JP5504021B2 - Laser processing method - Google Patents

Laser processing method Download PDF

Info

Publication number
JP5504021B2
JP5504021B2 JP2010060562A JP2010060562A JP5504021B2 JP 5504021 B2 JP5504021 B2 JP 5504021B2 JP 2010060562 A JP2010060562 A JP 2010060562A JP 2010060562 A JP2010060562 A JP 2010060562A JP 5504021 B2 JP5504021 B2 JP 5504021B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
workpiece
laser beam
holding
processing
holding surface
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2010060562A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2011198792A (en
Inventor
圭 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Disco Corp
Original Assignee
Disco Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Disco Corp filed Critical Disco Corp
Priority to JP2010060562A priority Critical patent/JP5504021B2/en
Publication of JP2011198792A publication Critical patent/JP2011198792A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP5504021B2 publication Critical patent/JP5504021B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Dicing (AREA)

Description

本発明は、チャックテーブルに保持された被加工物にレーザービームを照射してレーザー加工を行う方法に関する。   The present invention relates to a method of performing laser processing by irradiating a workpiece held on a chuck table with a laser beam.

各種の被加工物(ワーク)を個々のチップに分割する際には、個々のチップに分割されたワークの取り扱いを容易にするため、ワークの裏面には、ポリオレフィン等で形成されたダイシングテープが貼着される。このようにダイシングテープが貼着されたウエーハは、レーザー加工装置のチャックテーブル(保持手段)にダイシングテープ側を下にして保持される。そして、ウエーハの表面側(上面側)からレーザービームを照射し、ウエーハに形成された分割予定ラインに沿ってレーザー加工溝を形成する。このようにして、ウエーハに形成されたレーザー加工溝がウエーハの裏面(下面)に達すると、ワークを貫通したレーザービームはダイシングテープを透過し、チャックテーブルを構成する保持部材に達する。   When various workpieces (workpieces) are divided into individual chips, a dicing tape formed of polyolefin or the like is formed on the back surface of the work to facilitate handling of the workpieces divided into individual chips. Affixed. The wafer to which the dicing tape is adhered in this way is held with the dicing tape side down on the chuck table (holding means) of the laser processing apparatus. Then, a laser beam is irradiated from the front surface side (upper surface side) of the wafer, and a laser processing groove is formed along a predetermined division line formed on the wafer. In this way, when the laser processing groove formed on the wafer reaches the back surface (lower surface) of the wafer, the laser beam penetrating the work passes through the dicing tape and reaches the holding member constituting the chuck table.

また、Low−k膜を有する半導体ウェーハのストリートを切削する前に、切削時におけるLow−k膜の剥離による回路の損傷を回避するために、ストリートに形成されているLow−k膜にレーザービームを照射してLow−k膜を除去する場合には、半導体ウエーハをチャックテーブル上に保持した状態でレーザービームを照射しつつ、チャックテーブルを加工送り方向に移動させる。この場合は半導体ウェーハの裏面側にまでレーザービームを到達させる必要はないが、Low−k膜を確実に除去するために、半導体ウエーハの外周縁を越えてレーザービームを照射する必要があるため、このレーザービームは、半導体ウエーハの裏面に貼着されたダイシングテープを透過してチャックテーブルの保持部材に達する。   Further, before cutting the street of the semiconductor wafer having the low-k film, in order to avoid circuit damage due to peeling of the low-k film at the time of cutting, a laser beam is applied to the low-k film formed on the street. When the low-k film is removed by irradiation, the chuck table is moved in the processing feed direction while irradiating a laser beam while the semiconductor wafer is held on the chuck table. In this case, it is not necessary to make the laser beam reach the back surface side of the semiconductor wafer, but in order to remove the Low-k film with certainty, it is necessary to irradiate the laser beam beyond the outer peripheral edge of the semiconductor wafer. This laser beam passes through the dicing tape attached to the back surface of the semiconductor wafer and reaches the holding member of the chuck table.

チャックテーブルを構成する保持部材は、多孔性のセラミックスや金属材によって形成されており、その上面にレーザービームが到達するとレーザービームを吸収して発熱するため、その熱によってダイシングテープを熔融させて損傷させるという問題がある。   The holding member that constitutes the chuck table is made of porous ceramics or metal material. When the laser beam reaches the upper surface, it absorbs the laser beam and generates heat. The heat causes the dicing tape to melt and damage it. There is a problem of making it.

また、熔融したダイシングテープの一部がチャックテーブルの保持部材に付着して、チャックテーブルを汚染したり、そのダイシングテープの一部の保持部材への付着が原因となってワークをチャックテーブルから搬出できなかったりするという問題がある。そこで、本出願人は、これらの問題を解決するために、石英ガラスを材料とするチャックテーブルを提案している(特許文献1参照)。   Also, a part of the melted dicing tape adheres to the holding member of the chuck table, contaminates the chuck table, or the work is carried out of the chuck table due to the adhering of the part of the dicing tape to the holding member. There is a problem of not being able to. Therefore, the present applicant has proposed a chuck table made of quartz glass in order to solve these problems (see Patent Document 1).

特開2006−205187号公報JP 2006-205187 A

しかし、上記特許文献1記載の発明によってチャックテーブルの破損の程度は改善されたが、何度もレーザービームが照射されることにより徐々にチャックテーブルが劣化し、レーザービームを吸収して発熱する場合があるという問題がある。   However, although the degree of breakage of the chuck table has been improved by the invention described in Patent Document 1, the chuck table is gradually deteriorated by irradiating the laser beam many times and absorbs the laser beam to generate heat. There is a problem that there is.

本発明は、これらの事実に鑑みてなされたものであって、その主な技術的課題は、チャックテーブルにレーザービームが到達しても、より長期に渡ってチャックテーブルの交換やメンテナンスを行うことなく加工ができるレーザー加工方法を提供することにある。   The present invention has been made in view of these facts, and its main technical problem is to perform replacement and maintenance of the chuck table for a longer period of time even when the laser beam reaches the chuck table. It is an object of the present invention to provide a laser processing method capable of processing without any problem.

本発明は、分割予定ラインを有するワークを保持する保持面を有する保持手段と保持手段に保持されたワークの分割予定ラインにレーザービームを照射して加工する加工手段とを有する加工装置を使用して複数のワークにレーザー加工を施すレーザー加工方法に関するもので、ワークを保持面に載置して保持する載置工程と、加工手段によって保持面に保持されたワークの分割予定ラインに沿って加工を施す加工工程と、加工が終了したワークを保持面から取り外す取り外し工程とを各工程数回繰り返す中で、載置工程において、ワークの載置位置を前回の載置工程におけるワークの載置位置からずらすことによって、加工工程においてワークをオーバーランしたレーザービーム及びワークを貫通したレーザービームが、保持面における過去にレーザービームが照射された箇所と同一箇所に照射されることを回避する。   The present invention uses a processing apparatus having a holding unit having a holding surface for holding a workpiece having a planned division line and a processing unit for irradiating a laser beam onto the planned division line of the workpiece held by the holding unit. This is related to a laser processing method that applies laser processing to a plurality of workpieces, and places the workpiece on the holding surface and holds it along the planned division line of the workpiece held on the holding surface by the processing means. In the placement process, the workpiece placement position is changed to the workpiece placement position in the previous placement process. The laser beam that overruns the workpiece in the machining process and the laser beam that penetrates the workpiece in the machining process To avoid laser beam is irradiated to the same position and location irradiated.

本発明は、載置工程において、ワークの載置位置を前回の載置工程におけるワークの載置位置からずらし、加工工程においてワークをオーバーランしたレーザービーム及びワークを貫通したレーザービームが、保持面における過去にレーザービームが照射された箇所と同一箇所に照射されないようにしたため、保持手段の同一箇所に対するレーザービームの繰り返しの照射によりその箇所が劣化したり、レーザービームを吸収して発熱したりすることがなくなる。したがって、長期に渡って保持手段の交換やメンテナンスを行うことなくレーザー加工を行うことができる。   In the mounting process, the mounting position of the work is shifted from the mounting position of the work in the previous mounting process, and the laser beam that overruns the work in the processing process and the laser beam that penetrates the work are In the past, the laser beam was not irradiated to the same spot where the laser beam was irradiated in the past, so that the spot deteriorates due to repeated irradiation of the laser beam to the same spot of the holding means, or the laser beam absorbs and generates heat Nothing will happen. Therefore, laser processing can be performed without replacing or maintaining the holding means over a long period of time.

レーザー加工装置の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of a laser processing apparatus. ワーク加工時のレーザービームのオーバーランを示す平面図である。It is a top view which shows the overrun of the laser beam at the time of a workpiece | work processing. ワーク加工時にレーザービームが保持面に達する状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state in which a laser beam reaches a holding surface at the time of a workpiece | work processing. 載置工程の第一の例を示す平面図である。It is a top view which shows the 1st example of a mounting process. 載置工程の第二の例を示す平面図である。It is a top view which shows the 2nd example of a mounting process.

図1に示すレーザー加工装置1は、保持手段2に保持された被加工物(ワーク)Wに対して加工手段3からレーザービームを照射してワークWの加工を行う装置である。保持手段2は、送り機構4によってX軸方向及びX軸方向と水平に直交するY軸方向に送られる構成となっている。送り機構4は、X方向送り機構5とY方向送り機構6とから構成される。   A laser processing apparatus 1 shown in FIG. 1 is an apparatus for processing a workpiece W by irradiating a workpiece (workpiece) W held by a holding unit 2 with a laser beam from a processing unit 3. The holding means 2 is configured to be fed by the feed mechanism 4 in the X-axis direction and the Y-axis direction that is horizontally orthogonal to the X-axis direction. The feed mechanism 4 includes an X-direction feed mechanism 5 and a Y-direction feed mechanism 6.

保持手段2は、ワークWが載置され吸引される保持面20と、保持面20の外周側に複数配置され、ダイシングテープTを介してワークWと一体化されたフレームFを固定するクランプ部21とを有している。クランプ部21は、水平方向の回転軸を中心として所定角度回動する押さえ部210を備えている。   The holding means 2 includes a holding surface 20 on which the work W is placed and sucked, and a plurality of clamps that are arranged on the outer peripheral side of the holding surface 20 and fix the frame F integrated with the work W via the dicing tape T. 21. The clamp part 21 includes a pressing part 210 that rotates a predetermined angle around a horizontal rotation axis.

加工手段3は、装置後端部に設けられた壁部10に固定されており、下方に向けてレーザービームを照射する照射ヘッド30を備えている。   The processing means 3 is fixed to a wall 10 provided at the rear end of the apparatus, and includes an irradiation head 30 that irradiates a laser beam downward.

X方向送り機構5は、X軸方向にのびるボールネジ50と、ボールネジ50と平行に配設されたガイドレール51と、ボールネジ50の一端に連結されボールネジ50を回動させるモータ52と、下部がガイドレール51に摺接するとともにボールネジ50に螺合する図示しないナットを内部に備えたスライド板53とを備え、ボールネジ50の回動にともないスライド板53がガイドレール51にガイドされてX軸方向に移動する構成となっている。スライド板53には、内部にパルスモータを備えた回転駆動部54が固定されており、回転駆動部54は、保持手段2を所定角度回転させることができる。   The X-direction feed mechanism 5 includes a ball screw 50 extending in the X-axis direction, a guide rail 51 disposed in parallel with the ball screw 50, a motor 52 connected to one end of the ball screw 50, and rotating at the lower portion thereof as a guide. The slide plate 53 includes a nut (not shown) that is in sliding contact with the rail 51 and screwed into the ball screw 50. The slide plate 53 is guided by the guide rail 51 and moves in the X-axis direction as the ball screw 50 rotates. It is the composition to do. A rotation drive unit 54 having a pulse motor is fixed inside the slide plate 53, and the rotation drive unit 54 can rotate the holding means 2 by a predetermined angle.

Y方向送り機構6は、Y軸方向にのびるボールネジ60と、ボールネジ60と平行に配設されたガイドレール61と、ボールネジ60の一端に連結されボールネジ60を回動させるモータ62と、下部がガイドレール61に摺接するとともにボールネジ60に螺合する図示しないナットを内部に備えたスライド板63とを備え、ボールネジ60の回動にともないスライド板63がガイドレール61にガイドされてX軸方向に移動する構成となっている。スライド板63にはX方向送り機構5が配設されており、スライド板63のY軸方向の移動にともないX方向送り機構5も同方向に移動する構成となっている。   The Y-direction feed mechanism 6 includes a ball screw 60 extending in the Y-axis direction, a guide rail 61 disposed in parallel to the ball screw 60, a motor 62 connected to one end of the ball screw 60 and rotating the ball screw 60, and a lower portion serving as a guide. The slide plate 63 includes a nut (not shown) that is in sliding contact with the rail 61 and screwed into the ball screw 60. The slide plate 63 is guided by the guide rail 61 and moves in the X-axis direction as the ball screw 60 rotates. It is the composition to do. The slide plate 63 is provided with an X-direction feed mechanism 5, and the X-direction feed mechanism 5 is also moved in the same direction as the slide plate 63 moves in the Y-axis direction.

次に、このように構成されるレーザー加工装置1を用いて、図1に示すワークWをレーザー加工する場合について説明する。なお、ワークは特に限定はされないが、例えばシリコンウェーハ、ガリウム砒素等の半導体ウェーハや、チップ実装用としてウェーハの裏面に設けられるDAF(Die Attach Film)等の粘着部材、半導体製品のパッケージ、セラミックス、ガラス、サファイア(Al2O3)系の無機材料基板、LCDドライバー等の各種電子部品、さらには、ミクロンオーダーの加工位置精度が要求される各種加工材料などが挙げられる。 Next, the case where the workpiece | work W shown in FIG. 1 is laser-processed using the laser processing apparatus 1 comprised in this way is demonstrated. The workpiece is not particularly limited. For example, semiconductor wafers such as silicon wafers and gallium arsenide, adhesive members such as DAF (Die Attach Film) provided on the back surface of the wafer for chip mounting, semiconductor product packages, ceramics, Examples thereof include glass, sapphire (Al 2 O 3 ) -based inorganic material substrates, various electronic components such as LCD drivers, and various processing materials that require processing position accuracy on the order of microns.

ワークWの表面W1には、分割予定ラインSが縦横に形成されている。このワークWの裏面は、ダイシングテープTに貼着される。また、ダイシングテープTの周縁部にはリング状のフレームFが貼着され、ワークWがダイシングテープTを介してフレームFと一体化されて支持される。なお、図1におけるワークW、ダイシングテープT及びフレームFは拡大して図示しているが、実際には保持手段2において保持できる大きさである。   On the surface W <b> 1 of the work W, division planned lines S are formed vertically and horizontally. The back surface of the workpiece W is attached to the dicing tape T. A ring-shaped frame F is attached to the peripheral edge of the dicing tape T, and the work W is integrated with and supported by the frame F via the dicing tape T. Although the workpiece W, the dicing tape T, and the frame F in FIG. 1 are illustrated in an enlarged manner, they are actually large enough to be held by the holding means 2.

こうしてダイシングテープTを介してフレームFに支持されたワークWは、ダイシングテープT側が保持面20に載置され、ワークWは、ダイシングテープTを介して保持面20に吸引保持される(載置工程)。このとき、図2に示すように、フレームFは、押さえ部210によって上方から押圧されることによってクランプ部21において固定される。ここでは、ワークWが保持面20の中心に載置されて保持された状態となっている。   The workpiece W supported by the frame F via the dicing tape T is placed on the holding surface 20 on the dicing tape T side, and the workpiece W is sucked and held on the holding surface 20 via the dicing tape T (placement). Process). At this time, as shown in FIG. 2, the frame F is fixed at the clamp portion 21 by being pressed from above by the pressing portion 210. Here, the workpiece W is placed and held at the center of the holding surface 20.

このようにしてワークWがダイシングテープT及びフレームFとともに保持手段2に保持されると、X方向送り機構5及びY方向送り機構6が保持テーブル2をX方向及びY方向に送りながら、照射ヘッド30が分割予定ラインSに対してレーザービームを照射することにより、分割予定ラインSに沿ってレーザー加工が行われる。レーザー加工は、すべての分割予定ラインSについて行われる。かかるレーザー加工には、レーザービームがワークWの裏面側まで達するようにして切断を行うフルカット加工、ワークの内部に改質層を形成する改質層形成加工、ワークWの表面にアブレーション溝を形成するアブレーション加工、分割予定ラインSに形成されているLow−k膜を除去するLow−k膜除去加工などがある(加工工程)。なお、改質層とは、後に外力を加えて切断を行う際の起点となるものであり、密度、屈折率、機械的強度やその他の物理的特性のいずれかがその周囲とは異なる状態となった層のことであり、例えば、溶融処理領域、クラック領域、絶縁破壊領域、屈折率変化領域等があり、これらが混在した領域もある。   When the workpiece W is held by the holding means 2 together with the dicing tape T and the frame F in this way, the irradiation head while the X direction feeding mechanism 5 and the Y direction feeding mechanism 6 feed the holding table 2 in the X direction and the Y direction. When the laser beam 30 irradiates the division line S with the laser beam, the laser processing is performed along the division line S. Laser processing is performed on all the division lines S. Such laser processing includes full-cut processing in which the laser beam reaches the back surface side of the workpiece W, modified layer formation processing for forming a modified layer inside the workpiece, and an ablation groove on the surface of the workpiece W. There are an ablation process to be formed, a Low-k film removal process for removing the Low-k film formed on the planned division line S (processing step), and the like. The modified layer is a starting point when cutting by applying external force later, and the density, refractive index, mechanical strength and other physical characteristics are different from the surroundings. For example, there are a melt treatment region, a crack region, a dielectric breakdown region, a refractive index change region, and the like, and there are regions where these are mixed.

加工工程においては、分割予定ラインSに沿ってレーザービームを照射し、図2において拡大して示すように、レーザービームをオーバーラン位置7にまでオーバーランさせて確実に加工を行う。そうすると、レーザービームがダイシングテープTに直接照射され、ダイシングテープTを透過してオーバーラン位置7の真下の保持面20を損傷させることがある。保持面20として石英ガラスを用いたとしても、同じ部分に繰り返しレーザービームが照射されると、保持面20の損傷を完全に回避することはできない。   In the processing step, the laser beam is irradiated along the scheduled division line S, and the laser beam is overrun to the overrun position 7 as shown in an enlarged manner in FIG. In this case, the laser beam is directly applied to the dicing tape T and may pass through the dicing tape T and damage the holding surface 20 immediately below the overrun position 7. Even if quartz glass is used as the holding surface 20, damage to the holding surface 20 cannot be completely avoided if the same portion is repeatedly irradiated with a laser beam.

また、図3に示すように、レーザービームがワークWの裏面側W2まで達するようにして切断を行うフルカット加工では、ワークWの裏面W2に集光されたレーザービームLがダイシングテープTを透過して保持面20にも達する。したがって、保持面20は、ワークWの下方位置においても損傷することがある。   Further, as shown in FIG. 3, in the full-cut processing in which the laser beam is cut so as to reach the back surface side W2 of the workpiece W, the laser beam L condensed on the back surface W2 of the workpiece W passes through the dicing tape T. As a result, the holding surface 20 is also reached. Therefore, the holding surface 20 may be damaged even at a position below the workpiece W.

加工工程が終了したワークWは、保持面20における吸着が解除され、保持面20から取り外される。フレームFも、クランプ部21の押さえ部210による押圧が解除され、ワークWとともに保持手段2から離脱する(取り外し工程)。   The workpiece W that has finished the machining process is released from the holding surface 20 after being released from the holding surface 20. The frame F is also released from the holding means 2 together with the workpiece W by being released from being pressed by the pressing portion 210 of the clamp portion 21 (detaching step).

以上のようにして行われる載置工程、加工工程、取り外し工程は、レーザー加工装置1において、図示しない制御部によりフルオート方式で行うようにしてもよいし、オペレータの操作によりマニュアル方式で行うこともできる。   The mounting process, the processing process, and the removal process performed as described above may be performed in a fully automatic manner by a control unit (not shown) in the laser processing apparatus 1 or may be performed manually by an operator. You can also.

複数のワークをレーザー加工する場合は、以上のようにして、載置工程、加工工程、取り外し工程を複数回繰り返す。こうして各工程を順次繰り返す中で、載置工程においては、毎回のワークの加工時にワークを保持手段2の一定の位置に載置するのではなく、前回の(1つ前のワークについての)載置工程において保持手段2にワークを載置した位置からずらした位置にワークを載置する。その次のワークについても、前回、前々回とは異なる位置に載置して加工を行う。そして、このような載置方法を採用することによって、保持手段2の保持面20におけるすでにレーザービームが照射された箇所と同一箇所に、ワークをオーバーランしたレーザービームまたはワークを貫通したレーザービームが照射されるのを防止する。ワークの載置位置のずらし方には特に制限はないが、以下に載置例を示す。なお、載置工程においてワークをずらして載置する作業は、加工装置に自動で行わせても良いし、オペレータが手動で行っても良い。   When laser processing a plurality of workpieces, the placing process, the processing process, and the removing process are repeated a plurality of times as described above. Thus, while repeating each process sequentially, in the placing process, the work is not placed at a fixed position of the holding means 2 at the time of processing the work each time, but the previous work (for the previous work) is placed. In the placing step, the work is placed at a position shifted from the position where the work is placed on the holding means 2. The next workpiece is also placed and processed at a position different from the previous time. And by adopting such a mounting method, the laser beam overrunning the workpiece or the laser beam penetrating the workpiece is placed at the same location on the holding surface 20 of the holding means 2 that has already been irradiated with the laser beam. Prevents irradiation. There is no particular limitation on how to shift the work placement position, but a placement example is shown below. In addition, the work of shifting the workpiece in the placement process may be automatically performed by the processing apparatus, or may be manually performed by the operator.

(第1の例)
図4に示すように、前回のワークが、保持手段2の中心である第一の載置位置80(2点鎖線で示す)に載置してあったとすると、前回の次に加工するワークが第一の載置位置80に載置された状態で保持手段2をX軸方向に送りながら前回のワークの分割予定ラインSにレーザービームを照射すると、そのレーザービームは、すべての分割予定ラインSからオーバーランし、図4に示す第一のオーバーラン位置(2点鎖線で示す)においてダイシングテープTを透過して保持面20に到達する。そうすると、第一のオーバーラン位置70の下方において保持面20が損傷するおそれが生ずる。
(First example)
As shown in FIG. 4, if the previous workpiece is placed at the first placement position 80 (indicated by a two-dot chain line) that is the center of the holding means 2, When the laser beam is applied to the previous division planned line S of the workpiece while feeding the holding means 2 in the X-axis direction in the state of being placed at the first placement position 80, the laser beam is all of the planned division lines S. From the dicing tape T at the first overrun position (indicated by a two-dot chain line) shown in FIG. As a result, the holding surface 20 may be damaged below the first overrun position 70.

そこで、前回の次に加工するワークは第一の載置位置80よりもY軸方向に若干ずらした位置である第二の載置位置81(実線で示す)に載置する。具体的には、ダイシングテープTを介してフレームFと一体となったワークWを、全体としてY軸方向(図4の例では縦方向)にずらした状態で保持手段2に載置し、保持面20においてダイシングテープTを介してワークWを吸引するとともに、その状態で押さえ部210をフレームFに対して上方から押圧して固定する。加工装置によって自動でダイシングテープTを介してフレームFと一体となったワークWを第一の載置位置80からずらした状態で載置するには、例えば、保持手段2の待機位置を、前回のワークを第一の載置位置に載置したときの保持手段2の待機位置よりも若干Y軸方向に移動させた位置とし、その位置で次のワークを載置すればよい。この場合、ワークW、ダイシングテープT及びフレームFを全体としてY軸方向にずらすため、クランプ部21において保持されるフレームFの位置も、2点鎖線で示した前回の位置よりY軸方向にずれる。   Therefore, the workpiece to be machined next is placed at a second placement position 81 (shown by a solid line) that is slightly shifted in the Y-axis direction from the first placement position 80. Specifically, the workpiece W integrated with the frame F via the dicing tape T is placed on the holding means 2 while being shifted in the Y-axis direction (vertical direction in the example of FIG. 4) as a whole and held. While sucking the workpiece W through the dicing tape T on the surface 20, the pressing portion 210 is pressed against the frame F from above and fixed. In order to place the workpiece W integrated with the frame F automatically through the dicing tape T by the processing device in a state shifted from the first placement position 80, for example, the standby position of the holding means 2 is changed to the previous time. The workpiece may be moved slightly in the Y-axis direction from the standby position of the holding means 2 when the workpiece is placed at the first placement position, and the next workpiece may be placed at that position. In this case, since the workpiece W, the dicing tape T, and the frame F are displaced in the Y-axis direction as a whole, the position of the frame F held in the clamp portion 21 is also shifted in the Y-axis direction from the previous position indicated by the two-dot chain line. .

そして、その状態でオーバーランさせながら分割予定ラインに対してレーザービームを照射すると、そのレーザービームは、図3に示す第二のオーバーラン位置においてダイシングテープTを透過して保持面20に到達する。そうすると、第二のオーバーラン位置71において保持面20が損傷するおそれが生ずるが、第二のオーバーラン位置71は、第一のオーバーラン位置70とは異なる位置であり、レーザービームが過去に照射された位置ではないため、保持面20が損傷し劣化するのを防止することができる。その次に加工するワークについても、ワークを前回、前々回とは異なる位置に載置すれば、第一のオーバーラン位置、第二のオーバーラン位置とは異なる位置にオーバーランするようになるため、保持面20の発熱、損傷、劣化を防止することができる。装置がフルオートで動作する場合は、装置内の制御部が、保持手段2に対するワークの搬送位置をその都度若干ずらすようにすればよい。実際にどれくらいずらすかは、分割予定ラインの間隔、オーバーラン部分の長さ等を勘案して制御すればよい。このように、保持手段2に対するワークWの載置位置を次々とY軸方向にずらしていけば、保持面20の特定の箇所に集中してオーバーランしたレーザービームが照射されることがない。   Then, when a laser beam is irradiated onto the planned dividing line while overrunning in this state, the laser beam passes through the dicing tape T and reaches the holding surface 20 at the second overrun position shown in FIG. . Then, the holding surface 20 may be damaged at the second overrun position 71. However, the second overrun position 71 is a position different from the first overrun position 70, and the laser beam has been irradiated in the past. Since it is not the position where it was made, it can prevent that the holding surface 20 damages and deteriorates. For the workpiece to be processed next, if the workpiece is placed at a position different from the previous time, the first overrun position will be overrun at a position different from the second overrun position. Heat generation, damage, and deterioration of the holding surface 20 can be prevented. When the apparatus operates in full auto mode, the control unit in the apparatus may slightly shift the workpiece transfer position with respect to the holding means 2 each time. The actual shift amount may be controlled in consideration of the interval between the lines to be divided, the length of the overrun portion, and the like. Thus, if the mounting position of the workpiece W with respect to the holding means 2 is successively shifted in the Y-axis direction, the overrun laser beam concentrated on a specific portion of the holding surface 20 is not irradiated.

(第2の例)
第一の例と同様に、前回加工したワークが保持手段2の中心である第一の載置位置82(2点鎖線で示す)に載置してあったとすると、前回の次に加工するワークが第一の載置位置82に載置された状態で保持手段2をX軸方向に送りながら前回のワークの分割予定ラインSにレーザービームを照射すると、そのレーザービームは、第一の載置位置82の周囲に形成された第一のオーバーラン位置72の下方において保持面20が損傷するおそれが生ずる。
(Second example)
As in the first example, if the previously machined workpiece is placed at the first placement position 82 (indicated by a two-dot chain line) that is the center of the holding means 2, When the laser beam is applied to the previous division line S of the workpiece while feeding the holding means 2 in the X-axis direction while the holder is placed at the first placement position 82, the laser beam is moved to the first placement position 82. There is a risk that the holding surface 20 may be damaged below the first overrun position 72 formed around the position 82.

そこで、前回の次に加工するワークは、第一の載置位置82よりも僅かに回転させた第二の載置位置83(実線で示す)に載置する。具体的には、ダイシングテープTを介してフレームFと一体となったワークWを、全体として左周りまたは右回りに(図5の例では右回りに)回転させてずらした状態で保持手段2に載置し、保持面20においてダイシングテープTを介してワークWを吸引するとともに、その状態で押さえ部210をフレームFに対して上方から押圧して固定する。このとき、図5に示す例のように、ワークWにオリエンテーションフラット9が形成されている場合は、オリエンテーションフラット9の向きが、第一の載置位置とは異なることになる。加工装置によって自動でダイシングテープTを介してフレームFと一体となったワークWを第一の載置位置82からずらした状態で載置するには、例えば、保持手段2の待機位置を、前回のワークを第一の載置位置に載置したときの保持手段2の待機位置よりも若干回転させた位置とし、その位置で次のワークを載置すればよい。実際にどれくらい回転させるかは、分割予定ラインの間隔、オーバーラン部分の長さ等を勘案して制御すればよい。   Therefore, the workpiece to be machined next is placed at a second placement position 83 (shown by a solid line) slightly rotated from the first placement position 82. Specifically, the holding means 2 in a state in which the workpiece W integrated with the frame F via the dicing tape T is rotated and shifted counterclockwise or clockwise (clockwise in the example of FIG. 5) as a whole. The workpiece W is sucked on the holding surface 20 via the dicing tape T, and in this state, the pressing portion 210 is pressed against the frame F from above and fixed. At this time, when the orientation flat 9 is formed on the workpiece W as in the example shown in FIG. 5, the orientation of the orientation flat 9 is different from the first placement position. In order to place the workpiece W integrated with the frame F automatically through the dicing tape T by the processing device in a state shifted from the first placement position 82, for example, the standby position of the holding means 2 is changed to the previous time. It is sufficient that the workpiece is set at a position slightly rotated from the standby position of the holding means 2 when the workpiece is placed at the first placement position, and the next workpiece is placed at that position. The actual amount of rotation may be controlled in consideration of the interval between the lines to be divided, the length of the overrun portion, and the like.

そして、その状態でオーバーランさせながら分割予定ラインに対してレーザービームを照射すると、図5において一部拡大して示すように、第一のオーバーラン位置72と第二のオーバーラン位置73とは位置及び角度が異なり、第一のオーバーラン位置72とは異なる位置においてダイシングテープTを透過して保持面20にレーザービームが到達する。したがって、同一箇所に繰り返しオーバーランしたレーザービーム及びワークを貫通したレーザービームが照射されることがないため、保持面20が発熱、損傷、劣化するのを防止することができる。なお、図5においては、拡大図においてのみ第二のオーバーラン位置73を示しているが、実際には第一のオーバーラン位置72と同数のオーバーランが行われる。また、図5においてはダイシングテープT及びフレームFの図示を省略しているが、これらもワークWとともに回転させて載置する。   Then, when the laser beam is irradiated to the planned dividing line while overrunning in this state, the first overrun position 72 and the second overrun position 73 are as shown in FIG. The laser beam reaches the holding surface 20 through the dicing tape T at a position different from the first overrun position 72 at a different position and angle. Therefore, since the laser beam that has repeatedly overrun and the laser beam that penetrates the workpiece are not irradiated to the same location, the holding surface 20 can be prevented from being heated, damaged, or deteriorated. In FIG. 5, the second overrun position 73 is shown only in the enlarged view, but actually, the same number of overruns as the first overrun position 72 are performed. Further, although the illustration of the dicing tape T and the frame F is omitted in FIG. 5, these are also rotated and placed together with the workpiece W.

次に加工するワークについても、さらに回転させて前回、前々回とは異なる位置に載置してレーザービームを照射することにより、第一のオーバーラン位置、第二のオーバーラン位置とは異なる位置にオーバーランするようになり、保持面20の発熱、損傷、劣化を防止することができる。   The workpiece to be processed next is further rotated and placed at a position different from the previous time and irradiated with a laser beam, so that the first overrun position and the second overrun position are different. Overrun occurs, and heat generation, damage, and deterioration of the holding surface 20 can be prevented.

1:レーザー加工装置
2:保持テーブル
3:レーザー照射機構 30:照射ヘッド
4:送り機構
5:X方向送り機構
50:ボールネジ 51:ガイドレール 52:モータ 53:スライド板
54:回転駆動部
6:Y方向送り機構
60:ボールネジ 61:ガイドレール 62:モータ 63:スライド板
7:オーバーラン位置
70、72:第一のオーバーラン位置 71、73:第二のオーバーラン位置
80、82:第一の載置位置 81、83:第二の載置位置
9:オリエンテーションフラット
1: Laser processing device 2: Holding table 3: Laser irradiation mechanism 30: Irradiation head 4: Feed mechanism 5: X direction feed mechanism 50: Ball screw 51: Guide rail 52: Motor 53: Slide plate 54: Rotation drive unit 6: Y Direction feed mechanism 60: Ball screw 61: Guide rail 62: Motor 63: Slide plate 7: Overrun position 70, 72: First overrun position 71, 73: Second overrun position 80, 82: First mounting Placement position 81, 83: Second placement position 9: Orientation flat

Claims (1)

分割予定ラインを有するワークを保持する保持面を有する保持手段と、
該保持手段に保持されたワークの分割予定ラインにレーザービームを照射して加工する加工手段と、
を有する加工装置を使用して複数のワークにレーザー加工を施すレーザー加工方法であって、
ワークを該保持面に載置して保持する載置工程と、
該加工手段によって該保持面に保持されたワークの該分割予定ラインに沿って加工を施す加工工程と、
加工が終了したワークを該保持面から取り外す取り外し工程と、を各工程数回繰り返す中で、
該載置工程において、ワークの載置位置を前回の載置工程におけるワークの載置位置からずらすことによって、加工工程においてワークをオーバーランしたレーザービーム及びワークを貫通したレーザービームが、保持面におけるすでにレーザービームが照射された箇所と同一箇所に照射されることを回避するワークずらし工程が含まれるレーザー加工方法。
Holding means having a holding surface for holding a workpiece having a division planned line;
Processing means for irradiating a laser beam onto a work division scheduled line held by the holding means and processing the workpiece;
A laser processing method for performing laser processing on a plurality of workpieces using a processing apparatus having
A placing step of placing and holding the workpiece on the holding surface;
A machining step for machining along the division line of the workpiece held on the holding surface by the machining means;
In the process of removing the workpiece that has been processed from the holding surface and repeating the removal process several times,
In the placement step, the workpiece placement position is shifted from the workpiece placement position in the previous placement step, so that the laser beam that overruns the workpiece in the machining step and the laser beam that penetrates the workpiece are A laser processing method that includes a workpiece shifting step that avoids irradiating the same spot that has been irradiated with a laser beam.
JP2010060562A 2010-03-17 2010-03-17 Laser processing method Active JP5504021B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010060562A JP5504021B2 (en) 2010-03-17 2010-03-17 Laser processing method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2010060562A JP5504021B2 (en) 2010-03-17 2010-03-17 Laser processing method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011198792A JP2011198792A (en) 2011-10-06
JP5504021B2 true JP5504021B2 (en) 2014-05-28

Family

ID=44876680

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2010060562A Active JP5504021B2 (en) 2010-03-17 2010-03-17 Laser processing method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP5504021B2 (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6971101B2 (en) * 2017-09-07 2021-11-24 株式会社アマダ Thermal cutting machine and thermal cutting method

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004114075A (en) * 2002-09-25 2004-04-15 Laser Solutions Co Ltd Laser beam machining device
JP2005251882A (en) * 2004-03-03 2005-09-15 Disco Abrasive Syst Ltd Laser beam machining equipment
JP4342992B2 (en) * 2004-03-17 2009-10-14 株式会社ディスコ Laser processing machine chuck table
JP5331440B2 (en) * 2008-10-24 2013-10-30 株式会社ディスコ Method for removing deposit on chuck table of laser processing apparatus
JP5331442B2 (en) * 2008-10-29 2013-10-30 株式会社ディスコ Detaching method for chuck table

Also Published As

Publication number Publication date
JP2011198792A (en) 2011-10-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4342992B2 (en) Laser processing machine chuck table
US7608523B2 (en) Wafer processing method and adhesive tape used in the wafer processing method
KR20180063832A (en) METHOD FOR PRODUCING SiC WAFER
KR20160072775A (en) Method of machining wafer
KR20140121779A (en) Method for dividing circular plate-like object
KR20180018353A (en) METHOD FOR PRODUCING SiC WAFER
KR102084269B1 (en) Laser machining apparatus and method for coating protection film
JP4439990B2 (en) Laser processing method
KR20140136875A (en) Laser machining apparatus
JP5495869B2 (en) How to check laser processing groove
JP5615107B2 (en) Split method
JP5504021B2 (en) Laser processing method
JP4796382B2 (en) Chuck table of processing equipment
JP2006134971A (en) Laser processing method of wafer
JP5331440B2 (en) Method for removing deposit on chuck table of laser processing apparatus
JP5244548B2 (en) Holding table and processing device
JP2005251882A (en) Laser beam machining equipment
CN107527829B (en) Wafer processing method
JP2007207863A (en) Laser processing method and laser processing system
JP5771389B2 (en) Processing method
JP5839905B2 (en) Workpiece cutting method
JP6935131B2 (en) How to cut a plate-shaped workpiece
JP5331442B2 (en) Detaching method for chuck table
JP2016207820A (en) Processing method of wafer
CN110491834B (en) Method for processing object to be processed

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20130225

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140218

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140317

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5504021

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250