JP5565554B2 - 水素吸蔵材料 - Google Patents
水素吸蔵材料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5565554B2 JP5565554B2 JP2009250661A JP2009250661A JP5565554B2 JP 5565554 B2 JP5565554 B2 JP 5565554B2 JP 2009250661 A JP2009250661 A JP 2009250661A JP 2009250661 A JP2009250661 A JP 2009250661A JP 5565554 B2 JP5565554 B2 JP 5565554B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- containing compound
- terpyridyl
- atom
- terpyridyl group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 title claims description 6
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 title claims description 6
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 5
- 239000011232 storage material Substances 0.000 title claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 65
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 10
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 9
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 8
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 8
- 238000001906 matrix-assisted laser desorption--ionisation mass spectrometry Methods 0.000 description 8
- 238000000425 proton nuclear magnetic resonance spectrum Methods 0.000 description 8
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 7
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 6
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 6
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 5
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 5
- 125000004105 2-pyridyl group Chemical group N1=C([*])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- QLULGIRFKAWHOJ-UHFFFAOYSA-N pyridin-4-ylboronic acid Chemical compound OB(O)C1=CC=NC=C1 QLULGIRFKAWHOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000006069 Suzuki reaction reaction Methods 0.000 description 3
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GGQCFEVXYDVISX-UHFFFAOYSA-N 1-iodo-4-[tris(4-iodophenyl)methyl]benzene Chemical compound C1=CC(I)=CC=C1C(C=1C=CC(I)=CC=1)(C=1C=CC(I)=CC=1)C1=CC=C(I)C=C1 GGQCFEVXYDVISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JFJNVIPVOCESGZ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dipyridin-2-ylpyridine Chemical compound N1=CC=CC=C1C1=CC=CN=C1C1=CC=CC=N1 JFJNVIPVOCESGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 2
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 2
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- QAHRKVOFOFJSMH-UHFFFAOYSA-N tetrakis(4-iodophenyl)silane Chemical compound C1=CC(I)=CC=C1[Si](C=1C=CC(I)=CC=1)(C=1C=CC(I)=CC=1)C1=CC=C(I)C=C1 QAHRKVOFOFJSMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical class ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 238000001840 matrix-assisted laser desorption--ionisation time-of-flight mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 1
- 150000002941 palladium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 1
- 238000007146 photocatalysis Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 125000004424 polypyridyl Polymers 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000027756 respiratory electron transport chain Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
- Hydrogen, Water And Hydrids (AREA)
- Pyridine Compounds (AREA)
Description
本発明は、新規なテルピリジル基含有化合物に関する。
従来、配位結合性化合物として、テルピリジル基を有する有機化合物に関する研究が精力的に行われている（下記特許文献１参照）。
配位子に金属が配位した金属錯体は、触媒材料やエネルギー変換材料等の機能性材料として注目されている。
ポリピリジル化合物は、種々の金属と錯体を形成し、エレクトロクロミズムや光触媒等の特異な性質を示す金属配位子として興味がもたれている。
しかし、既存の配位性有機化合物は、その複数の配位部位の方向性を保つことが難しいという課題があった。
新規な構造を持つテルピリジル基含有化合物を得ることは、機能性材料の新たな展開の上で意味深いことである。そこで、本発明は、新規なテルピリジル基含有化合物を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明は、炭素原子又はケイ素原子を中心原子とし、該中心原子に結合した同一の有機基を４つ有し、上記有機基がそれぞれテルピリジル基を１つ含む基である、テルピリジル基含有化合物を提供する。
本発明のテルピリジル基含有化合物は、新規な構造を有する有機化合物であり、中心に炭素又はケイ素を持つため、立体的な構造をとり、配位部位の異方性を持つ。また、本発明のテルピリジル基含有化合物は、４つのテルピリジル基を持つため、複数の金属を結合させることができる。ここでテルピリジル基は、その芳香環に置換基を有するものも含む。
本発明のテルピリジル基含有化合物は、芳香環を有する化合物であることが好ましい。テルピリジル基含有化合物が芳香環を有することにより、分子の剛直性が得られ、大きな分子サイズを得ることができる。
本発明のテルピリジル基含有化合物は、下記一般式（１）で表される化合物であることが好ましい。
［式（１）中、Ｘは炭素原子又はケイ素原子を示し、Ｙは単結合、或いは、下記一般式（２）又は（３）で表される基を示す。］
［式（２）中、Ｒ１は水素原子、メチル基、エチル基又はフェニル基を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｎは１又は２を示す。］
［式（３）中、Ｒ４は水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｍは１〜３の整数を示す。］
［式（１）中、Ｘは炭素原子又はケイ素原子を示し、Ｙは単結合、或いは、下記一般式（２）又は（３）で表される基を示す。］
［式（２）中、Ｒ１は水素原子、メチル基、エチル基又はフェニル基を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｎは１又は２を示す。］
［式（３）中、Ｒ４は水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｍは１〜３の整数を示す。］
上記一般式（１）で表されるテルピリジル基含有化合物は、構造の立体性、配位部位の異方性、及び、４つのテルピリジル基により複数の金属を結合させる効果をより向上させることができる。
本発明のテルピリジル基含有化合物は、カップリング反応により合成される化合物であることが好ましい。カップリング反応により合成されたテルピリジル基含有化合物は、より安定した特性を得ることができる。
本発明によれば、新規なテルピリジル基含有化合物を提供することができる。本発明のテルピリジル基含有化合物は、中心に炭素又はケイ素を持つため、立体的な構造をとり、配位部位の異方性を持つ。また、本発明のテルピリジル基含有化合物は、分子内に芳香環を有する場合、剛直性が得られ、大きな分子サイズが得られる。
また、本発明のテルピリジル基含有化合物は、４つのテルピリジル基を持つため、複数の金属を結合させることができる。
本発明のテルピリジル基含有化合物の用途として、例えば、水素吸蔵材料への使用が挙げられる。本発明のテルピリジル基含有化合物を、水素を化学吸着する金属微粒子と組み合わせることで、物理吸着サイトとなりうる規則的なフレームワーク構造を持つ水素吸蔵材料を得ることができる。
また、本発明のテルピリジル基含有化合物の他の用途として、例えば、触媒材料への使用が挙げられる。本発明のテルピリジル基含有化合物を、触媒能を持つ金属イオンと組み合わせることで、特異な選択性を持つ触媒を得ることができる。
更に、本発明のテルピリジル基含有化合物の他の用途として、例えば、電子移動媒体への使用が挙げられる。本発明のテルピリジル基含有化合物を、光応答性を持つ金属イオンと組み合わせることで、新規なエネルギー材料を得ることができる。
以下、本発明をその好適な実施形態に即して詳細に説明する。
本発明のテルピリジル基含有化合物は、炭素原子又はケイ素原子を中心原子とし、該中心原子に結合した同一の有機基を４つ有し、上記有機基がそれぞれテルピリジル基を１つ含む基である化合物である。中心原子に結合した４つの有機基がそれぞれ１つのテルピリジル基を含むため、テルピリジル基含有化合物は分子内に４つのテルピリジル基を有することとなる。
上記テルピリジル基含有化合物は、テルピリジル基において金属微粒子と配位結合により結合しやすく、安定した結合状態を得ることができる。
また、上記テルピリジル基含有化合物において、４つテルピリジル基は金属への修飾に異方性を持つため、金属微粒子とテルピリジル基含有化合物とが交互に結合した３次元網目構造を形成しやすい。ここで、テルピリジル基含有化合物は、中心に炭素又はケイ素を持つことによりテルピリジル基の異方性が生じ、テトラヘドラルな対称性を持つこととなる。また、それらの効果がより有効に奏されることから、テルピリジル基含有化合物において、有機基は末端にテルピリジル基を有していることが好ましい。
上記テルピリジル基含有化合物は、分子内に芳香環を有する化合物であることが好ましい。芳香環を有することでテルピリジル基含有化合物の分子の剛直性が増す。また、共役系を伸ばすことができる。
上記テルピリジル基含有化合物の具体例としては、例えば以下のような化合物が挙げられる。
［式（１）中、Ｘは炭素原子又はケイ素原子を示し、Ｙは単結合、或いは、下記一般式（２）又は（３）で表される基を示す。］
［式（１）中、Ｘは炭素原子又はケイ素原子を示し、Ｙは単結合、或いは、下記一般式（２）又は（３）で表される基を示す。］
［式（２）中、Ｒ１は水素原子、メチル基、エチル基又はフェニル基を示し、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ独立に水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｎは１又は２を示す。］
［式（３）中、Ｒ４は水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｍは１〜３の整数を示す。］
上記一般式（１）において、Ｙは上記一般式（２）又は（３）で表される基であることが好ましい。また、上記一般式（２）において、ｎは１又は２を示すが、１であることが特に好ましい。更に、上記一般式（３）において、ｍは１〜３の整数を示すが、１又は２であることが特に好ましい。上記一般式（１）において、Ｙが上記一般式（２）又は（３）で表される基である場合、ｎ又はｍの値を調整することで、分子サイズを調整することができる。
本発明のテルピリジル基含有化合物は、カップリング反応により合成される化合物であることが好ましい。カップリング反応によりテルピリジル基含有化合物を合成することで、中心原子に結合する４つの有機基を簡便に同一のものとすることができる。
テルピリジル基含有化合物は、例えば、炭素原子又はケイ素原子を中心原子として含む化合物と、テルピリジル基を含む化合物とをカップリングすることにより合成することができる。カップリング反応としては、反応操作が簡便であり、目的のテルピリジル基含有化合物が得られやすいことから、触媒にパラジウム化合物を用いる鈴木カップリング反応が好ましい。
鈴木カップリング反応により合成を行う場合、例えば、上記一般式（１）で表されるテルピリジル基含有化合物は、下記一般式（１−ａ）で表される化合物と、下記一般式（１−ｂ）で表される化合物とをカップリングすることにより合成することができる。
上記一般式（１−ａ）において、Ｘ及びＹは一般式（１）中のＸ及びＹと同義であり、Ｚはハロゲン原子を示す。
カップリング反応は、公知の方法で行うことができ、例えば、原料化合物を触媒等の存在下、溶媒中で加熱還流することによって行うことができる。溶媒としては、トルエン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ベンゼン等と、水とからなる二層系溶媒を用いることが好ましい。
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明をより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
［実施例１］
（炭素型テルピリジル基含有化合物の合成）
2,6-Di(pyridin-2-yl)pyridin-4-yl-4-boronicacidを文献（Michael,S. Bice, H. Prasenjit, M. Org. Lett., 2008, 10(12), 2513）に従って、Tetrakis[4-(iodo)phenyl]methaneを文献（Isabelle, A. et. al.,J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 8177）に従って、それぞれ合成した。2,6-Di(pyridin-2-yl)pyridin-4-yl-4-boronic acidを１．４５ｇ（５．２９ｍｍｏｌ）と、Tetrakis[4-(iodo)phenyl]methaneを０．７７ｇ（０．９３ｍｍｏｌ）とを、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４触媒（２２０ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（２．９６ｇ、２７．９ｍｍｏｌ、関東化学社製、特級）及びトリフェニルホスフィン（１．２２ｇ、４．６５ｍｍｏｌ、関東化学社製、特級）の存在下、窒素バブリングしたトルエン（１５０ｍＬ、関東化学社製）、水（１００ｍＬ）及びＴＨＦ（１００ｍＬ、関東化学社製、特級、蒸留後使用）の二層系溶媒で３３日間加熱還流を行った（鈴木カップリング）。反応後、析出した固体を濾別し、脱水クロロホルム（関東化学社製、特級）で洗浄して、目的物である下記式（４）で表される炭素型テルピリジル基含有化合物を得た（７１６ｍｇ、収率６１％）。
（炭素型テルピリジル基含有化合物の合成）
2,6-Di(pyridin-2-yl)pyridin-4-yl-4-boronicacidを文献（Michael,S. Bice, H. Prasenjit, M. Org. Lett., 2008, 10(12), 2513）に従って、Tetrakis[4-(iodo)phenyl]methaneを文献（Isabelle, A. et. al.,J. Am. Chem. Soc. 2001, 123, 8177）に従って、それぞれ合成した。2,6-Di(pyridin-2-yl)pyridin-4-yl-4-boronic acidを１．４５ｇ（５．２９ｍｍｏｌ）と、Tetrakis[4-(iodo)phenyl]methaneを０．７７ｇ（０．９３ｍｍｏｌ）とを、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４触媒（２２０ｍｇ、０．１９ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（２．９６ｇ、２７．９ｍｍｏｌ、関東化学社製、特級）及びトリフェニルホスフィン（１．２２ｇ、４．６５ｍｍｏｌ、関東化学社製、特級）の存在下、窒素バブリングしたトルエン（１５０ｍＬ、関東化学社製）、水（１００ｍＬ）及びＴＨＦ（１００ｍＬ、関東化学社製、特級、蒸留後使用）の二層系溶媒で３３日間加熱還流を行った（鈴木カップリング）。反応後、析出した固体を濾別し、脱水クロロホルム（関東化学社製、特級）で洗浄して、目的物である下記式（４）で表される炭素型テルピリジル基含有化合物を得た（７１６ｍｇ、収率６１％）。
（炭素型テルピリジル基含有化合物の分析１）
得られた炭素型テルピリジル基含有化合物について、プロトンＮＭＲ分析を行った。プロトンＮＭＲスペクトルを図１に示した。プロトンＮＭＲスペクトルから、上記式（４）で表される目的の化合物と１Ｈの数が一致し、また８．６〜８．８ｐｐｍ付近に３Ｈ、７．８ｐｐｍ及び７．４ｐｐｍ付近に１Ｈずつあり、これはテルピリジンに共通するピークであるため、目的物の合成が確認された。
得られた炭素型テルピリジル基含有化合物について、プロトンＮＭＲ分析を行った。プロトンＮＭＲスペクトルを図１に示した。プロトンＮＭＲスペクトルから、上記式（４）で表される目的の化合物と１Ｈの数が一致し、また８．６〜８．８ｐｐｍ付近に３Ｈ、７．８ｐｐｍ及び７．４ｐｐｍ付近に１Ｈずつあり、これはテルピリジンに共通するピークであるため、目的物の合成が確認された。
（炭素型テルピリジル基含有化合物の分析２）
得られた炭素型テルピリジル基含有化合物について、ＭＡＬＤＩ−ＭＳ分析を行った。ＭＡＬＤＩ−ＭＳスペクトルを図２に示した。上記式（４）で表される目的物の分子量は１２４４．５であり、その存在がＭＡＬＤＩ−ＭＳスペクトルで確認された。
物性値：1H NMR (400 MHz, CDCl3)δ8.76 (1H, s), 8.72 (1H, d, J = 3.9Hz), 8.67 (1H,d, J = 8.1Hz), 7.88 (1H, dd, J = 1.7, 5.9Hz), 7.84 (1H, d, J = 8.1Hz), 7.48(1H,d, J = 8.5Hz), 7.32-7.37(1H, m); MALDI-TOF-MS 1245.1 (M+)
得られた炭素型テルピリジル基含有化合物について、ＭＡＬＤＩ−ＭＳ分析を行った。ＭＡＬＤＩ−ＭＳスペクトルを図２に示した。上記式（４）で表される目的物の分子量は１２４４．５であり、その存在がＭＡＬＤＩ−ＭＳスペクトルで確認された。
物性値：1H NMR (400 MHz, CDCl3)δ8.76 (1H, s), 8.72 (1H, d, J = 3.9Hz), 8.67 (1H,d, J = 8.1Hz), 7.88 (1H, dd, J = 1.7, 5.9Hz), 7.84 (1H, d, J = 8.1Hz), 7.48(1H,d, J = 8.5Hz), 7.32-7.37(1H, m); MALDI-TOF-MS 1245.1 (M+)
［実施例２］
（ケイ素型テルピリジル基含有化合物の合成）
2,6-Di(pyridin-2-yl)pyridin-4-yl-4-boronicacidを文献（Michael,S. Bice, H. Prasenjit, M. Org. Lett., 2008, 10(12), 2513）に従って、Tetrakis[4-(iodo)phenyl]silaneを文献（J.H.Fournier.; X.Wang.;J.D.Wuest. Can. J. Chem, 2003,81, 376-380）に従って、それぞれ合成した。2,6-Di(pyridin-2-yl)pyridin-4-yl-4-boronic acidを３２９ｍｇ（１．２ｍｍｏｌ）と、Tetrakis[4-(iodo)phenyl]silaneを３３１ｍｇ（０．４ｍｍｏｌ）とを、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４触媒（４６．３ｍｇ、０．０４ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（６３７ｍｇ、６ｍｍｏｌ、関東化学社製、特級）及びトリフェニルホスフィン（２６２ｍｇ、１ｍｍｏｌ、関東化学社製、特級）の存在下、窒素バブリングしたトルエン（３０ｍＬ、関東化学社製）、水（２０ｍＬ）及びＴＨＦ（２０ｍＬ、関東化学社製、特級、蒸留後使用）の二層系溶媒で７日間窒素下にて加熱還流を行った。反応後、反応物の有機層を塩化メチレンで抽出し、カラム及びＨＰＬＣによる精製を行ったところ、目的物である下記式（５）で表されるケイ素型テルピリジル基含有化合物を得た（１２ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ、収率５％）。
（ケイ素型テルピリジル基含有化合物の合成）
2,6-Di(pyridin-2-yl)pyridin-4-yl-4-boronicacidを文献（Michael,S. Bice, H. Prasenjit, M. Org. Lett., 2008, 10(12), 2513）に従って、Tetrakis[4-(iodo)phenyl]silaneを文献（J.H.Fournier.; X.Wang.;J.D.Wuest. Can. J. Chem, 2003,81, 376-380）に従って、それぞれ合成した。2,6-Di(pyridin-2-yl)pyridin-4-yl-4-boronic acidを３２９ｍｇ（１．２ｍｍｏｌ）と、Tetrakis[4-(iodo)phenyl]silaneを３３１ｍｇ（０．４ｍｍｏｌ）とを、Ｐｄ（ＰＰｈ３）４触媒（４６．３ｍｇ、０．０４ｍｍｏｌ）、炭酸ナトリウム（６３７ｍｇ、６ｍｍｏｌ、関東化学社製、特級）及びトリフェニルホスフィン（２６２ｍｇ、１ｍｍｏｌ、関東化学社製、特級）の存在下、窒素バブリングしたトルエン（３０ｍＬ、関東化学社製）、水（２０ｍＬ）及びＴＨＦ（２０ｍＬ、関東化学社製、特級、蒸留後使用）の二層系溶媒で７日間窒素下にて加熱還流を行った。反応後、反応物の有機層を塩化メチレンで抽出し、カラム及びＨＰＬＣによる精製を行ったところ、目的物である下記式（５）で表されるケイ素型テルピリジル基含有化合物を得た（１２ｍｇ、０．０１ｍｍｏｌ、収率５％）。
（ケイ素型テルピリジル基含有化合物の分析１）
得られたケイ素型テルピリジル基含有化合物について、プロトンＮＭＲ分析を行った。プロトンＮＭＲスペクトルを図３に示した。プロトンＮＭＲスペクトルから、上記式（５）で表される目的の化合物と１Ｈの数が一致し、また８．４〜８．８ｐｐｍ付近に３Ｈ、７．８ｐｐｍ及び７．３ｐｐｍ付近に１Ｈずつあり、これはテルピリジンに共通するピークであるため、目的物の合成が確認された。
得られたケイ素型テルピリジル基含有化合物について、プロトンＮＭＲ分析を行った。プロトンＮＭＲスペクトルを図３に示した。プロトンＮＭＲスペクトルから、上記式（５）で表される目的の化合物と１Ｈの数が一致し、また８．４〜８．８ｐｐｍ付近に３Ｈ、７．８ｐｐｍ及び７．３ｐｐｍ付近に１Ｈずつあり、これはテルピリジンに共通するピークであるため、目的物の合成が確認された。
（ケイ素型テルピリジル基含有化合物の分析２）
得られたケイ素型テルピリジル基含有化合物について、ＭＡＬＤＩ−ＭＳ分析を行った。ＭＡＬＤＩ−ＭＳスペクトルを図４に示した。上記式（５）で表される目的物の分子量は１２６０であり、その存在がＭＡＬＤＩ−ＭＳスペクトルで確認された。
得られたケイ素型テルピリジル基含有化合物について、ＭＡＬＤＩ−ＭＳ分析を行った。ＭＡＬＤＩ−ＭＳスペクトルを図４に示した。上記式（５）で表される目的物の分子量は１２６０であり、その存在がＭＡＬＤＩ−ＭＳスペクトルで確認された。
Claims (2)
- 炭素原子又はケイ素原子を中心原子とし、該中心原子に結合した同一の有機基を４つ有し、前記有機基がそれぞれテルピリジル基を１つ含む基である、下記一般式（１）で表されるテルピリジル基含有化合物を含む水素吸蔵材料。
［式（１）中、Ｘは炭素原子又はケイ素原子を示し、Ｙは単結合、或いは、下記一般式（２）又は（３）で表される基を示す。］
［式（２）中、Ｒ １ は水素原子、メチル基、エチル基又はフェニル基を示し、Ｒ ２ 及びＲ ３ はそれぞれ独立に水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｎは１又は２を示す。］
［式（３）中、Ｒ ４ は水素原子、メチル基又はエチル基を示し、ｍは１〜３の整数を示す。］ - 前記Ｙが前記一般式（２）又は（３）で表される基である、請求項１記載の水素吸蔵材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009250661A JP5565554B2 (ja) | 2009-10-30 | 2009-10-30 | 水素吸蔵材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009250661A JP5565554B2 (ja) | 2009-10-30 | 2009-10-30 | 水素吸蔵材料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011093854A JP2011093854A (ja) | 2011-05-12 |
| JP5565554B2 true JP5565554B2 (ja) | 2014-08-06 |
Family
ID=44111196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009250661A Expired - Fee Related JP5565554B2 (ja) | 2009-10-30 | 2009-10-30 | 水素吸蔵材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5565554B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5780589B2 (ja) * | 2011-07-05 | 2015-09-16 | 日産自動車株式会社 | 炭素材料およびこれを利用した金属担持炭素材料、ならびにその製造方法 |
| US10431748B2 (en) | 2014-10-30 | 2019-10-01 | Lg Chem, Ltd. | Cyclic compound and organic light-emitting element comprising same |
| EP3240807A4 (en) | 2014-12-30 | 2018-08-08 | Momentive Performance Materials Inc. | Functionalized siloxane materials |
| EP3240823A4 (en) | 2014-12-30 | 2018-08-01 | Momentive Performance Materials Inc. | Siloxane coordination polymers |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06166727A (ja) * | 1992-07-22 | 1994-06-14 | Hiroyoshi Shirai | テルピリジル基を担持した水溶性ポリマーおよびこれを配位した高分子錯体ならびに触媒 |
| US6774082B2 (en) * | 2001-05-11 | 2004-08-10 | Ibc Advanced Technologies, Inc. | Compositions for separating heterocyclic aromatic amine bases, nucleosides, nucleotides, and nucleotide sequences |
| JP5354593B2 (ja) * | 2009-10-30 | 2013-11-27 | 国立大学法人 東京大学 | 複合材料及びその製造方法 |
-
2009
- 2009-10-30 JP JP2009250661A patent/JP5565554B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2011093854A (ja) | 2011-05-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20130144060A1 (en) | Ruthenium-Based Catalytic Complexes and the Use of Such Complexes for Olefin Metathesis | |
| Hu et al. | A1/A2-diamino-substituted pillar [5] arene-based acid–base-responsive host–guest system | |
| JP5565554B2 (ja) | 水素吸蔵材料 | |
| JP4636889B2 (ja) | フラーレン誘導体及びフラーレン金属錯体、並びにそれらの製造方法 | |
| Mangala et al. | Palladium (II) supported on polycarbosilane: application as reusable catalyst for Heck reaction | |
| WO2013121664A1 (ja) | アセンジカルコゲノフェン誘導体用中間体及びその合成方法 | |
| JP5019517B2 (ja) | 二核金属錯体およびその製造方法 | |
| Korb et al. | Evaluation of the Transferability of the “Flexible Steric Bulk” Concept from N‐Heterocyclic Carbenes to Planar‐Chiral Phosphinoferrocenes and their Electronic Modification | |
| Wang et al. | Synthesis, structure and electrochemistry of new diferrocenyl pyridine derivatives | |
| Kumar et al. | Structures, preparation and catalytic activity of ruthenium cyclopentadienyl complexes based on pyridyl-phosphine ligand | |
| CN104803835B (zh) | 一种制备苯甲醛及其衍生物的方法 | |
| JP2012082155A (ja) | トリアゾリウム塩及びその製造方法、アジドアルコール並びに不斉反応によるアルキル化オキシインドールの製造方法 | |
| JP2020007232A (ja) | 新規なトリボリルアルケン、その製造方法、及び多置換アルケンの製造方法 | |
| WO2013136978A1 (ja) | イミダゾ［１，５－ａ］ピリジン誘導体を配位子とする錯化合物 | |
| JP5633873B2 (ja) | フラーレン二量体およびその製造方法 | |
| JP4413507B2 (ja) | ピンサー型金属錯体及びその製造方法、並びにピンサー型金属錯体触媒 | |
| Moriuchi et al. | Synthesis and characterization of bioorganometallic conjugates composed of NCN-pincer platinum (II) complexes and uracil derivatives | |
| Tseng et al. | A convenient synthesis of tetrasubstituted furans from propargylic dithioacetals | |
| JP6275378B2 (ja) | カルバゾール類の製造方法およびこの方法により製造されたカルバゾール類。 | |
| Yang et al. | Synthesis and separation of the atropisomers of 2-(5-benzo [b] fluorenyl)-2′-hydroxy-1, 1′-binaphthyl and related compounds | |
| Cui et al. | Cascade Reactions of Aromatic Aldehydes with Electron‐Deficient Acetylenes: Regioselective Construction of Diverse Aromatic Ring Systems | |
| JP5265640B2 (ja) | フラーレン誘導体及びフラーレン金属錯体、並びにそれらの製造方法 | |
| Pawluć et al. | Novel highly stereoselective approach toward (Z)-1, 2-bis (silyl) ethenes | |
| JP2011183366A (ja) | Ｃ−ｃカップリング反応用触媒組成物 | |
| KR20180129333A (ko) | 실릴화 촉매, 이의 제조방법 및 이를 이용하는 실릴화된 화합물의 제조방법 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120905 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20120905 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140130 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140225 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140428 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140520 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140603 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5565554 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |