JP5577106B2 - 超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置 - Google Patents
超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5577106B2 JP5577106B2 JP2010007222A JP2010007222A JP5577106B2 JP 5577106 B2 JP5577106 B2 JP 5577106B2 JP 2010007222 A JP2010007222 A JP 2010007222A JP 2010007222 A JP2010007222 A JP 2010007222A JP 5577106 B2 JP5577106 B2 JP 5577106B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ultrapure water
- carbon dioxide
- specific resistance
- flow rate
- dioxide gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 title claims description 116
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 title claims description 116
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 19
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 172
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 claims description 86
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 claims description 86
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 19
- 230000002572 peristaltic effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 10
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 10
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 6
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 6
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 4
- 239000012510 hollow fiber Substances 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 4
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000012982 microporous membrane Substances 0.000 description 2
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 1
Images
Description
すなわち、本発明は下記の通りである。
[4] 前記炭酸ガス流量調節器がペリスタポンプとなっており、ポンプのモーター回転数を変化させることで、供給する炭酸ガス流量を制御する[2]又は[3]に記載の超純水処理装置。
なお、炭酸ガス流量調節器20にはペリスタポンプを使用し、比抵抗計18による測定値をもとに気液接触処理部分16から放出する超純水の比抵抗値が0.2〜1.0MΩ・cmの範囲で一定となるようにするために、マイコン40や炭酸ガス流量のPID制御手段が設けられている。
逆に32L/分から5.7L/分へ流量が減少したときには、0.5MΩ・cmに戻るのに参考例では2.5分間要しているが、実施例では1分間で戻っている。特に、実施例が超純水流量の減少時において、流量変化に迅速に追従して炭酸ガス供給が減少させることができたために、比抵抗値を早く設定値に戻すことができている。
12・・・炭酸ガス流通路
14・・・疎水性微多孔隔膜
16・・・気液接触室
18・・・比抵抗計
20・・・炭酸ガス流量調節器
30・・・流量計
40・・・マイコン
100・・・超純水処理装置
Claims (4)
- 炭酸ガスを超純水中に溶解させるとき超純水流量を測定し、超純水流量の変化が一定値以上の場合には、超純水流量と炭酸ガス量と比抵抗値の相関について予めインプットされたデ−タに基づいた量の炭酸ガスを超純水へ供給し、その後一定時間経過後には前記比抵抗計による測定値をもとに前記比抵抗計による測定値が0.2〜1.0MΩ・cmの範囲で一定となるように、フィードバック制御する超純水の比抵抗調整方法。
- 超純水が流通する超純水流通路と、炭酸ガスが流通する炭酸ガス流通路と、前記超純水流通路及び炭酸ガス流通路が接触してなる気液接触室と、前記超純水流通路に流量計を設けたものであり、前記気液接触室を通過した前記超純水の比抵抗値を測定する比抵抗計を有し、前記炭酸ガスを流通させるための炭酸ガス供給手段が炭酸ガス流量調節器であり、超純水流量の変化が設定した一定の値を超えた場合には、超純水流量と炭酸ガス量と比抵抗値の相関について予めインプットされたデ−タに基づいた量の炭酸ガスを超純水へ供給し、その後一定時間経過後には前記比抵抗計による測定値をもとに前記比抵抗計による測定値が0.2〜1.0MΩ・cmの範囲で一定となるように、フィードバック制御する手段を有する超純水処理装置。
- 前記超純水流量の変化が一定値以上の場合には、前記超純水流量と炭酸ガス量と比抵抗の相関デ−タに基づく炭酸ガス量を前記気液接触室へ1〜100秒間の一定時間供給し、その後、比抵抗計で測定した比抵抗値によるフィードバック制御によって炭酸ガスを前記気液接触室へ供給することで、超純水の比抵抗値を制御する請求項2に記載の超純水処理装置。
- 前記炭酸ガス流量調節器がペリスタポンプとなっており、ポンプのモーター回転数を変化させることで、供給する炭酸ガス流量を制御する請求項2又は3に記載の超純水処理装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010007222A JP5577106B2 (ja) | 2010-01-15 | 2010-01-15 | 超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置 |
PCT/JP2010/065472 WO2011086727A1 (ja) | 2010-01-15 | 2010-09-09 | 超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010007222A JP5577106B2 (ja) | 2010-01-15 | 2010-01-15 | 超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2011143369A JP2011143369A (ja) | 2011-07-28 |
JP5577106B2 true JP5577106B2 (ja) | 2014-08-20 |
Family
ID=44458702
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010007222A Expired - Fee Related JP5577106B2 (ja) | 2010-01-15 | 2010-01-15 | 超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5577106B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6059871B2 (ja) * | 2011-12-20 | 2017-01-11 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 気体溶解水製造装置及び気体溶解水製造方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0767554B2 (ja) * | 1986-07-02 | 1995-07-26 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 超純水の比抵抗制御方法及び装置 |
JPS63274488A (ja) * | 1987-05-06 | 1988-11-11 | Dan Kagaku:Kk | 超純水の比抵抗制御装置 |
JPH10202242A (ja) * | 1997-01-23 | 1998-08-04 | Ngk Insulators Ltd | 超純水の比抵抗調整方法 |
JP3875596B2 (ja) * | 2002-06-27 | 2007-01-31 | 日本碍子株式会社 | 機能性超純水の製造方法及びそれに用いる装置 |
JP2004344821A (ja) * | 2003-05-23 | 2004-12-09 | Nomura Micro Sci Co Ltd | 超純水又は純水の帯電防止方法及び帯電防止装置 |
-
2010
- 2010-01-15 JP JP2010007222A patent/JP5577106B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2011143369A (ja) | 2011-07-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7371169B2 (ja) | アンモニアガスをその中に溶解した脱イオン水を含む導電性液体を生成するためのシステム及び方法 | |
KR101943238B1 (ko) | 희석액 제조방법 및 희석액 제조장치 | |
US7731161B2 (en) | Devices, systems, and methods for carbonation of deionized water | |
US8844909B2 (en) | Gasification systems and methods for making bubble free solutions of gas in liquid | |
US8448925B2 (en) | Devices, systems, and methods for carbonation of deionized water | |
JP2011520609A5 (ja) | ||
KR102223354B1 (ko) | 유량 제어 밸브 및 이것을 사용한 유량 제어 장치 | |
JP5577106B2 (ja) | 超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置 | |
US20220025880A1 (en) | Method and system for operating a pump | |
US10654014B2 (en) | Functional water producing apparatus and functional water producing method | |
US9373528B2 (en) | Substrate processing apparatus | |
JP2004344821A (ja) | 超純水又は純水の帯電防止方法及び帯電防止装置 | |
WO2011086727A1 (ja) | 超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置 | |
JP5466958B2 (ja) | 超純水の比抵抗調整方法及び超純水処理装置 | |
US10180211B2 (en) | Supply method for liquid and supply apparatus | |
JP2004025078A (ja) | 機能性超純水の製造方法及びそれに用いる装置 | |
JP7292957B2 (ja) | ガス溶解水製造装置および方法 | |
KR101697491B1 (ko) | 반도체 제조시 발생가스의 희석 및 볼 밸브 세척이 동시에 가능한 배출가스 정밀압력제어용 볼 밸브식 오토 볼 밸브 댐퍼의 제어장치 | |
JP2001000931A (ja) | 薬液供給システム及び方法、並びに基板洗浄装置 | |
JP2011245425A (ja) | 混合装置 | |
JP2013029365A (ja) | ガス発生装置及びガス発生方法 | |
JP2012176359A (ja) | ガス溶解水の製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130107 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140401 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140528 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140617 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140707 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5577106 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |