JP5506235B2 - Matte-like conductive nanofiber sheet and method for producing the same - Google Patents

Matte-like conductive nanofiber sheet and method for producing the same Download PDF

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Description

この発明は、艶消し意匠からなるタッチセンサ（タッチパネル含む）等に使用する艶消し状導電性ナノファイバーシートおよびその製造方法に関する。   The present invention relates to a matte conductive nanofiber sheet used for a touch sensor (including a touch panel) made of a matte design, and a method for producing the same.

電極としてタッチパネルに用いられる導電性ナノファイバーシートとして、透明な基材の少なくとも片面に、カーボンナノチューブを含んだ透明な導電層が形成されたタッチパネル用透明導電成形体が知られている（例えば、特許文献１参照）。   As a conductive nanofiber sheet used for a touch panel as an electrode, a transparent conductive molded body for a touch panel in which a transparent conductive layer containing carbon nanotubes is formed on at least one surface of a transparent substrate is known (for example, a patent Reference 1).

特再公表２００５−１０４１４１号公報Japanese Patent Publication No. 2005-104141

しかしながら、特許文献１の実施例に従いカーボンナノチューブを用いて導電層形成を試みたところ導電層の艶消し性が不足しており、それをそのままタッチパネルに適用すると表面の反射光により画面が見づらい問題があった。したがって、これを防止するために透明基材の反対面（上面）に画面を見やすくするための防眩層等の機能層を余分に形成しなければならず（特許文献１の段落００２３参照）、大幅なコストアップと生産性の低下が生じていた。   However, when an attempt was made to form a conductive layer using carbon nanotubes according to the embodiment of Patent Document 1, the matteness of the conductive layer was insufficient, and when it was applied to a touch panel as it was, there was a problem that the screen was difficult to see due to the reflected light on the surface. there were. Therefore, in order to prevent this, an extra functional layer such as an antiglare layer for making the screen easy to see on the opposite surface (upper surface) of the transparent substrate must be formed (see paragraph 0023 of Patent Document 1). There was a significant increase in costs and a decrease in productivity.

さらに、タッチパネルに適用する場合に導電層はパターンで形成する必要があるが、特許文献１のカーボンナノチューブを用いた発明の場合、カーボンナノチューブの色味が黒色であるため、導電層のところと導電層のない透明部分とでＪＩＳＺ８７２９に定められるＬ ＊ ａ ＊ ｂ ＊ 表色系における明度Ｌ ＊ の差が大きく、導電層のパターンが見えてしまうという、いわゆるパターン見えの問題もあった。
Furthermore, when applied to a touch panel, the conductive layer needs to be formed in a pattern, but in the case of the invention using the carbon nanotubes of Patent Document 1, since the color of the carbon nanotubes is black, the conductive layer and the conductive layer are electrically conductive. There was also a problem of so-called pattern appearance in which the difference in the lightness L * in the L * a * b * color system was large due to the transparent part without the layer, and the pattern of the conductive layer was visible.

この発明は、上記のような課題を解決するためになされたもので、基体シートと、基体シート上に形成され、導電性ナノファイバーを含み、その導電性ナノファイバーを介して導通可能である導電パターン層とを備え、導電性ナノファイバーは、無色又は白色系の極細導電繊維である艶消し状導電性ナノファイバーシートである。又、導電性ナノファイバーは、平均直径が１〜５００ｎｍであり、平均長さが２０μｍを超えるものでもよい。又、導電パターン層に光硬化性樹脂が含有されていてもよい。又、基体シート上の導電パターン層が形成されていない部分に形成され、導電性ナノファイバーを含み、導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を更に備えてもよい。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and includes a base sheet, a conductive nanofiber formed on the base sheet, and including conductive nanofibers, which can be conducted through the conductive nanofibers. The conductive nanofibers are matte conductive nanofiber sheets that are colorless or white ultrafine conductive fibers. In addition, the conductive nanofiber may have an average diameter of 1 to 500 nm and an average length of more than 20 μm. The conductive pattern layer may contain a photocurable resin. Moreover, you may further provide the insulating pattern layer formed in the part in which the conductive pattern layer on a base material sheet is not formed, including the conductive nanofiber and insulated from the conductive pattern layer.

又、この発明は、基体シート上に、導通可能となるように導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成する工程と、形成された導電パターン層の一部を感光により硬化させる工程と、一部が硬化された導電パターン層の硬化されていない部分を現像除去することにより、導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成すると共に絶縁パターン層を島状にする、目視により認識することができない幅の狭小溝を形成する工程とを備えた、上記艶消し状導電性ナノファイバーシートの製造方法である。又、この発明は、基体シート上に、導通可能となるように導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成する工程と、形成された導電パターン層の一部にエネルギー線を照射して導電パターン層の一部を除去することにより、導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成すると共に前記絶縁パターン層を島状にする、目視により認識することができない幅の狭小溝を形成する工程とを備えた、上記艶消し状導電性ナノファイバーシートの製造方法である。又、この発明は、基体シート上に、導通可能となるように導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成する工程と、形成された導電パターン層上の一部にエッチングレジスト層を形成する工程と、エッチングレジスト層が形成された前記導電パターン層の全面をエッチングして、エッチングレジスト層が形成されていない部分の導電パターン層を除去することにより、導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成すると共に絶縁パターン層を島状にする、目視により認識することができない幅の狭小溝を形成する工程とを備えた、上記艶消し状導電性ナノファイバーシートの製造方法である。   The present invention also includes a step of forming a conductive pattern layer including conductive nanofibers on the entire surface of the base sheet so as to be conductive, and a step of curing a part of the formed conductive pattern layer by exposure. By developing and removing the uncured portion of the partially cured conductive pattern layer, an insulating pattern layer insulated from the conductive pattern layer is formed and the insulating pattern layer is formed into an island shape, which is visually recognized. And a step of forming a narrow groove having a width that cannot be performed. The present invention also includes a step of forming a conductive pattern layer including conductive nanofibers on the entire surface of the base sheet so as to be conductive, and irradiating part of the formed conductive pattern layer with energy rays. By removing a part of the conductive pattern layer, an insulating pattern layer insulated from the conductive pattern layer is formed and the insulating pattern layer is formed into an island shape, and a narrow groove having a width that cannot be visually recognized is formed. A process for producing the matte conductive nanofiber sheet. The present invention also includes a step of forming a conductive pattern layer including conductive nanofibers on the entire surface of the base sheet so as to be conductive, and an etching resist layer is formed on a part of the formed conductive pattern layer. An insulating pattern insulated from the conductive pattern layer by etching the entire surface of the conductive pattern layer on which the etching resist layer is formed and removing the conductive pattern layer on the portion where the etching resist layer is not formed. And forming a narrow groove with a width that cannot be visually recognized, and forming the insulating pattern layer in an island shape, and forming the matte conductive nanofiber sheet.

又、この発明は、上記艶消し状導電性ナノファイバーシートを電極として用いた、タッチセンサである。   In addition, the present invention is a touch sensor using the matte conductive nanofiber sheet as an electrode.

この発明の艶消し状導電性ナノファイバーシートでは、導電性ナノファイバーが、無色又は白色系の極細導電繊維であるため、光の反射率が高いことから光が乱反射する。反射光が一定方向に整列しなくなるため、所定の透過率を維持しながら、導電パターン層や絶縁パターン層の表面が艶消し状態となる。したがって、画面が見づらくなくなり、防眩層等を余分に形成することなくこの発明の艶消し状導電性ナノファイバーシートタッチパネルに適用することができる。その結果、コストリダクションが可能となり生産性も向上させることができる。又、導電性ナノファイバーの色味が透明又は白色系なのでカーボンナノチューブ等に比べてパターン見えがしにくいという効果もある。尚、導電性ナノファイバーが、無色又は白色系でなければ、光を吸収して艶を消すことはできても、透過率は大きく低下してしまう。   In the matte conductive nanofiber sheet of the present invention, since the conductive nanofiber is a colorless or white ultrafine conductive fiber, light is diffusely reflected because of its high light reflectance. Since the reflected light is not aligned in a certain direction, the surfaces of the conductive pattern layer and the insulating pattern layer are matted while maintaining a predetermined transmittance. Therefore, it becomes difficult to see the screen, and the present invention can be applied to the matte conductive nanofiber sheet touch panel of the present invention without forming an antiglare layer or the like. As a result, cost reduction is possible and productivity can be improved. In addition, since the conductive nanofibers are transparent or white, there is an effect that the pattern is hard to see compared to carbon nanotubes. If the conductive nanofibers are not colorless or white, the transmittance is greatly reduced even though they can absorb light and be delustered.

又、この艶消し状導電性ナノファイバーシートは、導電パターン層と絶縁パターン層との光学特性および外観に差がないため、パターン見えをより確実に防止することができる。   In addition, since the matte conductive nanofiber sheet has no difference in optical characteristics and appearance between the conductive pattern layer and the insulating pattern layer, the pattern appearance can be more reliably prevented.

又、この発明の艶消し状導電性ナノファイバーシートの製造方法によれば、パターン見えを相当に軽減させた艶消し状導電性ナノファイバーシートを容易に製造することができる。   Further, according to the method for producing a matte conductive nanofiber sheet of the present invention, a matte conductive nanofiber sheet with a considerably reduced pattern appearance can be easily produced.

その（１）がこの発明の第１の実施の形態による導電性ナノファイバーシートの概略構成を示した平面図であり、その（２）がその（１）で示したＩＩ―ＩＩラインの断面図であり、その（３）がこの発明の第２の実施の形態による導電性ナノファイバーシートの概略構成を示した断面図である。(1) is a plan view showing a schematic configuration of the conductive nanofiber sheet according to the first embodiment of the present invention, and (2) is a sectional view taken along line II-II shown in (1). (3) is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the conductive nanofiber sheet according to the second embodiment of the present invention. その（１）が図１の（２）で示した導電パターン層及び絶縁パターン層の部分拡大図であり、その（２）が図１で示した導電性ナノファイバーシートを電極として用いたタッチパネルの概略構成を示した断面図である。(1) is a partially enlarged view of the conductive pattern layer and the insulating pattern layer shown in (2) of FIG. 1, and (2) is a touch panel using the conductive nanofiber sheet shown in FIG. 1 as an electrode. It is sectional drawing which showed schematic structure. 図１の（２）で示した導電性ナノファイバーシートの製造工程を示した図である。It is the figure which showed the manufacturing process of the electroconductive nanofiber sheet | seat shown by (2) of FIG. 図１の（２）で示した導電性ナノファイバーシートの他の製造工程を示した図である。It is the figure which showed the other manufacturing process of the electroconductive nanofiber sheet | seat shown by (2) of FIG.

次に、発明の実施の形態について図を参照しながら説明する。   Next, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings.

図１及び図２の（１）を参照して、この発明の第１の実施の形態による艶消し状導電性ナノファイバーシート１は、基体シート１０と、基体シート１０上に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電性ナノファイバー３を介して導通可能であり、目視により認識することができない大きさの複数の微小ピンホール７を有する導電パターン層６と、基体シート１０上の導電パターン層６が形成されていない部分に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電パターン層６から絶縁された絶縁パターン層５とを備えている。導電パターン層６と絶縁パターン層５とは各々平面視帯状に形成され、一方向を軸方向として交互に配置されるように形成されている。尚、導電パターン層６と絶縁パターン層５の平面視形状は、複数のひし形形状を一方向に直線的に連続された形状等の他の形状に形成されてもよい。絶縁パターン層５は、目視により認識することができない幅の狭小溝９を有している。狭小溝９が導通可能状態にある導電性ナノファイバー３を断線させ、この狭小溝９により、絶縁パターン層５は導電パターン層６から絶縁されている。又、狭小溝９は平面視格子状に形成され、絶縁パターン層５は、平面視矩形形状の複数の島状に形成されている。微小ピンホール７は、導電パターン層６の全面に渡って形成されている。導電性ナノファイバー３は、無色又は白色系の極細導電繊維である。導電パターン層６に微小ピンホール７を形成することにより、導電パターン層６と絶縁パターン層５との見え方を近づけてパターン見えをより軽減させているが、微小ピンホール７を形成していなくてもよい。   With reference to FIG. 1 and FIG. 2 (1), a matte conductive nanofiber sheet 1 according to the first embodiment of the present invention is formed on a base sheet 10 and the base sheet 10. A conductive pattern layer 6 including a plurality of micro pinholes 7 including nanofibers 3 and capable of being conducted through conductive nanofibers 3 and cannot be visually recognized, and a conductive pattern on base sheet 10 The insulating pattern layer 5 is formed in a portion where the layer 6 is not formed, includes the conductive nanofibers 3, and is insulated from the conductive pattern layer 6. The conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 are each formed in a band shape in plan view, and are formed so as to be alternately arranged with one direction as an axial direction. In addition, the planar view shape of the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 may be formed in other shapes such as a shape in which a plurality of rhombus shapes are linearly continued in one direction. The insulating pattern layer 5 has a narrow groove 9 having a width that cannot be visually recognized. The conductive nanofibers 3 in which the narrow groove 9 is in a conductive state are disconnected, and the insulating pattern layer 5 is insulated from the conductive pattern layer 6 by the narrow groove 9. The narrow grooves 9 are formed in a lattice shape in plan view, and the insulating pattern layer 5 is formed in a plurality of island shapes having a rectangular shape in plan view. The minute pinhole 7 is formed over the entire surface of the conductive pattern layer 6. The conductive nanofiber 3 is a colorless or white ultrafine conductive fiber. By forming the minute pinhole 7 in the conductive pattern layer 6, the appearance of the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 is made closer to reduce the pattern appearance, but the minute pinhole 7 is not formed. May be.

図１の（３）を参照して、この発明の第２の実施の形態による艶消し状導電性ナノファイバーシート２は、基体シート１０と、基体シート１０上に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電性ナノファイバー３を介して導通可能であり導電パターン層６とを備えている。第１の実施の形態と異なる点は、絶縁パターン層５が形成されておらず、導電パターン層６が基体シート１０の全面べたに形成されている。又、微小ピンホール７も形成されていない。   Referring to FIG. 1 (3), a matte conductive nanofiber sheet 2 according to the second embodiment of the present invention is formed on a base sheet 10 and the base sheet 10. And can be conducted through the conductive nanofibers 3, and includes a conductive pattern layer 6. The difference from the first embodiment is that the insulating pattern layer 5 is not formed, and the conductive pattern layer 6 is formed on the entire surface of the base sheet 10. Moreover, the minute pinhole 7 is not formed.

図２の（２）を参照して、艶消し状艶消し状導電性ナノファイバーシート１を電極として用いたタッチパネル８は、互いの導電パターン層６の軸方向が直交するように、２枚の艶消し状導電性ナノファイバーシート１を貼り合わせて構成されている。貼り合わされた艶消し状導電性ナノファイバーシート１の上面を覆うように保護板５２が接着され、下面に液晶表示装置が接着するようにして配置されている。   With reference to (2) of FIG. 2, the touch panel 8 using the matte-like matte-like conductive nanofiber sheet 1 as an electrode has two pieces so that the axial directions of the conductive pattern layers 6 are orthogonal to each other. The matte conductive nanofiber sheet 1 is bonded together. A protective plate 52 is bonded so as to cover the upper surface of the matte conductive nanofiber sheet 1 bonded together, and the liquid crystal display device is bonded to the lower surface.

基体シート１０の材質としては、アクリル、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル等の樹脂フィルムが挙げられる。基体シート１０層の厚みは５〜８００μｍの範囲で適宜設定可能である。５μｍ未満では、層としての強度が不足して剥離する際に破れたりするので取り扱いが困難となり、８００μｍを越える厚みでは、基体シート１０層に剛性がありすぎて加工が困難となる。   Examples of the material of the base sheet 10 include resin films such as acrylic, polycarbonate, polyester, polybutylene terephthalate, polypropylene, polyamide, polyurethane, polyvinyl chloride, and polyvinyl fluoride. The thickness of the base sheet 10 layer can be appropriately set within a range of 5 to 800 μm. If the thickness is less than 5 μm, the strength of the layer is insufficient and the layer is torn when it is peeled off, making it difficult to handle. If the thickness exceeds 800 μm, the base sheet 10 layer is too rigid and difficult to process.

導電パターン層６は、少なくとも各種バインダー樹脂３３と導電性ナノファイバーとからなり、その他より防眩性を向上するために艶消し剤等の添加剤等を含んでいてもよい。導電パターン層６の形成方法は、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷等の汎用の各種印刷手法等のほか、予め各種シート作製法でもって形成した導電性ナノファイバー３を含む艶消し状のシートを貼り付ける等して設けることもできる。   The conductive pattern layer 6 is composed of at least various binder resins 33 and conductive nanofibers, and may contain additives such as a matting agent in order to improve antiglare properties. The method for forming the conductive pattern layer 6 includes a general-purpose printing method such as gravure printing, offset printing, and screen printing, as well as a mat-like sheet including the conductive nanofibers 3 formed in advance by various sheet manufacturing methods. It can also be provided by pasting.

バインダー樹脂３３としてはアクリル、ポリエステル、ポリ塩化ビニル等汎用の熱可塑性樹脂でも構わないが、できればウレタンアクリレート、シアノアクリレート等の光硬化性樹脂やエポキシ、ポリウレタン等の熱硬化性樹脂の方が好ましい。特に、光硬化性樹脂は、硬化すると強靭な膜を形成するので導電性ナノファイバー３を強力に保持でき、導電性ナノファイバー３の含有率を上げることができ、より防眩性や導電性を向上できる点で好ましい。   The binder resin 33 may be a general-purpose thermoplastic resin such as acrylic, polyester, or polyvinyl chloride. However, if possible, a thermosetting resin such as urethane acrylate or cyanoacrylate or a thermosetting resin such as epoxy or polyurethane is preferable. In particular, the photocurable resin forms a tough film when cured, so that the conductive nanofibers 3 can be held strongly, the content of the conductive nanofibers 3 can be increased, and the antiglare property and conductivity can be further increased. It is preferable in that it can be improved.

導電性ナノファイバー３は、平均直径が１〜５００ｎｍであり、平均長さが２０μｍを超える金、銀、白金等の白色系の極細金属繊維（極細導電繊維）や酸化亜鉛等からなる無色の極細金属酸化物繊維（極細導電繊維）等が好ましい。これらは、担持した前駆体表面にプローブの先端部から印加電圧又は電流を作用させ連続的にひき出して作製したり、ペプチド又はその誘導体が自己組織化的に形成したナノファイバーに金属粒子等を付加したりして作製できる。とくに、平均長さが３０μｍを超える極細長導電繊維を作製し、導電パターン層６に含ませた場合には、表面がかなりの艶消し状態になりかつ明度の高い膜となるため、防眩性・パターン見え防止性に優れた膜となる。   The conductive nanofiber 3 has an average diameter of 1 to 500 nm, an average length of more than 20 μm, and is a colorless ultrafine made of white ultrafine metal fibers (extrafine conductive fibers) such as gold, silver, platinum, or zinc oxide. Metal oxide fibers (extra fine conductive fibers) and the like are preferable. These are produced by continuously applying an applied voltage or current from the tip of the probe to the surface of the supported precursor, or by applying metal particles or the like to nanofibers formed by self-organization of peptides or derivatives thereof. It can be made by adding. In particular, when an ultra-thin conductive fiber having an average length exceeding 30 μm is produced and included in the conductive pattern layer 6, the surface becomes considerably matte and has a high brightness, and thus has an antiglare property.・ It is a film with excellent pattern visibility.

また、導電パターン層６は、よりパターン見えを防止するために、導電パターン層６とそれと目視外観上差のない絶縁パターン層５とで形成するのが好ましい。絶縁パターン層５は、目視で認識できない巾の狭小溝が形成されることを除けば、バインダー樹脂３３や導電性ナノファイバー３等導電パターン層６の材質と何ら変わりがない。   The conductive pattern layer 6 is preferably formed of the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 having no difference in visual appearance in order to prevent the pattern from being seen. The insulating pattern layer 5 is not different from the material of the conductive pattern layer 6 such as the binder resin 33 and the conductive nanofiber 3 except that a narrow groove having a width that cannot be visually recognized is formed.

導電パターン層６および絶縁パターン層５の厚みは、０．１〜３００μｍの範囲で、できる限り同等するのが好ましい。０．１μｍ未満ではピンホール等の欠陥が発生する場合があり、３００μｍを越える厚みでは絶縁パターン層５の狭小溝を形成する等の加工をすることが困難となるからである。尚、導電パターン層６および絶縁パターン層５はと基体シート１０との間に、剥離層やアンカー層等を設けてもよいし、導電パターン層６及び絶縁パターン層５は層上にアンカー層や接着層等を設けてもよい。   The thicknesses of the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 are preferably as equal as possible in the range of 0.1 to 300 μm. If the thickness is less than 0.1 μm, defects such as pinholes may occur. If the thickness exceeds 300 μm, it is difficult to perform processing such as forming narrow grooves in the insulating pattern layer 5. The conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 may be provided with a release layer, an anchor layer or the like between the base sheet 10, and the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 may be provided with an anchor layer or An adhesive layer or the like may be provided.

狭小溝の巾は、１μｍ〜３００μｍ程度が好ましい。狭小溝の巾を１μｍ未満にして狭小溝を形成しようとすると歩留まりが極端に低下し、３００μｍを超える巾にすると狭小溝が目視で認識できてしまう場合があるからである。また、狭小溝の深さは、導電パターン層６および絶縁パターン層５の厚みに該当する。   The width of the narrow groove is preferably about 1 μm to 300 μm. This is because if the width of the narrow groove is less than 1 μm and the narrow groove is formed, the yield is extremely lowered, and if the width exceeds 300 μm, the narrow groove may be visually recognized. Further, the depth of the narrow groove corresponds to the thickness of the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5.

狭小溝の形状は、格子状のほか、ハニカム状、ランダム状、その他の形状いずれでもよく、これらの異なる形状の溝が混ざっているようなものであっても構わない。また、狭小溝によって囲まれて形成される絶縁パターン層５の島状パターンは、円形状のほか、多角形状、楕円状、円弧状のいずれでもよく、これらの異なる形状が混ざっているようなものであっても構わない。島状パターンのサイズは、数百ミクロンオーダーから数十ミリオーダーで、これらの異なるサイズの形状が混ざっているようなものであっても構わない。   The shape of the narrow groove may be a lattice shape, a honeycomb shape, a random shape, or any other shape, or may be a mixture of grooves having different shapes. Further, the island pattern of the insulating pattern layer 5 formed by being surrounded by the narrow groove may be any of a polygonal shape, an elliptical shape and an arc shape in addition to a circular shape, and these different shapes are mixed. It does not matter. The size of the island pattern is on the order of several hundred microns to several tens of millimeters, and the shapes of these different sizes may be mixed.

図３を参照して、狭小溝を形成して絶縁パターン層５を得る方法としては、導電パターン層６が光硬化性樹脂からなる場合、紫外線や赤外線、可視光線等の光を照射する等して感光により硬化させ、フォトマスク２０を用いて未硬化とした導電パターン層６の一部を現像除去する方法があげられる。   Referring to FIG. 3, as a method of obtaining the insulating pattern layer 5 by forming a narrow groove, when the conductive pattern layer 6 is made of a photocurable resin, it is irradiated with light such as ultraviolet rays, infrared rays, and visible rays. For example, a method of developing and removing a part of the conductive pattern layer 6 that has been cured by exposure to light and uncured using the photomask 20 can be used.

図４の（１）を参照して、導電パターン層６が光硬化性樹脂以外からなる場合、狭小溝の形成方法としては、基体シート１０上に導電性ナノファイバー３を含む導電パターン層６を全面に形成し、その導電パターン層６の一部にスポット径数十μｍの炭酸ガスレーザー等のエネルギー線を照射して導電パターン層６のバインダー樹脂３３を焼き切ることにより形成する方法があげられる。あるいは、図４の（２）及び（３）を参照して、導電パターン層６の一部にアルキッド樹脂やポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等のエッチングレジスト層１１を形成後、全面を各種のエッチング溶液等によりエッチングして、エッチングレジスト層１１が形成されていない導電パターン層６の一部をエッチング除去する方法があげられる。   Referring to (1) of FIG. 4, when the conductive pattern layer 6 is made of a material other than the photocurable resin, as a narrow groove forming method, the conductive pattern layer 6 including the conductive nanofibers 3 is formed on the base sheet 10. There is a method in which the conductive pattern layer 6 is formed by irradiating part of the conductive pattern layer 6 with an energy beam such as a carbon dioxide laser having a spot diameter of several tens of μm to burn out the binder resin 33 of the conductive pattern layer 6. Alternatively, referring to (2) and (3) in FIG. 4, after forming an etching resist layer 11 such as an alkyd resin, a polyester resin, or an epoxy resin on a part of the conductive pattern layer 6, the entire surface is subjected to various etching solutions or the like. And a method of etching away a part of the conductive pattern layer 6 where the etching resist layer 11 is not formed.

尚、基体シート１０上には、例えば３〜１０ｍｍ角くらいのサイズの位置検知マーク２５を形成するのが好ましい。この位置検知マーク２５を光学的方法により読み取れば、基体シート１０上の所定の位置に狭小溝を形成でき、位置精度よくパターン形成できるからである。尚、狭小溝を形成することによる絶縁パターン層５と導電パターン層６との光線透過率の差をより少なくするために、導電パターン層６に目視で認識できないサイズの微小ピンホール７を形成してもよい。   In addition, it is preferable to form the position detection mark 25 of a size of about 3 to 10 mm square, for example, on the base sheet 10. This is because if the position detection mark 25 is read by an optical method, a narrow groove can be formed at a predetermined position on the base sheet 10, and a pattern can be formed with high positional accuracy. In order to reduce the difference in light transmittance between the insulating pattern layer 5 and the conductive pattern layer 6 due to the formation of narrow grooves, minute pinholes 7 having a size that cannot be visually recognized are formed in the conductive pattern layer 6. May be.

以上の方法によって得られた艶消し状導電性ナノファイバーシートは、導電パターン層６自体が艶消し効果を持ち、又、導電性ナノファイバー３の選択と狭小溝の絶縁パターン層５を形成することでパターン見えが相当に軽減される。これをタッチセンサに用いれば、防眩層等の機能層を構成することなく、光の表面反射を抑制したタッチセンサを効率よく製造することができる。   In the matte conductive nanofiber sheet obtained by the above method, the conductive pattern layer 6 itself has a matting effect, and the conductive nanofiber 3 is selected and the insulating pattern layer 5 having a narrow groove is formed. The pattern appearance is considerably reduced. If this is used for a touch sensor, a touch sensor that suppresses surface reflection of light can be efficiently manufactured without forming a functional layer such as an antiglare layer.

基体シート１０として厚さ１００μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、平均直径５０ｎｍ、平均長さ３０μｍの銀ナノワイヤからなる導電性ナノファイバー３をシアノアクリレート系の紫外線硬化性樹脂からなるバインダー樹脂３３中に分散させたインキを用いてシルク印刷をし、熱風により指触乾燥して厚さ１μｍの導電パターン層６を形成した。（図１の（３）参照）。   On one side of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm as the base sheet 10, conductive nanofibers 3 made of silver nanowires having an average diameter of 50 nm and an average length of 30 μm are bonded with a binder resin 33 made of a cyanoacrylate-based ultraviolet curable resin. Silk printing was carried out using the ink dispersed therein, and touch drying with hot air was performed to form a conductive pattern layer 6 having a thickness of 1 μm. (See (3) in FIG. 1).

この得られた艶消し状艶消し状導電性ナノファイバーシート２は、導電パターン層６が艶消し状態からなるシートであるが、色味が黒っぽくないので導電パターン層６のパターン見えが少なく、かつ導電性に優れたものであった。そして、互いの導電パターン層６の軸方向が直交するように２枚の艶消し状導電性ナノファイバーシート１を貼り合わせてＸ電極およびＹ電極とし、その上面を覆うように保護板５２を貼り付けし、その下面に液晶表示装置５３を貼り付ければ、防眩性を備えかつパターン見えが少ない静電容量タッチパネル８を作製することができた。
The matte-like matte-like conductive nanofiber sheet 2 thus obtained is a sheet in which the conductive pattern layer 6 is in a matte state. It was excellent in conductivity. Then, two matte conductive nanofiber sheets 1 are bonded to form an X electrode and a Y electrode so that the axial directions of the conductive pattern layers 6 are orthogonal to each other, and a protective plate 52 is bonded so as to cover the upper surface thereof. When the liquid crystal display device 53 is attached to the lower surface, the capacitive touch panel 8 having antiglare property and less pattern appearance can be produced.

基体シート１０として厚さ１００μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に、位置検知マーク２５を形成し、次いで実施例１と同様にして導電パターン層６を形成した。この導電パターン層６の上に、多数の狭小溝のポジパターンを有するフォトマスク２０を置き、紫外線を照射して導電パターン層６４の一部を露光し、未硬化の狭小溝パターン部分を有機溶剤でもって剥離除去し、絶縁パターン層５を形成した（図３参照）。絶縁パターン層５の部分に形成された狭小溝９は絶縁パターン層５の総面積の３７％程度を占有していて、ピッチ３００μｍの格子状で、平均の巾が５０μｍ程度で、外観上存在が判別できない巾であった。
The position detection mark 25 was formed on one side of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm as the base sheet 10, and then the conductive pattern layer 6 was formed in the same manner as in Example 1. A photomask 20 having a large number of narrow groove positive patterns is placed on the conductive pattern layer 6, and a part of the conductive pattern layer 64 is exposed by irradiating with ultraviolet rays. Thus, the insulating pattern layer 5 was formed by peeling and removing (see FIG. 3). Narrow grooves 9 formed in the portion of the insulating pattern layer 5 is not occupy approximately 37% of the total area of the insulating pattern layer 5, a lattice-like pitch 300 [mu] m, average width is in degrees extent 50.mu. m, appearance The width was not identifiable.

この得られた艶消し状艶消し状導電性ナノファイバーシート１は、艶消し状の導電パターン層６の色味が黒っぽくなく、かつ導電パターン層６と絶縁パターン層５との光学特性に殆ど差が無いシートであり、導電パターン層６のパターン見えがないものであった。そして、互いの導電パターン６の軸方向が直交するように２枚の艶消し状導電性ナノファイバーシート１を貼り合わせてＸ電極およびＹ電極とし、その上面を覆うように保護板５２を貼り付けし、その下面に液晶表示装置５３を貼り付ければ、防眩性を備えかつパターン見えがない静電容量タッチパネル８を作製することができた。   The matte-like matte-like conductive nanofiber sheet 1 thus obtained has a matte-like conductive pattern layer 6 that is not blackish in color and has almost no difference in optical characteristics between the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5. There was no sheet, and the pattern of the conductive pattern layer 6 was not visible. Then, two matte conductive nanofiber sheets 1 are bonded to form an X electrode and a Y electrode so that the axial directions of the conductive patterns 6 are orthogonal to each other, and a protective plate 52 is bonded so as to cover the upper surface thereof. And if the liquid crystal display device 53 was affixed on the lower surface, the capacitive touch panel 8 which had anti-glare property and did not have a pattern visible was able to be produced.

艶消し状艶消し状導電性ナノファイバーシート１の作成において、バインダー樹脂３３を紫外線硬化性樹脂の代わりにアクリル樹脂にし、導電パターン層６にスポット径２０μｍの炭酸ガスレーザーを照射して導電パターン層６のバインダー樹脂３３を焼き切る方法で絶縁パターン層５を形成した他は実施例２と同様にして艶消し状導電性ナノファイバーシート１を形成した（図４の（１）参照）。この方法によって得られた艶消し状艶消し状導電性ナノファイバーシート１も、防眩性を備えかつパターン見えがない静電容量タッチパネル８を作製することができた。   In the production of the matte matte conductive nanofiber sheet 1, the binder resin 33 is made of acrylic resin instead of the ultraviolet curable resin, and the conductive pattern layer 6 is irradiated with a carbon dioxide gas laser having a spot diameter of 20 μm. The matte conductive nanofiber sheet 1 was formed in the same manner as in Example 2 except that the insulating pattern layer 5 was formed by burning out the binder resin 33 of No. 6 (see (1) in FIG. 4). The frosted matte conductive nanofiber sheet 1 obtained by this method was also able to produce a capacitive touch panel 8 having antiglare properties and no visible pattern.

艶消し状艶消し状導電性ナノファイバーシート１の作成において、バインダー樹脂３３を焼き切る方法の代わりに導電パターン層６の一部にアルキッド樹脂からなるエッチングレジスト層１１を形成後、全面をエッチング溶液によりエッチングして、エッチングレジスト層１１が形成されていない導電パターン層６の一部をエッチング除去する方法で絶縁パターン層５を形成した他は実施例３と同様にして艶消し状艶消し状導電性ナノファイバーシート１を形成した（図４の（２）及び（３）参照）。この方法によって得られた艶消し状艶消し状導電性ナノファイバーシート１も、防眩性を備えかつパターン見えがない静電容量タッチパネル８を作製することができた。   In forming the matte matte conductive nanofiber sheet 1, the etching resist layer 11 made of alkyd resin is formed on a part of the conductive pattern layer 6 instead of the method of burning out the binder resin 33, and then the entire surface is etched with an etching solution. A matte matte conductive property as in Example 3, except that the insulating pattern layer 5 was formed by etching and removing a part of the conductive pattern layer 6 where the etching resist layer 11 was not formed. A nanofiber sheet 1 was formed (see (2) and (3) in FIG. 4). The frosted matte conductive nanofiber sheet 1 obtained by this method was also able to produce a capacitive touch panel 8 having antiglare properties and no visible pattern.

１，２ 艶消し状導電性ナノファイバーシート
３ 導電性ナノファイバー
４ 絶縁材料
５ 絶縁パターン層
６ 導電パターン層
７ 微小ピンホール
８ タッチパネル
９ 狭小溝
１０ 基体シート
１１ エッチングレジスト層
２０ フォトマスク
２５ 位置検知マーク
３３ バインダー樹脂
５０ レーザー照射機の先端
５１ レーザー照射光
５２ 保護板
５３ 液晶表示装置 1, 2 matte conductive nanofiber sheet 3 conductive nanofiber 4 insulating material 5 insulating pattern layer 6 conductive pattern layer 7 minute pinhole 8 touch panel 9 narrow groove 10 substrate sheet 11 etching resist layer 20 photomask 25 position detection mark 33 Binder resin 50 Laser irradiation machine tip 51 Laser irradiation light 52 Protection plate 53 Liquid crystal display device

Claims (7)

基体シートと、
前記基体シート上に形成され、無色又は白色系の極細導電繊維を含み、その極細導電繊維を介して導通可能である導電パターン層と、
前記基体シート上の前記導電パターン層が形成されていない部分に形成され、前記極細導電繊維を含み、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層とを備え、
前記絶縁パターン層は、幅が１μｍ〜３００μｍである狭小溝を有し、その狭小溝により、前記導電パターン層から絶縁されると共に複数の島状に形成された、艶消し状導電性ナノファイバーシート。 A base sheet;
A conductive pattern layer formed on the base sheet, including colorless or white ultrafine conductive fibers, and being conductive through the fine conductive fibers;
Formed on a portion of the base sheet where the conductive pattern layer is not formed, including the ultrafine conductive fiber, and an insulating pattern layer insulated from the conductive pattern layer,
The matted conductive nanofiber sheet has a narrow groove having a width of 1 μm to 300 μm, and is insulated from the conductive pattern layer and formed into a plurality of islands by the narrow groove . . 前記極細導電繊維は、平均直径が１〜５００ｎｍであり、平均長さが２０μｍを超える、請求項１記載の艶消し状導電性ナノファイバーシート。   The matte conductive nanofiber sheet according to claim 1, wherein the ultrafine conductive fiber has an average diameter of 1 to 500 nm and an average length of more than 20 μm. 前記導電パターン層に光硬化性樹脂が含有されている、請求項１又は２記載の艶消し状導電性ナノファイバーシート。   The matte conductive nanofiber sheet according to claim 1 or 2, wherein the conductive pattern layer contains a photocurable resin. 基体シート上に、導通可能となるように無色又は白色系の極細導電繊維を含む導電パターン層を全面に形成する工程と、On the base sheet, a step of forming a conductive pattern layer including colorless or white ultrafine conductive fibers on the entire surface so as to be conductive;
前記形成された導電パターン層の一部を感光により硬化させる工程と、Curing a part of the formed conductive pattern layer by photosensitivity;
前記一部が硬化された導電パターン層の硬化されていない部分を現像除去することにより、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成すると共に前記絶縁パターン層を複数の島状にする、幅が１μｍ〜３００μｍである狭小溝を形成する工程とを備えた、艶消し状導電性ナノファイバーシートの製造方法。By developing and removing an uncured portion of the partially cured conductive pattern layer, an insulating pattern layer insulated from the conductive pattern layer is formed and the insulating pattern layer is formed into a plurality of islands. And a step of forming a narrow groove having a width of 1 μm to 300 μm. 基体シート上に、導通可能となるように無色又は白色系の極細導電繊維を含む導電パターン層を全面に形成する工程と、
前記形成された導電パターン層の一部にエネルギー線を照射して前記導電パターン層の一部を除去することにより、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成すると共に前記絶縁パターン層を複数の島状にする、幅が１μｍ〜３００μｍである狭小溝を形成する工程とを備えた、艶消し状導電性ナノファイバーシートの製造方法。 On the base sheet, a step of forming a conductive pattern layer including colorless or white ultrafine conductive fibers on the entire surface so as to be conductive;
An insulating pattern layer insulated from the conductive pattern layer is formed by irradiating a part of the formed conductive pattern layer with energy rays to remove a part of the conductive pattern layer. A process for producing a matte conductive nanofiber sheet, comprising a step of forming a plurality of island-shaped narrow grooves having a width of 1 μm to 300 μm . 基体シート上に、導通可能となるように無色又は白色系の極細導電繊維を含む導電パターン層を全面に形成する工程と、
前記形成された導電パターン層上の一部にエッチングレジスト層を形成する工程と、
前記エッチングレジスト層が形成された前記導電パターン層の全面をエッチングして、前記エッチングレジスト層が形成されていない部分の導電パターン層を除去することにより、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成すると共に前記絶縁パターン層を複数の島状にする、幅が１μｍ〜３００μｍである狭小溝を形成する工程とを備えた、艶消し状導電性ナノファイバーシートの製造方法。 On the base sheet, a step of forming a conductive pattern layer including colorless or white ultrafine conductive fibers on the entire surface so as to be conductive;
Forming an etching resist layer on a part of the formed conductive pattern layer;
An insulating pattern layer insulated from the conductive pattern layer by etching the entire surface of the conductive pattern layer on which the etching resist layer is formed, and removing the conductive pattern layer in a portion where the etching resist layer is not formed. And forming a narrow groove having a width of 1 μm to 300 μm, and forming the insulating pattern layer into a plurality of islands , and producing a matte conductive nanofiber sheet. 請求項１から請求項３のいずれかに記載の艶消し状導電性ナノファイバーシートを電極として用いた、タッチセンサ。A touch sensor using the matte conductive nanofiber sheet according to any one of claims 1 to 3 as an electrode.
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