JP5563935B2 - X線検出システム - Google Patents
X線検出システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP5563935B2 JP5563935B2 JP2010203410A JP2010203410A JP5563935B2 JP 5563935 B2 JP5563935 B2 JP 5563935B2 JP 2010203410 A JP2010203410 A JP 2010203410A JP 2010203410 A JP2010203410 A JP 2010203410A JP 5563935 B2 JP5563935 B2 JP 5563935B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ray
- energy
- characteristic
- collector mirror
- angle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Landscapes
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
また、異なる複数の交換可能な各回折格子毎のそれぞれが対応する特性X線のエネルギーに応じて、X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する際の調整値のデータを記憶しておき、使用される回折格子に応じて記憶された調整値を読み出してX線集光ミラーの位置もしくは角度を調整することにより、回折格子の交換に伴うX線のエネルギーに対応して、X線集光ミラーはX線のエネルギーに応じて適切な集光を行うことができ、エネルギー分布スペクトルの検出精度を維持することが可能になる。
まず図1と図2を参照して第1実施形態のX線検出システムの構成を説明する。
なお、図3はX線集光ミラー34aと34bとが直線状に構成された場合を示したが、集光効率を上げるため、図4に示すように、双曲線、楕円、あるいは双曲線と楕円との組合せの曲面からなる反射面を有するように構成することも可能である。ただし、使用するX線のエネルギーに応じて、最適となる曲面の曲率が変化するため、中間のエネルギーのX線に合わせて曲面の曲率を定めたうえで、図3(a)(b)(c)に示したように、X線集光ミラー34aと34bの位置もしくは角度を調整することが望ましい。
なお、図4はX線集光ミラー34aと34bとが曲面で構成された場合を示したが、X線のエネルギーに応じた曲面を近似して実現するため、図5に示すように、一方の側のX線集光ミラー34aをX線集光ミラー34a1と34a2の2枚で構成し、他方の側のX線集光ミラー34bをX線集光ミラー34b1と34b2の2枚で構成することが可能である。
ところで、イメージセンサ70の受光面における回折X線像が図6(a)のように結像しているとする。この状態での分析部80での分析結果であるエネルギー分布スペクトルは、図6(c)のように表示されているとする。
なお、以上のようにしてX線集光ミラー34aと34bの位置や角度を調整することで、各種収差が発生したり、あるいは、CL(カソードルミネッセンス)光のような妨害光が反射されて回折格子50に到達してしまうことがある。その結果、以上のようなX線集光ミラー34aと34bの位置や角度を調整することによって、収差や妨害光の影響が大きく現れてしまい、エネルギー分布スペクトルの分解能が悪化することもありうる。そのような場合には、X線集光ミラー34aと34bの位置や角度を調整して、収差を発生させない、あるいは、妨害光を反射させないように、分析部80とX線集光ミラー調整制御部41が調整することが望ましい。
また、以上の構成において、エネルギー値、試料20の材質、特性X線のエネルギーなどに応じて、異なる複数の回折格子を交換可能にしたX線検出システムが存在する。図9の場合には、分析部80からの指示で回転する回転台51上の複数の異なる回折格子50aと50bとが、選択的に使用される。
20 試料
30 X線集光ミラー部
40 X線集光ミラー調整部
50 回折格子
70 イメージセンサ
80 分析部
90 表示部
Claims (6)
- 試料に対して電子線を照射する電子線照射部と、
電子線が照射された前記試料から放出される特性X線を集光させて回折格子に導くX線集光ミラーと、
前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整するX線集光ミラー調整部と、
前記X線集光ミラーにより集光された特性X線を受けて回折X線を生じさせる回折格子と、
前記回折格子で生じた回折X線を検出するイメージセンサと、
を備え、
前記特性X線のエネルギーに応じて定まる異なる複数の回折格子が交換可能に構成されたX線検出システムであって、
前記X線集光ミラー調整部は、前記X線集光ミラーの反射面において反射する前記特性X線のエネルギーに応じて反射可能な角度範囲で、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する際に、異なる複数の各回折格子毎のそれぞれが対応する特性X線のエネルギーに応じて、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する際の調整値のデータを記憶しておき、使用される前記回折格子に応じて記憶された調整値を読み出して調整する、
ことを特徴とするX線検出システム。 - 前記X線集光ミラー調整部は、前記特性X線のエネルギーが大きい場合には前記X線集光ミラーに対する前記特性X線の入射角が大きくなるよう調整し、前記特性X線のエネルギーが小さい場合には前記X線集光ミラーに対する前記特性X線の入射角が小さくなるよう調整する、
ことを特徴とする請求項1記載のX線検出システム。 - 前記X線集光ミラー調整部は、前記回折X線のイメージのエネルギー分散方向と直交する方向に、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する、
ことを特徴とする請求項1−2に記載のX線検出システム。 - 前記イメージセンサで検出された前記回折X線を分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部を備え、
前記X線集光ミラー調整部は、前記エネルギー分布スペクトルに含まれるいずれかのスペクトル成分の強度が大きくなるように、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する、
ことを特徴とする請求項1−3のいずれか一項に記載のX線検出システム。 - 前記イメージセンサで検出された前記回折X線を分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部を備え、
前記X線集光ミラー調整部は、前記エネルギー分布スペクトルに含まれるいずれかのスペクトル成分において分解能低下あるいはピークレベル低下が検知された場合には、前記特性X線のエネルギーにより定まる臨界角に応じて反射可能な角度範囲を除外するように、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する、
ことを特徴とする請求項1−4のいずれか一項に記載のX線検出システム。 - 前記イメージセンサで検出された前記回折X線を分析してエネルギー分布スペクトルを生成する分析部を備え、
前記X線集光ミラー調整部は、前記低下が解消される範囲内で、前記X線集光ミラーの位置もしくは角度を調整する、
ことを特徴とする請求項5に記載のX線検出システム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010203410A JP5563935B2 (ja) | 2010-09-10 | 2010-09-10 | X線検出システム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010203410A JP5563935B2 (ja) | 2010-09-10 | 2010-09-10 | X線検出システム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012058148A JP2012058148A (ja) | 2012-03-22 |
JP5563935B2 true JP5563935B2 (ja) | 2014-07-30 |
Family
ID=46055410
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010203410A Active JP5563935B2 (ja) | 2010-09-10 | 2010-09-10 | X線検出システム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5563935B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104169306A (zh) * | 2012-03-14 | 2014-11-26 | 日本制纸株式会社 | 阴离子改性纤维素纳米纤维分散液的制造方法 |
US11699567B2 (en) | 2020-11-27 | 2023-07-11 | Jeol Ltd. | X-ray detection apparatus and method |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69325157T2 (de) * | 1992-09-28 | 2000-01-20 | Hitachi Ltd | Methode und vorrichtung zur oberflächenanalyse |
JP2000329714A (ja) * | 1999-05-24 | 2000-11-30 | Rigaku Industrial Co | 蛍光x線分析装置 |
JP2002329473A (ja) * | 2001-02-27 | 2002-11-15 | Jeol Ltd | X線分光器を備えた透過型電子顕微鏡 |
JP5484737B2 (ja) * | 2009-01-07 | 2014-05-07 | 独立行政法人理化学研究所 | 軟x線分光装置 |
JP5524755B2 (ja) * | 2010-07-30 | 2014-06-18 | 国立大学法人東北大学 | X線検出システム及びx線検出方法 |
-
2010
- 2010-09-10 JP JP2010203410A patent/JP5563935B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012058148A (ja) | 2012-03-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2020514764A (ja) | X線分光を実施するための方法およびx線吸収分光システム | |
JP5116014B2 (ja) | 小角広角x線測定装置 | |
US20020097837A1 (en) | X-ray reflectance measurement system with adjustable resolution | |
US10061108B2 (en) | Autofocus imaging for a microscope | |
JP5990734B2 (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
CN108169790B (zh) | 一种掠入射x射线显微镜的强度标定方法 | |
KR20200121545A (ko) | 스캐닝 타입 euv 마스크의 패턴 이미지 측정장치 | |
JP2004184314A (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JP2002329473A (ja) | X線分光器を備えた透過型電子顕微鏡 | |
WO2015093944A1 (en) | Spectrometer for generating a two dimensional spectrum | |
JP5563935B2 (ja) | X線検出システム | |
US8421007B2 (en) | X-ray detection system | |
JP7030077B2 (ja) | X線分析装置 | |
JP2007273477A (ja) | X線分光器を備えた電子顕微鏡 | |
JP2002039970A (ja) | X線装置 | |
EP3535552A1 (en) | Method, apparatus and computer program for measuring and processing a spectrum of an xuv light source from soft x-rays to infrared wavelengths | |
EP3460386B1 (en) | Displacement sensor | |
Yuan et al. | At-wavelength optical metrology development at the ALS | |
JP2004333131A (ja) | 全反射蛍光xafs測定装置 | |
JP5502644B2 (ja) | X線検出システム | |
JP2008200357A (ja) | X線撮影システム及びx線撮影方法 | |
JP4349146B2 (ja) | X線分析装置 | |
JP4639971B2 (ja) | X線分析装置 | |
JP5441856B2 (ja) | X線検出システム | |
JPH04264300A (ja) | 結像型軟x線顕微鏡装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130107 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131125 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131203 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140203 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140603 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140613 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5563935 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |