出力を調整して原料融液の温度を徐々に上げながら、引き下げロッド8の先端に設けたW−Reワイヤーを、上記孔に挿入し、引き下げる操作を繰り返したところ、原料の融液を上記孔より引き出すことができた。
この時点の温度が保たれるように高周波の出力を固定し、原料の融液を引き下げ、結晶化を開始した。6mm/hrの速度で連続的に12時間引き下げ、最終的に直径2mm、長さ約70mmの結晶を得た。
実施例1〜22及び参考例1において、表1に示す目標とする組成の金属フッ化物結晶が得られた。実施例1〜22及び参考例1の結晶は無色透明であったが、比較例1〜5では白濁した結晶が得られた。
実施例1〜20、比較例1〜5で得られた金属フッ化物結晶の結晶相の同定を下記の方法で行った。
得られた結晶の一部を粉砕して粉末にして、粉末X線回折測定を行った。測定装置にはBruker AXS社製、D8 DISCOVERを用いた。粉末X線回折法による回折パターンを図2〜4に示す。粉末X線回折法によって得られた回折パターンを解析した結果から、実施例1〜20の結晶は、K2NaYF6と類似の粉末X線回折パターンの結晶であることが分かった。
図3、4より、Xが0.7以下、Xが1.3以上、Yが0.85以下、もしくはYが1.1以上を目標として秤量し、作製した比較例1〜5については単相では得られず、異相が確認され、目標とする組成の金属フッ化物結晶は得られなかった。
また、単相で得られた本発明の金属フッ化物結晶の回折ピークは、組成に応じたピークシフトが見られた。一般にイオン半径の大きい元素で小さい元素のサイトを置換した場合は格子定数が大きくなり、回折ピークは低角度側にシフトするとされている。逆にイオン半径の小さい元素で大きい元素のサイトを置換した場合は、格子定数が小さくなり、回折ピークは高角側にシフトするとされている。イオン半径の大きな順に構成元素を並べると、K>Na>Tm>Luである。
図3より、Naに対してKを増加させた場合、回折ピークは低角側にシフトする傾向にあるため、格子定数は大きくなっており、Kは価数が同じでイオン半径の小さいNaのサイトを置換しているものと考えられる。
図4より、KとNaの合計の原子数に対し、Tmを増加させた場合、回折ピークは高角側にシフトする傾向にあるため、格子定数は小さくなっていると考えられる。Tmはイオン半径の大きいKもしくはNaのサイトを置換しているものと推定されるが、価数が異なるため、いかなる様態で結晶中に存在しているのか定かではない。
これらのことより、異なる組成で単相の結晶が得られた場合は、一部元素が置換した類似構造が生成しているものと考えられる。
得られた実施例1〜22の結晶を、ワイヤーソーによって約10mmの長さに切断し、側面を研削して長さ10mm、幅約2mm、厚さ1mmの形状に加工した後、長さ10mm、幅約2mmの面の両面を鏡面研磨して発光特性測定用の試料を作製した。
加工した結晶の室温のX線励起による真空紫外発光特性を、図5に示す測定装置を用いて以下のようにして測定した。
測定装置内の所定の位置に本発明の試料9をセットし、装置内部全体を窒素ガスで置換した。励起源であるX線発生器10(RIGAKU SA−HFM3用X線発生装置)からのX線を60kV、35mAの出力で試料9に照射し、試料9からの発光を発光分光器11(分光計器製、KV201型極紫外分光器)で分光した。発光分光器11による分光の波長を130〜250nmの範囲で掃引し、各発光波長における発光強度を光電子増倍管12で記録した。
図6より、X=1.0、Y=1.0に固定した時には、Zの値が0.05〜0.4(実施例3〜7)で、より高い発光強度が得られることがわかる。
図7の実施例21より、Zの値が0.01でもXやYの値によっては図6に示した実施例3〜7(X=1.0、Y=1.0、Z=0.05〜0.4)と同様の高い発光強度が得られることがわかる。
測定装置内の所定の位置に本発明の試料9をセットし、装置内部全体を窒素ガスで置換した。励起光源である重水素ランプ13からの励起光を、励起分光器14で分光し、159nmの単色光とした。該159nmの励起光を試料9に照射し、試料9からの発光を発光分光器11(分光計器製、KV201型極紫外分光器)で分光した。発光分光器11による分光の波長を、160〜260nmの範囲で掃引し、各発光波長における発光強度を光電子増倍管12で記録した。
図10に、実施例1、3、6及び7で得られた金属フッ化物結晶の発光スペクトルを示す。本発明の真空紫外発光素子は、約160nmの真空紫外線による励起で、約190nmの波長において充分な強度で発光することが確認された。
本発明の金属フッ化物結晶のシンチレーターとしての性能を以下の方法によって評価した。
まず光電子増倍管(浜松ホトニクス社製 R8778)の光電面に、発光特性測定用試料と同じ形状に加工した実施例2〜7の結晶(Tm濃度を変えたもの)の鏡面研磨面を接着した後、4MBqの放射能を有する241Am密封線源を該結晶の光電面と接着している面と逆の面のできるだけ近い位置に設置し、シンチレーターにアルファ線を照射した状態とした後、外部からの光が入らないように遮光シートで遮光した。
次いで、該結晶より発せられたシンチレーション光を計測するため、1300Vの高電圧を印加した光電子増倍管を介して、シンチレーション光を電気信号に変換した。ここで、光電子増倍管より出力される電気信号は、シンチレーション光を反映したパルス状の信号であり、パルスの波高がシンチレーション光の発光強度を表し、また、その波形はシンチレーション光の蛍光寿命に基づいた減衰曲線を呈する。光電子増倍管より出力された電気信号の減衰曲線を、オシロスコープを用いて読み取った結果を図11に示す。図11より実施例2〜7は、光電子増倍管によって検出可能な蛍光寿命を持ちシンチレーターとして使用できることがわかった。
フィッティングに用いた式は、I(t)=A exp(−t/τ) [I(t):時間tにおける発光強度、A:最初の発光強度、τ:蛍光寿命]で、一成分の蛍光寿命ではフィッティングが困難な場合、I(t)=A1 exp(−t/τ 1 )+A2 exp(−t/τ 2 )の二成分の式でフィッティングを行った。
実施例2〜5ではそれぞれτ=10μ秒、8.2μ秒、6.6μ秒、6.6μ秒であり、実施例6ではτ1=0.54μ秒、τ2=4.0μ秒で、実施例7ではτ1=0.49μ秒、τ2=4.1μ秒であることから、概ねTmの含有量が増加するに従って、蛍光寿命が短くなる傾向にあることがわかる。
シンチレーターの蛍光寿命は、そのシンチレーターを組み込んだ放射線検出器の時間分解能(単位時間当たりに放射線を検出できる回数)に影響するため、必要に応じて結晶中のTm濃度を高くすることで時間分解能を向上できる。
当該波高分布スペクトルにおいて、波高値が100〜1500チャンネルの領域において、シンチレーション光による明瞭なピークが見られ、波高値0〜100チャンネルの領域にあるバックグラウンドノイズと分離できていることから、本発明の結晶が充分な発光量を有するシンチレーターであることがわかる。
本発明の金属フッ化物結晶とするためにKの一部をNaに、Luの一部をTmで置き換える前のK3LuF6の結晶(参考例1)と実施例1〜22の結晶の潮解性を比較した。
潮解は固体が雰囲気中の水分を取り込んで水溶液となる現象であるため、実施例1〜22及び参考例1の結晶(1×2×10mmに研削、研磨した固体)を気温約25℃、湿度約70%の大気中で、同じ場所に同時に約1時間放置して、比較した。実施例1〜22は変化が見られなかったのに対し、参考例1は結晶表面に水分の付着が確認された。
次に、より明確に結晶への水分の影響を調べるため、純水約100mlの入った瓶を2本用意し、それぞれの瓶に実施例1の結晶と、参考例1の結晶を投入した。ここで、瓶をよく振ってかき混ぜたところ実施例1の結晶は変化が見られなかったのに対し、参考例1の結晶は一部溶解して形状が崩れ、十分な時間かき混ぜると粉々になった。このことから本発明の金属フッ化物結晶は参考例1の結晶に比べ水分の影響が少ないことがわかる。
2 ヒーター
3 断熱材
4 ステージ
5 坩堝
6 チャンバー
7 高周波コイル
8 引き下げロッド
9 試料
10 X線発生器
11 発光分光器
12 光電子増倍管
13 重水素ランプ
14 励起分光器
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- 化学式 K3−XNaXTmYZLuY(1−Z)F3+3Y(式中、0.7<X<1.3、0.85<Y<1.1、0.001≦Z≦1.0である)で表されることを特徴とする金属フッ化物結晶。
- 化学式 K3−XNaXTmZLu1−ZF6(式中、0.9≦X≦1.0、0.05≦Z≦0.4である)で表されることを特徴とする請求項1記載の金属フッ化物結晶。
- 請求項1記載の金属フッ化物結晶からなることを特徴とする真空紫外発光素子。
- 請求項1記載の金属フッ化物結晶からなることを特徴とする真空紫外発光シンチレーター。
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JPN6014034628; Chonggeng Ma: Optical Materials Vol.29, 2007, p.1620-1624 * |
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