JP2010157400A - Conductive nanofiber sheet, and manufacturing method thereof - Google Patents

Conductive nanofiber sheet, and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2010157400A
JP2010157400A JP2008334247A JP2008334247A JP2010157400A JP 2010157400 A JP2010157400 A JP 2010157400A JP 2008334247 A JP2008334247 A JP 2008334247A JP 2008334247 A JP2008334247 A JP 2008334247A JP 2010157400 A JP2010157400 A JP 2010157400A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern layer
conductive
conductive pattern
layer
insulating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP2008334247A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshihide Inago
吉秀 稲子
Katsumi Tokuno
勝己 徳野
Takanori Yoshida
敬典 吉田
Yoshihiro Nii
善浩 仁井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissha Printing Co Ltd
Original Assignee
Nissha Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nissha Printing Co Ltd filed Critical Nissha Printing Co Ltd
Priority to JP2008334247A priority Critical patent/JP2010157400A/en
Publication of JP2010157400A publication Critical patent/JP2010157400A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Contacts (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Manufacture Of Switches (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a conductive nanofiber sheet capable of reducing pattern view, and forming a conductive pattern film easily, and to provide a manufacturing method thereof. <P>SOLUTION: A conductive nanofiber sheet 1 is equipped with a base body sheet 10, a conductive pattern layer 6 which is formed on the base body sheet 10, contains a conductive nanofiber 3, is conductive via the conductive nanofiber 3, and has a plurality of micro pin holes 7 in size impossible of visual recognition, and an insulating pattern layer 5 which is formed in a part wherein the conductive pattern layer 6 on the base body sheet 10 is not formed, contains the conductive nanofiber 3, and is insulated from the conductive pattern layer 6. The insulating pattern layer 5 has a narrow and small groove 9 of a width impossible of visual recognition. The narrow and small groove 9 disconnects the conductive nanofiber 3 which is in a conductive state, and by this narrow and small groove 9, the insulating pattern layer 5 is insulated from the conductive pattern layer 6. <P>COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

Description

本発明は、タッチパネルなどに使用する導電性ナノファイバーシートおよびその製造方法に関する。   The present invention relates to a conductive nanofiber sheet used for a touch panel or the like and a method for producing the same.

従来、樹脂やガラス等よりなる基材の表面に導電層を有するナノファイバーからなる層を形成する方法として、例えば下記の特許文献１のように、バインダー樹脂を揮発性溶剤に溶解した溶液に極細導電繊維を分散させた塗液を、基材表面に塗布し、この塗布塗液を乾燥して導電層を形成する方法があった。   Conventionally, as a method for forming a layer made of nanofibers having a conductive layer on the surface of a base material made of resin, glass or the like, for example, as in Patent Document 1 below, a solution in which a binder resin is dissolved in a volatile solvent is extremely fine. There has been a method in which a coating liquid in which conductive fibers are dispersed is applied to the surface of a substrate, and this coating coating liquid is dried to form a conductive layer.

特許第３９０３１５９号Japanese Patent No. 3903159

しかし、特許文献１のような方法によって得られた導電性ナノファイバーシートは、塗液に極細導電繊維を分散させたままで塗布するため、細線パターンでの印刷が困難で電気的性能が安定しない問題があった。また、導電性を向上させるために極細導電繊維の含有率を高くすると透明性が低下しへイズ値が上昇するため、導電パターンが容易に視認可能となってしまうパターン見えの問題もあった。   However, since the conductive nanofiber sheet obtained by the method as in Patent Document 1 is applied while the ultrafine conductive fibers are dispersed in the coating liquid, printing with a fine line pattern is difficult and the electrical performance is not stable. was there. Further, when the content of the ultrafine conductive fiber is increased in order to improve the conductivity, the transparency is lowered and the haze value is increased, so that there is a problem of the pattern appearance that the conductive pattern becomes easily visible.

この発明は、上記のような課題を解決するためになされたもので、基体シート上に導電性ナノファイバーを含む導電パターン層と絶縁パターン層とが形成された導電性ナノファイバーシートであり、その導電パターン層に目視で認識することができない大きさの微小ピンホールが形成されている導電性ナノファイバーシートである。また、絶縁パターン層に目視で認識することができない幅の狭小溝が形成され、その狭小溝により絶縁パターン層が島状構造に形成されている導電性ナノファイバーシートとしてもよい。あるいは、導電パターン層における微小ピンホールの占有面積の割合と絶縁パターン層における狭小溝の占有面積の割合とが同等であり、導電パターン層と絶縁パターン層の厚みが同等である導電性ナノファイバーシートとしてもよい。あるいは、導電パターン層及び絶縁パターン層の光線透過率が６０％以上であり、前記導電パターン層および絶縁パターン層のヘイズ値が２０％以下である導電性ナノファイバーシートとしてもよい。   This invention was made in order to solve the above problems, and is a conductive nanofiber sheet in which a conductive pattern layer containing conductive nanofibers and an insulating pattern layer are formed on a base sheet. This is a conductive nanofiber sheet in which minute pinholes having a size that cannot be visually recognized are formed on the conductive pattern layer. Moreover, it is good also as an electroconductive nanofiber sheet by which the narrow groove | channel of the width | variety which cannot be recognized visually is formed in an insulating pattern layer, and the insulating pattern layer is formed in the island-like structure by the narrow groove. Alternatively, the conductive nanofiber sheet in which the proportion of the occupied area of the minute pinholes in the conductive pattern layer is equal to the proportion of the occupied area of the narrow grooves in the insulating pattern layer, and the thicknesses of the conductive pattern layer and the insulating pattern layer are equivalent. It is good. Or it is good also as an electroconductive nanofiber sheet whose light transmittance of an electroconductive pattern layer and an insulating pattern layer is 60% or more, and the haze value of the said electroconductive pattern layer and an insulating pattern layer is 20% or less.

又、この発明は、基体シート上に導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成し、その導電パターン層の一部にエネルギー線を照射して導電パターン層を除去させることにより、導電パターン層に目視で認識することができない大きさの微小ピンホールを形成した導電性ナノファイバーシートの製造方法である。あるいは、この発明は、基体シート上に導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成し、その導電パターン層の一部にエッチングレジスト層を形成後、全面をエッチングして、エッチングレジスト層が形成されていない部分の導電パターン層を除去させることにより、導電パターン層に目視で認識することができない大きさの微小ピンホールを形成した導電性ナノファイバーシートの製造方法としてもよい。   The present invention also provides a conductive pattern by forming a conductive pattern layer containing conductive nanofibers on the entire surface of a substrate sheet, and irradiating a part of the conductive pattern layer with energy rays to remove the conductive pattern layer. This is a method for producing a conductive nanofiber sheet in which a minute pinhole having a size that cannot be visually recognized in a layer is formed. Alternatively, in the present invention, a conductive pattern layer containing conductive nanofibers is formed on the entire surface of a base sheet, an etching resist layer is formed on a part of the conductive pattern layer, and then the entire surface is etched to form an etching resist layer. It is good also as a manufacturing method of the electroconductive nanofiber sheet | seat in which the fine pinhole of the magnitude | size which cannot be visually recognized in the conductive pattern layer was formed by removing the conductive pattern layer of the part which is not formed.

又、この発明は、基体シート上に導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成し、その導電パターン層の一部にエネルギー線を照射して導電パターン層の一部を除去することにより、目視で認識することができない幅の狭小溝を形成して狭小溝に囲まれた部分を絶縁パターン層にする導電性ナノファイバーシートの製造方法である。あるいは、この発明は、基体シート上に導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成し、その導電パターン層の一部にエッチングレジスト層を形成後、全面をエッチングして、エッチングレジスト層が形成されていない導電パターン層の一部を除去することにより、目視で認識することができない幅の狭小溝を形成して狭小溝に囲まれた部分を絶縁パターン層にする導電性ナノファイバーシートの製造方法としてもよい。   The present invention also includes forming a conductive pattern layer including conductive nanofibers on the entire surface of the substrate sheet, and irradiating a part of the conductive pattern layer with energy rays to remove a part of the conductive pattern layer. This is a method for producing a conductive nanofiber sheet in which a narrow groove having a width that cannot be visually recognized is formed and a portion surrounded by the narrow groove is formed as an insulating pattern layer. Alternatively, in the present invention, a conductive pattern layer containing conductive nanofibers is formed on the entire surface of a base sheet, an etching resist layer is formed on a part of the conductive pattern layer, and then the entire surface is etched to form an etching resist layer. By removing a part of the conductive pattern layer that is not formed, the conductive nanofiber sheet of the conductive nanofiber sheet that forms a narrow groove with a width that cannot be visually recognized and turns the part surrounded by the narrow groove into an insulating pattern layer It is good also as a manufacturing method.

更に、本発明は、上記導電性ナノファイバーシートを電極として用いたタッチパネルとしてもよい   Furthermore, the present invention may be a touch panel using the conductive nanofiber sheet as an electrode.

本発明で得られる導電性ナノファイバーシートは、目視で認識することができない大きさの微小ピンホールが形成されている導電パターン層と目視で認識することができない幅の狭小溝に囲まれた島状構造からなる絶縁パターン層とからなり、導電パターン層における微小ピンホールの占有面積の割合と前記絶縁パターン層における狭小溝の占有面積の割合とが同等であり、導電パターン層と絶縁パターン層の厚みが同等であることを特徴とする。したがって、したがって、導電パターン層は必ずしも細線パターンで印刷するわけではないので印刷性の問題はない。また、導電パターン層と絶縁パターン層の光線透過率およびヘイズ値の差が非常に少なくなり、外観の差がほとんどなくなるため、パターン見えのない導電パターン膜が形成できるという効果がある。そして、前記導電パターン層が形成された部分及び前記絶縁パターン層が形成された部分の光線透過率を６０％以上とし、ヘイズ値を２０％以下とすれば、透明の導電パターン膜が形成できるという効果もある。   The conductive nanofiber sheet obtained in the present invention is an island surrounded by a conductive pattern layer in which a minute pinhole having a size that cannot be visually recognized and a narrow groove having a width that cannot be visually recognized. The ratio of the area occupied by the minute pinholes in the conductive pattern layer is equal to the ratio of the area occupied by the narrow groove in the insulating pattern layer, and the conductive pattern layer and the insulating pattern layer The thickness is equivalent. Therefore, since the conductive pattern layer is not necessarily printed with a fine line pattern, there is no problem of printability. In addition, the difference in light transmittance and haze value between the conductive pattern layer and the insulating pattern layer is very small, and the difference in appearance is almost eliminated, so that there is an effect that a conductive pattern film having no visible pattern can be formed. A transparent conductive pattern film can be formed if the light transmittance of the portion where the conductive pattern layer is formed and the portion where the insulating pattern layer is formed is 60% or more and the haze value is 20% or less. There is also an effect.

この発明で得られる導電性ナノファイバーシートの製造方法は、基体シート上に導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成し、該導電パターン層の一部にエネルギー線を照射したり、あるいはエッチングしたりして、微小ピンホールが設けられた導電パターン層を形成したり、狭小溝に囲まれた部分を絶縁パターン層にしたりすることを特徴とする。したがって、パターン見えのない導電パターン膜が容易に形成できるという効果がある。   In the method for producing a conductive nanofiber sheet obtained in the present invention, a conductive pattern layer containing conductive nanofibers is formed on the entire surface of a base sheet, and energy rays are irradiated to a part of the conductive pattern layer, or Etching is performed to form a conductive pattern layer provided with minute pinholes, or a portion surrounded by a narrow groove is used as an insulating pattern layer. Therefore, there is an effect that a conductive pattern film having no visible pattern can be easily formed.

次に、発明の実施の形態について図を参照しながら説明する。   Next, embodiments of the invention will be described with reference to the drawings.

図１は、その（１）がこの発明の第１の実施の形態による導電性ナノファイバーシートの概略構成を示した平面図であり、その（２）がその（１）で示したＩＩ―ＩＩラインの断面図である。図２は、その（１）が図１の（２）で示した導電パターン層及び絶縁パターン層の部分拡大図であり、その（２）が図１で示した導電性ナノファイバーシートを電極として用いたタッチパネルの概略構成を示した断面図である。図３は、図１で示した導電性ナノファイバーシートの製造工程を示した図である。   FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a conductive nanofiber sheet according to the first embodiment of the present invention (1), and (2) is a II-II shown in (1). It is sectional drawing of a line. FIG. 2 is a partially enlarged view of the conductive pattern layer and the insulating pattern layer shown in (2) of FIG. 1, and (2) uses the conductive nanofiber sheet shown in FIG. 1 as an electrode. It is sectional drawing which showed schematic structure of the used touch panel. FIG. 3 is a view showing a manufacturing process of the conductive nanofiber sheet shown in FIG.

図１及び図２の（１）を参照して、この発明の第１の実施の形態による導電性ナノファイバーシート１は、基体シート１０と、基体シート１０上に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電性ナノファイバー３を介して導通可能であり、目視により認識することができない大きさの複数の微小ピンホール７を有する導電パターン層６と、基体シート１０上の導電パターン層６が形成されていない部分に形成され、導電性ナノファイバー３を含み、導電パターン層６から絶縁された絶縁パターン層５とを備えている。導電パターン層６と絶縁パターン層５とは各々平面視帯状に形成され、一方向を軸方向として交互に配置されるように形成されている。尚、導電パターン層６と絶縁パターン層５の平面視形状は、複数のひし形形状を一方向に直線的に連続された形状等の他の形状に形成されてもよい。絶縁パターン層５は、目視により認識することができない幅の狭小溝９を有している。狭小溝９が導通可能状態にある導電性ナノファイバー３を断線させ、この狭小溝９により、絶縁パターン層５は導電パターン層６から絶縁されている。又、狭小溝９は平面視格子状に形成され、絶縁パターン層５は、平面視矩形形状の複数の島状に形成されている。微小ピンホール７は、導電パターン層６の全面に渡って形成されている。   With reference to FIG. 1 and FIG. 2 (1), a conductive nanofiber sheet 1 according to the first embodiment of the present invention is formed on a base sheet 10 and the base sheet 10. And a conductive pattern layer 6 having a plurality of minute pinholes 7 having a size that cannot be visually recognized through the conductive nanofiber 3 and the conductive pattern layer 6 on the base sheet 10. An insulating pattern layer 5 that is formed in an unformed portion, includes conductive nanofibers 3 and is insulated from the conductive pattern layer 6 is provided. The conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 are each formed in a band shape in plan view, and are formed so as to be alternately arranged with one direction as an axial direction. In addition, the planar view shape of the conductive pattern layer 6 and the insulating pattern layer 5 may be formed in other shapes such as a shape in which a plurality of rhombus shapes are linearly continued in one direction. The insulating pattern layer 5 has a narrow groove 9 having a width that cannot be visually recognized. The conductive nanofibers 3 in which the narrow groove 9 is in a conductive state are disconnected, and the insulating pattern layer 5 is insulated from the conductive pattern layer 6 by the narrow groove 9. The narrow grooves 9 are formed in a lattice shape in plan view, and the insulating pattern layer 5 is formed in a plurality of island shapes having a rectangular shape in plan view. The minute pinhole 7 is formed over the entire surface of the conductive pattern layer 6.

図２の（２）を参照して、導電性ナノファイバーシート１を電極として用いたタッチパネル８は、互いの導電パターン層６の軸方向が直交するように、２枚の導電性ナノファイバーシート１を貼り合わせて構成されている。貼り合わされた導電性ナノファイバーシート１の上面を覆うように保護板５２が接着され、下面に液晶表示装置が接着するようにして配置されている。 With reference to (2) of FIG. 2, the touch panel 8 using the conductive nanofiber sheet 1 as an electrode has two conductive nanofiber sheets 1 such that the axial directions of the conductive pattern layers 6 are orthogonal to each other. It is configured by pasting together. A protective plate 52 is bonded so as to cover the upper surface of the bonded conductive nanofiber sheet 1, and a liquid crystal display device is bonded to the lower surface.

基体シート１０の材質としては、アクリル、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリブチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニルなどの樹脂フィルムが挙げられる。基体シート層の厚みは５〜８００μｍの範囲で適宜設定可能である。５μｍ未満では、層としての強度が不足して剥離する際に破れたりするので取り扱いが困難となり、８００μｍを越える厚みでは、基体シート層に剛性がありすぎて加工が困難となる。なお、導電性ナノファイバーシートを転写シートとして活用する場合には、上記樹脂フィルム上にシリコン、メラミン、アクリルなどの樹脂を塗布して離型性のある基体シート層としておくのが好ましい。   Examples of the material of the base sheet 10 include resin films such as acrylic, polycarbonate, polyester, polybutylene terephthalate, polypropylene, polyamide, polyurethane, polyvinyl chloride, and polyvinyl fluoride. The thickness of the base sheet layer can be appropriately set within a range of 5 to 800 μm. If the thickness is less than 5 μm, the strength of the layer is insufficient and the layer is torn when it is peeled off, making it difficult to handle. If the thickness exceeds 800 μm, the base sheet layer is too rigid and difficult to process. In the case where the conductive nanofiber sheet is used as a transfer sheet, it is preferable to apply a resin such as silicon, melamine, or acrylic on the resin film to form a releasable base sheet layer.

導電パターン層６は、例えば、アクリル、ポリエステル、ポリウレタン、ポリ塩化ビニルなどのバインダー樹脂３３と、導電性ナノファイバー３とからなる。導電パターン層６は、グラビア印刷、オフセット印刷、スクリーン印刷等の汎用の各種印刷手法、ダイコーター等による各種塗布手法により設けることができる。具体的には、導電パターン層６は、基体シート１０上に導通するように導電性ナノファイバー３を面状に広がるように印刷・塗布し、その上から保護膜であるバインダー樹脂３３を印刷・塗布することにより形成される。バインダー樹脂３３の厚みは、導電パターン層６の上面に導電性ナノファイバー３が露出するように設定される。その露出した導電性ナノファイバー３の一部を端子として、各導電パターン層６の静電容量の変化を検出する。   The conductive pattern layer 6 includes, for example, a binder resin 33 such as acrylic, polyester, polyurethane, and polyvinyl chloride, and the conductive nanofiber 3. The conductive pattern layer 6 can be provided by various general printing methods such as gravure printing, offset printing, and screen printing, and various coating methods using a die coater or the like. Specifically, the conductive pattern layer 6 is printed and applied so that the conductive nanofibers 3 spread in a plane so as to be conductive on the base sheet 10, and a binder resin 33 serving as a protective film is printed and applied thereon. It is formed by coating. The thickness of the binder resin 33 is set so that the conductive nanofibers 3 are exposed on the upper surface of the conductive pattern layer 6. A change in capacitance of each conductive pattern layer 6 is detected using a part of the exposed conductive nanofiber 3 as a terminal.

導電パターン層６の厚みは数十ｎｍから数百ｎｍの範囲で適宜設定可能である。厚みが数十ｎｍより薄いと層としての強度が不足し、厚みが数百ｎｍより厚いと層としての柔軟性がなくなり加工が困難となる。なお、導電パターン層６と基体シート１０との間に、剥離層やアンカー層等を設けてもよいし、導電パターン層６上にアンカー層や接着層等を設けてもよい。   The thickness of the conductive pattern layer 6 can be appropriately set in the range of several tens of nm to several hundreds of nm. When the thickness is less than several tens of nm, the strength as a layer is insufficient, and when the thickness is greater than several hundred nm, the flexibility as the layer is lost and processing becomes difficult. A release layer, an anchor layer, or the like may be provided between the conductive pattern layer 6 and the base sheet 10, or an anchor layer, an adhesive layer, or the like may be provided on the conductive pattern layer 6.

導電性ナノファイバー３の例としては、カーボンナノファイバーのほか、金、銀、白金、銅、パラジウムなどの金属イオンを担持した前駆体表面にプローブの先端部から印加電圧又は電流を作用させ連続的にひき出して作製した金属ナノワイヤや、基板上に原料ガスを導入しＣＶＤ法により作製したグラファイトナノファイバー、ペプチド又はその誘導体が自己組織化的に形成したナノファイバーに金粒子を付加してなるペプチドナノファイバーなどが挙げられる。   Examples of the conductive nanofiber 3 include a carbon nanofiber and a continuous surface by applying an applied voltage or current from the tip of the probe to the surface of a precursor carrying metal ions such as gold, silver, platinum, copper, palladium, and the like. A metal nanowire produced by pulling into a metal, or a peptide formed by adding gold particles to a nanofiber formed by self-organizing graphite nanofiber, peptide or its derivative produced by introducing a source gas onto a substrate and using a CVD method Examples include nanofibers.

導電パターン層６に設ける複数の微小ピンホール７は、目視で認識することができない面積１μｍ２〜１００００μｍ２程度の大きさのピンホールが好ましく、導電パターン層６に対する微小ピンホール７の占有面積の割合を２０％〜８０％にするように全面に渡って均等に設けるのが好ましい。微小ピンホール７の面積を１μｍ２未満にすることは技術的に難しい。また、微小ピンホール７の占有面積の割合が２０％未満であれば光線透過率の向上やヘイズ値を低下の程度が少なくなり、８０％を超えれば導電パターン層６の表面抵抗値が高くなり導電性に問題が生じる場合があるからである。 A plurality of micro pinholes 7 provided on the conductive pattern layer 6 is preferably an area 1μm 2 ~10000μm 2 a size of approximately pinholes that can not be recognized visually, to the conductive pattern layer 6 of the area occupied by the minute pinholes 7 It is preferable to provide it uniformly over the entire surface so that the ratio is 20% to 80%. It is technically difficult to make the area of the minute pinhole 7 less than 1 μm 2 . Further, if the proportion of the area occupied by the minute pinholes 7 is less than 20%, the degree of improvement in the light transmittance and the decrease in the haze value are reduced, and if it exceeds 80%, the surface resistance value of the conductive pattern layer 6 is increased. This is because there may be a problem in conductivity.

微小ピンホール７の平面視形状は、円形状のほか、多角形状、楕円状、円弧状、直線状のいずれでもよく、これらの異なる形状のピンホールが混ざっているようなものであっても構わない。   The planar view shape of the minute pinhole 7 may be a circular shape, a polygonal shape, an elliptical shape, an arc shape, or a linear shape, or may be a mixture of these different shaped pinholes. Absent.

図３の（１）を参照して、微小ピンホール７の形成方法としては、基体シート１０上に導電性ナノファイバー３を含む導電パターン層６を全面に形成し、その導電パターン層６の一部にスポット径数十μｍのＹＡＧレーザーなどのエネルギー線を照射して導電パターン層６のバインダー樹脂３３を焼き切ることにより形成する方法が挙げられる。   With reference to FIG. 3 (1), as a method of forming the minute pinhole 7, a conductive pattern layer 6 including the conductive nanofiber 3 is formed on the entire surface of the base sheet 10, and one of the conductive pattern layers 6 is formed. An example is a method in which the portion is irradiated with an energy beam such as a YAG laser having a spot diameter of several tens of μm to burn out the binder resin 33 of the conductive pattern layer 6.

図３の（２）及び（３）を参照して、他の微小ピンホール７の形成方法としては、基体シート１０上に導電性ナノファイバー３を含む導電パターン層６を全面に形成し、その導電パターン層６の一部にエッチングレジスト層１１を形成後、全面をエッチングして、エッチングレジスト層１１が形成されていない部分の導電パターン層６のバインダー樹脂３３を除去させることにより形成する方法が挙げられる。使用するエッチングレジスト層１１としては光硬化性の樹脂などが挙げられ、エッチング液として導電パターン層６のバインダー樹脂３３を除去できるケトン、芳香族炭化水素などの有機溶剤等が好ましい。   Referring to (2) and (3) of FIG. 3, as another method for forming micro pinhole 7, conductive pattern layer 6 including conductive nanofiber 3 is formed on the entire surface of base sheet 10, A method of forming the etching resist layer 11 on a part of the conductive pattern layer 6 and then etching the entire surface to remove the binder resin 33 of the conductive pattern layer 6 where the etching resist layer 11 is not formed. Can be mentioned. Examples of the etching resist layer 11 to be used include a photocurable resin, and an organic solvent such as a ketone or an aromatic hydrocarbon that can remove the binder resin 33 of the conductive pattern layer 6 is preferable as an etching solution.

なお、基体シート１０上には、例えば３〜１０ｍｍ角くらいの大きさの位置検知マーク２５を形成するのが好ましい。この位置検知マーク２５を光学的方法により読み取れば、基体シート１０上の所定の位置に微小ピンホール７を形成できるからである。あるいは基体シート１０上の所定の位置に絶縁パターン層５を形成できるからである。   Note that it is preferable to form the position detection mark 25 having a size of about 3 to 10 mm square, for example, on the base sheet 10. This is because the minute pinhole 7 can be formed at a predetermined position on the base sheet 10 by reading the position detection mark 25 by an optical method. Alternatively, the insulating pattern layer 5 can be formed at a predetermined position on the base sheet 10.

絶縁パターン層５は、導電パターン層６の微小ピンホール７の代わりに、目視で認識することができない幅の狭小溝９が形成されることを除けば、バインダー樹脂３３や導電性ナノファイバー３など導電パターン層６の材質と何ら変わりがない。又、狭小溝９は微小ピンホール７と形成するパターンが違うことを除けば、その形成方法は微小ピンホール７と同じであってもよい。そして、絶縁パターン層５の厚みは、できる限り導電パターン層６の厚みと同等にするのが好ましい。そして、絶縁パターン層５に対する狭小溝９の占有面積の割合は、できる限り導電パターン層６に対する微小ピンホール７の占有面積の割合と同等にするのが好ましい。   The insulating pattern layer 5 is formed of the binder resin 33, the conductive nanofiber 3 and the like except that a narrow groove 9 having a width that cannot be visually recognized is formed instead of the minute pinhole 7 of the conductive pattern layer 6. There is no difference from the material of the conductive pattern layer 6. The narrow groove 9 may be formed in the same manner as the minute pinhole 7 except that the pattern formed with the minute pinhole 7 is different. And it is preferable that the thickness of the insulating pattern layer 5 be as equal to the thickness of the conductive pattern layer 6 as possible. The ratio of the occupied area of the narrow groove 9 to the insulating pattern layer 5 is preferably as equal to the ratio of the occupied area of the minute pinhole 7 to the conductive pattern layer 6 as much as possible.

狭小溝９は、目視で認識することができない１０μｍ程度の幅が好ましい。狭小溝９の幅を０．１μｍ未満にすることは技術的に難しく、短絡のおそれがある。又、５０μｍを超える幅にすると照明で照らされた場合に狭小溝９が光って見えてしまう場合があるからである。   The narrow groove 9 preferably has a width of about 10 μm that cannot be visually recognized. It is technically difficult to make the width of the narrow groove 9 less than 0.1 μm, which may cause a short circuit. Further, if the width exceeds 50 μm, the narrow groove 9 may appear to shine when illuminated with illumination.

狭小溝９の形状は、平面視において、格子状の他、ハニカム状、ランダム状、その他の形状いずれでもよく、これらの異なる形状の溝が混ざっているようなものであっても構わない。また、狭小溝９によって囲まれて形成される絶縁パターン層５の島状パターンは、円形状のほか、多角形状、楕円状、円弧状のいずれでもよく、これらの異なる形状が混ざっているようなものであっても構わない。島状パターンの大きさは、ナノオーダーからミリオーダーのいずれでもよく、これらの異なる大きさの形状が混ざっているようなものであっても構わない。   The shape of the narrow groove 9 may be a lattice shape, a honeycomb shape, a random shape, or any other shape in plan view, or may be a mixture of grooves having different shapes. Further, the island pattern of the insulating pattern layer 5 formed by being surrounded by the narrow groove 9 may be any of a polygonal shape, an elliptical shape, and an arc shape in addition to a circular shape, and these different shapes are mixed. It doesn't matter. The size of the island pattern may be any of nano-order to millimeter-order, and may be a mixture of these different sizes.

以上の方法によって得られた導電性ナノファイバーシート１は、導電パターン層６のパターン見えがなく、これを数枚用いて積層等すれば、ディスプレイ画面が均一の非常に優れた静電容量方式のタッチパネルを作製することができる。   The conductive nanofiber sheet 1 obtained by the above method does not show the pattern of the conductive pattern layer 6, and if it is laminated using several sheets, the display screen is uniform and has a very excellent capacitance method. A touch panel can be manufactured.

基体シート１０として厚さ１００μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面にウレタン樹脂からなるインキで５ｍｍ角の位置検知マーク２５を形成した。   A position detection mark 25 of 5 mm square was formed on one side of a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 100 μm as the base sheet 10 with ink made of urethane resin.

次に、平均直径０．２μｍ、平均長さ１０μｍの銀ナノワイヤからなる導電性ナノファイバー３をアクリル樹脂からなるバインダー樹脂３３中に分散させたインキを用いてグラビア印刷をし、熱風乾燥して導電パターン層５を形成した。次に、位置検知マーク２５を光学的方法により読み取って所望の位置にＹＡＧレーザー照射機の先端５０を配置し、レーザー照射光５１により熱を加えて導電パターン層６のバインダー樹脂３３を焼き切り（図３の（１）参照）、全面に渡って形成された複数の微小ピンホール７からなる導電パターン層６と、狭小溝１２を有する絶縁パターン層７とを備えた導電性ナノファイバーシート１を形成した(図１参照)。   Next, gravure printing is performed using an ink in which conductive nanofibers 3 made of silver nanowires having an average diameter of 0.2 μm and an average length of 10 μm are dispersed in a binder resin 33 made of an acrylic resin, dried by hot air, and conductive. Pattern layer 5 was formed. Next, the position detection mark 25 is read by an optical method, the tip 50 of the YAG laser irradiator is placed at a desired position, and the binder resin 33 of the conductive pattern layer 6 is burned out by applying heat with the laser irradiation light 51 (see FIG. 3 (1)), forming the conductive nanofiber sheet 1 including the conductive pattern layer 6 composed of a plurality of minute pinholes 7 formed over the entire surface and the insulating pattern layer 7 having the narrow grooves 12. (See FIG. 1).

導電パターン層６の一部の部分に形成された微小ピンホール７は円形状で、平均の面積が２００μｍ２程度で外観上存在が判別できない大きさであり、導電パターン層６の総面積の４０％程度を占有していて、導電パターン層６が形成された部分の光線透過率は９０％、ヘイズ値も２％と良好であり、微小ピンホール７を形成しない場合に比べて光線透過率が１％向上し、ヘイズ値も２％低下することができた。一方、表面抵抗値の上昇は２倍程度に留まり、タッチパネルの導電膜としては問題にならない範囲であった。 The minute pinholes 7 formed in a part of the conductive pattern layer 6 are circular, have an average area of about 200 μm 2 , and have a size that cannot be distinguished from the appearance. % Of the portion where the conductive pattern layer 6 is formed has a good light transmittance of 90% and a haze value of 2%. Compared with the case where the minute pinhole 7 is not formed, the light transmittance is higher. It was improved by 1% and the haze value was also reduced by 2%. On the other hand, the increase in the surface resistance value was only about twice, and it was in a range not causing a problem as a conductive film of a touch panel.

絶縁パターン層５の部分に形成された狭小溝９はピッチ３０μｍの格子状で、平均の幅が５μｍ程度で外観上存在が判別できない幅であり、絶縁パターン層５の総面積の３７％程度を占有していて、絶縁パターン層が形成された部分の光線透過率は９０％、ヘイズ値も２％と良好であり、狭小溝９を形成しない場合に比べて光線透過率が１％向上し、ヘイズ値も２％低下することができた。一方、絶縁抵抗値は１×１０８Ω以上と、十分な絶縁抵抗の範囲であった。 The narrow grooves 9 formed in the portion of the insulating pattern layer 5 have a lattice shape with a pitch of 30 μm, an average width of about 5 μm and a width that cannot be distinguished from the appearance, and about 37% of the total area of the insulating pattern layer 5 Occupied, the light transmittance of the portion where the insulating pattern layer is formed is 90%, the haze value is 2%, and the light transmittance is improved by 1% compared to the case where the narrow groove 9 is not formed, The haze value could also be reduced by 2%. On the other hand, the insulation resistance value was 1 × 10 8 Ω or more, which was a range of sufficient insulation resistance.

得られた導電性ナノファイバーシート１は、透明の導電パターン層６からなるシートであり、導電パターン層６のパターン見えがなく、高光線透過率でかつ折り曲げもできる優れたものであった。そして、これをＸ電極とし、同様の方式によってＹ電極を作成した後、それらを積層して、透明な静電容量タッチパネル８を作製することができた（図２の（２）参照）。   The obtained conductive nanofiber sheet 1 is a sheet made of a transparent conductive pattern layer 6, which has no visible pattern of the conductive pattern layer 6, has high light transmittance, and can be bent. And after making this into an X electrode and producing a Y electrode by the same system, they were laminated | stacked and the transparent capacitive touch panel 8 was able to be produced (refer (2) of FIG. 2).

導電性ナノファイバーシート１の作成において、導電パターン層６の微小ピンホール７および絶縁パターン層５の狭小溝９の形成を、導電性ナノファイバーインキ層の一部にウレタンアクリレート系の光硬化性のエッチングレジスト層１１を形成し、現像後、トルエンをエッチング液として、エッチングレジスト層１１が形成されていない部分の導電性ナノファイバーインキ層を剥離除去した他は実施例１と同様にして導電性ナノファイバーシート１を得た（図３の（２）及び（３）参照）。   In the production of the conductive nanofiber sheet 1, the formation of the minute pinhole 7 of the conductive pattern layer 6 and the narrow groove 9 of the insulating pattern layer 5 is performed, and a urethane acrylate-based photocurable resin is formed on a part of the conductive nanofiber ink layer. After the etching resist layer 11 was formed and developed, the conductive nanofiber ink layer was peeled and removed from the portion where the etching resist layer 11 was not formed using toluene as an etching solution. A fiber sheet 1 was obtained (see (2) and (3) in FIG. 3).

この方法によって得られた微小ピンホール７も、平均の面積が４０００μｍ２程度の外観上存在が判別できない大きさであり、導電パターン層６の総面積の５０％程度を占有していて、微小ピンホール７を形成しない場合に比べて、導電パターン層が形成された部分の光線透過率は２％向上し、ヘイズ値も２％低下することができた。そして、導電パターン層６の表面抵抗値の上昇は３倍程度に留まり、タッチパネル８の導電膜としては問題にならない範囲であった。 The micro pinhole 7 obtained by this method is also a size that cannot be distinguished from the appearance with an average area of about 4000 μm 2 and occupies about 50% of the total area of the conductive pattern layer 6. Compared with the case where the hole 7 was not formed, the light transmittance of the portion where the conductive pattern layer was formed was improved by 2%, and the haze value was also reduced by 2%. And the rise of the surface resistance value of the conductive pattern layer 6 was about 3 times, and it was the range which does not become a problem as a conductive film of the touch panel 8.

一方、狭小溝９はピッチ２０μｍの格子状で、平均の幅が５μｍ程度で外観上存在が判別できない幅であり、絶縁パターン層５の総面積の５０％程度を占有していて、絶縁パターン層５が形成された部分の光線透過率は２％向上し、ヘイズ値も２％低下することができた。一方、絶縁抵抗値は１×１０８Ωと、十分な絶縁抵抗の範囲であった。そして、引き続き、実施例１と同様にして透明な静電容量タッチパネル８を作製することができた。 On the other hand, the narrow grooves 9 have a lattice shape with a pitch of 20 μm, an average width of about 5 μm and a width that cannot be distinguished from the appearance, and occupy about 50% of the total area of the insulating pattern layer 5. The light transmittance of the portion where 5 was formed was improved by 2%, and the haze value was also reduced by 2%. On the other hand, the insulation resistance value was 1 × 10 8 Ω, which was a range of sufficient insulation resistance. Subsequently, a transparent capacitive touch panel 8 could be produced in the same manner as in Example 1.

その（１）がこの発明の第１の実施の形態による導電性ナノファイバーシートの概略構成を示した平面図であり、その（２）がその（１）で示したＩＩ―ＩＩラインの断面図である。(1) is a plan view showing a schematic configuration of the conductive nanofiber sheet according to the first embodiment of the present invention, and (2) is a sectional view taken along line II-II shown in (1). It is. その（１）が図１の（２）で示した導電パターン層及び絶縁パターン層の部分拡大図であり、その（２）が図１で示した導電性ナノファイバーシートを電極として用いたタッチパネルの概略構成を示した断面図である。(1) is a partially enlarged view of the conductive pattern layer and the insulating pattern layer shown in (2) of FIG. 1, and (2) is a touch panel using the conductive nanofiber sheet shown in FIG. 1 as an electrode. It is sectional drawing which showed schematic structure. 図１で示した導電性ナノファイバーシートの製造工程を示した図である。It is the figure which showed the manufacturing process of the electroconductive nanofiber sheet | seat shown in FIG.

符号の説明Explanation of symbols

１ 導電性ナノファイバーシート
３ 導電性ナノファイバー
５ 絶縁パターン層
６ 導電パターン層
７ 微小ピンホール
８ タッチパネル
９ 狭小溝
１０ 基体シート
１１ エッチングレジスト層
２５ 位置検知マーク
３３ 樹脂バインダー
５０ レーザー照射機の先端
５１ レーザー照射光
５２ 保護板
５３ 液晶表示装置 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Conductive nanofiber sheet 3 Conductive nanofiber 5 Insulation pattern layer 6 Conductive pattern layer 7 Minute pinhole 8 Touch panel 9 Narrow groove 10 Base sheet 11 Etching resist layer 25 Position detection mark 33 Resin binder 50 Laser irradiation machine tip 51 Laser Irradiation light 52 Protection plate 53 Liquid crystal display device

Claims (9)

基体シートと、
前記基体シート上に形成され、導電性ナノファイバーを含み、その導電性ナノファイバーを介して導通可能であり、目視により認識することができない大きさの複数の微小ピンホールを有する導電パターン層と、
前記基体シート上の前記導電パターン層が形成されていない部分に形成され、前記導電性ナノファイバーを含み、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層とを備えた、導電性ナノファイバーシート。 A base sheet;
A conductive pattern layer formed on the substrate sheet, including conductive nanofibers, capable of conducting through the conductive nanofibers, and having a plurality of minute pinholes having a size that cannot be visually recognized;
A conductive nanofiber sheet comprising an insulating pattern layer formed on a portion of the base sheet where the conductive pattern layer is not formed, including the conductive nanofiber and insulated from the conductive pattern layer. 前記絶縁パターン層は、目視により認識することができない幅の狭小溝を有し、その狭小溝により、前記導電パターン層から絶縁されると共に複数の島状に形成された、請求項１記載の導電性ナノファイバーシート。   2. The conductive pattern according to claim 1, wherein the insulating pattern layer has a narrow groove having a width that cannot be visually recognized, and is insulated from the conductive pattern layer and formed into a plurality of islands by the narrow groove. Nanofiber sheet. 前記導電パターン層に対する前記複数の微小ピンホールの占有面積の割合と、前記絶縁パターン層に対する前記狭小溝の占有面積の割合とが同等であり、前記導電パターン層と前記絶縁パターン層の厚みが同等である、請求項１又は請求項２記載の導電性ナノファイバーシート。   The ratio of the occupied area of the plurality of micro pinholes to the conductive pattern layer is equal to the ratio of the occupied area of the narrow groove to the insulating pattern layer, and the thicknesses of the conductive pattern layer and the insulating pattern layer are equal. The conductive nanofiber sheet according to claim 1 or 2, wherein 前記導電パターン層が形成された部分及び前記絶縁パターン層が形成された部分の光線透過率が６０％以上であり、前記導電パターン層が形成された部分及び前記絶縁パターン層が形成された部分のヘイズ値が２０％以下である、請求項１から請求項３のいずれかに記載の導電性ナノファイバーシート。   The light transmittance of the portion where the conductive pattern layer is formed and the portion where the insulating pattern layer is formed is 60% or more, and the portion where the conductive pattern layer is formed and the portion where the insulating pattern layer is formed The conductive nanofiber sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein the haze value is 20% or less. 基体シート上に、導通可能となるように導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成する形成工程と、
前記形成された導電パターン層の一部にエネルギー線を照射して前記導電パターン層の一部を除去することにより、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成し、前記絶縁パターン層とならない部分の前記導電パターン層に目視により認識することができない大きさの複数の微小ピンホールを形成する工程とを備えた、導電性ナノファイバーシートの製造方法。 On the base sheet, a forming step of forming a conductive pattern layer including conductive nanofibers on the entire surface so as to be conductive,
An insulating pattern layer insulated from the conductive pattern layer is formed by irradiating a part of the formed conductive pattern layer with an energy beam to remove a part of the conductive pattern layer, and the insulating pattern layer And a step of forming a plurality of minute pinholes having a size that cannot be visually recognized in the conductive pattern layer of the portion that should not be formed. 基体シート上に、導通可能となるように導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成する形成工程と、
前記形成された導電パターン層の一部にエネルギー線を照射して前記導電パターン層の一部を除去することにより、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成すると共に前記絶縁パターン層を島状にする、目視により認識することができない幅の狭小溝を形成し、前記絶縁パターン層とならない部分の前記導電パターン層に目視により認識することができない大きさの複数の微小ピンホールを形成する工程とを備えた、導電性ナノファイバーシートの製造方法。 On the base sheet, a forming step of forming a conductive pattern layer including conductive nanofibers on the entire surface so as to be conductive,
An insulating pattern layer insulated from the conductive pattern layer is formed by irradiating a part of the formed conductive pattern layer with energy rays to remove a part of the conductive pattern layer. A narrow groove with a width that cannot be visually recognized is formed in an island shape, and a plurality of minute pinholes having a size that cannot be visually recognized is formed in the conductive pattern layer in a portion that does not become the insulating pattern layer. The manufacturing method of an electroconductive nanofiber sheet provided with the process to do. 基体シート上に、導通可能となるように導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成する工程と、
前記形成された導電パターン層上の一部にエッチングレジスト層を形成する工程と、
前記エッチングレジスト層が形成された前記導電パターン層の全面をエッチングして、前記エッチングレジスト層が形成されていない部分の導電パターン層を除去することにより、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成し、前記絶縁パターン層とならない部分の前記導電パターン層に目視により認識することができない大きさの複数の微小ピンホールを形成する工程とを備えた、導電性ナノファイバーシートの製造方法。 Forming a conductive pattern layer including conductive nanofibers on the entire surface of the base sheet so as to be conductive;
Forming an etching resist layer on a part of the formed conductive pattern layer;
An insulating pattern layer insulated from the conductive pattern layer by etching the entire surface of the conductive pattern layer on which the etching resist layer is formed, and removing the conductive pattern layer in a portion where the etching resist layer is not formed. And forming a plurality of minute pinholes having a size that cannot be visually recognized in a portion of the conductive pattern layer that does not become the insulating pattern layer. 基体シート上に、導通可能となるように導電性ナノファイバーを含む導電パターン層を全面に形成する工程と、
前記形成された導電パターン層上の一部にエッチングレジスト層を形成する工程と、
前記エッチングレジスト層が形成された前記導電パターン層の全面をエッチングして、前記エッチングレジスト層が形成されていない部分の導電パターン層を除去することにより、前記導電パターン層から絶縁された絶縁パターン層を形成すると共に前記絶縁パターン層を島状にする、目視により認識することができない幅の狭小溝を形成し、前記絶縁パターン層とならない部分の前記導電パターン層に目視により認識することができない大きさの複数の微小ピンホールを形成する工程とを備えた、導電性ナノファイバーシートの製造方法。 Forming a conductive pattern layer including conductive nanofibers on the entire surface of the base sheet so as to be conductive;
Forming an etching resist layer on a part of the formed conductive pattern layer;
An insulating pattern layer insulated from the conductive pattern layer by etching the entire surface of the conductive pattern layer on which the etching resist layer is formed, and removing the conductive pattern layer in a portion where the etching resist layer is not formed. The insulating pattern layer is formed into an island shape, a narrow groove having a width that cannot be visually recognized is formed, and the conductive pattern layer in a portion that does not become the insulating pattern layer cannot be visually recognized. And a step of forming a plurality of minute pinholes. A method for producing a conductive nanofiber sheet. 請求項１から請求項４のいずれかに記載の導電性ナノファイバーシートを電極として用いた、タッチパネル。   A touch panel using the conductive nanofiber sheet according to any one of claims 1 to 4 as an electrode.
JP2008334247A 2008-12-26 2008-12-26 Conductive nanofiber sheet, and manufacturing method thereof Withdrawn JP2010157400A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008334247A JP2010157400A (en) 2008-12-26 2008-12-26 Conductive nanofiber sheet, and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008334247A JP2010157400A (en) 2008-12-26 2008-12-26 Conductive nanofiber sheet, and manufacturing method thereof

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2010157400A true JP2010157400A (en) 2010-07-15

Family

ID=42575151

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008334247A Withdrawn JP2010157400A (en) 2008-12-26 2008-12-26 Conductive nanofiber sheet, and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2010157400A (en)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011148429A1 (en) * 2010-05-28 2011-12-01 信越ポリマー株式会社 Transparent conductive film and conductive substrate using the same
JP2012168690A (en) * 2011-02-14 2012-09-06 Shin Etsu Polymer Co Ltd Wiring board for input device and input device
JP2012168638A (en) * 2011-02-10 2012-09-06 Shin Etsu Polymer Co Ltd Conductive patterned substrate and input device
WO2013140975A1 (en) * 2012-03-23 2013-09-26 富士フイルム株式会社 Method of manufacturing conductive member, conductive member, and touch panel using same
JP2014160558A (en) * 2013-02-19 2014-09-04 Shin Etsu Polymer Co Ltd Electrostatic capacitance switch and manufacturing method therefor
CN104054139A (en) * 2012-01-24 2014-09-17 迪睿合电子材料有限公司 Transparent conductive element, manufacturing method therefor, input apparatus, electronic device, and thin-film patterning method
WO2018101209A1 (en) 2016-12-02 2018-06-07 アルプス電気株式会社 Transparent electrode member, method for producing same, and capacitive sensor using said transparent electrode member
JP2019091695A (en) * 2012-12-07 2019-06-13 カンブリオス フィルム ソリューションズ コーポレーション Transparent conductor, and, process of producing transparent conductor
WO2019181772A1 (en) 2018-03-22 2019-09-26 アルプスアルパイン株式会社 Transparent electrode member, multilayer transparent electrode member and capacitive sensor
US11119617B2 (en) 2018-03-14 2021-09-14 Alps Alpine Co., Ltd. Transparent electrode member, multilayer transparent electrode member, and capacitive sensor

Cited By (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8269108B2 (en) 2010-05-28 2012-09-18 Shin Etsu Polymer Co., Ltd. Transparent conductive film and conductive substrate using the same
WO2011148429A1 (en) * 2010-05-28 2011-12-01 信越ポリマー株式会社 Transparent conductive film and conductive substrate using the same
JP2012168638A (en) * 2011-02-10 2012-09-06 Shin Etsu Polymer Co Ltd Conductive patterned substrate and input device
JP2012168690A (en) * 2011-02-14 2012-09-06 Shin Etsu Polymer Co Ltd Wiring board for input device and input device
CN104054139A (en) * 2012-01-24 2014-09-17 迪睿合电子材料有限公司 Transparent conductive element, manufacturing method therefor, input apparatus, electronic device, and thin-film patterning method
WO2013140975A1 (en) * 2012-03-23 2013-09-26 富士フイルム株式会社 Method of manufacturing conductive member, conductive member, and touch panel using same
JP2013225489A (en) * 2012-03-23 2013-10-31 Fujifilm Corp Manufacturing method of conductive member, conductive member, and touch panel using conductive member
KR20140125881A (en) 2012-03-23 2014-10-29 후지필름 가부시키가이샤 Method of manufacturing conductive member, conductive member, and touch panel using same
CN104221098A (en) * 2012-03-23 2014-12-17 富士胶片株式会社 Method of manufacturing conductive member, conductive member, and touch panel using same
US9411080B2 (en) 2012-03-23 2016-08-09 Fujifilm Corporation Method for manufacturing conductive member, conductive member, and touch panel using same
JP2019091695A (en) * 2012-12-07 2019-06-13 カンブリオス フィルム ソリューションズ コーポレーション Transparent conductor, and, process of producing transparent conductor
JP2020061372A (en) * 2012-12-07 2020-04-16 カンブリオス フィルム ソリューションズ コーポレーション Transparent conductor, and process of manufacturing transparent conductor
JP2014160558A (en) * 2013-02-19 2014-09-04 Shin Etsu Polymer Co Ltd Electrostatic capacitance switch and manufacturing method therefor
KR20190077456A (en) 2016-12-02 2019-07-03 알프스 알파인 가부시키가이샤 Transparent electrode member, manufacturing method thereof, and capacitive sensor using the transparent electrode member
KR20200001610A (en) 2016-12-02 2020-01-06 알프스 알파인 가부시키가이샤 Transparent electrode member, method for producing same, and capacitive sensor using said transparent electrode member
WO2018101209A1 (en) 2016-12-02 2018-06-07 アルプス電気株式会社 Transparent electrode member, method for producing same, and capacitive sensor using said transparent electrode member
EP3690622A1 (en) 2016-12-02 2020-08-05 Alps Alpine Co., Ltd. Transparent electrode member, method of manufacturing the same, and capacitive sensor that uses transparent electrode member
US10747383B2 (en) 2016-12-02 2020-08-18 Alps Alpine Co., Ltd. Transparent electrode member, method of manufacturing the same, and capacitive sensor that uses transparent electrode member
US11073953B2 (en) 2016-12-02 2021-07-27 Alps Alpine Co., Ltd. Transparent electrode member, method of manufacturing the same, and capacitive sensor that uses transparent electrode member
US11119617B2 (en) 2018-03-14 2021-09-14 Alps Alpine Co., Ltd. Transparent electrode member, multilayer transparent electrode member, and capacitive sensor
WO2019181772A1 (en) 2018-03-22 2019-09-26 アルプスアルパイン株式会社 Transparent electrode member, multilayer transparent electrode member and capacitive sensor
KR20200100187A (en) 2018-03-22 2020-08-25 알프스 알파인 가부시키가이샤 Transparent electrode member, laminated transparent electrode member, and capacitive sensor
CN111699461A (en) * 2018-03-22 2020-09-22 阿尔卑斯阿尔派株式会社 Transparent electrode member, laminated transparent electrode member, and capacitance sensor
JPWO2019181772A1 (en) * 2018-03-22 2020-10-22 アルプスアルパイン株式会社 Transparent electrode member, laminated transparent electrode member and capacitive sensor
US11847284B2 (en) 2018-03-22 2023-12-19 Alps Alpine Co., Ltd. Transparent electrode member, multilayer transparent electrode member, and capacitive sensor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2010157400A (en) Conductive nanofiber sheet, and manufacturing method thereof
JP5259368B2 (en) Conductive nanofiber sheet and method for producing the same
JP5207992B2 (en) Conductive nanofiber sheet and method for producing the same
JP5506235B2 (en) Matte-like conductive nanofiber sheet and method for producing the same
TWI611433B (en) Production method of conductive pattern
US8269108B2 (en) Transparent conductive film and conductive substrate using the same
EP3742491B1 (en) Electrode substrate for transparent light-emitting diode display device, and transparent light-emitting diode display device comprising same
JP6843215B2 (en) Transparent conductors and the process of manufacturing transparent conductors
TW201213956A (en) Substrate with transparent conductive layer and method for producing same, transparent conductive film laminate for touch panel and touch panel
JP2010044968A (en) Method of manufacturing conductive pattern-covered body, and conductive pattern covered body
JP5686405B2 (en) Input device
JP5335534B2 (en) Conductive molded product and manufacturing method thereof
JP2012151095A (en) Transparent conductive film, transparent electrode for electrostatic capacitance type touch panel, and touch panel
JP5816591B2 (en) Manufacturing method of transparent wiring sheet
JP5505717B2 (en) Manufacturing method of conductive pattern
JP5207958B2 (en) Conductive nanofiber sheet and method for producing the same
JP2014026584A (en) Transparent wiring sheet and manufacturing method of the same, and input member for touch panel
US20150059970A1 (en) Method for making touch panel
JP2013161704A (en) Light transmissive conductive sheet and method of manufacturing the same, capacitance type touch switch, and touch panel
US9075489B2 (en) Method for making touch panel
US20150059971A1 (en) Method for making touch panel
JP2013206675A (en) Conductive laminate and touch panel
KR20170136677A (en) Flexible substrate structure and method of manufacturing the same
JP5736184B2 (en) Manufacturing method of conductive pattern forming substrate
KR20130038425A (en) Manufacture technology of fine printed electronics

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20120306