JP5552792B2 - Gas dissolved water production apparatus and production method - Google Patents

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本発明はガス溶解水の製造装置及び製造方法に関し、特に水の電気分解方式で製造したガスを水に溶解させることにより、ガス溶解水を製造するガス溶解水の製造装置及びこの製造装置を用いたガス溶解水の製造方法に関する。   The present invention relates to a gas-dissolved water manufacturing apparatus and method, and more particularly, to a gas-dissolved water manufacturing apparatus for manufacturing gas-dissolved water by dissolving a gas manufactured by water electrolysis in water. The present invention relates to a method for producing dissolved gas water.

従来、半導体用シリコン基板、液晶用ガラス基板等の洗浄は、主として、過酸化水素水と硫酸との混合液、過酸化水素水と塩酸と水との混合液、過酸化水素水とアンモニア水と水との混合液等、過酸化水素をベースとする濃厚な薬液を用いて高温で洗浄した後に超純水で濯ぐ、いわゆるRCA洗浄法によって行われている。しかし、このRCA洗浄法では、過酸化水素水、高濃度の酸、アルカリ等を多量に使用するために薬液コストが高く、さらにリンス用の超純水のコスト、廃液処理コスト、薬品蒸気を排気し新たに清浄空気を調製する空調コスト等、多大なコストを要する。   Conventionally, cleaning of a silicon substrate for a semiconductor, a glass substrate for a liquid crystal, etc., mainly includes a mixed solution of hydrogen peroxide solution and sulfuric acid, a mixed solution of hydrogen peroxide solution, hydrochloric acid and water, hydrogen peroxide solution and ammonia water. This is carried out by a so-called RCA cleaning method in which a concentrated chemical solution based on hydrogen peroxide such as a mixed solution with water is used for cleaning at a high temperature and then rinsed with ultrapure water. However, this RCA cleaning method uses a large amount of hydrogen peroxide, high-concentration acid, alkali, etc., so the chemical cost is high, and the cost of rinsing ultrapure water, the cost of waste liquid treatment, and chemical vapor are exhausted. However, a large cost such as an air conditioning cost for newly preparing clean air is required.

これに対し、洗浄工程におけるコストの低減や、環境への負荷の低減を目的とした様々な取り組みがなされ、成果を挙げている。その代表が、水素ガス等の特定のガスを溶解したガス溶解水を用い、超音波洗浄等によって被処理物を洗浄する技術である。   On the other hand, various efforts have been made to reduce costs in the cleaning process and reduce the burden on the environment. A typical example is a technique for cleaning an object to be processed by ultrasonic cleaning or the like using gas-dissolved water in which a specific gas such as hydrogen gas is dissolved.

しかしながら、半導体や液晶ディスプレイ製造分野において製品の微細化、高機能化、高性能化が進むにつれ、製造で使用されるユーティリティー関連についても極めて高度な制御が要求されるようになってきている。すなわち、揺らぎの少ない一定したスペックを要求されるようになってきている。   However, as the miniaturization, higher functionality, and higher performance of products in the semiconductor and liquid crystal display manufacturing field proceed, extremely high level of control is required for utilities related to manufacturing. That is, a constant specification with little fluctuation is required.

例えば、酸素、水素、オゾン、窒素、炭酸等のガスを純水又は超純水等に溶解したガス溶解水に関しても、溶存ガス濃度によって製造する製品に様々な影響を与えてしまうため、水がガスに溶けている量を厳しく一定濃度に管理することが要求されるようになってきている。こういった状況の中、水の流量やガスの流量をより精密に制御するために、ガス流量制御にマスフローコントローラー(MFC)等が用いられるようになってきている。   For example, gas dissolved water in which gases such as oxygen, hydrogen, ozone, nitrogen, carbonic acid, etc. are dissolved in pure water or ultrapure water, etc., will have various effects on the products produced depending on the dissolved gas concentration. There is an increasing demand to strictly control the amount dissolved in gas to a constant concentration. Under such circumstances, in order to control the flow rate of water and the flow rate of gas more precisely, a mass flow controller (MFC) or the like has been used for gas flow rate control.

また、より清浄なガスを供給するために、ガス発生器として、純水又は超純水を電気分解して酸素、水素、オゾン等のガスを発生させる、電気分解方式のガス発生器を採用することが増えてきている。水の電気分解によるガス発生器を用いる場合、発生したガスは多量の水分を含んでいるので、除湿するための機構、例えば除湿膜等を組み合わせて使用することが種々提案されている。   Also, in order to supply cleaner gas, an electrolysis type gas generator that generates oxygen, hydrogen, ozone, or other gas by electrolyzing pure water or ultrapure water is adopted as the gas generator. Things are increasing. In the case of using a gas generator by electrolysis of water, the generated gas contains a large amount of moisture, and various proposals have been made to use in combination with a mechanism for dehumidifying, for example, a dehumidifying film.

例えば、特許文献1には、乾燥ガスを供給するガス配管に分岐状のガス供給ラインを設け、該ガス供給ラインにガス溶解装置を連結すると共に、上記ガス配管とガス溶解装置との間に脱水剤や水分除去フィルタ等の水分除去装置を設け、かつガス供給ラインにおけるガス流路を開閉するためのバルブを設けてなるガス溶解水製造装置が開示されている。   For example, in Patent Document 1, a branched gas supply line is provided in a gas pipe for supplying a dry gas, a gas dissolving device is connected to the gas supply line, and dehydration is performed between the gas pipe and the gas dissolving device. A gas-dissolved water production apparatus is disclosed in which a water removal device such as an agent or a water removal filter is provided and a valve for opening and closing a gas flow path in a gas supply line is provided.

上記特許文献1に記載されたガス溶解水製造装置は、脱水剤や水分除去フィルタ等により、水の電気分解により生じたガスに含まれる水分を除去して乾燥ガスとして供給することが可能である。しかしながら、ガス溶解水製造装置をメンテナンスや工場停止により長期間停止した場合、水の電気分解方式によるガス発生器も停止するため、電極と除湿膜との間の配管等に凝縮水が貯まるという現象が生じ、その凝縮水が、長期停止後のガス溶解水製造装置の起動時に、除湿膜では十分に除湿されず、ガス供給配管からMFCに流入するおそれがあることがわかった。   The gas-dissolved water production apparatus described in Patent Document 1 can remove moisture contained in a gas generated by water electrolysis with a dehydrating agent, a moisture removal filter, or the like and supply it as a dry gas. . However, when the gas-dissolved water production device is stopped for a long time due to maintenance or factory shutdown, the gas generator by water electrolysis is also stopped, so that condensed water accumulates in the piping between the electrode and the dehumidifying membrane. It was found that the condensed water is not sufficiently dehumidified by the dehumidifying membrane when starting the gas-dissolved water production apparatus after long-term shutdown, and may flow into the MFC from the gas supply pipe.

また、特許文献2には、ガス溶解装置のガス供給通路内において生じる凝縮水を除去することを目的として、水の電気分解により生じたガスを純水に溶解するためのガス溶解装置を有し、このガス溶解装置のガス供給通路内において生じる凝縮水を、気液分離器を備えた装置内に排出するように構成したガス溶解水製造装置が開示されている。   Patent Document 2 has a gas dissolving device for dissolving a gas generated by electrolysis of water in pure water for the purpose of removing condensed water generated in the gas supply passage of the gas dissolving device. There is disclosed a gas-dissolved water producing apparatus configured to discharge condensed water generated in a gas supply passage of the gas-dissolving apparatus into an apparatus provided with a gas-liquid separator.

特開2000−70661号公報JP 2000-70661 A 特開2000−297392号公報JP 2000-297392 A

しかしながら、上記特許文献2に記載されたガス溶解水製造装置は、ガス溶解装置内のガス供給通路、すなわち気相室内で生じる凝縮水を除去するものであるので、水の電気分解を行う電解装置からMFCまでの間のガス供給配管に生じる凝縮水を除去するものではい。   However, since the gas-dissolved water producing apparatus described in Patent Document 2 is for removing condensed water generated in a gas supply passage in the gas-dissolving apparatus, that is, in the gas phase chamber, an electrolysis apparatus that performs electrolysis of water. It is not intended to remove the condensed water generated in the gas supply pipe between the pipe and the MFC.

この対策として、ガス溶解水製造装置停止時も除湿膜に乾燥気体を流し続けるという方法が考えられるが、乾燥気体を流し続けるコストの問題や乾燥気体を流し続けることにより除湿膜が乾燥しすぎて破断する等の新たな問題が生じ、根本的な解決には至っていない。このように、従来は、電解装置で水の電気分解により生じたガスを、ガス除湿装置とMFC等のガス流量制御装置とが付設されたガス供給配管を経てガス溶解装置に供給するガス溶解水製造装置において、運転停止時にガス供給配管に生じた凝縮水を除去してガス流量制御装置への流入等を防止し得るものはなかった。   As a countermeasure, there can be considered a method in which the dry gas continues to flow through the dehumidifying membrane even when the gas-dissolved water production apparatus is stopped. New problems such as breakage have occurred, and no fundamental solution has been reached. As described above, conventionally, the gas dissolved water supplied to the gas dissolving apparatus through the gas supply pipe provided with the gas dehumidifying apparatus and the gas flow rate control apparatus such as the MFC is supplied to the gas generated by the electrolysis of water in the electrolysis apparatus. None of the manufacturing apparatuses can remove the condensed water generated in the gas supply pipe when the operation is stopped to prevent the inflow to the gas flow rate control apparatus.

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、運転停止時にガス供給配管に生じた凝縮水を除去してガス流量制御装置への流入等を防止し得るガス溶解水製造装置を提供することを目的とする。また、本発明は、運転停止時にガス供給配管に生じた凝縮水を除去してガス流量制御装置への流入等を防止し得るガス溶解水製造装置を用いたガス溶解水の製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above problems, and provides a gas-dissolved water production apparatus that can remove condensate generated in a gas supply pipe when operation is stopped to prevent inflow to a gas flow rate control apparatus. For the purpose. In addition, the present invention provides a method for producing dissolved gas using a dissolved gas production apparatus that can remove condensed water generated in the gas supply pipe when operation is stopped to prevent inflow to the gas flow rate control device. For the purpose.

上記課題を解決するために、第一に本発明は、水の電気分解を行う電解装置と、水の電気分解により生じたガスを純水に溶解するためのガス溶解装置と、前記電解装置と前記ガス溶解装置の気相側とを連結するガス供給配管と、前記ガス溶解装置の液相側に連通する純水供給配管とを備え、前記ガス供給配管にガス除湿装置と前記ガス溶解装置内へのガス供給量を制御するガス流量制御装置とが順次付設されたガス溶解水製造装置であって、前記電解装置と前記ガス流量制御装置との間のガス供給配管に水滴除去装置を設けたことを特徴とするガス溶解水製造装置を提供する(発明1)。 In order to solve the above problems, first, the present invention provides an electrolysis apparatus for electrolyzing water, a gas dissolution apparatus for dissolving a gas generated by electrolysis of water in pure water, and the electrolysis apparatus. A gas supply pipe that connects the gas phase side of the gas dissolving apparatus; and a pure water supply pipe that communicates with a liquid phase side of the gas dissolving apparatus. The gas supply pipe includes a gas dehumidifier and an inside of the gas dissolving apparatus. A gas-dissolved water production apparatus in which a gas flow rate control device for controlling the gas supply amount to the gas is sequentially attached, and a water droplet removal device is provided in a gas supply pipe between the electrolysis device and the gas flow rate control device A gas-dissolved water production apparatus characterized by the above is provided ( Invention 1).

上記発明(発明1)によれば、電解装置により水を電気分解し、この電気分解により生じたガスを、ガス流量制御装置で流量を正確に制御してガス溶解装置に供給して純水に溶解することによりガス溶解水を製造することができる。このとき、水の電解により生じるガスは多量の水分を含んでいるが、ガス除湿装置により電解ガス中の水分が除去されるので、該水分がガス流量制御装置に悪影響を与えないようになっている。さらに、このガス溶解水製造装置をメンテナンスや工場停止により長期間停止した場合、電解装置も停止するので電解装置の電極とガス除湿装置との間の配管等に凝縮水が貯まり、ガス溶解水製造装置を再度立ち上げるとガス供給配管からガス流量制御装置側に向けて凝縮水が移動する。この凝縮水は、ガス除湿装置では十分に除去されないが、ガス流量制御部の上流側に水滴除去装置を設けているので、凝縮水がガス流量制御装置に到達することがなく、長期停止後等でもガス溶解水製造装置を適切に稼動することが可能となっている。 According to the above invention ( Invention 1), water is electrolyzed by the electrolyzer, and the gas generated by this electrolysis is supplied to the gas dissolving device by accurately controlling the flow rate by the gas flow rate control device to be pure water. By dissolving, gas-dissolved water can be produced. At this time, although the gas generated by the electrolysis of water contains a large amount of moisture, the moisture in the electrolytic gas is removed by the gas dehumidifier so that the moisture does not adversely affect the gas flow rate control device. Yes. Furthermore, when this gas-dissolved water production device is stopped for a long period of time due to maintenance or factory stop, the electrolysis device is also stopped, so condensed water is stored in the piping between the electrode of the electrolysis device and the gas dehumidifier, etc. When the apparatus is started up again, the condensed water moves from the gas supply pipe toward the gas flow rate control apparatus. This condensed water is not sufficiently removed by the gas dehumidifier, but since the water droplet removing device is provided upstream of the gas flow control unit, the condensed water does not reach the gas flow control device, and after a long-term stop, etc. However, it is possible to operate the gas dissolved water production apparatus appropriately.

上記発明(発明1)においては、前記水滴除去装置を前記ガス除湿装置と前記ガス流量制御装置との間のガス供給配管に設けるのが好ましい(発明2)。 In the said invention ( invention 1), it is preferable to provide the said water droplet removal apparatus in the gas supply piping between the said gas dehumidification apparatus and the said gas flow control apparatus ( invention 2).

上記発明(発明2)によれば、水滴除去装置をガス除湿装置とガス流量制御装置との間のガス供給配管にガス流量制御部の上流側に設けているので、ガス除湿装置で除去されなかった凝縮水を確実に除去することで、凝縮水がガス流量制御装置に到達することがなく、長期停止後等でもガス溶解水製造装置を適切に稼動することが可能となっている。 According to the above invention ( Invention 2), since the water droplet removing device is provided in the gas supply pipe between the gas dehumidifying device and the gas flow rate control device on the upstream side of the gas flow rate control unit, it is not removed by the gas dehumidifying device. By reliably removing the condensed water, the condensed water does not reach the gas flow rate control device, and the gas-dissolved water production device can be appropriately operated even after a long-term stoppage.

上記発明(発明1,2)においては、前記水滴除去装置がガスフィルタであるのが好ましい(発明3)。かかる発明(発明3)によれば、ガスフィルタはガスのみを透過し、水分を除去することができるので、ガス供給配管の凝縮水を確実に取り除くことができる。 In the said invention ( invention 1 and 2), it is preferable that the said water droplet removal apparatus is a gas filter ( invention 3). According to this invention ( invention 3), since the gas filter can pass only gas and remove moisture, the condensed water in the gas supply pipe can be surely removed.

上記発明(発明1〜3)においては、前記電解装置での水の電気分解により生じたガスは、水素、酸素又はオゾンである(発明4)。 In the said invention ( invention 1-3), the gas produced by the electrolysis of the water in the said electrolysis apparatus is hydrogen, oxygen, or ozone ( invention 4).

上記発明(発明1〜4)においては、前記ガス流量制御装置がマスフローコントローラであるのが好ましい(発明5)。 In the said invention ( invention 1-4), it is preferable that the said gas flow rate control apparatus is a mass flow controller ( invention 5).

上記発明(発明5)によれば、マスフローコントローラは、ガス流量の正確な制御に優れている一方、水分の混入により支障を生じやすいが、マスフローコントローラに浸入するのを防止することが可能となっている。 According to the above invention ( Invention 5), the mass flow controller is excellent in accurate control of the gas flow rate, but is liable to cause trouble due to moisture mixing, but can be prevented from entering the mass flow controller. ing.

上記発明(発明1〜5)においては、前記ガス供給配管が、SUS、ナイロン又はフッ素系樹脂であるのが好ましい(発明6)。また、前記ガス溶解装置が、ガス透過膜によって内部が液相室と気相室に区画された気体溶解用のガス透過膜モジュールであるのが好ましい(発明7)。 In the said invention ( invention 1-5), it is preferable that the said gas supply piping is SUS, nylon, or a fluorine resin ( invention 6). Further, it is preferable that the gas dissolving device is a gas permeable membrane module for gas dissolution, which is partitioned into a liquid phase chamber and a gas phase chamber by a gas permeable membrane ( Invention 7).

また、第二に本発明は、請求項1〜7のいずれか1項のガス溶解水製造装置を用いてガス溶解水を製造することを特徴とするガス溶解水の製造方法を提供する(発明8)。 Secondly, the present invention provides a method for producing gas-dissolved water, characterized in that gas-dissolved water is produced using the gas-dissolved water producing apparatus according to any one of claims 1 to 7 ( invention). 8).

かかる発明(発明8)によれば、電解装置により水を電気分解し、この電気分解により生じたガスを、ガス流量制御装置で流量を正確に制御してガス溶解装置に供給して純水に溶解することによりガス溶解水を製造する。このとき、水の電解により生じるガスは多量の水分を含んでいるが、ガス除湿装置により電解ガス中の水分が除去されるので、該水分がガス流量制御装置に悪影響を与えないようになっている。さらに、このガス溶解水製造装置をメンテナンスや工場停止により長期間停止した場合、電解装置も停止するので、電解装置の電極とガス除湿装置との間の配管等に凝縮水が貯まり、ガス溶解水製造装置を再度立ち上げるとガス供給配管からガス流量制御装置側に向けて凝縮水が移動する。この凝縮水は、ガス除湿装置では十分に除去されないが、ガス流量制御部の上流側に水滴除去装置を設けているので、凝縮水がガス流量制御装置に到達することがなく、長期停止後等でもガス溶解水製造装置を適切に稼動することが可能となる。 According to this invention ( invention 8), water is electrolyzed by the electrolyzer, and the gas generated by this electrolysis is supplied to the gas dissolver by accurately controlling the flow rate by the gas flow rate control device to be pure water. Gas-dissolved water is produced by dissolving. At this time, although the gas generated by the electrolysis of water contains a large amount of moisture, the moisture in the electrolytic gas is removed by the gas dehumidifier so that the moisture does not adversely affect the gas flow rate control device. Yes. Furthermore, when this gas-dissolved water production apparatus is stopped for a long period of time due to maintenance or factory stop, the electrolyzer is also stopped, so that condensed water is stored in the piping between the electrode of the electrolyzer and the gas dehumidifier, When the production apparatus is started up again, the condensed water moves from the gas supply pipe toward the gas flow rate control apparatus. This condensed water is not sufficiently removed by the gas dehumidifier, but since the water droplet removing device is provided upstream of the gas flow control unit, the condensed water does not reach the gas flow control device, and after a long-term stop, etc. However, the gas-dissolved water production apparatus can be properly operated.

本発明のガス溶解水製造装置によれば、電解装置により水を電気分解し、この電気分解により生じたガスを、ガス流量制御装置で流量を正確に制御してガス溶解装置に供給して純水に溶解することによりガス溶解水を製造することができ、そして、このガス溶解水製造装置をメンテナンスや工場停止により長期間停止した場合、電解装置も停止するので電極と除湿膜の間の配管等に凝縮水が貯まり、ガス溶解水製造装置を再度立ち上げるとガス供給配管からガス流量制御装置側に向けて凝縮水が移動する。この凝縮水は、ガス除湿装置では十分に除去されないため、ガス流量制御装置に浸入するとガス流量制御装置に支障をきたすおそれがあるが、ガス流量制御部の上流側に水滴除去装置を設けているので、凝縮水がガス流量制御装置に到達することがなく、長期停止後等でもガス溶解水製造装置を適切に稼動することができる。   According to the gas-dissolved water production apparatus of the present invention, water is electrolyzed by an electrolyzer, and the gas generated by the electrolysis is supplied to the gas dissolver by accurately controlling the flow rate by a gas flow rate controller. Gas-dissolved water can be produced by dissolving in water, and when this gas-dissolved water production device is stopped for a long time due to maintenance or factory stop, the electrolysis device is also stopped, so the piping between the electrode and the dehumidifying membrane When the condensed water is stored in the gas dissolved water production apparatus and the gas dissolved water production apparatus is started up again, the condensed water moves from the gas supply pipe toward the gas flow rate control apparatus. Since this condensed water is not sufficiently removed by the gas dehumidifier, there is a possibility that it will interfere with the gas flow control device if it enters the gas flow control device, but a water droplet removal device is provided upstream of the gas flow control unit. Therefore, the condensed water does not reach the gas flow rate control device, and the gas-dissolved water production device can be properly operated even after a long-term stop.

本発明の一実施形態に係るガス溶解水製造装置及び製造方法を説明する系統図である。It is a system diagram explaining the gas dissolved water manufacturing apparatus and manufacturing method concerning one embodiment of the present invention.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。図1は本発明の一実施形態に係るガス溶解水製造装置を説明する系統図である。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a system diagram illustrating a gas-dissolved water production apparatus according to an embodiment of the present invention.

図1において、1はガス製造部であり、2はガス溶解装置たる気体溶解膜モジュールである。ガス製造部1は、電解装置3と気液分離器4とからなり、電解装置3はイオン交換膜5を介して区画された陰極室6と陽極室7とを有し、この電解装置3から気体溶解膜モジュール2を連結するようにガス供給配管8が設けられている。そして、ガス供給配管8には、ガス製造部1に続いてガス除湿装置たる除湿膜9と、ガス流量制御装置たるマスフローコントローラ(MFC)10とが順次設けられている。このMFC10の手前(上流側)には水滴除去装置たるガスフィルタ11が設けられている。一方、12は、純水供給配管であり、この純水供給配管12はガス溶解装置2に連通しているとともに、途中に設けられた分枝管12aにより電解装置3に接続している。   In FIG. 1, 1 is a gas production part, 2 is a gas dissolution membrane module which is a gas dissolution apparatus. The gas production unit 1 includes an electrolysis device 3 and a gas-liquid separator 4, and the electrolysis device 3 includes a cathode chamber 6 and an anode chamber 7 partitioned via an ion exchange membrane 5. A gas supply pipe 8 is provided so as to connect the gas dissolving membrane module 2. The gas supply pipe 8 is sequentially provided with a dehumidifying film 9 serving as a gas dehumidifying device and a mass flow controller (MFC) 10 serving as a gas flow control device following the gas production unit 1. A gas filter 11 serving as a water droplet removing device is provided in front of (upstream side) of the MFC 10. On the other hand, 12 is a pure water supply pipe. This pure water supply pipe 12 communicates with the gas dissolving apparatus 2 and is connected to the electrolysis apparatus 3 by a branch pipe 12a provided in the middle.

上述したような装置構成において、この気体溶解膜モジュール2は、ガス透過膜2aによって液相側である液相室2bと気相側である気相室2cとに区画されており、また、この気相室2cには、凝縮水抜出配管2dが取り付けられていて、この凝縮水抜出配管2dは、図示しない凝縮水除去機構に連通している。なお、液相室2bには、水素溶解水供給配管13が接続されている。   In the apparatus configuration as described above, the gas-dissolving membrane module 2 is divided into a liquid phase chamber 2b on the liquid phase side and a gas phase chamber 2c on the gas phase side by the gas permeable membrane 2a. A condensed water extraction pipe 2d is attached to the gas phase chamber 2c, and this condensed water extraction pipe 2d communicates with a condensed water removal mechanism (not shown). A hydrogen-dissolved water supply pipe 13 is connected to the liquid phase chamber 2b.

このガス透過膜2aとしては、水を透過させず、かつ水に溶解しているガスを透過させるものであれば特に制限はなく、例えば、ポリプロピレン、ポリジメチルシロキサン、ポリカーボネート−ポリジメチルシロキサンブロック共重合体、ポリビニルフェノール−ポリジメチルシロキサン−ポリスルホンブロック共重合体、ポリ(4−メチルペンテン−1)、ポリ(2,6−ジメチルフェニレンオキシド)、ポリテトラフルオロエチレン等の高分子膜等を挙げることができる。   The gas permeable membrane 2a is not particularly limited as long as it does not permeate water and permeates gas dissolved in water. For example, polypropylene, polydimethylsiloxane, polycarbonate-polydimethylsiloxane block copolymer Examples include polymers, polymer films such as polyvinylphenol-polydimethylsiloxane-polysulfone block copolymers, poly (4-methylpentene-1), poly (2,6-dimethylphenylene oxide), polytetrafluoroethylene, and the like. it can.

ガス供給配管8としては、特に制限はないが、ガスバリア性等を考慮するとSUS、ナイロン又はポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体(PFA)等のフッ素系樹脂性の管材を用いることができる。   Although there is no restriction | limiting in particular as gas supply piping 8, If gas barrier property etc. are considered, fluorine resin, such as SUS, nylon or polytetrafluoroethylene (PTFE), tetrafluoroethylene-perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), etc. Tube material can be used.

前記構成につきその作用について説明する。まず、純水供給配管12より超純水を供給する。この純水供給配管12に供給する原水としては、ユースポイントで使用する用途を満足する清浄度があり、ガス透過膜2aを極度に劣化ないし変質させる物質が含まれていない程度の純水であれば特に制限はなく、超純水に限らず、用途によっては脱気水等も純水として用いることができる。   The effect | action is demonstrated about the said structure. First, ultrapure water is supplied from the pure water supply pipe 12. The raw water supplied to the pure water supply pipe 12 may be pure water that has cleanliness that satisfies the application used at the point of use and does not contain a substance that extremely deteriorates or alters the gas permeable membrane 2a. For example, deaerated water or the like can be used as pure water depending on the application.

この超純水は、純水供給配管12から分枝管12aを経て電解装置3に流入し、ここで水の電気分解が行われ、そして、水の電気分解により陰極室6側に水素ガスが生じる。一方、陽極側には酸素ガスが発生し、この酸素ガスは陽極室7より、図示しない酸素ガス流出管を経て系外に排出される。なお、電解装置3内の残留水の余剰分もこの流出管を通して排出される。   The ultrapure water flows from the pure water supply pipe 12 through the branch pipe 12a into the electrolysis apparatus 3, where water is electrolyzed, and hydrogen gas is introduced to the cathode chamber 6 side by electrolysis of water. Arise. On the other hand, oxygen gas is generated on the anode side, and this oxygen gas is discharged out of the system from the anode chamber 7 through an oxygen gas outflow pipe (not shown). The surplus water remaining in the electrolyzer 3 is also discharged through this outflow pipe.

この結果、陰極室6より流出するのは水素ガスと水との気液混合物であり、この気液混合物はガス供給配管8を経て気液分離器4に流入する。気液分離器4において水素ガスと水とが分離し、水素ガスはガス供給配管8を通って気体溶解膜モジュール2に向けて導かれる。一方、水は気液分離器4内に滞留する。   As a result, a gas-liquid mixture of hydrogen gas and water flows out from the cathode chamber 6, and this gas-liquid mixture flows into the gas-liquid separator 4 through the gas supply pipe 8. Hydrogen gas and water are separated in the gas-liquid separator 4, and the hydrogen gas is guided toward the gas dissolution membrane module 2 through the gas supply pipe 8. On the other hand, water stays in the gas-liquid separator 4.

ここで、電解装置3から供給される水素ガスには飽和状態の水蒸気が含まれるが、この水素ガスが除湿膜9を通過することにより水蒸気が除去され、乾燥状態の水素ガスがMFC10に供給され、このMFC10により流量を精密に制御されて気体溶解膜モジュール2の気相室2cに流入することになる。一方、気体溶解膜モジュール2の液相室2bには純水供給配管12を経て超純水が供給される。気相室2c内の水素ガスはガス透過膜2aを通過して液相室2b内に入り込み、ここで超純水に溶解して水素溶解水が得られる。このとき、供給される水素ガス量がMFC10により精密に制御されているので、所定の水素ガスの溶存濃度の水素溶解水を製造することができる。   Here, the hydrogen gas supplied from the electrolyzer 3 includes saturated water vapor, but when the hydrogen gas passes through the dehumidifying film 9, the water vapor is removed, and the dry hydrogen gas is supplied to the MFC 10. The flow rate is precisely controlled by the MFC 10 and flows into the gas phase chamber 2c of the gas dissolving membrane module 2. On the other hand, ultrapure water is supplied to the liquid phase chamber 2 b of the gas dissolution membrane module 2 through the pure water supply pipe 12. The hydrogen gas in the gas phase chamber 2c passes through the gas permeable membrane 2a and enters the liquid phase chamber 2b, where it is dissolved in ultrapure water to obtain hydrogen-dissolved water. At this time, since the amount of supplied hydrogen gas is precisely controlled by the MFC 10, hydrogen-dissolved water having a predetermined concentration of dissolved hydrogen gas can be produced.

また、気体溶解膜モジュール2の液相室2b内には常時、純水供給配管12より超純水が供給され、該液相室2b内には飽和状態の水蒸気が存在し、この水蒸気がガス透過膜2aを通過して気相室2c側に逆拡散して入り込む。そして、この逆拡散により気相室2c内に入り込んだ水蒸気が該気相室2c内で凝縮し、凝縮水が生じる。   Further, ultrapure water is always supplied from the pure water supply pipe 12 into the liquid phase chamber 2b of the gas dissolution membrane module 2, and saturated water vapor exists in the liquid phase chamber 2b, and this water vapor is gas. Passing through the permeable membrane 2a, the gas diffuses back into the gas phase chamber 2c. Then, the water vapor that has entered the gas phase chamber 2c due to the reverse diffusion is condensed in the gas phase chamber 2c to generate condensed water.

このように気相室2cにおいて凝縮水が生じるが、この凝縮水は、図示しない凝縮水除去機構により該気相室2cの下方に連結された凝縮水抜出配管2dから直ちに排出されることになる。したがって気相室2c内に凝縮水が滞留することはない。   As described above, condensed water is generated in the gas phase chamber 2c, and this condensed water is immediately discharged from the condensed water discharge pipe 2d connected to the lower side of the gas phase chamber 2c by a condensed water removing mechanism (not shown). . Therefore, condensed water does not stay in the gas phase chamber 2c.

このようにして気体溶解膜モジュール2により製造された水素溶解水は、水素溶解水供給配管13を経て系外に流出し、例えば半導体製造工場における洗浄工程に送られ、シリコンウエハ等の半導体基板に対する洗浄水として用いられる。   The hydrogen-dissolved water produced by the gas-dissolved membrane module 2 in this manner flows out of the system through the hydrogen-dissolved water supply pipe 13 and is sent to a cleaning process in a semiconductor manufacturing factory, for example, for a semiconductor substrate such as a silicon wafer. Used as washing water.

次に、本実施形態に係るガス溶解水製造装置の長期間の運転停止後における再起動時の動作について説明する。ガス溶解水製造装置を長期間停止すると電解装置3も停止するため、電解装置3と除湿膜9との間のガス供給配管8内に凝縮水が貯まる。そして、ガス溶解水製造装置を再度立ち上げると、再度水素ガスがガス供給配管8から気体溶解膜モジュール2の気相室2cに供給され、これに伴いガス供給配管8内に貯まっている凝縮水も気体溶解膜モジュール2に向かってガス供給配管8内を移動する。この凝縮水は水蒸気ではないので除湿膜9ではあまり除去されない。そのため、このまままでは凝縮水がMFC10に到達して悪影響を及ぼしてしまう。しかしながら、本実施形態においては、MFC10の手前(上流側)にガスフィルタ11を設けており、凝縮水がこのガスフィルタ11で除去され、MFC10に到達することがないので、長期停止後等でもガス溶解水製造装置を適切に稼動することが可能となっている。   Next, the operation | movement at the time of restart after the long-term operation stop of the gas dissolved water manufacturing apparatus which concerns on this embodiment is demonstrated. When the gas dissolved water production apparatus is stopped for a long period of time, the electrolysis apparatus 3 is also stopped, so that condensed water is stored in the gas supply pipe 8 between the electrolysis apparatus 3 and the dehumidifying membrane 9. When the gas-dissolved water production apparatus is started up again, hydrogen gas is supplied again from the gas supply pipe 8 to the gas phase chamber 2c of the gas-dissolved membrane module 2, and condensate water stored in the gas supply pipe 8 accordingly. Also moves in the gas supply pipe 8 toward the gas dissolution membrane module 2. Since this condensed water is not water vapor, it is not so much removed by the dehumidifying film 9. Therefore, until this state, the condensed water reaches the MFC 10 and has an adverse effect. However, in the present embodiment, the gas filter 11 is provided in front of (upstream side) of the MFC 10, and the condensed water is removed by the gas filter 11 and does not reach the MFC 10. It is possible to operate the dissolved water production apparatus appropriately.

以上本発明を一実施形態に基づき説明してきたが、本発明は前記実施形態に限定されない。   Although the present invention has been described based on one embodiment, the present invention is not limited to the embodiment.

例えば、本実施形態においては、水滴除去装置としてのガスフィルタ11をMFC10と除湿膜9との間のガス供給配管8に設けたが、ガス製造部1内で気液分離器4の下流側(図示11aの箇所)に設けてもよいし、ガス製造部1と除湿膜9との間(図示11bの箇所)に設けてもよい。   For example, in the present embodiment, the gas filter 11 as a water droplet removing device is provided in the gas supply pipe 8 between the MFC 10 and the dehumidifying membrane 9, but in the gas production unit 1, the downstream side of the gas-liquid separator 4 ( It may be provided at a location 11a shown in the figure, or may be provided between the gas production unit 1 and the dehumidifying film 9 (location 11b shown).

さらに、水滴除去装置としては、ガスフィルタ11に限らず、水滴トラップ管、シリカゲル等を用いることができる。また、ガス除湿装置としては、除湿膜9に限らず、シリカゲルを用いることができる。   Further, the water droplet removal device is not limited to the gas filter 11 and may be a water droplet trap tube, silica gel, or the like. Moreover, as a gas dehumidification apparatus, not only the dehumidification film | membrane 9 but a silica gel can be used.

供給するガスは水素に限らず、水の電解により供給可能なものであればよく、酸素又はオゾンガス等にも適用可能である。また、ガス流量制御装置としては、MFC10が好ましいが、この場合、MFCの種類は水素、酸素又はオゾン等、供給するガスに応じたものを選択すればよい。   The gas to be supplied is not limited to hydrogen as long as it can be supplied by electrolysis of water, and can be applied to oxygen or ozone gas. As the gas flow rate control device, MFC 10 is preferable. In this case, the type of MFC may be selected according to the gas to be supplied such as hydrogen, oxygen or ozone.

さらに、ガス溶解装置としては、ガス溶解膜を用いた気体溶解膜モジュール2が好ましいが、これに限定されない。   Furthermore, as the gas dissolving device, the gas dissolving membrane module 2 using the gas dissolving membrane is preferable, but not limited thereto.

さらにまた、電解装置3に原料水を供給する分枝管12aは、気体溶解膜モジュール2の液相室2bに超純水を供給する純水供給配管12とは別個独立して設けてもよく、また液相室2bに供給される超純水には必要に応じて酸又はアルカリを添加して予めpH調整を行なった超純水を供給するようにしてもよい。   Furthermore, the branch pipe 12a for supplying raw water to the electrolyzer 3 may be provided independently from the pure water supply pipe 12 for supplying ultrapure water to the liquid phase chamber 2b of the gas dissolution membrane module 2. Further, the ultrapure water supplied to the liquid phase chamber 2b may be supplied with ultrapure water whose pH has been adjusted in advance by adding acid or alkali as necessary.

以下、実施例及び比較例を参照して、本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記の実施例等に何ら限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

〔実施例1,比較例1〕
図1に示すガス溶解水製造装置を用いて、水素溶解水を製造した。装置及び測定条件の詳細は以下の通りである。
[Example 1, Comparative Example 1]
Hydrogen dissolved water was manufactured using the gas dissolved water manufacturing apparatus shown in FIG. Details of the apparatus and measurement conditions are as follows.

気体溶解膜モジュール2のガス透過膜2a:セルガード(株)製「リキセル G284」
原水:脱気した超純水
原水送水量:20L/min
原水の水温:25℃
水素ガス供給量:270cc/min
溶存水素ガス濃度:1.2ppm(mg/L)
Gas permeable membrane 2a of gas dissolution membrane module 2: "Lixel G284" manufactured by Celgard Co., Ltd.
Raw water: Degassed ultrapure water Raw water flow rate: 20 L / min
Raw water temperature: 25 ℃
Hydrogen gas supply rate: 270cc / min
Dissolved hydrogen gas concentration: 1.2 ppm (mg / L)

上記条件で3時間連続運転した後、装置を6時間、1日、3日、7日それぞれ停止した。続いて、ガス溶解水製造装置の再立ち上げを行った場合のMFC10の故障の有無を確認した(実施例1)。結果を表1に示す。また、図1に示すガス溶解水製造装置において、ガスフィルタ11を設置しない以外は同じ装置を用いて、同様に3時間連続運転した後、装置を6時間、1日、3日、7日それぞれ停止した。続いて、ガス溶解水製造装置の再立ち上げを行った場合のMFC10の故障の有無を確認した(比較例1)。結果を表1にあわせて示す。   After continuously operating for 3 hours under the above conditions, the apparatus was stopped for 6 hours, 1 day, 3 days, and 7 days, respectively. Subsequently, the presence or absence of a failure of the MFC 10 when the gas dissolved water production apparatus was restarted was confirmed (Example 1). The results are shown in Table 1. Moreover, in the gas dissolved water manufacturing apparatus shown in FIG. 1, after operating continuously for 3 hours using the same apparatus except not installing the gas filter 11, the apparatus is operated for 6 hours, 1 day, 3 days, and 7 days, respectively. Stopped. Subsequently, the presence or absence of a failure of the MFC 10 when the gas-dissolved water production apparatus was restarted was confirmed (Comparative Example 1). The results are shown in Table 1.

〔実施例2,3〕
図1に示すガス溶解水製造装置において、ガスフィルタを11aの箇所に設置したもの(実施例2)及び11bの箇所に設置したもの(実施例3)を用いて、同様に3時間連続運転した後、装置を6時間、1日、3日、7日それぞれ停止した。続いて、ガス溶解水製造装置の再立ち上げを行った場合のMFC10の故障の有無を確認した。結果を表1にあわせて示す。
[Examples 2 and 3]
In the gas-dissolved water production apparatus shown in FIG. 1, the gas filter was continuously operated for 3 hours in the same manner using the gas filter installed at the position 11a (Example 2) and the gas filter installed at the position 11b (Example 3). Thereafter, the apparatus was stopped for 6 hours, 1 day, 3 days and 7 days, respectively. Subsequently, it was confirmed whether or not there was a failure in the MFC 10 when the gas dissolved water production apparatus was restarted. The results are shown in Table 1.

Figure 0005552792
Figure 0005552792

表1から明らかなようにガスフィルタ11を有しない比較例1では、1日以上装置を停止した後、再立ち上げを行うとMFCに凝縮水によるトラブルが生じたが、実施例1〜3では7日間停止後でもトラブルが生じなかった。   As is clear from Table 1, in Comparative Example 1 having no gas filter 11, troubles caused by condensed water occurred in MFC when the apparatus was restarted after stopping the apparatus for one day or more. No trouble occurred even after 7 days of outage.

1…ガス製造部
2…気体溶解膜モジュール(ガス溶解装置)
3…電解装置
8…ガス供給配管
9…除湿膜(ガス除湿装置)
10…マスフローコントローラ(MFC)(ガス流量制御装置)
11…ガスフィルタ(水滴除去装置)
12…純水供給配管
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Gas production part 2 ... Gas melt | dissolution membrane module (gas melter)
3 ... Electrolysis device 8 ... Gas supply pipe 9 ... Dehumidifying membrane (gas dehumidifying device)
10. Mass flow controller (MFC) (gas flow rate control device)
11 ... Gas filter (droplet removal device)
12 ... Pure water supply piping

Claims (7)

水の電気分解を行う電解装置と、水の電気分解により生じたガスを純水に溶解するためのガス溶解装置と、前記電解装置と前記ガス溶解装置の気相側とを連結するガス供給配管と、前記ガス溶解装置の液相側に連通する純水供給配管とを備え、前記ガス供給配管にガス除湿装置と前記ガス溶解装置内へのガス供給量を制御するガス流量制御装置とが順次付設されたガス溶解水製造装置であって、
前記ガス除湿装置と前記ガス流量制御装置との間のガス供給配管に水滴除去装置を設けたことを特徴とするガス溶解水製造装置。
An electrolysis apparatus that performs electrolysis of water, a gas dissolution apparatus that dissolves gas generated by water electrolysis in pure water, and a gas supply pipe that connects the electrolysis apparatus and the gas phase side of the gas dissolution apparatus And a pure water supply pipe communicating with the liquid phase side of the gas dissolving device, and a gas dehumidifying device and a gas flow rate control device for controlling a gas supply amount into the gas dissolving device are sequentially provided in the gas supply pipe. An attached gas-dissolved water manufacturing apparatus,
A gas-dissolved water production apparatus comprising a water drop removing device in a gas supply pipe between the gas dehumidifying device and the gas flow rate control device.
前記水滴除去装置が、ガスフィルタであることを特徴とする請求項に記載のガス溶解水の製造装置。 The apparatus for producing gas-dissolved water according to claim 1 , wherein the water droplet removing device is a gas filter. 前記電解装置での水の電気分解により生じたガスが、水素、酸素又はオゾンであることを特徴とする請求項1又は2に記載のガス溶解水製造装置。 The gas-dissolved water production apparatus according to claim 1 or 2 , wherein the gas generated by electrolysis of water in the electrolyzer is hydrogen, oxygen, or ozone. 前記ガス流量制御装置が、マスフローコントローラであることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載のガス溶解水製造装置。 It said gas flow control device, gas dissolved water production apparatus according to any one of claims 1 to 3, characterized in that a mass flow controller. 前記ガス供給配管が、SUS、ナイロン又はフッ素系樹脂であることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載のガス溶解水製造装置。 The gas supply pipe, SUS, gas dissolved water production apparatus according to any one of claims 1 to 4, characterized in that a nylon or a fluorine-based resin. 前記ガス溶解装置が、ガス透過膜によって内部が液相室と気相室とに区画された気体溶解用のガス透過膜モジュールであることを特徴とする請求項1〜のいずれかに記載のガス溶解水製造装置。 The gas dissolution apparatus, the internal by a gas permeable membrane according to any one of claims 1 to 5, characterized in that a gas permeable membrane module for gas dissolution which is partitioned into a liquid phase chamber and a gas phase chamber Gas dissolved water production equipment. 請求項1〜のいずれかのガス溶解水製造装置を用いてガス溶解水を製造することを特徴とするガス溶解水の製造方法。 Gas dissolved water is manufactured using the gas dissolved water manufacturing apparatus in any one of Claims 1-6 , The manufacturing method of the gas dissolved water characterized by the above-mentioned.
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