JP5499330B2 - Solar cell bus bar - Google Patents
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Description
本発明は、従来のOFC素材、TPC素材に比して高い導電性を備え、かつ従来のOFC素材に比して高い屈曲寿命を有する太陽電池用平角導体(バスバー)に関するものである。 The present invention relates to a rectangular conductor for a solar cell (bus bar) that has higher conductivity than conventional OFC materials and TPC materials and has a higher flex life than conventional OFC materials.
結晶系又は薄膜系の太陽電池モジュールには、電流を取り出すための太陽電池用平角導体(バスバー)が用いられている(特許文献1、特許文献2参照)。
Crystalline or thin-film solar cell modules use a rectangular solar cell conductor (bus bar) for taking out current (see
例えば、ガラス基板上において薄膜を成長させた太陽電池(いわゆる薄膜系太陽電池)においては、薄膜太陽電池セルの上に絶縁物を敷き、その上に正負の電力を集めるバス領域にバスバーとして銅箔が設けられる。バスバーは予め絶縁物を有しているものもあるが、これらバスバーの間に外部に電力を引き出すための接続手段としての端子ボックスへの取り出し部が配置される位置に対応してバスバーを垂直に折り曲げて配置し、その上に充填材のフィルムとを介して裏面保護材とを重ね合わせる。裏面保護材はシート状あるいはガラス板などが用いられるが、開口部を有しており、バスバーはこの開口部から外部に露出する構成をとる。 For example, in a solar cell in which a thin film is grown on a glass substrate (so-called thin film solar cell), an insulator is placed on the thin film solar cell, and copper foil is used as a bus bar in a bus region that collects positive and negative power on the insulator. Is provided. Some bus bars have an insulator in advance, but the bus bars are placed vertically corresponding to the positions where the lead-out portions to the terminal box as connecting means for drawing electric power to the outside are arranged between these bus bars. It arrange | positions by bending, and a back surface protective material is piled up through the film of a filler on it. A sheet-like or glass plate or the like is used as the back surface protective material, but it has an opening, and the bus bar is configured to be exposed to the outside through this opening.
太陽電池用平角導体(バスバー)の素材には、導電性が良好(高導電率)で、かつ、屈曲特性が良好であるという相反する特性が求められている。今日までに、高導電性および耐屈曲性を維持する銅材料の開発が進められている(特許文献3、特許文献4参照)。
The material of the flat conductor (bus bar) for solar cells is required to have contradictory properties such as good conductivity (high conductivity) and good bending properties. To date, development of copper materials that maintain high conductivity and bending resistance has been underway (see
例えば、特許文献3に係る発明は、引張強さ、伸び及び導電率が良好な耐屈曲ケーブル用導体に関する発明であり、特に純度99.99wt%以上の無酸素銅に、純度99.99wt%以上のインジウムを0.05〜0.70mass%、純度99.9wt%以上のPを0.0001〜0.003mass%の濃度範囲で含有させてなる銅合金を線材に形成した耐屈曲ケーブル用導体について記載されている。
For example, the invention according to
また、特許文献4に係る発明には、インジウムが0.1〜1.0wt%、硼素が0.01〜0.1wt%、残部が銅である耐屈曲性銅合金線について記載されている。
In addition, the invention according to
しかしながら、特許文献3に係る発明は、あくまでも硬質銅線に関する発明であり、耐
屈曲性に関する具体的な評価はされておらず、より耐屈曲性にすぐれる軟質銅線について
の検討は何等なされていない。また、添加元素の量が多いため、導電性が低下してしまう。軟質銅線に関しては、まだ十分に検討がなされたとはいえない。
However, the invention according to
また、特許文献4に係る発明は、軟質銅線に関する発明であるが、特許文献3に係る発明と同様に、添加元素の添加量が多いため、導電性が低下してしまう。
Moreover, although the invention which concerns on
一方で、原料となる銅材料として無酸素銅(OFC)などの高導電性銅材を選択することで、高い導電性を確保することが考えられる。 On the other hand, it is conceivable to ensure high conductivity by selecting a highly conductive copper material such as oxygen-free copper (OFC) as a raw material copper material.
しかしながら、この無酸素銅(OFC)を原料とし、導電性を維持すべく他の元素を添
加せずに使用した場合には、銅荒引線の加工度をあげて伸線することにより無酸素銅線内
部の結晶組織を細かくすることによって耐屈曲性を向上させるとする考え方も有効かもし
れないが、この場合には、伸線加工による加工硬化により硬質線材としての用途には適し
ているが、軟質線材への適用ができないという問題がある。
However, when this oxygen-free copper (OFC) is used as a raw material and it is used without adding other elements in order to maintain conductivity, oxygen-free copper can be obtained by increasing the degree of processing of the copper rough drawing wire. The idea of improving the bending resistance by making the crystal structure inside the wire fine may be effective, but in this case, it is suitable for use as a hard wire by work hardening by wire drawing, There is a problem that it cannot be applied to soft wires.
バスバーの素材としては、一般的にタフピッチ銅(TPC)、前述の無酸素銅(OFC)が使用されているが、近年、環境保全の機運の高まりもあり、太陽光エネルギーの有効活用の観点から、更なる太陽電池の発電効率化が望まれており、これらタフチッピ銅又は無酸素銅に代わる更なる高導電性材料の開発が急がれている。 In general, tough pitch copper (TPC) and the above-mentioned oxygen-free copper (OFC) are used as bus bar materials. However, in recent years, there has been an increase in environmental conservation, and from the viewpoint of effective use of solar energy. Therefore, further improvement in power generation efficiency of solar cells is desired, and development of further highly conductive materials to replace these tough copper or oxygen-free copper is urgently required.
また、バスバーは、端子ボックスの中の狭い箇所に小さな曲げ半径での敷設せざるを
得ない場合があり、折り曲げや屈曲箇所のストレス、ダメージに起因する電気的悪影響を
及ぼすという問題がある。
In addition, the bus bar sometimes has to be laid with a small bending radius in a narrow portion of the terminal box, and there is a problem that an electrical adverse effect is caused due to the stress or damage of the bent portion or the bent portion.
更に、結晶系の太陽電池用平角導体(バスバー)は、例えば、2本の半田めっき平角銅線を略L字形状にはんだ付けをして一体型としたバスバーを使用するのが一般的であるが、接続部の界面付近に金属間化合物が成長するため、接合部分の不具合による電気的不良の原因になる。 Further, as a rectangular solar cell conductor (bus bar) of a crystalline system, for example, it is common to use an integrated bus bar by soldering two solder-plated rectangular copper wires into a substantially L shape. However, since an intermetallic compound grows in the vicinity of the interface of the connection part, it causes an electrical failure due to a failure of the joint part.
そこで、本発明は、従来のOFC素材、TPC素材に比して高い導電性を備え、かつ従来のOFC素材に比して高い屈曲寿命を有する太陽電池用平角導体(バスバー)を提供することを目的とする。 Therefore, the present invention provides a rectangular conductor for a solar cell (bus bar) that has higher conductivity than conventional OFC materials and TPC materials and has a higher bending life than conventional OFC materials. Objective.
上記目的を達成するために本発明は、太陽電池セルを直線状に複数個配置して、前記セル同士を電気的に接続する太陽電池用バスバーにおいて、4massppm〜55mass ppmのTiと2massppm〜12mass ppmの硫黄と2massppmを超えて30mass ppm以下の酸素とを含み、残部が銅からなる軟質希薄銅合金材料であって、該材料の表面から50μm深さまでの表層における平均結晶粒サイズが20μm以下であることを特徴とする太陽電池用バスバーを提供する。
In order to achieve the above object, the present invention provides a solar battery bus bar in which a plurality of solar cells are arranged in a straight line, and the cells are electrically connected to each other. 4 mass ppm to 55 mass ppm Ti and 2 mass ppm to 12 mass ppm in the and a sulfur and 2massppm the following 30 mass ppm exceeds oxygen, the remainder I is soft dilute copper alloy material der made of copper, an average grain size in the surface layer from the surface of the material to 50μm depth 20μm or less There is provided a bus bar for a solar cell.
また、薄膜太陽電池上に形成された正負の電力を集めるバス領域を接続する太陽電池用バスバーにおいて、4massppm〜55mass ppmのTiと2massppm〜12mass ppmの硫黄と2massppmを超えて30mass ppm以下の酸素とを含み、残部が銅からなる軟質希薄銅合金材料であって、該材料の表面から50μm深さまでの表層における平均結晶粒サイズが20μm以下であることを特徴とする太陽電池用バスバーを提供する。
Moreover, in the solar cell bus bar that connects the bus region that collects positive and negative power formed on the thin film solar cell , Ti of 4 massppm to 55 mass ppm, sulfur of 2 massppm to 12 mass ppm, oxygen of more than 2 massppm and oxygen of 30 mass ppm or less wherein the remainder it is soft dilute copper alloy material der made of copper, to provide a bus bar for a solar cell, wherein the average crystal grain size in the surface layer from the surface of the material to 50μm depth is 20μm or less .
本発明によれば、従来のOFC素材、TPC素材に比して高い導電性を備え、かつ従来のOFC素材に比して高い屈曲寿命を有する太陽電池用平角導体(バスバー)を得ることができるという優れた効果を発揮するものである。 According to the present invention, it is possible to obtain a rectangular solar cell conductor (bus bar) having high conductivity as compared with conventional OFC materials and TPC materials and having a higher bending life than conventional OFC materials. This is an excellent effect.
以下、本発明の好適な一実施の形態を詳述する。 Hereinafter, a preferred embodiment of the present invention will be described in detail.
本発明の太陽電池用バスバー(平角導体)は、図1に示す様に、太陽電池セルを直線状に複数個配置して、電気的に接続するバスバーである。このバスバーの素材には、高い導電性と高い屈曲寿命が望まれている。そこで、先ず、本発明の目的は、バスバーの素材として、導電率101.5%IACS(万国標準軟銅(International Anneld Copper Standard)抵抗率1.7241×10−8Ωmを100%とした導電率)を満足する軟質型銅材としての軟質希薄銅合金材料を得ることにある。また、副次的な目的は、SCR連続鋳造設備を用い、表面傷が少なく、製造範囲が広く、安定生産が可能であり、ワイヤロッドに対する加工度90%(例えばφ8mm→φ2.6mm)での軟化温度が148℃以下の材料の開発にある。 The solar cell bus bar (flat rectangular conductor) of the present invention is a bus bar in which a plurality of solar cells are arranged in a straight line and electrically connected as shown in FIG. The material of this bus bar is desired to have high conductivity and high bending life. Accordingly, first, the object of the present invention is to provide a bus bar material having a conductivity of 101.5% IACS (conductivity with a universal annealed copper standard having a resistivity of 1.7241 × 10 −8 Ωm as 100%). It is to obtain a soft dilute copper alloy material as a soft copper material satisfying the above. A secondary purpose is to use SCR continuous casting equipment, have few surface flaws, have a wide manufacturing range, enable stable production, and have a processing rate of 90% for wire rods (for example, φ8mm → φ2.6mm). The development of materials with a softening temperature of 148 ° C or lower.
本実施の形態に係る太陽電池用バスバーは、Ti、Mg、Zr、B、Nb、Ca、V、Ni、Mn及びCrからなる群から選択された添加元素を含み、残部が不可避的不純物及び銅からなる軟質希薄銅合金材料であり、該材料の表面から50μm深さまでの平均結晶粒サイズが20μm以下である表層を有するものを用いる。 The solar cell bus bar according to the present embodiment includes an additive element selected from the group consisting of Ti, Mg, Zr, B, Nb, Ca, V, Ni, Mn, and Cr, the balance being inevitable impurities and copper A soft dilute copper alloy material having a surface layer whose average crystal grain size from the surface of the material to a depth of 50 μm is 20 μm or less is used.
添加元素として、Ti、Mg、Zr、B、Nb、Ca、V、Ni、Mn及びCrからなる群から選択されたものを選んだ理由は、これらの元素は他の元素と結合しやすい活性元素であり、Sと結合しやすいためSをトラップすることができ、銅母材(マトリクス)を高純度化することができるためである。添加元素は1種以上含まれていてもよい。また、合金の性質に悪影響を及ぼすことのないその他の元素および不純物を合金に含有させることもできる。 The reason why the element selected from the group consisting of Ti, Mg, Zr, B, Nb, Ca, V, Ni, Mn, and Cr is selected as the additive element is that these elements are easily combined with other elements. This is because S can be trapped because it is easily combined with S, and the copper base material (matrix) can be highly purified. One or more additive elements may be included. Also, other elements and impurities that do not adversely affect the properties of the alloy can be included in the alloy.
また、以下に説明する好適な実施の形態においては、酸素含有量が2を超え30mass ppm以下が良好であることを説明しているが、添加元素の添加量およびSの含有量によっては、合金の性質を備える範囲において、2を超え400mass ppmを含むことができる。 Further, in the preferred embodiment described below, it is described that the oxygen content is more than 2 and not more than 30 mass ppm, but depending on the addition amount of the additive element and the S content, In the range having the property of, it is possible to include more than 2 and 400 mass ppm.
高純度銅(6N、純度99.9999%)に関しては、加工度90%での軟化温度は130℃である。したがって安定生産が可能な130℃以上で148℃以下の軟化温度で軟質材の導電率が101.5%IACS以上である軟質銅を安定して製造できる軟質希薄銅合金材料としての素材とその製造条件を求めることを検討した。 For high purity copper (6N, purity 99.9999%), the softening temperature at a workability of 90% is 130 ° C. Therefore, a raw material as a soft dilute copper alloy material capable of stably producing soft copper having a soft material with a conductivity of 101.5% IACS or more at a softening temperature of 130 ° C. or more and 148 ° C. or less capable of stable production and its production We examined to obtain the conditions.
ここで、酸素濃度1〜2mass ppmの高純度銅(4N)を用い、実験室にて小型連続鋳造機(小型連鋳機)を用いて、溶湯にチタン(Ti)を数mass ppm添加した溶湯から製造したφ8mmのワイヤロッドをφ2.6mm(加工度90%)にして軟化温度を測ると160〜168℃であり、これ以上低い軟化温度にはならない。また、導電率は、101.7%IACS程度である。よって、酸素濃度を低くして、Tiを添加しても、軟化温度を下げることができず、また高純度銅(6N)の導電率102.8%IACSよりも悪くなることがわかった。 Here, using high-purity copper (4N) with an oxygen concentration of 1 to 2 mass ppm, using a small continuous casting machine (small continuous casting machine) in the laboratory, molten metal with several mass ppm of titanium (Ti) added to the molten metal. When the softening temperature is measured with a φ8 mm wire rod manufactured from No. 2.6 mm (working degree 90%), the softening temperature is not lower than this. The conductivity is about 101.7% IACS. Therefore, it was found that even when Ti was added at a low oxygen concentration, the softening temperature could not be lowered, and the electrical conductivity of high purity copper (6N) was worse than 102.8% IACS.
この原因は、溶湯の製造中に不可避的不純物として、硫黄を数mass ppm以上含
み、この硫黄とチタンとでTiS等の硫化物が十分形成されないために、軟化温度が下が
らないものと推測される。
The reason for this is that sulfur is contained in several mass ppm or more as an unavoidable impurity during the production of molten metal, and sulphide such as TiS is not sufficiently formed between this sulfur and titanium, so that the softening temperature is not lowered. .
そこで、本発明では、軟化温度を下げることと、導電率を向上させるために、2つの方
策を検討し、2つの効果を合わせることで目標を達成した。
Therefore, in the present invention, in order to lower the softening temperature and improve the electrical conductivity, the two measures have been studied and the two effects have been combined to achieve the goal.
(a)素材の酸素濃度を2mass ppmを超える量に増やしてチタンを添加する。これにより、先ず溶銅中ではTiSとチタン酸化物(TiO2)やTi−O−S粒子が形成されると考えられる(図2、図4のSEM像と図3、図5の分析結果参照)。なお、図3、図5、図7において、PtおよびPdは観察のための蒸着元素である。 (A) Increase the oxygen concentration of the material to an amount exceeding 2 mass ppm and add titanium. Thereby, it is considered that TiS and titanium oxide (TiO 2 ) and Ti—O—S particles are first formed in the molten copper (see the SEM images in FIGS. 2 and 4 and the analysis results in FIGS. 3 and 5). ). In FIGS. 3, 5, and 7, Pt and Pd are vapor deposition elements for observation.
(b)次に熱間圧延温度を、通常の銅の製造条件(950〜600℃)よりも低く設定
(880〜550℃)することで、銅中に転位を導入し、Sが析出し易いようにする。これによって、転位上へのSの析出又はチタンの酸化物(TiO2)を核としてSを析出させ、その一例として溶銅と同様Ti−O−S粒子等を形成させる(図6のSEM像と、図7の分析結果参照)。図2〜7は、表1の実施例1の上から三段目に示す酸素濃度、硫黄濃度、Ti濃度をもつφ8mmの銅線(ワイヤロッド)の横断面をSEM観察及びEDX分析にて評価したものである。観察条件は、加速電圧15keV、エミッション電流10μAとした。
(B) Next, by setting the hot rolling temperature lower (880 to 550 ° C.) than the normal copper production conditions (950 to 600 ° C.), dislocations are introduced into the copper and S is likely to precipitate. Like that. Thereby, precipitation of S on dislocations or precipitation of S using titanium oxide (TiO 2 ) as nuclei, as an example, formation of Ti—O—S particles, etc., similar to molten copper (SEM image in FIG. 6). And the analysis result of FIG. 7). 2 to 7 evaluate the cross-section of a φ8 mm copper wire (wire rod) having the oxygen concentration, sulfur concentration, and Ti concentration shown in the third row from the top in Example 1 of Table 1 by SEM observation and EDX analysis. It is a thing. The observation conditions were an acceleration voltage of 15 keV and an emission current of 10 μA.
(a)と(b)により、銅中の硫黄が晶出と析出を行い、冷間伸線加工後に軟化温度と
導電率を満足する銅ワイヤロッドができる。
According to (a) and (b), sulfur in copper crystallizes and precipitates, and a copper wire rod that satisfies the softening temperature and conductivity after cold wire drawing can be obtained.
次に、本発明では、SCR連続鋳造設備で製造条件の制限として(1)〜(4)を制限
した。
Next, in this invention, (1)-(4) was restrict | limited as a restriction | limiting of manufacturing conditions with SCR continuous casting equipment.
(1)組成について
導電率が102%IACS以上の軟質銅材を得る場合、不可避的不純物を含む純銅に硫黄3〜12mass ppmと、酸素2を超えて30mass ppm以下と、Ti4〜25mass ppmを含む軟質希薄銅合金材料でワイヤロッドとするのがよい。2mass ppmを超え30mass ppm以下の酸素を含有していることから、この実施の形態では、いわゆる低酸素銅(LOC)を対象としている。
(1) About composition When obtaining a soft copper material with an electrical conductivity of 102% IACS or higher, pure copper containing inevitable impurities contains sulfur 3-12 mass ppm,
通常、純銅の工業的製造において、電気銅を製造する際に、硫黄が銅中に取り込まれてしまうため、硫黄を3mass ppm以下とするのは難しい。汎用電解銅の硫黄濃度上限は12mass ppmである。
Usually, in the industrial production of pure copper, sulfur is taken into copper when producing electrolytic copper, so it is difficult to make
制御する酸素は、上述したように、少ないと軟化温度が下がり難いので2mass ppm以上とする。また酸素が多すぎると、熱間圧延工程で、表面傷が出やすくなるので30mass ppm以下とする。 As described above, if the amount of oxygen to be controlled is small, the softening temperature is unlikely to decrease. Further, if there is too much oxygen, surface scratches are likely to occur in the hot rolling process, so it is set to 30 mass ppm or less.
(2)分散している物質について
硫黄及びチタンは、TiO、TiO2、TiS、Ti−O−Sの形で化合物または、凝集物を形成し、残りのTiとSが固溶体の形で存在している。TiOのサイズが200n
m以下、TiO2は1000nm以下、TiSは200nm以下、Ti−O−Sは300
nm以下で結晶粒内に分布している軟質希薄銅合金材料とする。結晶粒とは銅の結晶組織のことを意味する。
(2) Dispersed substances Sulfur and titanium form compounds or aggregates in the form of TiO, TiO 2 , TiS, Ti—O—S, and the remaining Ti and S exist in the form of a solid solution. ing. TiO size is 200n
m or less, TiO 2 is 1000 nm or less, TiS is 200 nm or less, and Ti—O—S is 300 nm or less.
A soft dilute copper alloy material distributed in crystal grains with a thickness of less than nm is used. A crystal grain means the crystal structure of copper.
但し、鋳造時の溶銅の保持時間や冷却状況により、形成される粒子サイズが変わるので
鋳造条件の設定も必要である。
However, since the size of the formed particles changes depending on the holding time of the molten copper during casting and the cooling condition, it is necessary to set casting conditions.
(3)鋳造条件について
SCR連続鋳造圧延により、鋳塊ロッドの加工度が90%(30mm)〜99.8%(5mm)でワイヤロッドを造る、一例として、加工度99.3%でφ8mmワイヤロッドを造る方法を用
いる。
(3) Casting conditions By SCR continuous casting and rolling, a wire rod is manufactured with an ingot rod working degree of 90% (30 mm) to 99.8% (5 mm). As an example, a φ8 mm wire with a working degree of 99.3% The method of making a rod is used.
(a)溶解炉内での溶銅温度は、1100℃以上1320℃以下とする。溶銅の温度が
高いとブローホールが多くなり、傷が発生するとともに粒子サイズが大きくなる傾向にあ
るので、1320℃以下とする。1100℃以上としたのは、銅が固まりやすく製造が安定しないためであるが、溶銅温度は、出来るだけ低い温度が望ましい。
(A) Molten copper temperature in a melting furnace shall be 1100 degreeC or more and 1320 degrees C or less. When the temperature of the molten copper is high, blowholes increase, scratches are generated, and the particle size tends to increase. The reason why the temperature is set to 1100 ° C. or more is that copper is hardened and the production is not stable, but the molten copper temperature is preferably as low as possible.
(b)熱間圧延温度は、最初の圧延ロールでの温度が880℃以下、最終圧延ロールで
の温度が550℃以上とする。
(B) As for the hot rolling temperature, the temperature at the first rolling roll is 880 ° C. or lower, and the temperature at the final rolling roll is 550 ° C. or higher.
通常の純銅製造条件と異なり、溶銅中での硫黄の晶出と熱間圧延中の硫黄の析出が本発
明の課題であるので、その駆動力である固溶限をより小さくするためには、溶銅温度と熱
間圧延温度を(a)、(b)とするのがよい。
Unlike normal pure copper production conditions, crystallization of sulfur in molten copper and precipitation of sulfur during hot rolling are the subject of the present invention, so in order to reduce the solid solubility limit that is the driving force. The molten copper temperature and the hot rolling temperature are preferably (a) and (b).
通常の熱間圧延温度は、最初の圧延ロールでの温度が950℃以下、最終圧延ロールで
の温度が600℃以上であるが、固溶限をより小さくするためには、本発明では、最初の
圧延ロールでの温度が880℃以下、最終圧延ロールでの温度が550℃以上に設定する
。
The normal hot rolling temperature is such that the temperature at the first rolling roll is 950 ° C. or lower and the temperature at the final rolling roll is 600 ° C. or higher. In order to reduce the solid solution limit, The temperature at the first rolling roll is set to 880 ° C. or lower, and the temperature at the final rolling roll is set to 550 ° C. or higher.
550℃以上にする理由は、この温度以下では得られるワイヤロッドの傷が多いので製品にならないためである。熱間圧延温度は、最初の圧延ロールでの温度が880℃以下、最終圧延ロールでの温度が550℃以上で、できるだけ低い方が望ましい。こうすることで、軟化温度(φ8〜φ2.6に加工後)が限りなくCu(6N、軟化温度130℃)に近くなる。 The reason why the temperature is set to 550 ° C. or more is that there are many flaws of the wire rod obtained at a temperature lower than this temperature, and the product does not become a product. The hot rolling temperature is preferably as low as possible, with the temperature at the first rolling roll being 880 ° C. or lower and the temperature at the final rolling roll being 550 ° C. or higher. By doing so, the softening temperature (after processing to φ8 to φ2.6) is infinitely close to Cu (6N, softening temperature 130 ° C.).
直径φ8mmサイズのワイヤロッドの導電率が101.5%IACS以上であり、冷間伸線加工後の線材(例えば、φ2.6mm)の軟化温度が130℃〜148℃である軟質希薄銅合金線または板状材料を得ることができる。 A soft dilute copper alloy wire in which the conductivity of a wire rod having a diameter of φ8 mm is 101.5% IACS or more, and the softening temperature of the wire after cold wire drawing (for example, φ2.6 mm) is 130 ° C. to 148 ° C. Alternatively, a plate material can be obtained.
工業的に使うためには、電解銅から製造した工業的に利用される純度の軟質銅線にて9
8%IACS以上必要であり、軟化温度はその工業的価値から見て148℃以下である。
Tiを添加しない場合は、160〜165℃である。高純度銅(6N)の軟化温度は127〜130℃であったので、得られたデータから限界値を130℃とする。このわずかな違いは、高純度銅(6N)にない不可避的不純物にある。
In order to use industrially, it is 9 in the soft copper wire of the industrially used purity manufactured from electrolytic copper.
8% IACS or more is necessary, and the softening temperature is 148 ° C. or less in view of its industrial value.
When Ti is not added, the temperature is 160 to 165 ° C. Since the softening temperature of high-purity copper (6N) was 127 to 130 ° C., the limit value is set to 130 ° C. from the obtained data. This slight difference is in inevitable impurities not found in high purity copper (6N).
導電率は、無酸素銅のレベルで101.7%IACS程度であり、高純度銅(6N)で102.8%IACSであるため、出来るだけ高純度銅(6N)に近い導電率であることが望ましい。
(4)鋳造条件の制限
ベース材の銅はシャフト炉で溶解の後、還元状態の樋になるように制御した、すなわち還元ガス(CO)雰囲気下で、希薄合金の構成元素の硫黄濃度、Ti濃度、酸素濃度を制御して鋳造し、圧延するワイヤロッドを安定して製造する方法がよい。銅酸化物の混入や粒子サイズが大きいので品質を低下させる。
The conductivity is about 101.7% IACS at the level of oxygen-free copper, and 102.8% IACS for high-purity copper (6N), so that the conductivity is as close as possible to high-purity copper (6N). Is desirable.
(4) Restriction of casting conditions The copper of the base material was controlled so as to be in a reduced state after being melted in the shaft furnace, that is, in the reducing gas (CO) atmosphere, the sulfur concentration of the constituent element of the diluted alloy, Ti A method of stably producing a wire rod for casting and rolling by controlling the concentration and oxygen concentration is preferable. Since the copper oxide is mixed and the particle size is large, the quality is lowered.
ここで、添加元素としてTiを選択した理由は次の通りである。 Here, the reason for selecting Ti as the additive element is as follows.
(a)Tiは溶融銅の中で硫黄と結合し化合物を造りやすいためである。 (A) Ti is easily bonded to sulfur in molten copper to form a compound.
(b)Zrなど他の添加金属に比べて加工でき扱いやすい。 (B) It can be processed and handled more easily than other additive metals such as Zr.
(c)Nbなどに比べて安価である。 (C) It is less expensive than Nb or the like.
(d)酸化物を核として析出しやすいからである。 (D) It is because it is easy to precipitate using an oxide as a nucleus.
本発明の好適な実施の形態では添加元素として、Tiを選択したが、これに限定されるものではなく、Ti、Mg、Zr、B、Nb、Ca、V、N、Mn、Crのいずれか1種又は2種以上からなるものを添加元素としてもよい。 In the preferred embodiment of the present invention, Ti is selected as the additive element, but it is not limited to this, and any one of Ti, Mg, Zr, B, Nb, Ca, V, N, Mn, and Cr is used. One or more elements may be used as the additive element.
以上により、本発明の軟質希薄銅合金材料は、溶融半田めっき材(線、板、箔)、軟質純銅、高導電率銅、やわらかい銅線として使用でき、生産性が高く、導電率、軟化温度、表面品質に優れた実用的な軟質希薄銅合金材料を得ることが可能となる。 As described above, the soft diluted copper alloy material of the present invention can be used as a molten solder plating material (wire, plate, foil), soft pure copper, high conductivity copper, soft copper wire, high productivity, conductivity, softening temperature It becomes possible to obtain a practical soft dilute copper alloy material having excellent surface quality.
また、本発明の軟質希薄銅合金線の表面にめっき層を形成してもよい。めっき層として
は、例えば、錫、ニッケル、銀を主成分とするものを適用可能であり、いわゆるPbフリ
ーめっきを用いてもよい。
Further, a plating layer may be formed on the surface of the soft diluted copper alloy wire of the present invention. As the plating layer, for example, a layer mainly composed of tin, nickel, and silver is applicable, and so-called Pb-free plating may be used.
また、形状は平角導体に限定されず、断面丸形状の導体であっても、棒状のものであってもよい。 Further, the shape is not limited to a rectangular conductor, and may be a conductor having a round cross section or a rod-like conductor.
また、上述の実施の形態では、SCR連続鋳造圧延法によりワイヤロッドを作製し、熱間圧延にて軟質材を作製する例で説明したが、本発明は、双ロール式連続鋳造圧延法またはプロペルチ式連続鋳造圧延法により製造するようにしても良い。 In the above-described embodiment, the wire rod is manufactured by the SCR continuous casting rolling method, and the soft material is manufactured by hot rolling. However, the present invention is not limited to the twin roll continuous casting rolling method or the proper perch. You may make it manufacture by a type | formula continuous casting rolling method.
表1は実験条件と結果に関するものである。 Table 1 relates to experimental conditions and results.
先ず、実験材として、表1に示した酸素濃度、硫黄濃度、Ti濃度で、φ8mmの銅線
(ワイヤロッド):加工度99.3%をそれぞれ作製した。φ8mmの銅線は、SCR連続鋳造圧延により、熱間圧延加工を施したものである。Tiは、シャフト炉で溶解された銅溶湯を還元ガス雰囲気で桶に流し、桶に流した銅溶湯を同じ還元ガス雰囲気の鋳造ポットに導き、この鋳造ポットにて、Tiを添加した後、これをノズルを通して鋳造輪と無端ベルトとの間に形成される鋳型にて鋳塊ロッドを作成した。この鋳塊ロッドを熱間圧延加工してφ8mmの銅線を作成したものである。その実験材を冷間伸線して、φ2.6mmのサイズにおける半軟化温度と導電率を測定し、またφ8mmの銅線における分散粒子サイズを評価した。
First, as an experimental material, a φ8 mm copper wire (wire rod) with a processing degree of 99.3% was prepared with the oxygen concentration, sulfur concentration, and Ti concentration shown in Table 1. The φ8 mm copper wire is hot-rolled by SCR continuous casting and rolling. Ti flows the molten copper melted in the shaft furnace into the reed in the reducing gas atmosphere, guides the molten copper flowing in the reed to the casting pot of the same reducing gas atmosphere, and after adding Ti in this casting pot, An ingot rod was made with a mold formed between the cast ring and the endless belt through the nozzle. This ingot rod is hot-rolled to produce a φ8 mm copper wire. The experimental material was cold-drawn, the semi-softening temperature and conductivity at a size of φ2.6 mm were measured, and the dispersed particle size at a copper wire of φ8 mm was evaluated.
酸素濃度は、酸素分析器(レコ(Leco;商標)酸素分析器)で測定した。硫黄、T
iの各濃度はICP発光分光分析器で分析した結果である。
The oxygen concentration was measured with an oxygen analyzer (Leco ™ oxygen analyzer). Sulfur, T
Each concentration of i is a result of analysis with an ICP emission spectroscopic analyzer.
φ2.6mmのサイズにおける半軟化温度の測定は、400℃以下で各温度1時間の保
持後、水中急冷し、引張試験を実施しその結果から求めた。室温での引張試験の結果と4
00℃で1時間のオイルバス熱処理した軟質銅線の引張試験の結果を用いて求め、この
2つの引張試験の引張強さを足して2で割った値を示す強度に対応する温度を半軟化温度
と定義し求めた。
The measurement of the semi-softening temperature in the size of φ2.6 mm was obtained from the result of quenching in water after holding each temperature at 400 ° C. or less for 1 hour and conducting a tensile test. Results of tensile test at room temperature and 4
Semi-softening the temperature corresponding to the strength obtained by adding the tensile strengths of these two tensile tests and dividing by 2 using the results of the tensile test of the soft copper wire heat-treated at 00 ° C for 1 hour in the oil bath. Determined as temperature.
分散粒子のサイズは小さく沢山分布することが望ましい。その理由は、硫黄の析出サイトとして働くためサイズが小さく数が多いことが要求される。すなわち直径500μm以下の分散粒子が90%以上である場合を合格とした。ここに「サイズ」とは化合物のサイズであり、化合物の形状の長径と短径のうちの長径のサイズを意味する。また、「粒子」とは前記TiO、TiO2、TiS、Ti−O―Sのことを示す。また、「90%」とは、全体の粒子数に対しての該当粒子数の割合を示すものである。 It is desirable that the dispersed particles have a small size and are distributed a lot. The reason is that the size is small and the number is large because it functions as a sulfur deposition site. That is, the case where the number of dispersed particles having a diameter of 500 μm or less was 90% or more was regarded as acceptable. Here, the “size” is the size of the compound and means the size of the major axis of the major axis and minor axis of the shape of the compound. Further, “particle” means TiO, TiO 2 , TiS, or Ti—O—S. “90%” indicates the ratio of the number of corresponding particles to the total number of particles.
表1において、比較材1は、実験室でAr雰囲気において直径φ8mmの銅線を試作し
た結果であり、銅溶湯にTiを、0〜18mass ppm添加したものである。
In Table 1, the
このTi添加で、Ti添加量ゼロの半軟化温度215℃に対して、13mass pp
mは160℃まで低下して最小となり、15,18mass ppmの添加で高くなって
おり、要望の軟化温度148℃以下にはならなかった。また、導電率101.5%以上を満足しないものであり、総合評価は×であった。
With this addition of Ti, 13 mass pp for a semi-softening temperature of 215 ° C. with zero addition of Ti.
m decreased to 160 ° C. and became minimum, and increased with the addition of 15,18 mass ppm, and the desired softening temperature did not fall below 148 ° C. Moreover, it was what does not satisfy 101.5% or more of electrical conductivity, and the comprehensive evaluation was x.
そこで、次にSCR連続鋳造圧延法にて、酸素濃度を7〜8mass ppmに調整し
てφ8mm銅線(ワイヤロッド)の試作を行った。
Therefore, a Ø8 mm copper wire (wire rod) was prototyped by adjusting the oxygen concentration to 7 to 8 mass ppm by the SCR continuous casting and rolling method.
比較材2は、SCR連続鋳造圧延法で試作した中でTi濃度の少ないもの(0,2ma
ss ppm)であり、導電率は102%IACS以上であるが、半軟化温度が164,
157℃であり、要求の148℃以下を満足しないので、総合評価で、×となった。
The
ss ppm) and the conductivity is 102% IACS or higher, but the semi-softening temperature is 164,
Since it was 157 ° C. and did not satisfy the required 148 ° C. or lower, the overall evaluation was x.
実施材1については、酸素濃度と硫黄が、ほぼ一定(7〜8mass ppm、5ma
ss ppm)、Ti濃度の異なる(4〜55mass ppm)試作材の結果である。
About
ss ppm) and the results of trial materials with different Ti concentrations (4 to 55 mass ppm).
このTi濃度4〜55mass ppmの範囲では、軟化温度148℃以下であり、導
電率も98%IACS以上、102%IACS以上であり、分散粒子サイズも500nm
以下の粒子が90%以上であり良好である。そしてワイヤロッドの表面もきれいであり、
いずれも製品性能として満足している(総合評価○)。
In this Ti concentration range of 4 to 55 mass ppm, the softening temperature is 148 ° C. or lower, the conductivity is 98% IACS or higher, 102% IACS or higher, and the dispersed particle size is 500 nm.
The following particles are 90% or more, which is good. And the surface of the wire rod is clean,
All are satisfied as product performance (overall evaluation ○).
ここで、導電率101.5%IACS以上を満たすものは、Ti濃度が4〜25mas
s ppmのときである。Ti濃度が13mass ppmのとき導電率が最大値である
102.4%IACSを示し、この濃度の周辺では、導電率は、僅かに低い値であった。
これは、Tiが13mass ppmのときに、銅中の硫黄分を化合物として捕捉することで、高純度銅(6N)に近い導電率を示したためである。
Here, a material satisfying a conductivity of 101.5% IACS or more has a Ti concentration of 4 to 25 mas.
When s ppm. When the Ti concentration was 13 mass ppm, the maximum conductivity was 102.4% IACS, and the conductivity was slightly lower in the vicinity of this concentration.
This is because when Ti is 13 mass ppm, the sulfur content in copper is captured as a compound, thereby showing conductivity close to that of high-purity copper (6N).
よって、酸素濃度を高くし、Tiを添加することで、半軟化温度と導電率の双方を満足
させることができる。
Therefore, both the semi-softening temperature and the conductivity can be satisfied by increasing the oxygen concentration and adding Ti.
比較材3はTi濃度が25mass ppmを超える試作材である。この比較材3は、半軟化温度は要望を満足しているが、導電率が101.5%IACSを下回っているため、総合評価は×であった。
比較材4は、Ti濃度を60mass ppmと高くした試作材である。この比較材3
は、導電率は要望を満足しているが、半軟化温度は148℃以上であり、製品性能を満足
していない。さらにワイヤロッドの表面傷も多い結果であり、製品にすることは難しい。よって、Tiの添加量は60mass ppm未満がよい。
The
Although the electrical conductivity satisfies the demand, the semi-softening temperature is 148 ° C. or higher, and the product performance is not satisfied. Furthermore, there are many surface defects on the wire rod, making it difficult to produce a product. Therefore, the addition amount of Ti is preferably less than 60 mass ppm.
次に実施材2については、硫黄濃度を5mass ppmとし、Ti濃度を13〜10
mass ppmとし、酸素濃度を変えて、酸素濃度の影響を検討した試作材である。
Next, with respect to the
It is a prototype material in which the effect of oxygen concentration was examined by changing mass oxygen to oxygen ppm.
酸素濃度に関しては、2を超え30mass ppm以下まで、大きく濃度が異なる試作材とした。但し、酸素が2mass ppm未満は、生産が難しく安定した製造できないため、総合評価は△とした。また酸素濃度を30mass ppmと高くしても半軟化温度と導電率の双方を満足することがわかった。 With respect to the oxygen concentration, prototype materials having greatly different concentrations from 2 to 30 mass ppm or less were used. However, when oxygen is less than 2 mass ppm, production is difficult and stable production cannot be performed, so the overall evaluation is Δ. It was also found that even when the oxygen concentration was increased to 30 mass ppm, both the semi-softening temperature and the conductivity were satisfied.
また比較材5に示すように、酸素が40mass ppm の場合には、ワイヤロッド
表面の傷が多く、製品にならない状況であった。
Moreover, as shown in the
よって、酸素濃度が2を超え30mass ppm以下の範囲とすることで、半軟化温度、導電率102%IACS以上、分散粒子サイズいずれの特性も満足させることができ、またワイヤロッドの表面もきれいであり、いずれも製品性能を満足させることができる。 Therefore, by setting the oxygen concentration in the range of more than 2 and 30 mass ppm or less, the semi-softening temperature, the conductivity of 102% IACS or more, and the dispersed particle size can be satisfied, and the wire rod surface is also clean. Yes, both can satisfy product performance.
次に実施材3は、それぞれ酸素濃度とTi濃度とを比較的同じ近い濃度とし、Ti濃度
を4〜20mass ppmと変えた試作材の例である。この実施材3においては、硫黄
が2mass ppmより少ない試作材は、その原料面から実現できなかったが、Tiと
硫黄の濃度を制御することで、半軟化温度と導電率の双方を満足させることができる。
Next, the
比較材6の硫黄濃度が18mass ppmで、Ti濃度が13mass ppmの場
合には、半軟化温度が162℃で高く、必要特性を満足できなかった。また、特にワイヤ
ロッドの表面品質が悪いので、製品化は難しかった。
When the sulfur concentration of the
以上より、硫黄濃度が2〜12mass ppmの場合には、半軟化温度、導電率10
2%IACS以上、分散粒子サイズいずれの特性も満足しており、ワイヤロッドの表面も
きれいですべての製品性能を満足することがわかった。
From the above, when the sulfur concentration is 2 to 12 mass ppm, the semi-softening temperature and the electrical conductivity are 10
It was found that both the characteristics of 2% IACS or more and dispersed particle size were satisfied, the surface of the wire rod was clean, and all product performances were satisfied.
また比較材7としてCu(6N)を用いた検討結果を示したが、半軟化温度127〜1
30℃であり、導電率も102.8%IACSであり、分散粒子サイズも、500nm以
下の粒子はまったく認められなかった。
Moreover, although the examination result using Cu (6N) as the
The temperature was 30 ° C., the conductivity was 102.8% IACS, and no particles with a dispersed particle size of 500 nm or less were observed.
比較材8は、溶銅温度が高めの1330〜1350℃で且つ圧延温度が950〜600
℃でφ8mmのワイヤロッドを試作した結果を示したものである。
The comparative material 8 is 1330-1350 degreeC whose molten copper temperature is high, and rolling temperature is 950-600.
The result of trial production of a wire rod of φ8 mm at ° C is shown.
この比較材8は、半軟化温度と導電率は満足するものの、分散粒子のサイズに関しては、1000nm程度のものもあり500nm以上の粒子も10%を超えていた。よって、これは不適とした。 Although this comparative material 8 satisfied the semi-softening temperature and the electrical conductivity, the size of the dispersed particles was about 1000 nm, and the particles of 500 nm or more exceeded 10%. Therefore, this was inappropriate.
実施材4は、溶銅温度が1200〜1320℃で且つ圧延温度が低めの880〜550
℃でφ8mmのワイヤロッドを試作した結果を示したものである。この実施材4について
は、ワイヤ表面品質、分散粒子サイズも良好で、総合評価は○であった。
The result of trial production of a wire rod of φ8 mm at ° C is shown. About this
比較材9は、溶銅温度が1100℃で且つ圧延温度が低めの880〜550℃でφ8mmのワイヤロッドを試作した結果を示したものである。この比較材9は、溶銅温度が低い
ため、ワイヤロッドの表面傷が多く製品には適さなかった。これは、溶銅温度が低いため、圧延時に傷が発生しやすいためである。
Comparative material 9 shows the result of trial manufacture of a wire rod of φ8 mm at a molten copper temperature of 1100 ° C. and a lower rolling temperature of 880 to 550 ° C. Since this comparative material 9 had a low molten copper temperature, it had many wire rod surface scratches and was not suitable for the product. This is because scratches are likely to occur during rolling because the molten copper temperature is low.
比較材10は、溶銅温度が1300℃で且つ圧延温度が高めの950〜600℃でφ8mmのワイヤロッドを試作した結果を示したものである。この比較材10は、熱間圧延温度が高いため、ワイヤロッドの表面品質が良いが、分散粒子サイズも大きなものがあり、総合評価は×となった。 Comparative material 10 shows the result of trial production of a wire rod having a diameter of 8 mm at a molten metal temperature of 1300 ° C. and a rolling temperature of 950 to 600 ° C., which is higher. Since this comparative material 10 has a high hot rolling temperature, the surface quality of the wire rod is good, but some of the dispersed particles are large, and the overall evaluation is x.
比較材11は、溶銅温度が1350℃で且つ圧延温度が低めの880〜550℃でφ8
mmのワイヤロッドを試作した結果を示したものである。この比較材11は、溶銅温度が
高いため、分散粒子サイズが大きなものがあり、総合評価は×となった。
The result of trial manufacture of a wire rod of mm is shown. Since this
(軟質希薄銅合金線の軟質特性)
表3は、無酸素銅線を用いた比較材12と低酸素銅に13mass ppmのTiを含有した軟質希薄銅合金線を用いた実施材5とを試料とし、異なる焼鈍温度で1時間の焼鈍
を施したもののビッカース硬さ(Hv)を検証した表である。
(Soft characteristics of soft dilute copper alloy wire)
Table 3 shows samples of the comparative material 12 using an oxygen-free copper wire and the
実施材5は、表1の実施材1に記載した合金組成と同じものを使用した。なお、試料としては、2.6mm径の試料を用いた。この表によると、焼鈍温度が400℃のとき
に比較材12と実施材5とのビッカース硬さ(Hv)は同等レベルとなり、焼鈍温度が6
00℃でも同等のビッカース硬さ(Hv)を示している。このことから、本発明の軟質希
薄銅合金線は十分な軟質特性を有するとともに、無酸素銅線と比較しても、特に焼鈍温度
が400℃を超える領域においては優れた軟質特性を備えていることがわかる。
The
Even at 00 ° C., the same Vickers hardness (Hv) is shown. From this, the soft dilute copper alloy wire of the present invention has sufficient soft properties and has excellent soft properties even in the region where the annealing temperature exceeds 400 ° C., even when compared with the oxygen-free copper wire. I understand that.
表4は、無酸素銅線を用いた比較材13と低酸素銅に13mass ppmのTiを含
有した軟質希薄銅合金線を用いた実施材6を試料とし、異なる焼鈍温度で1時間の焼鈍を
施したものの0.2%耐力値の推移を検証した表である。なお、試料としては、2.6m
m径の試料を用いた。
Table 4 shows a comparative material 13 using an oxygen-free copper wire and an
An m-diameter sample was used.
この表によると、焼鈍温度が400℃のときに比較材13と実施材6の0.2%耐力値が同等レベルであり、焼鈍温度600℃では実施材6も比較材12もほぼ同等の0.2%耐力値となっていることがわかる。
According to this table, when the annealing temperature is 400 ° C., the 0.2% proof stress value of the comparative material 13 and the
線を用いた比較材14と低酸素銅にTiを添加した軟質希薄銅合金線を用いた実施材7に
おける屈曲寿命を測定した結果を図9に表す。ここでは試料としては、0.26mm径の
線材に対して焼鈍温度400℃で1時間の焼鈍を施したものを用い、比較材14は比較材
12と同様の成分組成であり、実施材7も実施材1と同様の成分組成のものを使用した。
ここに、屈曲寿命の測定方法は、屈曲疲労試験により、行った。屈曲疲労試験は、荷重を負荷し、試料表面に引張と圧縮の繰返し曲げひずみを与える試験である。屈曲疲労試験は図8に示す様に、屈曲ヘッド4を用いて行う。試料5は、(A)のように曲げ治具6(リング)の間にセットし、クランプ7で把持し、荷重を負荷したまま、(B)のように治具が90度回転し曲げを与える。この操作で、曲げ治具に接している線材表面には、圧縮ひずみが、これに対応して反対側の表面には、引張ひずみが負荷される。その後、再び(A)の状態に戻る。次に(B)に示した向きと反対方向に90度回転し曲げを与える。この場合も、曲げ治具に接している線材表面には、圧縮ひずみが、これに対応して反対側の表面には、引張ひずみが負荷され(C)の状態になる。そして(C)から最初の状態(A)に戻る。この屈曲疲労1サイクル(A)(B)(A)(C)(A)に要する時間は4秒である。表面曲げ歪は以下の式により求めることができる。
Here, the bending life was measured by a bending fatigue test. The bending fatigue test is a test in which a load is applied and repeated bending strain of tension and compression is applied to the sample surface. The bending fatigue test is performed using a
表面曲げ歪(%)=r/(R+r)×100(%)、R:素線曲げ半径(30mm)、r=素線半径
図9の実験データによると、本発明に係る実施材7は比較材13に比して高い屈曲寿命
を示した。
Surface bending strain (%) = r / (R + r) × 100 (%), R: wire bending radius (30 mm), r = wire radius According to the experimental data of FIG. The bending life was higher than that of the material 13.
また、無酸素銅線を用いた比較材15と低酸素銅にTiを添加した軟質希薄銅合金線を
用いた実施材8における屈曲寿命を測定した結果を図10に表す。ここでは試料としては、0.26mm径の線材に対して焼鈍温度600℃で1時間の焼鈍を施したものを用い、比較材15は比較材12と同様の成分組成であり、実施材8も実施材1と同様の成分組成のものを使用した。屈曲寿命の測定方法は、図8の測定方法と同様の条件により、行った。この場合も、本発明に係る実施材8は比較材15に比して高い屈曲寿命を示した。この結果は、いずれの焼鈍条件下においても実施材7、8の方が比較材14、15に比して0.2%耐力値が大きい値を示していたことに起因するものであると理解される。
Moreover, the result of having measured the bending life in the comparative material 15 using an oxygen free copper wire and the implementation material 8 using the soft dilute copper alloy wire which added Ti to low oxygen copper is shown in FIG. Here, a sample obtained by subjecting a 0.26 mm diameter wire to an annealing temperature of 600 ° C. for 1 hour is used, the comparative material 15 has the same composition as the comparative material 12, and the implementation material 8 is also used. The component composition similar to that of Example 1 was used. The bending life was measured under the same conditions as in the measuring method of FIG. Also in this case, the working material 8 according to the present invention showed a higher bending life than the comparative material 15. This result is understood to be due to the fact that the
(軟質希薄銅合金線の結晶構造についての検討)
また、図11は、実施材8の試料の幅方向における断面組織の写真を表したものであり、図12は、比較材15の幅方向における断面組織の写真を表したものである。図11は、比較材15の結晶構造を示し、図12は実施材8の結晶構造を示す。これをみると、比較材15の結晶構造は、表面部から中央部にかけて全体的に大きさの等しい結晶粒が均一に並んでいることがわかる。これに対し、実施材8の結晶構造は、全体的に結晶粒の大きさがまばらであり、特筆すべきは、試料の断面方向の表面付近に薄く形成されている層における結晶粒サイズが内部の結晶粒サイズに比べて極めて小さくなっていることである。
(Examination on crystal structure of soft dilute copper alloy wire)
11 shows a photograph of the cross-sectional structure in the width direction of the sample of the embodiment material 8, and FIG. 12 shows a photograph of the cross-sectional structure in the width direction of the comparative material 15. FIG. 11 shows the crystal structure of the comparative material 15, and FIG. 12 shows the crystal structure of the working material 8. From this, it can be seen that the crystal structure of the comparative material 15 has uniform crystal grains of uniform size as a whole from the surface to the center. On the other hand, the crystal structure of the embodiment material 8 has a sparse crystal grain size as a whole, and it should be noted that the crystal grain size in the thin layer formed near the surface in the cross-sectional direction of the sample is internal. It is extremely small compared to the crystal grain size.
発明者らは、比較材15には形成されていない、表層に現れた微細結晶粒層が実施材8
の屈曲特性の向上に寄与しているものと考えている。
The inventors found that the fine crystal grain layer that was not formed in the comparative material 15 and appeared on the surface layer was the embodiment material 8.
It is thought that it contributes to the improvement of the bending characteristics.
このことは、通常であれば、焼鈍温度600℃で1時間の焼鈍処理を行えば、比較材1
5のように再結晶により均一に粗大化した結晶粒が形成されるものであると理解されるが、本発明の場合には、焼鈍温度600℃で1時間の焼鈍処理を行ってもなお、その表層に
は微細結晶粒層が残存していることから、軟質銅材でありながら、屈曲特性の良好な軟質
希薄銅合金材料が得られたものであると考えられる。
If this is normal, if the annealing process is performed for 1 hour at an annealing temperature of 600 ° C., the
It is understood that the crystal grains uniformly coarsened by recrystallization as shown in FIG. 5 are formed, but in the case of the present invention, even if an annealing treatment is performed at an annealing temperature of 600 ° C. for 1 hour, Since the fine crystal grain layer remains on the surface layer, it is considered that a soft dilute copper alloy material having a good bending property was obtained while being a soft copper material.
そして、図11および図12に示す結晶構造の断面写真をもとに、実施材8および比較
材15の試料の表層における平均結晶粒サイズを測定した。
And based on the cross-sectional photograph of the crystal structure shown to FIG. 11 and FIG. 12, the average crystal grain size in the surface layer of the sample of the implementation material 8 and the comparison material 15 was measured.
ここに、表層における平均結晶粒サイズの測定方法は、図13に示すように、0.26mm径の幅方向断面の表面から深さ方向に10μm間隔で50μmの深さまでの長さ1mmの線上の範囲での結晶粒サイズを測定した夫々の実測値を平均した値を表層における平均結晶粒サイズとした。 Here, as shown in FIG. 13, the method for measuring the average grain size in the surface layer is on a line of 1 mm length from the surface of the cross section in the width direction of 0.26 mm diameter to the depth of 50 μm at 10 μm intervals in the depth direction. A value obtained by averaging the measured values of the crystal grain sizes in the range was defined as the average crystal grain size in the surface layer.
測定の結果、比較材15の表層における平均結晶粒サイズは、50μmであったのに対
し、実施材8の表層における平均結晶粒サイズは、10μmである点で大きく異なっていた。表層の平均結晶粒サイズが細かいことによって、屈曲疲労試験による亀裂の進展が抑
制され、屈曲疲労寿命が延びたと考えられる(結晶粒サイズが大きいと結晶粒界に沿って
亀裂が進展してしまうが、結晶粒サイズが小さいと亀裂の進展の方向が変わるため、進展
が抑制される)。このことが、上述のとおり、比較材と実施材との屈曲特性の面で大きな
相違を生じたものと考えられる。
As a result of the measurement, the average crystal grain size in the surface layer of the comparative material 15 was 50 μm, whereas the average crystal grain size in the surface layer of the example material 8 was greatly different in that it was 10 μm. It is considered that the growth of cracks in the bending fatigue test was suppressed by the fine average grain size of the surface layer, and the bending fatigue life was extended (if the grain size is large, cracks propagate along the grain boundaries). If the crystal grain size is small, the direction of crack growth changes, so the growth is suppressed). As described above, this is considered to have caused a great difference in the bending characteristics between the comparative material and the working material.
また、2.6mm径である実施材6、比較材13の表層における平均結晶粒サイズは、
2.6mm径の幅方向断面の表面から深さ方向に50μmの深さにおける長さ10mmの範囲での結晶粒サイズを測定した。
Moreover, the average crystal grain size in the surface layer of the
The crystal grain size in a range of 10 mm in length at a depth of 50 μm in the depth direction from the surface of the cross section in the width direction of 2.6 mm diameter was measured.
測定の結果、比較材13の表層における平均結晶粒サイズは、100μmであったのに
対し、実施材6の表層における平均結晶粒サイズは、20μmであった。
As a result of the measurement, the average crystal grain size in the surface layer of the comparative material 13 was 100 μm, whereas the average crystal grain size in the surface layer of the
本発明の効果を奏するものとして、表層の平均結晶粒サイズの上限値としては、20μm以下のものが好ましく、製造上の限界値から5μm以上のものが想定される。 As an effect of the present invention, the upper limit value of the average grain size of the surface layer is preferably 20 μm or less, and a value of 5 μm or more is assumed from the manufacturing limit value.
(結晶系太陽電池の太陽電池用平角導体(バスバー)の実施形態について)
SCR連続鋳造圧延法で試作した前記実施材1(表1参照)のうち、上から3番目の素材を、溶銅温度1320℃で鋳造し、且つ圧延温度が880℃〜550℃でφ8mmのワイヤロッド(荒引線)を作成し、さらにこれを伸線加工してφ2.6mmの素線を得た後に通電アニーラ(焼鈍)の処理を行った。さらにこの丸線を平角に成形するための圧延加工工程を通して6mm幅および厚さ0.23mmおよび5mm幅で厚さ0.1mmの平角銅線を得、これをはんだめっき槽に連続的に浸漬させてはんだめっき線を作成した。これらを図1、図14に示すように略L字形状にセル2上にはんだ付けで成形して一体型とした銅線成形体をPETフィルムで挟み込むことでバスバー1を得た。尚、図1及び図14ではバスバーを被覆する絶縁フィルムを省略している。
(About embodiment of flat conductor (bus bar) for solar cell of crystalline solar cell)
Of the material 1 (see Table 1) prototyped by the SCR continuous casting and rolling method, the third material from the top is cast at a molten copper temperature of 1320 ° C., and the rolling temperature is 880 ° C. to 550 ° C. and a wire of φ8 mm A rod (rough drawing wire) was prepared, and this was further drawn to obtain a strand having a diameter of 2.6 mm, and then an annealing treatment (annealing) was performed. Further, through a rolling process for forming the round wire into a flat, a rectangular copper wire having a width of 6 mm, a thickness of 0.23 mm, and a width of 5 mm and a thickness of 0.1 mm is obtained, and this is continuously immersed in a solder plating bath. A solder-plated wire was created. As shown in FIG. 1 and FIG. 14, a
(薄膜系太陽電池の太陽電池用平角導体(バスバー)の実施形態について)
前記実施材1のうち、上から3番目の素材を、溶銅温度1320℃で鋳造し、且つ圧延温度が880℃〜550℃でφ8mmのワイヤロッド(荒引線)を作成し、さらにこれを伸線加工してφ2.6mmの素線を得た後に通電アニーラ(焼鈍)の処理を行った。さらにこの丸線を平角に成形するための圧延加工工程を通して厚さ0.1mmおよび幅5mm、厚さ0.05mm、幅5mmを有する平角導体を得、これをはんだめっき槽に連続的に浸漬させてはんだめっき線を作成した。これらはんだめっき平角導体の上下の面をPETフィルムで挟み込むことでバスバーを得た。
(About embodiment of flat conductor (bus bar) for solar cell of thin film solar cell)
Of the
上記2つの実施形態において、銅素線として、上前記実施材1のうち、上から3番目の素材と同じものを使用することから、以下のような効果が認められる。
In the above two embodiments, since the same material as the third material from the top is used as the copper element wire in the
導体1がTiを含み残部が不可避的不純物からなり、表面から50μm深さまでの表層における平均結晶粒サイズが20μm以下である軟質希薄銅合金線にすることで、従来のOFC素材およびTPC素材に比して、6N相当の高い導電性を備え、6Nよりコストを掛けずにバスバーを供給することができる。
Compared to conventional OFC and TPC materials, the
また、本発明のバスバーは、従来のOFC素材に比して、OFCより優れた屈曲性をもつため、小さな曲げ半径での折り曲げに適しているといえる。 In addition, the bus bar of the present invention has better flexibility than OFC compared to conventional OFC materials, so it can be said that it is suitable for bending with a small bending radius.
よって、本発明のバスバーは、従来のOFC素材、TPC素材に比して高い導電性を備え、かつ従来のOFC素材に比して高い屈曲寿命を有するものである。 Therefore, the bus bar of the present invention has high conductivity as compared with the conventional OFC material and TPC material, and has a high bending life as compared with the conventional OFC material.
狭い場所などへは、狭角度の折り曲げや、小さな曲げ半径での敷設が可能である。図15は、垂直方向に180°曲げを施したバスバー1であり、図16は、水平方向に90°曲げを施したバスバー1である。この様に本発明のバスバーは、1本の導線を任意の方向に任意の角度で曲げてフォーミングする事が可能であり、従来のように複数本の導体をはんだ付けした一体型のバスバーを使用する必要がなく、また、バスバーやタブ線などの配線材は、敷設の際の折り曲げや繰り返し屈曲箇所のストレス、ダメージに起因する電気的悪影響を緩和できる。
It can be bent at a narrow angle or laid with a small bending radius in a narrow place. FIG. 15 shows the
1…バスバー(平角導体)、2…セル、3…インターコネクタ、4…屈曲ヘッド、5…試料、6…リング、7…クランプ。
DESCRIPTION OF
Claims (2)
4mass ppm〜55mass ppmのTiと2mass ppm〜12mass ppmの硫黄と2mass ppmを超えて30massppm以下の酸素とを含み、残部が銅からなる軟質希薄銅合金材料であって、該材料の表面から50μm深さまでの表層における平均結晶粒サイズが20μm以下であることを特徴とする太陽電池用バスバー。 In the solar battery bus bar, a plurality of solar cells are arranged in a straight line, and the cells are electrically connected to each other.
4mass ppm~55mass ppm of beyond sulfur and 2mass ppm of Ti and 2mass ppm~12mass ppm and a following oxygen 30Massppm, I balance soft dilute copper alloy material der made of copper, 50 [mu] m from the surface of the material An average crystal grain size in a surface layer up to a depth is 20 μm or less, and a solar cell bus bar.
4mass ppm〜55mass ppmのTiと2mass ppm〜12mass ppmの硫黄と2mass ppmを超えて30massppm以下の酸素とを含み、残部が銅からなる軟質希薄銅合金材料であって、該材料の表面から50μm深さまでの表層における平均結晶粒サイズが20μm以下であることを特徴とする太陽電池用バスバー。 In a solar cell bus bar for connecting a bus region for collecting positive and negative power formed on a thin film solar cell,
4mass ppm~55mass ppm of beyond sulfur and 2mass ppm of Ti and 2mass ppm~12mass ppm and a following oxygen 30Massppm, I balance soft dilute copper alloy material der made of copper, 50 [mu] m from the surface of the material An average crystal grain size in a surface layer up to a depth is 20 μm or less, and a solar cell bus bar.
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