JP5594722B2 - Rna型非天然ヌクレオシド誘導体を調製するための中間体化合物の製造方法 - Google Patents
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「塩基」は、それぞれ独立して、ピリミジン塩基及びプリン塩基から選択され;
mは、1〜500の整数である]
で表される。
Xは、それぞれ独立して、ピリミジン塩基及びプリン塩基から選択され;
R1は、ヒドロキシル又はその保護形態であり;
R3は、エチニル又はその保護形態である]
で表される化合物の製造方法であって、D-キシロースを出発原料として、D-キシロースの3α-ヒドロキシルを3β-アジド化し、5-ヒドロキシルをエチニル化し、且つ1-位にピリミジン塩基又はプリン塩基を結合させることを含む、前記方法。
Xは、それぞれ独立して、ピリミジン塩基及びプリン塩基から選択され;
R1は、ヒドロキシル又はその保護形態であり;
R2は、ヒドロキシル、又はその保護形態若しくは固定化形態であり;
R3は、エチニル又はその保護形態である]
で表される化合物の製造方法であって、D-キシロースを出発原料として、D-キシロースの3α-ヒドロキシルを3β-ヒドロキシル化し、5-ヒドロキシルをエチニル化し、且つ1-位にピリミジン塩基又はプリン塩基を結合させることを含む、前記方法。
Xは、それぞれ独立して、ピリミジン塩基及びプリン塩基から選択され;
PG1は、酸性条件下において安定で、且つアルカリ処理で脱保護される保護基であり;
PG2は、酸性条件下において安定で、且つ脱シリル化条件で脱保護される保護基である]
で表される化合物である、前記(1)の方法であって、
(a) 式(II):
PG3及びPG4は、塩基性条件下において安定で、且つ酸処理によって脱保護される保護基であって、但し、PG3及びPG4は、それぞれ同一若しくは異なる独立した基であるか、又は
それらが一緒になって形成される1個の基であり;
L1は、脱離基である]
で表される化合物を、塩基で処理して分子内環化反応させて、式(III):
で表される化合物を形成させる工程;
(b) 式(III)で表される化合物を、式(IV):
で表されるアセチレンの保護誘導体と反応させて、式(V):
で表される化合物を形成させる工程;
(c) 式(V)で表される化合物をアジド化して、式(VI):
で表される化合物を形成させる工程;
(d) 式(VI)で表される化合物を酸処理することによってPG3及びPG4を脱保護し、式(VII):
で表される化合物を形成させる工程;
(e) 式(VII)で表される化合物を保護化して、式(VIII):
で表される化合物を形成させる工程;
(f) 式(VIII)で表される化合物に、ピリミジン塩基又はプリン塩基に対するグリコシル化反応を用いてピリミジン塩基又はプリン塩基を導入して、式(Ia)で表される化合物を形成させる工程;
を含む、前記方法。
Xは、それぞれ独立して、ピリミジン塩基及びプリン塩基から選択され;
Ybは、酸性条件下において安定で、且つアルカリ処理で脱保護される保護基又は固相であり;
PG1は、酸性条件下において安定で、且つアルカリ処理で脱保護される保護基であり;
PG2は、酸性条件下において安定で、且つ脱シリル化条件で脱保護される保護基である]
で表される化合物である、前記(2)の方法であって、
(a) 式(II):
PG3及びPG4は、塩基条件下において安定で、且つ酸処理によって脱保護される保護基であって、但し、PG3及びPG4は、それぞれ同一若しくは異なる独立した基であるか、又は
それらが一緒になって形成される1個の基であり;
L1は、脱離基である]
で表される化合物を、塩基で処理して分子内環化反応させて、式(III):
で表される化合物を形成させる工程;
(b) 式(III)で表される化合物を、式(IV):
で表されるアセチレンの保護誘導体と反応させて、式(V):
で表される化合物を形成させる工程;
(c-1) 式(V)で表される化合物の3β-ヒドロキシルをケトンに酸化して、式(V’):
で表される化合物を形成させる工程;
(c-2) 式(V’)で表される化合物の3-位のケトンを3α-ヒドロキシルに還元して、式(VIb):
で表される化合物を形成させる工程;
(d) 式(VIb)で表される化合物を酸処理することによってPG3及びPG4を脱保護し、式(VIIb):
で表される化合物を形成させる工程;
(e) 式(VIIb)で表される化合物を保護化して、式(VIIIb):
で表される化合物を形成させる工程;
(f) 式(VIIIb)で表される化合物に、ピリミジン塩基又はプリン塩基に対するグリコシル化反応を用いてピリミジン塩基又はプリン塩基を導入して、式(Ib)で表される化合物を形成させる工程;
を含む、前記方法。
Xは、それぞれ独立して、ピリミジン塩基及びプリン塩基から選択され;
R1は、ヒドロキシル又はその保護形態であり;
R3は、エチニル又はその保護形態であり;
PG1は、酸性条件下において安定で、且つアルカリ処理で脱保護される保護基であり;
PG2は、酸性条件下において安定で、且つ脱シリル化条件で脱保護される保護基であり;
PG3及びPG4は、塩基性条件下において安定で、且つ酸処理によって脱保護される保護基であって、但し、PG3及びPG4は、それぞれ同一若しくは異なる独立した基であるか、又は
それらが一緒になって形成される1個の基であり;
L1は、脱離基である。
Xは、それぞれ独立して、ピリミジン塩基及びプリン塩基から選択され;
R1は、ヒドロキシル又はその保護形態であり;
R2は、ヒドロキシル、又はその保護形態若しくは固定化形態であり;
R3は、エチニル又はその保護形態であり;
Ybは、酸性条件下において安定で、且つアルカリ処理で脱保護される保護基又は固相であり;
PG1は、酸性条件下において安定で、且つアルカリ処理で脱保護される保護基であり;
PG2は、酸性条件下において安定で、且つ脱シリル化条件で脱保護される保護基であり;
PG3及びPG4は、塩基性条件下において安定で、且つ酸処理によって脱保護される保護基であって、但し、PG3及びPG4は、それぞれ同一若しくは異なる独立した基であるか、又は
それらが一緒になって形成される1個の基であり;
L1は、脱離基である。
プロトン(1H)核磁気共鳴(NMR)スペクトルは、Biospin Avance 400P FT NMR (400 MHz)及びJEOL LA-400 (400 MHz)分光計を用いて測定した。分析用薄層クロマトグラフィー(TLC)は、蛍光検出試薬を含有するシリカゲル(230-400メッシュ、0.25 mm厚)を塗布したガラスプレート(silica gel 60F254, Merck社)を用いて実施した。質量分析は、JEOL JMS-T100LC (ESI-TOF MS)質量分析計を用いて測定した。
(1)1,2-O-イソプロピリデン-5-(トリメチルシリル)エチニル-5-デオキシ-α-D-キシロフラノース(5)の合成
Claims (4)
- 式(IA):
Xは、それぞれ独立して、ピリミジン塩基及びプリン塩基から選択され;
R1は、ヒドロキシル又はその保護形態であり;
R3は、エチニル又はその保護形態である]
で表される化合物の製造方法であって、
D-キシロースを出発原料として、D-キシロースの3α-ヒドロキシルを3β-アジド化し、5-ヒドロキシルをエチニル化し、且つ3β-アジド化及びエチニル化を行った後、2-ヒドロキシル基が保護化された中間体に、ピリミジン塩基又はプリン塩基に対するグリコシル化反応を用いてピリミジン塩基又はプリン塩基を導入することにより1-位にピリミジン塩基又はプリン塩基を結合させることを含む、前記方法。 - 式(IB):
Xは、それぞれ独立して、ピリミジン塩基及びプリン塩基から選択され;
R1は、ヒドロキシル又はその保護形態であり;
R2は、ヒドロキシル、又はその保護形態若しくは固定化形態であり;
R3は、エチニル又はその保護形態である]
で表される化合物の製造方法であって、
D-キシロースを出発原料として、D-キシロースの3α-ヒドロキシルを3β-ヒドロキシル化し、5-ヒドロキシルをエチニル化し、且つエチニル化を行った後、2-ヒドロキシル基が保護化された中間体に、ピリミジン塩基又はプリン塩基に対するグリコシル化反応を用いてピリミジン塩基又はプリン塩基を導入することにより1-位にピリミジン塩基又はプリン塩基を結合させることを含む、前記方法。 - 式(IA)で表される化合物が、式(Ia):
Xは、それぞれ独立して、ピリミジン塩基及びプリン塩基から選択され;
PG1は、酸性条件下において安定で、且つアルカリ処理で脱保護される保護基であり;
PG2は、酸性条件下において安定で、且つ脱シリル化条件で脱保護される保護基である]
で表される化合物である、請求項1の方法であって、
(a) 式(II):
PG3及びPG4は、塩基性条件下において安定で、且つ酸処理によって脱保護される保護基であって、
但し、PG3及びPG4は、それぞれ同一若しくは異なる独立した基であるか、又は
それらが一緒になって形成される1個の基であり;
L1は、脱離基である]
で表される化合物を、塩基で処理して分子内環化反応させて、式(III):
で表される化合物を形成させる工程;
(b) 式(III)で表される化合物を、式(IV):
で表されるアセチレンの保護誘導体と反応させて、式(V):
で表される化合物を形成させる工程;
(c) 式(V)で表される化合物をアジド化して、式(VI):
で表される化合物を形成させる工程;
(d) 式(VI)で表される化合物を酸処理することによってPG3及びPG4を脱保護し、式(VII):
で表される化合物を形成させる工程;
(e) 式(VII)で表される化合物を保護化して、式(VIII):
で表される化合物を形成させる工程;
(f) 式(VIII)で表される化合物に、ピリミジン塩基又はプリン塩基に対するグリコシル化反応を用いてピリミジン塩基又はプリン塩基を導入して、式(Ia)で表される化合物を形成させる工程;
を含む、前記方法。 - 式(IB)で表される化合物が、式(Ib):
Xは、それぞれ独立して、ピリミジン塩基及びプリン塩基から選択され;
Ybは、酸性条件下において安定で、且つアルカリ処理で脱保護される保護基又は固相であり;
PG1は、酸性条件下において安定で、且つアルカリ処理で脱保護される保護基であり;
PG2は、酸性条件下において安定で、且つ脱シリル化条件で脱保護される保護基である]
で表される化合物である、請求項2の方法であって、
(a) 式(II):
PG3及びPG4は、塩基条件下において安定で、且つ酸処理によって脱保護される保護基であって、
但し、PG3及びPG4は、それぞれ同一若しくは異なる独立した基であるか、又は
それらが一緒になって形成される1個の基であり;
L1は、脱離基である]
で表される化合物を、塩基で処理して分子内環化反応させて、式(III):
で表される化合物を形成させる工程;
(b) 式(III)で表される化合物を、式(IV):
で表されるアセチレンの保護誘導体と反応させて、式(V):
で表される化合物を形成させる工程;
(c-1) 式(V)で表される化合物の3β-ヒドロキシルをケトンに酸化して、式(V’):
で表される化合物を形成させる工程;
(c-2) 式(V’)で表される化合物の3-位のケトンを3α-ヒドロキシルに還元して、式(VIb):
で表される化合物を形成させる工程;
(d) 式(VIb)で表される化合物を酸処理することによってPG3及びPG4を脱保護し、式(VIIb):
で表される化合物を形成させる工程;
(e) 式(VIIb)で表される化合物を保護化して、式(VIIIb):
で表される化合物を形成させる工程;
(f) 式(VIIIb)で表される化合物に、ピリミジン塩基又はプリン塩基に対するグリコシル化反応を用いてピリミジン塩基又はプリン塩基を導入して、式(Ib)で表される化合物を形成させる工程;
を含む、前記方法。
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US20070225246A1 (en) * | 2006-03-27 | 2007-09-27 | Denu John M | O-acetyl-ADP-ribose non-hydrolyzable analogs |
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