JP5586201B2 - 磁気共鳴診断装置 - Google Patents

Description

本発明は、傾斜磁場コイルユニットの周囲を密閉して静音化を図る磁気共鳴イメージング装置に関する。

傾斜磁場コイルの振動に起因する騒音を低減して静音化を図るために、傾斜磁場コイルの周囲を真空とする磁気共鳴イメージング装置が特許文献１により知られている。

特許文献１に記載された磁気共鳴イメージング装置は、それぞれ外形が円筒状であるボアチューブと静磁場磁石ユニットとの間に生じる空間を、ボアチューブの側端および静磁場磁石の側端面にそれぞれ固定された密閉カバーによりする構造となっている。

特開平１０−１１８０４３号公報

上記の従来の静音化構造では、静磁場磁石ユニットとカバーとの間の気密性を高めるためにシールする場合には、静磁場磁石ユニットの端面とカバーとの間にＯリング等のパッキングを挟み込んでいた。

しかしながら、このような構造によって気密性を十分に高めるためには、静磁場磁石ユニットの端面が平面または緩やかな局面である必要があり、大きな凹凸がある場合には気密性を高めることが困難である。

また、静磁場磁石ユニットの端板の剛性が一般にあまり高くないため、端板からカバーへと振動が伝わり易く、騒音の低減効率を悪化させる一因となることがあった。

本発明はこのような事情を考慮してなされたものであり、その目的とするところは、気密性の向上を容易に図ることを可能とするとともに、カバーの振動を抑えて効率的に静音化を実現することを可能とする磁気共鳴診断装置を提供することにある。

本発明の一態様による磁気共鳴診断装置は、一端において開口した第１の空間を内部に形成する第１の筒状部分を少なくとも含んだ外形を有し、前記第１の空間内に静磁場を発生する静磁場発生ユニットと、第２の空間を内部に形成する第２の筒状部分を少なくとも含んだ外形を有し、前記第１の空間内に配置されて前記静磁場に付加するための傾斜磁場を発生する傾斜磁場発生ユニットと、被検体を配置するための第３の空間を内部に形成する第３の筒状部分を少なくとも含んだ外形を有し、少なくとも前記第３の筒状部分の一部が前記第２の空間内に配置されるボアチューブと、前記第１の空間の内径よりも小さな外径を有した第４の筒状部分を少なくとも含んだ外形を有し、前記第１の空間内の前記傾斜磁場発生ユニットの配置位置よりも前記第１の空間が開口した端部側の位置に少なくとも前記第４の筒状部分が配置されて前記第１の空間の開口のうちの前記静磁場発生ユニットと前記ボアチューブとの間の領域を覆うカバーと、前記第１の筒状部分の外側面と前記第４の筒状部分との間隙に配置されて当該間隙を密閉する第１の密閉部材と、前記ボアチューブと前記カバーとの間隙に配置されて当該間隙を密閉する第２の密閉部材とを備える。

本発明によれば、気密性の向上を容易に図ることが可能となるとともに、カバーの振動を抑えて効率的に静音化を実現することが可能となる。

本発明の実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置の構成を示す図。 図１中の静磁場磁石ユニットおよび傾斜磁場コイルユニットの側端近傍の第１の実施形態における構造を示す断面図。 図２中の密閉カバーの構造を示す断面図。 図２中の密閉カバーの構造を示す斜視図。 図１中の静磁場磁石ユニットおよび傾斜磁場コイルユニットの側端近傍の第２の実施形態における構造を示す断面図。 図５中の密閉カバーの構造を示す断面図。 図１中の静磁場磁石ユニットおよび傾斜磁場コイルユニットの側端近傍の第３の実施形態における構造を示す断面図。 図７中の密閉カバーを静磁場磁石ユニットに取り付けられる前における真空シールの状態を示す図。 図７中の真空シールの平面図。 図１中の静磁場磁石ユニット１および傾斜磁場コイルユニット２の側端近傍の第４の実施形態における構造を示す断面図。

以下、図面を参照して本発明の実施形態につき説明する。

図１は本実施形態に係る磁気共鳴イメージング装置（ＭＲＩ装置）１００の構成を示す図である。この図１に示すＭＲＩ装置１００は、静磁場磁石ユニット１、傾斜磁場コイルユニット２、傾斜磁場電源３、寝台４、寝台制御部５、送信ＲＦコイル６、送信部７、受信ＲＦコイル８、受信部９および計算機システム１０を具備する。

静磁場磁石ユニット１は、円柱状の第１の空間を内部に形成する円筒状の外形を有する。静磁場磁石ユニット１は、超電導磁石または永久磁石を内蔵し、第１の空間に一様な静磁場を発生する。一般的には、静磁場磁石ユニット１は、その軸と静磁場の磁場方向とを一致させる。

傾斜磁場コイルユニット２は、円柱状の第２の空間を内部に形成する円筒状の外形を有する。傾斜磁場コイルユニット２の外径は静磁場磁石ユニット１の内径よりも小さい。傾斜磁場コイルユニット２は、静磁場磁石ユニット１と軸をほぼ一致させる状態で第１の空間内に配置される。傾斜磁場コイルユニット２は、互いに直交するＸ，Ｙ，Ｚの各軸に対応する３種類のコイルが組み合わされている。傾斜磁場コイルユニット２は、上記の３つのコイルが傾斜磁場電源３から個別に電流供給を受けて、磁場強度がＸ，Ｙ，Ｚの各軸に沿って変化する傾斜磁場を第２の空間に発生する。なお、Ｚ軸方向は、例えば静磁場の磁場方向と同方向とする。Ｘ，Ｙ，Ｚ各軸の傾斜磁場は、例えば、スライス選択用傾斜磁場Ｇs、位相エンコード用傾斜磁場Ｇeおよびリードアウト用傾斜磁場Ｇrにそれぞれ対応する。スライス選択用傾斜磁場Ｇsは、任意に撮像断面を決めるために利用される。位相エンコード用傾斜磁場Ｇeは、空間的位置に応じて磁気共鳴信号の位相を変化させるために利用される。リードアウト用傾斜磁場Ｇrは、空間的位置に応じて磁気共鳴信号の周波数を変化させるために利用される。傾斜磁場コイルユニット２は、非シールド型およびシールド型のいずれであっても良いが、シールド型であることが望ましい。シールド型の傾斜磁場コイルは、上記構造に加えてシールドコイルを備えるもので、active shielded gradient coil（ＡＳＧＣ）とも呼ばれる。なおシールドコイルは、メインコイルにより発生されて所定領域外に漏れる磁場を相殺するための磁場を発生するように駆動される。また傾斜磁場コイルユニット２は、長手方向に関して静磁場磁石ユニット１よりも短い。さらに傾斜磁場コイルユニット２は、複数の磁性体片（例えば鉄シム）を保持可能なシムトレーを収容するトレースロットを少なくとも１つ備える。なお本実施形態においては、８つのトレースロットを備えることとする。これらのトレースロットは、いずれも傾斜磁場コイルユニット２の長手方向に沿って延びる。

被検体２００は、寝台４の天板４ａに載置された状態で第２の空間内に挿入される。寝台４の天板４ａは寝台制御部５により駆動され、その長手方向および上下方向に移動する。通常、この長手方向が静磁場磁石ユニット１の中心軸と平行になるように寝台４が設置される。

送信ＲＦコイル６は、第２の空間内に配置される。送信ＲＦコイル６は、送信部７から高周波パルスの供給を受けて、高周波磁場を発生する。

送信部７は、ラーモア周波数に対応する高周波パルスを送信ＲＦコイル６に送信する。

受信ＲＦコイル８は、第２の空間内に配置される。受信ＲＦコイル８は、上記の高周波磁場の影響により被検体から放射される磁気共鳴信号を受信する。受信ＲＦコイル８からの出信号は、受信部９に入力される。

受信部９は、受信ＲＦコイル８からの出力信号に基づいて磁気共鳴信号データを生成する。

計算機システム１０は、インタフェース部１０ａ、データ収集部１０ｂ、再構成部１０ｃ、記憶部１０ｄ、表示部１０ｅ、入力部１０ｆおよび主制御部１０ｇを有している。

インタフェース部１０ａには、傾斜磁場電源３、寝台制御部５、送信部７、受信ＲＦコイル８および受信部９等が接続される。インタフェース部１０ａは、これらの接続された各部と計算機システム１０との間で授受される信号の入出力を行う。

データ収集部１０ｂは、受信部９から出力されるデジタル信号をインタフェース部１０ａを介して収集する。データ収集部１０ｂは、収集したデジタル信号、すなわち磁気共鳴信号データを、記憶部１０ｄに格納する。

再構成部１０ｃは、記憶部１０ｄに記憶された磁気共鳴信号データに対して、後処理、すなわちフーリエ変換等の再構成を実行し、被検体２００内の所望核スピンのスペクトラムデータあるいは画像データを求める。

記憶部１０ｄは、磁気共鳴信号データと、スペクトラムデータあるいは画像データとを、患者毎に記憶する。

表示部１０ｅは、スペクトラムデータあるいは画像データ等の各種の情報を主制御部１０ｇの制御の下に表示する。表示部１０ｅとしては、液晶表示器などの表示デバイスを利用可能である。

入力部１０ｆは、オペレータからの各種指令や情報入力を受け付ける。入力部１０ｆとしては、マウスやトラックボールなどのポインティングデバイス、モード切替スイッチ等の選択デバイス、あるいはキーボード等の入力デバイスを適宜に利用可能である。

主制御部１０ｇは、図示していないＣＰＵやメモリ等を有しており、ＭＲＩ装置１００を総括的に制御する。主制御部１０ｇは、ＭＲＩ装置１００における周知の機能を実現するための種々の制御機能を持つ。

（第１の実施形態）
図２は静磁場磁石ユニット１および傾斜磁場コイルユニット２の側端近傍の第１の実施形態における構造を示す断面図である。なお図２は、静磁場中心を通る鉛直面での断面を示している。また静磁場磁石ユニット１および傾斜磁場コイルユニット２は、外側の枠体のみを示し、内部構造は図示を省略している。さらに図２は、静磁場磁石ユニット１および傾斜磁場コイルユニット２における寝台４に近い側（以下、寝台側）の側端および寝台４から遠い側（以下、反寝台側と称する）の側端のうちの一方のみを示している。他方の側端は、図２に示す構造と対称的な構造でも良いし、既存の他のＭＲＩ装置で採用されているような図２とは異なる構造でも良い。ただし、典型的には図２に示される側端が寝台側に向けられる。

第２の空間には、図１では図示を省略していたボアチューブ１１が配置されている。ボアチューブ１１は、円柱状の第３の空間を内部に形成する円筒状の外形を有する。この第３の空間が被検体２００を載置するための空間であり、ボアチューブ１１は第３の空間に載置された被検体２００が傾斜磁場コイルユニット２に直接接触することを防止する。

また静磁場磁石ユニット１および傾斜磁場コイルユニット２の側端近傍には、図１では図示を省略していた要素として、密閉カバー１２、複数のネジ１３、真空シール１４、Ｏリング１５、抑え板１６、防振部材１７、複数のネジ１８および複数の密閉キャップ１９が配置されている。

図３は密閉カバー１２の構造を示す断面図であり、図２と同一面での断面を示している。図４は密閉カバー１２の構造を示す斜視図である。

密閉カバー１２は、第１の空間の内径よりも小さな外径を有した筒状部分１２ａの一端部（図４における左側の端部であり、以下第１の端部と称する）に、筒状部分１２ａの軸Ａに直交する方向に突出する円盤状の外フランジ１２ｂを一体的に形成した形状をなす。筒状部分１２ａは、第１の端部側の部分（以下、入口側部分と称する）の厚みがその反対の端部（図４における右側の端部であり、以下第２の端部と称する）側の部分（以下、奥側部分と称する）の厚みよりも大きい。密閉カバー１２は、筒状部分１２ａの中央付近から軸Ａに向かって突出する円盤状の内フランジ１２ｃを有している。内フランジ１２ｃの先端の第１の端部側には、テーパ１２ｄが円周状に形成されている。

筒状部分１２ａには、溝部１２ｅ、複数のネジ穴１２ｆ、複数のリブ１２ｇ、複数の窓部１２ｈおよび複数のネジ穴１２ｉが形成されている。

溝部１２ｅは、筒状部分１２ａの外周面にその周方向に沿って延びる状態で形成されている。ネジ穴１２ｆは、筒状部分１２ａのうちの奥側部分を貫通している。そして複数のネジ穴１２ｆは、いずれも軸Ａに直交するとともに互いに異なる方向にそれぞれ沿う。リブ１２ｇは、三角形の板状をなし、いずれも軸Ａに直交するとともに互いに異なる方向にそれぞれ沿って形成され、筒状部分１２ａの奥側部分を補強する。窓部１２ｈは、筒状部分１２ａの入口側部分を貫通している。そして複数の窓部１２ｈは、いずれも軸Ａに並行するとともに互いに異なる位置にそれぞれ沿って形成される。密閉カバー１２が寝台側および反寝台側にそれぞれ設けられる場合には、いずれか一方の密閉カバー１２における窓部１２ｈは設けられなくても良い。典型的には、反寝台側に設けられる密閉カバー１２における窓部１２ｈを省略する。ネジ穴１２ｉは、筒状部分１２ａの入口側部分の凹部として形成されている。そして複数のネジ穴１２ｉは、いずれも軸Ａに並行するとともに互いに異なる位置にそれぞれ沿って形成される。

密閉カバー１２は、第１の空間内に傾斜磁場コイルユニット２を配置した状態で、図２に示すように第１の空間の開口に嵌め込まれる。すなわち、密閉カバー１２は、外フランジ１２ｂが静磁場磁石ユニット１の端面に当接するまで、筒状部分１２ａのうちの奥側部分を第１の空間の奥側に送り込むようにして第１の空間の開口に嵌め込まれる。そして密閉カバー１２は、複数のネジ穴１２ｆのそれぞれに筒状部分１２ａの内側から静磁場磁石ユニット１の内周面に接するように複数のネジ１３がねじ込むことによって、静磁場磁石ユニット１の内周面に突っ張る状態で固定される。すなわち、複数のネジ穴１２ｆが互いに異なる方向に形成されていることから、複数のネジ１３が静磁場磁石ユニット１の周方向に突っ張ることとなる。かくして密閉カバー１２は、第１の空間の開口のうちの静磁場磁石ユニット１とボアチューブ１１との間の領域を覆う。なお複数の窓部１２ｈは、この状態で、傾斜磁場コイルユニット２に設けられた複数のトレースロット２ａのそれぞれの延長線上に位置する。

密閉カバー１２が第１の空間の開口に嵌め込まれる際に、溝部１２ｅには真空シール１４が嵌め込まれる。真空シール１４はリング状をなし、断面はＶ字形をなす。そして真空シール１４は、その屈曲部が第１の空間の奥側を向くような姿勢で溝部１２ｅに嵌め込まれる。真空シール１４は、密閉カバー１２に接着されていても良いし、接着されていなくても良い。なお、真空シール１４は、断面がＶ字形をなす部位を有していれば良く、当該Ｖ字形の部位に他の形状の部位が結合した断面形状であっても良い。

内フランジ１２ｃの内側に形成される開口の径は、ボアチューブ１１の外径よりも若干大きくなっており、この開口からボアチューブ１１が挿入される。ボアチューブ１１の端部には、ボアチューブ１１の軸に直交する方向に突出する円盤状のフランジ１１ａが形成されている。フランジ１１ａの外径は、内フランジ１２ｃの内側に形成される開口の径よりも大きい。そしてボアチューブ１１を内フランジ１２ｃの内側に形成される開口へと挿入する際には、ボアチューブ１１にはフランジ１１ａに近接してＯリング１５が装着される。かくしてボアチューブ１１を内フランジ１２ｃの内側に形成される開口へと十分に挿入した状態においては、図２に示すようにボアチューブ１１の本体、フランジ１１ａおよびテーパ１２ｄによってＯリング１５を挟み込む。

ボアチューブ１１は、中央に開口を有した円盤状の抑え板１６により、中央に開口を有した円盤状の防振部材１７を介して抑えられて固定される。抑え板１６は、複数のネジ１８を複数のネジ穴１２ｉにそれぞれねじ込むことによって密閉カバー１２に固定される。ボアチューブ１１の内径、抑え板１６の開口の径および防振部材１７の開口の径は、互いにほぼ等しい。

複数の密閉キャップ１９は、複数の窓部１２ｈにそれぞれ嵌め込まれる。密閉キャップ１９は、弾性のある樹脂などを窓部１２ｈを密閉できる形状に形成してなる。密閉カバー１２が寝台側および反寝台側にそれぞれ設けられ、かついずれか一方の密閉カバー１２における窓部１２ｈが設けられない場合には、その密閉カバー１２には当然ながら密閉キャップ１９は取り付けられない。

かくして以上のような構造により、傾斜磁場コイルユニット２の周囲には、静磁場磁石ユニット１、ボアチューブ１１および密閉カバー１２により囲われた密閉空間３０が形成される。そしてこの密閉空間３０内の空気を図示しない真空ポンプにより排出して密閉空間３０を真空とすることによって、傾斜磁場コイルユニット２で発生した騒音の周囲への伝達を防止できる。なお、このように密閉空間３０を真空とすることから、密閉カバー１２は真空容器とも称されることがある。

さて、密閉空間３０を真空とすると、静磁場磁石ユニット１と密閉カバー１２との間隙には密閉空間３０に向けて大気圧が生じる。しかしながら、この大気圧によって真空シール１４の両端が押し広げられることになり、真空シール１４の両端が静磁場磁石ユニット１の内周面と密閉カバー１２の外周面とにそれぞれ押圧される。この結果、静磁場磁石ユニット１と密閉カバー１２との間隙は真空シール１４によって密閉される。一方、ボアチューブ１１と密閉カバー１２との間隙は、Ｏリング１５によって密閉される。かくして、密閉空間３０を高度の真空状態とすることが可能であり、傾斜磁場コイルユニット２で発生した騒音の周囲への伝達を効率的に防止できる。

そして、真空シール１４が静磁場磁石ユニット１の周面に当接する構造であるため、静磁場磁石ユニット１の端面の形状に拘わらずに静磁場磁石ユニット１と密閉カバー１２との間隙を密閉することができる。この結果、端板の形状は密閉カバー１２との間隙の密閉を考慮することなく決定することができ、その自由度が向上することになる。すなわち、図２においては静磁場磁石ユニット１の端板を平板として表しているが、複雑な凹凸を形成することも可能となる。

また上記の構造によれば、密閉カバー１２は、それに取り付けられたネジ１３が静磁場磁石ユニット１の内周面に、静磁場磁石ユニット１の端部近傍で当接することによって静磁場磁石ユニット１に支持されている。静磁場磁石ユニット１の端部には端板が存在しているから、静磁場磁石ユニット１の内周面はその端部近傍の位置がその他の位置よりも剛性が高い。かくして密閉カバー１２は、静磁場磁石ユニット１の剛性が高い位置、すなわち静磁場磁石ユニット１の振動の節に近い位置で静磁場磁石ユニット１に支持されているのであり、静磁場磁石ユニット１から密閉カバー１２への振動の伝達を小さく抑えることができる。

また上記の構造によれば、複数のネジ１３により静磁場磁石ユニット１の内周面に突っ張るようにしているから、外フランジ１２ｂを静磁場磁石ユニット１の端面に係止させているだけでも、密閉空間３０を真空としたときの大気圧を受けることができる。このため、密閉カバー１２を静磁場磁石ユニット１の端板に固定する必要がなく、端板の形状の自由度が向上する。

また上記の構造によれば、密閉カバー１２を取り付けた状態にて、密閉カバー１２の開口からボアチューブ１１を第２の空間へと挿入することができる。保守時において第１の空間の内部を点検する際には、ボアチューブ１１および密閉カバー１２を一括に着脱すれば良い。

また上記の構造によれば、密閉カバー１２を取り付けた状態のままで、トレースロット２ａに対するシムトレーの挿抜を窓部１２ｈを介して行うことができる。この結果、磁性体片の配置の調整作業を容易に行える。

（第２の実施形態）
図５は静磁場磁石ユニット１および傾斜磁場コイルユニット２の側端近傍の第２の実施形態における構造を示す断面図である。なお図４は、静磁場中心よりも下側の部分に関する静磁場中心を通る鉛直面での断面を示している。また、図５において図１および図２と同一部分には同一の符号を付して示している。また静磁場磁石ユニット１および傾斜磁場コイルユニット２は、外側の枠体のみを示している。さらに図５は、静磁場磁石ユニット１および傾斜磁場コイルユニット２における寝台側および反寝台側の側端のうちの一方のみを示している。他方の側端は、図５に示す構造と対称的な構造でも良いし、既存の他のＭＲＩ装置で採用されているような図５とは異なる構造でも良い。ただし、典型的には図５に示される側端が寝台側に向けられる。

第２の実施形態においては、第１の実施形態における密閉カバー１２および真空シール１４に代えて密閉カバー２０および真空シール２１を備える。第２の実施形態においてはさらに、複数の抑え部材２２および複数のネジ２３を備える。

図６は密閉カバー２０の構造を示す断面図であり、図５と同一面での断面を示している。そして図６において図３と同一部分には同一の符号を付し、その詳細な説明は省略する。

図６を図３と比較して分かるように、密閉カバー２０は密閉カバー１２と多くの点で共通する構造を有する。密閉カバー２０が密閉カバー１２と異なる点は、密閉カバー２０が溝部１２ｅを有していないことと、テーパ２０ａおよび複数のネジ穴２０ｂを有することである。

テーパ２０ａは、筒状部分１２ａのうちの奥側部分の端部の下方に円周状に形成されている。

ネジ穴２０ｂは、いずれも軸Ａに直交するとともに互いに異なる方向にそれぞれ沿う。

密閉カバー２０が寝台側および反寝台側にそれぞれ設けられる場合には、いずれか一方の密閉カバー２０における窓部１２ｈは設けられなくても良い。典型的には、反寝台側に設けられる密閉カバー２０における窓部１２ｈを省略する。もちろん、窓部１２ｈが省略された密閉カバー２０に対しては、密閉キャップ１９は取り付けられない。

真空シール２１はリング状をなし、断面はくさび形をなす。真空シール２１は、密閉カバー２０が静磁場磁石ユニット１に取り付けられる前に、くさび形の尖端を第１の空間の開口に向けた状態で静磁場磁石ユニット１の内周面に沿わせて配置される。そして密閉カバー２０が静磁場磁石ユニット１に取り付けられたのちに、真空シール２１が第１の空間の開口側に移動されることにより、真空シール２１は図５に示すように静磁場磁石ユニット１の内周面とテーパ２０ａとの間に押し込まれる。なお、真空シール２１は、断面がくさび形をなす部位を有していれば良く、当該くさび形の部位に他の形状の部位が結合した断面形状であっても良い。

抑え部材２２は、それを貫通したネジ２３をネジ穴２０ｂにねじ込むことによって密閉カバー２０に固定される。そしてこのように固定された状態で抑え部材２２は、図５に示すように真空シール２１を抑え込む。複数の抑え部材２２が複数のネジ穴２０ｂが形成された位置にそれぞれ取り付けられることにより、真空シール２１は互いに異なる複数の位置で抑えられる。

このような第２の実施形態の構造によれば、静磁場磁石ユニット１と密閉カバー２０との間隙は真空シール２１によって密閉される。

このような第２の実施形態の構造によっても、第１の実施形態と同様な効果が得られる。

（第３の実施形態）
図７は静磁場磁石ユニット１および傾斜磁場コイルユニット２の側端近傍の第３の実施形態における構造を示す断面図である。なお図７は、静磁場中心よりも下側の部分に関する静磁場中心を通る鉛直面での断面を示している。また、図７において図１および図２と同一部分には同一の符号を付して示している。また静磁場磁石ユニット１および傾斜磁場コイルユニット２は、外側の枠体のみを示している。さらに図７は、静磁場磁石ユニット１および傾斜磁場コイルユニット２における寝台側および反寝台側の側端のうちの一方のみを示している。他方の側端は、図７に示す構造と対称的な構造でも良いし、既存の他のＭＲＩ装置で採用されているような図７とは異なる構造でも良い。ただし、典型的には図７に示される側端が寝台側に向けられる。

第３の実施形態においては、密閉カバー１２および真空シール１４に代えて密閉カバー２５および真空シール２６を備える。

密閉カバー２５は、溝部１２ｅに代えて溝部２５ａが形成されている点で密閉カバー１２と構造が異なるが、その他の構造は密閉カバー１２と同様である。溝部２５ａは、筒状部分１２ａの外周面にその周方向に沿って延びる状態で形成されている。溝部１２ｅは外フランジ１２ｂに接して形成されていたが、溝部２５ａは外フランジ１２ｂから離間して形成されている。

密閉カバー２５が寝台側および反寝台側にそれぞれ設けられる場合には、いずれか一方の密閉カバー２５における窓部１２ｈは設けられなくても良い。典型的には、反寝台側に設けられる密閉カバー２５における窓部１２ｈを省略する。もちろん、窓部１２ｈが省略された密閉カバー２５に対しては、密閉キャップ１９は取り付けられない。

真空シール２６は、中空部２６ａを持つＤ字形の断面形状を有したリング状に弾性材料を形成して成る。なお、Ｄ字形における平面部および曲面部が真空シール２６の内側および外側にそれぞれ向く。真空シール２６は、図８に示すように密閉カバー２５が静磁場磁石ユニット１に取り付けられる前に溝部２５ａに嵌め込まれる。真空シール２６は、密閉カバー２５に接着されていても良いし、接着されていなくても良い。そして真空シール２１は、このように溝部２５ａに嵌め込まれた状態での筒状部分１２ａの外周面からの突出量が、筒状部分１２ａの外周面と静磁場磁石ユニット１の内周面との間隙よりも大きくなっている。

真空シール２６は中空部２６ａを有するため、密閉カバー２５が静磁場磁石ユニット１に取り付けられた状態では筒状部分１２ａの外周面と静磁場磁石ユニット１の内周面によって挟まれた状態にあっては潰れることができる。そしてこの状態で真空シール２６は、その弾性によって筒状部分１２ａの外周面と静磁場磁石ユニット１の内周面とにそれぞれ強く接する。

このような第３の実施形態の構造によれば、静磁場磁石ユニット１と密閉カバー２０との間隙は真空シール２６によって密閉される。

このような第３の実施形態の構造によっても、第１の実施形態と同様な効果が得られる。

ところで、静磁場磁石ユニット１の内周面の側端部近傍には、溶接ビード１ａが存在する場合がある。このため、静磁場磁石ユニット１の内周面の側端部近傍においては筒状部分１２ａの外周面と静磁場磁石ユニット１の内周面との間隙が特に狭くなっている。密閉カバー２５を静磁場磁石ユニット１に取り付ける工程においては、真空シール２６が特に大きく潰れることによって、真空シール２６が溶接ビード１ａを乗り越えることができる。

なお、真空シール２６は、中空部２６ａを有していて潰れることが可能であれば良く、断面形状は円形や楕円形などの別の形状であっても良い。ただし、真空シール２６は、筒状部分１２ａの外周面と溶接ビード１ａとの間隙を通過できる程度に潰れることが可能であり、かつその弾性によって筒状部分１２ａの外周面と静磁場磁石ユニット１の内周面とにそれぞれ強く接することが可能であるように、弾性の強さや中空部２６ａの大きさなどを調節しておく。

真空シール２６には例えば図９に示すように、その中空部２６ａを第１の空間の外側または内側のいずれか一方に開放する穴２６ｂを少なくとも１つ、好ましくは複数個形成しても良い。これにより、密閉カバー２５を静磁場磁石ユニット１に取り付ける工程を簡易とすることが可能となる。穴２６ｂは、丸穴である必要はなく、例えばスリット状などの別形状としても良い。なお図９は、密閉カバー２５における静磁場中心よりも下側の部分のみを図示している。

あるいは、真空シール２６に空気バルブを設けて中空部２６ａの内部の気圧を調整できるようにしておけば、密閉カバー２５を静磁場磁石ユニット１に取り付ける工程についての作業性の向上と、密閉空間３０についての密閉度の向上とを両立できる。

（第４の実施形態）
図１０は静磁場磁石ユニット１および傾斜磁場コイルユニット２の側端近傍の第４の実施形態における構造を示す断面図である。なお図１０は、静磁場中心よりも下側の部分に関する静磁場中心を通る鉛直面での断面を示している。また、図１０において図１および図２と同一部分には同一の符号を付して示している。また静磁場磁石ユニット１および傾斜磁場コイルユニット２は、外側の枠体のみを示している。さらに図１０は、静磁場磁石ユニット１および傾斜磁場コイルユニット２における寝台側および反寝台側の側端のうちの一方のみを示している。他方の側端は、図１０に示す構造と対称的な構造でも良いし、既存の他のＭＲＩ装置で採用されているような図１０とは異なる構造でも良い。ただし、典型的には図１０に示される側端が寝台側に向けられる。

第４の実施形態においては、第１の実施形態におけるボアチューブ１１、密閉カバー１２、抑え板１６、防振部材１７に代えて、ボアチューブ３１、密閉カバー３２、抑え板３３、防振部材３４を備える。第４の実施形態においてはさらに、ナット３５を備える。

ボアチューブ３１は、フランジ１１ａを有していない点がボアチューブ１１と異なる。

密閉カバー３２は、外フランジ１２ｂに貫通孔３２ａが形成されている点が、密閉カバー１２とは異なっている。なお、貫通孔３２ａは、周方向に沿って適度な間隔で配列される状態で複数が形成されている。貫通孔３２ａのそれぞれには、静磁場磁石ユニット１の筐体の側端に突設された複数のスタッドボルト１ｂがそれぞれ挿入される。そして、このスタッドボルト１ｂにナット３５が取り付けられることによって、密閉カバー３２が静磁場磁石ユニット１に対して固定される。

抑え板３３は、中央に開口を有した円盤状をなす。抑え板３３の開口径は、ボアチューブ３１の外径よりも若干大きくなっており、その内部にボアチューブ３１が挿入される。抑え板３３は、ネジ１８によって密閉カバー３２に固定される。

防振部材３４は、中央に開口を有し、かつボアチューブ３１、密閉カバー３２および抑え板３３により囲われる空間をほぼ埋める大きさを持った円盤状をなす。防振部材３４の開口径は、ボアチューブ３１の外径よりも若干大きくなっており、内部にボアチューブ３１が挿入される。防振部材３４は、ボアチューブ３１および抑え板３３により囲われる空間に配置されて抑え板３３により抑えられる。

このような第４の実施形態の構造によっても、第１の実施形態と同様な効果が得られる。

さらに第４の実施形態によれば、密閉カバー３２は静磁場磁石ユニット１に対して固定したままで、ボアチューブ１１を着脱することが可能であり、保守作業の簡略化が図れる。

さらに、これまでの各実施形態の構造であると、ボアチューブ１１の内径と抑え板１６および防振部材１７のそれぞれの開口径とが全て一致しない場合、あるいはそれらが全て一致していても組み立て精度が低かった場合には、被検体２００を挿入する空間の壁面に凹凸が生じることになるが、第４の実施形態によればこのような凹凸を生じさせることがない。

この実施形態は、次のような種々の変形実施が可能である。

真空シール１４，２１に代えて、Ｏリングなどのような周知の別種の密閉部材を用いても良い。

Ｏリング１５に代えて、周知の別種の密閉部材を用いても良い。

各部の詳細な形状や位置などは任意に変更が可能である。

イメージングを行わずに、医用データの収集などを行うなどの他の種類の磁気共鳴診断装置にも本発明の適用が可能である。

寝台側に前記各実施形態のうちの１つの構造を採用し、反寝台側には前記実施形態のうちの他の１つの構造を採用しても良い。

第４の実施形態におけるスタッドボルト１ｂおよびボルト３５による静磁場磁石ユニット１への密閉カバー３２の固定は、他の実施形態において密閉カバー１２、２０、２５を静磁場磁石ユニット１へ固定するために適用しても良い。

なお、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。

１…静磁場磁石ユニット、スタッドボルト１ｂ、２…傾斜磁場コイルユニット、２ａ…トレースロット、３…傾斜磁場電源、４…寝台、５…寝台制御部、６…送信ＲＦコイル、７…送信部、８…受信ＲＦコイル、９…受信部、１０…計算機システム、１１…ボアチューブ、１１ａ…フランジ、１２…密閉カバー、１２ａ…筒状部分、１２ｂ…外フランジ、１２ｃ…内フランジ、１２ｄ…テーパ、１２ｅ…溝部、１２ｆ…ネジ穴、１２ｇ…リブ、１２ｈ…窓部、１２ｉ…ネジ穴、１３…ネジ、１４…真空シール、１５…Ｏリング、１６…抑え板、１７…防振部材、１８…ネジ、１９…密閉キャップ、２０…密閉カバー、２０ａ…テーパ、２０ｂ…ネジ穴、２１…真空シール、２２…抑え部材、２３…ネジ、２５…密閉カバー、２６…真空シール、２６ａ…中空部、２６ｂ…穴、３０…密閉空間、ボアチューブ３１、密閉カバー３２、貫通孔３２ａ、抑え板３３、防振部材３４、ボルト３５、１００…磁気共鳴イメージング装置（ＭＲＩ装置）、２００…被検体。

Claims (9)

1. 一端において開口した第１の空間を内部に形成する第１の筒状部分を少なくとも含んだ外形を有し、前記第１の空間内に静磁場を発生する静磁場発生ユニットと、
   第２の空間を内部に形成する第２の筒状部分を少なくとも含んだ外形を有し、前記第１の空間内に配置されて前記静磁場に付加するための傾斜磁場を発生する傾斜磁場発生ユニットと、
   被検体を配置するための第３の空間を内部に形成する第３の筒状部分を少なくとも含んだ外形を有し、少なくとも前記第３の筒状部分の一部が前記第２の空間内に配置されるボアチューブと、
   前記第１の空間の内径よりも小さな外径を有した第４の筒状部分を少なくとも含んだ外形を有し、前記第１の空間内の前記傾斜磁場発生ユニットの配置位置よりも前記第１の空間が開口した端部側の位置に少なくとも前記第４の筒状部分が配置されて前記第１の空間の開口のうちの前記静磁場発生ユニットと前記ボアチューブとの間の領域を覆うカバーと、
   前記第１の筒状部分の外側面と前記第４の筒状部分との間隙に配置されて当該間隙を密閉する第１の密閉部材と、
   前記ボアチューブと前記カバーとの間隙に配置されて当該間隙を密閉する第２の密閉部材とを具備したことを特徴とする磁気共鳴診断装置。
2. 前記第１の密閉部材は、Ｖ字形の屈曲部を有した断面形状を有するリング状に弾性素材を形成して成り、前記屈曲部を前記第１の空間の内側に向けて配置されることを特徴とする請求項１に記載の磁気共鳴診断装置。
3. 前記第１の密閉部材は、尖端を持つくさび部を有した断面形状を有するリング状を成し、前記尖端を前記第１の空間の内側に向けて配置されることを特徴とする請求項１に記載の磁気共鳴診断装置。
4. 前記第１の密閉部材は、中空部を形成する断面形状を有するリング状に弾性素材を形成して成ることを特徴とする請求項１に記載の磁気共鳴診断装置。
5. 前記第１の密閉部材は、前記中空部を前記第１の空間の外側または内側のいずれか一方に開放する少なくとも１つの穴を有することを特徴とする請求項４に記載の磁気共鳴診断装置。
6. 前記カバーは、前記第１の筒状部分の前記第１の空間に面する壁面に、前記静磁場発生ユニットの端部近傍で接触することを特徴とする請求項１に記載の磁気共鳴診断装置。
7. 前記カバーは、前記静磁場発生ユニットの端面に係合するように前記第４の筒状部分よりも外側に突出した突出部を有し、
   それぞれ異なる向きで突出するように前記カバーに取り付けられて、その尖端が前記第１の筒状部分の前記第１の空間に面する壁面にそれぞれ当接して前記第１の密閉部材を支持する複数の支持部材をさらに備えることを特徴とする請求項１に記載の磁気共鳴診断装置。
8. 前記カバーは、前記静磁場発生ユニットに取り付けられた状態で前記第２の空間に対して挿抜される前記ボアチューブを通過可能とする開口を有することを特徴とする請求項１に記載の磁気共鳴診断装置。
9. 前記傾斜磁場発生ユニットは、複数の磁性体片を保持可能なシムトレーを収容するトレースロットを少なくとも１つ備え、
   前カバーは、前記前記トレースロットに対して挿抜される前記シムトレーを前記静磁場発生ユニットに取り付けられた状態で通過可能とする少なくとも１つの開口を備えることを特徴とする請求項１に記載の磁気共鳴診断装置。

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