JP5588731B2 - 複合外層を有する定着器部材 - Google Patents

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Description

本開示は、一般に複合材料及び固定部材に関し、より詳細には、シルセスキオキサン系粒子を含む複合材料及び固定部材並びにそれらの形成方法に関する。
静電写真/電子写真印刷プロセスにおいて、トナー画像は、定着ロール(fuser roll)を用いて支持体(例えば、用紙)上に固定又は定着することができる。従来の定着技術は、定着ロールの良好な剥離特性を維持するために、定着動作の間に剥離剤/定着器オイルを定着ロールに塗布する。トナー剥離のために、多様な材料が定着ロールの表面層材料として用いられる。例えば、表面層材料の1つのタイプは、E.I.DuPont de Nemours,Inc.(Wilmington、デラウェア州)から入手されるVITON(登録商標)のようなフルオロエラストマーを含む。このタイプの材料は、PDMSベースの定着器オイルのような剥離剤と共に用いられる。
トナー剥離のための別のタイプの表面層材料は、これもまたE.I.DuPont de Nemours,Inc.(Wilmington、デラウェア州)から入手されるTEFLON(登録商標)のようなフッ素樹脂を含む。このタイプの材料は、剥離剤を必要としないオイルレス定着のために所望される。しかしながら、テフロン(登録商標)コーティングは機械的堅牢性が不十分なので、例えば、へこみ、ひび割れ及び摩耗を引き起こすことがあるという問題が生じる。
したがって、従来技術のこれらの課題及び他の課題を克服し、改善された耐摩耗性/耐熱性、追従性、及び/又は定着ニップにおいて剥離剤を用いることなく良好な剥離を与える、固定部材に用いるための複合材料を提供することが必要とされている。
本開示の種々の実施形態による、最外層として複合材料を有する例示的な固定部材を示す。 本開示の種々の実施形態による、最外層として複合材料を有する例示的な固定部材を示す。 本開示の種々の実施形態による、例示的な複合材料を示す。 本開示の種々の実施形態による、別の例示的な複合材料を示す。 本開示の種々の実施形態による、例示的な複合材料の構造的表面形状を示す。 本開示の種々の実施形態による、例示的な複合材料についてのエネルギー分散型分光法(EDS)を示す。
例示的な実施形態は、複合材料及び固定部材並びにそれらの形成方法を提供する。複合材料は、例えば、フルオロエラストマーのような1つ又はそれ以上のポリマーを含むポリマーマトリックス中に分散された、多面体オリゴマー性シルセスキオキサン(POSS)のようなシルセスキオキサン系(silsesquioxane-based)粒子を含むことができる。いくつかの実施形態において、複合材料は、シルセスキオキサン系粒子とポリマーマトリックス中のポリマーとの間の物理的分散及び/又は化学結合を含む、第1のタイプの複合材料を含むことができる。第1のタイプの複合材料は、ポリマーマトリックス中に分散されたカーボンナノチューブをさらに含む。このタイプの複合材料は、固定部材の最外層として用いることができる。
他の実施形態において、複合材料は、ポリマーマトリックス内で自由に移動可能な官能化シルセスキオキサン系粒子を複合材料の少なくとも1つの表面上に構造的表面形状を形成するような量で含む、第2のタイプの複合材料を含むことができる。構造的表面形状は、ナノ−、マイクロ−及び/又はナノ−マイクロ−のスケールとすることができる。種々の実施形態において、構造的表面形状の形成を促進するために、随意にカーボンナノチューブを添加することができる。種々の実施形態において、構造的表面形状を有する第2のタイプの複合材料は、固定部材の最外層として用いることもでき、又は表面形状を必要とする他の用途に用いることもできる。しかしながら、固定部材のために用いられる場合、構造的表面形状の存在により、定着器オイルを用いることなくオイルレス固定動作を達成することができる。
本明細書に開示されるように、ポリマーマトリックスは、例えば、フッ素化ポリマー(例えばフルオロポリマー)、シリコーンエラストマー、熱エラストマー、樹脂、熱硬化性ポリマー又は他の架橋材料を含む、1つ又はそれ以上の化学的又は物理的に架橋されたポリマーを含むことができる。
種々の実施形態において、フッ素化ポリマー又はフルオロポリマーとしては、フルオロエラストマー(例えば、VITON(登録商標))と、ポリパーフルオロエーテルエラストマーと、フッ化炭素と、フッ素化ポリエーテル、フッ素化ポリイミド、フッ素化ポリエーテルケトン、フッ素化ポリアミド、又はフッ素化ポリエステルを含むフッ素化熱可塑性プラスチックとを挙げることができるが、これらに限定されない。種々の実施形態において、1つ又はそれ以上の架橋ポリマーは、シルセスキオキサン系粒子及び/又はナノチューブと混合されるように、半軟質及び/又は溶融物とすることができる。
種々の実施形態において、ポリマーマトリックスは、例えば、フッ化ビニリデン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、パーフルオロ(メチルビニルエーテル)、パーフルオロ(プロピルビニルエーテル)、パーフルオロ(エチルビニルエーテル)、及びそれらの混合物から選択されるモノマー反復単位を有する、フルオロエラストマーを含むことができる。さらに、フルオロエラストマーは、フルオロエラストマーのポリマー鎖を硬化又は架橋するために、硬化部位モノマーを含むことができる。
市販のフルオロエラストマーとしては、例えば、VITON(登録商標)A(ヘキサフルオロプロピレン(HFP)とフッ化ビニリデン(VDF又はVF2)とのコポリマー)、VITON(登録商標)B(テトラフルオロエチレン(TFE)と、フッ化ビニリデン(VDF)と、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)とのターポリマー)、及びVITON(登録商標)GF(TFE、VF2、HFPを含むテトラポリマー)、並びにVITON(登録商標)E、VITON(登録商標)E60C、VITON(登録商標)E430、VITON(登録商標)910、VITON(登録商標)GH及び/又はVITON(登録商標)GFという名称の製品を挙げることができる。VITON(登録商標)という名称は、E.I.DuPont de Nemours,Inc.(Wilmington、デラウェア州)の商標である。
他の市販のフルオロエラストマーとしては、例えば、3M Company(Two Harbors、ミネソタ州)のDyneon(商標)フルオロエラストマーを挙げることができる。さらに別の市販材料としては、両方とも3M Companyから入手可能な、ポリ(プロピレン−テトラフルオロエチレン)であるAflas(登録商標)及びポリ(プロピレン−テトラフルオロエチレン−フッ化ビニリデン)であるFluorel(登録商標)II(LII900)、並びにSolvay Solexis(Bollate、MI、イタリア)から入手可能なFor(登録商標)−60KIR、For(登録商標)−LHF、又は−NM、For(登録商標)THF、For(登録商標)−TFS、−TH、又は−TN505として区別されるTecnoflonを挙げることができる。
1つの例示的な実施形態において、ポリマーマトリックスは、ビスフェノール化合物、ジアミノ化合物、アミノフェノール化合物、アミノ−シロキサン化合物、アミノ−シラン及びフェノール−シラン化合物を含むがそれらに限定されない有効な硬化剤(架橋剤、結合剤、又はクロスリンカーとも呼ばれる)で架橋された、フッ化ビニリデン含有フルオロエラストマーを含むことができる。
例示的なビスフェノール・クロスリンカーとしては、E.I.du Pont de Nemours,Inc.から入手可能なVITON(登録商標)Curative No.50(VC−50)を挙げることができる。Curative VC−50は、ビスフェノール−AFをクロスリンカーとして含み、塩化ジフェニルベンジルホスホニウムを促進剤として含むことができる。ビスフェノール−AFは、4,4’−(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ビスフェノールとしても知られている。
架橋されたフルオロポリマーは、比較的軟質で弾性の性質を示すエラストマーを形成することができる。特定の実施形態において、ポリマーマトリックスは、テトラフルオロエチレン(TFE)、ヘキサフルオロプロピレン(HFP)、フッ化ビニリデン(VF2)、及び臭素化ペルオキシド硬化部位を含むVITON(登録商標)GF(E.I.du Pont de Nemours,Inc.、Wilmington、デラウェア州)を含むことができる。
本明細書で開示されるように、シルセスキオキサン系粒子は、上記のような1つ又はそれ以上のポリマーを含むポリマーマトリックス内に分散することができる。
種々の実施形態において、シルセスキオキサン系粒子は、例えば約1000nm(1ミクロン)又はそれ以下のサイズ範囲を有する、ナノサイズとすることができる。例えば、シルセスキオキサン系粒子は、約0.5nmから約5nmまで、いくつかの場合には約1nmから約2nmまでのナノ粒子サイズを有するものとすることができる。種々の実施形態において、シルセスキオキサン系粒子は、ポリマーマトリックスのポリマー鎖の中に分散し、その上に固定し、又は結合することができる。他の実施形態において、シルセスキオキサン系粒子の材料は、複合材料のポリマーマトリックス中に物理的にドーピングされるか、又は化学的に固定されるものとすることができる。種々の実施形態において、多様なシルセスキオキサン系粒子が、Aldrich(St.Louis、ミズーリ州)、Gelest(Morrisville、ペンシルバニア州)又は他の会社を通じて入手可能であり得る。
シルセスキオキサン系粒子は側基で官能化することもでき、これは「官能化シルセスキオキサン系粒子」とも呼ばれる。例えば、シルセスキオキサン系粒子は、オリゴマーであってもよく、かつケイ素−酸素結合の直鎖又は分枝鎖を含むことができる。シルセスキオキサンオリゴマーに沿ったケイ素原子は、水素、フッ素、アルキル、アリール、フッ化炭素官能基又はそれらの組合せを含むがそれらに限定されない官能基で置換することができる。官能基の選択によりシルセスキオキサン系粒子の性質に影響を与えることができ、シルセスキオキサン系粒子の官能化は、処理のために、及び、ホスト系、例えばフルオロポリマー、又はフルオロエラストマーのような特殊なフルオロポリマーなどのホストポリマーとの相溶性を改良するためにシルセスキオキサン系粒子を可溶化するための、柔軟性(flexibility)を可能にすることができる。
種々の実施形態において、シルセスキオキサン系粒子にフッ素化基を付加することで、ポリマーマトリックス全体にわたって粒子を均一に分散させる、相溶性の粒子−シェル複合体を得ることができる。さらに、フッ素化基で官能化されたシルセスキオキサン系粒子は、低オイル定着システムのためのオイルレス剥離性を助長することができる。種々の実施形態において、シルセスキオキサン系粒子は定着システムにおける剥離を助長するために、例えばシロキサン基で官能化することができる。実施形態において、シルセスキオキサン系材料は、例えば、アルキル、アリール、フッ素化アルキル、フッ素化アリール、パーフルオロエーテル又はそれらの組合せの使用によって、疎水性を有するように官能化することができる。
これらの上記官能基は、そのような官能化粒子の表面エネルギーが低いことにより、バルクから複合材料の表面へのシルセスキオキサン系材料の粒子移動を促進することができる。
種々の実施形態において、シルセスキオキサン系粒子は、ポリマーマトリックスのポリマー鎖に架橋する反応性基、したがって、シルセスキオキサン系粒子をマトリックス内に固定する及び/又はポリマーを架橋する反応性基でさらに官能化することができる。反応性基は、例えば、ポリマーマトリックスの1つ又はそれ以上のポリマー鎖に対して、又は1つ又はそれ以上のポリマー鎖に共有結合した1つ又はそれ以上の官能基に対して共有結合することが可能な、アミノ、シロキシ又はヒドロキシフェニル基のような基を含むことができる。例示的な実施形態において、官能基は、ビスフェノール−A(BPA)を含むことができ、官能化シルセスキオキサン系分子は、例示的なフルオロエラストマー鎖に直接結合し、粒子をポリマーマトリックス全体にわたって固定することが可能である。
種々の実施形態において、シルセスキオキサン系粒子は、多面体の形状であり得、かつ、オリゴマー性のものとすることができ、多面体オリゴマー性シルセスキオキサン(POSS)を含むことができる。具体的には、POSS材料は、シリカ及びシリコーンの性質を示す、大きな個別の分子であり得る。POSSの剛直で耐熱性の(Si23n無機コアは、ポリマーマトリックスの機械的弾性率、硬度及び熱安定性を高めることができる。より具体的には、シリカ様のポリシルセスキオキサン系粒子を固定部材のための最外層として用いると、定着器の外層の硬度及び熱安定性を高めることができ、したがって、固定部材の耐久性を高めることができる。その上、シルセスキオキサン系粒子は、例えばiGen機器のような公知の定着システムにおいて用いられるポリジメチルシロキサン(PDMS)定着器流体と同様の、シリコーン様の特性を有することができる。
種々の実施形態において、POSSの多面体形状は、オクタゴナル(T8)、デカゴナル(T10)、及び/又は(T12)のかご形を含むことができ、T8構造がもっとも一般的に形成される。POSS構造体の異なる骨格の形成は、pH、温度、溶媒及び加水分解方法といった、調製の際の因子によって制御することができる。
例えば、オクタヘドラル(T8)POSSは、一般式Si812、かつ次式Iのような基本となる一般的な多面体構造を有することができ
式中、Rは、水素、約1から約20までの炭素又は約1から約10までの炭素を有する、メチル、エチル、プロピル、ブチル、tertブチル、イソブチルなどのような置換又は非置換アルキル基、約6から約10までの炭素又は約6から約40までの炭素を有し、もっとも一般的な例はフェニルである置換又は非置換アリール基、約1から約30までの炭素原子又は約1から約20までの炭素を有するフッ素化アルキル基、約6から約60までの炭素又は約6から約10までの炭素を有するフッ素化アリール基、約1から約30までの炭素原子を有する、シロキシ、ビシロキシ及びトリシロキシのような置換又は非置換シロキシ基、約1から約10までの炭素を有するアミノ基、約6から約60までの炭素を有するヒドロキシフェニル基、及びそれらの混合物からなる群から選択される官能基であり、置換基は、アミノ基、ハロゲン基(例えば、塩素、臭素、フッ素など)、水酸基、又は他の基とすることができる。
種々の実施形態において、官能基は、POSS粒子をキャップして、調製の際にポリマーマトリックス又はポリマーコーティング組成物に対するPOSSの相溶性を高めるように、選択することができる。式IにおいてR基として上述した側基の例は、アルキル、アリール、フルオロアルキル及びフルオロアリール基とすることができる。
種々の実施形態において、POSSのかごをキャップする官能基は異なったものでもよく、次式IIで表すことができ
式中R1は、非反応性官能基、例えば、約1から約20までの炭素若しくは約1から約10までの炭素を有する置換若しくは非置換アルキル、約6から約60までの炭素若しくは約6から約10までの炭素を有する置換若しくは非置換アリール、約1から約30までの炭素若しくは約1から約20までの炭素を有するフッ素化アルキル、又は約6から約60までの炭素若しくは約6から約10までの炭素を有するフッ素化アリールとすることができ、R2は、官能性架橋基のような反応性基とすることができる。式IIのPOSSは、通常、1つの官能基でキャップされたSiのコーナー基(corner group)を欠く、不完全に縮合したPOSS骨格であるシラノールから形成することができる。シラノールをトリアルコキシシラン又はトリハロシランと反応させて、式IIのPOSSを形成することができる。
種々の実施形態において、式IIのR1(又は式IのR)は、式F3C(F2C)n(CH2m−の直鎖フッ素化アルキル鎖[式中nは0から約17まで又は0から約10までの数とすることができ、mは0から約4までの数とすることができる]、式(F3C)2(CH)(F2C)n(CH2mの分枝鎖フッ素化アルキル鎖[式中nは0から約15まで又は約1から約10までの数であり、mは0から約4までの数である]、式F3C(F2C)n(CH2mqの直鎖パーフルオロエーテル鎖[式中nは0から約17まで又は0から約10までの数とすることができ、mは0から約4までの数とすることができ、qは約1から約10まで又は約1から約3までの数とすることができる]、式(F3C)2(CH)(F2C)n(CH2mqの分枝鎖パーフルオロエーテル鎖[式中nは0から約17まで又は0から約10までの数とすることができ、mは0から約4までの数とすることができ、qは約1から約10まで又は約1から約3までの数とすることができる]、及び式Cnn-1のフッ素化アリール基[式中nは約5から約10までの数とすることができる]から成る群から選択されるフッ素化基とすることができる。フッ素化アルキル及びアリール基の例は、以下のものを含むことができるが、これらに限定されない。
種々の実施形態において、式IIのR2は、ポリマーマトリックスの1つ又はそれ以上のポリマー鎖に共有結合することが可能であるか、又はポリマー鎖に共有結合した1つ又はそれ以上の官能基に共有結合することができる、反応性基又は官能架橋基を含むことができる。例としては、式Cn2nNH2又はCn2nNHCH2CH2NH2[式中nは0から約10まで又は約2から約6までの数とすることができる]のアミノ基、式Cn2nSiX3[式中nは0から約30まで又は約2から約10までの数とすることができ、Xはハロ又はアルコキシ基とすることができる]のシロキサン基、及び式(OH)(Cn2n)C63C(CX3263(Cn2n)(OH)[式中nは0から約60まで又は2から約10までの数とすることができ、XはH又はFとすることができる]の二官能性架橋基のようなヒドロキシフェニル基のうちの1つ又はそれ以上を含む官能基が挙げられるが、それらに限定されない。官能性架橋基の特定の例は、次式
から成る群より選択することができる。
反応性官能基のコーナーキャッピングを有する式IIの市販品の例としては、Aldrich(St.Louis、ミズーリ州)から入手されるヘプタイソブチル(3−(2−アミノエチル)アミノ)プロピル−PSS(式A参照)を挙げることができ、Aのアミノ官能基がフルオロポリマーマトリックスに結合することができる。式IIに対する市販の前駆体としては、Aldrich(St.Louis、ミズーリ州)から入手される(3−クロロプロピル)−ヘプタシクロペンチル−PSS(式B1参照)、シクロプロピル−ヘプタイソブチル−PSS(式B2参照)、(4−クロロベンジル)−ヘプタシクロペンチル−PSS(式C参照)、及びヒドリド−ヘプタシクロペンチル−PSS(式D参照)を挙げることができ、B1、B2及びCのクロロ官能基は、アミノ、シロキシ、又はヒドロキシフェニル架橋基で官能化することができる。Dのヒドリド官能基は、ヒドロシリル化反応によって架橋することができる。したがって、ビニル置換ビスフェノールA(BPA)のようなビニル官能化された架橋基がPOSS分子に直接結合して、以下に提示される式Eの物質を与えることができる。Eは多官能性であるので、このタイプの物質はPOSSをポリマーマトリックス内に組み入れる一方で、フルオロポリマー鎖を架橋するために用いることもできる。このようなPOSS粒子などは、種々の実施形態において、クロスリンカー、補強剤及び/又は剥離剤として多目的に機能することができる。
官能化POSSの他の実施形態は、以下の、BPA官能基又はアミノ官能基で部分的に官能化されたPOSSを含むことができる。
種々の実施形態において、POSSのコアにフッ素化鎖を付加することは、フッ素化鎖で官能化されたトリアルコキシシラン又はトリクロロシランのような市販のシリル前駆体の酸又は塩基触媒的加水分解と、その後の縮合によるシルセスキオキサンかごの形成によって行うことができる。1つの実施形態において、フッ素化POSS分子は、市販の(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリクロロシランの酸触媒的加水分解と、その後の縮合よるシルセスキオキサンかごの形成によって、下記に示すように調製することができる。
フッ素化POSS粒子の利点は、他の置換POSS粒子に比べて比較的稠密であること、及び強化されたフルオロポリマー層にさらなる堅牢性を与えることができることであり得る。フッ素化POSSはさらに、非接着性表面、すなわち疎水性表面を作り出す補助となる、非常に低い表面エネルギーを示すことができる。そしてこのことにより、定着器流体による濡れを低減させ、剥離性を向上させることができる。
フッ素化POSS含有架橋基は、官能化のための反応性部位を含む不完全に縮合したフッ素化POSSを合成し、次いで、例えば、シリルアミノ基、シリルフェノール基、又は上記の式IIにおいてR2として述べたようなその他の基のような、ポリマー鎖に結合する官能基を組み入れることによって完成することができる。この手順により、フッ素化POSSナノ粒子をフルオロポリマーマトリックス内に固定することができる。複数の架橋性官能基を組み入れることで、フッ素化POSS材料をフルオロポリマークロスリンカーとして使用するさらなる用途が可能になる。以下は、アミン架橋基で官能化されたフッ素化POSSの模式図である。
架橋剤の例としては、ヒドロキノンのようなビフェノール、ビスフェノールA(2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)プロパン)又はビスフェノールAF(2,2−ビス(4−ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン)(又はデラウェア州WilmingtonのDuPont Co.のVC50のような市販の調合物)のようなビスフェノール、AO700(ペンシルバニア州MorrisvilleのGelestから入手されるアミノエチルアミノプロピルトリメトキシシラン)のようなアミノシラン、ヘキサメチレンジアミンのようなジアミン、N,N’−ジシンナミリデン−1,6−ヘキサンジアミンのようなマスクされたジアミンを挙げることができる。「マスクされた」ジアミンは、アミン官能基に官能基が配位していることを指す。種々の実施形態において、フルオロポリマーを溶媒中に溶解することができ、架橋剤を架橋可能な他の成分と共に添加することができる。
本明細書中で開示されているように、カーボンナノチューブをポリマーマトリックス中に分散させることもできる。一般に、カーボンナノチューブは、複合材料に対して、例えば、機械的、電気的及び熱的機能を与えることができる。本明細書において用いられる場合、特に断りのない限り、「ナノチューブ」という用語は、少なくとも1つの、約100ナノメートル又はそれ以下の、小さい方の寸法、例えば幅又は直径を有する細長い材料(有機及び無機材料を含む)のことを指す。種々の実施形態において、「ナノチューブ」という用語は、単層カーボンナノチューブ(SWCNT)及び/又は多層カーボンナノチューブ(MWCNT)を含むこともできる。さらに、ナノチューブは、様々な物理的及び/又は化学的修飾によって制御及び/又は改善された機械的、電気的又は熱的性質を有する、修飾/官能化ナノチューブであってもよい。
種々の実施形態において、複合材料は、基材を組成物で被覆することによって形成することができる。コーティング組成物は、例えば、溶媒中に分散された、1つ又はそれ以上のフルオロポリマー、複数のシルセスキオキサン系粒子、及び/又は複数のカーボンナノチューブを含むことができる。
種々の実施形態において、無機粒子のような他の充填剤を随意にコーティング組成物に添加することができる。種々の実施形態において、無機粒子としては、金属酸化物、非金属酸化物、金属、又は他の適切な粒子を挙げることができるがそれらに限定されない。具体的には、金属酸化物としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化マンガン、酸化ニッケル、酸化銅、五酸化アンチモン、酸化インジウムスズ、及びそれらの混合物を挙げることができる。非金属としては、例えば、窒化ホウ素、炭化ケイ素(SiC)などを挙げることができる。金属としては、例えば、ニッケル、銅、銀、金、亜鉛、鉄などを挙げることができる。種々の実施形態において、当業者に公知の他の添加剤がコーティング組成物中に含まれていてもよい。
コーティング組成物又は分散体は、例えば、シルセスキオキサン系粒子、ナノチューブ、ポリマー及び/又は対応する硬化剤、及び/又は随意に、無機充填剤粒子又は当業者に公知の界面活性剤を分散させるための、有効な溶媒を含むように調製することができる。有効な溶媒としては、メチルイソブチルケトン(MIBK)、アセトン、メチルエチルケトン(MEK)、及びそれらの混合物が挙げられるが、それらに限定されない。適切な分散体を形成することができる他の溶媒は、本明細書における実施形態の範囲内であり得る。
コーティング組成物で基材上を被覆することができる。基材は、ベルト、プレート、フィルム、シート、ドラム、ドレルト(drelt)(ベルトとドラムの中間)、ローラ又は定着器部材のための他の公知の形態と含むがそれらに限定されない形態とすることができる。種々の実施形態において、被覆される基材としては、例えば、金属、合金、ゴム、ガラス、セラミック、プラスチック、又はファブリックといった、多様な材料を挙げることができる。例えば、用いられる金属としては、アルミニウム、陽極処理アルミニウム、鋼、ニッケル、銅、及びそれらの混合物を挙げることができ、用いられるプラスチックとしては、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリ(アリーレンエーテル)、ポリアミド、及びそれらの混合物を挙げることができる。種々の実施形態において、1つ又はそれ以上の機能層を基材と被覆層との間に配置することができる。
種々の被覆技術を、開示された複合材料を基材上に形成するために適用することができる。被覆技術としては、浸漬塗り、ペイント塗り、刷毛塗り、ローラ塗り、たんぽずり、吹付け塗り、スピンコーティング、キャスティング、又は流し塗りを挙げることができるが、それらに限定されない。種々の実施形態において、コーティング組成物が所望の表面上に塗工された後、乾燥プロセスを行うことができ、その後、固化プロセスを行うことができる。例えば、被覆された部材を乾燥させ、その後、ある温度、例えば、複合材料のポリマーマトリックスのホストポリマーとしてVITON(登録商標)が用いられる場合には上限232℃℃までの硬化温度にて、ベーキングすることができる。
被覆部材は、組成物及び/又はコーティング条件に応じて、基材上を被覆した種々の複合材料を含むことができる。例えば、第1のタイプの複合材料は、ポリマーマトリックス中に分散されたシルセスキオキサン系粒子及びカーボンナノチューブを含むことができる。第2のタイプの複合材料は、ポリマーマトリックス中に分散された官能化シルセスキオキサン系粒子を含むことができ、かつ、構造的表面形状を有することができる。
種々の実施形態において、第1及び第2のタイプの複合材料を含む被覆部材は、静電写真印刷装置又はプロセスにおいて用いることができ、かつ、例えば定着器部材、加圧部材、加熱部材又はドナー部材を含む固定部材として用いることができる。例えば、複合材料は、固定部材の最外層として用いることができる。
図1A−図1Bは、本教示に従う、例示的なコア基材110を有する例示的な固定部材100A−Bを示す。当業者には、図1A−図1Bに示される装置100A−Bが、一般化された模式図を示すこと、及び、他の成分/層/基材を付加すること又は既存の成分/層/基材を除去し若しくは変更することができることが明らかである。
被覆された固定部材100A−Bは、例えば、コア基材110上に形成された1つ又はそれ以上の機能層120及び/又は130を備えた定着器ローラとすることができる。種々の実施形態において、コア基材110は、円筒形の管又は中実の円筒形シャフトの形状を取ることができる。当業者には、例えばベルト状基材などの他の基材形状を用いて、被覆部材の剛性及び/又は構造的一体性を維持することができることが理解される。
図示されるように、図1A及び図1Bにおける最外層130は、適切な溶媒中にポリマー、シルセスキオキサン系粒子及び/又はナノチューブを含むコーティング組成物から形成された被覆層とすることができる。被覆層は、基材表面110の上に直接形成されてもよく(図1Aの130参照)、又は基材表面100の上に形成された機能層120の上に形成することもできる(図1Bの130参照)。例えば、定着器ロールは、被覆された最外層130と、当該分野で用いられる金属などのコア基材110との間に配置された、機能層120として用いられる中間層、接着層及び/又は弾性層(例えばシリコーンゴム層)を有する2層構造を有することができる。
1つの実施形態において、最外層130は、例えばフルオロエラストマー、シルセスキオキサン系粒子及び/又はカーボンナノチューブを含む複合材料を含むことができるので、最外層130は、例えば定着のための、所望の加工性及び機械的性質を有するフルオロエラストマーの使用を可能にすることができる。例示的な実施形態において、シルセスキオキサン系粒子は、最外層の重量の約3%から約30%までの範囲内とすることができ、カーボンナノチューブは、最外層の重量の約0.5%から約25%までの範囲内とすることができる。
種々の実施形態において、シルセスキオキサン系粒子の添加により、最外層の弾性率及び/又は靱性を高めることができ、かつ耐久性を向上させることができるので、その結果として、例示的な定着器部材の寿命を、材料の均質性を犠牲にすることなく延ばすことになる。
本明細書に開示されるように、第2のタイプの複合材料は、複合材料の少なくとも1つの表面が1つ又はそれ以上の構造的表面形状を含むことができるような量でポリマーマトリックス中に分散された、官能化(例えば、フッ素化)シルセスキオキサン系粒子を含むことができる。種々の実施形態において、第2のタイプの複合材料は、随意にナノチューブを含むことができる。ナノチューブがポリマーマトリックス中に分散される場合、これは、構造的表面形状の形成を促進するために用いることができる。種々の実施形態において、第2のタイプの複合材料は、例えば反応性官能基を有する、「シード」シルセスキオキサン系粒子を随意に含むこともできる。
1つの実施形態において、第2のタイプの複合材料は、層の表面エネルギーを改変する構造的表面形状を備えた機械的に堅牢なものであり得る。種々の実施形態において、構造的表面形状は、規則的でも又は不規則的でもよく、かつ、例えば、バルクから材料の表面に移動及び/又は凝集した官能化シルセスキオキサン系粒子のクラスタから形成される。
構造的表面形状は、開示された第2のタイプの複合材料に対して所望の表面濡れ性を与えることができる。表面濡れ性は、例えば、それぞれ、およそ90°またはそれ以上、120°又はそれ以上、及び/又は150°またはそれ以上の水接触角を有する、疎水性、極端疎水性(ultrahydrophobicity)、及び/又は超疎水性(superhydrophobicity)を含むことができる。例えば、構造的表面形状は、表面が超疎水性を示す、表面自浄性のための「ロータス効果」を提供することができる。
1つの実施形態において、表面形状は、周期的及び/又は規則正しいナノ表面構造、マイクロ表面構造、又はナノ−マイクロ表面構造のような、種々の規則的又は不規則なトポグラフィを有するナノ・スケール又はマイクロ・スケールであり得る。例えば、開示された表面は、所望の表面濡れ性を提供するために、突出又は貫入した形状を有することができる。例示的な実施形態において、表面形状の少なくとも約50%が約250nmから約15μmまでの高さ又は深さを有することができ、表面形状の少なくとも約25%が約250nmから約50μmまでの平均直径を有することができる。
種々の実施形態において、開示されたシルセスキオキサン系粒子は、水が完全に接触することを妨げることができる。すなわち、表面に対する水の接触面積(すなわち気液界面積)を小さくすることができる。接触面積が小さくなることの結果として、水と構造化された表面との間が非常に低接着になる。
種々の実施形態において、表面形状は、所望の表面濡れ性を与えることができる、例えば、方形、矩形、円形、星形、又は他のいずれかの適切な形状といった、種々の断面形状を有するものとすることができる。例示的な実施形態において、表面は、超疎水性であり、約170°またはそれ以上の水接触角を有する、蓮の葉と同様の粗さスケールを有することできる。
種々の実施形態において、POSSクラスタのような構造的表面形状を発生させるための官能化シルセスキオキサン系粒子は、フッ素化シルセスキオキサンのような適切なフッ素含有シルセスキオキサン系粒子を含むことができる。1つの実施形態において、オクタヘドラル(T8)POSSを用いた式Iをフッ素化シルセスキオキサンの例として再度参照すると、式Iに示される側基のうちの少なくとも1つがフッ素を含むことができる。種々の実施形態において、フッ素化官能基としては、本明細書で開示されているような直鎖又は分枝鎖フッ素化アルキル、直鎖又は分枝鎖パーフルオロエーテル及び/又はフッ素化アリール基が挙げられるが、それらに限定されない。種々の実施形態において、官能化フッ素含有シルセスキオキサン系粒子は、本明細書に開示されるような式IIのR1について記載された側基を含むことができる。
1つの実施形態において、構造的表面形状は、カーボンナノチューブを伴わずにシルセスキオキサン系粒子を最外層中に約5%又はそれ以上の量で最外層中に分散させることによって生成することができる。
別の実施形態において、フッ素含有シルセスキオキサン系粒子が第2のタイプの複合材料のバルクから表面まで移動することを促進するために、カーボンナノチューブを添加することができる。この場合、構造的表面形状は、ポリマーマトリックスの重量の約0.5%から約25%までのカーボンナノチューブと、ポリマーマトリックスの重量の約5%又はそれ以上のフッ素含有シルセスキオキサン系粒子とを分散させることによって生成することができる。さらに、カーボンナノチューブの添加は、例示的な定着器ロールの機械的性質を改変し、摩耗に起因する定着器ロールの不良、及びシルセスキオキサン系クラスタによって生じる生成された表面形状に起因する定着器ロールの不良を軽減することができる。
このようにして、フッ素含有シルセスキオキサン系粒子及び/又はカーボンナノチューブの添加は、表面における疎水性又は極/超疎水性を可能にすることができるので、自浄性をもたらすことができる。水滴は効率的に表面から転がり落ちることができる。自浄性は、定着器部材表面における自己剥離性に拡張することができ、トナー成分が、紙基材のような定着表面に付着することが防止される。種々の実施形態において最外層の被覆層は、表面形状に加えて、疎水性による自己剥離を向上させる、増加したフッ素含有量及び低下した表面エネルギーをさらに含むことができる。
図2は、本開示に従う、例示的な第2のタイプの複合材料を示す。図示されるように、第2のタイプの複合材料200は、例えば、フルオロエラストマーマトリックスのようなポリマーマトリックス230の中に分散された、官能化POSS粒子のような官能化シルセスキオキサン系粒子232を含むことができる。第2のタイプの複合材料200は、表面形状235を含むこともできる。種々の実施形態において、ポリマーマトリックス230は、カーボンナノチューブ(CNT)を含んでいてもよく、又は含まなくてもよい。
表面形状235は、例えば、複合材料のPOSS粒子のクラスタ化(205参照)によるPOSSクラスタであり得る。自由に移動する官能化シルセスキオキサン系粒子232(例えば、フッ素化POSS)をポリマーマトリックス230に配合することによって、クラスタは、主として複合材料200の表面に局在化することができ、表面形状235を形成する。
いかなる特定の理論にも拘束されることを意図するものではないが、官能化シルセスキオキサン系粒子232のクラスタ化及び表面局在化は、低表面エネルギーのエネルギー最小化に起因して発生することができると考えられる。例示的な官能化POSS粒子は、それゆえ、バルクから分離して、表面に移動(205参照)する。種々の実施形態において、POSS粒子は、移動の間に互いに集塊又は凝集することができる。一例において、フッ素化シルセスキオキサン系分子は、非常に低い表面エネルギーを有するようにフッ化炭素鎖で官能化することができる。別の例において、フッ素化シルセスキオキサン系分子は、複合材料に疎水性の性質を与えるように、例えばPOSSコアの周りで官能化することができる。さらなる例において、本明細書に開示されるようなバルクポリマーマトリックス(例えばフルオロエラストマー)に添加される他の充填剤は、バルクマトリックス内の化学的又は物理的相互作用を改変することができ、かつ、POSSのクラスタ化及び表面形状の形成を促進するために、系に配合することができる。
図3は、本開示に従う、第2のタイプの複合材料の別の実施形態を示す。図示されるように、第2のタイプの複合材料300は、例えば、フフルオロエラストマーマトリックスのようなポリマーマトリックス330の中に分散された、官能化POSS粒子のような官能化シルセスキオキサン系粒子332を含むことができる。第2のタイプの複合材料300又はポリマーマトリックス330は、表面形状335を含むことができる。種々の実施形態において、ポリマーマトリックス330は、カーボンナノチューブ(CNT)を含んでいてもよく、又は含まなくてもよい。
種々の実施形態において、複合材料300は、複合材料全体にわたってシルセスキオキサンクラスタを形成するために、「シード」シルセスキオキサン系粒子337をさらに含むことができる。
「シード」シルセスキオキサン系粒子337は、反応性部位、すなわち、複合材料300のポリマー鎖に結合又は架橋するポリマー結合基を含むことができる。種々の実施形態において、「シード」シルセスキオキサン系粒子337は、ポリマーマトリックス330内に「固定」され、バルクポリマーマトリックス330全体を通じた粒子の移動のためのシードとして用いることができる。例えば、シード・シルセスキオキサン系粒子337は、本明細書に記載のように、BPA官能基又はアミノ官能基で部分的に官能化することができる。種々の実施形態において、シード・シルセスキオキサン系粒子337は、反応性部位又は架橋基を有するフッ素含有シード・シルセスキオキサン系粒子とすることができる。種々の実施形態において、シード・シルセスキオキサン系粒子337は、式IIにおいて述べたようなものを含むことができる。
このようにして、官能化「シード」シルセスキオキサン系粒子337は、ポリマーマトリックス330のポリマー鎖、例えばフルオロエラストマー鎖に直接結合することが可能なものとすることができ、シード粒子を被覆された複合材料300の全体にわたって固定することが可能なものとすることができる。図2に示された表面でのクラスタの局在化を有する複合材料200と比べて、表面形状335は、シード・シルセスキオキサン系粒子337が存在することによって、固定表面の摩耗が生じるにつれて固定部材上で「補充可能」であり得る。
フッ素化POSSの調製
フッ素化POSS分子を、市販の(3,3,3−トリフルオロプロピル)トリクロロシランの酸触媒的加水分解と、それに続く縮合によるシルセスキオキサンかごの形成によって、以下に示すように調製した。
分子構造を、1H、13C、19F、及び29Si NMR分光法によって、重アセトン中で確認した。
コーティング組成物及び定着器トップコート層の調製
この実施例において、コーティング組成物は、7pphのVC−50クロスリンカーであるVITON(登録商標)GFを1.5pph、種々の濃度(例えば、VITON(登録商標)GFの重量の5%及び20%)の実施例1で形成されたフッ素化POSS粒子、0.75pphのMgO、及び界面活性剤をMIBK溶媒中に含んでいた。
VITON(登録商標)定着器トップコートを、MIBK中に分散された混合物、すなわちコーティング組成物をモールドに注入し、乾燥させ、その後、232℃までの標準的なVITON(登録商標)硬化温度にて加熱処理することによって調製した。
CNT含有コーティング組成物及びその結果得られる定着器トップコートもまた、3%CNTを含み、VITON(登録商標)GFの重量に対してそれぞれ約5%及び約10%のフッ素化POSSを有するように調製した。
調製された複合材料/定着器トップコート層の表面形状
実施例2にしたがって、4つのVITON(登録商標)複合材料試料を、それぞれ5%のPOSS、20%のPOSS、5%のPOSSと3%のCNT、及び20%のPOSSと3%のCNTを有するように調製した。
VITON(登録商標)複合材料/CNTを含まない5%のPOSSを有する最外層の場合、コーティング表面は粗く、規則的な表面形状は形成されていないことが観察された。
フッ素化POSSの濃度をVITON(登録商標)の重量の20%まで高めた場合、VITON(登録商標)複合材料は、中程度のサイズが約40μmから約50μmまでの球形の形状が、約5μmから約10μmまでのサイズを有するより小さい球形の形状と共に散在した表面を示した。
VITON(登録商標)複合材料/3%のCNTが配合された5%のPOSSを有する最外層の場合、豊富な約15μmから約20μmの均一な球形の表面形状が低濃度の約5μm未満の小さい寸法のものと共に散在することを示す、劇的に強化された表面効果が観察された。
VITON(登録商標)複合材料/3%のCNTが配合された20%のPOSSを有する最外層の場合、図4に例示的に示されるように、多くの約40μmから約50μmの大きめのサイズを有する均一な球形形状が、約5μmから約10μmまでの小さいサイズの球形形状と共に観察された。
詳細には、図4は、ポリマーのVITON(登録商標)の重量に対して3%のCNTが配合された20%のPOSSを有するVITON(登録商標)複合材料の構造的表面形状435を示す。
調製された複合材料/定着器最外層の表面形状に対するEDSの結果
表面形状をエネルギー分散型分光法(EDS)によってさらに分析して、元素含有量を測定した。
VITON(登録商標)複合材料/CNTを含まない5%のPOSSを有する最外層の場合、コーティング表面は、表面に中程度の量のケイ素(Si)を有することが観察された。
フッ素化POSSの濃度をVITON(登録商標)の重量の20%まで高めた場合、コーティング表面は、Si含有量が増えたことが観察され、Siは構造的表面形状内に局在化していることが観察されたので、POSSの存在を示している。
VITON(登録商標)複合材料/各々3%のCNTが配合された5%のPOSS及び20%のPOSSを有する最外層の場合、図5に示すように、表面におけるSi含有量は大幅に増加したことが観察され、優勢な球形形状はより均一なサイズになった。
具体的には、図5は、ポリマーであるVITON(登録商標)の重量の3%のCNTが配合された20%POSSを有するVITON(登録商標)複合材料試料に対する、例示的なエネルギー分散型分光法EDSの結果を示す。
調製された複合材料/最外層の表面エネルギー
調製されたVITON(登録商標)複合材料に対する表面エネルギー分析を表1に示した。示されるように、VITON(登録商標)複合材料/5%POSS及び20%POSSを有する最外層の平均表面エネルギー値は、POSSが添加されていない比較可能なVITON(登録商標)層に近かった。
対照的に、CNT含有VITON(登録商標)複合材料についての平均表面エネルギー値は、より低かった。特に、VITON(登録商標)複合材料/3%のCNTが配合された5%のPOSSを有する最外層は、非常に低い表面エネルギーを有することが観察され、複合表面上の小さい球形形状(<20μm)の濃度は低かった。この材料は、サイズが約10μmの一次形状とサイズが約1μmの二次形状を示す、蓮の葉と類似の構造的表面形状を提供した。
100:固定部材
110:コア基材
120:機能層
130:最外層
200、300:複合材料
230、230:ポリマーマトリックス
232、332:官能化シルセスキオキサン系粒子
235、335:表面形状
337:シード・シルセスキオキサン系粒子
435:構造的表面形状

Claims (3)

  1. 基材と、
    前記基材上に形成された最外層と
    を含み、前記最外層が、ポリマーマトリックス中に分散された複数のシルセスキオキサン系粒子と複数のカーボンナノチューブとを含むことを特徴とする固定部材。
  2. 前記複数のシルセスキオキサン系粒子が、約1000nm又はそれ以下の粒径を有する多面体オリゴマー性シルセスキオキサン(POSS)を含むことを特徴とする、請求項1に記載の部材。
  3. 固定部材の作成方法であって、
    基材を提供し、
    複数のシルセスキオキサン系粒子、複数のカーボンナノチューブ、及び1つ又はそれ以上のポリマーを含むコーティング組成物を形成し、
    形成された前記コーティング組成物を前記基材に塗工し、
    塗工された前記基材を加熱して前記固定部材の外層を形成する
    ステップを含む、作成方法。
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