JP5568519B2 - 成膜装置 - Google Patents
成膜装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5568519B2 JP5568519B2 JP2011139591A JP2011139591A JP5568519B2 JP 5568519 B2 JP5568519 B2 JP 5568519B2 JP 2011139591 A JP2011139591 A JP 2011139591A JP 2011139591 A JP2011139591 A JP 2011139591A JP 5568519 B2 JP5568519 B2 JP 5568519B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- turntable
- deposition material
- vapor deposition
- forming apparatus
- film forming
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 230000008021 deposition Effects 0.000 title claims description 16
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 117
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 81
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 48
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 32
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 28
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 20
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 17
- 238000005192 partition Methods 0.000 claims description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 4
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 claims description 3
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 12
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000009471 action Effects 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 3
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 230000009194 climbing Effects 0.000 description 2
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 description 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
3,4 台座
5,6 ターンテーブル
7,8 溝
10,11 蒸着材料
12 供給装置
15,17 電子銃
24 トラップ装置
25 アーム
26,32 トラッププレート
28 回収箱
Claims (8)
- 顆粒状の蒸着材料の供給を受ける供給位置を経て、前記供給位置で供給された蒸着材料を加熱して蒸発させる蒸発位置へと移動するように回転するターンテーブルが真空槽内に設けられ、前記真空槽内に予めセットされた基板の表面に前記蒸発位置で蒸発させた蒸着材料により薄膜を形成する成膜装置において、
前記蒸発位置を経て供給位置に向かう前記ターンテーブルの移動区間内に前記ターンテーブルの移動路を横切るように設けられ、先端部がターンテーブルの移動方向の上流側に向けられ後端部がターンテーブルの下流側に向けられるとともに、前記先端部がターンテーブルの上面に近接し前記後端部に向かって登り傾斜となったガイド面を有するトラップ手段が設けられ、
前記ターンテーブルとともに移動してくる顆粒状の蒸着材料は前記先端部を通過してターンテーブル上に残され、かつ前記蒸発位置で溶融して顆粒状から塊状に変容した材料残滓はターンテーブルの移動とともに前記トラップ手段の先端部からガイド面に掬い上げられてターンテーブル上から排除されることを特徴とする成膜装置。 - 前記ガイド面には、ターンテーブルの外周側ほどターンテーブルの移動方向下流側に向かう傾斜がつけられ、前記トラップ手段で掬い上げられた塊状の材料残滓がターンテーブルの外周の外に排除されることを特徴とする請求項1記載の成膜装置。
- 前記トラップ手段の先端部に、前記顆粒状の蒸着材料を通過させる櫛歯状の隙間が設けられていることを特徴とする請求項2記載の成膜装置。
- 前記トラップ手段は、先端側に前記ターンテーブルの移動路を横切る方向に並列された複数本のアームを有することを特徴とする請求項3記載の成膜装置。
- 前記ターンテーブルは一定幅のリング形状を有しその上面に一定の幅で円環状の溝が形成され、前記顆粒状の蒸着材料は前記溝の中に供給され、前記トラップ手段の先端部が前記溝の底面に近接することを特徴とする請求項3または4記載の成膜装置。
- 前記トラップ手段がターンテーブルの移動路を横切る方向に延びた軸によって回動自在に支持され、前記ターンテーブルが移動したときにターンテーブルの上面から突出した隆起部からの押圧力により前記軸を中心に前記先端部が持ち上げられるように回動することを特徴とする請求項5記載の成膜装置。
- 前記隆起部が前記溝の底面に設けられ、前記先端部を押圧してトラップ手段を回動させるとともに、前記溝内で前記顆粒状の蒸着材料の移動を制限する仕切りとなることを特徴とする請求項6記載の成膜装置。
- 前記トラップ手段によってターンテーブルの外周の外に排除された塊状の材料残滓を受け入れる容器を備えたことを特徴とする請求項7記載の成膜装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011139591A JP5568519B2 (ja) | 2011-06-23 | 2011-06-23 | 成膜装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011139591A JP5568519B2 (ja) | 2011-06-23 | 2011-06-23 | 成膜装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013007083A JP2013007083A (ja) | 2013-01-10 |
JP5568519B2 true JP5568519B2 (ja) | 2014-08-06 |
Family
ID=47674670
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011139591A Active JP5568519B2 (ja) | 2011-06-23 | 2011-06-23 | 成膜装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5568519B2 (ja) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5318339B2 (ja) * | 1974-03-01 | 1978-06-14 | ||
DE2513813A1 (de) * | 1974-06-19 | 1976-01-02 | Airco Inc | Verfahren zum beschichten eines substrates |
JPH0657870B2 (ja) * | 1986-07-16 | 1994-08-03 | 川崎製鉄株式会社 | 物理的蒸着処理設備における非蒸着面への蒸発物付着防止装置 |
JP2004131768A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-04-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 樹脂薄膜の蒸着装置 |
JP4404668B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2010-01-27 | 独立行政法人科学技術振興機構 | 微粒子の撹拌方法およびこれを利用した砥粒の表面改質方法 |
JP2006232493A (ja) * | 2005-02-25 | 2006-09-07 | Shin Meiwa Ind Co Ltd | 振動ボウルおよび振動ボウルフィーダ並びに真空蒸着装置 |
-
2011
- 2011-06-23 JP JP2011139591A patent/JP5568519B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2013007083A (ja) | 2013-01-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA1140078A (en) | Method and apparatus for pretreating and depositing thin films on substrates | |
JP7301578B2 (ja) | 成膜装置及び成膜方法 | |
JP2007138286A (ja) | アークイオンプレーティング装置 | |
JP4873455B2 (ja) | 光学薄膜形成方法および装置 | |
JP6518868B6 (ja) | サンプルの準備及びコーティングのためのイオンビーム装置 | |
JP2015183229A (ja) | 真空蒸着装置 | |
TW201122132A (en) | Coating machine | |
JP5568519B2 (ja) | 成膜装置 | |
JP2007126727A (ja) | 真空蒸着用防着装置 | |
JP2012177191A5 (ja) | ||
JP2006104497A (ja) | 蒸着装置 | |
EP3090072B1 (en) | Multi-layer assembly and method of coating | |
JP2010053438A (ja) | ロールツーロールタイプの薄膜形成装置 | |
JP2005213587A (ja) | マグネトロンスパッタ装置 | |
JP5433920B2 (ja) | 真空蒸着装置および方法 | |
JP4555638B2 (ja) | 薄膜蒸着装置 | |
KR101009558B1 (ko) | 진공 성막 장치 | |
KR101307592B1 (ko) | 재료를 증착하기 위한 방법 | |
JP3306394B2 (ja) | 膜厚測定装置および膜厚測定方法 | |
JP2003328110A (ja) | 成膜装置 | |
EP2182087A1 (en) | A vacuum vapor coating device for coating a substrate | |
JP2006225713A (ja) | イオンビームスパッタ装置 | |
KR100585913B1 (ko) | 광학소자 박막 코팅용 증발물질 용해장치 및 용해방법 | |
JP2007270280A (ja) | 蒸着装置、有機el装置の製造方法、蒸着方法、及び蒸着用セル | |
JP4396885B2 (ja) | マグネトロンスパッタ装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131118 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140421 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140529 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140623 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5568519 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |