JP5559486B2 - Heat ray shielding glass and multilayer glass using the same - Google Patents
Heat ray shielding glass and multilayer glass using the same Download PDFInfo
- Publication number
- JP5559486B2 JP5559486B2 JP2009069408A JP2009069408A JP5559486B2 JP 5559486 B2 JP5559486 B2 JP 5559486B2 JP 2009069408 A JP2009069408 A JP 2009069408A JP 2009069408 A JP2009069408 A JP 2009069408A JP 5559486 B2 JP5559486 B2 JP 5559486B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heat ray
- layer
- refractive index
- oxide
- meth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Joining Of Glass To Other Materials (AREA)
Description
本発明は、熱線吸収性、断熱性を有する複層ガラスに好適に用いられる熱線遮蔽ガラスに関する。 The present invention relates to a heat ray shielding glass that is suitably used for a multilayer glass having heat ray absorptivity and heat insulation properties.
従来から、建築物の開口部、特に窓、ドア、採光の為の屋根や車両のガラス部に、複層ガラスが用いられている。複層ガラスは、一般的に、2枚のガラス板が空気層を介して平行に配置された構造を有する。空気層は、フレーム状のスペーサーを介して2枚のガラス板を積層することにより形成される。空気層の存在により、複層ガラスを介した熱の出入りを抑制し、複層ガラス全体に断熱性を付与することが可能となる。したがって、複層ガラスを使用することにより、冷房や暖房による消費エネルギーを軽減することができる。 Conventionally, double glazing has been used for building openings, particularly windows, doors, roofs for lighting and glass parts of vehicles. Multi-layer glass generally has a structure in which two glass plates are arranged in parallel via an air layer. The air layer is formed by laminating two glass plates via a frame-shaped spacer. Due to the presence of the air layer, it is possible to prevent heat from entering and exiting through the multilayer glass and to impart heat insulation to the entire multilayer glass. Therefore, the energy consumed by cooling or heating can be reduced by using the double glazing.
近年では、太陽光に含まれる熱線を遮蔽する性能をさらに有する複層ガラスも知られている。例えば、特許文献1では、ガラス板上に近赤外線反射膜が積層された熱線遮蔽性ガラス板と、他のガラス板とを所定の間隔(空気層)を介して対向するように配置した複層ガラスが開示されている。複層ガラスにおいて、熱線遮蔽性ガラス板は、近赤外線反射膜が積層された面が空気層側となるように配置される。近赤外線反射膜は、金属酸化物層、銀層、金属層、及び金属酸化物層がこの順で積層されたものである。金属層にはTi、Al−Zn合金などが用いられ、金属酸化物層には酸化スズや酸化亜鉛などが用いられている。このような熱線遮蔽性ガラス板の使用により、複層ガラスに熱線吸収性を付与することができ、冷暖房による消費エネルギーのさらなる軽減と熱暑感の低減が可能となる。 In recent years, a multi-layer glass that further has the ability to shield heat rays contained in sunlight is also known. For example, in Patent Document 1, a multilayer in which a heat ray-shielding glass plate in which a near-infrared reflective film is laminated on a glass plate and another glass plate are arranged to face each other with a predetermined interval (air layer) therebetween. Glass is disclosed. In the multi-layer glass, the heat ray-shielding glass plate is arranged so that the surface on which the near-infrared reflective film is laminated is the air layer side. The near-infrared reflective film is formed by laminating a metal oxide layer, a silver layer, a metal layer, and a metal oxide layer in this order. Ti, Al—Zn alloy, or the like is used for the metal layer, and tin oxide, zinc oxide, or the like is used for the metal oxide layer. By using such a heat ray-shielding glass plate, heat ray absorptivity can be imparted to the multi-layer glass, and it is possible to further reduce energy consumption and reduce heat sensation due to air conditioning.
しかしながら、特許文献1の複層ガラスに用いられる熱線遮蔽性ガラス板では、銀層や金属層が錆びるなど、これらの層の耐湿性及び耐酸性が十分ではなく、経時的に熱線遮蔽性や外観特性が低下する問題があった。 However, in the heat ray-shielding glass plate used in the double-glazed glass of Patent Document 1, the moisture resistance and acid resistance of these layers are not sufficient, such as rusting of the silver layer and the metal layer, and heat ray shielding properties and appearance over time. There was a problem that the characteristics deteriorated.
そこで、本発明は、優れた熱線遮蔽性及び外観特性を長期間に亘って維持することができる熱線遮蔽性ガラスを提供することを目的とする。 Then, an object of this invention is to provide the heat ray shielding glass which can maintain the outstanding heat ray shielding property and external appearance characteristic over a long period of time.
本発明者等は上記課題に鑑み種々の検討を行った結果、タングステン酸化物及び/又は複合タングステン酸化物を含む熱線吸収層と、これら以外の金属酸化物からなる熱線反射層とを組み合わせて熱線遮蔽性ガラスに用いることにより、優れた熱線遮蔽性を長期間に亘って維持することができる熱線遮蔽ガラスが得られることを見出した。 The present inventors have made of various studies in view of the above problems, heat rays in combination with heat absorbing layer comprising a tungsten oxide and / or composite tungsten oxide, and a heat ray reflective layer of such a metal oxide other than It discovered that the heat ray shielding glass which can maintain the outstanding heat ray shielding property over a long period of time by using for shielding glass was obtained.
一方、これらの層を積層した際に各層間の界面で、入射光が反射して虹模様などの干渉縞が生じる場合があった。このような干渉縞が発生すると、熱線遮蔽性ガラスの外観特性が低下する。本発明者のさらなる検討によると、干渉縞の発生は熱線吸収層と熱線反射層とで屈折率差が大きいことが要因と考えられる。そこで、本発明では、熱線吸収層と熱線反射層との間に屈折率調整層を配置することにより、干渉縞の発生を抑制して、優れた外観特性及び熱線遮蔽性を長期間に亘って維持することができる熱線遮蔽性ガラスを提供できることを見出した。 On the other hand, when these layers are laminated, the incident light may be reflected at the interface between the layers to produce interference fringes such as rainbow patterns. When such interference fringes occur, the appearance characteristics of the heat ray shielding glass deteriorate. According to further studies by the present inventors, the generation of interference fringes is considered to be caused by a large difference in refractive index between the heat ray absorbing layer and the heat ray reflecting layer. Therefore, in the present invention, by arranging the refractive index adjustment layer between the heat ray absorbing layer and the heat ray reflective layer, generation of interference fringes is suppressed, and excellent appearance characteristics and heat ray shielding properties are obtained over a long period of time. It has been found that a heat ray shielding glass that can be maintained can be provided.
すなわち、本発明は、
透明基材と、
タングステン酸化物及び/又は複合タングステン酸化物とバインダ樹脂を含む熱線吸収層と、
前記タングステン酸化物及び複合タングステン酸化物以外の金属酸化物からなる熱線反射層とを有し、
前記熱線吸収層及び前記熱線反射層の間に、屈折率調整層を少なくとも1層有し、
当該屈折率調整層が、屈折率が1.6以上2.8以下である高屈折率層と、屈折率が1.3以上1.6未満である低屈折率層とからなり、
前記熱線吸収層、前記高屈折率層、前記低屈折率層、及び前記熱線反射層がこの順で積層されていることを特徴とする熱線遮蔽ガラスにより上記課題を解決する。
That is, the present invention
A transparent substrate;
A heat ray absorbing layer containing tungsten oxide and / or composite tungsten oxide and a binder resin ;
A heat ray reflective layer made of a metal oxide other than the tungsten oxide and the composite tungsten oxide,
Between the ray absorbing layer and the heat ray reflective layer, at least 1 Soyu the refractive index adjusting layer,
The refractive index adjusting layer is composed of a high refractive index layer having a refractive index of 1.6 or more and 2.8 or less and a low refractive index layer having a refractive index of 1.3 or more and less than 1.6,
The above- mentioned problem is solved by a heat ray shielding glass , wherein the heat ray absorbing layer, the high refractive index layer, the low refractive index layer, and the heat ray reflective layer are laminated in this order .
本発明の熱線遮蔽ガラスによれば、上述の通り、タングステン酸化物及び/又は複合タングステン酸化物を含む熱線吸収層と、他の金属酸化物を含む熱線反射層とを用いることにより、優れた熱線遮蔽性を有するだけでなく、この優れた熱線遮蔽性を長期間に亘って維持することができる。さらに、これらの層の間に、屈折率調整層を配置することにより、干渉縞の発生を抑制し、優れた外観特性を得ることもできる。したがって、このような熱線遮蔽ガラスを用いることにより、優れた熱線遮蔽性及び外観特性を長期間に亘って維持することができる複層ガラスを提供することが可能となる。 According to the heat ray shielding glass of the present invention, as described above, by using the heat ray absorbing layer containing tungsten oxide and / or composite tungsten oxide and the heat ray reflecting layer containing other metal oxide, excellent heat ray is obtained. In addition to having a shielding property, this excellent heat ray shielding property can be maintained over a long period of time. Furthermore, by arranging a refractive index adjusting layer between these layers, the occurrence of interference fringes can be suppressed and excellent appearance characteristics can be obtained. Therefore, by using such a heat ray shielding glass, it becomes possible to provide a multilayer glass capable of maintaining excellent heat ray shielding properties and appearance characteristics over a long period of time.
本発明の熱線遮蔽ガラスは、基本構成として、透明基材、タングステン酸化物及び/又は複合タングステン酸化物を含む熱線吸収層、前記タングステン酸化物及び複合タングステン酸化物以外の金属酸化物を含む熱線反射層、及び屈折率調整層を少なくとも1層有する。 The heat ray shielding glass of the present invention includes, as a basic structure, a transparent substrate, a heat ray absorbing layer containing tungsten oxide and / or composite tungsten oxide, and heat ray reflection containing metal oxide other than the tungsten oxide and composite tungsten oxide. And at least one refractive index adjusting layer.
屈折率調整層は、隣接する層の屈折率とは異なる屈折率を有することにより、干渉縞の発生を抑制するための層である。屈折率調整層は、熱線吸収層と熱線反射層との間に配置される。さらに、熱線遮蔽性の耐久性を向上させるために、熱線反射層を最上層として配置し、熱線吸収層を熱線反射層と透明基材との間に配置するのが特に好ましい。このような配置であれば、各層の間に他の機能を持った層がさらに配置されてもよい。 The refractive index adjustment layer is a layer for suppressing the generation of interference fringes by having a refractive index different from the refractive index of the adjacent layer. The refractive index adjusting layer is disposed between the heat ray absorbing layer and the heat ray reflecting layer. Furthermore, in order to improve the durability of the heat ray shielding property, it is particularly preferable to arrange the heat ray reflective layer as the uppermost layer and arrange the heat ray absorbing layer between the heat ray reflective layer and the transparent substrate. If it is such arrangement | positioning, the layer with another function may be further arrange | positioned between each layer.
まず、以下に本発明の熱線遮蔽ガラスの基本構成を好適な例を挙げて説明する。 First, the basic structure of the heat ray shielding glass of the present invention will be described below with a suitable example.
図1に、本発明の好適な一実施形態として熱線遮蔽ガラス100の概略断面図を示す。熱線遮蔽ガラス100は、透明基材110と、前記透明基材110上に積層された熱線吸収層120と、前記熱線吸収層120上に積層された屈折率調整層130と、前記屈折率調整層130上に積層された熱線反射層140とを有する。屈折率調整層130は、屈折率が1.6以上2.8以下である高屈折率層131と、屈折率が1.3以上1.6未満である低屈折率層132との積層体である。熱線吸収層120は、(複合)タングステン酸化物などの熱線吸収材、及びエチレン酢酸ビニル共重合体(EVA)などのバインダ樹脂を含む。
FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of a heat
また、熱線吸収層はプラスチックフィルム上に形成されていてもよい。プラスチックフィルム上に形成された熱線吸収層を用いた場合、透明基材上には接着樹脂層を介して前記プラスチックフィルムを積層するのが好ましい。このような形態の熱線遮蔽ガラスを図2に示す。 Moreover, the heat ray absorption layer may be formed on the plastic film. When the heat ray absorbing layer formed on the plastic film is used, it is preferable to laminate the plastic film on the transparent substrate via an adhesive resin layer. FIG. 2 shows such a heat ray shielding glass.
図2に、本発明の他の好適な一実施形態として熱線遮蔽ガラス200の概略断面図を示す。熱線遮蔽ガラス200は、透明基材210と、前記透明基材210上に積層された接着樹脂層250と、前記接着樹脂層250上に積層されたプラスチックフィルム260、前記プラスチックフィルム260上に形成された熱線吸収層220と、前記熱線吸収層220上に積層された屈折率調整層230と、前記屈折率調整層230上に積層された熱線反射層240とを有する。このように、薄膜の熱線吸収層220を容易に作製でき、取扱性にも優れることから、プラスチックフィルム260上に形成された熱線吸収層220を用いるのが好ましい。また、屈折率調整層230は、屈折率が1.6以上2.8以下である高屈折率層231と、屈折率が1.3以上1.6未満である低屈折率層232との積層体である。
FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view of a heat
熱線吸収層220は、タングステン酸化物や複合タングステン酸化物などの熱線吸収材の他に、バインダ樹脂を含む。バインダ樹脂として、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、オレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、及びアクリル樹脂よりなる群から選択される少なくとも一種の透明合成樹脂を含むのが好ましい。このようなバインダ樹脂を使用することにより、熱線吸収層220の耐久性を向上させることができる。また、接着樹脂層250は、エチレン酢酸ビニル共重合体などの透明接着樹脂を含むのが好ましい。
The heat
本発明の熱線遮蔽ガラスに用いられる熱線吸収層は、タングステン酸化物及び/又は複合タングステン酸化物を含むことにより、可視光透過性を損なうことなく、優れた熱線吸収性を有する。このような熱線吸収層を用いることにより、従来公知の複層ガラスに使用されていた耐久性の低い銀層などの金属層の使用を省略しても、優れた熱線遮蔽性を有する熱線遮蔽ガラスを提供することができる。さらに、熱線吸収層及び熱線反射層はいずれも金属単体を含まないことから、耐湿性及び耐酸性に優れる。 The heat ray absorbing layer used for the heat ray shielding glass of the present invention contains tungsten oxide and / or composite tungsten oxide, and thus has excellent heat ray absorptivity without impairing visible light transmittance. By using such a heat ray absorbing layer, a heat ray shielding glass having excellent heat ray shielding properties even if the use of a metal layer such as a low-durability silver layer that has been used in conventionally known multilayer glass is omitted. Can be provided. Furthermore, since neither a heat ray absorption layer nor a heat ray reflection layer contains a metal simple substance, it is excellent in moisture resistance and acid resistance.
さらに、熱線吸収層と熱線反射層との間に屈折率調整層が配置されることにより、干渉縞の発生を抑制して、外観特性を損なうことなく、熱線遮蔽性の耐久性を向上させることが可能となる。 Furthermore, the refractive index adjustment layer is disposed between the heat ray absorbing layer and the heat ray reflective layer, thereby suppressing the occurrence of interference fringes and improving the durability of the heat ray shielding property without deteriorating the appearance characteristics. Is possible.
なお、本発明において、熱線とは、一般に赤外線、特に太陽光線の中でも温度を高く上昇させる780nm以上の波長を有する赤外線を意味する。 In the present invention, the heat ray generally means infrared rays, particularly infrared rays having a wavelength of 780 nm or more that raises the temperature even among sunlight rays.
以下、本発明の熱線遮蔽ガラスに用いられる各材料について説明する。 Hereinafter, each material used for the heat ray shielding glass of the present invention will be described.
[屈折率調整層]
屈折率調整層としては、一般に単一又は複数の屈折率調整層が用いられる。本発明においては、高屈折率層と低屈折率層との積層体が屈折率調整層として用いられる。屈折率が1.6以上2.8以下である高屈折率層と、屈折率が1.3以上1.6未満である低屈折率層とを用い、熱線吸収層、高屈折率層、低屈折率層、及び熱線反射層がこの順で積層される。このように屈折率調整層を用いることにより、熱線吸収層と熱線反射層との間で段階的に屈折率を調整することによって、干渉縞の発生を高く抑制することができる。
[Refractive index adjusting layer]
As the refractive index adjustment layer , a single or a plurality of refractive index adjustment layers are generally used. In the present invention, the laminate of the high refractive index layer and the low refractive index layer is needed use as a refractive index adjusting layer. Using a high refractive index layer refraction index is 1.6 or more 2.8 or less, the refractive index of the low refractive index layer is less than 1.3 to 1.6, heat absorbing layer, a high refractive index layer, A low refractive index layer and a heat ray reflective layer are laminated in this order. By using the refractive index adjustment layer as described above, the occurrence of interference fringes can be suppressed to a high level by adjusting the refractive index stepwise between the heat ray absorbing layer and the heat ray reflective layer.
高屈折率層の屈折率は、1.6以上2.8以下、特に1.7〜2.1であるのが好ましい。低屈折率層の屈折率は、1.3以上1.6未満、特に1.4〜1.55であるのが好ましい。 The refractive index of the high refractive index layer is preferably 1.6 or more and 2.8 or less, and particularly preferably 1.7 to 2.1. The refractive index of the low refractive index layer is preferably 1.3 or more and less than 1.6, particularly 1.4 to 1.55.
なお、屈折率調整層、並びに後記する熱線反射層、及び熱線吸収層など各層の屈折率は、JIS K 7142に準拠して、屈折計(株式会社アタゴ製、装置名:デジタルアッベ屈折計DR−M2)を用いて、23℃雰囲気下、測定波長589nmにおける屈折率を測定することにより得られた値とする。 The refractive index of each layer such as a refractive index adjusting layer, a heat ray reflecting layer, and a heat ray absorbing layer, which will be described later, is based on a refractometer (manufactured by Atago Co., Ltd., device name: Digital Abbe refractometer DR-). The value obtained by measuring the refractive index at a measurement wavelength of 589 nm in an atmosphere of 23 ° C. using M2).
屈折率調整層には、金属、金属酸化物、及び合成樹脂などを用い、これらにより屈折率を調整するのが好ましい。したがって、蒸着法などを用いて、金属又は金属酸化物からなる屈折率調整層を形成してもよい。しかしながら、屈折率の調整及び製造が容易であることから、屈折率調整層は合成樹脂を主成分とする層であるのが好ましい。 It is preferable to use a metal, a metal oxide, a synthetic resin, or the like for the refractive index adjustment layer, and adjust the refractive index with these. Therefore, the refractive index adjustment layer made of metal or metal oxide may be formed by using a vapor deposition method or the like. However, since the refractive index can be easily adjusted and manufactured, the refractive index adjusting layer is preferably a layer mainly composed of a synthetic resin.
このような観点から、低屈折率層は、合成樹脂からなるのが好ましい。低屈折率層に用いられる合成樹脂としては、1.3以上1.6未満、特に1.4〜1.55の屈折率を有する合成樹脂、例えば、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、オレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、及びポリカーボネート樹脂が好ましく挙げられる。特に好ましくは、フッ素樹脂、アクリル樹脂が挙げられる。これらの樹脂によれば、屈折率の調整が容易であり、優れた透明性を有することから、外観特性に優れた熱線遮蔽性ガラスを提供することができる。 From such a viewpoint, the low refractive index layer is preferably made of a synthetic resin. The synthetic resin used for the low refractive index layer is a synthetic resin having a refractive index of 1.3 or more and less than 1.6, particularly 1.4 to 1.55, such as a fluororesin, a silicone resin, an olefin resin, and an acrylic resin. Polyester resin, cellulose resin, and polycarbonate resin are preferable. Particularly preferred are fluororesin and acrylic resin. According to these resins, it is easy to adjust the refractive index, and since it has excellent transparency, it is possible to provide a heat ray shielding glass excellent in appearance characteristics.
1.3以上1.6未満の屈折率を有するフッ素樹脂としては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、ポリビニリデンフルオライド(PVDF)、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)、テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体(ETFE)、フルオロエチレンビニルエーテル(FEVE)及びエチレンクロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)、下記構造: Examples of the fluororesin having a refractive index of 1.3 or more and less than 1.6 include polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer Polymer (PFA), polyvinylidene fluoride (PVDF), polychlorotrifluoroethylene (PCTFE), tetrafluoroethylene / ethylene copolymer (ETFE), fluoroethylene vinyl ether (FEVE) and ethylene chlorotrifluoroethylene copolymer ( ECTFE), the following structure:
(n=10〜1000)
を有する重合体Aを挙げることができる。これらの中で、上記重合体A、フルオロエチレンビニルエーテル(FEVE)が好ましい。これらの(共)重合体は、さらに官能基(例、アルコキシシリル基、ヒドロキシル基、アミノ基、イミノ基、(メタ)アクリロイロキシ基、エポキシ基、カルボキシル基、スルホニル基、アクリレート型イソシアヌレート基、硫酸塩基)を有していても良い。市販されているフッ素樹脂の好ましい例としては、ルミフロン(登録商標、旭硝子(株)製)、サイトップ(登録商標、旭硝子(株)製)、ゼッフル(登録商標、ダイキン化学(株)製)、オプツール(登録商標、ダイキン化学(株)製)を挙げることができる。
(N = 10 to 1000)
The polymer A which has this can be mentioned. Among these, the polymer A and fluoroethylene vinyl ether (FEVE) are preferable. These (co) polymers further have functional groups (eg, alkoxysilyl groups, hydroxyl groups, amino groups, imino groups, (meth) acryloyloxy groups, epoxy groups, carboxyl groups, sulfonyl groups, acrylate type isocyanurate groups, sulfuric acid groups. Base). Preferable examples of commercially available fluororesins include Lumiflon (registered trademark, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Cytop (registered trademark, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Zaffle (registered trademark, manufactured by Daikin Chemical Co., Ltd.), And OPTOOL (registered trademark, manufactured by Daikin Chemical Co., Ltd.).
1.3以上1.6未満の屈折率を有するアクリル樹脂を構成するモノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、;フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート等のフェノキシアルキル(メタ)アクリレート;2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−プロポキシエチル(メタ)アクリレート、2−ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシブチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキル(メタ)アクリレート;ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート等のポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。アクリル樹脂は、これらのモノマーの単独重合体又は2種以上の共重合体、前記モノマーと他の共重合性単量体との共重合体を挙げることができる。 Monomers constituting the acrylic resin having a refractive index of 1.3 or more and less than 1.6 include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) Acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) Acrylate, isooctyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl Alkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate; hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, and 3-hydroxybutyl (meth) acrylate; phenoxyethyl (meth) acrylate, 2- Phenoxyalkyl (meth) acrylates such as hydroxy-3-phenoxypropyl (meth) acrylate; 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as 2-propoxyethyl (meth) acrylate, 2-butoxyethyl (meth) acrylate, and 2-methoxybutyl (meth) acrylate; polyethylene glycol mono (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, Methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, ethoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, nonyl Polyalkylene glycols such as phenoxy polypropylene glycol (meth) acrylate Examples include recall (meth) acrylate; pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin di (meth) acrylate, and the like. Examples of the acrylic resin include homopolymers of these monomers, copolymers of two or more kinds, and copolymers of the monomers and other copolymerizable monomers.
合成樹脂からなる低屈折率層の厚さは5〜60nm、特に10〜40nmであるのが好ましい。 The thickness of the low refractive index layer made of synthetic resin is preferably 5 to 60 nm, particularly 10 to 40 nm.
また、高屈折率層は、屈折率調整用微粒子及び合成樹脂を含む層であるのが好ましい。高屈折率層に用いられる合成樹脂としては、例えば、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、オレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、及びポリカーボネート樹脂が好ましく挙げられる。特に好ましくは、フッ素樹脂、アクリル樹脂が挙げられる。 The high refractive index layer is preferably a layer containing fine particles for refractive index adjustment and a synthetic resin. Preferred examples of the synthetic resin used for the high refractive index layer include a fluororesin, a silicone resin, an olefin resin, an acrylic resin, a polyester resin, a cellulose resin, and a polycarbonate resin. Particularly preferred are fluororesin and acrylic resin.
屈折率調整用微粒子としては、金属粒子又は金属酸化物粒子が用いられる。金属粒子としては、金、及び銀などの粒子が挙げられる。また、金属酸化物粒子としては、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化タンタル、酸化セリウム、酸化ランタン、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化チタン、酸化チタン/酸化ジルコニウム複合酸化物、酸化チタン/酸化ジルコニウム/酸化ケイ素複合酸化物などの粒子が挙げられる。なかでも、高い屈折率を有し、干渉縞の発生を高く抑制できることから、屈折率調整用粒子は、酸化スズ、酸化チタン、酸化亜鉛、及び酸化ジルコニウムなどの金属酸化物粒子を用いるのが好ましい。これらの屈折率調整用粒子は、一種単独で用いてもよく、二種以上を混合して用いてもよい。 As the refractive index adjusting fine particles, metal particles or metal oxide particles are used. Examples of the metal particles include gold and silver particles. The metal oxide particles include aluminum oxide, tin oxide, antimony oxide, tantalum oxide, cerium oxide, lanthanum oxide, iron oxide, zinc oxide, tungsten oxide, zirconium oxide, indium oxide, titanium oxide, titanium oxide / zirconium oxide. Examples of the composite oxide include particles of titanium oxide / zirconium oxide / silicon oxide composite oxide. Among them, it is preferable to use metal oxide particles such as tin oxide, titanium oxide, zinc oxide, and zirconium oxide as the refractive index adjusting particles because they have a high refractive index and can suppress the generation of interference fringes. . These refractive index adjusting particles may be used singly or in combination of two or more.
屈折率調整用粒子の平均粒子径は、10〜800nm、特に10〜400nmであるのが好ましい。これにより、透明性に優れる屈折率調整層を形成し、熱線遮蔽ガラスの外観特性を向上させることが可能となる。 The average particle diameter of the refractive index adjusting particles is preferably 10 to 800 nm, particularly preferably 10 to 400 nm. Thereby, the refractive index adjustment layer excellent in transparency can be formed, and it becomes possible to improve the external appearance characteristic of heat ray shielding glass.
なお、屈折率調整用粒子の平均粒子径は、高屈折率層の断面を透過型電子顕微鏡により倍率100万倍程度で観測し、少なくとも100個の屈折率調整用粒子の投影面積円相当径を求め、その数平均値とする。 The average particle size of the refractive index adjusting particles is determined by observing the cross section of the high refractive index layer with a transmission electron microscope at a magnification of about 1,000,000, and the projected area equivalent circle diameter of at least 100 refractive index adjusting particles. Obtain the number average value.
屈折率調整用微粒子及び合成樹脂を含む高屈折率層の厚さは、5〜60nm、特に10〜40nmであるのが好ましい。 The thickness of the high refractive index layer containing the refractive index adjusting fine particles and the synthetic resin is preferably 5 to 60 nm, particularly 10 to 40 nm.
合成樹脂を含む屈折率調整層(低屈折率層、高屈折率層)は、合成樹脂、必要に応じて屈折率調整用粒子及び有機溶剤を含む樹脂組成物の硬化層である。屈折率調整層を作製するには、例えば、樹脂組成物を熱線吸収層又はプラスチックフィルムなどの適当な支持体上に塗布し、単に乾燥させる方法などが用いられる。この時、樹脂組成物は、ポリイソシアネート化合物などの硬化剤を含んでいてもよい。乾燥は、塗布した樹脂組成物を60〜150℃、特に70〜110℃で加熱することにより行うのが好ましい。乾燥時間は1〜10分間程度でよい。 The refractive index adjustment layer (low refractive index layer, high refractive index layer) containing a synthetic resin is a cured layer of a resin composition containing a synthetic resin, and if necessary, refractive index adjusting particles and an organic solvent. In order to produce the refractive index adjusting layer, for example, a method in which the resin composition is coated on a suitable support such as a heat ray absorbing layer or a plastic film and simply dried is used. At this time, the resin composition may contain a curing agent such as a polyisocyanate compound. Drying is preferably performed by heating the applied resin composition at 60 to 150 ° C, particularly 70 to 110 ° C. The drying time may be about 1 to 10 minutes.
なお、低屈折率層及び高屈折率層を作製する場合、各層を1層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後にまとめて硬化させてもよい。 In addition, when producing a low-refractive-index layer and a high-refractive-index layer, each layer may be apply | coated and hardened | cured one layer at a time, and you may make it harden | cure collectively after applying all the layers.
また、屈折率調整層(特に低屈折率層及び高屈折率層)を形成するために用いられる樹脂組成物は、熱硬化性、又は光(一般に紫外線)硬化性の樹脂組成物であってもよい。したがって、樹脂組成物は、重合開始剤をさらに含むのが好ましい。例えば、熱硬化させる場合には熱重合開始剤を使用し、紫外線硬化させる場合は光重合開始剤を使用することが好ましい。なかでも、光重合開始剤を含むのが特に好ましい。 Further, the resin composition used for forming the refractive index adjusting layer (particularly the low refractive index layer and the high refractive index layer) may be a thermosetting or light (generally ultraviolet) curable resin composition. Good. Therefore, it is preferable that the resin composition further includes a polymerization initiator. For example, it is preferable to use a thermal polymerization initiator in the case of thermosetting, and to use a photopolymerization initiator in the case of ultraviolet curing. Among these, it is particularly preferable to include a photopolymerization initiator.
光重合開始剤としては、樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア(登録商標)184)などが好ましく用いられる。光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して一般に0.1〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%である。 As the photopolymerization initiator, any compound suitable for the properties of the resin can be used. For example, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba Specialty Chemicals, Irgacure (registered trademark) 184) is preferably used. Generally the quantity of a photoinitiator is 0.1-10 mass% with respect to a resin composition, Preferably it is 0.1-5 mass%.
樹脂組成物が光硬化性である場合、樹脂組成物は重合性モノマー、オリゴマーをさらに含んでいてもよい。重合性モノマー、オリゴマーとしては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。 When the resin composition is photocurable, the resin composition may further contain a polymerizable monomer or oligomer. As the polymerizable monomer or oligomer, it is preferable to mainly use a hard polyfunctional monomer such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate or the like.
熱又は光硬化性樹脂組成物を用いて屈折率調整層を作製する場合には、合成樹脂、重合開始剤、必要に応じて屈折率調整層及び有機溶剤などを含む組成物を、熱線吸収層又はプラスチックフィルムなどの適当な支持体上に塗布した後、加熱、又は紫外線、X線、γ線、電子線などの光照射により硬化させる方法が好ましく用いられる。光照射は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線を照射して行うことができる。 When producing a refractive index adjusting layer using a heat or photocurable resin composition, a composition containing a synthetic resin, a polymerization initiator, a refractive index adjusting layer and an organic solvent, if necessary, is used as a heat ray absorbing layer. Or after apply | coating on suitable support bodies, such as a plastic film, the method of making it harden | cure by heating or light irradiation, such as an ultraviolet-ray, a X ray, a gamma ray, an electron beam, is used preferably. The light irradiation can be performed by irradiating ultraviolet rays emitted from light rays such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, a metal halide lamp.
また、屈折率調整層としては、金属アルコキシド及び/又は金属アセチルアセトネートを加水分解した後、重縮合させて得られる縮合物からなる層を用いることもできる。金属アルコキシド及び金属アセチルアセトネートを用いたゾルゲル法によれば、屈折率調整層の作製時に屈折率の調整及び製造が容易である。屈折率調整層において、金属アルコキシド及び金属アセチルアセトネートが一種単独で用いられてもよく、2種以上を併用してもよい。 Moreover, as a refractive index adjustment layer, the layer which consists of a condensate obtained by hydrolyzing a metal alkoxide and / or metal acetylacetonate, and carrying out a polycondensation can also be used. According to the sol-gel method using a metal alkoxide and a metal acetylacetonate, the refractive index can be easily adjusted and manufactured when the refractive index adjusting layer is manufactured. In the refractive index adjustment layer, metal alkoxide and metal acetylacetonate may be used alone or in combination of two or more.
金属アセチルアセトネートは、アセチルアセトンに金属が結合して形成される金属錯体である。金属アセチルアセトナートは、チタン、スズ、インジウム、ジルコニウム、亜鉛、コバルト、鉄、ニッケルなどの金属のアセチルアセトナートを挙げることができる。また、これらのアセチルアセトナートは、アセチルアセトナート塩であってもよい。 Metal acetylacetonate is a metal complex formed by bonding a metal to acetylacetone. Examples of the metal acetylacetonate include acetylacetonate of a metal such as titanium, tin, indium, zirconium, zinc, cobalt, iron, and nickel. These acetylacetonates may be acetylacetonate salts.
金属アルコキシドとしては、一般式(I):R1 nM(OR2)m-n(但し、R1及びR2は炭素原子数1〜10のアルキル基を表し、MはSi、Ti、Al、及びZrよりなる群から選択される原子を表し、mは原子Mの価数であって3又は4であり、mが4である場合にnは0〜2の整数であり、mが3の場合には0〜1の整数である)で示される金属アルコキシドが好ましく挙げられる。このような金属アルコキシドは、加水分解後に溶剤中で安定であり、所望の屈折率を有する屈折率調整層を容易に形成することができる。 As the metal alkoxide, general formula (I): R 1 n M (OR 2 ) mn (where R 1 and R 2 represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, M represents Si, Ti, Al, and Represents an atom selected from the group consisting of Zr, m is the valence of atom M and is 3 or 4, and when m is 4, n is an integer from 0 to 2 and m is 3. Is preferably an integer of 0 to 1). Such a metal alkoxide is stable in a solvent after hydrolysis, and a refractive index adjusting layer having a desired refractive index can be easily formed.
前記一般式(I)、及び後記する一般式(II)及び(III)において、R1及びR2は、炭素原子数1〜10、特に炭素原子数1〜4のアルキル基を表す。アルキル基は、直鎖状でも分岐状であってもよい。好ましくは、メチル基、エチル基、イソプロピル基、及びブチル基が挙げられる。また、前記一般式において、R1及びOR2がそれぞれ複数ある場合には、これらは互いに同一であっても、異なっていてもよい。 In the general formula (I) and the general formulas (II) and (III) described later, R 1 and R 2 represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, particularly 1 to 4 carbon atoms. The alkyl group may be linear or branched. Preferably, a methyl group, an ethyl group, an isopropyl group, and a butyl group are mentioned. In the above general formula, when there are a plurality of R 1 and OR 2 , these may be the same or different.
屈折率調整層は、所望する屈折率を有する層を容易に形成することができることから、上記一般式で示される金属アルコキシドを加水分解した後、重縮合させて得られる縮合物からなる層であるのが好ましい。この縮合物は、−M−O−(Mは上記式と同義である)の繰り返し単位を主骨格とする。 Since the refractive index adjusting layer can easily form a layer having a desired refractive index, it is a layer made of a condensate obtained by hydrolyzing the metal alkoxide represented by the above general formula and then polycondensing it. Is preferred. This condensate has a repeating unit of -MO- (M is as defined above) as a main skeleton.
屈折率が1.3〜2.8である低屈折率層を作製するには、一般式(II):R1 nM1(OR2)4-n(但し、M1はSiを表し、R1及びR2は炭素原子数1〜10のアルキル基を表し、nは0〜2の整数である)で示される金属アルコキシドが好ましく用いられる。このような金属アルコキシドとして、具体的には、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−n−プロポキシシラン、テトラ−i−プロポキシシラン、テトラ−n−ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。 In order to produce a low refractive index layer having a refractive index of 1.3 to 2.8, the general formula (II): R 1 n M 1 (OR 2 ) 4-n (where M 1 represents Si, R 1 and R 2 each represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and n is an integer of 0 to 2). Specific examples of such metal alkoxides include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra-n-propoxysilane, tetra-i-propoxysilane, tetra-n-butoxysilane, methyltrimethoxysilane, and ethyltrimethoxysilane. Etc.
ゾルゲル法により作製した低屈折率層の厚さは5〜60nm、特に10〜40nmであるのが好ましい。 The thickness of the low refractive index layer produced by the sol-gel method is preferably 5 to 60 nm, particularly 10 to 40 nm.
また、屈折率が1.6以上2.8以下である高屈折率層を作製するには、一般式(III):R1 nM2(OR2)m-n(但し、M2は、Ti、Zr、又はAlを表し、R1及びR2は炭素原子数1〜10のアルキル基を表し、mは原子Mの価数であって3又は4であり、mが4である場合にnは0〜2の整数であり、mが3の場合には0〜1の整数である)で示される金属アルコキシドが好ましく用いられる。このような金属アルコキシドとして、具体的には、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトラブトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、メチルトリイソプロポキシチタン等のアルコキシチタン化合物;トリメトキシアルミニウム、トリエトキシアルミニウム、トリイソプロポキシアルミニウム、メチルジイソプロポキシアルミニウム、トリブトキシアルミニウム、ジエトキシアルミニウムクロリド等のアルコキシアルミニウム化合物;テトラエトキシジルコニウム、テトライソプロポキシジルコニウム、メチルトリイソプロポキシジルコニウム等のアルコキシジルコニウム化合物などが挙げられる。 In order to produce a high refractive index layer having a refractive index of 1.6 or more and 2.8 or less, the general formula (III): R 1 n M 2 (OR 2 ) mn (where M 2 is Ti, Zr or Al is represented, R 1 and R 2 represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, m is a valence of an atom M and is 3 or 4, and when m is 4, n is 4 A metal alkoxide represented by the following formula is preferably used: an integer of 0 to 2 and an integer of 0 to 1 when m is 3. Specific examples of such metal alkoxides include alkoxy titanium compounds such as tetramethoxy titanium, tetraethoxy titanium, tetrabutoxy titanium, tetraisopropoxy titanium, methyl triisopropoxy titanium; trimethoxy aluminum, triethoxy aluminum, triiso Examples include alkoxyaluminum compounds such as propoxyaluminum, methyldiisopropoxyaluminum, tributoxyaluminum, and diethoxyaluminum chloride; alkoxyzirconium compounds such as tetraethoxyzirconium, tetraisopropoxyzirconium, and methyltriisopropoxyzirconium.
ゾルゲル法により作製した高屈折率層の厚さは5〜60nm、特に10〜40nmであるのが好ましい。 The thickness of the high refractive index layer produced by the sol-gel method is preferably 5 to 60 nm, particularly 10 to 40 nm.
上述した屈折率調整層を作製するには、金属アルコキシド、金属アセチルアセトネート、又はこれらの加水分解物を含むゾル溶液を、熱線吸収層又はプラスチックフィルムなどの適当な支持体上に塗布し、塗布後のゾル溶液中に含まれる金属アルコキシドや金属アセチルアセトネートが加水分解反応及び重縮合反応により膨潤ゲルを形成した後、膨潤ゲルを加熱することにより乾燥ゲルを形成する方法が用いられる。 In order to produce the above-described refractive index adjusting layer, a sol solution containing a metal alkoxide, metal acetylacetonate, or a hydrolyzate thereof is applied onto a suitable support such as a heat ray absorbing layer or a plastic film, and applied. After the metal alkoxide or metal acetylacetonate contained in the later sol solution forms a swollen gel by hydrolysis reaction and polycondensation reaction, a method of forming a dry gel by heating the swollen gel is used.
ゾル溶液には必要に応じて、ゾルゲル反応を促進させるために、触媒を加えても良い。触媒としては、塩酸、硝酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、硫酸、リン酸、メタンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、及びシュウ酸などの酸触媒;N,N−ジメチルベンジルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミンなどの第3級アミン触媒が挙げられる。なかでも、酸触媒を用いるのが好ましい。酸触媒は、通常、ゾル溶液のpHが4〜7の範囲になるように、ゾル溶液に添加される。 If necessary, a catalyst may be added to the sol solution to promote the sol-gel reaction. Examples of the catalyst include acid catalysts such as hydrochloric acid, nitric acid, trichloroacetic acid, trifluoroacetic acid, sulfuric acid, phosphoric acid, methanesulfonic acid, paratoluenesulfonic acid, and oxalic acid; N, N-dimethylbenzylamine, tripropylamine, tripropylamine, Tertiary amine catalysts such as butylamine and tripentylamine are listed. Among these, it is preferable to use an acid catalyst. The acid catalyst is usually added to the sol solution so that the pH of the sol solution is in the range of 4-7.
ゾル溶液は、水、有機溶剤を含む。有機溶剤としては、メタノール、エタノールなどのアルコール;アセトン、トルエン、キシレン、テトラヒドロフランなどが好ましく用いられる。 The sol solution contains water and an organic solvent. As the organic solvent, alcohols such as methanol and ethanol; acetone, toluene, xylene, tetrahydrofuran and the like are preferably used.
ゾル溶液を熱線吸収層などの適当な支持体上に塗布するには、バーコーター法、ロールコーター法、カーテンフロー法など適当な方法を用いて行うことができる。 In order to apply the sol solution onto an appropriate support such as a heat ray absorbing layer, an appropriate method such as a bar coater method, a roll coater method, or a curtain flow method can be used.
ゾル溶液の加水分解反応及び重縮合反応は、支持体上に塗布されたゾル溶液を、0〜95℃、特に70〜90℃の温度で、100分〜10日間、特に500分〜3日間放置することにより行うのが好ましい。その後、ゾル溶液を、100〜190℃、特に1500〜190℃で加熱することにより乾燥させる。加熱時間は、1〜5分間程度であればよい。 In the hydrolysis reaction and polycondensation reaction of the sol solution, the sol solution coated on the support is allowed to stand at a temperature of 0 to 95 ° C., particularly 70 to 90 ° C. for 100 minutes to 10 days, particularly 500 minutes to 3 days. It is preferable to do so. Thereafter, the sol solution is dried by heating at 100 to 190 ° C., particularly 1500 to 190 ° C. The heating time may be about 1 to 5 minutes.
なお、ゾルゲル法により低屈折率層及び高屈折率層を作製する場合、各ゾル溶液を1種ずつ塗工し加熱乾燥させてもよく、全てのゾル溶液を塗工した後にまとめて加熱乾燥させてもよい。上述した方法により、−M1−O−の繰り返し単位を主骨格とする縮合物からなる低屈折率層、−M2−O−の繰り返し単位を主骨格とする縮合物からなる高屈折率層が得られる。 In addition, when producing a low refractive index layer and a high refractive index layer by the sol-gel method, each sol solution may be applied one by one and dried by heating, or after all the sol solutions have been applied, they are heated and dried together. May be. By the method described above, a low refractive index layer comprising a condensate having a repeating unit of -M 1 -O- as the main skeleton, and a high refractive index layer comprising a condensate having the repeating unit of -M 2 -O- as the main skeleton. Is obtained.
なお、上述した合成樹脂を含む低屈折率層及び高屈折率層、ゾルゲル法により作製された低屈折率層及び高屈折率層は、それぞれ用途に応じて組み合わせて用いることができる。 In addition, the low refractive index layer and high refractive index layer containing the synthetic resin mentioned above, and the low refractive index layer and the high refractive index layer produced by the sol-gel method can be used in combination according to each application.
[熱線反射層]
本発明の熱線遮蔽ガラスに用いられる熱線反射層は、タングステン酸化物及び複合タングステン酸化物以外の金属酸化物からなる。
[Heat ray reflective layer]
The heat ray reflective layer used for the heat ray shielding glass of the present invention is made of a metal oxide other than tungsten oxide and composite tungsten oxide.
熱線反射層の屈折率は、1.5〜2.8、特に1.6〜2.4であるのが好ましい。このような屈折率を有する熱線反射層と、屈折率調整層とを使用することにより干渉縞の発生を高く抑制することができる。 The refractive index of the heat ray reflective layer is preferably 1.5 to 2.8, particularly 1.6 to 2.4. By using the heat ray reflective layer having such a refractive index and the refractive index adjusting layer, generation of interference fringes can be suppressed to a high level.
熱線反射層に用いられる金属酸化物としては、可視光を選択的に透過させ、熱線を選択的に反射することができるものが使用できる。金属酸化物として具体的には、酸化スズ、スズ含有酸化インジウム(ITO)、フッ素含有酸化スズ(FTO)、アンチモン含有酸化スズ(ATO)、酸化インジウム、アンチモン含有酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化マグネシウム、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化ランタン、酸化ネオジム、酸化イットリウムなどが挙げられる。なかでも、酸化スズ、フッ素含有酸化スズ、アンチモン含有酸化スズ、及びスズ含有酸化インジウムが好ましく挙げられる。これらの金属酸化物によれば、耐久性にすぐれる熱線反射層を形成することができる。また、金属酸化物は、一種単独で用いられてもよく、二種以上を併用することもできる。 As a metal oxide used for a heat ray reflective layer, what can selectively permeate | transmit visible light and can selectively reflect a heat ray can be used. Specific examples of the metal oxide include tin oxide, tin-containing indium oxide (ITO), fluorine-containing tin oxide (FTO), antimony-containing tin oxide (ATO), indium oxide, antimony-containing indium oxide, antimony oxide, magnesium oxide, Examples thereof include silicon oxide, titanium oxide, zirconium oxide, cerium oxide, aluminum oxide, lanthanum oxide, neodymium oxide, and yttrium oxide. Of these, tin oxide, fluorine-containing tin oxide, antimony-containing tin oxide, and tin-containing indium oxide are preferable. According to these metal oxides, a heat ray reflective layer having excellent durability can be formed. Moreover, a metal oxide may be used individually by 1 type, and can also use 2 or more types together.
熱線反射層の厚さは、50〜500nm、特に100〜400nmであるのが好ましい。このように薄い熱線反射層であっても、上述した熱線吸収層を用いることにより優れた熱線遮蔽性を有する熱線遮蔽ガラスを提供することが可能となる。 The thickness of the heat ray reflective layer is preferably 50 to 500 nm, particularly preferably 100 to 400 nm. Even with such a thin heat ray reflective layer, it is possible to provide a heat ray shielding glass having excellent heat ray shielding properties by using the heat ray absorbing layer described above.
熱線反射層を作製するには、物理蒸着法、化学蒸着法、溶射法およびメッキ法が挙げられる。物理蒸着法としては真空蒸着法、スパッタリングおよびイオンプレーティングが挙げられる。化学蒸着(CVD)法としては、熱CVD法、プラズマCVD法および光CVD法等がある。該方法によりダイヤモンドライクカーボン、TiN、CrNのような硬質被膜を形成することが可能である。また、溶射法としては大気圧プラズマ溶射法、および減圧プラズマ溶射法等がある。メッキ法としては、無電解メッキ(化学メッキ)法、溶融メッキおよび電気メッキ法等が挙げられ、電気メッキ法においてはレーザーメッキ法を用いることができる。 In order to produce the heat ray reflective layer, physical vapor deposition, chemical vapor deposition, thermal spraying, and plating may be used. Examples of physical vapor deposition include vacuum vapor deposition, sputtering, and ion plating. Examples of the chemical vapor deposition (CVD) method include a thermal CVD method, a plasma CVD method, and a photo CVD method. By this method, a hard coating such as diamond-like carbon, TiN, or CrN can be formed. Examples of the thermal spraying method include an atmospheric pressure plasma spraying method and a low pressure plasma spraying method. Examples of the plating method include an electroless plating (chemical plating) method, a hot dipping method, and an electroplating method. In the electroplating method, a laser plating method can be used.
[熱線吸収層]
熱線吸収層は、熱線吸収材として、タングステン酸化物及び/又は複合タングステン酸化物を含む。
[Heat ray absorbing layer]
The heat ray absorbing layer includes tungsten oxide and / or composite tungsten oxide as a heat ray absorbing material.
熱線吸収層の屈折率は、1.45〜1.65、特に1.50〜1.57であるのが好ましい。このような屈折率を有する熱線吸収層と、屈折率調整層とを使用することにより干渉縞の発生を高く抑制することができる。 The refractive index of the heat ray absorbing layer is preferably 1.45 to 1.65, particularly 1.50 to 1.57. By using the heat ray absorbing layer having such a refractive index and the refractive index adjusting layer, generation of interference fringes can be suppressed to a high level.
熱線吸収層に用いられる熱線吸収材は、可視光透過率を低下させることなく、優れた熱線吸収性を熱線遮蔽ガラスに付与することができる。したがって、このような熱線吸収材を含む熱線吸収層を用いることにより、金属酸化物を含む熱線反射層の厚さを非常に薄くすることができる。 The heat ray absorbing material used for the heat ray absorbing layer can impart excellent heat ray absorptivity to the heat ray shielding glass without reducing the visible light transmittance. Therefore, by using a heat ray absorbing layer containing such a heat ray absorbing material, the thickness of the heat ray reflecting layer containing a metal oxide can be made very thin.
タングステン酸化物は、一般式WyOz(但し、Wはタングステン、Oは酸素、2.2≦z/y≦2.999)で表される酸化物である。また、複合タングステン酸化物は、上記タングステン酸化物に、元素M(但し、Mは、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素)を添加した組成を有するものである。これにより、z/y=3.0の場合も含めて、WyOz中に自由電子が生成され、近赤外線領域に自由電子由来の吸収特性が発現し、1000nm付近の近赤外線吸収材料として有効となる。本発明では、複合タングステン酸化物が好ましい。 Tungsten oxide is an oxide represented by the general formula WyOz (where W is tungsten, O is oxygen, 2.2 ≦ z / y ≦ 2.999). In addition, the composite tungsten oxide is the same as the above tungsten oxide, except that the element M (where M is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co , Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br , Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, Be, Hf, Os, Bi, and I). As a result, free electrons are generated in WyOz, including the case of z / y = 3.0, and free electron-derived absorption characteristics are expressed in the near infrared region, which is effective as a near infrared absorbing material near 1000 nm. . In the present invention, composite tungsten oxide is preferable.
上述した一般式WyOz(但し、Wはタングステン、Oは酸素、2.2≦z/y≦2.999)で表記されるタングステン酸化物において、タングステンと酸素との好ましい組成範囲は、タングステンに対する酸素の組成比が3よりも少なく、さらには、当該熱線吸収材をWyOzと記載したとき、2.2≦z/y≦2.999である。このz/yの値が、2.2以上であれば、熱線吸収材中に目的以外であるWO2の結晶相が現れるのを回避することが出来るとともに、材料としての化学的安定性を得ることが出来るので有効な熱線吸収材として適用できる。一方、このz/yの値が、2.999以下であれば必要とされる量の自由電子が生成され効率よい熱線吸収材となり得る。 In the tungsten oxide represented by the general formula WyOz (W is tungsten, O is oxygen, 2.2 ≦ z / y ≦ 2.999), a preferable composition range of tungsten and oxygen is oxygen with respect to tungsten. When the heat ray absorbing material is described as WyOz, 2.2 ≦ z / y ≦ 2.999. If the value of z / y is 2.2 or more, it is possible to avoid the appearance of a WO 2 crystal phase other than the objective in the heat-absorbing material, and to obtain chemical stability as a material. Therefore, it can be applied as an effective heat ray absorbing material. On the other hand, if the value of z / y is 2.999 or less, a required amount of free electrons is generated and an efficient heat ray absorbing material can be obtained.
複合タングステン酸化物は、安定性の観点から、一般に、MxWyOz(但し、Mは、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、(0.001≦x/y≦1、2.2≦z/y≦3)で表される酸化物であることが好ましい。アルカリ金属は、水素を除く周期表第1族元素、アルカリ土類金属は周期表第2族元素、希土類元素は、Sc、Y及びランタノイド元素である。特に、熱線吸収材としての光学特性、耐候性を向上させる観点から、M元素が、Cs、Rb、K、Tl、In、Ba、Li、Ca、Sr、Fe、Snのうちの1種類以上であるものが好ましい。 From the viewpoint of stability, the composite tungsten oxide is generally MxWyOz (where M is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag, Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re, be, Hf, Os, Bi, 1 or more elements inner shell selected in I, W is tungsten, O is oxygen, (0.001 ≦ x / y ≦ 1, 2.2 ≦ z / y ≦ 3) An alkali metal is a group 1 element of the periodic table excluding hydrogen, and an alkaline earth metal is a group 2 of the periodic table. Elements, rare earth elements are Sc, Y and lanthanoid elements. From the viewpoint of improving optical characteristics and weather resistance as a line absorber, the M element is one or more of Cs, Rb, K, Tl, In, Ba, Li, Ca, Sr, Fe, and Sn. Is preferred.
また、複合タングステン酸化物は、シランカップリング剤で処理されていることが好ましい。優れた分散性、熱線吸収性、及び透明性が得られる。 The composite tungsten oxide is preferably treated with a silane coupling agent. Excellent dispersibility, heat ray absorptivity, and transparency can be obtained.
元素Mの添加量を示すx/yの値が0.001より大きければ、十分な量の自由電子が生成され熱線吸収効果を十分に得ることが出来る。元素Mの添加量が多いほど、自由電子の供給量が増加し、熱線吸収効果も上昇するが、x/yの値が1程度で飽和する。また、x/yの値が1より小さければ、熱線吸収層中に不純物相が生成されるのを回避できるので好ましい。 If the value of x / y indicating the addition amount of the element M is larger than 0.001, a sufficient amount of free electrons is generated, and a sufficient heat ray absorption effect can be obtained. As the amount of the element M added increases, the supply amount of free electrons increases and the heat ray absorption effect also increases. However, the value of x / y is saturated at about 1. Moreover, if the value of x / y is smaller than 1, it is preferable because an impurity phase can be prevented from being generated in the heat ray absorbing layer.
酸素量の制御を示すz/yの値については、MxWyOzで表記される複合タングステン酸化物においても、上述のWyOzで表記される熱線吸収材と同様の機構が働くことに加え、z/y=3.0においても、上述した元素Mの添加量による自由電子の供給があるため、2.2≦z/y≦3.0が好ましく、さらに好ましくは2.45≦z/y≦3.0である。 Regarding the value of z / y indicating the control of the oxygen amount, in the composite tungsten oxide represented by MxWyOz, in addition to the same mechanism as that of the heat ray absorbing material represented by WyOz described above, z / y = Even in 3.0, since there is a supply of free electrons due to the addition amount of the element M described above, 2.2 ≦ z / y ≦ 3.0 is preferable, and 2.45 ≦ z / y ≦ 3.0 is more preferable. It is.
さらに、複合タングステン酸化物が六方晶の結晶構造を有する場合、当該酸化物の可視光領域の透過が向上し、近赤外領域の吸収が向上する。 Further, when the composite tungsten oxide has a hexagonal crystal structure, transmission of the oxide in the visible light region is improved, and absorption in the near infrared region is improved.
この六角形の空隙に元素Mの陽イオンが添加されて存在するとき、可視光領域の透過が向上し、近赤外領域の吸収が向上する。ここで、一般的には、イオン半径の大きな元素Mを添加したとき当該六方晶が形成され、具体的には、Cs、K、Rb、Tl、In、Ba、Sn、Li、Ca、Sr、Feを添加したとき六方晶が形成されやすい。勿論これら以外の元素でも、WO6単位で形成される六角形の空隙に添加元素Mが存在すれば良く、上記元素に限定される訳ではない。 When the cation of the element M is added to the hexagonal void, the transmission in the visible light region is improved and the absorption in the near infrared region is improved. Here, generally, when the element M having a large ionic radius is added, the hexagonal crystal is formed. Specifically, Cs, K, Rb, Tl, In, Ba, Sn, Li, Ca, Sr, When Fe is added, hexagonal crystals are easily formed. Of course, other elements may be added as long as the additive element M is present in the hexagonal void formed by the WO 6 unit, and is not limited to the above elements.
六方晶の結晶構造を有する複合タングステン酸化物が均一な結晶構造を有するとき、添加元素Mの添加量は、x/yの値で0.2以上0.5以下が好ましく、更に好ましくは0.33である。x/yの値が0.33となることで、添加元素Mが、六角形の空隙の全てに配置されると考えられる。 When the composite tungsten oxide having a hexagonal crystal structure has a uniform crystal structure, the addition amount of the additive element M is preferably 0.2 or more and 0.5 or less in terms of x / y, more preferably 0.8. 33. When the value of x / y is 0.33, it is considered that the additive element M is arranged in all of the hexagonal voids.
また、六方晶以外では、正方晶、立方晶のタングステンブロンズも熱線吸収効果がある。そして、これらの結晶構造によって、近赤外線領域の吸収位置が変化する傾向があり、立方晶<正方晶<六方晶の順に、吸収位置が長波長側に移動する傾向がある。また、それに付随して可視光線領域の吸収が少ないのは、六方晶<正方晶<立方晶の順である。このため、より可視光領域の光を透過して、より赤外線領域の光を遮蔽する用途には、六方晶のタングステンブロンズを用いることが好ましい。 In addition to hexagonal crystals, tetragonal and cubic tungsten bronzes also have a heat ray absorbing effect. These crystal structures tend to change the absorption position in the near infrared region, and the absorption position tends to move to the longer wavelength side in the order of cubic <tetragonal <hexagonal. Further, the accompanying absorption in the visible light region is small in the order of hexagonal crystal <tetragonal crystal <cubic crystal. For this reason, it is preferable to use hexagonal tungsten bronze for applications that transmit light in the visible light region and shield light in the infrared region.
また、本発明の複合タングステン酸化物の表面が、Si、Ti、Zr、Alの一種類以上を含有する酸化物で被覆されていることは、耐候性の向上の観点から好ましい。 Moreover, it is preferable from the viewpoint of improving the weather resistance that the surface of the composite tungsten oxide of the present invention is coated with an oxide containing one or more of Si, Ti, Zr, and Al.
本発明の複合タングステン酸化物は、例えば下記のようにして製造される。 The composite tungsten oxide of the present invention is produced, for example, as follows.
上記一般式WyOzで表記されるタングステン酸化物、及び/又は、MxWyOzで表記される複合タングステン酸化物は、タングステン化合物出発原料を不活性ガス雰囲気もしくは還元性ガス雰囲気中で熱処理して得ることができる。 The tungsten oxide represented by the general formula WyOz and / or the composite tungsten oxide represented by MxWyOz can be obtained by heat-treating a tungsten compound starting material in an inert gas atmosphere or a reducing gas atmosphere. .
タングステン化合物の出発原料には、3酸化タングステン粉末、もしくは酸化タングステンの水和物、もしくは、6塩化タングステン粉末、もしくはタングステン酸アンモニウム粉末、もしくは、6塩化タングステンをアルコール中に溶解させた後乾燥して得られるタングステン酸化物の水和物粉末、もしくは、6塩化タングステンをアルコール中に溶解させたのち水を添加して沈殿させこれを乾燥して得られるタングステン酸化物の水和物粉末、もしくはタングステン酸アンモニウム水溶液を乾燥して得られるタングステン化合物粉末、金属タングステン粉末から選ばれたいずれか一種類以上であることが好ましい。 The starting material for the tungsten compound is tungsten trioxide powder, tungsten oxide hydrate, tungsten hexachloride powder, ammonium tungstate powder, or tungsten hexachloride dissolved in alcohol and then dried. Tungsten oxide hydrate powder obtained, or tungsten oxide hydrate powder obtained by dissolving tungsten hexachloride in alcohol and then adding water to precipitate it and drying it It is preferable that it is at least one selected from a tungsten compound powder obtained by drying an aqueous ammonium solution and a metal tungsten powder.
ここで、タングステン酸化物を製造する場合には製造工程の容易さの観点より、タングステン酸化物の水和物粉末、もしくはタングステン酸アンモニウム水溶液を乾燥して得られるタングステン化合物粉末、を用いることがさらに好ましく、複合タングステン酸化物を製造する場合には、出発原料が溶液であると各元素を容易に均一混合可能となる観点より、タングステン酸アンモニウム水溶液や、6塩化タングステン溶液を用いることがさらに好ましい。これら原料を用い、これを不活性ガス雰囲気もしくは還元性ガス雰囲気中で熱処理して、上述した粒径のタングステン酸化物、または/及び、複合タングステン酸化物を得ることができる。 Here, in the case of producing tungsten oxide, it is further preferable to use tungsten oxide hydrate powder or tungsten compound powder obtained by drying ammonium tungstate aqueous solution from the viewpoint of ease of production process. Preferably, when producing a composite tungsten oxide, it is more preferable to use an aqueous ammonium tungstate solution or a tungsten hexachloride solution from the viewpoint that each element can be easily and uniformly mixed when the starting material is a solution. By using these raw materials and heat-treating them in an inert gas atmosphere or a reducing gas atmosphere, tungsten oxide and / or composite tungsten oxide having the above-described particle diameter can be obtained.
また、上記元素Mを含む一般式MxWyOzで表される複合タングステン酸化物は、上述した一般式WyOzで表されるタングステン酸化物のタングステン化合物出発原料と同様であり、さらに元素Mを、元素単体または化合物の形で含有するタングステン化合物を出発原料とする。ここで、各成分が分子レベルで均一混合した出発原料を製造するためには各原料を溶液で混合することが好ましく、元素Mを含むタングステン化合物出発原料が、水や有機溶媒等の溶媒に溶解可能なものであることが好ましい。例えば、元素Mを含有するタングステン酸塩、塩化物塩、硝酸塩、硫酸塩、シュウ酸塩、酸化物、等が挙げられるが、これらに限定されず、溶液状になるものであれば好ましい。 The composite tungsten oxide represented by the general formula MxWyOz containing the element M is the same as the tungsten compound starting material of the tungsten oxide represented by the general formula WyOz described above. A tungsten compound contained in the form of a compound is used as a starting material. Here, in order to produce a starting material in which each component is uniformly mixed at the molecular level, it is preferable to mix each material with a solution, and the tungsten compound starting material containing the element M is dissolved in a solvent such as water or an organic solvent. Preferably it is possible. Examples thereof include tungstate, chloride, nitrate, sulfate, oxalate, oxide, and the like containing element M, but are not limited to these and are preferably in the form of a solution.
ここで、不活性雰囲気中における熱処理条件としては、650℃以上が好ましい。650℃以上で熱処理された出発原料は、十分な着色力を有し熱線吸収材として効率が良い。不活性ガスとしてはAr、N2等の不活性ガスを用いることが良い。また、還元性雰囲気中の熱処理条件としては、まず出発原料を還元性ガス雰囲気中にて100〜650℃で熱処理し、次いで不活性ガス雰囲気中で650〜1200℃の温度で熱処理することが良い。この時の還元性ガスは、特に限定されないがH2が好ましい。また還元性ガスとしてH2を用いる場合は、還元雰囲気の組成として、H2が体積比で0.1%以上が好ましく、さらに好ましくは2%以上が良い。0.1%以上であれば効率よく還元を進めることができる。 Here, the heat treatment condition in the inert atmosphere is preferably 650 ° C. or higher. The starting material heat-treated at 650 ° C. or higher has a sufficient coloring power and is efficient as a heat ray absorber. As the inert gas, an inert gas such as Ar or N 2 is preferably used. As the heat treatment conditions in the reducing atmosphere, first, the starting material is heat-treated at 100 to 650 ° C. in a reducing gas atmosphere, and then heat-treated at a temperature of 650 to 1200 ° C. in an inert gas atmosphere. . The reducing gas at this time is not particularly limited, but H 2 is preferable. When H 2 is used as the reducing gas, the volume ratio of H 2 is preferably 0.1% or more, more preferably 2% or more, as the composition of the reducing atmosphere. If it is 0.1% or more, the reduction can proceed efficiently.
水素で還元された原料粉末はマグネリ相を含み、良好な熱線吸収性を示し、この状態で熱線吸収材として使用可能である。しかし、酸化タングステン中に含まれる水素が不安定であるため、耐候性の面で応用が限定される可能性がある。そこで、この水素を含む酸化タングステン化合物を、不活性雰囲気中、650℃以上で熱処理することで、さらに安定な熱線吸収材を得ることができる。この650℃以上の熱処理時の雰囲気は特に限定されないが、工業的観点から、N2、Arが好ましい。当該650℃以上の熱処理により、熱線吸収材中にマグネリ相が得られ耐候性が向上する。 The raw material powder reduced with hydrogen contains a magnetic phase and exhibits good heat ray absorbability, and can be used as a heat ray absorbent in this state. However, since hydrogen contained in tungsten oxide is unstable, application may be limited in terms of weather resistance. Therefore, a more stable heat ray absorbing material can be obtained by heat-treating the tungsten oxide compound containing hydrogen at 650 ° C. or higher in an inert atmosphere. The atmosphere during the heat treatment at 650 ° C. or higher is not particularly limited, but N 2 and Ar are preferable from an industrial viewpoint. By the heat treatment at 650 ° C. or higher, a magnetic phase is obtained in the heat-absorbing material, and weather resistance is improved.
本発明の複合タングステン酸化物は、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等のカップリング剤で表面処理されていることが好ましい。シランカップリング剤が好ましい。これによりバインダ樹脂との親和性が良好となり、透明性、熱線吸収性の他、各種物性が向上する。 The composite tungsten oxide of the present invention is preferably surface-treated with a coupling agent such as a silane coupling agent, a titanate coupling agent, or an aluminum coupling agent. Silane coupling agents are preferred. Thereby, the affinity with the binder resin is improved, and various physical properties are improved in addition to transparency and heat ray absorbability.
シランカップリング剤の例として、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシアクリルシランを挙げることができる。ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、トリメトキシアクリルシランが好ましい。これらシランカップリング剤は、単独で使用しても、又は2種以上組み合わせて使用しても良い。また上記化合物の含有量は、複合タングステン酸化物100質量部に対して5〜20質量部で使用することが好ましい。 Examples of silane coupling agents include γ-chloropropylmethoxysilane, vinylethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxy. Silane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-β -(Aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and trimethoxyacrylsilane can be mentioned. Vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, and trimethoxyacrylsilane are preferred. These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more. Moreover, it is preferable to use content of the said compound at 5-20 mass parts with respect to 100 mass parts of composite tungsten oxides.
本発明で使用される熱線吸収材の平均粒子径は、透明性を保持する観点から、10〜800nm、特に10〜400nmであるのが好ましい。これは、800nmよりも小さい粒子は、散乱により光を完全に遮蔽することが無く、可視光線領域の視認性を保持し、同時に効率良く透明性を保持することができるからである。特に可視光領域の透明性を重視する場合は、さらに粒子による散乱を考慮することが好ましい。この粒子による散乱の低減を重視するとき、平均粒子径は20〜200nm、特に20〜100nmが好ましい。 The average particle diameter of the heat-absorbing material used in the present invention is preferably 10 to 800 nm, particularly 10 to 400 nm, from the viewpoint of maintaining transparency. This is because particles smaller than 800 nm do not completely block light due to scattering, can maintain visibility in the visible light region, and at the same time can efficiently maintain transparency. In particular, when importance is attached to transparency in the visible light region, it is preferable to further consider scattering by particles. When importance is attached to the reduction of scattering by the particles, the average particle size is preferably 20 to 200 nm, particularly preferably 20 to 100 nm.
なお、熱線吸収材の平均粒子径は、熱線吸収層の断面を透過型電子顕微鏡により倍率100万倍程度で観測し、少なくとも100個の熱線吸収材の投影面積円相当径を求め、その数平均値とする。 The average particle diameter of the heat-absorbing material is obtained by observing the cross section of the heat-absorbing layer with a transmission electron microscope at a magnification of about 1,000,000 times, obtaining the projected area equivalent circle diameter of at least 100 heat-ray absorbing materials, and averaging the number Value.
熱線吸収層における(複合)タングステン酸化物の含有量は、バインダ樹脂100質量部に対して、10〜500質量部、さらに20〜500質量部、特に30〜300質量部であるのが好ましい。 The content of the (composite) tungsten oxide in the heat ray absorbing layer is preferably 10 to 500 parts by mass, more preferably 20 to 500 parts by mass, and particularly preferably 30 to 300 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
熱線吸収層は、上述した熱線吸収材の他に、バインダ樹脂を含むのが好ましい。バインダ樹脂としては、エチレン酢酸ビニル共重合体(EVA)、ポリビニルブチラール(PVB)、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−(メタ)アクリレート共重合体などのエチレン系共重合体などの透明接着樹脂が好ましく用いられる。透明接着樹脂としては、EVAが特に好ましく用いられる。これらの透明接着樹脂を使用することにより、熱線吸収材を高分散させることができ、外観特性に優れる熱線遮蔽ガラスが得られる。 The heat ray absorbing layer preferably contains a binder resin in addition to the heat ray absorbing material described above. Binder resins include ethylene vinyl acetate copolymer (EVA), polyvinyl butyral (PVB), ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, ethylene- (meth) ethyl acrylate copolymer. Polymer, ethylene- (meth) acrylic acid methyl copolymer, metal ion crosslinked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, carboxylated ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene Transparent adhesive resins such as ethylene copolymers such as-(meth) acrylic-maleic anhydride copolymer and ethylene-vinyl acetate- (meth) acrylate copolymer are preferably used. As the transparent adhesive resin, EVA is particularly preferably used. By using these transparent adhesive resins, a heat ray absorbing material can be highly dispersed, and a heat ray shielding glass excellent in appearance characteristics can be obtained.
エチレン系共重合体を含む熱線吸収層は、有機過酸化物を含むのが好ましい。有機過酸化物により透明接着樹脂を架橋硬化させることにより、熱線吸収層と隣接する層や透明基材とを接合一体化することができる。有機過酸化物としては、100℃以上の温度で分解してラジカルを発生するものであれば、どのようなものでも併用することもできる。有機過酸化物は、一般に、成膜温度、組成物の調整条件、硬化(貼り合わせ)温度、被着体の耐熱性、貯蔵安定性を考慮して選択される。特に、半減期10時間の分解温度が70℃以上のものが好ましい。 The heat ray absorbing layer containing an ethylene copolymer preferably contains an organic peroxide. By cross-linking and curing the transparent adhesive resin with an organic peroxide, the heat ray absorbing layer and the adjacent layer or transparent substrate can be joined and integrated. Any organic peroxide may be used in combination as long as it decomposes at a temperature of 100 ° C. or higher and generates radicals. The organic peroxide is generally selected in consideration of the film formation temperature, the adjustment conditions of the composition, the curing (bonding) temperature, the heat resistance of the adherend, and the storage stability. In particular, the one having a decomposition temperature of 70 ° C. or more with a half-life of 10 hours is preferable.
この有機過酸化物の例としては、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン−3−ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、ジクミルパーオキサイド、α,α’−ビス(t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレレート、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、t−ブチルパーオキシベンゾエート、ベンゾイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシアセテート、メチルエチルケトンパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキシル−2,5−ビスパーオキシベンゾエート、ブチルハイドロパーオキサイド、p−メンタンハイドロパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパーオキサイド、ヒドロキシヘプチルパーオキサイド、クロロヘキサノンパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、クミルパーオキシオクトエート、コハク酸パーオキサイド、アセチルパーオキサイド、m−トルオイルパーオキサイド、t−ブチルパーオキシイソブチレーオ及び2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイドを挙げることができる。 Examples of this organic peroxide include 2,5-dimethylhexane-2,5-dihydroperoxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane-3-di- t-butyl peroxide, t-butylcumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, dicumyl peroxide, α, α′-bis (t-butylperoxy) Isopropyl) benzene, n-butyl-4,4-bis (t-butylperoxy) valerate, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, 1,1-bis (t-butylperoxy) -3 , 3,5-trimethylcyclohexane, t-butyl peroxybenzoate, benzoyl peroxide, t-butyl peroxyacetate, methyl ethyl ketone pero Oxide, 2,5-dimethylhexyl-2,5-bisperoxybenzoate, butyl hydroperoxide, p-menthane hydroperoxide, p-chlorobenzoyl peroxide, hydroxyheptyl peroxide, chlorohexanone peroxide, octanoyl peroxide Oxide, decanoyl peroxide, lauroyl peroxide, cumyl peroxy octoate, succinic acid peroxide, acetyl peroxide, m-toluoyl peroxide, t-butyl peroxy isobutylene and 2,4-dichlorobenzoyl peroxide Can be mentioned.
エチレン系共重合体を含有する熱線吸収層は、架橋助剤を含有するのが好ましい。架橋助剤としては、グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等に複数のアクリル酸あるいはメタクリル酸をエステル化したエステル、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレートなどの多官能化合物を挙げることができる。 The heat ray absorbing layer containing the ethylene copolymer preferably contains a crosslinking aid. Examples of the crosslinking aid include polyfunctional compounds such as esters obtained by esterifying a plurality of acrylic acid or methacrylic acid with glycerin, trimethylolpropane, pentaerythritol, and the like, triallyl cyanurate, and triallyl isocyanurate.
エチレン系共重合体を含有する熱線吸収層は、接着性をさらに高めるために、接着向上剤として、シランカップリング剤を含んでいてもよい。このシランカップリング剤の例として、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−β−(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメトキシシランを挙げることができる。これらシランカップリング剤は、単独で使用しても、又は2種以上組み合わせて使用しても良い。また上記化合物の含有量は、エチレン系共重合体100質量部に対して5質量部以下であることが好ましい。 The heat ray absorbing layer containing an ethylene-based copolymer may contain a silane coupling agent as an adhesion improver in order to further improve the adhesion. Examples of this silane coupling agent include γ-chloropropylmethoxysilane, vinylethoxysilane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-glycidoxypropyltri Methoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N- Mention may be made of β- (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane. These silane coupling agents may be used alone or in combination of two or more. Moreover, it is preferable that content of the said compound is 5 mass parts or less with respect to 100 mass parts of ethylene-type copolymers.
エチレン系共重合体を含有する熱線吸収層は、種々の物性(機械的強度、接着性、透明性等の光学的特性、耐熱性、耐光性、架橋速度等)の改良あるいは調整、特に機械的強度の改良のため、アクリロキシ基含有化合物、メタクリロキシ基含有化合物、エポキシ基含有化合物、可塑剤、紫外線吸収剤を含んでいることが好ましい。 Heat ray absorbing layer containing ethylene copolymer improves or adjusts various physical properties (optical properties such as mechanical strength, adhesiveness, transparency, heat resistance, light resistance, crosslinking speed, etc.), especially mechanical In order to improve the strength, it is preferable to include an acryloxy group-containing compound, a methacryloxy group-containing compound, an epoxy group-containing compound, a plasticizer, and an ultraviolet absorber.
エチレン系共重合体を含有する熱線吸収層の厚さは、100μm〜1000mm、特に300〜900μmとするのが好ましい。これにより、優れた接着性及び熱線吸収性を有する熱線吸収層が得られる。 The thickness of the heat ray absorbing layer containing the ethylene copolymer is preferably 100 μm to 1000 mm, particularly preferably 300 to 900 μm. Thereby, the heat ray absorption layer which has the outstanding adhesiveness and heat ray absorptivity is obtained.
エチレン系共重合体を含有する熱線吸収層を作製するには、例えば、熱線吸収材、エチレン系共重合体及び有機過酸化物などを含む組成物を、通常の押出成形、カレンダ成形(カレンダリング)等により成形して層状物を得る方法などを用いることができる。組成物の混合は、40〜90℃、特に60〜80℃の温度で加熱混練することにより行うのが好ましい。また、製膜時の加熱温度は、架橋剤が反応しない或いはほとんど反応しない温度とすることが好ましい。例えば、40〜90℃、特に50〜80℃とするのが好ましい。 In order to produce a heat ray absorbing layer containing an ethylene copolymer, for example, a composition containing a heat ray absorbing material, an ethylene copolymer and an organic peroxide, and the like are subjected to normal extrusion molding, calendar molding (calendering). ) And the like to obtain a layered product. The composition is preferably mixed by heating and kneading at a temperature of 40 to 90 ° C, particularly 60 to 80 ° C. The heating temperature during film formation is preferably a temperature at which the crosslinking agent does not react or hardly reacts. For example, it is preferable to set it as 40-90 degreeC, especially 50-80 degreeC.
またEVAなどのエチレン系共重合体を用いることにより、粘着性を有する熱線吸収層が得られ、他に接着樹脂層などを使用せずに熱線吸収層のみで他の層と接着することができる。したがって、透明接着樹脂を含む熱線吸収層を含む熱線遮蔽ガラス100は、図1に示すように、透明基材110、熱線吸収層120、屈折率調整層130、及び熱線反射層140が、この順で積層された構造を有する。
Also, by using an ethylene copolymer such as EVA, a heat-absorbing layer having tackiness can be obtained, and it can be adhered to other layers only with the heat-absorbing layer without using an adhesive resin layer or the like. . Therefore, as shown in FIG. 1, the heat
エチレン系共重合体を含有する層を用いて熱線遮蔽ガラスを作製する場合、熱線遮蔽ガラスに用いられる各層を積層した後、得られた積層体を加熱加圧することにより、透明接着樹脂を含有する層を架橋硬化させるのが好ましい。これにより透明接着樹脂を含有する層と隣接する層とを接合一体化することができる。 When producing a heat ray shielding glass using a layer containing an ethylene copolymer, after laminating each layer used for the heat ray shielding glass, the resulting laminate is heated and pressurized to contain a transparent adhesive resin. It is preferred to crosslink and cure the layer. Thereby, the layer containing transparent adhesive resin and the adjacent layer can be joined and integrated.
熱線吸収層に含まれる他のバインダ樹脂としては、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、オレフィン樹脂、及びアクリル樹脂などの透明合成樹脂が用いられる。これらは一種単独で用いられてもよく、二種以上を併用してもよい。バインダ樹脂としてこれらの透明合成樹脂を用いた場合、熱線吸収層は、熱線吸収材及び透明合成樹脂を含む樹脂組成物の硬化層であるのが好ましい。 As other binder resin contained in the heat ray absorbing layer, transparent synthetic resins such as fluororesin, silicone resin, olefin resin, and acrylic resin are used. These may be used alone or in combination of two or more. When these transparent synthetic resins are used as the binder resin, the heat ray absorbing layer is preferably a cured layer of a resin composition containing a heat ray absorbing material and a transparent synthetic resin.
フッ素樹脂の例としては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体(FEP)、テトラフルオロエチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)、ポリビニリデンフルオライド(PVDF)、ポリクロロトリフルオロエチレン(PCTFE)、テトラフルオロエチレン・エチレン共重合体(ETFE)、フルオロエチレンビニルエーテル(FEVE)及びエチレンクロロトリフルオロエチレン共重合体(ECTFE)、下記構造: Examples of fluororesins include polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene / hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), and polyvinylidene fluoride (PVDF). ), Polychlorotrifluoroethylene (PCTFE), tetrafluoroethylene-ethylene copolymer (ETFE), fluoroethylene vinyl ether (FEVE) and ethylene chlorotrifluoroethylene copolymer (ECTFE), the following structure:
(n=10〜1000)
を有する重合体Aを挙げることができる。これらの中で、上記重合体A、フルオロエチレンビニルエーテル(FEVE)が好ましい。これらの(共)重合体は、さらに官能基(例、アルコキシシリル基、ヒドロキシル基、アミノ基、イミノ基、(メタ)アクリロイロキシ基、エポキシ基、カルボキシル基、スルホニル基、アクリレート型イソシアヌレート基、硫酸塩基)を有していても良い。市販されているフッ素樹脂の好ましい例としては、ルミフロン(登録商標、旭硝子(株)製)、サイトップ(登録商標、旭硝子(株)製)、ゼッフル(登録商標、ダイキン化学(株)製)、オプツール(登録商標、ダイキン化学(株)製)を挙げることができる。
(N = 10 to 1000)
The polymer A which has this can be mentioned. Among these, the polymer A and fluoroethylene vinyl ether (FEVE) are preferable. These (co) polymers further have functional groups (eg, alkoxysilyl groups, hydroxyl groups, amino groups, imino groups, (meth) acryloyloxy groups, epoxy groups, carboxyl groups, sulfonyl groups, acrylate type isocyanurate groups, sulfuric acid groups. Base). Preferable examples of commercially available fluororesins include Lumiflon (registered trademark, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Cytop (registered trademark, manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.), Zaffle (registered trademark, manufactured by Daikin Chemical Co., Ltd.), And OPTOOL (registered trademark, manufactured by Daikin Chemical Co., Ltd.).
シリコーン樹脂の例としては、ストレートシリコーンワニス及び変性シリコーンワニスを挙げることができる。ストレートシリコーンワニスは、通常、フェニルトリクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシランの加水分解重合により製造される(使用時は、一般に塗布後、100℃以上で硬化される)。変性シリコーンワニスは、シリコーンワニスにアルキド、ポリエステル、アクリル、エポキシ等の樹脂を反応させたものである。市販されているシリコーン樹脂の好ましい例としては、シリコーンワニスKRシリーズ(信越化学(株)製)を挙げることができる。 Examples of silicone resins include straight silicone varnish and modified silicone varnish. Straight silicone varnish is usually produced by hydrolysis polymerization of phenyltrichlorosilane, diphenyldichlorosilane, methyltrichlorosilane, and dimethyldichlorosilane (when used, it is generally cured at 100 ° C. or higher after application). The modified silicone varnish is obtained by reacting a silicone varnish with a resin such as alkyd, polyester, acrylic, or epoxy. Preferable examples of commercially available silicone resins include silicone varnish KR series (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.).
オレフィン樹脂のモノマーとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、塩素化ポリエチレン等を挙げることができる。 Examples of the olefin resin monomer include polyethylene, polypropylene, and chlorinated polyethylene.
アクリル樹脂のモノマーとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、ヘキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート;ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート等のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、;フェノキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート等のフェノキシアルキル(メタ)アクリレート;2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−エトキシエチル(メタ)アクリレート、2−プロポキシエチル(メタ)アクリレート、2−ブトキシエチル(メタ)アクリレート、2−メトキシブチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキル(メタ)アクリレート;ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレート等のポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート;ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、グリセリンジ(メタ)アクリレート等を挙げることができる。アクリル樹脂は、これらのモノマーの単独重合体又は2種以上の共重合体、前記モノマーと他の共重合性単量体との共重合体を挙げることができる。 Examples of acrylic resin monomers include methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, and t-butyl (meth) acrylate. , Pentyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (Meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylic , Alkyl (meth) acrylates such as stearyl (meth) acrylate and isostearyl (meth) acrylate; hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3- Hydroxyalkyl (meth) acrylates such as hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 3-hydroxybutyl (meth) acrylate; phenoxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl ( Phenoxyalkyl (meth) acrylates such as (meth) acrylate; 2-methoxyethyl (meth) acrylate, 2-ethoxyethyl (meth) acrylate, 2-propoxyethyl (meth) acrylate, -Alkoxyalkyl (meth) acrylates such as butoxyethyl (meth) acrylate and 2-methoxybutyl (meth) acrylate; polyethylene glycol mono (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, phenoxypolyethylene Polyglycol (meth) acrylate, nonylphenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, ethoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, nonylphenoxypolypropylene glycol (meth) acrylate, etc. Alkylene glycol (meth) acrylate; Pentaerythri Examples include tall tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, and glycerin di (meth) acrylate. Examples of the acrylic resin include homopolymers of these monomers, copolymers of two or more kinds, and copolymers of the monomers and other copolymerizable monomers.
熱線吸収材及び透明合成樹脂を含む熱線吸収層は、熱線吸収材、透明合成樹脂、及び必要に応じて有機溶剤を含む樹脂組成物の硬化層である。熱線吸収層を作製するには、例えば、樹脂組成物をプラスチックフィルム上に塗布し、単に乾燥させる方法などが用いられる。この時、樹脂組成物は、ポリイソシアネート化合物などの硬化剤をさらに含んでいてもよい。 The heat ray absorbing layer containing the heat ray absorbing material and the transparent synthetic resin is a cured layer of a resin composition containing the heat ray absorbing material, the transparent synthetic resin, and, if necessary, an organic solvent. In order to produce the heat ray absorbing layer, for example, a method in which the resin composition is applied onto a plastic film and simply dried is used. At this time, the resin composition may further contain a curing agent such as a polyisocyanate compound.
また、熱線吸収層を形成するために用いられる、熱線吸収材及び透明合成樹脂を含む樹脂組成物は、熱硬化性、又は光(一般に紫外線)硬化性の樹脂組成物でああってもよい。したがって、樹脂組成物は、熱重合開始剤、光重合開始剤をさらに含んでいてもよい。なかでも、光重合開始剤を含むのが特に好ましい。 The resin composition containing the heat ray absorbing material and the transparent synthetic resin used for forming the heat ray absorbing layer may be a thermosetting or light (generally ultraviolet ray) curable resin composition. Therefore, the resin composition may further contain a thermal polymerization initiator and a photopolymerization initiator. Among these, it is particularly preferable to include a photopolymerization initiator.
光重合開始剤の具体的な例は、上述した屈折率調整層に用いられるものと同じものが好ましく挙げられる。光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して一般に0.1〜10質量%、好ましくは0.1〜5質量%である。また、樹脂組成物が光硬化性である場合、樹脂組成物は重合性モノマー、オリゴマーをさらに含んでいてもよい。重合性モノマー、オリゴマーとしては、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。 Specific examples of the photopolymerization initiator are preferably the same as those used for the above-described refractive index adjustment layer. Generally the quantity of a photoinitiator is 0.1-10 mass% with respect to a resin composition, Preferably it is 0.1-5 mass%. When the resin composition is photocurable, the resin composition may further contain a polymerizable monomer or oligomer. As the polymerizable monomer or oligomer, it is preferable to mainly use a hard polyfunctional monomer such as pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate or the like.
フッ素樹脂などの透明合成樹脂を含有する熱線吸収層の厚さは、0.5〜30μm、特に1〜15μmとするのが好ましい。これにより、優れた接着性及び熱線遮蔽性を有する熱線吸収層が得られる。 The thickness of the heat ray absorbing layer containing a transparent synthetic resin such as a fluororesin is preferably 0.5 to 30 μm, particularly 1 to 15 μm. Thereby, the heat ray absorption layer which has the outstanding adhesiveness and heat ray shielding property is obtained.
また、フッ素樹脂などの透明合成樹脂を用いた場合、製造が容易となり、取扱性にも優れることから、熱線吸収層をプラスチックフィルム上に形成するのが好ましい。プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンアフタレート(PEN)フィルム、ポリエチレンブチレートフィルムを挙げることができ、PETフィルムが好ましい。プラスチックフィルムの厚さは、10〜400μm、特に20〜200μmであるのが好ましい。また、プラスチックフィルム表面には、接着性を向上させるために、予めコロナ処理、プラズマ処理、火炎処理、プライマー層コート処理などの接着処理を施してもよい。 Moreover, when transparent synthetic resins, such as a fluororesin, are used, manufacture becomes easy and it is excellent also in handleability, Therefore It is preferable to form a heat ray absorption layer on a plastic film. Examples of the plastic film include a polyethylene terephthalate (PET) film, a polyethylene aphthalate (PEN) film, and a polyethylene butyrate film, and a PET film is preferred. The thickness of the plastic film is preferably 10 to 400 μm, particularly 20 to 200 μm. Further, in order to improve the adhesiveness, the plastic film surface may be subjected in advance to an adhesion treatment such as a corona treatment, a plasma treatment, a flame treatment, and a primer layer coating treatment.
透明合成樹脂を含む熱線吸収層を作製する場合、透明合成樹脂、熱線吸収材、及び有機溶剤などを含む組成物を、プラスチックフィルム又は透明基材など所定の基材上に塗布し、乾燥させた後、必要に応じて加熱、又は紫外線、X線、γ線、電子線などの光照射により硬化させる方法が好ましく用いられる。乾燥は、プラスチックフィルム上に塗布した樹脂組成物を60〜150℃、特に70〜110℃で加熱することにより行うのが好ましい。乾燥時間は1〜10分間程度でよい。光照射は、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線を照射して行うことができる。 When preparing a heat ray absorbing layer containing a transparent synthetic resin, a composition containing a transparent synthetic resin, a heat ray absorbing material, and an organic solvent was applied onto a predetermined substrate such as a plastic film or a transparent substrate and dried. Thereafter, a method of curing by heating or irradiation with light such as ultraviolet rays, X-rays, γ rays, and electron beams is preferably used as necessary. Drying is preferably performed by heating the resin composition coated on the plastic film at 60 to 150 ° C, particularly 70 to 110 ° C. The drying time may be about 1 to 10 minutes. The light irradiation can be performed by irradiating ultraviolet rays emitted from light rays such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, a metal halide lamp.
熱線吸収層は、(複合)タングステン酸化物以外に、必要により色素を含んでいてもよい。色素としては、一般に800〜1200nmの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又、フタロシアニン系色素、ジイモニウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。 The heat ray absorbing layer may contain a dye if necessary in addition to the (composite) tungsten oxide. The dye generally has an absorption maximum at a wavelength of 800 to 1200 nm. Examples include phthalocyanine dyes, metal complex dyes, nickel dithiolene complex dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, polymethine dyes, Examples include azomethine dyes, azo dyes, polyazo dyes, diimonium dyes, aminium dyes, and anthraquinone dyes, and cyanine dyes, phthalocyanine dyes, and diimonium dyes are particularly preferable. These dyes can be used alone or in combination.
熱線吸収層は、上記色素をバインダ樹脂100質量部に対して、0.1〜20質量部、さらに1〜20質量部、特に1〜10質量部含有することが好ましい。 The heat ray absorbing layer preferably contains 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 1 to 20 parts by mass, and particularly preferably 1 to 10 parts by mass of the above dye with respect to 100 parts by mass of the binder resin.
本発明では、熱線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、熱線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。 In the present invention, the heat ray absorbing layer may be provided with a function of adjusting color tone by imparting a neon light emission absorbing function. For this purpose, the heat ray absorbing layer may contain a neon-emitting selective absorption dye.
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、585nm付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が575〜595nmであり、吸収スペクトル半値幅が40nm以下であるものが好ましい。 Neon-emitting selective absorption dyes include cyanine dyes, squarylium dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, polymethine dyes, polyazo dyes, azurenium dyes, diphenylmethane dyes, and triphenylmethane dyes. it can. Such a selective absorption dye is required to have a selective absorption of neon emission near 585 nm and a small absorption at other visible light wavelengths, so that the absorption maximum wavelength is 575 to 595 nm and the absorption spectrum half width is What is 40 nm or less is preferable.
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、熱線吸収層には、着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等をさらに加えても良い。 Further, as long as the optical properties are not greatly affected, coloring dyes, ultraviolet absorbers, antioxidants and the like may be further added to the heat ray absorbing layer.
[接着樹脂層]
本発明の熱線遮蔽ガラスは、各層間の接着性を向上させるために接着樹脂層を有していてもよい。特にプラスチックフィルム上に形成された熱線吸収層を用いた場合には、プラスチックフィルムと、これに隣接する層又は透明基材との間に接着樹脂層が用いられるのが特に好ましい。
[Adhesive resin layer]
The heat ray shielding glass of the present invention may have an adhesive resin layer in order to improve the adhesion between the layers. In particular, when a heat ray absorbing layer formed on a plastic film is used, it is particularly preferable that an adhesive resin layer is used between the plastic film and a layer adjacent to the plastic film or a transparent substrate.
例えば、プラスチックフィルム260上に形成された熱線吸収層220を用いた熱線遮蔽ガラス200は、図2に示すように、透明基材210、接着樹脂層250、プラスチックフィルム260、前記熱線吸収層220、前記屈折率調整層230、及び前記熱線反射層240が、この順で積層された構造を有する。
For example, the heat
接着樹脂層には、エチレン−酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸エチル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−(メタ)アクリル酸共重合体、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−(メタ)アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−(メタ)アクリレート共重合体などのエチレン系共重合体を使用することができる(なお、「(メタ)アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。)。その他、接着樹脂層には、ポリビニルブチラール(PVB)樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、SEBS及びSBS等の熱可塑性エラストマー等も用いることができる。なかでも、優れた接着性を有することから接着樹脂層には、EVAを用いるのが好ましい。 For the adhesive resin layer, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA), ethylene-methyl acrylate copolymer, ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, ethylene- (meth) ethyl acrylate copolymer, ethylene -(Meth) methyl acrylate copolymer, metal ion crosslinked ethylene- (meth) acrylic acid copolymer, partially saponified ethylene-vinyl acetate copolymer, carboxylated ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene- (meth) Ethylene-based copolymers such as acrylic-maleic anhydride copolymer and ethylene-vinyl acetate- (meth) acrylate copolymer can be used ("(meth) acryl" means "acryl or methacryl" Show.) In addition, for the adhesive resin layer, polyvinyl butyral (PVB) resin, epoxy resin, phenol resin, silicon resin, polyester resin, urethane resin, rubber-based adhesive, thermoplastic elastomer such as SEBS and SBS, and the like can also be used. Especially, it is preferable to use EVA for the adhesive resin layer because it has excellent adhesiveness.
接着樹脂層に用いられるEVAは、酢酸ビニル含有率が、EVA100質量部に対して、23〜38質量部であり、特に23〜28質量部であることが好ましい。これにより接着性及び透明性に優れる接着樹脂層を得ることができる。またEVAのメルト・フロー・インデックス(MFR)が、4.0〜30.0g/10分、特に8.0〜18.0g/10分であることが好ましい。予備圧着が容易になる。 EVA used for the adhesive resin layer has a vinyl acetate content of 23 to 38 parts by mass, particularly preferably 23 to 28 parts by mass with respect to 100 parts by mass of EVA. Thereby, the adhesive resin layer excellent in adhesiveness and transparency can be obtained. Moreover, it is preferable that the melt flow index (MFR) of EVA is 4.0-30.0 g / 10min, especially 8.0-18.0g / 10min. Pre-crimping becomes easy.
接着樹脂層は、EVAの他に、有機過酸化物を含むのが好ましい。これによりEVAを架橋させて、接着樹脂層と他の層とを接合一体化することができる。また、接着樹脂層は、さらに架橋助剤、シランカップリング剤を含むのが好ましい。これらの有機過酸化物、架橋助剤、シランカップリング剤の具体的な例は、熱線吸収層において上述したのと同様であるため、ここでは詳細な説明を省略する。 The adhesive resin layer preferably contains an organic peroxide in addition to EVA. Thereby, EVA can be bridge | crosslinked and an adhesive resin layer and another layer can be joined and integrated. The adhesive resin layer preferably further contains a crosslinking aid and a silane coupling agent. Specific examples of these organic peroxides, crosslinking aids, and silane coupling agents are the same as those described above in the heat ray absorbing layer, and thus detailed description thereof is omitted here.
接着樹脂層は、種々の物性(機械的強度、接着性、透明性等の光学的特性、耐熱性、耐光性、架橋速度等)の改良あるいは調整、特に機械的強度の改良のため、アクリロキシ基含有化合物、メタクリロキシ基含有化合物、エポキシ基含有化合物、可塑剤、紫外線吸収剤を含んでいることが好ましい。 The adhesive resin layer has an acryloxy group for improving or adjusting various physical properties (optical properties such as mechanical strength, adhesiveness and transparency, heat resistance, light resistance, crosslinking speed, etc.), especially for improving mechanical strength. It preferably contains a containing compound, a methacryloxy group-containing compound, an epoxy group-containing compound, a plasticizer, and an ultraviolet absorber.
接着樹脂層の厚さは、100〜2000μm、特に400〜1000μmであるのが好ましい。 The thickness of the adhesive resin layer is preferably 100 to 2000 μm, particularly 400 to 1000 μm.
EVAを含有する接着樹脂層を作製するには、熱線吸収層において上述したのと同様の方法が用いられるため、ここでは詳細な説明を省略する。 In order to produce an adhesive resin layer containing EVA, the same method as described above in the heat ray absorbing layer is used, and thus detailed description thereof is omitted here.
[透明基材]
本発明の熱線遮蔽ガラスに用いられる透明基材としては、例えば、グリーンガラス、珪酸塩ガラス、無機ガラス板、無着色透明ガラス板などのガラス板の他、プラスチックフィルムを用いてもよい。前記プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム、ポリエチレンアフタレート(PEN)フィルム、ポリエチレンブチレートフィルムを挙げることができる。透明基板の厚さは、1〜20mm程度が一般的である。
[Transparent substrate]
As a transparent base material used for the heat ray shielding glass of the present invention, for example, a plastic film may be used in addition to a glass plate such as green glass, silicate glass, inorganic glass plate, and non-colored transparent glass plate. Examples of the plastic film include a polyethylene terephthalate (PET) film, a polyethylene aphthalate (PEN) film, and a polyethylene butyrate film. The thickness of the transparent substrate is generally about 1 to 20 mm.
なお、本発明において、熱線遮蔽ガラスにおける「ガラス」とは透明基板全般を意味するものである。したがって、熱線遮蔽ガラスとは、熱線遮蔽性が付与された透明基板を意味する。 In the present invention, “glass” in the heat ray shielding glass means the whole transparent substrate. Accordingly, the heat ray shielding glass means a transparent substrate provided with heat ray shielding properties.
本発明の熱線遮蔽ガラスは、基本構成として、透明基材、タングステン酸化物及び/又は複合タングステン酸化物を含む熱線吸収層、金属酸化物を含む熱線反射層、及び屈折率が1.3〜2.8である屈折率調整層を有する。熱線遮蔽ガラスを複層ガラスに用いた際に熱線遮蔽性の耐久性を向上させるために、熱線反射層は最上層として配置されるのが好ましい。より好ましくは、透明基材上に、熱線吸収層、屈折率調整層、及び熱線反射層がこの順で配置される。特に好ましくは、透明基材上に、熱線吸収層、高屈折率層、低屈折率層、及び熱線反射層がこの順で配置される。各層間には目的に応じて他の層が配置されてもよく、図1及び2に示される構造を有する熱線遮蔽性ガラスを使用するのが特に好ましい。 The heat ray shielding glass of the present invention has a transparent base material, a heat ray absorbing layer containing tungsten oxide and / or a composite tungsten oxide, a heat ray reflecting layer containing a metal oxide, and a refractive index of 1.3 to 2 as basic components. .8 having a refractive index adjustment layer. In order to improve the durability of the heat ray shielding property when the heat ray shielding glass is used for the multi-layer glass, the heat ray reflective layer is preferably arranged as the uppermost layer. More preferably, the heat ray absorbing layer, the refractive index adjusting layer, and the heat ray reflecting layer are arranged in this order on the transparent substrate. Particularly preferably, the heat ray absorbing layer, the high refractive index layer, the low refractive index layer, and the heat ray reflective layer are arranged in this order on the transparent substrate. Other layers may be arranged between the layers depending on the purpose, and it is particularly preferable to use heat ray-shielding glass having the structure shown in FIGS.
図1に示す熱線遮蔽ガラス100を作製するには、透明基材110上に、EVAなどの透明接着樹脂及び(複合)タングステン酸化物を含む熱線吸収層120、高屈折率層131、低屈折率層132、及び熱線反射層140を積層し、これにより得られた積層体を加熱加圧することにより、熱線吸収層120を架橋硬化させるのが好ましい。これにより、透明基材110、熱線吸収層120、及び熱線反射層130を接合一体化することができる。
In order to produce the heat
図2に示す熱線遮蔽ガラス200を作製するには、まず、アクリル樹脂などの透明合成樹脂及び(複合)タングステン酸化物を含む熱線吸収層220をプラスチックフィルム260上に作製した後、熱線吸収層220上に、高屈折率層231、低屈折率層232、及び熱線反射層240を作製する。次に、EVAなどの接着樹脂を含む接着樹脂層250を作製する。そして、透明基材210上に、接着樹脂層250、プラスチックフィルム250上に形成した熱線吸収層220、高屈折率層231、低屈折率層232、及び熱線反射層240をこの順で積層する。このようにして得られた積層体を、加熱加圧することにより、接着樹脂層250を架橋硬化させるのが好ましい。これにより、各層が接合一体化された熱線遮蔽ガラス200を得ることができる。
In order to produce the heat
各積層体を加熱加圧するには、積層体を40〜200℃で1〜120分間、特に60〜150℃で1〜20分間、1.0×103Pa〜5.0×107Paの圧力で加圧しながら行うのが好ましい。 In order to heat and press each laminated body, the laminated body is 1 to 120 minutes at 40 to 200 ° C., particularly 1 to 20 minutes at 60 to 150 ° C., 1.0 × 10 3 Pa to 5.0 × 10 7 Pa. It is preferable to carry out while applying pressure.
[複層ガラス]
本発明の熱線遮蔽ガラスは、複層ガラスに用いられるのが好ましい。上述した通り、本発明の熱線遮蔽ガラスは、優れた熱線遮蔽性を長期間に亘って維持することができる。したがって、このような熱線遮蔽ガラスを用いた複層ガラスは、優れた熱線遮蔽性を長期間に亘って維持することができる。
[Multilayer glass]
It is preferable that the heat ray shielding glass of the present invention is used for a multilayer glass. As above-mentioned, the heat ray shielding glass of this invention can maintain the outstanding heat ray shielding property over a long period of time. Therefore, the multilayer glass using such a heat ray shielding glass can maintain the excellent heat ray shielding property for a long period of time.
本発明の熱線遮蔽ガラス300を用いた複層ガラスは、図3に示すように、熱線遮蔽ガラス300と、他のガラス板370とを、中空層380を介して対向するように配置することにより得られる。複層ガラスにおいて、熱線遮蔽ガラス300は、最上層に配置された金属酸化物を含む熱線反射層(図示せず)が中空層380側となるように配置されるのが好ましい。中空層380は、熱線遮蔽ガラス300とガラス板370とをこれらの外周部にスペーサー390を介在させて接着剤(図示せず)を用い接合することにより形成される。
As shown in FIG. 3, the multilayer glass using the heat
中空層としては、空気層、不活性ガス層、及び減圧層などが用いられる。これらの中空層によれば、複層ガラスに求められる断熱性を向上するとともに、熱線遮蔽層の経時的劣化を抑制することができる。 As the hollow layer, an air layer, an inert gas layer, a reduced pressure layer, or the like is used. According to these hollow layers, it is possible to improve the heat insulating properties required for the multilayer glass and to suppress the deterioration of the heat ray shielding layer over time.
空気層は、乾燥剤を含むスペーサーを用いることにより乾燥空気を用いてもよい。不活性ガス層は、クリプトンガス、アルゴンガス、及びキセノンガスなどの不活性ガスを含む。減圧層の気圧は、1.0Pa以下、特に0.01〜1.0Paとするのが好ましい。中空層の厚さは、6〜12mmであるのが好ましい。 The air layer may use dry air by using a spacer containing a desiccant. The inert gas layer includes an inert gas such as krypton gas, argon gas, and xenon gas. The pressure of the reduced pressure layer is preferably 1.0 Pa or less, particularly 0.01 to 1.0 Pa. The thickness of the hollow layer is preferably 6 to 12 mm.
本発明の複層ガラスは、上述した熱線遮蔽ガラスを用いることにより、優れた熱線遮蔽性を長期間に亘り維持することができる。このような効果は、中空層として空気層を用いたとしても十分に得ることができる。さらに、乾燥剤を使用しない又は乾燥剤の使用量を低減することも可能である。したがって、不活性ガス層や減圧層を中空層として用いた場合に比較して簡易な構成とすることができる。 The multilayer glass of the present invention can maintain excellent heat ray shielding properties over a long period of time by using the heat ray shielding glass described above. Such an effect can be sufficiently obtained even if an air layer is used as the hollow layer. Furthermore, it is possible not to use a desiccant or to reduce the amount of desiccant used. Therefore, it can be set as a simple structure compared with the case where an inert gas layer and a decompression layer are used as a hollow layer.
板ガラスとしては、フロートガラス、型板ガラス、表面処理により光り拡散機能を備えたすりガラス、網入りガラス、線入板ガラス、強化ガラス、倍強化ガラス、低反射ガラス、高透過板ガラス、セラミック印刷ガラス、紫外線吸収機能を備えた特殊ガラスなど、種々のガラスを適宜選択して実施することができる。また、板ガラスの組成についても、ソーダ珪酸ガラス、ソーダ石灰ガラス、ほう珪酸ガラス、アルミノ珪酸ガラス、各種結晶化ガラスなどを使用することができる。 As plate glass, float glass, template glass, ground glass with light diffusion function by surface treatment, netted glass, lined glass, tempered glass, double tempered glass, low reflection glass, high transmission plate glass, ceramic printing glass, UV absorption Various glasses such as special glass having a function can be selected as appropriate. Moreover, about the composition of plate glass, soda silicate glass, soda lime glass, borosilicate glass, aluminosilicate glass, various crystallized glass, etc. can be used.
複層ガラスの形状は、用途に応じて、矩形状、丸状、菱形状など、種々の形状とすることができる。複層ガラスの用途についても、建築物や乗り物(自動車、鉄道車両、船舶)用の窓ガラス、あるいは、プラズマディスプレイなどの機器要素をはじめとして、冷蔵庫や保温装置などのような各種装置の扉や壁部など、種々の用途に使用することができる。 The shape of the multi-layer glass can be various shapes such as a rectangular shape, a round shape, and a rhombus shape depending on applications. As for the use of double glazing, doors of various devices such as window glass for buildings and vehicles (automobiles, railway vehicles, ships), and equipment elements such as plasma displays, refrigerators, heat insulation devices, etc. It can be used for various applications such as walls.
本発明の複層ガラスは、断熱性を有するとともに、優れた熱線遮蔽性を有する。したがって、複層ガラスは、比較的、緯度が低い地域など、温暖な地域で使用されるのが特に好ましい。このような地域において複層ガラスを建築物や車両などに使用する場合には、ガラス板が室内側、熱線遮蔽ガラスが室外側に配置されるのが好ましい。一方、本発明の複層ガラスを比較的、緯度が高い地域など、寒冷地域で使用する場合には、ガラス板が室外側、熱線遮蔽ガラスが室内側に配置されるのが好ましい。このように使用することにより、優れた断熱性及び熱線遮蔽性を特に発揮することができる。 The double-glazed glass of the present invention has heat insulation properties and excellent heat ray shielding properties. Therefore, it is particularly preferable that the multilayer glass is used in a warm area such as a relatively low latitude area. In such an area, when the multilayer glass is used for a building or a vehicle, it is preferable that the glass plate is disposed on the indoor side and the heat ray shielding glass is disposed on the outdoor side. On the other hand, when the double-glazed glass of the present invention is used in a cold region such as a region having a relatively high latitude, it is preferable that the glass plate is disposed on the outdoor side and the heat ray shielding glass is disposed on the indoor side. By using in this way, the outstanding heat insulation and heat ray shielding property can be exhibited especially.
以下、本発明を実施例により説明する。本発明は、以下の実施例により制限されるものではない。 The present invention will be described below with reference to examples. The present invention is not limited by the following examples.
(実施例1)
1.熱線吸収層の作製
下記成分を含む組成物をポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(厚さ100μm)上に、バーコーターを用いて塗布し、80℃のオーブン中で2分間乾燥させた後、高圧水銀灯により500mJ/cm2のUV積算光量として紫外線を照射することにより、PETフィルム上に熱線吸収層(厚さ10μm:屈折率1.52)を作製した。
Example 1
1. Preparation of heat ray absorbing layer A composition containing the following components was applied onto a polyethylene terephthalate (PET) film (
熱線吸収層形成用組成物の組成:
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート80質量部
光重合開始剤(イルガキュア(登録商標)184)5質量部
Cs0.33WO3(平均粒径80nm)20質量部
メチルイソブチルケトン300質量部
Composition of heat ray absorbing layer forming composition:
80 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate 5 parts by mass of photopolymerization initiator (Irgacure (registered trademark) 184) 20 parts by mass of Cs 0.33 WO 3 (average particle size 80 nm) 300 parts by mass of methyl isobutyl ketone
2.高屈折率層の作製
下記成分を含む組成物を熱線吸収層上にバーコータにより塗布し、80℃で30秒間乾燥させた後、高圧水銀灯により500mJ/cm2のUV積算光量として紫外線を照射することにより、高屈折率層(厚さ20nm:屈折率1.65)を形成した。
2. Preparation of High Refractive Index Layer A composition containing the following components is applied onto a heat ray absorbing layer with a bar coater, dried at 80 ° C. for 30 seconds, and then irradiated with ultraviolet light as a UV integrated light amount of 500 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp. Thus, a high refractive index layer (thickness 20 nm: refractive index 1.65) was formed.
高屈折率層形成用組成物の組成:
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート2質量部
酸化スズ粒子(平均粒子径15nm)8質量部
メチルイソブチルケトン1000質量部
Composition of high refractive index layer forming composition:
2 parts by mass of dipentaerythritol hexaacrylate 8 parts by mass of tin oxide particles (average particle size 15 nm) 1000 parts by mass of methyl isobutyl ketone
3.低屈折率層の作製
下記成分を含む組成物を高屈折率層上にバーコータにより塗布し、80℃で30秒間乾燥し、低屈折率層(厚さ25nm:屈折率1.37)を形成した。
3. Preparation of Low Refractive Index Layer A composition containing the following components was applied onto the high refractive index layer with a bar coater and dried at 80 ° C. for 30 seconds to form a low refractive index layer (thickness 25 nm: refractive index 1.37). .
低屈折率層形成用組成物の組成:
官能基含有フッ素樹脂(固形分15質量%、MIBK85質量%、
オプツールAR−110、ダイキン工業(株)製)70質量部
メチルイソブチルケトン1000質量部
Composition of low refractive index layer forming composition:
Functional group-containing fluororesin (solid content 15% by mass, MIBK 85% by mass,
OPTOOL AR-110, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) 70 parts by mass Methyl isobutyl ketone 1000 parts by mass
4.熱線反射層の作製
低屈折率層上に、スパッタリングにより、フッ素含有酸化スズよりなる熱線反射層(厚さ0.3μm:屈折率2.0)を作製した。
4). Production of heat ray reflective layer A heat ray reflective layer (thickness 0.3 μm: refractive index 2.0) made of fluorine-containing tin oxide was produced on the low refractive index layer by sputtering.
5.接着樹脂層の作製
下記の配合を原料としてカレンダ成形法によりシート状の接着樹脂層(厚さ0.4mm)を得た。なお、配合物の混練は80℃で15分行い、またカレンダロールの温度は80℃、加工速度は5m/分であった。
5. Production of Adhesive Resin Layer A sheet-like adhesive resin layer (thickness 0.4 mm) was obtained by a calendar molding method using the following composition as a raw material. The blend was kneaded at 80 ° C. for 15 minutes, the calender roll temperature was 80 ° C., and the processing speed was 5 m / min.
接着樹脂層の配合:
EVA(EVA100質量部に対する酢酸ビニルの含有量25質量部、
東ソー株式会社製 ウルトラセン635) 100質量部、
架橋剤(tert−ブチルパ−オキシ2−エチルヘキシルカーボネート;
化薬アクゾ株式会社製 トリゴノックス117) 2.5質量部、
架橋助剤(トリアリルイソシアヌレート;
日本化成株式会社 TAIC(登録商標)) 2質量部、
シランカップリング剤(γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン;
信越化学株式会社製、KBM503) 0.5質量部
Formulation of adhesive resin layer:
EVA (25 parts by mass of vinyl acetate based on 100 parts by mass of EVA,
Tosoh Corporation Ultrasen 635) 100 parts by mass,
Cross-linking agent (tert-butyl peroxy 2-ethylhexyl carbonate;
Kagome Akzo Corporation Trigonox 117) 2.5 parts by mass,
Cross-linking aid (triallyl isocyanurate;
Nippon Kasei Co., Ltd. TAIC (registered trademark)) 2 parts by mass,
Silane coupling agent (γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane;
Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., KBM503) 0.5 parts by mass
6.熱線遮蔽ガラスの作製
ガラス基材(厚さ3mm)上に、接着樹脂層、プラスチックフィルム上に形成された熱線吸収層、高屈折率層、低屈折率層、及び熱線反射層をこの順で積層した。得られた積層体を、100℃で30分間加熱することにより仮圧着を行った後、オートクレーブ中で圧力13×105Pa、温度140℃の条件で30分間加熱した。これにより、接着樹脂層を硬化させて、透明基材と各層間が接着一体化された熱線遮蔽ガラス(図2)を得た。
6). Production of heat ray shielding glass On a glass substrate (thickness 3 mm), an adhesive resin layer, a heat ray absorbing layer formed on a plastic film, a high refractive index layer, a low refractive index layer, and a heat ray reflective layer are laminated in this order. did. The obtained laminate was subjected to temporary pressure bonding by heating at 100 ° C. for 30 minutes, and then heated in an autoclave for 30 minutes under conditions of a pressure of 13 × 10 5 Pa and a temperature of 140 ° C. Thereby, the adhesive resin layer was cured to obtain a heat ray shielding glass (FIG. 2) in which the transparent base material and each layer were bonded and integrated.
7.複層ガラスの作製
ガラス板(厚さ3mm)と、熱線遮蔽ガラスとを、これらの周縁部に配置された額縁状のアルミニウム製スペーサを介して対向配置し、これらをブチルゴムにより接着した。このとき、熱線遮蔽ガラスの熱線反射層が形成された面が、スペーサーにより形成された空気層側になるようにした。空気層の厚さは12mmとした。
7). Production of Multi-Layer Glass A glass plate (thickness 3 mm) and a heat ray shielding glass were arranged opposite to each other via a frame-shaped aluminum spacer arranged on the peripheral edge thereof, and these were bonded with butyl rubber. At this time, the surface on which the heat ray reflective layer of the heat ray shielding glass was formed was set to the air layer side formed by the spacer. The thickness of the air layer was 12 mm.
(実施例2)
以下に示す方法により高屈折率層及び低屈折率層を作製した以外は、実施例1と同様にして熱線遮蔽ガラス、及びこれを用いた複層ガラスを作製した。
(Example 2)
Except that the high refractive index layer and the low refractive index layer were produced by the method described below, a heat ray shielding glass and a multilayer glass using the same were produced in the same manner as in Example 1.
1.高屈折率層及び低屈折率層の作製
テトラブトキシチタン10g、キシレン100g、及びブタノール100gを混合し、高屈折率層形成用溶液を得た。これとは別に、エチルアルコール10gに、テトラエトキシシラン10g、純水10g、濃塩酸(35質量%、関東化学製)0.1gを添加、撹拌し、低屈折率層形成用溶液を得た。
1. Preparation of High Refractive Index Layer and Low Refractive Index Layer 10 g of tetrabutoxy titanium, 100 g of xylene, and 100 g of butanol were mixed to obtain a solution for forming a high refractive index layer. Separately, 10 g of tetraethoxysilane, 10 g of pure water, and 0.1 g of concentrated hydrochloric acid (35% by mass, manufactured by Kanto Chemical) were added to 10 g of ethyl alcohol and stirred to obtain a solution for forming a low refractive index layer.
次に、PETフィルム上に形成された熱線吸収層上に、湿度30%、25℃雰囲気下で、ロールコーター法により、高屈折率層形成用溶液を塗布した後、低屈折率層形成用溶液を塗布した。その後、塗布した溶液を100℃で300分間放置した後、150℃で10分間加熱した。これにより、熱線吸収層上に、高屈折率層(厚さ25nm:屈折率1.9)、及び低屈折率層(厚さ25nm:屈折率1.48)を作製した。 Next, a high refractive index layer forming solution is applied on the heat ray absorbing layer formed on the PET film by a roll coater method in an atmosphere of 30% humidity and 25 ° C., and then a low refractive index layer forming solution. Was applied. Thereafter, the applied solution was allowed to stand at 100 ° C. for 300 minutes, and then heated at 150 ° C. for 10 minutes. This produced the high refractive index layer (thickness 25 nm: refractive index 1.9) and the low refractive index layer (thickness 25 nm: refractive index 1.48) on the heat ray absorption layer.
(比較例1)
1.熱線遮蔽ガラスの作製
インライン式の直流スパッタリング装置を用いて、ガラス基材(厚さ3mm)上に、ガラス板側から、酸化亜鉛膜、銀膜、酸化チタン膜、酸化亜鉛膜をこの順に含む熱線遮蔽膜を成膜することにより熱線遮蔽ガラスを得た。酸化亜鉛膜はアルゴンと酸素とを1:9の流量比で導入した0.4Paの減圧雰囲気下で、窒化シリコン膜はアルゴンと窒素とを1:9の流量比で導入した0.4Paの減圧雰囲気下で、その他の膜は0.4Paに減圧したアルゴン雰囲気下で、それぞれ成膜した。酸化亜鉛膜、窒化シリコン膜、銀膜、酸化チタン膜は、それぞれ、亜鉛、シリコン、銀、チタンをターゲットとして成膜した。酸化チタン膜は、チタン膜として成膜し、この膜を次の酸化亜鉛膜の成膜工程で酸化して生成させた。成膜条件(印加電圧、成膜時間等)は、各膜の膜厚が表中の値となるように予め確認した条件を適用した。すべてのサンプルにおいて、チタン膜は2nmとなるように成膜した。
(Comparative Example 1)
1. Production of heat ray shielding glass Using an in-line type DC sputtering apparatus, a heat ray containing a zinc oxide film, a silver film, a titanium oxide film, and a zinc oxide film in this order on a glass substrate (thickness 3 mm) from the glass plate side. A heat ray shielding glass was obtained by forming a shielding film. The zinc oxide film is in a 0.4 Pa reduced pressure atmosphere in which argon and oxygen are introduced at a flow ratio of 1: 9, and the silicon nitride film is 0.4 Pa in reduced pressure in which argon and nitrogen are introduced at a flow ratio of 1: 9. In the atmosphere, the other films were formed in an argon atmosphere with a pressure reduced to 0.4 Pa. The zinc oxide film, the silicon nitride film, the silver film, and the titanium oxide film were formed using zinc, silicon, silver, and titanium as targets, respectively. The titanium oxide film was formed as a titanium film, and this film was formed by oxidation in the subsequent step of forming a zinc oxide film. As the film formation conditions (applied voltage, film formation time, etc.), conditions confirmed in advance so that the film thicknesses of the respective films were the values in the table were applied. In all samples, the titanium film was formed to be 2 nm.
2.複層ガラスの作製
上記の通りに作製した熱線遮蔽ガラスを用いて、実施例1と同様にして複層ガラスを作製した。
2. Production of Multi-layer Glass A multi-layer glass was produced in the same manner as in Example 1 using the heat ray shielding glass produced as described above.
(比較例2)
高屈折率層及び低屈折率層を作製せずに、熱線吸収層上に熱線反射層を直接作製した以外は、実施例1と同様にして熱線遮蔽ガラス、及びこれを用いた複層ガラスを作製した。
(Comparative Example 2)
A heat ray shielding glass and a multilayer glass using the same were produced in the same manner as in Example 1 except that the heat ray reflective layer was directly produced on the heat ray absorbing layer without producing the high refractive index layer and the low refractive index layer. Produced.
(評価)
1.熱線遮蔽性の耐久性
複層ガラスを、波長320nm〜400nmの近紫外線を発生する近紫外線蛍光ランプを照射しながら、温度60℃、相対湿度90%RHの雰囲気中に5000時間放置した。放置前後の複層ガラスの可視光透過率、可視光反射率、日射透過率及び日射反射率を、JIS R3106−1998に基づき測定した。なお、透過率及び反射率の測定には、日立製作所製U3410型自記分光光度計を使用した。反射特性は入射角を12°とした正反射光により、透過特性は入射角を0°として測定した。結果を表1に示す。
(Evaluation)
1. Durability of heat ray shielding properties The multilayer glass was left for 5000 hours in an atmosphere of a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 90% RH while irradiating a near-ultraviolet fluorescent lamp generating near-ultraviolet rays having a wavelength of 320 nm to 400 nm. The visible light transmittance, the visible light reflectance, the solar radiation transmittance, and the solar reflectance of the multilayer glass before and after being left standing were measured based on JIS R3106-1998. In addition, the U3410 type self-recording spectrophotometer by Hitachi Ltd. was used for the measurement of the transmittance | permeability and a reflectance. The reflection characteristic was measured with specular reflection light having an incident angle of 12 °, and the transmission characteristic was measured with an incident angle of 0 °. The results are shown in Table 1.
2.外観特性(干渉縞観察)
熱線遮蔽ガラスを黒い紙の上に置き、三波長形蛍光ランプ(松下電器産業(株)、パルック、20W、昼白色)で照らして蛍光ランプの像の周りの干渉縞を観察し、下記の基準により干渉縞を判定する。結果を表1に示す。
2. Appearance characteristics (interference fringe observation)
Place the heat-shielding glass on black paper and illuminate with a three-wavelength fluorescent lamp (Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Parook, 20W, daylight white) to observe the interference fringes around the fluorescent lamp image. The interference fringes are determined by The results are shown in Table 1.
◎:干渉縞がまったく認められない。 A: No interference fringes are observed.
△:干渉縞がかすかに認められる。 Δ: Interference fringes are faintly recognized.
×:干渉縞が明瞭に認められる。 X: Interference fringes are clearly recognized.
100、200、300:熱線遮蔽ガラス、
110、210:透明基材、
120、220:熱線吸収層、
130、230:屈折率調整層、
131、231:高屈折率層、
132、232:低屈折率層、
140、240:熱線反射層、
370:ガラス板、
380:中空層、
390:スペーサー。
100, 200, 300: heat ray shielding glass,
110, 210: transparent substrate,
120, 220: heat ray absorbing layer,
130, 230: refractive index adjustment layer,
131, 231: high refractive index layer,
132, 232: low refractive index layer,
140, 240: heat ray reflective layer,
370: glass plate,
380: hollow layer,
390: Spacer.
Claims (11)
タングステン酸化物及び/又は複合タングステン酸化物とバインダ樹脂を含む熱線吸収層と、
前記タングステン酸化物及び複合タングステン酸化物以外の金属酸化物からなる熱線反射層とを有し、
前記熱線吸収層及び前記熱線反射層の間に、屈折率調整層を少なくとも1層有し、
当該屈折率調整層が、屈折率が1.6以上2.8以下である高屈折率層と、屈折率が1.3以上1.6未満である低屈折率層とからなり、
前記熱線吸収層、前記高屈折率層、前記低屈折率層、及び前記熱線反射層がこの順で積層されていることを特徴とする熱線遮蔽ガラス。 A transparent substrate;
A heat ray absorbing layer containing tungsten oxide and / or composite tungsten oxide and a binder resin ;
A heat ray reflective layer made of a metal oxide other than the tungsten oxide and the composite tungsten oxide,
Between the ray absorbing layer and the heat ray reflective layer, at least 1 Soyu the refractive index adjusting layer,
The refractive index adjusting layer is composed of a high refractive index layer having a refractive index of 1.6 or more and 2.8 or less and a low refractive index layer having a refractive index of 1.3 or more and less than 1.6,
The heat ray shielding glass , wherein the heat ray absorbing layer, the high refractive index layer, the low refractive index layer, and the heat ray reflective layer are laminated in this order .
前記複合タングステン酸化物が、一般式MxWyOz(但し、Mは、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素を表し、そして0.001≦x/y≦1、2.2≦z/y≦3である)で表されることを特徴とする請求項1〜9のいずれか1項に記載の熱線遮蔽ガラス。 The tungsten oxide is represented by the general formula WyOz (W is tungsten, O is oxygen, and 2.2 ≦ z / y ≦ 2.999), and the composite tungsten oxide is Formula MxWyOz (where M is H, He, alkali metal, alkaline earth metal, rare earth element, Mg, Zr, Cr, Mn, Fe, Ru, Co, Rh, Ir, Ni, Pd, Pt, Cu, Ag , Au, Zn, Cd, Al, Ga, In, Tl, Si, Ge, Sn, Pb, Sb, B, F, P, S, Se, Br, Te, Ti, Nb, V, Mo, Ta, Re , Be, Hf, Os, Bi, I , one or more elements, W represents tungsten, O represents oxygen, and 0.001 ≦ x / y ≦ 1, 2.2 ≦ z / y claim 1-9, characterized by being represented by ≦ 3 a is) Solar control glass of any one.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009069408A JP5559486B2 (en) | 2009-03-23 | 2009-03-23 | Heat ray shielding glass and multilayer glass using the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009069408A JP5559486B2 (en) | 2009-03-23 | 2009-03-23 | Heat ray shielding glass and multilayer glass using the same |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010222160A JP2010222160A (en) | 2010-10-07 |
JP5559486B2 true JP5559486B2 (en) | 2014-07-23 |
Family
ID=43039768
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009069408A Expired - Fee Related JP5559486B2 (en) | 2009-03-23 | 2009-03-23 | Heat ray shielding glass and multilayer glass using the same |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5559486B2 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017164449A1 (en) * | 2016-03-24 | 2017-09-28 | (주)유니드 | Refractive index matching thin film |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5675312B2 (en) * | 2010-12-10 | 2015-02-25 | 株式会社ブリヂストン | Heat ray shielding glass and multilayer glass using the same |
JP5674446B2 (en) * | 2010-12-16 | 2015-02-25 | 株式会社ブリヂストン | Heat ray shielding film, heat ray shielding glass using the same, and multilayer glass |
JP5680952B2 (en) * | 2010-12-22 | 2015-03-04 | 株式会社ブリヂストン | Heat ray shielding glass and multilayer glass using the same |
JP5838046B2 (en) * | 2011-05-31 | 2015-12-24 | 株式会社ブリヂストン | tire |
JP2016155256A (en) * | 2015-02-23 | 2016-09-01 | コニカミノルタ株式会社 | Heat shielding film, and method for producing the same |
KR102015474B1 (en) * | 2017-06-02 | 2019-08-28 | 코오롱글로벌 주식회사 | Substrate with an infrared reflective multilayer film, and method for manufacturing the same |
JP6752392B2 (en) | 2018-03-29 | 2020-09-09 | 富士フイルム株式会社 | Wavelength selective absorption material, infrared sensor, wavelength selective light source and radiative cooling system |
CN108950478B (en) * | 2018-07-29 | 2021-05-04 | 南京高键玻璃科技有限公司 | Environment-friendly low-emissivity glass and preparation method thereof |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04154647A (en) * | 1990-10-16 | 1992-05-27 | Asahi Glass Co Ltd | Transparent electrically conductive laminate |
JPH0859301A (en) * | 1994-08-25 | 1996-03-05 | Nissan Motor Co Ltd | Ultraviolet heat shielding glass |
US5780149A (en) * | 1996-09-13 | 1998-07-14 | Libbey-Ownes-Ford Co. | Glass article having a solar control coating |
JP2001139349A (en) * | 1999-08-31 | 2001-05-22 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | Transparent thermally insulating glass and double- glazed glass using the same |
AU2003292677A1 (en) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | FINE In4Sn3O12 COMPOSITE OXIDE PARTICLE FOR SOLAR RADIATION SHIELDING, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, COATING FLUID FOR FORMING SOLAR RADIATION SHIELDING FILM, SOLAR RADIATION SHIELDING FILM, AND SUBSTRATE FOR SOLAR RADIATION SHIELDING |
JP4479198B2 (en) * | 2003-09-08 | 2010-06-09 | 株式会社ブリヂストン | Antireflection film |
JP2007148330A (en) * | 2005-11-04 | 2007-06-14 | Central Glass Co Ltd | Near infrared ray reflective substrate and near infrared ray reflective laminated glass using the same |
JP4586761B2 (en) * | 2006-03-30 | 2010-11-24 | 住友金属鉱山株式会社 | Heat ray shielding glass and manufacturing method thereof |
JP2008304798A (en) * | 2007-06-08 | 2008-12-18 | Bridgestone Corp | Near-infrared shielding filter, optical filter for display, and display and plasma display panel using the filter |
-
2009
- 2009-03-23 JP JP2009069408A patent/JP5559486B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017164449A1 (en) * | 2016-03-24 | 2017-09-28 | (주)유니드 | Refractive index matching thin film |
US10684395B2 (en) | 2016-03-24 | 2020-06-16 | Unid Co., Ltd. | Refractive-index-matching thin film |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010222160A (en) | 2010-10-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5559486B2 (en) | Heat ray shielding glass and multilayer glass using the same | |
JP5559483B2 (en) | Heat ray shielding glass and multilayer glass using the same | |
JP5781735B2 (en) | Heat ray shielding double-glazed glass | |
WO2010150839A1 (en) | Heat ray-shielding glass, and heat ray-shielding multi-layered glass | |
JP5449659B2 (en) | Near-infrared shield, laminate using the same, optical filter for display, and display | |
JP5706314B2 (en) | Heat ray shielding laminate and heat ray shielding laminated glass using the same | |
JP5248978B2 (en) | Functional film | |
JP5778488B2 (en) | Heat ray shielding glass and multilayer glass using the same | |
WO2005059601A1 (en) | Antireflection film, electromagnetic wave shielding light transmitting window material, gas discharge type light emitting panel, flat display panel, show window material and solar cell module | |
JP5368881B2 (en) | Heat ray shielding laminated glass interlayer film and heat ray shielding laminated glass | |
JP5840830B2 (en) | Heat ray shielding double-glazed glass | |
JP5264331B2 (en) | Functional film | |
JP5775349B2 (en) | Heat ray shielding laminated glass interlayer film and heat ray shielding laminated glass | |
JP5537845B2 (en) | Heat ray shielding glass and multilayer glass using the same | |
JP5683841B2 (en) | Heat ray shielding film, heat ray shielding glass using the same, and multilayer glass | |
JP2009062409A (en) | Near infrared-shielding material, laminate and optical filter for display using the same and display | |
JP2013091234A (en) | Heat ray shielding light control window | |
JP5675312B2 (en) | Heat ray shielding glass and multilayer glass using the same | |
JP5674446B2 (en) | Heat ray shielding film, heat ray shielding glass using the same, and multilayer glass | |
JP2008304798A (en) | Near-infrared shielding filter, optical filter for display, and display and plasma display panel using the filter | |
JP5674293B2 (en) | Heat ray shielding glass and multilayer glass using the same | |
JP2010274585A (en) | Laminate, and laminated glass for shading heat-ray | |
JP5680952B2 (en) | Heat ray shielding glass and multilayer glass using the same | |
JP5215239B2 (en) | Heat ray shielding laminate and heat ray shielding laminated glass |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120229 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130516 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130625 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130823 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140513 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140606 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5559486 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |