JP5609328B2 - Magnetic field probe - Google Patents

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Description

本発明は、磁界の検出に用いて好適な磁界プローブに関する。   The present invention relates to a magnetic field probe suitable for use in detecting a magnetic field.

従来技術による磁界プローブとして、基板にループパターンからなる磁界の検出部を設けると共に、例えばマイクロストリップ線路、ストリップ線路等からなる伝送線路部を該検出部に接続し、検出部と伝送線路部との間にコンデンサを形成したものが知られている(例えば、特許文献1参照)。   As a magnetic field probe according to the prior art, a magnetic field detection unit composed of a loop pattern is provided on a substrate, and a transmission line unit composed of, for example, a microstrip line or a strip line is connected to the detection unit. A device in which a capacitor is formed between them is known (for example, see Patent Document 1).

また、他の従来技術として、基板に1回巻のコイルを形成すると共に、該コイルに並列にコンデンサを接続した構成が開示されている(例えば、特許文献2,3参照)。さらに、基板と平行な磁界を検出するために、基板にスパイラルコイルを形成した構成も知られている(例えば、特許文献4参照)。   As another conventional technique, a configuration in which a one-turn coil is formed on a substrate and a capacitor is connected in parallel to the coil is disclosed (for example, see Patent Documents 2 and 3). Furthermore, in order to detect a magnetic field parallel to the substrate, a configuration in which a spiral coil is formed on the substrate is also known (see, for example, Patent Document 4).

特開2007−187539号公報JP 2007-187539 A 特開2004−69337号公報JP 2004-69337 A 特開2007−155597号公報JP 2007-155597 A 特開2004−198329号公報JP 2004-198329 A

ところで、特許文献1による磁界プローブでは、ループパターンからなるコイルにコンデンサを直列接続したから、これらの共振周波数の周辺帯域では高感度に磁界を検出することができる。このとき、コイルに直列接続されたコンデンサは、全ての周波数の信号に対して高域通過フィルタとして機能する。このため、例えば共振周波数よりも低周波側のように、共振周波数以外の周波数帯域では、コンデンサを設けない場合と比べて感度が低下するという問題がある。   By the way, in the magnetic field probe according to Patent Document 1, since a capacitor is connected in series to a coil formed of a loop pattern, a magnetic field can be detected with high sensitivity in the peripheral band of these resonance frequencies. At this time, the capacitor connected in series with the coil functions as a high-pass filter for signals of all frequencies. For this reason, there exists a problem that a sensitivity falls compared with the case where a capacitor | condenser is not provided in frequency bands other than a resonant frequency like the low frequency side, for example.

また、特許文献2,3にも、コイルとコンデンサとを備えた磁界プローブが開示されている。しかし、これらの磁界プローブでは、1回巻のコイルにコンデンサを並列に設けたものであり、コイルとコンデンサとの直列共振によって感度を向上させるものではない。   Patent Documents 2 and 3 also disclose a magnetic field probe including a coil and a capacitor. However, in these magnetic field probes, a capacitor is provided in parallel in a one-turn coil, and the sensitivity is not improved by series resonance of the coil and the capacitor.

さらに、特許文献4には、基板にスパイラルコイルを形成すると共に、該基板に検査対象となる配線パターンを設けた構成が開示されている。しかし、特許文献4のスパイラルコイルは、基板と平行な磁界を検出するものであり、基板の厚さ方向の磁界を検出するものではない。これに加えて、スパイラルコイルと一緒に基板に設けられた配線パターンは、磁界の検査対象となるものであり、コイルとコンデンサとが直列接続されたものではない。   Further, Patent Document 4 discloses a configuration in which a spiral coil is formed on a substrate and a wiring pattern to be inspected is provided on the substrate. However, the spiral coil disclosed in Patent Document 4 detects a magnetic field parallel to the substrate, and does not detect a magnetic field in the thickness direction of the substrate. In addition to this, the wiring pattern provided on the substrate together with the spiral coil is a magnetic field inspection target, and is not a series connection of the coil and the capacitor.

本発明は上述した従来技術の問題に鑑みなされたもので、本発明の目的は、所望の周波数帯域の感度を向上させ、かつ他の周波数帯域での感度の低下を抑えることができる磁界プローブを提供することにある。   The present invention has been made in view of the above-described problems of the prior art, and an object of the present invention is to provide a magnetic field probe capable of improving sensitivity in a desired frequency band and suppressing reduction in sensitivity in other frequency bands. It is to provide.

上述した課題を解決するために、請求項1の発明による磁界プローブは、複数の絶縁層を厚さ方向に積層した多層基板と、該多層基板のうち絶縁層を挟んで厚さ方向の異なる位置に設けられ巻線形状となった2個以上のループパターンとを備え、前記2個以上のループパターンのうち厚さ方向で隣合う2個のループパターンは、非接続にして互いに絶縁された状態で対向したコンデンサを構成し、前記2個以上のループパターンは、いずれも略同じ巻線形状に形成している。 In order to solve the above-described problem, a magnetic field probe according to the first aspect of the present invention includes a multilayer substrate in which a plurality of insulating layers are stacked in the thickness direction, and different positions in the thickness direction across the insulating layer among the multilayer substrates. Two or more loop patterns provided in a winding shape, and two loop patterns adjacent in the thickness direction among the two or more loop patterns are disconnected and insulated from each other The two or more loop patterns are formed in substantially the same winding shape .

請求項2の発明では、前記コンデンサを構成する2個のループパターンの間を除いた残余のループパターンの間にはビアホールを設け、隣合うループパターンを直列に接続してコイルを構成している。   According to a second aspect of the present invention, a via hole is provided between the remaining loop patterns except for the two loop patterns constituting the capacitor, and adjacent loop patterns are connected in series to constitute a coil. .

請求項1の発明によれば、2個以上のループパターンのうち厚さ方向で隣合う2個のループパターンは、非接続にして互いに絶縁された状態で対向したコンデンサを構成した。このとき、各ループパターンはコイルとして機能すると共に、コンデンサに直列接続された状態となるから、コイルとコンデンサとが直列共振する共振周波数の周辺帯域では高感度に磁界を検出することができる。さらに、共振周波数以外の周波数帯域では、コンデンサを構成するループパターンはコイルの一部として機能し、磁界に応じた電圧等の検出信号を出力することができる。このため、例えば共振周波数よりも低周波側では、コンデンサはフィルタとして機能せず、コイルの一部として機能するから、共振周波数以外の周波数帯域で磁界を検出する場合でも、検出感度の低下を抑えることができる。
また、2個以上のループパターンはいずれも略同じ巻線形状に形成したから、ループパターンが互いに異なる巻線形状となった場合に比べて、コイルのインダクタンスを大きくすることができる。さらに、コイルを構成するループパターンに対してコンデンサを構成するループパターンを重ね合わせることができるから、共振周波数以外の周波数帯域で磁界を検出する場合でも、コンデンサをなすループパターンをコイルの一部として機能させることができ、検出感度の低下を抑えることができる。
According to the first aspect of the present invention, the two adjacent loop patterns in the thickness direction among the two or more loop patterns constitute a capacitor which is opposed to each other while being disconnected and insulated from each other. At this time, each loop pattern functions as a coil and is in a state of being connected in series with the capacitor, so that a magnetic field can be detected with high sensitivity in the peripheral band of the resonance frequency where the coil and the capacitor resonate in series. Furthermore, in a frequency band other than the resonance frequency, the loop pattern constituting the capacitor functions as a part of the coil, and can output a detection signal such as a voltage corresponding to the magnetic field. For this reason, for example, on the lower frequency side than the resonance frequency, the capacitor does not function as a filter but functions as a part of a coil, and therefore, even when a magnetic field is detected in a frequency band other than the resonance frequency, a decrease in detection sensitivity is suppressed. be able to.
Further, since the two or more loop patterns are formed in substantially the same winding shape, the inductance of the coil can be increased as compared with the case where the loop patterns have different winding shapes. Furthermore, since the loop pattern constituting the capacitor can be superimposed on the loop pattern constituting the coil, even when a magnetic field is detected in a frequency band other than the resonance frequency, the loop pattern constituting the capacitor is used as a part of the coil. It can be made to function, and a decrease in detection sensitivity can be suppressed.

請求項2の発明によれば、コンデンサを構成する2個のループパターンの間を除いた残余のループパターンの間にはビアホールを設けた。このため、複数個のループパターンを直列接続して2回巻以上のコイルを構成することができ、1回巻のコイルに比べてインダクタンスを大きくして磁界の検出感度を高めることができる。   According to the second aspect of the present invention, the via hole is provided between the remaining loop patterns except between the two loop patterns constituting the capacitor. For this reason, a plurality of loop patterns can be connected in series to form a coil having two or more turns, and the inductance can be increased as compared with a one-turn coil to increase the magnetic field detection sensitivity.

本発明の実施の形態による磁界プローブを示す斜視図である。It is a perspective view which shows the magnetic field probe by embodiment of this invention. 図1中の検出部を多層基板を透視した状態で拡大して示す斜視図である。It is a perspective view which expands and shows the detection part in FIG. 1 in the state which saw through the multilayer substrate. 図1中の5個のループパターンを分解した状態で示す説明図である。It is explanatory drawing shown in the state which decomposed | disassembled the five loop patterns in FIG. 図1中の磁界プローブに設けられたコンデンサとコイルとを示す等化回路図である。It is an equalization circuit diagram which shows the capacitor | condenser and coil which were provided in the magnetic field probe in FIG. 図1中の多層基板の表面から2番目の絶縁層と、その両面に配置された2個のループパターンとを示す正面図である。It is a front view which shows the 2nd insulating layer from the surface of the multilayer board | substrate in FIG. 1, and two loop patterns arrange | positioned on the both surfaces. 図1中の多層基板の表面から3番目の絶縁層と、その両面に配置された2個のループパターンとを示す正面図である。It is a front view which shows the 3rd insulating layer from the surface of the multilayer board | substrate in FIG. 1, and two loop patterns arrange | positioned on the both surfaces. 図1中の多層基板の表面から4番目の絶縁層と、その両面に配置された2個のループパターンとを示す正面図である。It is a front view which shows the 4th insulating layer from the surface of the multilayer board | substrate in FIG. 1, and two loop patterns arrange | positioned on the both surfaces. 図1中の多層基板の表面から5番目の絶縁層と、その両面に配置された2個のループパターンとを示す正面図である。It is a front view which shows the 5th insulating layer from the surface of the multilayer substrate in FIG. 1, and two loop patterns arrange | positioned on the both surfaces. 図1中の多層基板の表面から6番目の絶縁層と、その表面に配置された1個のループパターンとを示す正面図である。It is a front view which shows the 6th insulating layer from the surface of the multilayer substrate in FIG. 1, and one loop pattern arrange | positioned on the surface. 実施の形態および比較例において、磁界プローブの利得の周波数特性を示す特性線図である。In embodiment and a comparative example, it is a characteristic diagram which shows the frequency characteristic of the gain of a magnetic field probe. 第1の変形例による磁界プローブの5個のループパターンを分解した状態で示す図3と同様な説明図である。It is explanatory drawing similar to FIG. 3 shown in the state which decomposed | disassembled five loop patterns of the magnetic field probe by a 1st modification. 第2の変形例による磁界プローブの2個のループパターンを分解した状態で示す図3と同様な説明図である。It is explanatory drawing similar to FIG. 3 shown in the state which decomposed | disassembled the two loop patterns of the magnetic field probe by a 2nd modification.

以下、本発明の実施の形態による磁界プローブを添付図面を参照しつつ詳細に説明する。   Hereinafter, magnetic field probes according to embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

図1ないし図9は実施の形態による磁界プローブ1を示している。この磁界プローブ1は、例えば非磁性の絶縁材料からなる筒状のケース2に収容されると共に、信号処理回路3に電気的に接続されている。この信号処理回路3は、磁界プローブ1の検出部19に発生する電圧、電流等の検出信号に基づいて、検出部19の近傍に発生する磁界の検出を行う。また、磁界プローブ1は、後述する多層基板4および該多層基板4に設けられた伝送線路部13、検出部19によって構成されている。   1 to 9 show a magnetic field probe 1 according to an embodiment. The magnetic field probe 1 is housed in a cylindrical case 2 made of, for example, a nonmagnetic insulating material and is electrically connected to the signal processing circuit 3. The signal processing circuit 3 detects a magnetic field generated in the vicinity of the detection unit 19 based on detection signals such as voltage and current generated in the detection unit 19 of the magnetic field probe 1. The magnetic field probe 1 includes a multilayer substrate 4 to be described later, a transmission line unit 13 and a detection unit 19 provided on the multilayer substrate 4.

多層基板4は、互いに直交するX軸方向、Y軸方向およびZ軸方向のうち例えばX軸方向およびZ軸方向に対して平行に広がる平板状に形成されている。この多層基板4は、例えば6層の絶縁層5〜10を厚さ方向となるY軸方向に積層することによって構成されている。このとき、多層基板4は、幅方向となるX軸方向に対して例えば数mm程度の幅寸法を有すると共に、長さ方向となるZ軸方向に沿って延び、その長さ寸法は例えば数cm程度になっている。   The multilayer substrate 4 is formed in a flat plate shape extending in parallel with the X axis direction and the Z axis direction, for example, among the X axis direction, the Y axis direction, and the Z axis direction orthogonal to each other. The multilayer substrate 4 is configured by, for example, stacking six insulating layers 5 to 10 in the Y-axis direction that is the thickness direction. At this time, the multilayer substrate 4 has a width dimension of, for example, about several millimeters with respect to the X-axis direction serving as the width direction, and extends along the Z-axis direction serving as the length direction. It is about.

また、各絶縁層5〜10は、例えば絶縁性の樹脂材料を用いて層状に形成されている。そして、多層基板4の先端部4Aは、Z軸方向の一端側(図1中の下端側)に位置して後述の検出部19が設けられている。一方、多層基板4の基端側は、Z軸方向の他端側(図1中の上端側)に向けて延びている。   Moreover, each insulating layer 5-10 is formed in the layer form, for example using the insulating resin material. And the front-end | tip part 4A of the multilayer substrate 4 is located in the one end side (lower end side in FIG. 1) of the Z-axis direction, and the below-mentioned detection part 19 is provided. On the other hand, the base end side of the multilayer substrate 4 extends toward the other end side in the Z-axis direction (upper end side in FIG. 1).

多層基板4のうちY軸方向の両端側に位置する表面および裏面には、例えば導電性の金属薄膜からなるグランド電極11,12がそれぞれ設けられている。このグランド電極11,12は、例えば信号処理回路3等のグランドに接続されてグランド電位に保持されると共に、多層基板4の先端部4Aを除いて多層基板4の略全面を覆っている。   Ground electrodes 11 and 12 made of, for example, a conductive metal thin film are provided on the front and back surfaces of the multilayer substrate 4 located on both ends in the Y-axis direction. The ground electrodes 11 and 12 are connected to the ground of, for example, the signal processing circuit 3 and are held at the ground potential, and cover substantially the entire surface of the multilayer substrate 4 except for the front end portion 4A of the multilayer substrate 4.

伝送線路部13は、図1および図2に示すように、多層基板4に設けられ、後述する検出部19と信号処理回路3との間を接続している。この伝送線路部13は、例えば導電性の金属薄膜等からなる細長い導体パターンとしてのストリップ導体14(信号電極)を有している。そして、伝送線路部13は、ストリップ導体14と多層基板4の両面に設けられたグランド電極11,12とからなるストリップ線路によって構成されている。なお、伝送線路部13は、ストリップ線路に限らず、例えば一方のグランド電極を省いたマイクロストリップ線路によって構成してもよい。   As shown in FIGS. 1 and 2, the transmission line unit 13 is provided on the multilayer substrate 4, and connects between a detection unit 19, which will be described later, and the signal processing circuit 3. The transmission line portion 13 has a strip conductor 14 (signal electrode) as an elongated conductor pattern made of, for example, a conductive metal thin film. The transmission line unit 13 is configured by a strip line including a strip conductor 14 and ground electrodes 11 and 12 provided on both surfaces of the multilayer substrate 4. Note that the transmission line unit 13 is not limited to a strip line, and may be configured by, for example, a microstrip line in which one ground electrode is omitted.

また、ストリップ導体14は、絶縁層7,8の間に配置されると共に、多層基板4のうちX軸方向の中央部分に位置してZ軸に沿って直線状に延びている。このストリップ導体14の先端側は、X軸方向の一側に向けて斜めに傾斜して延びると共に、絶縁層6,7を貫通するビアホール15を通じて後述のループパターン20に電気的に接続されている。   The strip conductor 14 is disposed between the insulating layers 7 and 8, and is located in the center portion of the multilayer substrate 4 in the X-axis direction and extends linearly along the Z-axis. The front end side of the strip conductor 14 extends obliquely toward one side in the X-axis direction, and is electrically connected to a loop pattern 20 described later through a via hole 15 penetrating the insulating layers 6 and 7. .

一方、グランド電極11,12は、ビアホール16,17および接続パターン18を通じて後述のループパターン24に電気的に接続されている。この接続パターン18は、絶縁層7,8の間に位置してストリップ導体14の近傍に配置されている。また、接続パターン18は、ストリップ導体14と同様な導体パターンによって形成され、Z軸方向に向けて延びている。さらに、接続パターン18の基端側は、多層基板4を厚さ方向に貫通するスルーホールビアとしてのビアホール16を通じてグランド電極11,12に接続され、接続パターン18の先端側は、絶縁層8,9を貫通するビアホール17を通じてループパターン24の接続部24Bに接続されている。   On the other hand, the ground electrodes 11 and 12 are electrically connected to a loop pattern 24 described later through the via holes 16 and 17 and the connection pattern 18. The connection pattern 18 is located between the insulating layers 7 and 8 and is disposed in the vicinity of the strip conductor 14. Further, the connection pattern 18 is formed by a conductor pattern similar to the strip conductor 14 and extends in the Z-axis direction. Further, the base end side of the connection pattern 18 is connected to the ground electrodes 11 and 12 through the via holes 16 as through-hole vias penetrating the multilayer substrate 4 in the thickness direction. 9 is connected to the connection portion 24B of the loop pattern 24 through a via hole 17 penetrating through 9.

検出部19は、図1ないし図9に示すように、多層基板4の先端部4Aに配置され、後述する5個のループパターン20〜24によって構成されるコイル28とコンデンサ29とを備えている。   As shown in FIGS. 1 to 9, the detection unit 19 includes a coil 28 and a capacitor 29 that are arranged at the front end portion 4 </ b> A of the multilayer substrate 4 and are configured by five loop patterns 20 to 24 described later. .

ループパターン20は、絶縁層5と絶縁層6との間に配置され、図5に示すように、例えば50〜150μm程度の幅寸法W0をもった導電性の金属薄膜からなる細長い電極パターンを用いて略四角形の巻線形状に形成されている。このループパターン20の一端側には、Z軸方向の他端側に向けて延びた接続部20Aが設けられ、該接続部20Aは、ビアホール15を通じてストリップ導体14に電気的に接続されている。また、ループパターン20は、例えば1〜3mm程度の長さ寸法L1にわたってX軸方向に延びると共に、例えば0.4〜1.2mm程度の長さ寸法L2にわたってZ軸方向に延びている。これにより、ループパターン20は、XZ平面に平行な略長方形状をなしている。   The loop pattern 20 is disposed between the insulating layer 5 and the insulating layer 6 and uses an elongated electrode pattern made of a conductive metal thin film having a width W0 of about 50 to 150 [mu] m, for example, as shown in FIG. Thus, it is formed in a substantially rectangular winding shape. One end side of the loop pattern 20 is provided with a connecting portion 20A extending toward the other end side in the Z-axis direction. The connecting portion 20A is electrically connected to the strip conductor 14 through the via hole 15. The loop pattern 20 extends in the X-axis direction over a length dimension L1 of, for example, about 1 to 3 mm, and extends in the Z-axis direction over a length dimension L2 of, for example, about 0.4 to 1.2 mm. Thereby, the loop pattern 20 has a substantially rectangular shape parallel to the XZ plane.

ループパターン21は、絶縁層6と絶縁層7との間に配置され、図5および図6に示すように、例えばループパターン20と同じ幅寸法W0をもった導電性の金属薄膜からなる細長い電極パターンを用いて形成されている。このループパターン21は、一部を切欠いた四角形の枠状をなすと共に、隣合うループパターン20と略同じ四角形の巻線形状に形成されている。また、ループパターン21は、その両端がX軸方向に離間して配置され、一端側から他端側に向けてループパターン20に沿って延びている。ループパターン21の他端側には接続部21Aが設けられ、該接続部21Aは、後述のビアホール25を通じて隣合うループパターン22に電気的に接続されている。そして、ループパターン21は、ループパターン20と同様に、長さ寸法L1にわたってX軸方向に延びると共に、長さ寸法L2にわたってZ軸方向に延びている。これにより、ループパターン21は、XZ平面に平行な略長方形状をなすと共に、絶縁層6を挟んでループパターン20と厚さ方向で対向している。   The loop pattern 21 is disposed between the insulating layer 6 and the insulating layer 7, and as shown in FIGS. 5 and 6, for example, an elongated electrode made of a conductive metal thin film having the same width dimension W0 as the loop pattern 20 It is formed using a pattern. The loop pattern 21 has a rectangular frame shape with a part cut out, and is formed in a substantially rectangular winding shape as the adjacent loop pattern 20. In addition, the loop pattern 21 is disposed such that both ends thereof are separated from each other in the X-axis direction, and extends along the loop pattern 20 from one end side to the other end side. A connecting portion 21A is provided on the other end side of the loop pattern 21, and the connecting portion 21A is electrically connected to an adjacent loop pattern 22 through a via hole 25 described later. Similarly to the loop pattern 20, the loop pattern 21 extends in the X-axis direction over the length dimension L1 and extends in the Z-axis direction over the length dimension L2. Thus, the loop pattern 21 has a substantially rectangular shape parallel to the XZ plane, and faces the loop pattern 20 in the thickness direction with the insulating layer 6 interposed therebetween.

ループパターン22は、絶縁層7と絶縁層8との間に配置され、図6および図7に示すように、例えばループパターン21と同じ幅寸法W0をもった導電性の金属薄膜からなる細長い電極パターンを用いて形成されている。このループパターン22は、一部を切欠いた四角形の枠状をなすと共に、隣合うループパターン21と略同じ四角形の巻線形状に形成されている。また、ループパターン22は、その両端がX軸方向に離間して配置され、一端側から他端側に向けてループパターン21に沿って延びている。   The loop pattern 22 is disposed between the insulating layer 7 and the insulating layer 8, and as shown in FIGS. 6 and 7, for example, an elongated electrode made of a conductive metal thin film having the same width dimension W0 as the loop pattern 21 It is formed using a pattern. The loop pattern 22 has a rectangular frame shape with a part cut away, and is formed in a substantially rectangular winding shape as the adjacent loop pattern 21. Further, the loop pattern 22 is disposed such that both ends thereof are separated from each other in the X-axis direction, and extends along the loop pattern 21 from one end side toward the other end side.

ループパターン22の一端側には、ループパターン21の接続部21Aと対向した位置に接続部22Aが設けられている。この接続部22Aは、後述のビアホール25を通じて隣合うループパターン21の接続部21Aに電気的に接続されている。一方、ループパターン22の他端側には、接続部22AよりもX軸方向の他側(図1中の右側)に位置して接続部22Bが設けられている。この接続部22Bは、後述のビアホール26を通じて隣合うループパターン23に電気的に接続されている。   On one end side of the loop pattern 22, a connection portion 22 </ b> A is provided at a position facing the connection portion 21 </ b> A of the loop pattern 21. The connecting portion 22A is electrically connected to the connecting portion 21A of the adjacent loop pattern 21 through a via hole 25 described later. On the other hand, a connecting portion 22B is provided on the other end side of the loop pattern 22 so as to be located on the other side in the X-axis direction (right side in FIG. 1) with respect to the connecting portion 22A. The connecting portion 22B is electrically connected to the adjacent loop pattern 23 through a via hole 26 described later.

そして、ループパターン22は、ループパターン21と同様に、長さ寸法L1にわたってX軸方向に延びると共に、長さ寸法L2にわたってZ軸方向に延びている。これにより、ループパターン22は、XZ平面に平行な略長方形状をなすと共に、絶縁層7を挟んでループパターン21と厚さ方向で対向している。   Similarly to the loop pattern 21, the loop pattern 22 extends in the X-axis direction over the length dimension L1 and extends in the Z-axis direction over the length dimension L2. As a result, the loop pattern 22 has a substantially rectangular shape parallel to the XZ plane, and faces the loop pattern 21 in the thickness direction with the insulating layer 7 interposed therebetween.

ループパターン23は、絶縁層8と絶縁層9との間に配置され、図7および図8に示すように、例えばループパターン22と同じ幅寸法W0をもった導電性の金属薄膜からなる細長い電極パターンを用いて形成されている。このループパターン23は、一部を切欠いた四角形の枠状をなすと共に、隣合うループパターン22と略同じ四角形の巻線形状に形成されている。また、ループパターン23は、その両端がX軸方向に離間して配置され、一端側から他端側に向けてループパターン22に沿って延びている。   The loop pattern 23 is disposed between the insulating layer 8 and the insulating layer 9, and as shown in FIGS. 7 and 8, for example, an elongated electrode made of a conductive metal thin film having the same width dimension W0 as the loop pattern 22 It is formed using a pattern. The loop pattern 23 has a rectangular frame shape with a part cut away, and is formed in a substantially rectangular winding shape as the adjacent loop pattern 22. Further, the loop pattern 23 is arranged such that both ends thereof are separated from each other in the X-axis direction, and extends along the loop pattern 22 from one end side to the other end side.

ループパターン23の一端側には、ループパターン22の接続部22Bと対向した位置に接続部23Aが設けられている。この接続部23Aは、後述のビアホール26を通じて隣合うループパターン22の接続部22Bに電気的に接続されている。一方、ループパターン23の他端側には、接続部23AよりもX軸方向の他側に位置して接続部23Bが設けられている。この接続部23Bは、後述のビアホール27を通じて隣合うループパターン24に電気的に接続されている。   On one end side of the loop pattern 23, a connection portion 23A is provided at a position facing the connection portion 22B of the loop pattern 22. The connecting portion 23A is electrically connected to a connecting portion 22B of the adjacent loop pattern 22 through a via hole 26 described later. On the other hand, the other end side of the loop pattern 23 is provided with a connection portion 23B located on the other side in the X-axis direction with respect to the connection portion 23A. The connecting portion 23B is electrically connected to the adjacent loop pattern 24 through a via hole 27 described later.

そして、ループパターン23は、ループパターン22と同様に、長さ寸法L1にわたってX軸方向に延びると共に、長さ寸法L2にわたってZ軸方向に延びている。これにより、ループパターン23は、XZ平面に平行な略長方形状をなすと共に、絶縁層8を挟んでループパターン22と厚さ方向で対向している。   Similarly to the loop pattern 22, the loop pattern 23 extends in the X-axis direction over the length dimension L1, and extends in the Z-axis direction over the length dimension L2. Thus, the loop pattern 23 has a substantially rectangular shape parallel to the XZ plane, and faces the loop pattern 22 in the thickness direction with the insulating layer 8 interposed therebetween.

ループパターン24は、絶縁層9と絶縁層10との間に配置され、図8および図9に示すように、例えばループパターン23と同じ幅寸法W0をもった導電性の金属薄膜からなる細長い電極パターンを用いて形成されている。このループパターン24は、一部を切欠いた四角形の枠状をなすと共に、隣合うループパターン23と略同じ四角形の巻線形状に形成されている。また、ループパターン24は、その両端がX軸方向に離間して配置され、一端側から他端側に向けてループパターン23に沿って延びている。   The loop pattern 24 is disposed between the insulating layer 9 and the insulating layer 10 and, as shown in FIGS. 8 and 9, for example, an elongated electrode made of a conductive metal thin film having the same width dimension W0 as the loop pattern 23 It is formed using a pattern. The loop pattern 24 has a rectangular frame shape with a part cut away, and is formed in a substantially rectangular winding shape as the adjacent loop pattern 23. In addition, the loop pattern 24 is disposed such that both ends thereof are separated from each other in the X-axis direction, and extends along the loop pattern 23 from one end side to the other end side.

ループパターン24の一端側には、ループパターン23の接続部23Bと対向した位置に接続部24Aが設けられている。この接続部24Aは、後述のビアホール27を通じて隣合うループパターン23の接続部23Bに電気的に接続されている。一方、ループパターン24の他端側には、Z軸方向の他端側に向けて延びた接続部24Bが設けられ、該接続部24Bは、ビアホール17を通じて接続パターン18に電気的に接続されている。   On one end side of the loop pattern 24, a connection portion 24A is provided at a position facing the connection portion 23B of the loop pattern 23. The connecting portion 24A is electrically connected to a connecting portion 23B of the adjacent loop pattern 23 through a via hole 27 described later. On the other hand, a connection portion 24B extending toward the other end side in the Z-axis direction is provided on the other end side of the loop pattern 24. The connection portion 24B is electrically connected to the connection pattern 18 through the via hole 17. Yes.

そして、ループパターン24は、ループパターン23と同様に、長さ寸法L1にわたってX軸方向に延びると共に、長さ寸法L2にわたってZ軸方向に延びている。これにより、ループパターン24は、XZ平面に平行な略長方形状をなすと共に、絶縁層9を挟んでループパターン23と厚さ方向で対向している。   Similarly to the loop pattern 23, the loop pattern 24 extends in the X-axis direction over the length dimension L1, and extends in the Z-axis direction over the length dimension L2. Thereby, the loop pattern 24 has a substantially rectangular shape parallel to the XZ plane, and faces the loop pattern 23 in the thickness direction with the insulating layer 9 interposed therebetween.

以上により、ループパターン20〜24は、略同じ巻線形状に形成されると共に、多層基板4のX軸方向とZ軸方向に対して、略同じ位置に配置されている。これにより、ループパターン20〜24は、接続部20A,24Bを除いた略全長にわたって厚さ方向に対して互いに重なり合っている。   As described above, the loop patterns 20 to 24 are formed in substantially the same winding shape, and are disposed at substantially the same position with respect to the X-axis direction and the Z-axis direction of the multilayer substrate 4. Thereby, the loop patterns 20 to 24 overlap each other in the thickness direction over substantially the entire length excluding the connecting portions 20A and 24B.

ビアホール25は、厚さ方向でループパターン21,22の間に位置して、絶縁層7を貫通すると共に、その内壁が例えば金属材料等の導体材料によって被覆されることによって形成されている。このビアホール25は、ループパターン21の接続部21Aおよびループパターン22の接続部22Aと対応した位置に配置され、ループパターン21およびループパターン22を電気的に直列接続している。   The via hole 25 is located between the loop patterns 21 and 22 in the thickness direction, penetrates the insulating layer 7, and is formed by covering its inner wall with a conductive material such as a metal material. The via hole 25 is disposed at a position corresponding to the connection portion 21A of the loop pattern 21 and the connection portion 22A of the loop pattern 22, and electrically connects the loop pattern 21 and the loop pattern 22 in series.

ビアホール26は、厚さ方向でループパターン22,23の間に位置して、絶縁層8を貫通して、ビアホール25と同様に形成されている。このビアホール26は、ループパターン22の接続部22Bおよびループパターン23の接続部23Aと対応した位置に配置され、ループパターン22およびループパターン23を電気的に直列接続している。   The via hole 26 is located between the loop patterns 22 and 23 in the thickness direction, penetrates the insulating layer 8, and is formed in the same manner as the via hole 25. The via hole 26 is disposed at a position corresponding to the connection portion 22B of the loop pattern 22 and the connection portion 23A of the loop pattern 23, and electrically connects the loop pattern 22 and the loop pattern 23 in series.

ビアホール27は、厚さ方向でループパターン23,24の間に位置して、絶縁層9を貫通して、ビアホール25と同様に形成されている。このビアホール27は、ループパターン23の接続部23Bおよびループパターン24の接続部24Aと対応した位置に配置され、ループパターン23およびループパターン24を電気的に直列接続している。   The via hole 27 is located between the loop patterns 23 and 24 in the thickness direction, penetrates the insulating layer 9, and is formed in the same manner as the via hole 25. The via hole 27 is disposed at a position corresponding to the connection portion 23B of the loop pattern 23 and the connection portion 24A of the loop pattern 24, and electrically connects the loop pattern 23 and the loop pattern 24 in series.

この結果、ループパターン21〜24は、ビアホール25〜27を用いて互いに直列接続され、略4回巻(4ターン)のコイル28を構成している。このコイル28は、ループパターン21〜24の内部を通過するY軸方向(厚さ方向)の磁界を検出し、磁束変化に応じた電圧等の検出信号を出力するものである。   As a result, the loop patterns 21 to 24 are connected to each other in series using the via holes 25 to 27, and constitute a coil 28 having approximately four turns (four turns). The coil 28 detects a magnetic field in the Y-axis direction (thickness direction) passing through the loop patterns 21 to 24, and outputs a detection signal such as a voltage corresponding to a change in magnetic flux.

一方、ループパターン20,21は、互いに絶縁された状態で対向し、コンデンサ29を構成している。これにより、コイル28およびコンデンサ29は、ループパターン21を共用することによって、電気的に互いに直列接続されている。このとき、コンデンサ29の一端側は接続部20Aを通じて伝送線路部13のストリップ導体14に電気的に接続され、コンデンサ29の他端側はコイル28の一端側に電気的に接続されている。また、コイル28の他端側は、接続部24B等を通じてグランド電極11,12に電気的に接続されている。   On the other hand, the loop patterns 20 and 21 face each other while being insulated from each other, and constitute a capacitor 29. Thus, the coil 28 and the capacitor 29 are electrically connected in series with each other by sharing the loop pattern 21. At this time, one end side of the capacitor 29 is electrically connected to the strip conductor 14 of the transmission line portion 13 through the connecting portion 20 </ b> A, and the other end side of the capacitor 29 is electrically connected to one end side of the coil 28. The other end side of the coil 28 is electrically connected to the ground electrodes 11 and 12 through the connection portion 24B and the like.

本実施の形態による磁界プローブ1は上述の如き構成を有するもので、次にその作動について説明する。   The magnetic field probe 1 according to the present embodiment has the above-described configuration, and the operation thereof will be described next.

まず、磁界プローブ1の先端部分を、測定対象(例えば被測定基板)の表面に近接した状態で配置する。そして、磁界プローブ1を測定対象の表面上で移動させる。ここで、磁界プローブ1の近傍に位置して測定対象の表面にY軸方向の磁界が発生すると、この磁界は検出部19のループパターン20〜24の内部を通過する。これにより、例えばコイル28に検出信号としての電圧が生じるため、この電圧を検出することによって、測定対象の表面に生じる磁界を検出することができる。   First, the tip portion of the magnetic field probe 1 is disposed in the state of being close to the surface of a measurement target (for example, a measurement target substrate). Then, the magnetic field probe 1 is moved on the surface of the measurement target. Here, when a magnetic field in the Y-axis direction is generated on the surface of the measurement object located in the vicinity of the magnetic field probe 1, this magnetic field passes through the loop patterns 20 to 24 of the detection unit 19. As a result, for example, a voltage as a detection signal is generated in the coil 28. By detecting this voltage, a magnetic field generated on the surface of the measurement target can be detected.

然るに、互いに重なり合うループパターン20〜24のうち厚さ方向の一方側に位置する2個のループパターン20,21は、互いに絶縁されてコンデンサ29を構成すると共に、4個のループパターン21〜24は、ビアホール25〜27を用いて直列に接続されてコイル28を構成している。このため、コイル28およびコンデンサ29が直列共振する共振周波数の周辺帯域では、磁界の検出感度が向上する。   However, the two loop patterns 20 and 21 located on one side in the thickness direction among the loop patterns 20 to 24 that overlap each other are insulated from each other to form a capacitor 29, and the four loop patterns 21 to 24 are The coils 28 are configured in series using via holes 25 to 27. For this reason, in the peripheral band of the resonance frequency where the coil 28 and the capacitor 29 are in series resonance, the magnetic field detection sensitivity is improved.

そこで、本実施の形態による磁界プローブ1とコンデンサを省いた比較例による磁界プローブとについて、それぞれの利得の周波数特性を測定した。その結果を図10に示す。なお、比較例による磁界プローブは、1回巻のコイルを備えるものとした。   Therefore, the frequency characteristics of each gain were measured for the magnetic field probe 1 according to the present embodiment and the magnetic field probe according to the comparative example in which the capacitor was omitted. The result is shown in FIG. The magnetic field probe according to the comparative example was provided with a one-turn coil.

図10中に破線で示すように、比較例の場合は、周波数が高くなるに従って、コイルのインピーダンスが増加する。このため、磁界プローブから出力される検出信号の利得は、検出する磁界の周波数が高くなるに従って増加する。   As shown by a broken line in FIG. 10, in the case of the comparative example, the impedance of the coil increases as the frequency increases. For this reason, the gain of the detection signal output from the magnetic field probe increases as the frequency of the detected magnetic field increases.

これに対し、図10中に実線で示すように、本実施の形態の場合は、比較例の場合とほぼ同様に、周波数が高くなるに従って、検出信号の利得が増加する。但し、例えば1〜5GHz付近では、本実施の形態の方が比較例に比べて検出信号の利得が向上している。この理由は、この周波数帯域では、コイル28およびコンデンサ29が直列共振するためである。具体的には、本実施の形態では、コイル28およびコンデンサ29を直列接続したから、共振周波数となる1.4GHz付近でコイル28およびコンデンサ29に直列共振が生じる。このため、この共振周波数の周辺帯域では、検出信号の利得を向上することができる。   In contrast, as indicated by the solid line in FIG. 10, in the case of the present embodiment, the gain of the detection signal increases as the frequency increases, as in the case of the comparative example. However, for example, in the vicinity of 1 to 5 GHz, the gain of the detection signal is improved in this embodiment compared to the comparative example. This is because the coil 28 and the capacitor 29 are in series resonance in this frequency band. Specifically, in this embodiment, since the coil 28 and the capacitor 29 are connected in series, series resonance occurs in the coil 28 and the capacitor 29 in the vicinity of 1.4 GHz that is the resonance frequency. For this reason, the gain of the detection signal can be improved in the peripheral band of the resonance frequency.

また、特許文献1に記載された磁界プローブでは、コンデンサが全ての周波数帯域で高域通過フィルタとして機能するから、例えば共振周波数よりも低周波側のように共振周波数以外の周波数帯域では、コンデンサを設けない場合に比べて、検出信号の利得が低下する傾向があった。   Further, in the magnetic field probe described in Patent Document 1, since the capacitor functions as a high-pass filter in all frequency bands, for example, in a frequency band other than the resonance frequency such as a lower frequency side than the resonance frequency, the capacitor is not used. There was a tendency for the gain of the detection signal to be lower than when it was not provided.

これに対し、本実施の形態では、共振周波数以外の周波数帯域でも、コンデンサを設けない比較例と同程度の利得を得ることができる。この理由は、本実施の形態による磁界プローブ1では、コンデンサ29を構成するループコイル20,21がコイル28を構成するループコイル21〜24に重なり合っているから、共振周波数以外の周波数の磁界変化に対してループコイル20,21もコイル28の一部として機能するためである。即ち、例えば共振周波数よりも低周波側の磁束変化が生じたときには、この磁束変化に応じてループコイル20,21は電圧等の検出信号を出力する。この結果、本実施の形態による磁界プローブ1では、例えば共振周波数よりも低周波側では、コンデンサ29はフィルタとして機能せず、コイル28の一部として機能するから、共振周波数以外の周波数帯域の磁界を検出する場合でも、検出感度の低下を抑えることができる。   On the other hand, in the present embodiment, a gain comparable to that of the comparative example in which no capacitor is provided can be obtained even in a frequency band other than the resonance frequency. This is because in the magnetic field probe 1 according to the present embodiment, the loop coils 20 and 21 constituting the capacitor 29 overlap with the loop coils 21 to 24 constituting the coil 28, so that a magnetic field change at a frequency other than the resonance frequency occurs. This is because the loop coils 20 and 21 also function as part of the coil 28. That is, for example, when a magnetic flux change lower than the resonance frequency occurs, the loop coils 20 and 21 output a detection signal such as a voltage in accordance with the magnetic flux change. As a result, in the magnetic field probe 1 according to the present embodiment, for example, on the lower frequency side than the resonance frequency, the capacitor 29 does not function as a filter and functions as a part of the coil 28, and therefore a magnetic field in a frequency band other than the resonance frequency. Even in the case of detecting, a decrease in detection sensitivity can be suppressed.

かくして、本実施の形態では、ループパターン20〜24のうち厚さ方向で隣合う2個のループパターン20,21の間を除いた残りのループパターン21〜24の間にはビアホール25〜27を設けたから、ループパターン21〜24を直列接続して4回巻のコイル28を構成することができる。このため、1回巻のコイルに比べてインダクタンスを大きくして磁界の検出感度を高めることができる。   Thus, in the present embodiment, via holes 25 to 27 are provided between the remaining loop patterns 21 to 24 except for the space between two loop patterns 20 and 21 adjacent in the thickness direction among the loop patterns 20 to 24. Since it provided, the loop pattern 21-24 can be connected in series and the coil 28 of 4 turns can be comprised. For this reason, it is possible to increase the inductance and increase the detection sensitivity of the magnetic field as compared with the one-turn coil.

また、ビアホール25〜27で非接続の2個のループパターン20,21は、互いに絶縁された状態で対向してコイル28に直列に接続されるコンデンサ29を構成したから、コイル28とコンデンサ29とが直列共振する共振周波数の周辺帯域では高感度に磁界を検出することができる。さらに、共振周波数以外の周波数帯域では、コンデンサ29を構成するループパターン20,21はコイル28の一部として機能する。このため、共振周波数以外の周波数帯域で磁界を検出する場合でも、検出感度の低下を抑えることができる。   In addition, the two loop patterns 20 and 21 that are not connected by the via holes 25 to 27 constitute a capacitor 29 that is opposed to each other while being insulated from each other and connected in series to the coil 28. The magnetic field can be detected with high sensitivity in the peripheral band of the resonance frequency at which resonance occurs in series. Furthermore, the loop patterns 20 and 21 constituting the capacitor 29 function as a part of the coil 28 in a frequency band other than the resonance frequency. For this reason, even when a magnetic field is detected in a frequency band other than the resonance frequency, a decrease in detection sensitivity can be suppressed.

また、ループパターン20〜24はいずれも略同じ巻線形状に形成したから、ループパターン20〜24が互いに異なる巻線形状となった場合に比べて、コイル28のインダクタンスを大きくすることができる。また、コイル28を構成するループパターン21〜24に対してコンデンサ29を構成するループパターン20,21を厚さ方向で重ね合わせることができるから、共振周波数以外の周波数帯域で磁界を検出する場合でも、コンデンサ29をなすループパターン20,21をコイル28の一部として機能させることができ、検出感度の低下を抑えることができる。   Since all the loop patterns 20 to 24 are formed in substantially the same winding shape, the inductance of the coil 28 can be increased as compared with the case where the loop patterns 20 to 24 have different winding shapes. In addition, since the loop patterns 20 and 21 constituting the capacitor 29 can be superimposed in the thickness direction on the loop patterns 21 to 24 constituting the coil 28, even when a magnetic field is detected in a frequency band other than the resonance frequency. The loop patterns 20 and 21 forming the capacitor 29 can function as a part of the coil 28, and a decrease in detection sensitivity can be suppressed.

さらに、コンデンサ29を構成する2個のループパターン20,21は、全てのループパターン20〜24の厚さ方向の両端側のうちいずれか一方側に配置した。このため、厚さ方向の他方側に配置された残りのループパターン21〜24をビアホール25〜27を用いて接続することができ、コンデンサ29とコイル28を厚さ方向に隣合う状態で配置することができる。   Further, the two loop patterns 20 and 21 constituting the capacitor 29 are arranged on either one of both end sides in the thickness direction of all the loop patterns 20 to 24. Therefore, the remaining loop patterns 21 to 24 arranged on the other side in the thickness direction can be connected using the via holes 25 to 27, and the capacitor 29 and the coil 28 are arranged adjacent to each other in the thickness direction. be able to.

なお、前記実施の形態では、ループパターン20およびループパターン21が互いに重なり合う面積を増加または減少させることによって、コイル28とコンデンサ29との共振周波数を調整することができる。また、コイル28のループパターン21〜24を追加または減少させることによっても、コイル28とコンデンサ29との共振周波数を調整することができる。   In the embodiment, the resonance frequency of the coil 28 and the capacitor 29 can be adjusted by increasing or decreasing the area where the loop pattern 20 and the loop pattern 21 overlap each other. Further, the resonance frequency of the coil 28 and the capacitor 29 can also be adjusted by adding or decreasing the loop patterns 21 to 24 of the coil 28.

また、前記実施の形態では、全てのループパターン20〜24のうち厚さ方向の一方端に位置するループパターン20,21間を絶縁してコンデンサ29を構成した。しかし、本発明はこれに限らず、例えば図11に示す第1の変形例による磁界プローブ31のように、厚さ方向の途中位置に配置されたループパターン21,22間を絶縁してコンデンサ32を構成してもよい。   In the embodiment, the capacitor 29 is configured by insulating the loop patterns 20 and 21 located at one end in the thickness direction among all the loop patterns 20 to 24. However, the present invention is not limited to this. For example, as in the case of the magnetic field probe 31 according to the first modification shown in FIG. 11, the capacitors 32 are insulated by insulating between the loop patterns 21 and 22 arranged at intermediate positions in the thickness direction. May be configured.

この場合、ループパターン20の他端側に接続部33を設けると共に、ループパターン21の一端側に接続部34を設け、これら接続部33,34と対応した位置にビアホール35を設ける。これにより、ループパターン20,21はビアホール35を用いて直列接続され、一方のコイル36を構成する。また、ループパターン22〜24はビアホール26,27を用いて直列接続され、他方のコイル37を構成する。これにより、コンデンサ32は、コイル36,37の間に直列接続されるものである。   In this case, the connection portion 33 is provided on the other end side of the loop pattern 20, the connection portion 34 is provided on one end side of the loop pattern 21, and the via hole 35 is provided at a position corresponding to the connection portions 33 and 34. As a result, the loop patterns 20 and 21 are connected in series using the via hole 35 to constitute one coil 36. The loop patterns 22 to 24 are connected in series using via holes 26 and 27 to constitute the other coil 37. Accordingly, the capacitor 32 is connected in series between the coils 36 and 37.

また、前記実施の形態では、1個のコンデンサ29をコイル28に直列接続した場合を例に挙げて説明したが、2個以上のコンデンサをコイルに直列接続する構成としてもよい。この場合、コンデンサの構成位置は、厚さ方向に配置されたループパターンのうちいずれのループパターン間に配置してもよい。また、複数個のコンデンサは、例えば厚さ方向に対して隣合わせて配置してもよく、厚さ方向に離間して配置してもよく、厚さ方向の両端側に配置してもよい。   In the above-described embodiment, the case where one capacitor 29 is connected in series to the coil 28 has been described as an example, but two or more capacitors may be connected in series to the coil. In this case, the constituent positions of the capacitors may be arranged between any of the loop patterns arranged in the thickness direction. In addition, the plurality of capacitors may be disposed adjacent to each other in the thickness direction, for example, may be disposed apart from each other in the thickness direction, or may be disposed on both ends in the thickness direction.

また、前記実施の形態では、全てのループパターン20〜24が同じ幅寸法W0を有するものとしたが、一部のループパターンが異なる幅寸法を有してもよいFurther, in the embodiments, all of the loop pattern 20 to 24 is also the as that having a same width dimension W0, may have a different width dimension part of the loop pattern.

また、前記実施の形態では、ループパターン20〜24は略四角形に形成したが、例えば三角形、五角形等の他の多角形状としてもよく、円形、半円形、楕円形等に形成してもよい。また、前記実施の形態では、ループパターン21〜24を直列接続して略4回巻のコイル28を形成したが、2回巻や3回巻のコイルでもよく、5回巻以上のコイルを形成してもよい。   Moreover, in the said embodiment, although the loop patterns 20-24 were formed in the substantially square shape, you may form other polygonal shapes, such as a triangle and a pentagon, for example, and you may form in a circle, a semicircle, an ellipse etc. Moreover, in the said embodiment, although the loop patterns 21-24 were connected in series and the coil 28 of about 4 turns was formed, the coil of 2 turns or 3 turns may be sufficient and the coil of 5 turns or more is formed. May be.

さらに、前記実施の形態では、3個以上のループパターン20〜24を用いて磁界プローブ1を形成する構成とした。しかし、本発明はこれに限らず、例えば図12に示す第2の変形例のように、2個のループパターン42,43を用いて磁界プローブ41を形成する構成としてもよい。   Furthermore, in the said embodiment, it was set as the structure which forms the magnetic field probe 1 using the 3 or more loop patterns 20-24. However, the present invention is not limited to this, and the magnetic field probe 41 may be formed using the two loop patterns 42 and 43 as in the second modification shown in FIG.

この場合、ループパターン42は、例えば第1の実施の形態によるループパターン20とほぼ同様に形成され、その一端側に設けられた接続部42A側がビアホール44を通じてストリップ導体14に接続されている。一方、ループパターン43は、例えば第1の実施の形態によるループパターン21とほぼ同様に形成されるものの、その他端側に設けられた接続部43Aはビアホールを通じてグランド電極(いずれも図示せず)に接続されている。そして、各ループパターン42,43は、それぞれ略1回巻のコイル45を構成すると共に、非接続で互いに絶縁された状態で対向したコンデンサ46を構成するものである。   In this case, the loop pattern 42 is formed, for example, in substantially the same manner as the loop pattern 20 according to the first embodiment, and the connection portion 42 </ b> A provided at one end thereof is connected to the strip conductor 14 through the via hole 44. On the other hand, the loop pattern 43 is formed, for example, in substantially the same manner as the loop pattern 21 according to the first embodiment, but the connecting portion 43A provided on the other end side is connected to the ground electrode (not shown) through the via hole. It is connected. Each of the loop patterns 42 and 43 constitutes a substantially one-turn coil 45 and constitutes a capacitor 46 that is opposed to each other while being insulated from each other.

1,31,41 磁界プローブ
4 多層基板(基板)
13 伝送線路部
19 検出部
20〜24,42,43 ループパターン
25〜27,35 ビアホール
28,36,37,45 コイル
29,32,46 コンデンサ
1, 31, 41 Magnetic field probe 4 Multilayer substrate (substrate)
13 Transmission line section 19 Detection section 20-24, 42, 43 Loop pattern 25-27, 35 Via hole 28, 36, 37, 45 Coil 29, 32, 46 Capacitor

Claims (2)

複数の絶縁層を厚さ方向に積層した多層基板と、該多層基板のうち絶縁層を挟んで厚さ方向の異なる位置に設けられ巻線形状となった2個以上のループパターンとを備え、
前記2個以上のループパターンのうち厚さ方向で隣合う2個のループパターンは、非接続にして互いに絶縁された状態で対向したコンデンサを構成し
前記2個以上のループパターンは、いずれも略同じ巻線形状に形成してなる磁界プローブ。
A multilayer substrate in which a plurality of insulating layers are laminated in the thickness direction, and two or more loop patterns provided in different positions in the thickness direction across the insulating layer among the multilayer substrates and having a winding shape;
Two loop patterns adjacent to each other in the thickness direction among the two or more loop patterns constitute capacitors that are opposed to each other while being disconnected and insulated from each other ,
Each of the two or more loop patterns is a magnetic field probe formed in substantially the same winding shape .
前記コンデンサを構成する2個のループパターンの間を除いた残余のループパターンの間にはビアホールを設け、隣合うループパターンを直列に接続してコイルを構成してなる請求項1に記載の磁界プローブ。   The magnetic field according to claim 1, wherein a via hole is provided between the remaining loop patterns excluding the two loop patterns constituting the capacitor, and a coil is formed by connecting adjacent loop patterns in series. probe.
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