JP5516655B2 - 画像表示装置 - Google Patents
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Description
ΔVh=Vhsw×Chsw/((Chsw+(Csig+Csub))
Csubを追加することで、分母のCsigがCsig+Csubになる。水平スイッチHSWの寄生容量Chswに対してCsig+Csubを十分大きくすることで、変動分ΔVhは0に近づけることが出来る。実用上は、Chswに対してCsig+Csubが5倍以上となるように、Csubの容量を設計すれば良い。
ΔVs=Vs×Cs/((Cs+(Csig+Csub))
ここでも補正回路2a側の保持容量Csに比べ、Csig+Csubを大きく取ることで、変動分ΔVsを0に近づけることが出来る。実用的には、保持容量Csに対してCsigとCsubの和が5倍以上となるようにCsubの容量を設定すれば良い。
VG=((Csig+Csub)・Vdata+Cs・VG0))/
((Csig+Csub)+Cg))
ここで画素容量Cgに比較してCsig+Csubを大きく取ることで、上記式の分子と分母にあるCgの項は無視できる。この結果ほぼVG=Vdataとなり、容量結合の影響を抑えて、ゲートノードの電位VGをほぼデータ電圧Vdataの値にすることが出来る。この様にVdataと実質的に等しいゲートノードの電位VGを維持するため、CsigとCsubの和がCgに対して5倍以上となるように、Csubの値を設定すれば良い。
Ids=kμ(Vgs−Vth)2=kμ(Vsig−ΔV)2
上記式において、kは定数である。この特性式からVthの項がキャンセルされており、発光素子ELに供給される出力電流IdsはドライブトランジスタTrdの閾電圧Vthに依存しない事が分かる。基本的にドレイン電流Idsは映像信号の信号電圧Vsigによって決まる。換言すると、発光素子ELは映像信号Vsigに応じた輝度で発光する事になる。その際Vsigは負帰還量ΔVで補正されている。この補正量ΔVは丁度特性式の係数部に位置する移動度μの効果を打ち消すように働く。したがって、ドレイン電流Idsは実質的に映像信号Vsigのみに依存する事になる。この後所定のタイミングに至ると制御信号DSがハイレベルとなってスイッチングトランジスタTr4がオフし、発光が終了すると共に当該フィールドが終わる。換言すると、図18のシーケンスはタイミングT0に戻ることになる。この後次のフィールドに移って再びVth補正動作、移動度補正動作及び発光動作が繰り返されることになる。
Claims (17)
- 行状に配された走査線と、列状に配された信号線と、各信号線及び走査線が交差する部分に配された画素と、各信号線に接続された水平駆動回路と、各走査線に接続された垂直駆動回路とから成り、
水平駆動回路は、所定の水平周期ごとに画像データに応じた信号電圧を各信号線に供給し、
垂直駆動回路は、水平周期ごとに制御信号を一つの走査線に印加して対応する行の画素を選択し、
画素は、発光素子、制御信号に応じてオンし、信号線から信号電圧を取り込むサンプリングトランジスタ、発光素子を駆動するドライブトランジスタ、及び、ドライブトランジスタのゲートとソースとの間に接続された保持容量を含み、ドライブトランジスタの閾電圧を補正するために、サンプリングトランジスタによって取り込まれた信号電圧に補正処理を施す補正回路を有し、
垂直駆動回路によって選択された画素は、信号線に供給された信号電圧に応じてその階調が変化し、
水平駆動回路から信号電圧が供給される信号線に接続された補完容量を有し、
保持容量に対して、信号線の配線容量と補完容量との和を大きく取り、
発光素子は、絶縁基板上に形成された薄膜トランジスタの上に、絶縁膜を介して形成された薄膜素子で構成されている画像表示装置。 - 発光素子は、カソード層とアノード層とを有し、
補完容量は、カソード層とアノード層との間の絶縁膜を誘電体として用いて成る請求項1に記載の画像表示装置。 - 補完容量は、発光素子と薄膜トランジスタとの間の絶縁膜を誘電体として用いて成る請求項2に記載の画像表示装置。
- 薄膜トランジスタは、ソース電極及びドレイン電極が第1金属層から成り、第1金属層の下にポリシリコン層が形成され、ポリシリコン層の下に絶縁膜を介して、ゲート電極となる第2金属層が形成されて成る請求項3に記載の画像表示装置。
- 第1金属層は、アルミニウム層であり、
第2金属層は、モリブデン層である請求項4に記載の画像表示装置。 - 信号線は、アルミニウム層で形成されており、
カソード層とモリブデン層とが同電位に設定されており、
補完容量は、カソード層とアノード層との間に形成される第1の補完容量と、アノード層とアルミニウム層との間に形成される第2の補完容量とを有する請求項5に記載の画像表示装置。 - アノード層とポリシリコン層とが同電位に設定されており、
補完容量は、アルミニウム層とポリシリコン層との間に形成される第3の補完容量を有する請求項6に記載の画像表示装置。 - アノード層とポリシリコン層とが固定電位に設定されている請求項7に記載の画像表示装置。
- 補完容量は、ポリシリコン層とモリブデン層との間に形成される第4の補完容量を有する請求項7または請求項8に記載の画像表示装置。
- 信号線は、モリブデン層で形成されており、
カソード層とアルミニウム層とモリブデン層とが同電位に設定されており、
補完容量は、カソード層とアノード層との間に形成される第1の補完容量と、アノード層とアルミニウム層との間に形成される第2の補完容量とを有する請求項5に記載の画像表示装置。 - アノード層とポリシリコン層とが同電位に設定されており、
補完容量は、アルミニウム層とポリシリコン層との間に形成される第3の補完容量を有する請求項10に記載の画像表示装置。 - アノード層とポリシリコン層とが固定電位に設定されている請求項11に記載の画像表示装置。
- 補完容量は、ポリシリコン層とモリブデン層との間に形成される第4の補完容量を有する請求項11または請求項12に記載の画像表示装置。
- 信号線は、アルミニウム層で形成されており、
アノード層とモリブデン層と信号線とが同電位に設定されており、
補完容量は、カソード層とアノード層との間に形成される第1の補完容量を有する請求項5に記載の画像表示装置。 - アノード層とポリシリコン層とが同電位に設定されており、
補完容量は、アルミニウム層とポリシリコン層との間に形成される第2の補完容量を有する請求項14に記載の画像表示装置。 - アノード層とポリシリコン層とが固定電位に設定されている請求項15に記載の画像表示装置。
- 補完容量は、ポリシリコン層とモリブデン層との間に形成される第3の補完容量を有する請求項15または請求項16に記載の画像表示装置。
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