JP5553127B2 - Elevating heat treatment furnace - Google Patents
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Description
この発明は、セラミック成形体を脱脂または焼成処理するのに適した昇降式熱処理炉に関する。 The present invention relates to an elevating heat treatment furnace suitable for degreasing or firing a ceramic molded body.
従来、例えば、被熱処理物であるセラミック成形体を熱処理する焼成炉として、円筒形の炉本体の内部に加熱室を形成し、その加熱室内に熱源を配置するとともに、送風機で炉内ガスを循環・加熱する昇降式熱処理炉が提案されている。この昇降式熱処理炉は、その炉本体の底部に昇降可能な昇降テーブルが配置されており、この昇降テーブル上にセラミック成形体を収納した匣を載置し、昇降テーブルを回転させながら脱脂などの熱処理を行うようになっている。 Conventionally, for example, as a firing furnace for heat-treating a ceramic molded body to be heat-treated, a heating chamber is formed inside a cylindrical furnace body, a heat source is disposed in the heating chamber, and the furnace gas is circulated by a blower. -Heating elevating heat treatment furnaces have been proposed. In this elevating heat treatment furnace, an elevating table that can be raised and lowered is arranged at the bottom of the furnace body, and a bowl containing a ceramic molded body is placed on the elevating table, and degreasing and the like are performed while rotating the elevating table. Heat treatment is performed.
このような昇降式熱処理炉においては、セラミック成形体を熱処理する際に、脱脂時に発生するバインダー分解ガスが問題となる。このバインダー分解ガスは、空気より重たいので、炉本体よりさらに底部へ向かう。昇降テーブルを加熱室内に挿入させるために、昇降テーブルの側面と炉本体の底部に形成される開口部の壁面との間には狭い隙間が設けられる。この隙間における温度は炉内温度より低いため、炉本体より底部へ行くほどバインダー分解ガスは液化または固化してタール状に蓄積するという問題があった。 In such an elevating heat treatment furnace, the binder decomposition gas generated during degreasing becomes a problem when the ceramic molded body is heat-treated. Since this binder decomposition gas is heavier than air, it goes further to the bottom from the furnace body. In order to insert the lifting table into the heating chamber, a narrow gap is provided between the side surface of the lifting table and the wall surface of the opening formed in the bottom of the furnace body. Since the temperature in the gap is lower than the temperature in the furnace, there is a problem that the binder decomposition gas is liquefied or solidified as it goes from the furnace body to the bottom and accumulates in a tar form.
上述の問題に対して、昇降テーブルの側面と炉本体の底部に形成される開口部の壁面との隙間に環状のガス導入管を配置して、その隙間から加熱室内に向かって雰囲気ガスを吹出すことにより、バインダー分解ガスがタール状に液化して、昇降テーブルと炉本体との隙間等に蓄積することを抑制する昇降式熱処理炉が提案されている(特許文献1参照)。 To solve the above problems, an annular gas introduction pipe is arranged in the gap between the side surface of the lifting table and the wall surface of the opening formed in the bottom of the furnace body, and atmospheric gas is blown from the gap into the heating chamber. An elevating heat treatment furnace that suppresses the binder decomposition gas from being liquefied in a tar shape and accumulated in a gap between the elevating table and the furnace body has been proposed (see Patent Document 1).
しかしながら、特許文献1で提案されている昇降式熱処理炉においても、特にセラミック成形体に対する脱脂過程では、多数の有機ガスが発生し、昇降テーブルの表面に対してタール状に液化する現象が発生しており、十分なシール効果を得るのが困難であった。すなわち、環状に配置されたガス導入管による加熱室内へのガスの吹出しでは、その吹出し箇所でのタール状の蓄積物の付着の防止は可能であったが、ガスの吹出しがない箇所におけるタール状の蓄積物の付着は抑制できなかった。また、昇降テーブルの側面と炉本体の底部に形成される開口部の壁面との隙間を通って炉本体より底部に向かうバインダー分解ガスは、加熱室内へのガス吹出しによっても抑制しきれず、炉本体より底部においてタール状に液化した状態で蓄積するという問題があった。
However, even in the elevating heat treatment furnace proposed in
それゆえに、この発明の主たる目的は、昇降テーブルの表面および炉本体より底部において、バインダー分解ガスがタール状に蓄積することを防止する昇降式熱処理炉を提供することである。 Therefore, a main object of the present invention is to provide an elevating heat treatment furnace that prevents the binder decomposition gas from accumulating in a tar shape at the surface of the elevating table and at the bottom of the furnace body.
この発明にかかる昇降式熱処理炉は、炉本体と、炉本体の底部に形成される開口部と、炉本体の内部に配置される熱源と、炉本体の開口部に近接または離間して炉本体の内部に被熱処理物を出し入れするための昇降テーブルとを有する昇降式熱処理炉であって、炉本体の底部と昇降テーブルとの隙間に配置されるカーテン状のシール部と、炉本体内部の雰囲気ガスと同種のガスを昇降テーブルの側面に向けて吹出すために、シール部より下方に設置されるガス吹出し口とを備え、昇降テーブルの下方に設けられる板状の取付板と、炉本体の外部の底面側から延設され、取付板に接するように設けられるシール板と、シール板と昇降テーブルの側面との間であって、昇降テーブルの側面に近接するように炉本体の外部の底面側から延設された防護壁と、を有することを特徴とする、昇降式熱処理炉である。 An elevating heat treatment furnace according to the present invention includes a furnace body, an opening formed at the bottom of the furnace body, a heat source disposed inside the furnace body, and a furnace body close to or away from the opening of the furnace body. An elevating heat treatment furnace having an elevating table for taking in and out an object to be heat treated, a curtain-like seal portion disposed in a gap between the bottom of the furnace main body and the elevating table, and an atmosphere inside the furnace main body In order to blow out the same kind of gas toward the side surface of the lifting table, a gas outlet provided below the seal portion , a plate-like mounting plate provided below the lifting table, and a furnace body A seal plate that extends from the bottom side of the outside and is provided so as to be in contact with the mounting plate, and a bottom surface outside the furnace body between the seal plate and the side surface of the lift table and close to the side surface of the lift table Protected from the side And having a wall, a lifting type heat treatment furnace.
この発明にかかる昇降式熱処理炉によれば、開口部の壁面と昇降テーブルの側面との隙間にシール部を備え、シール部より下方に備えられたガス吹出し口から雰囲気ガスを吹出すことにより、炉本体より底部側において、バインダー分解ガスがタール状に液化した状態で蓄積することを防止することができる。したがって、この発明にかかる昇降式熱処理炉を繰り返し使用した場合に、バインダー分解ガスに起因してこびりつくタール状の汚れを除去する回数を大幅に低減することができ、メンテナンス時間を短縮することを可能とする昇降式熱処理炉を得ることができる。
また、この発明にかかる昇降式熱処理炉では、シール板のさらに内側に防護壁を配置するので、シール板の側面に対するタール状の蓄積物の付着を防止することができる昇降式熱処理炉を得ることができる。According to the elevating heat treatment furnace according to the present invention, a seal portion is provided in the gap between the wall surface of the opening and the side surface of the elevating table, and by blowing out atmospheric gas from a gas outlet provided below the seal portion, It is possible to prevent the binder decomposition gas from accumulating in a tar-like liquefied state on the bottom side from the furnace body. Therefore, when the elevating heat treatment furnace according to the present invention is repeatedly used, the number of times of removing tar-like dirt stuck due to the binder decomposition gas can be greatly reduced, and the maintenance time can be shortened. An elevating heat treatment furnace can be obtained.
Moreover, in the elevating heat treatment furnace according to the present invention, since the protective wall is disposed further inside the seal plate, an elevating heat treatment furnace capable of preventing the accumulation of tar-like accumulation on the side surface of the seal plate is obtained. Can do.
この発明の上述の目的、その他の目的、特徴および利点は、図面を参照して行う以下の発明を実施するための形態の説明から一層明らかとなろう。 The above-described object, other objects, features, and advantages of the present invention will become more apparent from the following description of embodiments for carrying out the invention with reference to the drawings.
1,2 昇降式熱処理炉
10 炉本体
10a 底面
12 昇降テーブル
14 回転装置
14a 回転軸
14b モータ
16 シール板
16a 内側面
18 防護壁
18a 側面
20 取付板
20a 耐熱性シール材
22 炉本体支持部
24 炉室
26 開口部
26a 壁面
28 シール部
28a 一方端部
28b 一方面
28c 他方端部
28d 他方面
30 炉床部
32 加熱室
34 ガス供給管
36 ヒータ
38 送風機
38a モータ
38b 羽根部
40 排気ダクト
40a 蓋部
42 循環通路
44 隔壁部材
44a 入口通気孔
44b 出口通気孔
46 載置部
46a 第1の側面
46b 載置平面
48 支持部
48a 第2の側面
48b 遮蔽面
48c 底面
50 支持板
50a 円板部
50b 脚部
52 ガス導入管
52a ガス導入部
52b 配管
52c ガス吹出し口
60 シール部材
60a 内端部
60c 下面
g1 第1の隙間
g2 第2の隙間
F 循環方向DESCRIPTION OF
本発明にかかる昇降式熱処理炉についての一実施形態について説明する。図1は、本発明にかかる昇降式熱処理炉の一実施形態についての概略断面図であり、図2は、図1に記載の昇降式熱処理炉のA部の拡大図である。 An embodiment of the elevating heat treatment furnace according to the present invention will be described. FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an embodiment of an elevating heat treatment furnace according to the present invention, and FIG. 2 is an enlarged view of part A of the elevating heat treatment furnace shown in FIG.
この昇降式熱処理炉は、例えば、被熱処理物であるセラミック成形体を焼成する工程における低温域において、セラミック成形体内に含有するバインダー成分・有機剤を除去する装置、すなわち、セラミック成形体の脱脂工程に用いられる昇降式熱処理炉である。以下、本発明にかかる昇降式熱処理炉の一実施形態について詳細に説明する。 This elevating heat treatment furnace is, for example, a device for removing a binder component / organic agent contained in a ceramic molded body in a low temperature range in a process of firing a ceramic molded body that is a heat-treated object, that is, a degreasing process of the ceramic molded body. It is an elevating heat treatment furnace used for. Hereinafter, an embodiment of an elevating heat treatment furnace according to the present invention will be described in detail.
図1に記載の昇降式熱処理炉1は、炉本体10と、匣Wを載置させるための昇降テーブル12と、昇降テーブル12を炉本体10内において回転駆動させるための回転装置14と、雰囲気ガス等が昇降式熱処理炉1より外部へ漏れ出すのを防止するためのシール板16および取付板20と、シール板16へのタール状の蓄積物の付着を防止するための防護壁18と、炉本体10を支持するための炉本体支持部22とを備える。
The elevating
炉本体10は、昇降式熱処理炉1においてセラミック成形体等である被熱処理物を収容・加熱処理し、また、炉内の熱を維持するために設けられる。炉本体10は、円筒形に形成される。また、炉本体10は、セラミック系レンガやファイバー等の断熱材で形成される。炉本体10の底部には、円筒形の開口部26が形成される。開口部26には、その開口部26に近接または離間して炉本体10の内部にセラミック成形体を出し入れ可能に、昇降テーブル12が配置される。また、開口部26の壁面26aに沿って、カーテン状のシール部28が形成される。
The furnace
シール部28は、バインダー分解ガスが炉本体10から底部へ向かって流れ込むことを防止するために設けられる。シール部28は、円筒状に形成される。そして、シール部28の一方端部28aの一方面28bの一部は、開口部26の壁面26aの下端側に沿って、例えば、ネジ等により固定されている。なお、この場合、シール部28の一方端部28aは上側に配置され、一方面28bは外側面を示す。昇降テーブル12が開口部26に挿入された場合、シール部28の他方端部28cは、後述する昇降テーブル12の遮蔽面48bと接触しながら、外周側となるシール板16側に向かって放射状に曲げられる。その結果、シール部28の他方端部28cの他方面28dの一部は、昇降テーブル12の遮蔽面48bと面接触する。なお、この場合、シール部28の他方端部28cは下側に配置され、他方面28dは内側面を示す。そのようにして、シール部28は、昇降テーブル12と開口部26とにより形成される第1の隙間g1において、カーテン状に配置される。また、昇降テーブル12が回転駆動しても、シール部28の他方端部28cの他方面28dと昇降テーブル部12の遮断面48bとの面接触は維持される。シール部28は、弾性体により形成され、例えば、シリコン、ウレタン、またはゴム材等により形成される。
The
また、炉本体10の底部における上面は、炉床板30が覆われている。炉床板30は、バインダー分解ガスがタール状に液化して炉本体10に直接蓄積することを抑制するために設けられる。炉床板30は、例えば、ステンレス等の耐熱性金属により形成される。
Further, the upper surface of the bottom of the
炉本体10の内部には、炉室24が設けられる。炉室24には、匣Wに載置された被熱処理物であるセラミック成形体に対して加熱処理をするための加熱室32と、雰囲気ガスを炉室24内に供給するためのガス供給管34と、熱源としてのヒータ36と、炉室24内に雰囲気ガスを循環させるための送風機38と、排気ガスを排出するための排気ダクト40と、炉室24内において雰囲気ガス等を循環させるための循環通路42とが設けられる。
A
加熱室32には、セラミック成形体のような被熱処理物の多数が上下互いに間隔を置いた状態で積み重ねた匣Wを収容するために設けられる。加熱室32は、炉室24内において、円筒形の隔壁部材44により形成される。隔壁部材44は、炉室24の中央に配置される。隔壁部材44には、ガス供給管34から供給される雰囲気ガスが、加熱室32内を水平方向に流通するように、一方の側部とその反対の側部とにそれぞれ多数の通気孔が形成される。一方の側部には入口通気孔44aが形成され、反対の側部には出口通気孔44bが形成される。そして、隔壁部材44の上面側において、ガス供給管34が設けられる。
In the
ガス供給管34は、炉室24内に雰囲気ガスを供給するために設けられる。供給された雰囲気ガスは、送風機38により循環通路42内を通って循環される。ガス供給管34は、隔壁部材44の上面側において、炉室24の中央部近くまで突出させて配置される。そして、ガス供給管34の供給口から吹き出し方向に間隔をおいて離れた位置には、熱源としてのヒータ36が配置される。
The
ヒータ36は、ガス供給管34から供給された雰囲気ガスを加熱するために設けられる。ヒータ36は、炉室24内の隔壁部材44の上面側であって、かつ中央に配置される。また、ヒータ36は、循環通路42の中途に設けられる。ヒータ36は、例えば、U字形または棒状の熱源により構成される。
The
送風機38は、炉室24内における循環通路42内に熱風を循環させるために設けられる。送風機38は、原動機としてのモータ38aおよび羽根部38bにより構成される。モータ38aは、炉本体10より外側に配置され、羽根部38bは、炉室24側に配置される。送風機38は、隔壁部材44の入口通気孔44aの直上方にあって、炉本体10の上部側面に設けられる。送風機38は、モータ38aにより羽根部38bが回転駆動されることで、ガス供給管34により供給された雰囲気ガスを引き込むように作用する。引き込まれた雰囲気ガスは、ヒータ36を通過することにより加熱される。そして、送風機38は、加熱された雰囲気ガスを循環通路42に送り、さらに、加熱室32の入口通気44aに導くように作用する。加熱室32内を通った雰囲気ガスは、出口通気孔44bを通過し、循環通路42を通って上方に導かれる。すなわち、雰囲気ガスは、循環方向Fの方向に、送風機38によって循環する。送風機38により循環した雰囲気ガスは、炉本体10に形成される、排気ダクト40から排気される。
The
排気ダクト40は、炉室24内の雰囲気ガス(排ガス)を排気するために設けられる。排気ダクト40は、出口通気孔44bより上方にあって、炉本体10の上面側に設けられる。排気ダクト40は、図示しない排ガス処理装置に接続されている。排気ダクト40の炉室24内側には、開閉可能な蓋部40aが設けられる。この蓋部40aの開閉の制御により、排ガスが排気ダクト40より排出されるか、再び炉室24内に戻し、循環させるか等の調整が行われる。
The
循環通路42は、炉室24内において、雰囲気ガスを循環流通させるために設けられる。この実施形態においては、循環通路42は、出口通気孔44bから上方に向かい、さらに加熱室32の隔壁部材44の上方を通って送風機38に向かい、そして、加熱室32の入口通気孔44aに至るように形成される。
The
昇降テーブル12は、炉本体10の内部に収容させるための匣Wを載置させるために設けられる。昇降テーブル12は、側面視凸状に形成される。昇降テーブル12は、円柱状に形成される載置部46と載置部46より径が大きい円柱状に形成される支持部48とにより構成される。支持部48の上部には載置部46が配置される。支持部48の中心軸と載置部46の中心軸とは同軸である。なお、それぞれの中心軸は、炉床部30の上面に対して垂直方向に延びている。また、昇降テーブル12における載置部46の側面には第1の側面46aが形成され、支持部48の側面には第2の側面48aが形成される。第1の側面46aは、昇降テーブル12が開口部26に挿入された場合、開口部26の壁面26aに近接するように設けられ、そして、第2の側面48aは、後述する防護壁18に配置されるガス導入管52のガス吹出し口52cに近接するように設けられる。また、第1の側面46aは、昇降テーブル12が開口部26に挿入された場合、開口部26の壁面26aと対向するように設けられ、そして、第2の側面48aは、後述する防護壁18と対向にするように設けられる。また、第1の側面46aと開口部26の壁面26aとの間には、第1の隙間g1が形成される。そして、第2の側面48aと防護壁18との間には第2の隙間g2が形成される。第1の隙間g1は、昇降テーブル12を加熱室に滑らかに挿入することを可能にするために設けられている。なお、第1の隙間g1は、循環通路42から外れているので、炉室24内を循環する熱風による熱の影響が小さく、炉室24内の温度より低い。昇降テーブル12の載置部46における加熱室32側には、載置平面46bが形成される。載置平面46bには、セラミック成形体等の被熱処理物を収容するための匣Wを載置させるための支持板50が配置される。支持板50は、円板部50aと脚部50bとにより構成される。円板部50aは、水平に形成され、匣Wを載置させるために設けられる。そして、脚部50bは、その高さ分だけ昇降テーブル12の載置平面46bより匣Wを嵩上げするために設けられる。また、載置部46が配置されている部分以外の面には、載置平面46bに平行して遮蔽面48bが形成される。昇降テーブル12が上昇したとき、遮蔽面48bは、炉本体10の底面10a側と近接することにより、熱を遮蔽する機能を有する。支持部48における回転装置14側に底面48cが形成される。底面48cの中心は、回転装置14の回転軸14aと連結される。
The raising / lowering table 12 is provided in order to mount the eaves W for accommodating in the furnace
回転装置14は、昇降テーブル12を炉本体10内において、回転駆動させるために設けられる。回転装置14は、回転軸14aおよび回転軸14aを回転させるための原動機としてのモータ14bにより構成される。回転軸14aの一方端は、昇降テーブル12の支持部48における底面48cの中央に連結される。そして、回転軸14aの他方端はモータ14bに連結される。したがって、昇降テーブル12は、回転装置14のモータ14bによる回転によって回転駆動される。このように、昇降テーブル12が回転駆動することによって、匣Wに載置されているセラミック成形体を均等に加熱するとともに、さらに、セラミック成形体がガス供給管34により供給される雰囲気ガスと均等に触れる。なお、匣Wを加熱室32内に出し入れするために、昇降テーブル12および回転装置14を上下移動させるための昇降装置(図示せず)が設けられる。
The
シール板16は、雰囲気ガス等が、昇降式熱処理炉1より外部へ漏れ出すのを防止するために設けられる。シール板16は、炉本体10の底面10aから下方に向かって少なくとも昇降テーブル部12および回転軸14aが収容可能な範囲まで延設される。シール板16は、昇降テーブル12の回転中心と同軸に円筒状に形成される。そして、シール板16のさらに内側には、防護壁18が形成される。また、昇降テーブル12が上昇した際に、シール板16の下端部と接するように取付板20が設けられる。
The
防護壁18は、バインダー分解ガスのタール状の蓄積物が、シール板16の内側面16aに付着することを防止するために設けられる。防護壁18は、炉本体10の底面10aから下方に向かってシール板16にタール状の蓄積物が付着するのを防止できる範囲まで延設される。防護壁18は、昇降テーブル12の回転中心と同軸に円筒状に形成される。また、防護壁18は、シール板16より内側に形成される。したがって、シール板16と防護壁18との間には空間が形成される。このシール板16の内側面16aと防護壁18の側面18aとの間の空間には、ガス導入管52が配置される。そして、後述するガス導入管52のガス吹出し口52cが、防護壁18の側面18aに、例えば、横一列に設けられる。したがって、ガス吹出し口52cは、防護壁18の側面18aを取り囲むように放射状に設けられる。また、昇降テーブル12が開口部26に挿入された場合、防護壁18の側面18aと昇降テーブル12の第2の側面48aとは対向しており、第2の隙間g2が形成される。
The
ガス導入管52は、載置部46の第1の側面46aと開口部26の壁面26aとの間に形成される第1の隙間g1から漏れようとするバインダー分解ガスが、炉本体10より底部に向かうことを阻止するために設けられる。ガス導入管52は、ガス導入部52aおよび配管52bにより構成される。ガス導入部52aには、第2の隙間g2にガス供給管34より供給された雰囲気ガスと同種の雰囲気ガスを供給するためのガス吹出し口52cが形成される。配管52bの一方端は、ガス導入部52aと接続され、配管52bの他方端は、ガス供給源(図示せず)と接続されている。ガス導入部52aは、昇降テーブル12の第2の側面48aを取り囲むように(リング状に)防護壁18とシール板16の間に形成される。ガス吹出し口52cは、昇降テーブル12の昇降方向に対して直交する方向であって、昇降テーブル12の第2の側面48aに対して垂直に交わる方向(すなわち、昇降テーブル12の軸中心の方向)に向くように形成される。また、ガス導入管52は、シール部28より下方に形成される。
In the
第2の隙間g2のような狭い空間において、防護壁18に設けられたガス吹出し口52cから雰囲気ガスと同種のガスを吹出すことで、第2の側面48aにおける圧力が高まる。そのため、載置部46の第1の側面46aと開口部26の壁面26aとの間に形成される第1の隙間g1から漏れようとするバインダー分解ガスが、第2の隙間g2を通過し難くなる。したがって、そのバインダー分解ガスは、炉本体10より底部に向かうことを阻止され、炉室24内に押し戻される。また、ガス吹出し口52cは、昇降テーブル12の軸を中心として第2の側面48aを取り囲むように放射状に形成されるので、昇降テーブル12の回転駆動の影響を受けることなく、バインダー分解ガスが、第2の隙間g2を容易に通過することを阻止することができる。そして、ガス吹出し口52cにより押し戻されたバインダー分解ガスは、排気ダクト40により排気される。なお、上述したように、ガス導入管52により導入される雰囲気ガスは、ガス供給管34により供給される雰囲気ガスと同種なので、炉室24内の雰囲気を乱す恐れはない。
In a narrow space such as the second gap g2, the pressure on the
取付板20は、昇降テーブル12の回転中心と同軸に円板状に形成される。取付板20の中心に回転軸14aが貫通している。取付板20の上面には、回転軸14aと同軸に、そして、シール板16の下端部と対向するように耐熱性シール材20aが設けられる。また、昇降テーブル12が上昇した際にシール板16の下端部と耐熱性シール材20aとが圧接される。耐熱性シール材20aは、例えば、耐熱性のゴム材等により形成される。これにより、雰囲気ガス等が、昇降式熱処理炉1から外部へ漏れ出ることを防止している。
The mounting
炉本体支持部22は、炉本体10を支持するために設けられる。炉本体支持部22は、炉本体10の外周壁の下端側に形成される。炉本体支持部22は、昇降テーブル12の回転中心と同軸に円筒形に形成される。炉本体支持部22の内部には、昇降テーブル12や回転装置14が配置される。
The furnace
次に、上記構成からなる昇降式熱処理炉1の動作を説明する。まず、昇降テーブル12を昇降装置によって降下させ、昇降テーブル12上に匣Wを複数個積み重ねて載置させる。その後、昇降テーブル12を開口部26に向かって昇降装置により上昇させて匣Wを加熱室32内に収容する。このとき、シール部28の他方端部28cが、昇降テーブル12の遮蔽面48bと接し、さらに、昇降テーブル12が上昇すると、シール部28の他方端部28cは、シール板16の方に向かって遮蔽面48b上を滑るように放射状に曲げられる。そうすると、シール部28の他方端部28cの他方面28dの一部は、昇降テーブル12の遮蔽面48bと面接触する。また、昇降テーブル12が開口部26に配置されたとき、昇降テーブル12の載置平面46bと炉床部30とは同一平面を形成する。
Next, the operation of the elevating
次に、回転装置14のモータ14bによって昇降テーブル12を一方向に回転させ、ヒータ36および羽根部38bの駆動によって炉室24内において循環方向Fの循環ガス流を発生させる。そして、ガス供給管34により供給された雰囲気ガスが、炉室24内に供給される。供給された雰囲気ガスは、送風機38により引き込まれることから、ヒータ36を通過する。これにより雰囲気ガスが加熱される。この加熱された雰囲気ガスは、循環通路42に送られ、入口通気孔44aを通って加熱室32内に吹き込まれる。このとき、昇降テーブル12が回転しているので、匣Wに載置されているセラミック成形体は、均等に加熱されるとともに、雰囲気ガスにも均等に触れる。このように、加熱室32内の匣Wに収容されたセラミック成形体を脱脂処理する。
Next, the elevating table 12 is rotated in one direction by the
この脱脂工程において、被熱処理物であるセラミック成形体から発生したバインダー分解ガスは、排気ダクト40から排気させる一方で、雰囲気ガスより重いので、その一部が昇降テーブル12の第1の側面46aと炉本体10の開口部26における壁面26aとの間に形成される第1の隙間g1に流れ込もうとする。このとき、開口部26にはシール部28が設けられており、シール部28の他方端部28cの他方面28dの一部と昇降テーブル12の遮蔽面48bとが面接触していることから、第1の隙間g1を通って炉本体10より下部側にバインダー分解ガスが容易に流れこむことを阻止することができる。さらに、防護壁18に設けられたガス導入管52のガス吹出し口52cより、昇降テーブル12の支持部48における第2の側面48aを取り囲むように、かつ第2の隙間g2のような狭い空間に、ガス供給管34より供給される雰囲気ガスと同種の雰囲気ガスが打ち付けられるので、バインダー分解ガスの液化が防止され、炉本体10より下部側に流れ込むことを防止することができる。また、防護壁18の側面18aに対するタール状の蓄積物の付着も防止することができる。さらに、昇降テーブル12は、回転装置14により回転駆動しているが、昇降テーブル12の回転駆動の影響を受けることなく、シール部28の他方端部28cの他方面28dの一部と昇降テーブル12の遮蔽面48bとの面接触が維持され、また、昇降テーブル12の支持部48における第2の側面48aを取り囲むように、ガス導入管52より雰囲気ガスを打ち付けることができるので、バインダー分解ガスが、炉本体10より下部側に流れ込むことを防止することができる。
In this degreasing step, the binder decomposition gas generated from the ceramic molded body, which is a heat-treated object, is exhausted from the
そして、脱脂工程の終了後、昇降テーブル12を降下させ、匣Wを昇降テーブル12から取り出して次の本焼成炉に運び、本焼成を実施する。 And after completion | finish of a degreasing process, the raising / lowering table 12 is lowered | hung, the eaves W is taken out from the raising / lowering table 12, and it carries to the following main baking furnace, and main baking is implemented.
本発明にかかる昇降式熱処理炉1は、炉本体10に形成される開口部26の壁面26aと昇降テーブル12の第1の側面46aとの間に形成される第1の隙間g1にシール部28が設けられ、さらに、昇降テーブル12の第2の側面48aと防護壁18の側面18aとの間の第2の隙間g2のような狭い空間にガス導入管52からガスが吹出すように設けられる。このような昇降式熱処理炉1におけるシール部28とガス導入管52とを組み合わせた構成とすることにより、昇降テーブル12が回転駆動していても、タール成分を含むバインダー分解ガスが、炉本体10より第1の隙間g1を通って底部に向かって容易に流れ込むことを困難にさせ、さらに、ガス導入管52により雰囲気ガスを第2の側面48aを取り囲むように側面に向けて打ち込むことで、第1の隙間g1を通って流れ込んだバインダー分解ガスの液化が防止され、第2の隙間g2のような狭い空間を通ってさらに炉本体10より下部側に流れ込むことを困難にすることができる。また、防護壁18の側面18aに対するタール状の蓄積物の付着を防止することができる。したがって、炉本体10より下部側におけるタール状の蓄積物の発生を防止することができる。
The elevating
また、本発明にかかる昇降式熱処理炉1によれば、シール板16の内側に円筒状の防護壁18が設けられているので、昇降テーブル12と開口部26とにより形成される第1の隙間g1を通過したバインダー分解ガスによるタール状の蓄積物が、シール板16の内側面16aに付着することを防止することができる。
Further, according to the elevating
なお、本実施形態にかかる昇降式熱処理1において、シール部28は、図3(a)に示すように開口部26の壁面26aと載置部46の第1の側面46aとの間に設けられていてもよいし、図3(b)に示すように炉本体10の底面10aと遮断面48bとの間に設けられていてもよいし、図3(c)に示すように炉本体10の底面10aと載置部46の第1の側面46aとの間に設けられていてもよい。
In the elevating
図3(a)に示すシール部28は、例えば、円筒状に形成される。そして、シール部28の一方端部28aの一方面28bの一部は、開口部26の壁面26aの下端側に沿って、例えば、ネジ等により固定される。昇降テーブル12が開口部26に挿入された場合、シール部28の他方端部28cは、昇降テーブル12の第1の側面46aと接触しながら上方(他方面28d側)に向かって曲げられる。その結果、シール部28の他方端部28cの一方面28bの一部は、昇降テーブル12の第1の側面46aと面接触する。
The
図3(b)に示すシール部28は、例えば、円筒状に形成される。そして、シール部28の一方端部28aの一方面28bの一部は、炉本体10の底面10aに、例えば、ネジ等により固定される。昇降テーブル12が開口部26に挿入された場合、シール部28の他方端部28cは、昇降テーブル12の遮蔽面48bと接触しながら外周側となるシール板16側(他方面28d側)に向かって放射状に曲げられる。その結果、シール部28の他方端部28cの一方面28bの一部は、昇降テーブル12の遮蔽面48bと面接触する。
The
図3(c)に示すシール部28は、例えば、円環状に形成される。そして、シール部28の一方端部28aの一方面28bの一部は、炉本体10の底面10aに、例えば、ネジ等により固定される。シール部28の内径側には、他方端部28cがあり、その他方端部28cの内側には昇降テーブル12の載置部46の径よりも小さい開口穴が形成される。開口穴は、載置部46の径より小さく形成されるので、この開口穴に昇降テーブル12の載置部46が挿入された場合に、シール部28の他方端部28cにおける他方面28dと載置部46の第1の側面46aとが面接触しながら、他方端部28cが上方(他方面28d側)に向かって曲げられる。
The
次に、昇降式熱処理炉の参考例について説明する。図4は、図1に記載の昇降式熱処理炉の参考例である昇降式熱処理炉の概略断面図であり、図5は、図4に記載の昇降式熱処理炉のB部の拡大図である。なお、この参考例の中で、図1および図2に記載の昇降式熱処理炉1と同一の部分には同一の符号を付して説明を省略する。
Next, a reference example of the elevating heat treatment furnace will be described. 4 is a schematic cross-sectional view of an elevating heat treatment furnace which is a reference example of the elevating heat treatment furnace shown in FIG. 1, and FIG. 5 is an enlarged view of part B of the elevating heat treatment furnace shown in FIG. . In this reference example, the same parts as those in the elevating
本参考例にかかる昇降式熱処理炉2では、昇降式熱処理炉1とは異なり、ガス導入管52に代えて、防護壁18に対してシール部材60を設けている。このシール部材60は、例えば、円環状に形成される。シール部材60は、防護壁18から半径方向に突設するように設けられる。シール部材60の内径は、昇降テーブル12の載置部46の径より大きく、昇降テーブル12の支持部48の径より小さい。シール部材60の内径側には、内端部60aがあり、内端部60aの内側には開口穴が形成される。開口穴は、支持部48の径より小さく形成されるので、この開口穴に昇降テーブル12の支持部48が挿入された場合に、シール部材60の内端部60aにおける下面60cと支持部48の第2の側面48aとが面接触しながら、内端部60aが上方に曲げられる。また、シール部材60は、弾性体により形成され、例えば、シリコン、ウレタン、またはゴム材等により形成される。
In the elevating
本参考例にかかる昇降式熱処理炉2では、昇降式熱処理炉1と同様の効果を奏するとともに、次の効果も奏する。すなわち、ガス導入管52に代えてシール部材60を設けることで、ガス導入管52を別途配置する必要がないことから、ガス導入管52を設置するために必要な設備の準備をする必要がない。
In the elevating
なお、昇降式熱処理炉1,2では、炉本体10の底面10a側において、シール板16の内側に防護壁18を設けているが、これに限られるものではなく、防護壁18を特に設けていなくてもよい。この場合、シール板16の内側面16aにガス導入管52のガス吹出し口52cが設けられるようにしておき、シール板16と昇降テーブル12の第2の側面48aができるだけ近接するように形成されるのが望ましい。
In the temperature Fushiki
また、昇降式熱処理炉1,2において、カーテン状のシール部28は、シール部28の一部が炉本体10側に固定されてもよく、昇降テーブル12に固定されてもよい。したがって、カーテン状のシール部28は、シール部28の一方端部28aまたは他方端部28cのうちの少なくとも片方の端部が自由端となるように固定される。
Further, in the temperature Fushiki
昇降式熱処理炉1,2では、ガス導入管52のガス吹出し口52cは、防護壁18の側面18aに横一列に等間隔に設けているが、これに限られるものではなく、横二列に斜めにジグザグに設けても良い。したがって、ガス導入管52のガス吹出し口52cの配置は、第2の隙間g2のような狭い空間において、第2の側面48aに対して雰囲気ガスを打ち込むことが可能な構造であればよい。
In the temperature Fushiki
さらに、昇降式熱処理炉1,2では、熱源としてのヒータ36は、炉室24内の隔壁部材44の上面側であって、かつ中央に配置しているが、これに限られるものではなく、循環通路42の途中に設けられるのであれば、炉室24の下部側に設けるようにしてもよい。
Furthermore, the temperature Fushiki
また、昇降式熱処理炉1,2では、円筒形の熱処理炉により構成されているが、これに限られるものではなく、角筒形(箱型)であってもよい。また、昇降テーブル12は、回転型のターンテーブルに限らず、昇降のみを行う台であってもよい。したがって、昇降テーブル12の形状は、矩形であってもよく、円盤形状に限らない。また、昇降テーブル12は、円筒形のテーブルでも構わない。
Further, the temperature Fushiki
この発明にかかる昇降式熱処理炉は、例えば、セラミック成形体を脱脂または焼成処理する炉として用いられる。 The elevating heat treatment furnace according to the present invention is used, for example, as a furnace for degreasing or firing a ceramic molded body.
Claims (1)
前記炉本体の底部に形成される開口部と、
前記炉本体の内部に配置される熱源と、
前記炉本体の前記開口部に近接または離間して前記炉本体の内部に被熱処理物を出し入れするための昇降テーブルと、
を有する昇降式熱処理炉であって、
前記炉本体の底部と前記昇降テーブルとの隙間に配置されるカーテン状のシール部と、
前記炉本体内部の雰囲気ガスと同種のガスを前記昇降テーブルの側面に向けて吹出すために、前記シール部より下方に設置されるガス吹出し口と、
を備え、
前記昇降テーブルの下方に設けられる板状の取付板と、
前記炉本体の外部の底面側から延設され、前記取付板に接するように設けられるシール板と、
前記シール板と前記昇降テーブルの側面との間であって、前記昇降テーブルの側面に近接するように前記炉本体の外部の底面側から延設された防護壁と、を有することを特徴とする、昇降式熱処理炉。 A furnace body;
An opening formed in the bottom of the furnace body;
A heat source disposed inside the furnace body;
An elevating table for taking in and out the object to be heat-treated into or out of the furnace body close to or away from the opening of the furnace body,
An elevating heat treatment furnace having
A curtain-like seal portion disposed in a gap between the bottom of the furnace body and the lifting table;
In order to blow out the same kind of gas as the atmosphere gas inside the furnace body toward the side surface of the lifting table, a gas blowout port installed below the seal part;
Equipped with a,
A plate-like mounting plate provided below the lifting table;
A seal plate that extends from the bottom side of the outside of the furnace body and is provided so as to be in contact with the mounting plate;
A between the side surface of the lifting table and the sealing plate, characterized Rukoto to have a, and extended by a protective barrier from the outside of the bottom side of the furnace body so as to approach the side surface of the elevating table An elevating heat treatment furnace.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013500915A JP5553127B2 (en) | 2011-02-25 | 2012-01-05 | Elevating heat treatment furnace |
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011040171 | 2011-02-25 | ||
JP2011040171 | 2011-02-25 | ||
PCT/JP2012/050044 WO2012114779A1 (en) | 2011-02-25 | 2012-01-05 | Elevator-type thermal processing furnace |
JP2013500915A JP5553127B2 (en) | 2011-02-25 | 2012-01-05 | Elevating heat treatment furnace |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2012114779A1 JPWO2012114779A1 (en) | 2014-07-07 |
JP5553127B2 true JP5553127B2 (en) | 2014-07-16 |
Family
ID=46720569
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013500915A Active JP5553127B2 (en) | 2011-02-25 | 2012-01-05 | Elevating heat treatment furnace |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5553127B2 (en) |
CN (1) | CN103392107B (en) |
WO (1) | WO2012114779A1 (en) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106222384A (en) * | 2016-10-20 | 2016-12-14 | 神雾环保技术股份有限公司 | Heat-treatment furnace light sealing curtain |
CN108120286A (en) * | 2018-01-02 | 2018-06-05 | 深圳市晟腾企业管理有限公司 | It is a kind of can automatic loading/unloading vertical type ceramic brick drying burning kiln |
JP7073016B2 (en) * | 2020-01-10 | 2022-05-23 | 中外炉工業株式会社 | Clean heat treatment equipment |
JP7432549B2 (en) * | 2021-03-24 | 2024-02-16 | 日本碍子株式会社 | Batch heat treatment furnace |
JP7432548B2 (en) * | 2021-03-24 | 2024-02-16 | 日本碍子株式会社 | Batch type heat treatment equipment |
JP7373517B2 (en) * | 2021-03-24 | 2023-11-02 | 日本碍子株式会社 | Batch heat treatment furnace and heat treatment furnace system |
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CN201402052Y (en) * | 2009-03-06 | 2010-02-10 | 苏州新长光热能科技有限公司 | Vertically lifting discharging machine |
-
2012
- 2012-01-05 JP JP2013500915A patent/JP5553127B2/en active Active
- 2012-01-05 CN CN201280009867.2A patent/CN103392107B/en active Active
- 2012-01-05 WO PCT/JP2012/050044 patent/WO2012114779A1/en active Application Filing
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2012114779A1 (en) | 2014-07-07 |
WO2012114779A1 (en) | 2012-08-30 |
CN103392107B (en) | 2015-05-27 |
CN103392107A (en) | 2013-11-13 |
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---|---|---|---|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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