JP5606292B2 - 描画装置、物品の製造方法、偏向装置の製造方法、および、描画装置の製造方法 - Google Patents
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Description
前記複数の荷電粒子線を偏向するための偏向器アレイと、
前記偏向器アレイに対して複数の電位をそれぞれ与える複数のデバイスと、
前記偏向器アレイに含まれる複数の電極のそれぞれを前記複数のデバイスのいずれかに接続し、かつ、前記複数の電極のうち与えられる電位が等しい電極どうしを接続する接続部と、
前記偏向器アレイに含まれる1つの偏向器に対応する荷電粒子線の強度を検出する検出器と、
前記検出器の出力に基づいて、前記偏向器を構成する複数の電極にそれぞれ与える複数の電位を決定する制御部と、を有し、
前記複数のデバイスに含まれるデバイスの数が前記偏向器アレイに含まれる電極の数より少なく、
前記制御部は、前記偏向器アレイに含まれる一つの電極対の少なくとも一方の電極の電位が前記偏向器アレイに含まれる他の電極対の少なくとも一方の電極の電位と等しくなるように、前記一つの電極対に印加する電圧を維持しつつ当該電極対に与える2つの電位の変更を行うことにより、前記複数の電位を決定する、ことを特徴とする描画装置である。
図1は、複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置の構成を示す図である。なお、以下の実施形態では、複数の電子線で基板に描画を行う描画装置を例に説明を行うが、荷電粒子線は、電子線に限定されず、イオン線等、他の荷電粒子線であってもよい。以下、描画装置の構成を、その動作とともに、説明する。同図において、1は、電子線源としての電子銃であり、クロスオーバ2を形成する。4、5は、クロスオーバ2から発散した電子の軌道を示している。クロスオーバ2から発散した電子線は、コリメーターレンズ3の作用により平行な電子線となり、アパーチャアレイ6に入射する。
本実施形態の構成によれば、偏向器アレイに含まれる電極に電位を与えるデバイスの数の少なさの点で有利な描画装置を提供することができる。
図9は、第2実施形態に係るアライナ偏向器アレイの制御系の構成を示す図である。静電型のアライナ偏向器アレイ23は、対向する電極間の電圧に応じて電子線を偏向させる。このため、対向する電極間の電圧を保ったまま両電極の電位を変化させても電子線の偏向量は変化しない。しかし、実際には、電位の変化量が大きくなると、隣接して配置された電極対による電場と干渉し、電子線に対する位置制御精度の点で不利となりうる。そこで、当該位置制御精度を考慮して電位変化量の上限(許容範囲)を予め定めておき、設定された許容範囲内で電位の変更を行うようにすれば、電子線の偏向量を実質的に変化させずに電極対に与える電位を変更できることになる。
本実施形態の構成によれば、偏向器アレイに含まれる電極の総数に対して、電位を与えるデバイスの総数を大幅に削減することができる。
図10は、第3実施形態に係るアライナ偏向器アレイの制御系の構成を示す図である。本実施形態においては、第1実施形態または第2実施形態の接続部30を真空チャンバ27の中に配置している。本実施形態によれば、真空フィードスルーコネクタ28に接続するケーブル(信号線)の数を削減することができる。真空フィードスルーコネクタ28には、第1実施形態または第2実施形態の構成により削減された電位生成部24からの信号線と、それと同数の接続部30への制御線とを接続する。なお、真空フィードスルーコネクタ28にはスイッチ制御部42と接続部30とを結ぶ制御線も接続しなければならないが、シリアル通信により当該制御線は少数で済むため、真空フィードスルーコネクタ28のピンの総数を削減することができる。
本実施形態は、以上に説明した偏向器アレイを含む偏向装置の製造方法と、当該製造方法により製造された偏向装置を含む描画装置の製造方法とに関するものである。まず、偏向装置の製造方法について説明する。第1乃至第3実施形態における説明から明らかである点は省略して説明する。
本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。該製造方法は、感光剤が塗布された基板の該感光剤に上記の描画装置を用いて潜像パターンを形成する工程(基板に描画を行う工程)と、当該工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含みうる。さらに、該製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含みうる。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
26 D/Aコンバータ(デバイス)
30 接続部
Claims (8)
- 複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、
前記複数の荷電粒子線を偏向するための偏向器アレイと、
前記偏向器アレイに対して複数の電位をそれぞれ与える複数のデバイスと、
前記偏向器アレイに含まれる複数の電極のそれぞれを前記複数のデバイスのいずれかに接続し、かつ、前記複数の電極のうち与えられる電位が等しい電極どうしを接続する接続部と、
前記偏向器アレイに含まれる1つの偏向器に対応する荷電粒子線の強度を検出する検出器と、
前記検出器の出力に基づいて、前記偏向器を構成する複数の電極にそれぞれ与える複数の電位を決定する制御部と、を有し、
前記複数のデバイスに含まれるデバイスの数が前記偏向器アレイに含まれる電極の数より少なく、
前記制御部は、前記偏向器アレイに含まれる一つの電極対の少なくとも一方の電極の電位が前記偏向器アレイに含まれる他の電極対の少なくとも一方の電極の電位と等しくなるように、前記一つの電極対に印加する電圧を維持しつつ当該電極対に与える2つの電位の変更を行うことにより、前記複数の電位を決定する、ことを特徴とする描画装置。 - 前記制御部は、電位の変化量が予め設定された範囲内となるように前記電位の変更を行う、ことを特徴とする請求項1に記載の描画装置。
- 複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置であって、
前記複数の荷電粒子線を偏向するための偏向器アレイと、
前記偏向器アレイに対して複数の電位をそれぞれ与える複数のデバイスと、
前記偏向器アレイに含まれる複数の電極のそれぞれを前記複数のデバイスのいずれかに接続し、かつ、前記複数の電極のうち与えられる電位が等しい電極どうしを接続する接続部と、
前記偏向器アレイに含まれる1つの偏向器に対応する荷電粒子線の強度を検出する検出器と、
前記検出器の出力に基づいて、前記偏向器を構成する複数の電極にそれぞれ与える複数の電位を決定する制御部と、を有し、
前記複数のデバイスに含まれるデバイスの数が前記偏向器アレイに含まれる電極の数より少なく、
前記接続部は、前記複数の電極と前記複数のデバイスとの間の接続状態を切り替えるための複数のスイッチング素子を含み、
前記制御部は、決定された前記複数の電位を記憶し、記憶された前記複数の電位に従って前記複数のスイッチング素子を制御する、ことを特徴とする描画装置。 - 前記偏向器アレイを収容して前記描画が行われ、かつ、真空フィードスルーを含む真空チャンバ、を有し、
前記複数のデバイスは前記チャンバの外に配置され、前記接続部は前記チャンバに収容され、前記複数の電極それぞれと前記複数のデバイスのいずれかとは前記真空フィードスルーを介して接続されている、ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の描画装置。 - 請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の描画装置を用いて基板に描画を行う工程と、
前記工程で描画を行われた基板を現像する工程と、
を有することを特徴とする物品の製造方法。 - 複数の荷電粒子線を偏向するための偏向器アレイと、前記偏向器アレイに対して複数の電位をそれぞれ与える複数のデバイスと、前記偏向器アレイに含まれる複数の電極のそれぞれを前記複数のデバイスのいずれかに接続する接続部とを有する偏向装置の製造方法であって、
前記偏向器アレイに含まれる1つの偏向器に対応する荷電粒子線の位置の検出を行い、
前記検出の結果に基づいて、前記偏向器を構成する複数の電極にそれぞれ与える複数の電位を決定し、
決定された前記複数の電位の数だけ前記複数のデバイスを構成するデバイスを用意し、
前記複数の電極のそれぞれを前記複数のデバイスのうち対応するデバイスに接続し、かつ、前記複数の電極のうち与えられる電位が等しい電極どうしを接続するように、前記接続部を構成し、
前記偏向器アレイに含まれる一つの電極対の少なくとも一方の電極の電位が前記偏向アレイに含まれる他の電極対の少なくとも一方の電極の電位と等しくなるように、前記一つの電極対に印加する電圧を維持しつつ当該電極対に与える2つの電位の変更を行うことにより、前記複数の電位を決定する、ことを特徴とする製造方法。 - 電位の変化量が予め設定された範囲内となるように前記電位の変更を行う、ことを特徴とする請求項6に記載の製造方法。
- 複数の荷電粒子線で基板に描画を行う描画装置の製造方法であって、
偏向装置を含み、かつ、前記複数の荷電粒子線を基板に投射する投射系を組み立てる工程、を有し、
前記工程において、請求項6または7に記載の製造方法を用いて前記偏向装置を製造する、
ことを特徴とする製造方法。
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