JP5499622B2 - Electro-optical device and electronic apparatus - Google Patents

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Description

本発明は、例えば液晶装置等の電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた、例えば液晶プロジェクター等の電子機器の技術分野に関する。   The present invention relates to a technical field of an electro-optical device such as a liquid crystal device and an electronic apparatus such as a liquid crystal projector including the electro-optical device.

この種の電気光学装置として、例えば一対の基板間に液晶層を挟持してなる液晶装置がある。このような液晶装置の製造工程においては、一対の基板を、紫外線硬化樹脂等が含まれるシール材によって貼り合わせる手法が用いられることがある。この場合、シール材を硬化させるには、シール材に対して十分な紫外線を照射することが求められる。このため、例えば特許文献1では、基板におけるシール材と重なる部分には遮光膜を設けないようにするという技術が提案されている。   As this type of electro-optical device, for example, there is a liquid crystal device in which a liquid crystal layer is sandwiched between a pair of substrates. In the manufacturing process of such a liquid crystal device, a method in which a pair of substrates is bonded together with a sealing material containing an ultraviolet curable resin or the like may be used. In this case, in order to cure the sealing material, it is required to irradiate the sealing material with sufficient ultraviolet rays. For this reason, for example, Patent Document 1 proposes a technique in which a light shielding film is not provided on a portion of the substrate that overlaps with the sealing material.

特許第2569548号公報Japanese Patent No. 2695548

しかしながら、上述したようにシール材と重なる部分に遮光膜を設けない場合、装置の動作時に照射される光がシール材と重なる部分を透過してしまうため、表示画像に悪影響を与えてしまうおそれがある。また、シール材と重なる部分における遮光性を有する配線のレイアウトが制限されてしまうため、装置構成が複雑化してしまうおそれがある。このように、上述した技術では、シール材と重なる部分を遮光できないが故に、様々な不都合が生じてしまうという技術的問題点がある。   However, as described above, when the light shielding film is not provided on the portion overlapping the sealing material, the light irradiated during the operation of the apparatus passes through the portion overlapping the sealing material, which may adversely affect the display image. is there. In addition, since the layout of the light-shielding wiring in the portion overlapping with the sealing material is limited, the apparatus configuration may be complicated. As described above, the above-described technique has a technical problem that various inconveniences occur because the portion overlapping the sealing material cannot be shielded from light.

本発明は、例えば上述した問題点に鑑みなされたものであり、シール材と重なる部分を遮光可能とすることで、簡易な構成で品質の高い電気光学装置及び電子機器を提供することを課題とする。   The present invention has been made in view of, for example, the above-described problems, and it is an object to provide a high-quality electro-optical device and electronic apparatus with a simple configuration by making it possible to shield a portion overlapping a sealing material. To do.

本発明の電気光学装置は上記課題を解決するために、第1の基板及び第2の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置であって、前記第1の基板に、前記第1の基板の第1の辺に沿って設けられたデータ線駆動回路と、前記第1の辺と交差する第2の辺に沿って設けられた走査線駆動回路と、前記走査線駆動回路と前記第2の辺との間において、前記第2の辺に沿って延在し、前記走査線駆動回路と電気的に接続された配線と、前記第1の基板と前記第2の基板との間に、前記データ線駆動回路、前記走査線駆動回路及び前記配線とそれぞれ少なくとも部分的に重なるように設けられており、前記第1の基板及び前記第2の基板を互いに接着するシール材と、前記第2の基板に、前記データ線駆動回路、前記走査線駆動回路、前記配線及び前記シール材とそれぞれ少なくとも部分的に重なるように設けられた遮光膜とを備える。 In order to solve the above problem, an electro-optical device according to the present invention is an electro-optical device in which an electro-optical material is sandwiched between a first substrate and a second substrate, and the first substrate includes the first optical substrate. A data line driving circuit provided along a first side of one substrate, a scanning line driving circuit provided along a second side intersecting with the first side, and the scanning line driving circuit; A wiring extending along the second side between the second side and electrically connected to the scanning line driver circuit; and the first substrate and the second substrate. A sealant provided between the data line driving circuit, the scanning line driving circuit, and the wiring, at least partially overlapping each other, and bonding the first substrate and the second substrate to each other; on the second substrate, the data line driving circuit, the scanning line driving circuit, said arrangement And a said sealing member and a light shielding film provided so as to overlap at least partially, respectively.

本発明の電気光学装置によれば、例えばTFTアレイ基板である第1の基板と、対向基板である第2の基板との間に、液晶等の電気光学物質が挟持されている。第1の基板には、画像を表示する表示部の周辺に、走査線駆動回路やデータ線駆動回路等の周辺回路が設けられている。また、表示部から見て周辺回路より外側には、周辺回路と電気的に接続された配線が設けられている。周辺回路及び配線は、典型的には、遮光性を有する金属等を含んで構成される。   According to the electro-optical device of the present invention, for example, an electro-optical material such as liquid crystal is sandwiched between a first substrate that is a TFT array substrate and a second substrate that is a counter substrate. In the first substrate, peripheral circuits such as a scanning line driving circuit and a data line driving circuit are provided around a display portion for displaying an image. A wiring electrically connected to the peripheral circuit is provided outside the peripheral circuit when viewed from the display unit. The peripheral circuit and the wiring are typically configured to include a light-shielding metal or the like.

第1の基板及び第2の基板は、シール材によって互いに接着されている。ここで特に、シール材は、表面活性接合によって第1の基板及び第2基板と接着される。このため、本発明に係るシール材は、例えば紫外線硬化樹脂等によって構成される場合とは異なり、第1基板及び第2の基板を貼り合わせた後に、光を照射して硬化する必要がない。   The first substrate and the second substrate are bonded to each other with a sealing material. Here, in particular, the sealing material is bonded to the first substrate and the second substrate by surface active bonding. For this reason, the sealing material according to the present invention does not need to be cured by irradiation with light after the first substrate and the second substrate are bonded together, unlike the case where the sealing material is made of, for example, an ultraviolet curable resin.

仮に、シール材が紫外線硬化樹脂によって構成される場合には、シール材に光を十分に照射できない部分が存在してしまうことを避けねばならなくなる。このため、シール材と重なる部分には遮光性を有する部材を設けることができない。或いは、シール材と重なる部分における遮光性を有する部材の形成密度が、極端に制限されてしまう。   If the sealing material is made of an ultraviolet curable resin, it must be avoided that the sealing material has a portion where light cannot be sufficiently irradiated. For this reason, the member which has light-shielding property cannot be provided in the part which overlaps with a sealing material. Or the formation density of the member which has light-shielding property in the part which overlaps with a sealing material will be restrict | limited extremely.

しかるに本発明では、上述したように、第1基板及び第2の基板を貼り合わせた後に、シール材に光を照射して硬化する必要がない。よって、シール材と遮光性を有する部材とを互いに重なるように設けることが可能となる。これにより、装置構成のレイアウトの自由度が大幅に高められる。   However, in the present invention, as described above, after the first substrate and the second substrate are bonded together, it is not necessary to irradiate the sealing material with light and cure it. Therefore, the sealing material and the light-shielding member can be provided so as to overlap each other. Thereby, the freedom degree of the layout of an apparatus structure is raised significantly.

具体的には、本発明に係るシール材は、周辺回路及び配線とそれぞれ少なくとも部分的に重なるように設けられている。また、第2の基板において、周辺回路及び前記シール材とそれぞれ少なくとも部分的に重なるように、遮光膜が設けられている。この遮光膜は、例えば表示部と周辺部との境界に沿って設けられる額縁遮光膜であり、周辺部を覆うように設けられている。尚、周辺回路は第1の基板において複数設けられる場合があるが、その場合、遮光膜は少なくとも1つの周辺回路と重なるように設けられればよい。   Specifically, the sealing material according to the present invention is provided so as to at least partially overlap the peripheral circuit and the wiring. In the second substrate, a light shielding film is provided so as to at least partially overlap the peripheral circuit and the sealing material. This light shielding film is, for example, a frame light shielding film provided along the boundary between the display portion and the peripheral portion, and is provided so as to cover the peripheral portion. Note that a plurality of peripheral circuits may be provided on the first substrate. In that case, the light-shielding film may be provided so as to overlap with at least one peripheral circuit.

本発明では、上述したように、遮光膜をシール材と重なるように設けることができるため、遮光膜の幅を広げることができる。よって、表示部以外からの光が表示画像に影響を与えてしまうことを低減できる。即ち、周辺光再反射を防ぐことができる。また、シール材と重なる領域に配置せざるを得なかった配線等の形成密度を考慮しなくとも済むため、配置スペースを効率的に利用することができる。   In the present invention, as described above, since the light shielding film can be provided so as to overlap the sealing material, the width of the light shielding film can be increased. Therefore, it is possible to reduce the influence of light from other than the display unit on the display image. That is, ambient light re-reflection can be prevented. In addition, since it is not necessary to consider the formation density of wiring or the like that must be arranged in a region overlapping with the sealing material, the arrangement space can be used efficiently.

更に本発明では、シール材に対して紫外線等の光を照射しなくともよいため、その際に光がシール材以外の部分に照射されることに起因する信頼性の低下を防止することができる。また、シール材を無機物等で構成すれば、シールの未硬化成分が他の部材に悪影響を及ぼすことで、信頼性が低下してしまうことも防止できる。   Furthermore, in the present invention, since it is not necessary to irradiate the sealing material with light such as ultraviolet rays, it is possible to prevent a decrease in reliability due to light being irradiated to a portion other than the sealing material at that time. . In addition, if the sealing material is made of an inorganic material or the like, it can be prevented that the uncured component of the seal adversely affects other members, thereby reducing the reliability.

以上説明したように、本発明の電気光学装置によれば、高品質な画像を表示できると共に信頼性の高い電気光学装置を実現可能である。   As described above, according to the electro-optical device of the present invention, it is possible to display a high-quality image and a highly reliable electro-optical device.

本発明の電気光学装置の一態様では、前記遮光膜は、前記配線と少なくとも部分的に重なるように設けられており、前記第1の基板に前記配線と重なる他の遮光層は設けられていない。   In one aspect of the electro-optical device of the present invention, the light-shielding film is provided so as to at least partially overlap the wiring, and no other light-shielding layer that overlaps the wiring is provided on the first substrate. .

この態様によれば、遮光膜が配線と少なくとも部分的に重なるように設けられているため、配線と重なる他の遮光層がなくとも、配線と重なる部分を遮光できる。即ち、本態様の遮光層では、他の遮光層によって遮光されるべき部分までも遮光することができる。   According to this aspect, since the light shielding film is provided so as to at least partially overlap the wiring, even if there is no other light shielding layer overlapping the wiring, the portion overlapping the wiring can be shielded. That is, in the light shielding layer of this aspect, it is possible to shield even a portion that should be shielded by other light shielding layers.

例えば、仮に遮光膜と配線とが互いに重なっていないとすると、装置に投射された光の中には配線間を透過する光が存在してしまう。このような光は、装置の動作や表示される画像等に悪影響を及ぼす。よって通常は、配線と重なる部分に他の遮光層を設けることが求められてしまう。   For example, if the light-shielding film and the wiring do not overlap each other, the light projected between the devices includes light that is transmitted between the wirings. Such light adversely affects the operation of the apparatus and the displayed image. Therefore, it is usually required to provide another light shielding layer in a portion overlapping with the wiring.

しかるに本態様では、上述したように、遮光層が配線と少なくとも部分的に重なるように設けられているため、他の遮光層を設ける必要がない。従って、装置構成を簡単化することが可能である。   However, in this embodiment, as described above, since the light shielding layer is provided so as to at least partially overlap the wiring, it is not necessary to provide another light shielding layer. Therefore, the apparatus configuration can be simplified.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第1の基板及び前記第2の基板には、互いに貼り合わせられる際の目印となるアライメントマークが夫々設けられており、前記遮光膜は、前記アライメントマークと重ならないように設けられている。   In another aspect of the electro-optical device according to the aspect of the invention, the first substrate and the second substrate are provided with alignment marks that serve as marks when bonded to each other. It is provided so as not to overlap the alignment mark.

この態様によれば、第1の基板及び第2の基板の各々には、互いに貼り合わせられる際の目印となるアライメントマークが夫々設けられている。アライメントマークは、その性質上、目視できる(或いは、専用の機器等を用いて確認できる)位置に設けられることが好ましい。   According to this aspect, each of the first substrate and the second substrate is provided with the alignment mark serving as a mark when the substrates are bonded to each other. The alignment mark is preferably provided at a position where the alignment mark can be visually observed (or can be confirmed using a dedicated device or the like).

本態様では、遮光膜がアライメントマークと重ならないように設けられているため、遮光膜によってアライメントマークが確認できなくなってしまうことを防止できる。従って、第1の基板及び第2の基板の貼り合わせを好適に行うことが可能である。   In this aspect, since the light shielding film is provided so as not to overlap the alignment mark, it can be prevented that the alignment mark cannot be confirmed by the light shielding film. Accordingly, the first substrate and the second substrate can be suitably bonded.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記第1の基板及び前記第2基板間を電気的に導通する導通部を備え、前記遮光膜は、前記導通部と重ならないように設けられている。   In another aspect of the electro-optical device of the present invention, the electro-optical device includes a conduction portion that electrically conducts between the first substrate and the second substrate, and the light shielding film is provided so as not to overlap the conduction portion. Yes.

この態様によれば、例えば基板の四隅等に、第1の基板及び第2基板間を電気的に導通する導通部が設けられている。導通部は、典型的には、紫外線硬化樹脂等を含む材料によって構成されており、第1の基板及び第2基板を互いに接続するように設けられた後に硬化させられる。   According to this aspect, the conducting portions that electrically conduct the first substrate and the second substrate are provided at, for example, the four corners of the substrate. The conduction part is typically made of a material containing an ultraviolet curable resin or the like, and is cured after being provided so as to connect the first substrate and the second substrate to each other.

本態様では、遮光膜が導通部と重ならないように設けられているため、遮光膜によって導通部が遮光されてしまうことを回避できる。従って、導通部を確実に硬化させ、第1の基板及び第2基板間を電気的に導通させることが可能となる。   In this aspect, since the light shielding film is provided so as not to overlap the conductive portion, it is possible to avoid the conductive portion from being shielded from light by the light shielding film. Therefore, it is possible to cure the conductive portion reliably and to electrically connect the first substrate and the second substrate.

本発明の電気光学装置の他の態様では、前記電気光学物質を注入するための開口部を封止する封止材を備え、前記遮光膜は、前記封止材と重ならないように設けられている。   In another aspect of the electro-optical device of the invention, the electro-optical device includes a sealing material that seals an opening for injecting the electro-optical material, and the light-shielding film is provided so as not to overlap the sealing material. Yes.

この態様によれば、その製造時には、先ずシール材が開口部を有するように設けられる。続いて、第1の基板及び第2基板を互いに貼り合わせた後に、シール材における開口部から電気光学物質が注入される。これにより、シール材に囲われた領域に電気光学物質が充填される。開口部は、電気光学物質が注入された後に封止材によって封止される。封止材は、典型的には、手作業によって取り付けられる。   According to this aspect, at the time of manufacture, the sealing material is first provided so as to have the opening. Subsequently, after the first substrate and the second substrate are bonded to each other, an electro-optical material is injected from the opening in the sealing material. Thereby, the region surrounded by the sealing material is filled with the electro-optical material. The opening is sealed with a sealing material after the electro-optic material is injected. The encapsulant is typically attached manually.

本態様では、遮光膜が封止材と重ならないように(言い換えれば、開口部と重ならないように)設けられているため、製造時において、遮光膜が妨げとなって封止材を取り付ける部分が確認できなくなってしまうことを防止できる。従って、シール材における開口部を確実に封止することが可能となる。   In this aspect, since the light shielding film is provided so as not to overlap the sealing material (in other words, not to overlap the opening), the portion where the sealing material is attached due to the light shielding film during manufacture Can be prevented from being confirmed. Therefore, the opening in the sealing material can be reliably sealed.

本発明の電子機器は上記課題を解決するために、上述した本発明の電気光学装置(但し、その各種態様も含む)を備える。   In order to solve the above problems, an electronic apparatus according to the present invention includes the above-described electro-optical device according to the present invention (including various aspects thereof).

本発明の電子機器によれば、上述した本発明に係る電気光学装置を具備してなるので、高品質な表示を行うことが可能であると共に信頼性の高い、投射型表示装置、テレビ、携帯電話、電子手帳、ワードプロセッサー、ビューファインダー型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダー、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルなどの各種電子機器を実現できる。また、本発明の電子機器として、例えば電子ペーパーなどの電気泳動装置等も実現することも可能である。   According to the electronic apparatus of the present invention, the electro-optical device according to the present invention described above is included, so that a high-quality display can be performed and the projection display device, the television, and the mobile phone are highly reliable. Various electronic devices such as a telephone, an electronic notebook, a word processor, a viewfinder type or a monitor direct-view type video tape recorder, a workstation, a videophone, a POS terminal, and a touch panel can be realized. In addition, as an electronic apparatus of the present invention, for example, an electrophoretic device such as electronic paper can be realized.

本発明の作用及び他の利得は次に説明する発明を実施するための形態から明らかにされる。   The effect | action and other gain of this invention are clarified from the form for implementing invention demonstrated below.

第1実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図である。1 is a plan view showing an overall configuration of an electro-optical device according to a first embodiment. 図1のH−H´線断面図である。It is the HH 'sectional view taken on the line of FIG. 第1実施形態に係る電気光学装置の画像表示領域を構成する各種素子、配線等の等価回路図である。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of various elements, wirings, and the like that constitute an image display area of the electro-optical device according to the first embodiment. 第1実施形態に係る電気光学装置を構成する各部材の位置関係を簡略化して示す平面図である。FIG. 3 is a plan view showing a simplified positional relationship between members constituting the electro-optical device according to the first embodiment. 図4のA−A´線断面を概略的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the AA 'line cross section of FIG. 4 roughly. 比較例に係る電気光学装置の製造方法を示す側面図である。It is a side view which shows the manufacturing method of the electro-optical apparatus concerning a comparative example. 比較例に係る電気光学装置のA−A´線断面を概略的に示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows roughly the AA 'line cross section of the electro-optical apparatus which concerns on a comparative example. 第1実施形態に係る電気光学装置の変形例のA−A´線断面を概略的に示す概略断面図(その1)である。である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view (No. 1) schematically showing a cross section taken along line AA ′ of a modification of the electro-optical device according to the first embodiment. It is. 第1実施形態に係る電気光学装置の変形例のA−A´線断面を概略的に示す概略断面図(その2)である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view (part 2) schematically illustrating a cross-section taken along line AA ′ of a modification of the electro-optical device according to the first embodiment. 第1実施形態に係る電気光学装置の変形例のA−A´線断面を概略的に示す概略断面図(その3)である。FIG. 6 is a schematic cross-sectional view (No. 3) schematically showing a cross-section taken along line AA ′ of the modification of the electro-optical device according to the first embodiment. 比較例に係る電気光学装置に設けられる配線間遮光層を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view illustrating a light shielding layer between wirings provided in an electro-optical device according to a comparative example. 第1実施形態に係る電気光学装置における上下導通部周辺を部分的に拡大して示す拡大平面図である。FIG. 3 is an enlarged plan view showing a partially enlarged view of the periphery of a vertical conduction part in the electro-optical device according to the first embodiment. 第2実施形態に係る電気光学装置を構成する各部材の位置関係を簡略化して示す平面図である。FIG. 6 is a plan view showing a simplified positional relationship between members constituting an electro-optical device according to a second embodiment. 第2実施形態に係る電気光学装置の製造方法を、順を追って示す工程平面図(その1)である。FIG. 11 is a process plan view (part 1) illustrating the method of manufacturing the electro-optical device according to the second embodiment in order. 第2実施形態に係る電気光学装置の製造方法を、順を追って示す工程平面図(その2)である。FIG. 12 is a process plan view (part 2) illustrating the method of manufacturing the electro-optical device according to the second embodiment in order. 電気光学装置を適用した電子機器の一例たるプロジェクターの構成を示す平面図である。It is a top view which shows the structure of the projector which is an example of the electronic device to which the electro-optical apparatus is applied.

以下では、本発明の実施形態について図を参照しつつ説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

<電気光学装置>
先ず、本実施形態に係る電気光学装置について、図1から図15を参照して説明する。尚、以下の実施形態では、本発明の電気光学装置の一例として駆動回路内蔵型のTFT(Thin Film Transistor)アクティブマトリクス駆動方式の液晶装置を挙げて説明する。
<Electro-optical device>
First, the electro-optical device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. In the following embodiments, a liquid crystal device of a TFT (Thin Film Transistor) active matrix driving system with a built-in driving circuit will be described as an example of the electro-optical device of the present invention.

<第1実施形態>
第1実施形態に係る電気光学装置の全体構成について、図1及び図2を参照して説明する。ここに図1は、本実施形態に係る電気光学装置の全体構成を示す平面図であり、図2は、図1のH−H´線断面図である。
<First Embodiment>
The overall configuration of the electro-optical device according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 1 and 2. FIG. 1 is a plan view showing the overall configuration of the electro-optical device according to this embodiment, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line HH ′ of FIG.

図1及び図2において、本実施形態に係る電気光学装置では、TFTアレイ基板10と対向基板20とが対向配置されている。TFTアレイ基板10は、本発明の「第1の基板」の一例であり、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板や、シリコン基板等である。対向基板20は、本発明の「第2の基板」の一例であり、例えば石英基板、ガラス基板等の透明基板である。TFTアレイ基板10と対向基板20との間には、本発明の「電気光学物質」の一例である液晶層50が封入されている。液晶層50は、例えば一種又は数種類のネマティック液晶を混合した液晶からなり、一対の配向膜間で所定の配向状態をとる。   1 and 2, in the electro-optical device according to the present embodiment, a TFT array substrate 10 and a counter substrate 20 are disposed to face each other. The TFT array substrate 10 is an example of the “first substrate” in the present invention, and is, for example, a transparent substrate such as a quartz substrate or a glass substrate, a silicon substrate, or the like. The counter substrate 20 is an example of the “second substrate” in the present invention, and is a transparent substrate such as a quartz substrate or a glass substrate. Between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20, a liquid crystal layer 50, which is an example of the “electro-optical material” of the present invention, is sealed. The liquid crystal layer 50 is made of, for example, a liquid crystal in which one or several types of nematic liquid crystals are mixed, and takes a predetermined alignment state between a pair of alignment films.

TFTアレイ基板10と対向基板20とは、複数の画素電極が設けられた画像表示領域10aの周囲に位置するシール領域に設けられたシール材52により、相互に接着されている。   The TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded to each other by a sealing material 52 provided in a sealing region located around the image display region 10a provided with a plurality of pixel electrodes.

シール材52は、両基板を貼り合わせるための部材であり、表面活性接合技術によって、TFTアレイ基板10及び対向基板20と互いに接合されている。表面活性接合技術は、例えば金属等の表面にエネルギーを与えることで活性化させることで、活性化させた面に結合力を持たせる技術である。活性化には、例えば原子ビームの照射等、様々な手法を用いることができる。   The sealing material 52 is a member for bonding the two substrates together, and is bonded to the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 by a surface active bonding technique. The surface active bonding technique is a technique for giving a bonding force to an activated surface by activating the surface of metal or the like by applying energy thereto. For activation, various methods such as irradiation with an atomic beam can be used.

シール材52中には、TFTアレイ基板10と対向基板20との間隔(即ち、基板間ギャップ)を所定値とするためのグラスファイバー或いはガラスビーズ等のギャップ材が散布されている。尚、ギャップ材を、シール材52に混入されるものに加えて若しくは代えて、画像表示領域10a又は画像表示領域10aの周辺に位置する周辺領域に、配置するようにしてもよい。   In the sealing material 52, a gap material such as glass fiber or glass beads for dispersing the distance between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 (that is, the inter-substrate gap) to a predetermined value is dispersed. Note that the gap material may be arranged in the image display region 10a or a peripheral region located around the image display region 10a in addition to or instead of the material mixed in the seal material 52.

図2において、シール材52が配置されたシール領域と重なる領域には、画像表示領域10aの額縁領域を規定する遮光性の額縁遮光膜53が、対向基板20側に設けられている。額縁遮光膜53及びシール材の具体的な位置関係については、後に詳述する。尚、このような額縁遮光膜53の一部又は全部は、TFTアレイ基板10側に内蔵遮光膜として設けられてもよい。   In FIG. 2, a light-shielding frame light-shielding film 53 that defines the frame area of the image display region 10a is provided on the counter substrate 20 side in an area that overlaps the seal area where the seal material 52 is disposed. The specific positional relationship between the frame light shielding film 53 and the sealing material will be described in detail later. A part or all of the frame light shielding film 53 may be provided as a built-in light shielding film on the TFT array substrate 10 side.

図1に戻り、周辺領域のうち、シール材52が配置されたシール領域の外側に位置する領域には、データ線駆動回路101及び外部回路接続端子102がTFTアレイ基板10の一辺に沿って設けられている。走査線駆動回路104は、この一辺に隣接する2辺に沿うようにして設けられている。更に、このように画像表示領域10aの両側に設けられた二つの走査線駆動回路104間をつなぐため、TFTアレイ基板10の残る一辺に沿うようにして複数の配線105が設けられている。尚、ここでのデータ線駆動回路101及び走査線駆動回路104は、本発明の「周辺回路」の一例である。   Returning to FIG. 1, the data line driving circuit 101 and the external circuit connection terminal 102 are provided along one side of the TFT array substrate 10 in a region located outside the sealing region where the sealing material 52 is disposed in the peripheral region. It has been. The scanning line driving circuit 104 is provided along two sides adjacent to the one side. Further, in order to connect the two scanning line driving circuits 104 provided on both sides of the image display area 10a in this way, a plurality of wirings 105 are provided along the remaining side of the TFT array substrate 10. The data line driving circuit 101 and the scanning line driving circuit 104 here are examples of the “peripheral circuit” in the present invention.

TFTアレイ基板10上における対向基板20の4つのコーナー部に対向する領域には、両基板間を上下導通材で接続するための上下導通端子106が配置されている。これにより、TFTアレイ基板10と対向基板20との間で電気的な導通をとることができる。   In a region facing the four corners of the counter substrate 20 on the TFT array substrate 10, vertical conduction terminals 106 for connecting the two substrates with a vertical conduction material are arranged. Thereby, electrical conduction can be established between the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20.

図2において、TFTアレイ基板10上には、駆動素子である画素スイッチング用のTFTや走査線、データ線等の配線が作り込まれた積層構造が形成される。この積層構造の詳細な構成については図2では図示を省略してあるが、この積層構造の上に、ITO(Indium Tin Oxide)等の透明材料からなる画素電極9aが、画素毎に所定のパターンで島状に形成されている。   In FIG. 2, on the TFT array substrate 10, a laminated structure in which pixel switching TFTs as drive elements, wiring lines such as scanning lines and data lines are formed is formed. Although the detailed configuration of this laminated structure is not shown in FIG. 2, pixel electrodes 9a made of a transparent material such as ITO (Indium Tin Oxide) are provided on the laminated structure with a predetermined pattern for each pixel. It is formed in an island shape.

画素電極9aは、対向電極21に対向するように、TFTアレイ基板10上の画像表示領域10aに形成されている。TFTアレイ基板10における液晶層50の面する側の表面、即ち画素電極9a上には、配向膜16が画素電極9aを覆うように形成されている。   The pixel electrode 9 a is formed in the image display area 10 a on the TFT array substrate 10 so as to face the counter electrode 21. On the surface of the TFT array substrate 10 facing the liquid crystal layer 50, that is, on the pixel electrode 9a, an alignment film 16 is formed so as to cover the pixel electrode 9a.

対向基板20におけるTFTアレイ基板10との対向面上には、遮光膜23が形成されている。遮光膜23は、例えば対向基板20における対向面上に平面的に見て、格子状に形成されている。対向基板20において、遮光膜23によって非開口領域が規定され、遮光膜23によって区切られた領域が、例えばプロジェクター用のランプや直視用のバックライトから出射された光を透過させる開口領域となる。尚、遮光膜23をストライプ状に形成し、該遮光膜23と、TFTアレイ基板10側に設けられたデータ線等の各種構成要素とによって、非開口領域を規定するようにしてもよい。   A light shielding film 23 is formed on the surface of the counter substrate 20 facing the TFT array substrate 10. For example, the light shielding film 23 is formed in a lattice shape when viewed in plan on the facing surface of the facing substrate 20. In the counter substrate 20, a non-opening area is defined by the light shielding film 23, and an area partitioned by the light shielding film 23 is an opening area through which light emitted from, for example, a projector lamp or a direct viewing backlight is transmitted. The light shielding film 23 may be formed in a stripe shape, and the non-opening region may be defined by the light shielding film 23 and various components such as data lines provided on the TFT array substrate 10 side.

遮光膜23上には、ITO等の透明材料からなる対向電極21が複数の画素電極9aと対向するように形成されている。また遮光膜23上には、画像表示領域10aにおいてカラー表示を行うために、開口領域及び非開口領域の一部を含む領域に、図2には図示しないカラーフィルターが形成されるようにしてもよい。対向基板20の対向面上における、対向電極21上には、配向膜22が形成されている。   On the light shielding film 23, a counter electrode 21 made of a transparent material such as ITO is formed so as to face the plurality of pixel electrodes 9a. Further, in order to perform color display in the image display area 10a, a color filter (not shown in FIG. 2) may be formed on the light shielding film 23 in an area including a part of the opening area and the non-opening area. Good. An alignment film 22 is formed on the counter electrode 21 on the counter surface of the counter substrate 20.

尚、図1及び図2に示したTFTアレイ基板10上には、上述したデータ線駆動回路101、走査線駆動回路104等の駆動回路に加えて、画像信号線上の画像信号をサンプリングしてデータ線に供給するサンプリング回路、複数のデータ線に所定電圧レベルのプリチャージ信号を画像信号に先行して各々供給するプリチャージ回路、製造途中や出荷時の当該電気光学装置の品質、欠陥等を検査するための検査回路等を形成してもよい。   In addition to the above-described drive circuits such as the data line drive circuit 101 and the scanning line drive circuit 104, the image signal on the image signal line is sampled on the TFT array substrate 10 shown in FIGS. Sampling circuit that supplies lines, precharge circuit that supplies pre-charge signals of a predetermined voltage level to multiple data lines in advance of image signals, inspection of quality, defects, etc. of the electro-optical device during production or shipment An inspection circuit or the like may be formed.

次に、本実施形態に係る電気光学装置の画素部の電気的な構成について、図3を参照して説明する。ここに図3は、本実施形態に係る電気光学装置の画像表示領域を構成するマトリクス状に形成された複数の画素における各種素子、配線等の等価回路図である。   Next, an electrical configuration of the pixel portion of the electro-optical device according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of various elements, wirings, and the like in a plurality of pixels formed in a matrix forming the image display area of the electro-optical device according to this embodiment.

図3において、画像表示領域10aを構成するマトリクス状に形成された複数の画素の各々には、画素電極9a及びTFT30が形成されている。TFT30は、画素電極9aに電気的に接続されており、本実施形態に係る電気光学装置の動作時に画素電極9aをスイッチング制御する。画像信号が供給されるデータ線6aは、TFT30のソースに電気的に接続されている。データ線6aに書き込む画像信号S1、S2、・・・、Snは、この順に線順次に供給しても構わないし、相隣接する複数のデータ線6a同士に対して、グループ毎に供給するようにしてもよい。   In FIG. 3, a pixel electrode 9a and a TFT 30 are formed in each of a plurality of pixels formed in a matrix that forms the image display region 10a. The TFT 30 is electrically connected to the pixel electrode 9a, and performs switching control of the pixel electrode 9a during the operation of the electro-optical device according to the present embodiment. The data line 6a to which the image signal is supplied is electrically connected to the source of the TFT 30. The image signals S1, S2,..., Sn to be written to the data lines 6a may be supplied line-sequentially in this order, or may be supplied for each group to a plurality of adjacent data lines 6a. May be.

TFT30のゲートには、走査線3aが電気的に接続されており、本実施形態に係る電気光学装置は、所定のタイミングで、走査線3aにパルス的に走査信号G1、G2、・・・、Gmを、この順に線順次で印加するように構成されている。画素電極9aは、TFT30のドレインに電気的に接続されており、スイッチング素子であるTFT30を一定期間だけそのスイッチを閉じることにより、データ線6aから供給される画像信号S1、S2、・・・、Snが所定のタイミングで書き込まれる。画素電極9aを介して電気光学物質の一例としての液晶に書き込まれた所定レベルの画像信号S1、S2、・・・、Snは、対向基板に形成された対向電極との間で一定期間保持される。   The scanning line 3a is electrically connected to the gate of the TFT 30, and the electro-optical device according to the present embodiment pulse-scans the scanning signals G1, G2,. Gm is applied in this order in a line sequential manner. The pixel electrode 9a is electrically connected to the drain of the TFT 30, and the image signal S1, S2,... Supplied from the data line 6a is closed by closing the switch of the TFT 30 serving as a switching element for a certain period. Sn is written at a predetermined timing. A predetermined level of image signals S1, S2,..., Sn written in the liquid crystal as an example of the electro-optical material via the pixel electrode 9a is held for a certain period with the counter electrode formed on the counter substrate. The

液晶層50(図2参照)を構成する液晶は、印加される電圧レベルにより分子集合の配向や秩序が変化することにより、光を変調し、階調表示を可能とする。例えば、ノーマリーホワイトモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が減少し、ノーマリーブラックモードであれば、各画素の単位で印加された電圧に応じて入射光に対する透過率が増加され、全体として電気光学装置からは画像信号に応じたコントラストをもつ光が出射される。   The liquid crystal constituting the liquid crystal layer 50 (see FIG. 2) modulates light and enables gradation display by changing the orientation and order of the molecular assembly depending on the applied voltage level. For example, in the normally white mode, the transmittance for incident light is reduced according to the voltage applied in units of each pixel. In the normally black mode, the transmittance is applied in units of each pixel. As a result, the transmittance for incident light is increased, and light having a contrast corresponding to an image signal is emitted from the electro-optical device as a whole.

ここで保持された画像信号がリークすることを防ぐために、画素電極9aと対向電極21(図2参照)との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量70が付加されている。蓄積容量70は、画像信号の供給に応じて各画素電極9aの電位を一時的に保持する保持容量として機能する容量素子である。蓄積容量70の一方の電極は、画素電極9aと並列してTFT30のドレインに電気的に接続され、他方の電極は、定電位となるように、電位固定の容量線300に電気的に接続されている。蓄積容量70によれば、画素電極9aにおける電位保持特性が向上し、コントラスト向上やフリッカーの低減といった表示特性の向上が可能となる。   In order to prevent the image signal held here from leaking, a storage capacitor 70 is added in parallel with the liquid crystal capacitor formed between the pixel electrode 9a and the counter electrode 21 (see FIG. 2). The storage capacitor 70 is a capacitive element that functions as a storage capacitor that temporarily holds the potential of each pixel electrode 9a in response to supply of an image signal. One electrode of the storage capacitor 70 is electrically connected to the drain of the TFT 30 in parallel with the pixel electrode 9a, and the other electrode is electrically connected to the capacitor line 300 having a fixed potential so as to have a constant potential. ing. According to the storage capacitor 70, the potential holding characteristic of the pixel electrode 9a is improved, and the display characteristics such as improvement of contrast and reduction of flicker can be improved.

次に、本実施形態に係る電気光学装置のより具体的な構成について、図4及び図5を参照して説明する。ここに図4は、本実施形態に係る電気光学装置を構成する各部材の位置関係を簡略化して示す平面図であり、図5は、図4のA−A´線断面を概略的に示す概略断面図である。尚、図4では、説明の便宜上、図1や図2等で示した電気光学装置を構成する詳細な部材を適宜省略して図示してある。また、図5においても、本実施形態と深く関係のない部材については、適宜省略して図示してある。   Next, a more specific configuration of the electro-optical device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 4 and 5. FIG. 4 is a plan view schematically showing the positional relationship of each member constituting the electro-optical device according to this embodiment, and FIG. 5 schematically shows a cross section taken along the line AA ′ of FIG. It is a schematic sectional drawing. In FIG. 4, for convenience of explanation, detailed members constituting the electro-optical device shown in FIGS. 1 and 2 are omitted as appropriate. In FIG. 5 as well, members not closely related to the present embodiment are omitted as appropriate.

図4において、本実施形態に係る電気光学装置は、シール材52が表面活性接合技術により、TFTアレイ基板10及び対向基板20と接着されている。このため、図に示すように、シール材52と額縁遮光膜53とを互いに重なるように配置することができる。また、シール材52とデータ線駆動回路101及び走査線駆動回路104とを互いに重なるように配置することができる。   4, in the electro-optical device according to this embodiment, a sealing material 52 is bonded to the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 by a surface active bonding technique. For this reason, as shown in the drawing, the sealing material 52 and the frame light shielding film 53 can be arranged so as to overlap each other. Further, the seal material 52, the data line driving circuit 101, and the scanning line driving circuit 104 can be arranged so as to overlap each other.

図5において、A−A´線断面においては、シール材52、額縁遮光膜53及び走査線駆動回路104は、各々が互いに重なるような構成となっている。尚、配線150は、走査線駆動回路104の外側に配置されたコモン配線等の配線群を示しており、本発明の「配線」の一例である。配線150は、外部回路接続端子102と走査線駆動回路104とを互いに電気的に接続している。配線150は、例えばクロック信号やスタートパルス等の信号を走査線駆動回路に供給している。   In FIG. 5, the sealing material 52, the frame light shielding film 53, and the scanning line driving circuit 104 are configured to overlap each other in the cross section taken along the line AA ′. The wiring 150 indicates a wiring group such as a common wiring arranged outside the scanning line driving circuit 104, and is an example of the “wiring” in the present invention. The wiring 150 electrically connects the external circuit connection terminal 102 and the scanning line driving circuit 104 to each other. For example, the wiring 150 supplies a signal such as a clock signal or a start pulse to the scanning line driver circuit.

ここで、本実施形態に係る電気光学装置によって得られる効果について、図4及び図5に加え、図6及び図7を参照して説明する。ここに図6は、比較例に係る電気光学装置の製造方法を示す側面図であり、図7は、比較例に係る電気光学装置のA−A´線断面を概略的に示す概略断面図である。   Here, effects obtained by the electro-optical device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 6 and 7 in addition to FIGS. 4 and 5. FIG. 6 is a side view showing a method for manufacturing the electro-optical device according to the comparative example, and FIG. 7 is a schematic cross-sectional view schematically showing a cross section taken along line AA ′ of the electro-optical device according to the comparative example. is there.

図6において、例えばシール材が紫外線硬化樹脂によって構成される場合を考える。この場合、装置の製造時において、TFTアレイ基板10及び対向基板20を互いに貼り合わせた後には、UV(Ultra Violet)光マスク200を用いたUV光の照射が行われる。即ち、シール材52を硬化させるためにUV光が照射される。   In FIG. 6, for example, consider a case where the sealing material is made of an ultraviolet curable resin. In this case, when the device is manufactured, after the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded to each other, UV light irradiation using a UV (Ultra Violet) light mask 200 is performed. That is, UV light is irradiated to cure the sealing material 52.

図7において、UV光をシール材52に照射するためには、シール材52と額縁遮光膜53とが互いに重ならないような構成が求められる。しかしながら、このような構成では、装置の動作時において、シール材52と重なる部分を透過した光が、表示画像に影響を与えてしまうおそれがある。即ち、周辺光再反射が起こることによって画質が低下してしまうおそれがある。加えて、シール材52と重なる部分を透過した光が、シール材52以外の部分に照射されることに起因して、装置の信頼性が低下してしまうおそれがある。   In FIG. 7, in order to irradiate the sealing material 52 with UV light, a configuration is required in which the sealing material 52 and the frame light shielding film 53 do not overlap each other. However, in such a configuration, there is a possibility that light transmitted through a portion overlapping with the sealing material 52 may affect the display image during operation of the apparatus. That is, there is a possibility that the image quality is deteriorated due to re-reflection of ambient light. In addition, the light transmitted through the portion overlapping the sealing material 52 is irradiated to the portion other than the sealing material 52, and thus the reliability of the apparatus may be lowered.

これに対し、本実施形態に係る電気光学装置では、図4及び図5に示したように、シール材52と、額縁遮光膜53、データ線駆動回路101及び走査線駆動回路104とを互いに重なるように配置することができる。このため、周辺光再反射を確実に防止できる。従って、高品質な画像を表示することが可能となる。また、額縁遮光膜53を設ける領域がシール材52によって制限されないため、装置の各部位を効果的に遮光することが可能となる。従って、光に起因する信頼性低下を防止することが可能となる。   On the other hand, in the electro-optical device according to the present embodiment, as illustrated in FIGS. 4 and 5, the seal material 52, the frame light shielding film 53, the data line driving circuit 101, and the scanning line driving circuit 104 overlap each other. Can be arranged as follows. For this reason, it is possible to reliably prevent ambient light re-reflection. Therefore, a high quality image can be displayed. In addition, since the region where the frame light shielding film 53 is provided is not limited by the sealing material 52, each part of the apparatus can be effectively shielded from light. Therefore, it is possible to prevent a decrease in reliability due to light.

また、本実施形態に係るシール材52は表面活性接合技術を用いて接合されるため、無機材料を用いることも可能である。この場合、未硬化成分が他の部材に悪影響を及ぼすことで、信頼性が低下してしまうことを防止できる。   Moreover, since the sealing material 52 according to the present embodiment is bonded using a surface active bonding technique, it is also possible to use an inorganic material. In this case, it is possible to prevent the uncured component from adversely affecting other members, thereby reducing the reliability.

続いて、本実施形態に係る電気光学装置の変形例について、図8から図11を参照して説明する。ここに図8から図10は夫々、本実施形態に係る電気光学装置の変形例のA−A´線断面を概略的に示す概略断面図である。また図11は、比較例に係る電気光学装置に設けられる配線間遮光層を示す断面図である。   Subsequently, modified examples of the electro-optical device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 8 to 10 are schematic cross-sectional views schematically showing a cross section taken along line AA ′ of the modified example of the electro-optical device according to the present embodiment. FIG. 11 is a cross-sectional view illustrating an inter-wiring light shielding layer provided in the electro-optical device according to the comparative example.

図8に示すように、シール材52と額縁遮光膜53とは、部分的に重なるように設けられてもよい。このような場合であっても、シール材52と額縁遮光膜53とを互いに重ねて配置できることによる効果を相応に得ることができる。   As shown in FIG. 8, the sealing material 52 and the frame light shielding film 53 may be provided so as to partially overlap. Even in such a case, the effect of being able to arrange the sealing material 52 and the frame light shielding film 53 so as to overlap each other can be obtained accordingly.

図9に示すように、シール材52は、配線150に重なる位置まで延在するように設けられてもよい。このような場合であっても、シール材52にはUV光を照射しなくともよいため、配線150の配置レイアウトが制限されてしまうことはない。   As shown in FIG. 9, the sealing material 52 may be provided so as to extend to a position overlapping the wiring 150. Even in such a case, since the sealing material 52 does not have to be irradiated with UV light, the arrangement layout of the wiring 150 is not limited.

図10に示すように、シール材52が配線150に重なるように設けられる場合には、額縁遮光膜53も同様に、配線150と重なるように設けられてもよい。この場合、額縁遮光膜53によって、装置の各部材をより効果的に遮光することが可能となる。   As shown in FIG. 10, when the sealing material 52 is provided so as to overlap the wiring 150, the frame light shielding film 53 may be provided so as to overlap the wiring 150 as well. In this case, the frame light-shielding film 53 can more effectively shield each member of the apparatus.

図11において、例えば図6及び図7で示した紫外線硬化樹脂を含んだシール材52を用いる場合には、シール材52に対するUV光の照射を遮らないように、配線150間にある程度の間隔が設けられる。即ち、配線150の形成密度が制限される。   In FIG. 11, for example, when the sealing material 52 containing the ultraviolet curable resin shown in FIGS. 6 and 7 is used, there is a certain distance between the wirings 150 so as not to block the irradiation of the UV light to the sealing material 52. Provided. That is, the formation density of the wiring 150 is limited.

しかしながら、上述したような配線間の間隙は、シール材52硬化時のUV光に加えて、装置の動作時における投射光(即ち、画像を表示するための光)も透過させてしまう。このため、投射光が配線150間の間隙を通り抜けてしまわないように、配線間遮光膜400を設ける等して、遮光機能を高めることが求められていた。   However, the gap between the wirings as described above transmits the projection light (that is, the light for displaying an image) during the operation of the apparatus in addition to the UV light when the sealing material 52 is cured. For this reason, it has been required to enhance the light shielding function by providing an inter-wiring light-shielding film 400 so that the projection light does not pass through the gaps between the wirings 150.

これに対し、図10に示すような本実施形態に係る電気光学装置では、額縁遮光膜53によって、配線150と重なる部分の遮光も行うことができる。よって、図11に示す配線間遮光膜400のような遮光膜を設ける必要がない。従って、装置構成を簡単化することが可能である。   In contrast, in the electro-optical device according to the present embodiment as illustrated in FIG. 10, the frame light-shielding film 53 can also shield the portion overlapping the wiring 150. Therefore, it is not necessary to provide a light shielding film such as the inter-wire light shielding film 400 shown in FIG. Therefore, the apparatus configuration can be simplified.

次に、本実施形態に係る額縁遮光膜のより詳細な構成について、図12を参照して説明する。ここに図12は、本実施形態に係る電気光学装置における上下導通部周辺を部分的に拡大して示す拡大平面図である。   Next, a more detailed configuration of the frame light shielding film according to the present embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 12 is an enlarged plan view partially showing the periphery of the vertical conduction portion in the electro-optical device according to this embodiment.

図12において、本実施形態に係る電気光学装置の上下導通部106周辺では、額縁遮光膜53が切り欠きを有するように設けられている。これにより、額縁遮光膜53は、上下導通部106及びアライメントマーク500とは重ならないように設けられている。尚、ここでの上下導通部106は、本発明の「導通部」の一例である。   In FIG. 12, the frame light shielding film 53 is provided so as to have a notch in the vicinity of the vertical conduction portion 106 of the electro-optical device according to the present embodiment. Thereby, the frame light shielding film 53 is provided so as not to overlap the vertical conduction part 106 and the alignment mark 500. The vertical conduction portion 106 here is an example of the “conduction portion” in the present invention.

上下導通部106は、典型的には、紫外線硬化樹脂等を含む材料によって構成されており、TFTアレイ基板10及び対向基板20を互いに接続するように設けられた後に、UV光を照射して硬化させられる。ここでは、額縁遮光膜53が上下導通部106と重ならないように設けられることで、額縁遮光膜53によって上下導通部106が遮光されてしまうことを回避している。従って、上下導通部106の硬化処理を確実に行うことができる。   The vertical conduction part 106 is typically made of a material containing an ultraviolet curable resin or the like, and is provided so as to connect the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 to each other, and then cured by irradiating UV light. Be made. Here, the frame light-shielding film 53 is provided so as not to overlap the vertical conduction part 106, thereby preventing the vertical conduction part 106 from being shielded by the frame light-shielding film 53. Therefore, the curing process of the vertical conduction part 106 can be reliably performed.

他方、アライメントマーク500は、TFTアレイ基板10及び対向基板20を互いに貼り合わせる際の目印として、TFTアレイ基板10及び対向基板20上に夫々設けられている。アライメントマーク500は、その性質上、目視できる位置に設けられることが好ましい。ここでは、額縁遮光膜53がアライメントマーク500と重ならないように設けられているため、額縁遮光膜53に妨げられてアライメントマークが確認できなくなってしまうことを回避している。従って、TFTアレイ基板10及び対向基板20の貼り合わせを好適に行うことが可能である。   On the other hand, the alignment mark 500 is provided on each of the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 as a mark when the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded to each other. The alignment mark 500 is preferably provided at a position where the alignment mark 500 can be visually observed. Here, since the frame light-shielding film 53 is provided so as not to overlap the alignment mark 500, it is prevented that the alignment light cannot be confirmed due to the frame light-shielding film 53 being obstructed. Therefore, the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 can be suitably bonded.

以上説明したように、本実施形態に係る電気光学装置によれば、シール材52と重なる部分を遮光可能とすることで、簡易な構成で品質の高い装置を実現することができる。   As described above, according to the electro-optical device according to the present embodiment, a high-quality device can be realized with a simple configuration by making it possible to shield the portion overlapping the sealing material 52.

<第2実施形態>
次に、第2実施形態に係る電気光学装置について、図13から図15を参照して説明する。尚、第2実施形態は、上述の第1実施形態と比べて、シール材や額縁遮光膜等の位置関係が異なり、その他の構成については概ね同様である。このため第2実施形態では、第1実施形態と異なる部分について詳細に説明し、その他の重複する部分については適宜説明を省略する。
Second Embodiment
Next, an electro-optical device according to a second embodiment will be described with reference to FIGS. Note that the second embodiment differs from the first embodiment described above in terms of the positional relationship between the sealing material, the frame light shielding film, and the like, and the other configurations are generally the same. Therefore, in the second embodiment, portions different from the first embodiment will be described in detail, and descriptions of other overlapping portions will be omitted as appropriate.

先ず、第2実施形態に係る電気光学装置の構成について、図13を参照して説明する。ここに図13は、第2実施形態に係る電気光学装置を構成する各部材の位置関係を簡略化して示す平面図である。   First, the configuration of the electro-optical device according to the second embodiment will be described with reference to FIG. FIG. 13 is a plan view schematically showing the positional relationship between the members constituting the electro-optical device according to the second embodiment.

図13において、第2実施形態に係る電気光学装置は、図4で示す第1実施形態に係る電気光学装置と比較すると、対向基板20がデータ線駆動回路101を覆っていない点で異なる。これにより、データ線駆動回路101は、額縁遮光膜53に覆われないように配置されることになる。   In FIG. 13, the electro-optical device according to the second embodiment is different from the electro-optical device according to the first embodiment shown in FIG. 4 in that the counter substrate 20 does not cover the data line driving circuit 101. As a result, the data line driving circuit 101 is arranged so as not to be covered by the frame light shielding film 53.

また、シール材52には、液晶を注入する際に用いる開口部が設けられており、開口部には、液晶が外部に漏れ出すことを防止する封止材600が備えられている。封止材600は、データ線駆動回路101に沿った辺の一部として設けられていると共に、額縁遮光膜53とは完全に重ならないように設けられている。   Further, the sealing material 52 is provided with an opening used when liquid crystal is injected, and the opening is provided with a sealing material 600 that prevents the liquid crystal from leaking outside. The sealing material 600 is provided as a part of the side along the data line driving circuit 101 and is provided so as not to completely overlap the frame light shielding film 53.

ここで、第2実施形態に係る電気光学装置によって得られる効果について、図14及び図15を参照して説明する。ここに図14及び図15は、第2実施形態に係る電気光学装置の製造方法を、順を追って示す工程平面図である。   Here, effects obtained by the electro-optical device according to the second embodiment will be described with reference to FIGS. 14 and 15. FIGS. 14 and 15 are process plan views sequentially showing the method of manufacturing the electro-optical device according to the second embodiment.

図14において、第2実施形態に係る電気光学装置の製造時には、先ずシール材52が開口部52aを有するように描画される。続いて、TFTアレイ基板10及び対向基板20を互いに貼り合わせた後に、シール材52における開口部52aから液晶が注入される。これにより、シール材52に囲われた領域に液晶が充填される。   In FIG. 14, when the electro-optical device according to the second embodiment is manufactured, first, the sealing material 52 is drawn so as to have the opening 52a. Subsequently, after the TFT array substrate 10 and the counter substrate 20 are bonded to each other, liquid crystal is injected from the opening 52 a in the seal material 52. As a result, the region surrounded by the sealing material 52 is filled with liquid crystal.

図15において、シール材の開口部52aは、液晶が注入された後に封止材600によって封止される。封止材600は、典型的には、手作業によって取り付けられる。   In FIG. 15, the opening 52a of the sealing material is sealed with the sealing material 600 after the liquid crystal is injected. Sealant 600 is typically attached by hand.

ここで特に、第2実施形態に係る電気光学装置では、図13に示したように、額縁遮光膜53が封止材600と完全重ならないように設けられている。このため、製造時において、額縁遮光膜53が妨げとなって、封止材600を取り付ける部分が確認できなくなってしまうことを防止できる。従って、シール材52における開口部52aを確実に封止することが可能となる。   Here, in particular, in the electro-optical device according to the second embodiment, as shown in FIG. 13, the frame light-shielding film 53 is provided so as not to completely overlap the sealing material 600. For this reason, at the time of manufacture, it can prevent that the frame light-shielding film 53 becomes a hindrance and the part which attaches the sealing material 600 cannot be confirmed. Therefore, the opening 52a in the sealing material 52 can be reliably sealed.

以上説明したように、第2実施形態に係る電気光学装置によれば、シール材52において、開口部52aがデータ線駆動回路101側に設けられる場合であっても、封止作業を好適に行うことが可能である。   As described above, according to the electro-optical device according to the second embodiment, the sealing work is favorably performed even when the opening 52a is provided on the data line driving circuit 101 side in the sealing material 52. It is possible.

<電子機器>
次に、上述した電気光学装置である液晶装置を各種の電子機器に適用する場合について説明する。ここに図16は、プロジェクターの構成例を示す平面図である。以下では、この液晶装置をライトバルブとして用いたプロジェクターについて説明する。
<Electronic equipment>
Next, the case where the liquid crystal device which is the above-described electro-optical device is applied to various electronic devices will be described. FIG. 16 is a plan view showing a configuration example of the projector. Hereinafter, a projector using the liquid crystal device as a light valve will be described.

図16に示されるように、プロジェクター1100内部には、ハロゲンランプ等の白色光源からなるランプユニット1102が設けられている。このランプユニット1102から射出された投射光は、ライトガイド1104内に配置された4枚のミラー1106及び2枚のダイクロイックミラー1108によってRGBの3原色に分離され、各原色に対応するライトバルブとしての液晶パネル1110R、1110B及び1110Gに入射される。   As shown in FIG. 16, a lamp unit 1102 including a white light source such as a halogen lamp is provided inside the projector 1100. The projection light emitted from the lamp unit 1102 is separated into three primary colors of RGB by four mirrors 1106 and two dichroic mirrors 1108 arranged in the light guide 1104, and serves as a light valve corresponding to each primary color. The light enters the liquid crystal panels 1110R, 1110B, and 1110G.

液晶パネル1110R、1110B及び1110Gの構成は、上述した液晶装置と同等であり、画像信号処理回路から供給されるR、G、Bの原色信号でそれぞれ駆動されるものである。そして、これらの液晶パネルによって変調された光は、ダイクロイックプリズム1112に3方向から入射される。このダイクロイックプリズム1112においては、R及びBの光が90度に屈折する一方、Gの光が直進する。従って、各色の画像が合成される結果、投射レンズ1114を介して、スクリーン等にカラー画像が投写されることとなる。   The configurations of the liquid crystal panels 1110R, 1110B, and 1110G are the same as those of the liquid crystal device described above, and are driven by R, G, and B primary color signals supplied from the image signal processing circuit. The light modulated by these liquid crystal panels enters the dichroic prism 1112 from three directions. In the dichroic prism 1112, R and B light is refracted at 90 degrees, while G light travels straight. Therefore, as a result of the synthesis of the images of the respective colors, a color image is projected onto the screen or the like via the projection lens 1114.

ここで、各液晶パネル1110R、1110B及び1110Gによる表示像について着目すると、液晶パネル1110Gによる表示像は、液晶パネル1110R、1110Bによる表示像に対して左右反転することが必要となる。   Here, paying attention to the display images by the liquid crystal panels 1110R, 1110B, and 1110G, the display image by the liquid crystal panel 1110G needs to be horizontally reversed with respect to the display images by the liquid crystal panels 1110R and 1110B.

尚、液晶パネル1110R、1110B及び1110Gには、ダイクロイックミラー1108によって、R、G、Bの各原色に対応する光が入射するので、カラーフィルターを設ける必要はない。   Since light corresponding to the primary colors R, G, and B is incident on the liquid crystal panels 1110R, 1110B, and 1110G by the dichroic mirror 1108, it is not necessary to provide a color filter.

尚、図16を参照して説明した電子機器の他にも、モバイル型のパーソナルコンピュータや、携帯電話、液晶テレビや、ビューファインダー型、モニタ直視型のビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャー、電子手帳、電卓、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた装置等が挙げられる。そして、これらの各種電子機器に適用可能なのは言うまでもない。   In addition to the electronic device described with reference to FIG. 16, a mobile personal computer, a mobile phone, an LCD TV, a viewfinder type, a monitor direct view type video tape recorder, a car navigation device, a pager, an electronic device Examples include notebooks, calculators, word processors, workstations, videophones, POS terminals, and devices with touch panels. Needless to say, the present invention can be applied to these various electronic devices.

また、本発明は上述の各実施形態で説明した液晶装置以外にも反射型液晶装置(LCOS)、プラズマディスプレイ(PDP)、電界放出型ディスプレイ(FED、SED)、有機ELディスプレイ、デジタルマイクロミラーデバイス(DMD)、電気泳動装置等にも適用可能である。   In addition to the liquid crystal devices described in the above embodiments, the present invention includes a reflective liquid crystal device (LCOS), a plasma display (PDP), a field emission display (FED, SED), an organic EL display, and a digital micromirror device. (DMD), electrophoresis apparatus and the like are also applicable.

本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置、及び該電気光学装置を備えた電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and can be appropriately changed without departing from the spirit or idea of the invention that can be read from the claims and the entire specification, and an electro-optical device with such a change. In addition, an electronic apparatus including the electro-optical device is also included in the technical scope of the present invention.

3a…走査線、6a…データ線、9a…画素電極、10…TFTアレイ基板、10a…画像表示領域、20…対向基板、30…TFT、50…液晶層、52…シール材、52a…開口部、53…額縁遮光膜、101…データ線駆動回路、102…外部回路接続端子、104…走査線駆動回路、106…上下導通部、150…配線、200…UV光遮光マスク、400…配線間遮光膜、500…アライメントマーク、600…封止材   3a ... scanning line, 6a ... data line, 9a ... pixel electrode, 10 ... TFT array substrate, 10a ... image display area, 20 ... counter substrate, 30 ... TFT, 50 ... liquid crystal layer, 52 ... sealing material, 52a ... opening 53 ... Frame light shielding film, 101 ... Data line driving circuit, 102 ... External circuit connection terminal, 104 ... Scanning line driving circuit, 106 ... Vertical conduction part, 150 ... Wiring, 200 ... UV light shielding mask, 400 ... Light shielding between wirings Membrane 500 ... Alignment mark 600 ... Sealing material

Claims (5)

第1の基板及び第2の基板間に電気光学物質を挟持してなる電気光学装置であって、
前記第1の基板に、前記第1の基板の第1の辺に沿って設けられたデータ線駆動回路と、前記第1の辺と交差する第2の辺に沿って設けられた走査線駆動回路と、前記走査線駆動回路と前記第2の辺との間において、前記第2の辺に沿って延在し、前記走査線駆動回路と電気的に接続された配線と、
前記第1の基板と前記第2の基板との間に、前記データ線駆動回路、前記走査線駆動回路及び前記配線とそれぞれ少なくとも部分的に重なるように設けられており、前記第1の基板及び前記第2の基板を互いに接着するシール材と、
前記第2の基板に、前記データ線駆動回路、前記走査線駆動回路、前記配線及び前記シール材とそれぞれ少なくとも部分的に重なるように設けられた遮光膜と
を備えることを特徴とする電気光学装置。
An electro-optical device comprising an electro-optical material sandwiched between a first substrate and a second substrate,
A data line driving circuit provided on the first substrate along the first side of the first substrate, and a scanning line driving provided on the second side that intersects the first side. A wiring extending between the circuit and the scanning line driving circuit and the second side along the second side and electrically connected to the scanning line driving circuit;
Between the first substrate and the second substrate, the data line driving circuit, the scanning line driving circuit, and the wiring are provided so as to at least partially overlap, respectively, A sealing material for bonding the second substrates together;
An electro-optical device comprising: a light-shielding film provided on the second substrate so as to at least partially overlap the data line driving circuit, the scanning line driving circuit , the wiring, and the sealing material, respectively. .
前記第1の基板に前記配線と重なる他の遮光層は設けられていない
ことを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
The electro-optical device according to claim 1, wherein the other shielding layer overlapping with the wiring on the first substrate is not provided.
前記第1の基板及び前記第2の基板には、互いに貼り合わせられる際の目印となるアライメントマークが夫々設けられており、
前記遮光膜は、前記アライメントマークと重ならないように設けられている
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の電気光学装置。
Each of the first substrate and the second substrate is provided with an alignment mark serving as a mark when bonded to each other.
The electro-optical device according to claim 1, wherein the light shielding film is provided so as not to overlap the alignment mark.
前記第1の基板及び前記第2の基板間を電気的に導通する導通部を備え、
前記遮光膜は、前記導通部と重ならないように設けられている
ことを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の電気光学装置。
A conduction portion that electrically conducts between the first substrate and the second substrate;
The electro-optical device according to any one of claims 1 to 3, wherein the light shielding film is provided so as not to overlap the conductive portion.
請求項1からのいずれか一項に記載の電気光学装置を備えることを特徴とする電子機器。 An electronic apparatus comprising the electro-optical device according to any one of claims 1 to 4.
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