JP5582988B2 - 半導体基板の分離方法 - Google Patents
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Description
上記のような半導体基板の分離方法では、溝を形成した面の裏面から加える力は、いわゆる3点曲げ方式で印加されることが多い。
この問題は、レーザスクライブを素子全長近くまで行うとともに、より深い溝とすることで低減されるが、一方で、溝を形成する際に除去される材料が増加するため、デブリ(レーザ照射によって表面に飛び散るゴミ)が増加し、素子端面や素子表面が汚染される問題が発生するようになり、一定限度以上溝を深くすることが困難となった。このため、レーザスクライブ溝深さを浅くして分離せざるを得ず、分離力が増加するとともに、本来必要な分離方向以外に亀裂が進展し、個片化された素子の一部がかけ落ちてしまう現象(異常割れ)も発生するようになった。
2つの繋がった半導体素子を2分割するために、本発明の方法によりレーザスクライブした状態を図1に示す。半導体基板1のスクライブ方向3に沿って、スクライブ溝4が基板の加工面1aに形成されている。スクライブ溝4は、図示はしていないが、半導体基板1と加工用レーザ光光軸とを表面1aに沿って相対的に移動させる手段により、加工用レーザ光光軸がスクライブ方向3にそって基板上を移動させ形成する。また、スクライブ溝4の深さは、レーザ光強度を調整することにより可変している。
また、半導体端面を共振器ミラーとするため、端面に汚れが付着してはならない。このような基板のため、材料の光透過率と、加工用レーザの安定性より、加工用レーザ光はYAG3倍波(355nm)を使用し、対物レンズにて半導体基板上に収束することで、スクライブ溝4を加工している。
なお加工時、半導体表面1aには、加工レーザ出力に応じてデブリ飛散範囲8が形成される。このデブリ飛散範囲8は半導体基板表面1aに形成されている回路に悪影響を及ぼす可能性があるため、規定の範囲に収めなければならない。
ところが、スクライブ溝底部10は、レーザ照射時に一旦基板が溶融したのちに冷えて固まるため、微視的にみると亀裂ではなく、先端が丸みを帯びた1μm程度の円弧上に形成されてしまう。
このため、スクライブ孔底部が原子レベルで先鋭な亀裂にくらべ、より応力を印加しなければならず、基板の変形12もより大きなものにならざるを得ず、結果として、分離時に分離力が開放される際、素子が大きく振動することになり、素子間でぶつかりあうため欠けが発生したり、必要分離力増大のため分離不可能になったり、望ましい部位で分離できず、異常割れが形成されてしまうことになる。
さらに、端面残し部5が形成されると、まず表面に近い端面残し部5に集中するため、スクライブ溝底部10に分離力が集中しにくくなり、より分離しにくくなる。
端面残し部5は、素子の全長変化を見込んで、端面デブリ付着防止性能を維持するため、ある程度の距離が必要で、現状では15μm程度となっているが、全長変化のため実素子の端面残し部5の距離は、素子ごとに異なり一定していない。
凸部6に分離力が集中する際、凸部6の頂部7はレーザ照射されているため、レーザにより形成された微小欠陥が集中しており、より分離しやすい状態になっている。
分離力を増加して行き、一旦凸部6に亀裂11が形成されると、前述の通り、先端の鋭い亀裂となるため、先端に応力が集中し易くなり、少ない分離力で亀裂が進行するようになり、分離時の変形少なく、素子を分離できるようになる。このため前述の問題が発生しにくくなる。よって、レーザによるスクライブ溝4の深さを浅くすることが可能となり、デブリ8の範囲も減少することができる。
実施の形態1では、突起部6は1箇所のみであったが、スクライブ溝4の形状や長さに応じて、複数個設けても良い。また、印加する分離力の分布に応じて、突起部6の位置をスクライブ溝中央近傍からずれた位置においても良い。
実施の形態1および2では、2素子を分離する例で説明したが、多数の素子に分離する場合にも本発明は適用できる。例えば、図1に示す2つの素子の左右に連続して素子が形成されている場合は、それらの素子間に本加工を行うことで、同様の効果がある。
Claims (2)
- レーザによりスクライブ溝を罫書き、スクライブ溝と相対する面側から分離力を印加して、スクライブ溝位置で基板を分離することでウエハを個片化する分離方法において、スクライブ溝開始点が端面より基板側にあり、他方の端面に到達する前に終了する端面残し部を持つ形状で、スクライブ溝延伸方向の途中に、表面に達する程度までスクライブ溝深さを浅くしレーザ照射された頂部を有する凸部を形成するようにしたものであって、上記凸部のスクライブ延伸方向の幅を上記端面残し部の幅よりも狭く設定したことを特徴とする半導体基板の分離方法。
- 上記凸部をスクライブ溝延伸方向の中央部に形成したことを特徴とする請求項1記載の半導体基板の分離方法。
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