JP5558905B2 - 光導波路フィルム - Google Patents
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まず、図10に、光導波路フィルムの基本的な作製方法を示す。図10(A)において、Si基板などの基板1001上にクラッド層1002を形成し、図10(B)において、その上に、コア層1013を形成し、フォトリソグラフィによりSi含有レジスト1014を光導波路コアのパターンに形成する。図10(C)において、O2プラズマを用いた反応性イオンエッチングにより、コア層のパターンを加工し、リッジ形状の光導波路コア1025を形成し、レジスト層を除去する。図10(D)において、その上からクラッド層1036を形成することにより、基板上にポリマー光導波路を形成し、図10(E)において、基板から剥離することにより、光導波路フィルム1040を形成する。
図11は、本発明の参考形態による光導波路フィルムを示す図である。
図11(D)は、図10に示した光導波路フィルムの作製工程の図10(D)の段階と同じ状態を示す図である。図11(F)において、その上部クラッド層1103の表面に光導波路部分のみ覆うように、例えばTiなどの金属薄膜をスパッタ法により形成したり、光導波路部分との同等な厚膜レジストによりエッチング用パターン1114を形成する。図11(G)において、O2プラズマによる反応性イオンエッチングなどにより、光導波路部分を残して他の部分を削り取る。
図12、図13は、本発明の第1の実施形態による光導波路フィルムを示す図である。
上述の図10に示した光導波路フィルムの作製工程の基板1201として、平坦なものを用いるのではなく、例えば、図12(J)に示すように、あらかじめ応力緩和部分の形状をエンドミルによる切削加工やプラズマエッチングにより加工形成した基板を用いる。図12(K)において、基板1201上に、図10で示した光導波路の作製工程と同様に、クラッド1212及びコア1211を有する光導波路層を作製する。この光導波路層の表面に、多段露光により図12(L)に示すように厚膜レジスト1223を形成する。その後、O2プラズマによる反応性イオンエッチングにより応力緩和部分の形状加工を行い、図12(M)に示すように、レジスト膜を除去し、基板から剥離することにより、図12(N)に示すような光導波路フィルム1240が得られる。また、第1の実施において図12(J)に示す基板1201の表面形状と応力緩和部分の加工形状を変えることにより、応力緩和層の薄膜構造を、平板構造や蛇腹構造などに対応させることが可能である。
図14は、本発明の第2の実施形態を示す図である。
図14において、第2の実施形態による光導波路フィルムは、第1の実施形態で示した、例えば、図11(H)、図12(M)、及び、図13(R)の下部基板から剥離する前に、応力緩和層部分1402、1412の一部に、Tiなど金属マスクを用いてプラズマエッチングにより加工し、または、例えばYAGレーザなどを用いてレーザ加工により貫通穴を形成するものである。穴形状や大きさは、光導波路部分1401、1402の間隔や形状、応力緩和層部分1402、1412と光導波路部分1401、1411の材料の弾性率の差や、光導波路フィルムが受ける歪、応力の大きさによって最適形状が異なる。
1002 クラッド層
1013 コア層
1014、1114、1223、1323 レジストパターン
1025、1102、1211、1311 コア
1036、1103、1212、1312 クラッド
1035、1345 応力緩和層
1401、1411 光導波路部分
1402、1412 応力緩和層部分
Claims (2)
- 光導波路を平面に配列させたアレイ状光導波路フィルムであって、
コア部分とその周囲を囲むクラッド部分の領域を含む前記光導波路と、
部分的に膜厚を薄くすることにより変形しやすい構造とした応力緩和層と
を有し、
前記光導波路により前記応力緩和層をサンドイッチした構造を有し、
前記光導波路のコア部分を囲むクラッド部分の膜厚が10ミクロン以上であり、前記光導波路間の薄膜部分の厚さが光導波路の厚さの1/2以下であることを特徴とするアレイ状光導波路フィルム。 - 光導波路を平面に配列させたアレイ状光導波路フィルムであって、
コア部分とその周囲を囲むクラッド部分の領域を含む前記光導波路と、
部分的に膜厚を薄くすることにより変形しやすい構造とした応力緩和層と
を有し、
前記光導波路により前記応力緩和層をサンドイッチした構造を有し、
前記光導波路間の薄膜部分が光導波路のコアに対して垂直な方向に伸縮可能な蛇腹構造を有することを特徴とするアレイ状光導波路フィルム。
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