JP5529168B2 - 軸方向磁界を伴ったgds用放電ランプ - Google Patents
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- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 23
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 17
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 17
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 17
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims description 13
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 11
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 75
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 16
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 13
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229920000307 polymer substrate Polymers 0.000 description 2
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 2
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000538 analytical sample Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910052729 chemical element Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 description 1
- 230000001808 coupling effect Effects 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000005347 demagnetization Effects 0.000 description 1
- 230000001627 detrimental effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 229910001172 neodymium magnet Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
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Description
第1にポンプ手段に接続され、第2に不活性ガスを真空容器中に注入する注入手段に接続された前記真空容器を有するランプ本体と、
縦軸X−X’を有する中空円筒の第1の電極と、
分析用サンプルを受け、前記中空円筒電極の一端に面する前記サンプルを保持するのに適した第2の電極と、
前記両電極の端子に、前記ガスの存在の下にグロー放電プラズマを発生させるのに適した連続(直流)、パルス状、高周波(RF)、又はハイブリッド電界を印加する印加装置を備える電界発生手段と、
前記プラズマの少なくとも一つの成分を測定するのに適した分光計に前記放電ランプを結合する結合手段と、
磁界を発生させる磁界発生手段と
を備えるグロー放電分光分析装置用放電ランプ
を提供する。本発明によれば前記磁界発生手段は軸X−X’に沿って向いた磁力線を有する磁界を発生させるのに適しており、前記磁界の強度と向きは、方向X−X’に沿って突き出た前記中空円筒電極の内側面積以上の前記サンプルの面積にわたり均一である。
前記第2の電極の背後に配置された少なくとも一つの磁石であって、その両磁極を結ぶ軸が軸X−X’に平行であり、軸X−X’に直角な方向のその寸法が前記中空電極の突き出た内側面積より大きい少なくとも一つの磁石、及び/又は
軸X−X’を有する中実円筒の形式をし、前記サンプル保持台電極の背後に配置された磁石、及び/又は
前記中空円筒電極の周りに配置され、その両磁極を結ぶ軸が前記電極の軸X−X’に平行な少なくとも一つの環状磁石、及び/又は
軸X−X’に平行な軸を有する電磁石コイル
を備える。
以下の同時ステップを備えた、グロー放電分光分析装置用放電ランプを改良する方法を提供する。
放電ランプの両電極の端子に、サンプルの表面をアブレートするプラズマを発生させるのに適した連続、パルス状、RF、又はハイブリッド電界を印加するステップと、
前記放電ランプの前記中空円筒電極の軸X−X’に平行な磁力線を有する軸方向磁界を印加するステップであって、前記磁界の向きと強度が、方向X−X’に沿って突き出た前記中空円筒電極の内側面積以上の前記サンプルの面積にわたり均一であるステップ。
2 中空円筒の第1の電極
3 RF印加装置
4 第2の電極
6 真空容器
8 ポンプ
10 不活性ガス源
11 アブレーションプラズマ
12 サンプル
13 磁石
15 カプラ
16 結合手段
19 冷却手段
Claims (11)
- グロー放電分光分析装置用放電ランプ(1)において、
第1にポンプ手段(8)に接続され、第2に不活性ガスを真空容器(6)中に注入する注入手段(10)に接続された前記真空容器(6)を有するランプ本体と、
縦軸X−X’を有する中空円筒の第1電極(2)と、
分析用サンプル(12)を受け、前記中空円筒の第1電極(2)の一端に面する前記サンプル(12)を保持するのに適した第2電極(4)と、
前記両電極(2及び4)の端子に、前記ガス(10)の存在の下にグロー放電プラズマ(11)を発生させるのに適した連続、パルス状、高周波(RF)、又はハイブリッド電界を印加する印加装置(3)を備える電界発生手段と、
前記プラズマ(11)の少なくとも一つの成分を測定するのに適した分光計に前記放電ランプを結合する結合手段(16)と、
磁界を発生させる磁界発生手段と
を備えるグロー放電分光分析装置用放電ランプであって、
前記磁界発生手段は軸X−X’に沿って向いた磁力線を有する磁界を発生させるのに適しており、前記磁界の強度と向きは、方向X−X’に沿って投影された前記中空円筒の第1電極(2)の内側面積以上の前記サンプル(12)の面積にわたり均一であることを特徴とするグロー放電分光分析装置用放電ランプ。 - 前記磁界発生手段は、前記第2電極(4)の背後に配置された少なくとも一つの磁石(13)であって、その両磁極を結ぶ軸が軸X−X’に平行であり、軸X−X’に直角な方向のその寸法が前記の第1電極(2)の投影された内側面積より大きい少なくとも一つの磁石(13)を備えることを特徴とする請求項1に記載の放電ランプ。
- 前記磁界発生手段は、軸X−X’を有する中実円柱の形式をし、前記第2電極(4)の背後に配置された磁石(13)を備えることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の放電ランプ。
- 前記磁界発生手段は、前記中空円筒の第1電極(2)の周りに配置され、その両磁極を結ぶ軸が前記第1電極(2)の軸X−X’に平行な少なくとも一つの環状磁石(13)を備えることを特徴とする請求項1ないし3の何れか一つに記載の放電ランプ。
- 前記磁界発生手段は一つ以上のNbFeB磁石を備えることを特徴とする請求項1ないし4の何れか一つに記載の放電ランプ。
- 前記磁界発生手段は、金属カプラ(15)内に配置され、電気絶縁部品により前記カプラ(15)内に保持された一つ以上の磁石(13)を備え、前記カプラ(15)は、前記磁石(13)の磁気軸が軸X−X’と一致するように第1に前記第2電極(4)に、第2に前記電界印加装置(3)に接続されることを特徴とする請求項1ないし5の何れか一つに記載の放電ランプ。
- 前記磁界発生手段は軸X−X’に平行な軸を有する電磁コイルを備えることを特徴とする請求項1ないし6の何れか一つに記載の放電ランプ。
- 前記磁界発生手段を冷却するのに適した冷却手段を含むことを特徴とする請求項1ないし7の何れか一つに記載の放電ランプ。
- 前記磁界発生手段は、前記中空円筒の第1電極(2)の端部に面する前記サンプル(12)の面積にわたり強度と向きが均一な磁界を発生させるように前記中空円筒の第1電極の投影された内側面積より大きい、軸X−X’に対して直角に伸びる寸法を呈することを特徴とする請求項1ないし8の何れか一つに記載の放電ランプ。
- 磁界の強度を測定し、前記サンプル(12)における磁界の強度を所定の閾値と比較するのに適した手段を含むことを特徴とする請求項1ないし9の何れか一つに記載の放電ランプ。
- グロー放電分光分析装置用放電ランプ(1)を改良する方法であって、
請求項1ないし10の何れか一つに記載された放電ランプの両電極(2、4)の端子に、サンプル(12)の表面をアブレートするプラズマを発生させるのに適した連続、パルス状、RF、又はハイブリッド電界を印加するステップと、
同時に、前記放電ランプの前記中空円筒の第1電極(2)の軸X−X’に平行な磁力線を有する軸方向磁界を印加するステップであって、前記磁界の向きと強度が、方向X−X’に沿って突き出た前記中空円筒の第1電極(2)の内側面積以上の前記サンプル(12)の面積にわたり均一であるステップと
を備えた方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
FR0950848A FR2942071B1 (fr) | 2009-02-11 | 2009-02-11 | Lampe a decharge pour gds a champ magnetique axial |
FR0950848 | 2009-02-11 | ||
PCT/FR2010/050226 WO2010092301A1 (fr) | 2009-02-11 | 2010-02-10 | Lampe a decharge pour gds a champ magnetique axial |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012517586A JP2012517586A (ja) | 2012-08-02 |
JP5529168B2 true JP5529168B2 (ja) | 2014-06-25 |
Family
ID=41066597
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011548761A Active JP5529168B2 (ja) | 2009-02-11 | 2010-02-10 | 軸方向磁界を伴ったgds用放電ランプ |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8581494B2 (ja) |
EP (1) | EP2396645B1 (ja) |
JP (1) | JP5529168B2 (ja) |
FR (1) | FR2942071B1 (ja) |
WO (1) | WO2010092301A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2965355B1 (fr) * | 2010-09-24 | 2013-05-10 | Horiba Jobin Yvon Sas | Procede de mesure par spectrometrie de decharge luminescente d'un echantillon solide organique ou polymere |
JP6314018B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2018-04-18 | 株式会社堀場製作所 | グロー放電発光分析方法 |
CN111433593A (zh) * | 2017-10-24 | 2020-07-17 | 丸中机械设备有限公司 | 气体分析器 |
JP6396618B1 (ja) * | 2018-04-03 | 2018-09-26 | グローテクノロジー株式会社 | グロー放電システム及びこれを用いたグロー放電質量分析装置 |
JP7281468B2 (ja) * | 2018-08-10 | 2023-05-25 | 株式会社堀場製作所 | グロー放電発光分析方法及びグロー放電発光分析装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3157605B2 (ja) * | 1992-04-28 | 2001-04-16 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
US5733820A (en) * | 1995-04-27 | 1998-03-31 | Sharp Kabushiki Kaisha | Dry etching method |
US5693376A (en) * | 1995-06-23 | 1997-12-02 | Wisconsin Alumni Research Foundation | Method for plasma source ion implantation and deposition for cylindrical surfaces |
JPH11176815A (ja) * | 1997-12-15 | 1999-07-02 | Ricoh Co Ltd | ドライエッチングの終点判定方法およびドライエッチング装置 |
US5986747A (en) * | 1998-09-24 | 1999-11-16 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and method for endpoint detection in non-ionizing gaseous reactor environments |
US6876155B2 (en) * | 2002-12-31 | 2005-04-05 | Lam Research Corporation | Plasma processor apparatus and method, and antenna |
US7453059B2 (en) * | 2006-03-10 | 2008-11-18 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Technique for monitoring and controlling a plasma process |
-
2009
- 2009-02-11 FR FR0950848A patent/FR2942071B1/fr active Active
-
2010
- 2010-02-10 WO PCT/FR2010/050226 patent/WO2010092301A1/fr active Application Filing
- 2010-02-10 US US13/147,906 patent/US8581494B2/en active Active
- 2010-02-10 EP EP10708323A patent/EP2396645B1/fr active Active
- 2010-02-10 JP JP2011548761A patent/JP5529168B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2396645B1 (fr) | 2013-01-09 |
FR2942071B1 (fr) | 2011-04-08 |
FR2942071A1 (fr) | 2010-08-13 |
US8581494B2 (en) | 2013-11-12 |
US20110291567A1 (en) | 2011-12-01 |
EP2396645A1 (fr) | 2011-12-21 |
JP2012517586A (ja) | 2012-08-02 |
WO2010092301A1 (fr) | 2010-08-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20121221 |
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|
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